JP2002148824A - Pattern forming method and plasma display device - Google Patents
Pattern forming method and plasma display deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上へ厚膜など
をパターン形成する方法、並びにコンピュータのモニタ
やテレビなどの画像表示装置などとして用いられるプラ
ズマディスプレイ表示装置に関する。The present invention relates to a method for patterning a thick film or the like on a substrate, and a plasma display device used as an image display device such as a computer monitor or a television.
【０００２】[0002]
【従来の技術】現在、プラズマディスプレイ、フィール
ドエミッションディスプレイ、エレクトロルミネッセン
スディスプレイなどに代表される厚膜を利用したディス
プレイパネルが数多くあり、一部は市販され、一部は開
発中である。その中で、ＡＣ型のプラズマディスプレイ
パネル（以下、「ＰＤＰ」という）は、特に４０インチ
サイズ以上を実現できる大型ディスプレイとして期待さ
れている。2. Description of the Related Art At present, there are many display panels using a thick film typified by a plasma display, a field emission display, an electroluminescence display, etc., some of which are commercially available, and some of which are under development. Among them, an AC type plasma display panel (hereinafter, referred to as “PDP”) is expected as a large-sized display which can realize a size of 40 inches or more.
【０００３】このＰＤＰは、図３に示すように前面パネ
ル１１６と背面パネル１０６を有し、前面パネル１１６
は、前面ガラス基板１０２上に表示電極１０３、ブラッ
クストライプ１１４が形成され、さらにそれが誘電体ガ
ラス層１０４及び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる
誘電体保護層１０５により覆われて形成されたものであ
る。This PDP has a front panel 116 and a rear panel 106 as shown in FIG.
Is formed by forming a display electrode 103 and a black stripe 114 on a front glass substrate 102 and covering the display electrode 103 with a dielectric glass layer 104 and a dielectric protection layer 105 made of magnesium oxide (MgO). .
【０００４】また、背面パネル１０６は、背面ガラス基
板１０７上に、アドレス電極１０８、隔壁１１０、及び
蛍光体層１１１が設けられて形成されたものである。そ
して、このような前面パネル１１６と背面パネル１０６
とが周辺シール材（図示略）によって貼り合わせられ、
隔壁１１０で仕切られた空間に排気管１１３を通して放
電ガスを封入することで放電空間１１２が形成される。
カラー表示のためには前記蛍光体層は、通常、赤、緑、
青の３色が順に配置されている。[0004] The rear panel 106 is formed by providing an address electrode 108, a partition 110, and a phosphor layer 111 on a rear glass substrate 107. Then, such a front panel 116 and a rear panel 106
Are bonded by a peripheral sealing material (not shown),
The discharge space 112 is formed by filling the discharge gas into the space partitioned by the partition 110 through the exhaust pipe 113.
For color display, the phosphor layer is usually red, green,
Three colors of blue are arranged in order.
【０００５】放電空間１１２内には例えばネオン及びキ
セノンなどを混合してなる放電ガスが通常、６６５００
Ｐａ（５００Ｔｏｒｒ）程度の圧力で封入されている。In the discharge space 112, a discharge gas obtained by mixing, for example, neon and xenon is usually 66500.
It is sealed at a pressure of about Pa (500 Torr).
【０００６】放電ガスは、通常アドレス電極、表示電極
などに印加される周期的な電圧によって放電により紫外
線を照射し、それが蛍光体によって可視光に変換され
て、画像表示が行われる。The discharge gas irradiates ultraviolet rays by discharge with a periodic voltage usually applied to an address electrode, a display electrode, etc., and the ultraviolet light is converted into visible light by a fluorescent material to display an image.
【０００７】これらの製造工程の中で、感光性材料を含
有した厚膜材料を用いたフォト工程によるパターニング
が多く使用されている。In these manufacturing processes, patterning by a photo process using a thick film material containing a photosensitive material is often used.
【０００８】前面パネルの表示電極として、通常はガラ
スなどの無機物を含有した銀などの金属からなる厚膜材
料が用いられるが、これは、感光性材料と電極材料を含
有する厚膜材料を基板上に形成し、露光工程によって部
分的に感光性材料を硬化させ、現像工程によって不要部
分を除去することで、必要とする電極パターンを得るも
のである。As a display electrode of the front panel, a thick film material made of a metal such as silver containing an inorganic substance such as glass is usually used. This is because a thick film material containing a photosensitive material and an electrode material is used as a substrate. The electrode pattern is formed on the photosensitive material, and the photosensitive material is partially cured by an exposure process, and unnecessary portions are removed by a development process to obtain a required electrode pattern.
【０００９】しかし、上記電極のパターニングを複数回
行う場合がある。例えば、金属材料を主成分としてパタ
ーニングを行った場合、反射性が高いことが多く、これ
が表示面から見た場合の明所コントラストなどの表示品
質を低下させる。これを防止するため、金属材料と基板
との間に酸化ルテニウムなどの黒色フィラーなどからな
る金属反射防止層を形成することが一般的である（特開
平１０−２５５６７０）。[0009] However, there are cases where the patterning of the electrode is performed a plurality of times. For example, when patterning is performed using a metal material as a main component, the reflectivity is often high, which lowers display quality such as bright place contrast when viewed from the display surface. In order to prevent this, it is common to form a metal anti-reflection layer made of a black filler such as ruthenium oxide between the metal material and the substrate (JP-A-10-255670).
【００１０】さらに、不必要な放電光を遮蔽するため
に、画素間に黒色フィラーなどからなるブラックストラ
イプを配置することが知られている。Further, it is known to arrange a black stripe made of a black filler or the like between pixels in order to block unnecessary discharge light.
【００１１】これら複数種類の厚膜材料は、アライメン
トマーカーによって、相互に位置合わせが行われる。す
なわち、第１パターンの露光時に、パターンと一緒にア
ライメントマーカーを付与し、現像、焼成を行えば、第
２パターン以降の露光にはそのアライメントマーカーを
参照することで、位置合わせをすることができる（特開
平１１−３００４８４）。[0011] These plural types of thick film materials are mutually aligned by an alignment marker. That is, at the time of exposure of the first pattern, if an alignment marker is provided together with the pattern, and development and baking are performed, the alignment can be performed by referring to the alignment marker in the exposure of the second and subsequent patterns. (JP-A-11-30084).
【００１２】[0012]
【発明が解決しようとする課題】低コスト化などを目的
としたプロセスの短縮化のために、複数のフォト工程で
現像工程を経ず、材料形成工程と露光工程のみを繰り返
し、最後に一括して現像工程を行うことが考えられる。
しかしこの場合、前記第１パターンの現像工程がなくな
るため、第１パターンと同時に作成していたアライメン
トマーカーを第２パターンの露光時に参照することがで
きない。したがって、第１パターンと第２パターンとの
相対的な位置を合わせることが困難となり、複数のパタ
ーン間にずれが生じてしまうという問題点があった。In order to shorten the process for the purpose of cost reduction, etc., only a material forming process and an exposing process are repeated without a developing process in a plurality of photo processes, and finally, a batch process is performed. To perform the developing step.
However, in this case, since the developing step of the first pattern is omitted, the alignment marker created at the same time as the first pattern cannot be referred to when exposing the second pattern. Therefore, it is difficult to match the relative positions of the first pattern and the second pattern, and there has been a problem that a shift occurs between a plurality of patterns.
【００１３】本願発明の第１の目的は、現像工程を経る
ことなく、第１パターンにアライメントマーカーを形成
させ、第１パターンと第２パターンとの相対位置を合わ
せる工程を高い精度で行うためのパターン形成方法を提
供することにある。A first object of the present invention is to form an alignment marker on a first pattern without performing a developing step, and to perform a step of adjusting a relative position between the first pattern and the second pattern with high accuracy. It is to provide a pattern forming method.
【００１４】本願発明の第２の目的は、上記方法によっ
て形成された電極を具備するプラズマディスプレイ表示
装置を提供することにある。A second object of the present invention is to provide a plasma display device having electrodes formed by the above method.
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】上記第１の目的のため
に、本願発明は、第１の無機成分と感光性樹脂を少なく
とも含有する第１厚膜を基板上に形成、第１フォトマス
ク通してパターン露光する第１工程と、第２の無機成分
と感光性樹脂を少なくとも含有する第２厚膜を前記第１
厚膜上に形成、第２フォトマスクを通してパターン露光
する第２工程を含むパターン形成方法であって、前記第
１厚膜形成工程において、第１厚膜上にアライメントマ
ーカーを形成する工程を有し、前記第１厚膜露光工程及
び、前記第２厚膜露光工程において、前記アライメント
マーカーを参照してフォトマスクのアライメントを行っ
てパターン露光を行うことを特徴とするパターン形成方
法を提供する。According to the first object of the present invention, a first thick film containing at least a first inorganic component and a photosensitive resin is formed on a substrate. A first step of pattern-exposing the second thick film containing at least a second inorganic component and a photosensitive resin.
A method of forming a pattern on a thick film, the method including a second step of performing pattern exposure through a second photomask, comprising the step of forming an alignment marker on the first thick film in the first thick film forming step. In the first and second thick film exposing steps, a pattern forming method is characterized in that pattern exposure is performed by aligning a photomask with reference to the alignment marker.
【００１６】また、上記第２の目的のために、第１の無
機成分と感光性樹脂を少なくとも含有する第１厚膜を基
板上に形成、第１フォトマスク通してパターン露光する
第１工程と、第２の無機成分と感光性樹脂を少なくとも
含有する第２厚膜を前記第１厚膜上に形成、第２フォト
マスクを通してパターン露光する第２工程を含むパター
ン形成方法であって、前記第１厚膜形成工程において、
第１厚膜上にアライメントマーカーを形成する工程を有
し、前記第１厚膜露光工程及び、前記第２厚膜露光工程
において、前記アライメントマーカーを参照してフォト
マスクのアライメントを行ってパターン露光を行うこと
を特徴とするパターン形成方法によって製造された電極
を具備することを特徴とするプラズマディスプレイ表示
装置を提供するものである。For the second object, a first thick film containing at least a first inorganic component and a photosensitive resin is formed on a substrate, and a first step of pattern exposure through a first photomask; Forming a second thick film containing at least a second inorganic component and a photosensitive resin on the first thick film, and performing a pattern exposure through a second photomask, the pattern forming method comprising: In one thick film forming process,
Forming an alignment marker on the first thick film; and performing pattern exposure by aligning a photomask with reference to the alignment marker in the first thick film exposing step and the second thick film exposing step. A plasma display device comprising an electrode manufactured by a pattern forming method.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１８】（実施の形態１）図１は、本発明のパター
ン形成方法の一実施形態を説明するための工程図であ
る。(Embodiment 1) FIG. 1 is a process chart for explaining an embodiment of a pattern forming method of the present invention.
【００１９】（第１工程）少なくとも非反射性黒色粉末
材料、感光性材料含有した電極反射防止層ペースト材料
を、スクリーン印刷法によって基板１上に塗布、乾燥
し、矩形型の電極反射防止層ベタ膜３を得る。電極反射
防止層用フォトマスク４を用いて、電極反射防止層ベタ
膜３に対して露光を行う（図１（ａ））。(First step) At least a non-reflective black powder material and an electrode anti-reflection layer paste material containing a photosensitive material are applied on the substrate 1 by a screen printing method and dried, and the rectangular electrode anti-reflection layer is solid. A membrane 3 is obtained. The electrode antireflection layer solid film 3 is exposed using the electrode antireflection layer photomask 4 (FIG. 1A).
【００２０】この工程によって、紫外線が照射された部
分と紫外線が照射されない部分との色が異なり、アライ
メントマーカー１２が形成される（図１（ｂ））。な
お、より好ましくは、電極反射層ペースト中に、例えば
シアニン系色素など紫外線によって退色する色素をあら
かじめ含有させておくことで、アライメントマーカー１
２の検出はより顕著に行うことができ、より好ましい。According to this step, the color of the portion irradiated with the ultraviolet rays and the color of the portion not irradiated with the ultraviolet rays are different, and the alignment marker 12 is formed (FIG. 1B). It is more preferable that the electrode reflective layer paste contains, in advance, a dye that fades due to ultraviolet light, such as a cyanine dye, so that the alignment marker 1
2 can be performed more remarkably, and is more preferable.
【００２１】（第２工程）少なくとも無機粉末材料、感
光性材料を含有した電極材料によって、矩形型の電極ベ
タ層２１をスクリーン印刷法によって塗布、乾燥する
（図１（ｃ））。(Second Step) A rectangular electrode solid layer 21 is applied by a screen printing method using an electrode material containing at least an inorganic powder material and a photosensitive material, and dried (FIG. 1C).
【００２２】（第３工程）電極用フォトマスク２３を用
いて、電極ベタ層２１に対して露光を行う。このとき、
電極用フォトマスク２３上のマスクマーカー２２と、基
板上にあるアライメントマーカー１２を参照してマスク
合わせを行う（図１（ｄ））。(Third Step) Using the electrode photomask 23, the electrode solid layer 21 is exposed. At this time,
Referring to the mask marker 22 on the electrode photomask 23 and the alignment marker 12 on the substrate, mask alignment is performed (FIG. 1D).
【００２３】（実施の形態２）図２は、本発明のパター
ン形成方法の他の実施形態を説明するための工程図であ
る。(Embodiment 2) FIG. 2 is a process chart for explaining another embodiment of the pattern forming method of the present invention.
【００２４】（第１工程）少なくとも非反射性黒色粉末
材料、感光性材料含有した電極反射防止層ペースト材料
を、スクリーン印刷法によって基板１上に塗布、乾燥
し、矩形型の電極反射防止層ベタ膜３を得る。電極反射
防止層用フォトマスク４を用いて、電極反射防止層ベタ
膜３に対して露光を行う（図２（ａ））。(First step) At least a non-reflective black powder material and an electrode anti-reflection layer paste material containing a photosensitive material are applied on the substrate 1 by a screen printing method and dried, and the rectangular electrode anti-reflection layer is solid. A membrane 3 is obtained. Exposure is performed on the electrode antireflection layer solid film 3 using the electrode antireflection layer photomask 4 (FIG. 2A).
【００２５】（第２工程）フォトマスク４をそのままに
した状態で、基板と光源との間に黒色の遮光板２５を挿
入し、再び露光を行う（図２（ｂ））。これにより、形
成されたアライメントマーカー１２が形成される（図２
（ｃ））。(Second Step) With the photomask 4 left as it is, a black light-shielding plate 25 is inserted between the substrate and the light source, and exposure is performed again (FIG. 2B). Thus, the formed alignment marker 12 is formed.
(C)).
【００２６】なお、本実施の形態は、パターン部の露光
を行うことを目的とする第１工程だけでは、アライメン
トマーカー１２の検出を行うことが難しい場合に、より
効果を発揮する。すなわち、遮光体２５による遮光を行
って全体を露光する第２工程では、パターン部の露光の
進行を停止し、かつは、マーカー部１２のみに強度の強
い光が照射されるため、アライメントマーカー１２の検
出が容易になる。The present embodiment is more effective when it is difficult to detect the alignment marker 12 only in the first step for exposing the pattern portion. That is, in the second step of exposing the entire surface by performing light shielding by the light shielding body 25, the progress of exposure of the pattern portion is stopped, and only the marker portion 12 is irradiated with strong light. Detection becomes easier.
【００２７】（第３工程）少なくとも無機粉末材料、感
光性材料を含有した第２電極材料によって、矩形型の第
２電極ベタ層２１をスクリーン印刷法によって塗布、乾
燥する（図２（ｄ））。(Third Step) A rectangular second solid electrode layer 21 is applied by a screen printing method using a second electrode material containing at least an inorganic powder material and a photosensitive material, and dried (FIG. 2D). .
【００２８】（第４工程）実施の形態１の第４工程と同
様に、第２電極用フォトマスクを用いて、第２電極ベタ
層に対して露光を行う。このとき、第２電極用フォトマ
スク上のマスクマーカーと、基板上にあるアライメント
マーカーを参照してマスク合わせを行う（図省略）。(Fourth Step) As in the fourth step of the first embodiment, the second electrode solid layer is exposed using a second electrode photomask. At this time, the mask is aligned with reference to the mask marker on the second electrode photomask and the alignment marker on the substrate (not shown).
【００２９】なお、上記第２工程において、黒色遮光板
によって遮光を行った実施の形態を説明したが、遮光を
行えるのであれば、黒色である必要はない。また、膜状
であってもかまわない。In the above-described second step, the embodiment in which the light is shielded by the black light-shielding plate has been described. However, if the light can be shielded, the light does not need to be black. Further, it may be in the form of a film.
【００３０】さらに、マーカー部のみにスポット光を照
射することでも、同様の効果が得られる。Further, the same effect can be obtained by irradiating only the marker portion with spot light.
【００３１】なお、以上述べた実施の形態は、すべて異
なる種類の電極材料での例を示したが、同じ材料を使用
し、例えば第１電極と第２電極で異なるパターンを形成
する場合にも利用できることは言うまでもない。In the above-described embodiments, all examples using different types of electrode materials have been described. However, the same material may be used, for example, when different patterns are formed by the first electrode and the second electrode. Needless to say, it can be used.
【００３２】また、現像を行うことなく複数の厚膜パタ
ーンの相対位置を合わせる工程であれば、電極以外の工
程においても、またＰＤＰ以外の工程においても適用可
能である。The present invention can be applied to a process other than the electrode and a process other than the PDP as long as the process is for adjusting the relative positions of a plurality of thick film patterns without performing development.
【００３３】なお、光退色性色素の含有により、露光後
のアライメントマーカー２１の色変化による検出の形態
を示したが、パターン露光時の光によって材料特性が変
われば、上記にこだわるものではない。例えば、電極反
射防止層ベタ膜にポリビニルカルバゾールを含有させ、
アライメントマーカー部分を光照射によって膜厚変化さ
せて検出する方法、液晶材料を含有させ、アライメント
マーカー部分を光照射によって屈折率変化させて検出す
る方法などでも同様にパターン形成は可能であった。Although the form of detection by the color change of the alignment marker 21 after exposure is shown by the inclusion of the photobleachable dye, the above is not the case if the material characteristics are changed by the light at the time of pattern exposure. For example, the electrode anti-reflection layer solid film contains polyvinyl carbazole,
Pattern formation was also possible by a method of detecting the alignment marker portion by changing the film thickness by light irradiation, a method of including a liquid crystal material, and a method of detecting the alignment marker portion by changing the refractive index by light irradiation, and the like.
【００３４】[0034]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
複数種類の感光性厚膜パターニングを、現像工程を経ず
にアライメントすることが可能になり、その効果は大で
ある。As described in detail above, according to the present invention,
A plurality of types of photosensitive thick film patterning can be aligned without going through a development step, and the effect is great.
【図１】本発明の第１の実施形態に係るパターン形成方
法を説明するための工程図FIG. 1 is a process chart for explaining a pattern forming method according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２の実施形態に係るパターン形成方
法を説明するための工程図FIG. 2 is a process chart for explaining a pattern forming method according to a second embodiment of the present invention.
【図３】プラズマディスプレイの構成を示す斜視図FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a plasma display.
１ 基板 ２ アライメントマーカー ４ 電極反射防止層用フォトマスク ７ 電極用フォトマスク ２５ 遮光体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Alignment marker 4 Photomask for electrode antireflection layer 7 Photomask for electrode 25 Shield
フロントページの続き (72)発明者 住田 圭介 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 芦田 英樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 大谷 光弘 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 藤原 伸也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 東野 英世 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 仲川 整 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 桐原 信幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 浅辺 光男 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H097 KA12 KA13 LA11 5C027 AA01 5C040 GC19 Continued on the front page (72) Inventor Keisuke Sumita 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Person Mitsuhiro Otani 1006 Kadoma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture, Japan Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Shinya Fujiwara 1006 Kadoma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 1006 Kadoma, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor: Nakagawa Osamu 1006, Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Mitsuo Asabe 1006 Kadoma, Kazuma, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.F-term (reference) 2H097 KA12 KA13 LA11 5C027 AA01 5C040 GC19
Claims (10)
も含有する第１厚膜を基板上に形成、第１フォトマスク
通してパターン露光する第１工程と、第２の無機成分と
感光性樹脂を少なくとも含有する第２厚膜を前記第１厚
膜上に形成、第２フォトマスクを通してパターン露光す
る第２工程を含むパターン形成方法であって、 前記第１厚膜形成工程において、第１厚膜上にアライメ
ントマーカーを形成する工程を有し、前記第１厚膜露光
工程及び、前記第２厚膜露光工程において、前記アライ
メントマーカーを参照してフォトマスクのアライメント
を行ってパターン露光を行うことを特徴とするパターン
形成方法。1. A first step of forming a first thick film containing at least a first inorganic component and a photosensitive resin on a substrate, pattern-exposing the first thick film through a first photomask, and a second inorganic component and a photosensitive resin. A pattern forming method comprising: forming a second thick film containing at least a resin on the first thick film; and performing a pattern exposure through a second photomask, wherein the first thick film forming step includes: Forming an alignment marker on the thick film, and performing the pattern exposure by performing alignment of the photomask with reference to the alignment marker in the first thick film exposing step and the second thick film exposing step. A pattern forming method, characterized in that:
工程におけるパターン露光時の第１マスクを通した光を
利用して行われることを特徴とする請求項１に記載のパ
ターン形成方法。2. The method according to claim 1, wherein the alignment marker is formed by a first step.
2. The pattern forming method according to claim 1, wherein the method is performed using light passing through a first mask at the time of pattern exposure in the step.
工程におけるパターン露光時の第１マスクを用い、前記
パターン露光時の光とは異なる波長の光を利用して行わ
れることを特徴とする請求項１または２に記載のパター
ン形成方法。3. The method according to claim 1, wherein the alignment marker is formed by a first step.
The pattern forming method according to claim 1, wherein the step is performed using a first mask at the time of pattern exposure in the step and using light having a wavelength different from light at the time of pattern exposure.
工程におけるパターン露光時の第１マスクを用い、前記
第１工程の前、あるいは後に、アライメントマーカー部
のみにパターン露光時より強度の強い光を照射すること
によって行われることを特徴とする請求項１から３のい
ずれかに記載のパターン形成方法。4. The method according to claim 1, wherein the alignment marker is formed by a first step.
2. The method according to claim 1, wherein the step is performed by irradiating only the alignment marker portion with light having a higher intensity than at the time of pattern exposure, using a first mask at the time of pattern exposure in the step, before or after the first step. 4. The pattern forming method according to any one of the above items.
照射する方法が、パターン部を遮光体にて遮光した状態
での全体露光であることを特徴とする請求項４に記載の
パターン形成方法。5. The pattern forming method according to claim 4, wherein the method of irradiating only the alignment marker portion with light is a whole exposure in a state where the pattern portion is shielded by a light shield.
照射する方法が、アライメントマーカー部のみへのスポ
ット光照射であることを特徴とする請求項４から６のい
ずれかに記載のパターン形成方法。6. The pattern forming method according to claim 4, wherein the method of irradiating light only to the alignment marker is irradiation of spot light only to the alignment marker.
み、前記第１膜上へのアライメントマーカーの形成が、
第１厚膜の変色によって行われることを特徴とする請求
項１から６のいずれかに記載のパターン形成方法。7. The method according to claim 1, wherein the first thick film includes a material that changes color by light, and forming the alignment marker on the first film includes:
7. The pattern forming method according to claim 1, wherein the method is performed by discoloring the first thick film.
材料を含み、前記第１膜上へのアライメントマーカーの
形成が、第１厚膜の屈折率変化によって行われることを
特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のパターン
形成方法。8. The method according to claim 1, wherein the first thick film includes a material whose refractive index changes with light, and the alignment marker is formed on the first film by changing the refractive index of the first thick film. The pattern forming method according to claim 1.
する材料を含み、前記第１膜上へのアライメントマーカ
ーの形成が、第１厚膜の膜厚変化によって行われること
を特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のパター
ン形成方法。9. The method according to claim 1, wherein the first thick film includes a material that contracts or expands due to light, and the alignment marker is formed on the first film by changing the thickness of the first thick film. Item 7. The pattern forming method according to any one of Items 1 to 6.
とも含有する第１厚膜を基板上に形成、第１フォトマス
ク通してパターン露光する第１工程と、第２の無機成分
と感光性樹脂を少なくとも含有する第２厚膜を前記第１
厚膜上に形成、第２フォトマスクを通してパターン露光
する第２工程を含むパターン形成方法であって、 前記第１厚膜形成工程において、第１厚膜上にアライメ
ントマーカーを形成する工程を有し、前記第１厚膜露光
工程及び、前記第２厚膜露光工程において、前記アライ
メントマーカーを参照してフォトマスクのアライメント
を行ってパターン露光を行うことを特徴とするパターン
形成方法によって製造された電極を具備することを特徴
とするプラズマディスプレイ表示装置。10. A first step of forming a first thick film containing at least a first inorganic component and a photosensitive resin on a substrate, pattern-exposing the first thick film through a first photomask, and a second inorganic component and a photosensitive resin. A second thick film containing at least a resin,
A pattern forming method including a second step of forming a pattern on a thick film and exposing the pattern through a second photomask, wherein the first thick film forming step includes a step of forming an alignment marker on the first thick film. An electrode manufactured by a pattern forming method, wherein in the first thick film exposing step and the second thick film exposing step, pattern exposure is performed by aligning a photomask with reference to the alignment marker. A plasma display device comprising:
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