JP2002139613A - Optical element, method for manufacturing the same, transfer film to be used for the manufacturing method, and liquid crystal device using the optical element - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent color mixing and voids, in the method for manufacturing a color filter by an ink jet method. SOLUTION: A transfer film 2 prepared by laminating a first layer 4, consisting of a resin composition having ink repelling property and a second layer 5 consisting of a resin composition having ink affinity on a base film 3, is adhered tightly on a support substrate 1 with the second layer 5 facing the support substrate 1 side. Then the transfer film is exposed according to the pattern. The base film 3 with the unexposed part of the first layer 4 and the second layer 5 is removed together, by developing to form a barrier wall 7. Then ink is supplied to the openings 8 of the barrier wall 7 by an ink jet method, to form pixels.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台に使用されてい
るカラー液晶素子の構成部材であるカラーフィルタ、及
び、複数の発光層を備えたエレクトロルミネッセンス素
子といった光学素子を、インクジェット方式を利用して
製造する製造方法及び該製造方法に用いられる転写フィ
ルムに関し、さらには、該製造方法により製造される光
学素子、及び該光学素子の一つであるカラーフィルタを
用いてなる液晶素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter which is a component of a color liquid crystal element used in a color television, a personal computer, a pachinko game console, and an optical element such as an electroluminescence element having a plurality of light emitting layers. The present invention relates to a manufacturing method for manufacturing an element using an inkjet method and a transfer film used in the manufacturing method, and further includes an optical element manufactured by the manufacturing method, and a color filter which is one of the optical elements. The present invention relates to a liquid crystal element comprising:

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。2. Description of the Related Art In recent years, the development of personal computers,
In particular, with the development of portable personal computers, the demand for liquid crystal displays, especially color liquid crystal displays, tends to increase. However, cost reduction is necessary for further popularization, and in particular, there is an increasing demand for cost reduction of color filters having a high specific gravity.

【０００３】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく、種々の方法が試みら
れているが、未だ全ての要求特性を満足する方法は確立
されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。Conventionally, various methods have been tried to satisfy the above requirements while satisfying the required characteristics of the color filter, but no method has yet been established which satisfies all the required characteristics. The respective methods will be described below.

【０００４】第一の方法は染色法である。染色法は、先
ず透明基板上に染色用の材料である、水溶性の高分子材
料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所
望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染
色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を
３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ
（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する。[0004] The first method is a dyeing method. In the dyeing method, first, a water-soluble polymer material layer, which is a material for dyeing, is formed on a transparent substrate, and this is patterned into a desired shape by a photolithography process, and the obtained pattern is immersed in a dye bath. To obtain a colored pattern. By repeating this process three times, R (red), G (green), B
A colored layer composed of three colored portions (blue) is formed.

【０００５】第二の方法は顔料分散法であり、近年最も
盛んに行われている。この方法は、先ず透明基板上に顔
料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニン
グすることにより、単色のパターンを得る。この工程を
３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部か
らなる着色層を形成する。[0005] The second method is a pigment dispersion method, which has been most frequently used in recent years. In this method, a photosensitive resin layer in which a pigment is dispersed is first formed on a transparent substrate, and this is patterned to obtain a monochromatic pattern. This step is repeated three times to form a colored layer including three colored portions of R, G, and B.

【０００６】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、先ず透明基板上に透明電極をパターニングし、顔
料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一
の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、
Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成
するものである。A third method is an electrodeposition method. In this method, a transparent electrode is first patterned on a transparent substrate, and immersed in an electrodeposition coating solution containing a pigment, a resin, an electrolytic solution, and the like to electrodeposit a first color. This process is repeated three times, and R, G,
A colored layer composed of colored portions of three colors B is formed and finally baked.

【０００７】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着
色層を形成するものである。いずれの方法においても、
着色層の上に保護層を形成するのが一般的である。As a fourth method, a pigment is dispersed in a thermosetting resin and printing is repeated three times to obtain R, G,
After separately applying B, the resin is thermally cured to form a colored layer. In either method,
Generally, a protective layer is formed on the coloring layer.

【０００８】これらの方法に共通している点は、Ｒ、
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
数が多い程、歩留まりが低下するという問題も有してい
る。さらに、電着法においては、形成可能なパターン形
状が限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ型（ＴＦ
Ｔ、即ち薄膜トランジスタをスイッチング素子として用
いたアクティブマトリクス駆動方式）の液晶素子の構成
には適用困難である。[0008] These methods have in common that R,
In order to color the three colors G and B, the same process needs to be repeated three times, which increases the cost. There is also a problem that the yield decreases as the number of steps increases. Further, in the electrodeposition method, the pattern shape that can be formed is limited.
T, that is, an active matrix driving method using a thin film transistor as a switching element) is difficult to be applied to the configuration of a liquid crystal element.

【０００９】一方、インクジェット方式はカラーフィル
タの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子（以
下、「ＥＬ素子」と記す）の製造にも応用が可能であ
る。On the other hand, the ink jet method is not limited to the production of a color filter, but can be applied to the production of an electroluminescence element (hereinafter, referred to as an “EL element”).

【００１０】ＥＬ素子は、蛍光性の無機及び有機化合物
を含む薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有し、上記
薄膜に電子及び正孔（ホール）を注入して再結合させる
ことにより励起子を生成させ、この励起子が失活する際
の蛍光の放出を利用して発光させる素子である。このよ
うなＥＬ素子に用いられる蛍光性材料を、例えばＴＦＴ
等素子を作り込んだ基板上にインクジェット方式により
付与して発光層を形成し、素子を構成することができ
る。An EL element has a structure in which a thin film containing a fluorescent inorganic or organic compound is sandwiched between a cathode and an anode. Electrons and holes are injected into the thin film and recombined. This is an element that generates excitons and emits light using emission of fluorescence when the excitons are deactivated. A fluorescent material used for such an EL element is, for example, a TFT.
An element can be formed by applying an ink-jet method to a substrate on which the elements have been formed to form a light-emitting layer.

【００１１】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上記したように、イン
クジェット方式は製造プロセスの簡略化及びコスト削減
を図ることができることから、カラーフィルタやＥＬ素
子といった光学素子の製造へ応用されている。しかしな
がら、このような光学素子の製造において、インクジェ
ット方式特有の問題として、「混色」及び「白抜け」と
言った問題がある。以下、カラーフィルタを製造する場
合を例に挙げて説明する。As described above, the ink-jet method can be applied to the production of optical elements such as color filters and EL elements because the production process can be simplified and the cost can be reduced. However, in the manufacture of such an optical element, there are problems such as "color mixture" and "white spots" as problems specific to the ink jet system. Hereinafter, a case where a color filter is manufactured will be described as an example.

【００１２】「混色」は、隣接する異なる色の画素（着
色部）間においてインクが混ざり合うことにより発生す
る障害である。ブラックマトリクスを隔壁として、該ブ
ラックマトリクスの開口部にインクを付与して着色部を
形成するカラーフィルタの製造方法においては、ブラッ
クマトリクスの開口部の容積に対して、数倍〜数十倍の
体積を有するインクを付与する必要がある。インク中に
含まれる着色剤や硬化成分等の固形分濃度が高い場合、
即ち付与するインクの体積が比較的少ない場合において
は、ブラックマトリクスが十分に隔壁として機能し、該
ブラックマトリクスの開口部内にインクを保持すること
ができるため、付与されたインクがブラックマトリクス
を乗り越えて、隣接する異なる色の着色部にまで到達す
ることはない。しかしながら、インク中の固形分濃度が
低い場合、即ち多量のインクを付与する必要がある場合
には、隔壁となるブラックマトリクスを超えてインクが
溢れてしまうため、隣接する着色部間で混色が発生して
しまう。特に、インクジェットヘッドのノズルより安定
して吐出可能なインクの粘度には限界があり、インク中
に含有される固形分の濃度にも限界があるため、混色を
回避するための技術が必要である。"Mixed color" is an obstacle that occurs when ink is mixed between adjacent pixels of different colors (colored portions). In a method of manufacturing a color filter in which a black matrix is used as a partition and a colored portion is formed by applying ink to the openings of the black matrix, the volume of the black matrix is several times to several tens times the volume of the openings of the black matrix. Need to be applied. When the solid content concentration of the colorant and curing component contained in the ink is high,
That is, when the volume of the ink to be applied is relatively small, the black matrix sufficiently functions as a partition and can hold the ink in the opening of the black matrix, so that the applied ink passes over the black matrix. Does not reach adjacent colored portions of different colors. However, when the solid concentration in the ink is low, that is, when a large amount of ink needs to be applied, the ink overflows beyond the black matrix serving as the partition wall, and color mixing occurs between adjacent colored portions. Resulting in. In particular, there is a limit to the viscosity of ink that can be stably ejected from the nozzles of an ink jet head, and there is also a limit to the concentration of solids contained in the ink. Therefore, a technique for avoiding color mixing is required. .

【００１３】そこで、着色部と隔壁との間におけるイン
クの濡れ性の差を利用して混色を防止する方法が提案さ
れている。例えば、特開昭５９−７５２０５号において
は、インクが目的領域外へ広がることを防止するため、
濡れ性の悪い物質で拡散防止パターンを形成する方法が
提案されているが、具体的な技術は開示されていない。
一方、特開平４−１２３００５号においては、具体的な
手法として、撥水、撥油作用の大きなシリコーンゴム層
をパターニングして混色防止用の仕切壁とする方法が提
案されている。さらに、特開平５−２４１０１１号や特
開平５−２４１０１２号においても同様に、遮光層とな
るブラックマトリクス上にシリコーンゴム層を形成し、
混色防止用の隔壁として用いる手法が開示されている。Therefore, a method for preventing color mixing by utilizing the difference in wettability of the ink between the colored portion and the partition has been proposed. For example, in JP-A-59-75205, in order to prevent the ink from spreading outside the target area,
A method of forming a diffusion prevention pattern with a substance having poor wettability has been proposed, but no specific technique has been disclosed.
On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-123005 proposes, as a specific method, a method of patterning a silicone rubber layer having a large water-repellent and oil-repellent action to form a partition wall for preventing color mixing. Further, in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 5-241111 and 5-241012, a silicone rubber layer is formed on a black matrix serving as a light-shielding layer.
A technique used as a partition for preventing color mixing is disclosed.

【００１４】これらの方法によれば、隔壁の高さをはる
かに超える量のインクを付与した場合においても、隔壁
の表面層が撥インク性を示すためにインクがはじかれ、
隔壁を超えて隣接する着色部にまで及ぶことがなく、有
効に混色を防止することができる。According to these methods, even when an amount of ink far exceeding the height of the partition is applied, the ink is repelled because the surface layer of the partition exhibits ink repellency,
Color mixing can be effectively prevented without reaching the adjacent colored portion beyond the partition wall.

【００１５】図３にその概念図を示す。図中、３１は透
明基板、３３は隔壁を兼ねたブラックマトリクス、３６
はインクである。ブラックマトリクス３３の上面が撥イ
ンク性を有する場合には、図３（ｂ）に示すように、付
与されたインク３６がブラックマトリクス３３の開口部
中に保持され、隣接する着色部にまで達することはな
い。しかしながら、ブラックマトリクス３３の上面の撥
インク性が低い場合には、図３（ａ）に示すように、付
与されたインク３６がブラックマトリクス３３上にまで
濡れ広がり、隣接する開口部に付与されたインクと混じ
り合ってしまう。FIG. 3 shows a conceptual diagram thereof. In the figure, 31 is a transparent substrate, 33 is a black matrix also serving as a partition, 36
Is ink. When the upper surface of the black matrix 33 has ink repellency, as shown in FIG. 3B, the applied ink 36 is held in the opening of the black matrix 33 and reaches the adjacent colored portion. There is no. However, when the ink repellency of the upper surface of the black matrix 33 is low, as shown in FIG. 3A, the applied ink 36 spreads over the black matrix 33 and is applied to the adjacent opening. It mixes with ink.

【００１６】また、フッ素化合物を用いて撥インク性を
得る方法も提案されている。例えば、特開２０００−３
５５１１号において、遮光部上にポジ型のレジストパタ
ーンを形成し、さらに該パターン上に撥インク化処理剤
を塗布する方法が開示されており、撥インク化処理剤と
しては、フッ素化合物を用いることが開示されている。
しかしながら、この方法の場合、遮光部上に設けられた
ポジ型レジストパターンを着色部形成後に除去する必要
があるが、レジストパターンを除去する際に画素の溶
解、剥離、膨潤といった問題を生じる場合がある。A method for obtaining ink repellency using a fluorine compound has also been proposed. For example, JP-A-2000-3
No. 5511 discloses a method of forming a positive resist pattern on a light-shielding portion and further applying an ink-repellent treatment agent on the pattern. A fluorine compound is used as the ink-repellent treatment agent. Is disclosed.
However, in the case of this method, it is necessary to remove the positive resist pattern provided on the light-shielding portion after forming the colored portion. However, when the resist pattern is removed, problems such as dissolution, peeling, and swelling of pixels may occur. is there.

【００１７】さらに、上述した手法はいずれも塗布−露
光−現像のフォトリソグラフィ工程を複数回実施する必
要があることから、プロセスの複雑化、コストアップ、
ひいては歩留まり低下を招くという問題がある。Furthermore, all of the above-mentioned methods require a plurality of photolithography steps of coating-exposure-development, so that the process becomes complicated, cost increases, and
As a result, there is a problem that the yield is reduced.

【００１８】一方、「白抜け」は、主に付与されたイン
クが隔壁によって囲まれた領域内に十分且つ均一に拡散
することができないことに起因して発生する障害であ
り、色ムラやコントラストの低下といった表示不良の原
因となる。On the other hand, “white spots” are obstacles that occur mainly because the applied ink cannot be sufficiently and uniformly diffused in the area surrounded by the partition walls, and the color unevenness and the contrast are poor. This causes display defects such as a decrease in image quality.

【００１９】図４に、白抜けの概念図を示す。図中、
（ｂ）は（ａ）のＡ−Ｂ断面図であり、図３と同じ部材
には同じ符号を付した。また、３８は白抜け部分であ
る。FIG. 4 shows a conceptual diagram of a white spot. In the figure,
(B) is an AB cross-sectional view of (a), and the same members as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals. Reference numeral 38 denotes a blank portion.

【００２０】近年、ＴＦＴ型液晶素子用のカラーフィル
タにおいては、ＴＦＴを外光から保護する目的で、或い
は、開口率を大きくして明るい表示を得る目的で、ブラ
ックマトリクス３３の開口部形状が複雑になっており、
複数のコーナー部を有するものが一般的に使用されてい
るため、図４（ａ）に示すように、該コーナー部に対し
てインク３６が十分に拡散しないという問題が発生す
る。また、ブラックマトリクス３３を形成する際には、
一般的にレジストを用いたフォトリソグラフィ工程が使
用されており、レジストに含まれる種々の成分により透
明基板３１の表面に汚染物が付着して、インク３６の拡
散の妨げとなる場合がある。さらに、透明基板３１の表
面に比べて、ブラックマトリクス３３の側面の撥インク
性が極端に高い場合、図４（ｂ）に示すように、ブラッ
クマトリクス３３の側面でインク３６がはじかれてしま
うため、インク３６とブラックマトリクス３３が接する
部分で色が薄くなるという問題が発生する場合もある。In recent years, in a color filter for a TFT type liquid crystal element, the opening shape of the black matrix 33 is complicated in order to protect the TFT from external light or to obtain a bright display by increasing the aperture ratio. It has become
Since one having a plurality of corners is generally used, there arises a problem that the ink 36 does not sufficiently diffuse into the corners as shown in FIG. When forming the black matrix 33,
Generally, a photolithography process using a resist is used, and contaminants adhere to the surface of the transparent substrate 31 due to various components contained in the resist, which may hinder the diffusion of the ink 36. Further, when the ink repellency of the side surface of the black matrix 33 is extremely high compared to the surface of the transparent substrate 31, the ink 36 is repelled on the side surface of the black matrix 33 as shown in FIG. In some cases, a problem may occur that the color becomes light at the portion where the ink 36 and the black matrix 33 are in contact with each other.

【００２１】このような混色や白抜けの問題を解決する
手法として、特開平９−２０３８０３号においては、ブ
ラックマトリクス（凸部）に囲まれた領域（凹部）が、
水に対して２０°以下の接触角となるよう親インク化処
理された基板を用いることが提案されている。親インク
性を付与する方法としては、水溶性のレベリング剤や水
溶性の界面活性剤が例示されている。さらに、上述した
混色に対する問題を同時に解決するために、凸部の表面
を予め撥インク化処理剤で処理して撥インク性を付与す
る手法が開示されており、撥インク化処理剤としてフッ
素含有シランカップリング剤を用い、フッ素系の溶剤で
コートする方法が例示されている。また、この際、凸部
の表面層のみを選択的に撥インク化し、凸部の側面を撥
インク化しないための手法として、 凸部以外の部分をレジストで覆って、凸部の上面のみ
を撥インク化処理する、 透明基板上にレジスト層を形成し、全面を撥インク化
処理した後、フォトリソ工程によりレジスト層をパター
ニングして凸部を形成する、等の方法が例示されてい
る。As a method for solving such a problem of color mixture and white spots, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-203803 discloses a method in which a region (concave portion) surrounded by a black matrix (convex portion) is formed.
It has been proposed to use a substrate which has been subjected to an ink-philic treatment so as to have a contact angle of 20 ° or less with water. Examples of a method for imparting ink affinity include a water-soluble leveling agent and a water-soluble surfactant. Further, in order to simultaneously solve the above-described problem of color mixing, a method of treating the surface of the convex portion with an ink repellent treatment agent in advance to impart ink repellency is disclosed. A method of coating with a fluorine-based solvent using a silane coupling agent is exemplified. In this case, as a method for selectively making the surface layer of the convex portion ink-repellent and not repelling the side surface of the convex portion, a portion other than the convex portion is covered with a resist, and only the upper surface of the convex portion is covered. Examples include a method of forming a resist layer on a transparent substrate, performing an ink repellency process, patterning the resist layer by a photolithography process to form a convex portion, and the like.

【００２２】また、特開平９−２３０１２９号において
は、同様に、凹部を親インク化処理する方法として、エ
ネルギー線を照射する方法が開示されている。この場合
にも、凸部の表面層のみを撥インク化処理する方法とし
て、ガラス基板上に凸部形成用の感光性材料を塗布し、
全面を撥インク化処理剤にて処理した後、フォトリソグ
ラフィ工程により感光性材料をパターニングする手法が
例示されている。その後、エネルギー線の照射により凸
部と凹部を同時に、もしくはどちらかを選択的に親イン
ク化処理するものである。Similarly, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-230129 discloses a method of irradiating energy rays as a method of making a concave portion ink-philic. Also in this case, as a method of performing ink-repellent treatment only on the surface layer of the convex portion, a photosensitive material for forming the convex portion is applied on a glass substrate,
A method of patterning a photosensitive material by a photolithography process after treating the entire surface with an ink repellent treatment agent is exemplified. After that, the projections and the depressions are simultaneously subjected to the irradiation of energy rays, or the ink-affinity-selective treatment is selectively performed on either of them.

【００２３】しかしながら、これらの方法はいずれも凸
部の表面を撥インク化処理した後に凹部を親インク化処
理するものであることから、親インク化処理を行う際に
撥インク化処理された凸部の表面の撥インク性を低下さ
せてしまうという問題がある。そのため、透明基板表面
及びブラックマトリクスの側面においては十分な親イン
ク性を、ブラックマトリクスの上面においては十分な撥
インク性をそれぞれ得ることは困難である。さらには、
複数回のフォトリグラフィ工程を行うため、プロセスが
複雑となり、歩留りが低下してしまうという問題があ
る。However, in each of these methods, the surface of the convex portion is subjected to the ink-repellent treatment, and then the concave portion is subjected to the ink-repellent treatment. There is a problem that the ink repellency of the surface of the portion is reduced. Therefore, it is difficult to obtain sufficient ink affinity on the surface of the transparent substrate and the side surface of the black matrix, and to obtain sufficient ink repellency on the upper surface of the black matrix. Moreover,
Since the photolithography process is performed a plurality of times, there is a problem that the process becomes complicated and the yield decreases.

【００２４】上記問題は、インクジェット方式によりＥ
Ｌ素子を製造する場合にも同様に生じる。即ち、ＥＬ素
子において、例えばＲ、Ｇ、Ｂの各色を発光する有機Ｅ
Ｌ材料をインクとして用い、隔壁で囲まれた領域に該イ
ンクを付与して画素（発光層）を形成する際に、隣接す
る発光層間でインクが混じり合った場合、当該発光層で
は所望の色、輝度の発光が得られないという問題が生じ
る。また、単一色の発光層であっても、隔壁内に充填す
るインク量を均一化しているため、隣接画素へインクが
流入すると、インク量に不均一性が生じ、輝度ムラとし
て認識され、問題となる。また、隔壁で囲まれた領域内
に十分にインクが拡散しなかった場合には、発光層と隔
壁との境界部分で十分な発光輝度が得られないという問
題を生じる。尚、以下の記述においては、便宜上、ＥＬ
素子を製造する場合においても、隣接する発光層間での
インクの混じり合いを「混色」、発光層と隔壁の境界部
でのインクの反発による発光輝度ムラの発生を「白抜
け」と記す。The above problem is caused by the E
This also occurs when an L element is manufactured. That is, in the EL element, for example, the organic E which emits each color of R, G, B
When a material (light emitting layer) is formed by applying the ink to a region surrounded by the partition wall using the L material as the ink and mixing the ink between the adjacent light emitting layers, the light emitting layer has a desired color. However, there is a problem that light emission of luminance cannot be obtained. Further, even in the case of a single color light emitting layer, since the amount of ink filled in the partition walls is made uniform, when ink flows into adjacent pixels, the amount of ink becomes non-uniform and is recognized as uneven brightness. Becomes In addition, when the ink is not sufficiently diffused in the region surrounded by the partition, there is a problem that sufficient light emission luminance cannot be obtained at the boundary between the light emitting layer and the partition. In the following description, for convenience, EL
Also in the case of manufacturing an element, mixing of ink between adjacent light emitting layers is referred to as “color mixing”, and occurrence of unevenness in light emission luminance due to repulsion of ink at the boundary between the light emitting layer and the partition is referred to as “white spots”.

【００２５】本発明の課題は、カラーフィルタやＥＬ素
子といった光学素子を、インクジェット方式を利用して
簡易なプロセスで安価に製造するに際して、上記問題を
解決し、信頼性の高い光学素子を歩留まり良く提供する
ことにある。具体的には、隔壁で囲まれた領域内にイン
クを付与する際に、隣接する画素間での混色を防止し、
且つ、該領域内でインクを十分に拡散させて白抜けのな
い画素を形成することにある。本発明ではさらに、該製
造方法によって得られた光学素子を用いて、カラー表示
特性に優れた液晶素子をより安価に提供することを目的
とする。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems when manufacturing optical elements such as color filters and EL elements at a low cost by a simple process using an ink-jet method, and to obtain a highly reliable optical element with a high yield. To provide. Specifically, when applying ink to the area surrounded by the partition, to prevent color mixture between adjacent pixels,
Another object of the present invention is to form a pixel without white spots by sufficiently diffusing ink in the area. Another object of the present invention is to provide a liquid crystal element having excellent color display characteristics at a lower cost by using the optical element obtained by the manufacturing method.

【００２６】[0026]

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、支持基
板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁と
を少なくとも有する光学素子の製造方法であって、ベー
スフィルム上に、撥インク性を有する樹脂組成物からな
る第１層と、親インク性を有する樹脂組成物からなる第
２層と、を積層してなる転写フィルムを、上記支持基板
に、上記第２層を支持基板側に向けて密着させる工程
と、上記転写フィルムをパターン露光する工程と、上記
転写フィルムのベースフィルムを第１層及び第２層の未
露光部と共に剥離して、隔壁を形成する工程と、インク
ジェット方式により隔壁に囲まれた領域にインクを付与
して画素を形成する工程とを少なくとも有することを特
徴とする光学素子の製造方法である。A first aspect of the present invention is a method of manufacturing an optical element having at least a plurality of pixels on a supporting substrate and a partition wall located between adjacent pixels, the method comprising the steps of: A transfer film formed by laminating a first layer made of a resin composition having ink repellency and a second layer made of a resin composition having ink affinity, forming the second layer on the support substrate; A step of bringing the transfer film into close contact with the support substrate side, a step of pattern-exposing the transfer film, and a step of peeling off the base film of the transfer film together with the unexposed portions of the first and second layers to form a partition. Applying an ink to a region surrounded by a partition wall by an ink-jet method to form a pixel.

【００２７】上記本発明の第一は、下記の構成を好まし
い態様として含むものである。上記第１層が、シリコン
系化合物或いはフッ素系化合物の少なくとも一方を含有
する。上記第１層が、光照射によりベースフィルムとの
接着性が低下する感光性樹脂組成物からなり、上記第２
層が、光照射により支持基板との接着性が向上する感光
性樹脂組成物からなる。上記第２層が遮光剤を含有す
る。上記インクが少なくとも硬化成分、水、有機溶剤を
含有する。上記支持基板が透明基板であり、上記インク
が着色剤を含有し、上記画素が着色部であるカラーフィ
ルタを製造する。上記インクが蛍光性材料を含有し、画
素が発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有す
るエレクトロルミネッセンス素子を製造する。The first aspect of the present invention includes the following configurations as preferred embodiments. The first layer contains at least one of a silicon compound and a fluorine compound. The first layer is made of a photosensitive resin composition whose adhesiveness to a base film is reduced by light irradiation,
The layer is made of a photosensitive resin composition whose adhesion to a supporting substrate is improved by light irradiation. The second layer contains a light-blocking agent. The ink contains at least a curing component, water and an organic solvent. A color filter is manufactured in which the support substrate is a transparent substrate, the ink contains a colorant, and the pixels are colored portions. The above-mentioned ink contains a fluorescent material, a pixel is a light emitting layer, and an electroluminescent element having electrodes above and below the light emitting layer is manufactured.

【００２８】本発明の第二は、支持基板上に複数の画素
と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有す
る光学素子を、支持基板上に隔壁を形成した後、インク
ジェット方式により隔壁で囲まれた領域にインクを付与
して画素を形成する製造方法において、上記隔壁の形成
工程に用いる剥離現像可能な転写フィルムであって、ベ
ースフィルム上に、撥インク性を有する樹脂組成物から
なる第１層と、親インク性を有する樹脂組成物からなる
第２層と、を積層してなることを特徴とする転写フィル
ムである。The second aspect of the present invention is to form an optical element having at least a plurality of pixels on a support substrate and a partition located between adjacent pixels by forming the partition on the support substrate, and then forming the partition by an ink jet method. In the manufacturing method in which pixels are formed by applying ink to an enclosed region, a transfer film that can be peeled and used in the step of forming the partition wall is formed of a resin composition having ink repellency on a base film. A transfer film characterized by laminating a first layer and a second layer made of a resin composition having ink affinity.

【００２９】上記本発明の第二は、下記の構成を好まし
い態様として含むものである。上記第１層が、シリコン
系化合物或いはフッ素系化合物の少なくとも一方を含有
する。上記第１層が、光照射によりベースフィルムとの
接着性が低下する感光性樹脂組成物からなり、上記第２
層が、光照射により支持基板との接着性が向上する感光
性樹脂組成物からなる。The second aspect of the present invention includes the following configuration as a preferred embodiment. The first layer contains at least one of a silicon compound and a fluorine compound. The first layer is made of a photosensitive resin composition whose adhesiveness to a base film is reduced by light irradiation,
The layer is made of a photosensitive resin composition whose adhesion to a supporting substrate is improved by light irradiation.

【００３０】本発明の第三は、支持基板上に複数の画素
と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有
し、上記本発明の光学素子の製造方法により製造された
ことを特徴とする光学素子である。A third aspect of the present invention is characterized in that the optical element has at least a plurality of pixels on a support substrate and a partition wall located between adjacent pixels, and is manufactured by the above-described method for manufacturing an optical element of the present invention. Optical element.

【００３１】上記本発明の第三は、下記の構成を好まし
い態様として含むものである。上記隔壁が遮光層であ
る。上記支持基板が透明基板であり、上記画素が着色剤
を含有するインクで形成された着色部であり、複数色の
着色部を備えたカラーフィルタである。上記着色部上に
保護層を有する。表面に透明導電膜を有する。上記画素
が蛍光性材料からなる発光層であり、該発光層を挟んで
上下に電極を有するエレクトロルミネッセンス素子であ
る。The third aspect of the present invention includes the following configuration as a preferred embodiment. The partition is a light shielding layer. The support substrate is a transparent substrate, the pixels are colored portions formed of ink containing a colorant, and the color filter includes a plurality of colored portions. A protective layer is provided on the colored portion. A transparent conductive film is provided on the surface. The pixel is a light emitting layer made of a fluorescent material, and is an electroluminescent element having electrodes above and below the light emitting layer.

【００３２】本発明の第四は、一対の基板間に液晶を挟
持してなり、一方の基板が上記本発明の光学素子を用い
て構成されたことを特徴とする液晶素子である。A fourth aspect of the present invention is a liquid crystal element characterized in that liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, and one of the substrates is formed using the optical element of the present invention.

【００３３】[0033]

【発明の実施の形態】本発明の光学素子の製造方法は、
予め撥インク性と親インク性とを有する異なる２種類の
層が形成された転写フィルムを用い、親インク性を有す
る層が支持基板と接するよう密着させた後、剥離現像に
より上層部が撥インク性を有し、下層部が親インク性を
有する隔壁を形成した後に、該隔壁で囲まれた領域にイ
ンクジェット方式によりインクを付与して画素を形成す
ることに特徴を有する。よって本発明においては、イン
クジェット適性に優れた隔壁を簡便な方法で形成するこ
とが可能であり、インクを付与する際に、隔壁上面の撥
インク性によって多量のインクでも良好に保持して混色
を防止し、また、隔壁側面は下層が親インク性であるた
めすみやかにインクが隔壁内に濡れ広がって白抜けが防
止される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Using a transfer film in which two different layers having ink repellency and ink affinity are formed in advance, the layer having the ink affinity is brought into close contact with the support substrate, and then the upper layer portion is subjected to peeling development to remove the ink repellency. After forming a partition having an ink-philic property in a lower layer portion, ink is applied to a region surrounded by the partition by an inkjet method to form a pixel. Therefore, in the present invention, it is possible to form a partition having excellent ink jet suitability by a simple method, and when applying ink, a large amount of ink is favorably retained due to the ink repellency of the partition upper surface and color mixing is performed. In addition, since the lower layer of the side wall of the partition wall is ink-philic, the ink quickly spreads into the partition wall, preventing white spots.

【００３４】尚、本発明において上記「インク」とは、
乾燥硬化した後に、例えば光学的、電気的に機能性を有
する液体を総称し、従来用いられていた着色材料に限定
されるものではない。In the present invention, the above-mentioned “ink” is
After drying and curing, for example, liquids having optical and electrical functionality are collectively referred to, and are not limited to conventionally used coloring materials.

【００３５】本発明の製造方法で製造される本発明の光
学素子としては、カラーフィルタ及びエレクトロルミネ
ッセンス素子（ＥＬ素子）が挙げられる。先ず、本発明
の光学素子について実施形態を挙げて説明する。The optical element of the present invention manufactured by the manufacturing method of the present invention includes a color filter and an electroluminescent element (EL element). First, the optical element of the present invention will be described with reference to embodiments.

【００３６】図５に、本発明の光学素子の一実施形態で
あるカラーフィルタの一例の断面を模式的に示す。図
中、５１は支持基板としての透明基板、５２は隔壁を兼
ねたブラックマトリクス、５３は画素である着色部、５
４は必要に応じて形成される保護層である。本発明のカ
ラーフィルタを用いて液晶素子を構成する場合には、着
色部５３上或いは、着色部５３上に保護層５４を形成し
たさらにその上に、液晶を駆動するためのＩＴＯ（イン
ジウム・チン・オキサイド）等透明導電材からなる透明
導電膜が形成されて提供される場合もある。また、本発
明において、隔壁を兼ねたブラックマトリクス５２は、
親インク性を有する第２層５２ａと撥インク性を有する
第１層５２ｂとから構成される。FIG. 5 schematically shows a cross section of an example of a color filter which is an embodiment of the optical element of the present invention. In the figure, 51 is a transparent substrate as a support substrate, 52 is a black matrix also serving as a partition, 53 is a colored portion which is a pixel, 5
4 is a protective layer formed as needed. When a liquid crystal element is formed using the color filter of the present invention, ITO (indium tin oxide) for driving liquid crystal is formed on the colored portion 53 or on the protective layer 54 formed on the colored portion 53. In some cases, a transparent conductive film made of a transparent conductive material such as (oxide) is formed and provided. In the present invention, the black matrix 52 also serving as a partition is
It is composed of a second layer 52a having ink affinity and a first layer 52b having ink repellency.

【００３７】図６に、図５のカラーフィルタを用いて構
成された、本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図
を示す。図中、５７は共通電極（透明導電膜）、５８は
配向膜、５９は液晶、６１は対向基板、６２は画素電
極、６３は配向膜であり、図５と同じ部材には同じ符号
を付して説明を省略する。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of the liquid crystal element of the present invention constituted by using the color filter of FIG. In the figure, 57 is a common electrode (transparent conductive film), 58 is an alignment film, 59 is a liquid crystal, 61 is a counter substrate, 62 is a pixel electrode, 63 is an alignment film, and the same members as those in FIG. And the description is omitted.

【００３８】カラー液晶素子は、一般的にカラーフィル
タ側の基板５１と対向基板６１とを合わせ込み、液晶５
９を封入することにより形成される。液晶素子の一方の
基板６１の内側に、ＴＦＴ（不図示）と画素電極６２が
マトリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ
側の基板５１の内側には、画素電極６２に対向する位置
に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列するように、カラーフィルタの着
色部５３が形成され、その上に透明な共通電極５７が形
成される。さらに、両基板の面内には配向膜５８，６３
が形成されており、液晶分子を一定方向に配列させてい
る。これらの基板は、スペーサー（不図示）を介して対
向配置され、シール材（不図示）によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶５９が充填される。The color liquid crystal element is generally formed by combining a substrate 51 on the color filter side and a counter substrate 61 and forming a liquid crystal 5.
9 is formed. TFTs (not shown) and pixel electrodes 62 are formed in a matrix inside one substrate 61 of the liquid crystal element. A colored portion 53 of a color filter is formed inside the substrate 51 on the color filter side at a position facing the pixel electrode 62 so that R, G, and B are arranged, and a transparent common electrode is formed thereon. 57 are formed. Further, alignment films 58 and 63 are provided in the plane of both substrates.
Are formed, and the liquid crystal molecules are arranged in a certain direction. These substrates are arranged to face each other via a spacer (not shown), are bonded to each other with a sealing material (not shown), and a gap therebetween is filled with a liquid crystal 59.

【００３９】上記液晶素子は、透過型の場合には、基板
６１及び画素電極６２を透明素材で形成し、それぞれの
基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板
を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバッ
クライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして
機能させることにより表示を行なう。また、反射型の場
合には、基板６１或いは画素電極６２を反射機能を備え
た素材で形成するか、或いは、基板６１上に反射層を設
け、透明基板５１の外側に偏光板を設け、カラーフィル
タ側から入射した光を反射して表示を行なう。In the case of the transmission type liquid crystal element, the substrate 61 and the pixel electrode 62 are formed of a transparent material, a polarizing plate is adhered to the outside of each substrate, and a fluorescent lamp and a scattering plate are generally combined. The display is performed by using a liquid crystal compound that functions as an optical shutter that changes the light transmittance of the backlight. In the case of the reflective type, the substrate 61 or the pixel electrode 62 is formed of a material having a reflective function, or a reflective layer is provided on the substrate 61, a polarizing plate is provided outside the transparent substrate 51, and a color plate is provided. Display is performed by reflecting light incident from the filter side.

【００４０】また、図７に、本発明の光学素子の他の実
施形態である、有機ＥＬ素子の一例の断面模式図を示
す。図中、７１は支持基板である駆動基板、７２は親イ
ンク性を有する第２層７２ａと撥インク性を有する第１
層７２ｂからなる隔壁、７３は画素である発光層、７４
は透明電極、７６は金属層である。この図では、簡略化
のために一つの画素領域のみを示している。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of an example of an organic EL device which is another embodiment of the optical device of the present invention. In the drawing, reference numeral 71 denotes a driving substrate serving as a supporting substrate, and 72 denotes a second layer 72a having ink affinity and a first layer 72 having ink repellency.
A partition wall composed of the layer 72b; 73, a light emitting layer which is a pixel;
Is a transparent electrode, and 76 is a metal layer. In this figure, only one pixel region is shown for simplification.

【００４１】駆動基板７１には、ＴＦＴ（不図示）、配
線膜及び絶縁膜等が多層に積層されており、金属層７６
及び発光層７３毎に配置した透明電極７４間に発光層単
位で電圧を印加可能に構成されている。駆動基板７１は
公知の薄膜プロセスによって製造される。On the drive substrate 71, a TFT (not shown), a wiring film, an insulating film and the like are laminated in multiple layers.
In addition, a voltage can be applied between the transparent electrodes 74 arranged for each light emitting layer 73 for each light emitting layer. The drive substrate 71 is manufactured by a known thin film process.

【００４２】本発明において有機ＥＬ素子を構成する場
合、その構造については、少なくとも一方が透明または
半透明である一対の陽極及び陰極からなる電極間に、樹
脂組成物からなる隔壁内に少なくとも蛍光性材料からな
るインクを充填して画素を形成した構成であれば、特に
制限はなく、その構造は公知のものを採用することがで
き、また本発明の主旨を逸脱しない限りにおいて各種の
改変を加えることができる。When an organic EL device is constructed in the present invention, at least one of the transparent or translucent electrodes is composed of a pair of anodes and cathodes, and at least one of the transparent and translucent electrodes is provided in a partition made of a resin composition. There is no particular limitation as long as the pixel is formed by filling the ink composed of the material, and the structure may be a known structure, and various modifications may be made without departing from the gist of the present invention. be able to.

【００４３】その積層構造は、例えば、 （１）電極（陰極）／発光層／正孔注入層／電極（陽
極） （２）電極（陽極）／発光層／電子注入層／電極（陰
極） （３）電極（陽極）／正孔注入層／発光層／電子注入層
／電極（陰極） （４）電極（陽極または陰極）／発光層／電極（陰極ま
たは陽極） があるが、本発明は上記のいずれの構成の有機化合物層
を設けた積層構造体を有するＥＬ素子に対しても適用す
ることができる。The laminated structure includes, for example, (1) electrode (cathode) / light-emitting layer / hole injection layer / electrode (anode) (2) electrode (anode) / light-emitting layer / electron injection layer / electrode (cathode) ( 3) Electrode (anode) / hole injection layer / light-emitting layer / electron injection layer / electrode (cathode) (4) Electrode (anode or cathode) / light-emitting layer / electrode (cathode or anode) The present invention can be applied to an EL element having a laminated structure provided with an organic compound layer having any of the above structures.

【００４４】上記（１）及び（２）は２層構造、（３）
は３層構造、（４）は単層構造と称されるものである。
本発明における有機ＥＬ素子はこれらの積層構造を基本
とするが、これら以外の（１）から（４）を組み合わせ
た構造やそれぞれの層を複数有していてもよい。また、
カラーフィルタと組み合わせることによって、フルカラ
ー表示を実現しても良い。これらの積層構造からなる有
機ＥＬ素子の形状、大きさ、材質、隔壁と画素以外の部
材の形成工程等は該有機ＥＬ素子の用途等に応じて適宜
選択され、特に制限はない。The above (1) and (2) have a two-layer structure, (3)
Is a three-layer structure, and (4) is a single-layer structure.
Although the organic EL element in the present invention is based on these laminated structures, it may have a combined structure of (1) to (4) and a plurality of layers other than these. Also,
A full color display may be realized by combining with a color filter. The shape, size, and material of the organic EL element having such a laminated structure, the step of forming members other than the partition walls and the pixels, and the like are appropriately selected according to the use of the organic EL element, and are not particularly limited.

【００４５】本発明において、有機ＥＬ素子の発光層に
用いられる発光材料は蛍光性材料であれば特に限定され
ず、種々のものを適用することができる。具体的には、
蛍光性を有する有機化合物であり、低分子蛍光体、高分
子蛍光体のいずれもが好ましく用いられ、インクジェッ
ト方式への適用が簡単であることから、高分子蛍光体が
さらに好ましい。In the present invention, the light emitting material used for the light emitting layer of the organic EL element is not particularly limited as long as it is a fluorescent material, and various materials can be applied. In particular,
It is an organic compound having a fluorescence property, and both a low molecular weight fluorescent substance and a high molecular weight fluorescent substance are preferably used, and a high molecular weight fluorescent substance is more preferable because application to an ink jet method is simple.

【００４６】例えば、低分子蛍光体としては、特に限定
はないが、ナフタレン及びその誘導体、アントラセン及
びその誘導体、ペリレン及びその誘導体、ポリメチン
系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系などの色素
類、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯
体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン
及びその誘導体、テトラフェニルブタジエン及びその誘
導体等を用いることができる。具体的には、例えば、特
開昭５７−４１７８１号、特開昭５９−１８４３８３号
公報に記載されているもの等、公知のものが使用可能で
ある。For example, the low-molecular fluorescent substance is not particularly limited, but naphthalene and its derivatives, anthracene and its derivatives, perylene and its derivatives, polymethine, xanthene, coumarin, and cyanine dyes; -Metal complexes of hydroxyquinoline and its derivatives, aromatic amines, tetraphenylcyclopentadiene and its derivatives, tetraphenylbutadiene and its derivatives, and the like can be used. Specifically, for example, known materials such as those described in JP-A-57-41781 and JP-A-59-184383 can be used.

【００４７】また、発光材料として使用可能な高分子蛍
光体としては、特に限定はないが、ポリフェニレンビニ
レン、ポリアリレン、ポリアルキルチオフェン、ポリア
ルキルフルオレン等を挙げることができる。The polymer fluorescent substance usable as the light emitting material is not particularly limited, and examples thereof include polyphenylene vinylene, polyarylene, polyalkylthiophene, and polyalkylfluorene.

【００４８】尚、本発明において有機ＥＬ素子に用いる
高分子蛍光体は、ランダム、ブロックまたはグラフト共
重合体であってもよいし、それらの中間的な構造を有す
る高分子、例えばブロック性を帯びたランダム共重合体
であってもよい。蛍光の量子収率の高い高分子蛍光体を
得る観点からは完全なランダム共重合体よりブロック性
を帯びたランダム共重合体やブロックまたはグラフト共
重合体が好ましい。また本発明の有機ＥＬ素子は、薄膜
からの発光を利用するので該高分子蛍光体は、固体状態
で蛍光を有するものが用いられる。The polymer fluorescent substance used in the organic EL device in the present invention may be a random, block or graft copolymer, or a polymer having an intermediate structure between them, such as a block-like polymer. Or a random copolymer. From the viewpoint of obtaining a polymeric fluorescent substance having a high quantum yield of fluorescence, a random copolymer having block properties or a block or graft copolymer is preferable to a complete random copolymer. In addition, since the organic EL device of the present invention utilizes light emission from a thin film, a polymer fluorescent material having fluorescence in a solid state is used.

【００４９】該高分子蛍光体に対する良溶媒としては、
クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、テトラ
ヒドロフラン、トルエン、キシレンなどが例示される。
高分子蛍光体の構造や分子量にもよるが、通常はこれら
の溶媒に０．１重量％以上溶解させることができる。As a good solvent for the polymeric fluorescent substance,
Examples include chloroform, methylene chloride, dichloroethane, tetrahydrofuran, toluene, xylene and the like.
Although it depends on the structure and molecular weight of the polymeric fluorescent substance, it can be usually dissolved in these solvents in an amount of 0.1% by weight or more.

【００５０】本発明における有機ＥＬ素子において、発
光層と陰極との間にさらに電子輸送層を設ける場合の電
子輸送層中に使用する、或いは正孔輸送性材料及び発光
材料と混合使用する電子輸送性材料は、陰極より注入さ
れた電子を発光材料に伝達する機能を有している。この
ような電子輸送性材料について特に制限はなく、従来公
知の化合物の中から任意のものを選択して用いることが
できる。In the organic EL device of the present invention, the electron transport used in the electron transport layer when an electron transport layer is further provided between the light emitting layer and the cathode, or used in combination with the hole transport material and the light emitting material The conductive material has a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light emitting material. There is no particular limitation on such an electron transporting material, and any one of conventionally known compounds can be selected and used.

【００５１】該電子輸送性材料の好ましい例としては、
ニトロ置換フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン
誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシ
ド誘導体、複素環テトラカルボン酸無水物、或いはカル
ボジイミド等を挙げることができる。Preferred examples of the electron transporting material include:
Examples include nitro-substituted fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides, and carbodiimides.

【００５２】さらに、フレオレニリデンメタン誘導体、
アントラキノジメタン誘導体及びアントロン誘導体、オ
キサジアゾール誘導体等を挙げることができる。また、
発光層を形成する材料として開示されているが、８−ヒ
ドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体等も電子輸
送性材料として用いることができる。Further, a fluorenylidenemethane derivative,
Anthraquinodimethane derivatives, anthrone derivatives, oxadiazole derivatives and the like can be mentioned. Also,
Although disclosed as a material for forming a light emitting layer, a metal complex of 8-hydroxyquinoline and a derivative thereof and the like can also be used as the electron transporting material.

【００５３】本発明におけるＥＬ素子において、発光層
は一般には適当な結着性樹脂と組み合わせて薄膜状に形
成する。上記結着性樹脂としては広範囲な樹脂材料より
選択でき、例えばポリビニルカルバゾール樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹
脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルア
セタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹
脂、メタクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、
シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、尿素樹脂等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。これらは
単独または共重合体ポリマーとして１種または２種以上
混合して用いても良い。In the EL device of the present invention, the light emitting layer is generally formed into a thin film in combination with an appropriate binder resin. The binder resin can be selected from a wide range of resin materials, for example, polyvinyl carbazole resin, polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, butyral resin, polystyrene resin, polyvinyl acetal resin, diallyl phthalate resin, acrylic resin, methacrylic resin, Phenolic resin, epoxy resin,
Examples include, but are not limited to, silicone resins, polysulfone resins, urea resins, and the like. These may be used alone or as a copolymer in one kind or as a mixture of two or more kinds.

【００５４】また、陽極材料としては仕事関数がなるべ
く大きなものが良く、例えば、ニッケル、金、白金、パ
ラジウム、セレン、レニウム、イリジウムやこれらの合
金、或いは酸化錫、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、ヨウ
化銅が好ましい。またポリ（３−メチルチオフェン）、
ポリフェニレンスルフィド或いはポリピロール等の導電
性ポリマーも使用出来る。一方、陰極材料としては仕事
関数が小さな銀、鉛、錫、マグネシウム、アルミニウ
ム、カルシウム、マンガン、インジウム、クロム或いは
これらの合金が用いられる。The anode material preferably has a work function as large as possible. For example, nickel, gold, platinum, palladium, selenium, rhenium, iridium and alloys thereof, or tin oxide, indium tin oxide (ITO), iodine Copper oxide is preferred. Poly (3-methylthiophene),
Conductive polymers such as polyphenylene sulfide or polypyrrole can also be used. On the other hand, as a cathode material, silver, lead, tin, magnesium, aluminum, calcium, manganese, indium, chromium, or an alloy thereof having a small work function is used.

【００５５】ＥＬ素子は、発光層における発光を観察す
る側を透明或いは半透明にする必要があり、例えば図７
の構成においては、透明電極７４を形成した駆動基板７
１が透明或いは半透明になるように構成される。また、
透明電極７４は陰極、陽極のいずれでもかまわないが、
通常、ＩＴＯが用いられるため、陽極となるのが一般的
である。The EL element needs to be transparent or translucent on the side of the light emitting layer where light emission is observed.
In the configuration described above, the driving substrate 7 on which the transparent electrode 74 is formed
1 is configured to be transparent or translucent. Also,
The transparent electrode 74 may be either a cathode or an anode,
Usually, since ITO is used, it is generally used as an anode.

【００５６】以下に、図面を参照して本発明の光学素子
の製造方法について説明する。Hereinafter, a method for manufacturing an optical element of the present invention will be described with reference to the drawings.

【００５７】図１、図２は本発明の光学素子の製造方法
を模式的に示す工程図である。以下に各工程について説
明する。尚、図１、図２の（ａ）〜（ｆ）は以下の工程
（ａ）〜（ｆ）に対応する模式図である。また、図１、
図２の各工程において紙面左側の（ａ−１）〜（ｆ−
１）は上方より見た平面模式図、紙面右側の（ａ−２）
〜（ｆ−２）は（ａ−１）〜（ｆ−１）のＡ−Ｂ断面模
式図である。図中、１は支持基板、２は転写フィルム、
３はベースフィルム、４は第１層、５は第２層、６はフ
ォトマスク、７は隔壁、８は隔壁７の開口部、９はイン
ク、１０は画素である。FIGS. 1 and 2 are process diagrams schematically showing a method for manufacturing an optical element according to the present invention. Hereinafter, each step will be described. 1 and 2 are schematic diagrams corresponding to the following steps (a) to (f). Also, FIG.
In each step of FIG. 2, (a-1) to (f-
1) is a schematic plan view seen from above, and (a-2) on the right side of the drawing.
(F-2) is an AB sectional schematic view of (a-1) to (f-1). In the figure, 1 is a support substrate, 2 is a transfer film,
3 is a base film, 4 is a first layer, 5 is a second layer, 6 is a photomask, 7 is a partition, 8 is an opening of the partition 7, 9 is ink, and 10 is a pixel.

【００５８】工程（ａ） 支持基板１及び転写フィルム２を用意する。支持基板１
は、図５に例示したカラーフィルタを製造する場合には
透明基板５１であり、一般にはガラス基板が用いられる
が、液晶素子を構成する目的においては、所望の透明
性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば、プ
ラスチック基板なども用いることができる。また、図７
に例示したＥＬ素子を製造する場合には、支持基板１は
透明電極７４を形成した駆動基板７１であり、図７の如
く当該基板側から発光を観察する場合には、駆動基板７
１にガラス基板などの透明基板を用いる。Step (a) A support substrate 1 and a transfer film 2 are prepared. Support substrate 1
Is a transparent substrate 51 in the case of manufacturing the color filter illustrated in FIG. 5, and a glass substrate is generally used. However, for the purpose of forming a liquid crystal element, necessary transparency, mechanical strength, and the like are required. A plastic substrate or the like can be used as long as it has characteristics. FIG.
In the case of manufacturing the EL element illustrated in FIG. 1, the support substrate 1 is a drive substrate 71 on which a transparent electrode 74 is formed. When light emission is observed from the substrate side as shown in FIG.
For 1, a transparent substrate such as a glass substrate is used.

【００５９】支持基板１には、その表面に対して、プラ
ズマ処理、ＵＶ処理、カップリング処理等の表面処理を
施しても良い。The surface of the support substrate 1 may be subjected to a surface treatment such as a plasma treatment, a UV treatment, and a coupling treatment.

【００６０】本発明に用いる転写フィルム２は、隔壁７
を形成するための部材であり、本発明にかかる隔壁７
は、図５のカラーフィルタの場合にはブラックマトリク
ス５２に、図７のＥＬ素子の場合には隔壁７２に相当す
る。該隔壁７は、特にカラーフィルタを製造する場合に
は、図５の５２で示したように、隣接する画素間を遮光
する遮光層とすることが好ましく、その場合、図５の如
くブラックマトリクス５２とするか、或いは、ブラック
ストライプとすることもできる。また、ＥＬ素子を製造
する場合にも遮光層とすることが可能である。The transfer film 2 used in the present invention comprises a partition 7
For forming the partition wall 7 according to the present invention.
Corresponds to the black matrix 52 in the case of the color filter of FIG. 5, and corresponds to the partition wall 72 in the case of the EL element of FIG. The partition wall 7 is preferably a light-shielding layer for shielding light between adjacent pixels as shown by 52 in FIG. 5 particularly when a color filter is manufactured. In this case, as shown in FIG. Or a black stripe. Further, the light-shielding layer can be used also in the case of manufacturing an EL element.

【００６１】転写フィルム２は、ベースフィルム３上に
撥インク性を有する第１層４と親インク性を有する第２
層５とを積層してなる。The transfer film 2 has a first layer 4 having ink repellency on the base film 3 and a second layer 4 having ink affinity.
The layer 5 is laminated.

【００６２】本発明において用いられる転写フィルム２
の各構成部材について以下に説明する。Transfer film 2 used in the present invention
The components will be described below.

【００６３】〔ベースフィルム〕ベースフィルム３とし
ては、熱、溶剤、光等に対して耐性を有するものを用い
ることが好ましい。さらには、該ベースフィルム３側か
ら光照射を行う場合には、光照射に用いる波長の光を透
過する必要があり、具体的にはポリエチレンテレフタレ
ート、ポリプロピレン、トリアセテート、セルロースア
セテート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ポリサルフォン、ポリテトラフル
オロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル、
テトラフルオロエチレン−エチレン等のシート、或いは
これらの樹脂材料にフィラーを添加したシートが用いら
れる。また、ベースフィルム３の膜厚は、一般的に５〜
５００μｍ程度のものが用いられ、特に２０〜２００μ
ｍ程度のものが好適に用いられる。[Base Film] As the base film 3, it is preferable to use a film having resistance to heat, solvent, light and the like. Further, when light irradiation is performed from the base film 3 side, it is necessary to transmit light having a wavelength used for light irradiation, and specifically, polyethylene terephthalate, polypropylene, triacetate, cellulose acetate, polystyrene, polyvinyl chloride , Polycarbonate, polyimide, polysulfone, polytetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether,
Sheets such as tetrafluoroethylene-ethylene or sheets obtained by adding fillers to these resin materials are used. The thickness of the base film 3 is generally 5 to
Those having a diameter of about 500 μm are used.
Those having a size of about m are preferably used.

【００６４】〔第１層〕第１層４は撥インク性を有する
樹脂組成物から形成されるが、好ましくは、通常状態に
おいてはベースフィルム３に対して接着性を有し、光照
射によってその接着性が低下する感光性樹脂組成物が好
ましい。また、第１層４の撥インク性としては、インク
に対する接触角が６０°以上であることが好ましく、シ
リコン系化合物及び／またはフッ素系化合物を添加する
ことで好ましい撥インク性が得られる。[First Layer] The first layer 4 is formed from a resin composition having ink repellency, but preferably has adhesiveness to the base film 3 in a normal state, A photosensitive resin composition having reduced adhesiveness is preferred. Further, the ink repellency of the first layer 4 is preferably such that the contact angle with the ink is 60 ° or more, and favorable ink repellency can be obtained by adding a silicon compound and / or a fluorine compound.

【００６５】これらの特性を満足し得る好ましい樹脂組
成物としては、光重合性モノマー、バインダー樹脂、光
重合開始剤、シリコン系化合物および／またはフッ素系
化合物を成分として含有することが好ましい。以下に各
成分について詳しく説明する。A preferable resin composition satisfying these characteristics preferably contains a photopolymerizable monomer, a binder resin, a photopolymerization initiator, a silicon compound and / or a fluorine compound as components. Hereinafter, each component will be described in detail.

【００６６】光重合性モノマー：光重合性モノマーとし
ては、多官能のビニル系或いはビニリデン系のモノマー
またはオリゴマーが好適に用いられ、例えばポリオール
の不飽和エステル類として、エチレングリコールジアク
リレート、グリセリントリアクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、１，３−プロパンジオールメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート
等を単独或いは複数混合して使用することができる。Photopolymerizable Monomer: As the photopolymerizable monomer, polyfunctional vinyl or vinylidene monomers or oligomers are preferably used. For example, unsaturated glycol esters such as ethylene glycol diacrylate and glycerin triacrylate , Ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-propanediol methacrylate, polyethylene glycol diacrylate and the like can be used alone or in combination.

【００６７】バインダー樹脂：バインダー樹脂として
は、熱可塑性樹脂を用いることが好ましく、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル等のアクリル系モノマーの単独または共重合
体、メチルセルロース、エチルセルロース等を高分子化
したセルロース系ポリマー、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポ
リエステル、ポリアミド等の縮合系ポリマー、塩素化ゴ
ム、ブタジエン−スチレン共重合体等のゴム系ポリマ
ー、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン等のポ
リオレフィン系ポリマー等から選択されるポリマーを単
独或いは複数混合して用いることができる。バインダー
樹脂の配合比としては、上述した光重合性モノマーに対
して重量比で１／１０〜１０倍の範囲において一般的に
用いられ、特に１／２〜２倍の範囲において好適に用い
られる。Binder resin: As the binder resin, it is preferable to use a thermoplastic resin, and a homo- or copolymer of acrylic monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, methyl cellulose, ethyl cellulose and the like. Cellulose-based polymers, vinyl-based polymers such as polystyrene, polyvinyl chloride, and polyvinylpyrrolidone; condensation-based polymers such as polyester and polyamide; rubber-based polymers such as chlorinated rubber and butadiene-styrene copolymer; chlorinated polyethylene And a polymer selected from polyolefin-based polymers such as chlorinated polypropylene and the like can be used alone or in combination. The compounding ratio of the binder resin is generally used in a range of 1/10 to 10 times by weight with respect to the above-described photopolymerizable monomer, and particularly preferably in a range of 1/2 to 2 times.

【００６８】光重合開始剤：光重合開始剤としては、ラ
ジカル系のものが好適に用いられ、ベンゾフェノン、ｏ
−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ジクロロベンゾ
フェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケト
ン、フルオレン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフ
ェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、４−アジド
ベンジルアセトフェノン、２、６−ビス（ｐ−アジドベ
ンジリデン）シクロヘキサン、ＡＩＢＮ、ジフェニルジ
スルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノ
ン等を単独或いは複数混合して用いることができ、さら
に他の増感剤と併用しても良い。また、光重合開始剤の
配合比としては、上述した光重合性モノマーに対して
０．１〜２０重量％の範囲において好適に用いられる。Photopolymerization initiator: As the photopolymerization initiator, radical type photopolymerization initiators are preferably used. Benzophenone, o
-Methyl benzoylbenzoate, 4,4-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methylphenylketone, fluorene, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, Michler's ketone, benzoin, benzoinmethyl Ether, benzoin phenyl ether, 4-azidobenzyl acetophenone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) cyclohexane, AIBN, diphenyl disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone and the like can be used alone or in combination. You may use together with another sensitizer. Further, the compounding ratio of the photopolymerization initiator is suitably used in the range of 0.1 to 20% by weight based on the above photopolymerizable monomer.

【００６９】シリコン系化合物、フッ素系化合物：シリ
コン系化合物、フッ素系化合物は、第１層４に撥インク
性を付与する目的で添加されるものであり、側鎖にアル
キル基を有するシロキサン化合物、パーフルオロアルキ
ル基を有するモノマー或いはポリマー等を単独或いは複
数混合して用いることができる。また、その添加量とし
ては、感光性、皮膜性等に悪影響を及ぼさない範囲内に
おいて、目的とする撥インク性が得られるよう任意に設
定することができる。さらに、上述した光重合性モノマ
ー或いはバインダー樹脂としてシリコン系化合物或いは
フッ素系化合物を用いても良い。Silicon compound and fluorine compound: The silicon compound and the fluorine compound are added for the purpose of imparting ink repellency to the first layer 4 and include a siloxane compound having an alkyl group in a side chain; Monomers or polymers having a perfluoroalkyl group can be used alone or in combination. The amount of addition can be arbitrarily set so as to obtain the desired ink repellency within a range that does not adversely affect the photosensitivity, film properties, and the like. Further, a silicon-based compound or a fluorine-based compound may be used as the above-mentioned photopolymerizable monomer or binder resin.

【００７０】〔第２層〕第２層５は親インク性を有し、
光照射により硬化すると同時に支持基板１との接着性が
高まるものが好ましい。このような感光性樹脂組成物と
しては、基材樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、
溶剤等を主成分とし、光照射によって重合、架橋、二量
体化反応等の反応を生じて硬化し、支持基板１との接着
性が向上するよう配合された樹脂組成物が好ましい。ま
た、親インク性を持たせるためには、水酸基、アルコキ
シ基、カルボキシル基等の極性置換基を含有する基材樹
脂及び光重合性モノマー、水に対する溶解性の高い極性
溶剤を選択して、インク９に対する接触角が３０°以下
とすることが好ましい。以下に各成分について詳しく説
明する。[Second Layer] The second layer 5 has ink affinity,
It is preferable that the resin be cured by light irradiation and at the same time, the adhesiveness to the support substrate 1 be increased. As such a photosensitive resin composition, a base resin, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator,
It is preferable to use a resin composition containing a solvent or the like as a main component and formulated so as to cause a reaction such as polymerization, cross-linking, or dimerization reaction by light irradiation, to be cured, and to improve adhesion to the support substrate 1. In addition, in order to have ink-philicity, a base resin containing a polar substituent such as a hydroxyl group, an alkoxy group, and a carboxyl group, a photopolymerizable monomer, and a polar solvent having high solubility in water are selected. Preferably, the contact angle with respect to No. 9 is 30 ° or less. Hereinafter, each component will be described in detail.

【００７１】基材樹脂：基材樹脂としてはアクリル系樹
脂が好適に用いられ、アクリル酸、メタクリル酸等のア
ルキルアクリレート、メチルアクリレート、メチルメタ
クリレート等のアルキルメタクリレート、シクロヘキシ
ルアクリレート等の環状のアクリレートまたはメタクリ
レート、ヒドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキ
シアルキルアクリレートまたはメタクリレート、Ｎ−ア
ルキロールアクリルアミド等のモノマーを単独或いは複
数共重合したものを用いることができる。Base resin: Acrylic resin is preferably used as the base resin, and alkyl acrylates such as acrylic acid and methacrylic acid; alkyl methacrylates such as methyl acrylate and methyl methacrylate; and cyclic acrylates or methacrylates such as cyclohexyl acrylate. And a monomer such as hydroxyalkyl acrylate or methacrylate such as hydroxyethyl methacrylate or N-alkylol acrylamide, or a single or plural copolymer thereof.

【００７２】光重合性モノマー：光重合性モノマーとし
ては、複数の官能基を有するモノマーが好適に用いら
れ、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレ
ングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、トリス（２−ヒドロ
キシエチル）イソシアネート、ジトリメチロールプロパ
ンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート等から選択されるモノマーを単独或いは複
数混合して用いることができる。また、光重合性モノマ
ーの配合比は特に限定されるものではないが、上述した
基材樹脂に対して重量比で１／５〜５倍の範囲において
一般的に用いられる。Photopolymerizable monomer: As the photopolymerizable monomer, a monomer having a plurality of functional groups is preferably used, and 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, triethylene Monomers selected from glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc., singly or in combination. Can be. The mixing ratio of the photopolymerizable monomer is not particularly limited, but is generally used in a range of 1/5 to 5 times the weight of the above-described base resin.

【００７３】光重合開始剤：光重合開始剤としては、カ
チオン系、アニオン系、ラジカル系の開始剤を単独或い
は複数混合して用いることができ、さらに必要に応じて
他の増感剤と併用して用いても良い。また、光重合開始
剤の配合比としては、上述した光重合性モノマーに対し
て、０．１〜２０重量％の範囲において一般的に用いら
れる。Photopolymerization initiator: As the photopolymerization initiator, a cationic, anionic or radical initiator can be used alone or in combination of two or more, and if necessary, used in combination with another sensitizer. You may use it. The mixing ratio of the photopolymerization initiator is generally used in the range of 0.1 to 20% by weight based on the above-mentioned photopolymerizable monomer.

【００７４】溶剤：溶剤としては、トルエン、キシレ
ン、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、
ＮＭＰ、γ−ブチルラクトン、ジグライム、シクロヘキ
サノン、水等を用いることができるが、基材樹脂、光重
合性モノマー、光重合開始剤等の溶解性に合わせて適宜
選択して用いる。また、溶剤の含有量としては特に限定
はないが、転写体とした場合に十分な皮膜性、柔軟性が
得られる範囲において含有させることが好ましい。Solvent: As the solvent, toluene, xylene, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate,
NMP, γ-butyl lactone, diglyme, cyclohexanone, water and the like can be used, but they are appropriately selected and used according to the solubility of the base resin, the photopolymerizable monomer, the photopolymerization initiator and the like. Further, the content of the solvent is not particularly limited, but it is preferable to include the solvent in a range where sufficient film properties and flexibility can be obtained when a transfer body is obtained.

【００７５】また、本発明において隔壁７を遮光層とす
る場合には、少なくとも第２層５を遮光層とすれば良
く、このような第２層５を構成する場合には、上記感光
性樹脂組成物中にカーボンブラック等遮光剤を分散せし
めて用いる。In the present invention, when the partition wall 7 is a light-shielding layer, at least the second layer 5 may be used as a light-shielding layer. A light-shielding agent such as carbon black is dispersed in the composition before use.

【００７６】さらに、第１層４、第２層５には、上述し
た構成材料以外にも、必要に応じてジメチルフタレー
ト、ジブチルフタート、ジシクロヘキシルフタレート、
ジ−２−エチルヘキシルフタレート等の可塑剤、重合禁
止剤、界面活性剤、溶剤等を添加しても良い。Further, the first layer 4 and the second layer 5 may include, as necessary, dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, dicyclohexyl phthalate,
A plasticizer such as di-2-ethylhexyl phthalate, a polymerization inhibitor, a surfactant, a solvent and the like may be added.

【００７７】第１層４はベースフィルム３上に、ダイレ
クトグラビアコーティング法、グラビアリバースコーテ
ィング法、リバースロールコーティング法、スライドダ
イコーティング法、スリットコーティング法、バーコー
ト法、ナイフコート法、スピンコート法、シルクスクリ
ーン法等の公知の手法によって形成することができる。
また、第２層５も、同様の手法によって第１層４上に形
成することができる。また、第１層４及び第２層５の膜
厚は任意に設定することが可能であるが、好ましくは第
１層４の膜厚としては０．１〜１．０μｍ、第２層５の
膜厚としては０．５〜５．０μｍである。尚、ベースフ
ィルム３からの第１層４の剥離性を良くする目的で、ベ
ースフィルム３と第１層４の間にシリコン樹脂等からな
る剥離層を別途形成しても良い。The first layer 4 is formed on the base film 3 by direct gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, slide die coating, slit coating, bar coating, knife coating, spin coating, It can be formed by a known method such as a silk screen method.
Also, the second layer 5 can be formed on the first layer 4 by a similar method. Further, the thickness of the first layer 4 and the second layer 5 can be arbitrarily set, but the thickness of the first layer 4 is preferably 0.1 to 1.0 μm, and the thickness of the second layer 5 is preferably 0.1 to 1.0 μm. The thickness is 0.5 to 5.0 μm. In order to improve the releasability of the first layer 4 from the base film 3, a release layer made of a silicone resin or the like may be separately formed between the base film 3 and the first layer 4.

【００７８】工程（ｂ） 転写フィルム２を、第２層５を支持基板１側に向けて支
持基板１に密着させる。この時、転写フィルム２は加熱
圧着ロールを用いて支持基板１上に密着させることがで
きる。Step (b) The transfer film 2 is brought into close contact with the support substrate 1 with the second layer 5 facing the support substrate 1 side. At this time, the transfer film 2 can be brought into close contact with the support substrate 1 using a heat-pressing roll.

【００７９】工程（ｃ） フォトマスク６を介してパターン露光を行う。本例にお
いては、ベースフィルム３側からギャップを設けて露光
する例を示すが、露光は、解像性を向上する目的でベー
スフィルム３に密着させた状態で行っても良い。また、
本例においてはベースフィルム３側から露光を行う例を
示すが、露光は、支持基板１側から行っても良い。尚、
いずれの場合も解像性を向上する目的で、第２層５に焦
点を合わせて露光を行うのが好ましい。Step (c) Pattern exposure is performed via the photomask 6. In this example, an example is shown in which exposure is performed with a gap provided from the base film 3 side, but the exposure may be performed in a state in which the base film 3 is in close contact with the base film 3 for the purpose of improving resolution. Also,
In this example, an example is shown in which exposure is performed from the base film 3 side, but exposure may be performed from the support substrate 1 side. still,
In any case, it is preferable to perform exposure while focusing on the second layer 5 for the purpose of improving resolution.

【００８０】当該露光工程により、第２層５の露光部が
硬化し、第２層５内に潜像が形成される。In the exposure step, the exposed portions of the second layer 5 are cured, and a latent image is formed in the second layer 5.

【００８１】工程（ｄ） ベースフィルム３を第１層４及び第２層５の未露光部と
共に除去（剥離現像）し、第１層４’及び第２層５’か
らなる隔壁７を形成する。Step (d) The base film 3 is removed (exfoliated and developed) together with the unexposed portions of the first layer 4 and the second layer 5 to form the partition 7 composed of the first layer 4 'and the second layer 5'. .

【００８２】工程（ｅ） インクジェット記録装置を用いて、インクジェットヘッ
ド（不図示）より、Ｒ、Ｇ、Ｂのインク９を隔壁７の開
口部８に付与する。インクジェットとしては、エネルギ
ー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット
（登録商標）タイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能である。また、インク９とし
ては、カラーフィルタの場合には硬化後にＲ、Ｇ、Ｂの
着色部を形成するように各色の着色剤を含むもの、ＥＬ
素子の場合には、硬化後に電圧印加によって発光する発
光層を形成する材料を用いる。いずれの場合も、インク
９は硬化成分、溶媒を少なくとも含むものが好ましい。
以下に、本発明の製造方法によってカラーフィルタを製
造する場合に用いるインクの組成についてさらに詳細に
説明する。Step (e) Using an ink jet recording apparatus, R, G, and B inks 9 are applied to the openings 8 of the partition walls 7 from an ink jet head (not shown). As the ink jet, a bubble jet (registered trademark) type using an electrothermal converter as an energy generating element, a piezo jet type using a piezoelectric element, or the like can be used. In the case of a color filter, the ink 9 contains a colorant of each color so as to form R, G, B colored portions after curing, and EL
In the case of an element, a material that forms a light-emitting layer that emits light by voltage application after curing is used. In any case, the ink 9 preferably contains at least a curing component and a solvent.
Hereinafter, the composition of the ink used when a color filter is manufactured by the manufacturing method of the present invention will be described in more detail.

【００８３】〔１〕着色剤 本発明でインク中に含有させる着色剤としては、染料系
及び顔料系共に使用可能である。顔料を使用する場合に
は、インク中で均一に分散させるために、後述する硬化
成分以外に、別途分散剤を添加しても良い。また、着色
剤の添加量としては、後述する硬化成分に対して、重量
比で１／５〜５倍の範囲であることが好ましい。[1] Colorant As the colorant to be contained in the ink in the present invention, both dyes and pigments can be used. When a pigment is used, a dispersant may be separately added in addition to a curing component described later in order to uniformly disperse the pigment in the ink. The amount of the colorant added is preferably in the range of 1/5 to 5 times the weight ratio of the curing component described below.

【００８４】〔２〕硬化成分 後工程におけるプロセス耐性、信頼性等を考慮した場
合、熱処理或いは光照射等の処理により硬化し、着色剤
を固定化する成分、即ち架橋可能なモノマー或いはポリ
マー等の成分を含有することが好ましい。特に、後工程
における耐熱性を考慮した場合、硬化可能な樹脂組成物
を用いることが好ましい。具体的には、例えば基材樹脂
として、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アミ
ド基等の官能基を有するアクリル樹脂、シリコーン樹
脂；またはヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース等のセルロース誘導体或いはそれらの変性
物；またはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアセタール等のビニル系ポリマーが挙げ
られる。さらに、これらの基材樹脂を光照射或いは加熱
処理により硬化させるための架橋剤、光開始剤を用いる
ことが可能である。具体的には、架橋剤としては、メチ
ロール化メラミン等のメラミン誘導体が、また光開始剤
としては重クロム酸塩、ビスアジド化合物、ラジカル系
開始剤、カチオン系開始剤、アニオン系開始剤等が使用
可能である。また、これらの光開始剤を複数種混合し
て、或いは他の増感剤と組み合わせて使用することもで
きる。[2] Curing component In consideration of process resistance, reliability, and the like in the post-process, a component that is cured by heat treatment or light irradiation to fix the colorant, ie, a crosslinkable monomer or polymer, etc. It is preferable to contain components. In particular, it is preferable to use a curable resin composition in consideration of heat resistance in a later step. Specifically, for example, as a base resin, an acrylic resin having a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkoxy group, or an amide group, a silicone resin; or a cellulose derivative such as hydroxypropylcellulose, hydroxyethylcellulose, methylcellulose, or carboxymethylcellulose; Modified products thereof; and vinyl polymers such as polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, and polyvinyl acetal. Further, a crosslinking agent and a photoinitiator for curing these base resins by light irradiation or heat treatment can be used. Specifically, melamine derivatives such as methylolated melamine are used as crosslinking agents, and dichromates, bisazide compounds, radical initiators, cationic initiators, anionic initiators, etc. are used as photoinitiators. It is possible. Further, these photoinitiators can be used as a mixture of plural kinds thereof or in combination with other sensitizers.

【００８５】〔３〕溶媒 本発明で使用されるインクの媒体としては、水及び有機
溶剤の混合溶媒が好ましく使用される。水としては種々
のイオンを含有する一般の水ではなく、イオン交換水
（脱イオン水）を使用することが好ましい。[3] Solvent As the medium of the ink used in the present invention, a mixed solvent of water and an organic solvent is preferably used. As the water, it is preferable to use ion-exchanged water (deionized water) instead of general water containing various ions.

【００８６】有機溶剤としては、メチルアルコール、エ
チルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチル
アルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等の炭素数１
〜４のアルキルアルコール類；ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド等のアミド類；アセトン、ジアセ
トンアルコール等のケトン類またはケトアルコール類；
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポ
リアルキレングリコール類；エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ブチレングリコール、トリエチレン
グリコール、チオジグリコール、へキシレングリコー
ル、ジエチレングリコール等のアルキレン基が２〜４個
の炭素を含有するアルキレングリコール類；グリセリン
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル等の多価アルコールの低級アルキル
エーテル類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリ
ドン等の中から選択することが好ましい。Examples of the organic solvent include those having 1 carbon atom such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol and tert-butyl alcohol.
To 4 alkyl alcohols; dimethylformamide,
Amides such as dimethylacetamide; ketones or keto alcohols such as acetone and diacetone alcohol;
Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol; alkylene groups such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, triethylene glycol, thiodiglycol, hexylene glycol and diethylene glycol having 2 to 4 Glycerins; lower alkyl ethers of polyhydric alcohols such as ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol methyl ether, and triethylene glycol monomethyl ether; N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, etc. It is preferable to select from the following.

【００８７】また、上記成分の他に、必要に応じて所望
の物性値を持つインクとするために、沸点の異なる２種
類以上の有機溶剤を混合して用いたり、界面活性剤、消
泡剤、防腐剤等を添加しても良い。In addition to the above-mentioned components, two or more kinds of organic solvents having different boiling points may be used in combination to form an ink having desired physical properties, if necessary. Preservatives and the like may be added.

【００８８】工程（ｆ） 熱処理、光照射等必要な処理を施し、インク９中の溶剤
成分を除去して硬化させることにより、画素１０を形成
する。Step (f) The pixel 10 is formed by performing necessary processing such as heat treatment and light irradiation, and removing and curing the solvent component in the ink 9.

【００８９】さらに、カラーフィルタの場合には、前記
したように、必要に応じて保護層や透明導電膜を形成す
る。この場合の保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化
タイプ、或いは光熱併用硬化タイプの樹脂材料、或い
は、蒸着、スパッタ等によって形成された無機膜等を用
いることができ、カラーフィルタとした場合の透明性を
有し、その後の透明導電膜形成プロセス、配向膜形成プ
ロセス等に耐えうるものであれば使用可能である。ま
た、透明導電膜は、保護層を介さずに着色部上に直接形
成しても良い。Further, in the case of a color filter, as described above, a protective layer and a transparent conductive film are formed as necessary. As the protective layer in this case, a resin material of a photo-curing type, a thermo-setting type, or a photo- and heat-curable type, or an inorganic film formed by vapor deposition, sputtering, or the like can be used. Any material can be used as long as it has transparency and can withstand the subsequent transparent conductive film formation process, alignment film formation process, and the like. Further, the transparent conductive film may be formed directly on the colored portion without using the protective layer.

【００９０】また、ＥＬ素子の場合には、画素上に電極
（図７の金属層７６）等必要な部材を形成する。In the case of an EL element, necessary members such as electrodes (metal layer 76 in FIG. 7) are formed on the pixels.

【００９１】[0091]

【実施例】（実施例１） 〔隔壁の形成〕界面活性剤水溶液による洗浄及びＵＶ洗
浄を行ったガラス基板（コーニング製「１７３７」）上
に、以下の構成からなる転写フィルムを第２層をガラス
基板に向けて熱ロールを用いて密着させた。尚、第１層
の膜厚は０．５μｍ、第２層の膜厚は２．０μｍの転写
フィルムを用いた。EXAMPLES (Example 1) [Formation of partition walls] On a glass substrate (Corning “1737”) that has been washed with a surfactant aqueous solution and UV-washed, a transfer film having the following configuration is provided with a second layer. It was adhered to the glass substrate using a hot roll. A transfer film having a first layer thickness of 0.5 μm and a second layer thickness of 2.0 μm was used.

【００９２】ベースフィルム ２５μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートフィルムBase film Polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm

【００９３】 第１層 基材樹脂：ポリメチルメタクリレート ４０重量部 光重合性モノマー：ペンタエリトリットトリメタクリレート ４５重量部 光重合開始剤：チバガイギー社製「イルガキュア９０７」 １０重量部 フッ素系化合物：住友３Ｍ社製「フロラードＦＣ−４３０」 ５重量部First layer Base resin: 40 parts by weight of polymethyl methacrylate Photopolymerizable monomer: 45 parts by weight of pentaerythrit trimethacrylate Photoinitiator: 10 parts by weight of “Irgacure 907” manufactured by Ciba-Geigy Fluorine compound: Sumitomo 3M "FLORADE FC-430" 5 parts by weight

【００９４】 第２層 基材樹脂：メチルメタクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体 （３／７） ２５重量部 光重合性モノマー：トリメチロールプロパントリアクリレート ３０重量部 光重合開始剤：チバガイギー社製「イルガキュア９０７」 １０重量部 増感剤：みどり化学社製「ＴＡＺ−１０４」 ５重量部 遮光剤：カーボンブラック ３０重量部Second layer Base resin: Methyl methacrylate / hydroxyethyl methacrylate copolymer (3/7) 25 parts by weight Photopolymerizable monomer: Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by weight Photopolymerization initiator: “Irgacure” manufactured by Ciba-Geigy 907 "10 parts by weight Sensitizer:" TAZ-104 "manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd. 5 parts by weight Light shielding agent: carbon black 30 parts by weight

【００９５】次いで、ブラックマトリクス形成用のフォ
トマスクを用いてベースフィルム側からパターン露光を
行った後、ベースフィルムを第１層及び第２層の未露光
部ごと除去して剥離現像を行うことにより、８０μｍ×
２２０μｍの開口部を有するブラックマトリクス（隔
壁）を形成した。Next, after performing pattern exposure from the base film side using a photomask for forming a black matrix, the base film is removed together with the unexposed portions of the first layer and the second layer and subjected to peeling development. , 80 μm ×
A black matrix (partition) having an opening of 220 μm was formed.

【００９６】〔インクの調整〕下記に示す組成からなる
アクリル系共重合体を熱硬化成分として用い、以下の組
成にてＲ、Ｇ、Ｂの各インクを調製した。[Preparation of Ink] Using an acrylic copolymer having the following composition as a thermosetting component, R, G and B inks were prepared with the following composition.

【００９７】硬化成分 メチルメタクリレート ５０重量部 ヒドロキシエチルメタクリレート ３０重量部 Ｎ−メチロールアクリルアミド ２０重量部Curing component Methyl methacrylate 50 parts by weight Hydroxyethyl methacrylate 30 parts by weight N-methylolacrylamide 20 parts by weight

【００９８】Ｒインク Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ１４８ ３．５重量部 Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２８９ ０．５重量部 ジエチレングリコール ３０重量部 エチレングリコール ２０重量部 イオン交換水 ４０重量部 上記硬化成分 ６重量部R ink C.I. I. Acid Orange 148 3.5 parts by weight C.I. I. Acid Red 289 0.5 parts by weight Diethylene glycol 30 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight Deionized water 40 parts by weight 6 parts by weight of the above curing component

【００９９】Ｇインク Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー２３ ２重量部 亜鉛フタロシアニンスルホアミド ２重量部 ジエチレングリコール ３０重量部 エチレングリコール ２０重量部 イオン交換水 ４０重量部 上記硬化成分 ６重量部G ink C.I. I. Acid Yellow 23 2 parts by weight Zinc phthalocyanine sulfonamide 2 parts by weight Diethylene glycol 30 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight Deionized water 40 parts by weight 6 parts by weight of the above curing component

【０１００】Ｂインク Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１９９ ４重量部 ジエチレングリコール ３０重量部 エチレングリコール ２０重量部 イオン交換水 ４０重量部 上記硬化成分 ６重量部B ink C.I. I. Direct Blue 199 4 parts by weight Diethylene glycol 30 parts by weight Ethylene glycol 20 parts by weight Deionized water 40 parts by weight 6 parts by weight of the above curing component

【０１０１】尚、各インクの第１層に対する接触角は８
５°〜９０°の範囲にあり、第２層に対する接触角は１
５°〜１８°の範囲であった。The contact angle of each ink with the first layer was 8
In the range of 5 ° to 90 °, and the contact angle to the second layer is 1
The range was from 5 ° to 18 °.

【０１０２】〔着色部の作製〕吐出量２５ｐｌのインク
ジェットヘッドを具備したインクジェット記録装置を用
い、上記隔壁の開口部に対してＲ、Ｇ、Ｂインクを開口
部１個あたり１００〜４００ｐｌの範囲で５０ｐｌおき
に量を変化させて付与した。次いで、９０℃で１０分
間、引き続き２３０℃で３０分間の熱処理を行ってイン
クを硬化させて着色部（画素）とし、インク付与量の異
なる７種類のカラーフィルタを作製した。[Preparation of Colored Portion] Using an ink jet recording apparatus provided with an ink jet head having a discharge amount of 25 pl, R, G, and B inks were applied to the openings of the partition walls in a range of 100 to 400 pl per opening. The amount was changed every 50 pl. Next, heat treatment was performed at 90 ° C. for 10 minutes and then at 230 ° C. for 30 minutes to cure the ink to form colored portions (pixels), thereby producing seven types of color filters having different amounts of applied ink.

【０１０３】〔混色及び白抜けの評価〕得られたカラー
フィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラー
フィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。[Evaluation of color mixture and white spots] When the obtained color filters were observed with an optical microscope, no color mixture or white spots were observed in all the color filters.

【０１０４】（実施例２）パターン露光をガラス基板側
から行った以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ
を作成した。得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観
察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、
白抜けは観察されなかった。(Example 2) A color filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the pattern exposure was performed from the glass substrate side. Observation of the obtained color filters with an optical microscope showed that all of the color filters
No white spots were observed.

【０１０５】（実施例３）転写フィルムの第１層を以下
の組成とした以外は、実施例１と同様にしてカラーフィ
ルタを作製した。尚、第１層の各インクに対する接触角
は８０°〜８４°の範囲にあった。(Example 3) A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the first layer of the transfer film had the following composition. The contact angle of the first layer with each ink was in the range of 80 ° to 84 °.

【０１０６】 第１層 基材樹脂：ポリメチルメタクリレート ４０重量部 光重合性モノマー：ペンタエリトリットトリメタクリレート ４０重量部 光重合開始剤：チバガイギー社製「イルガキュア９０７」 １０重量部 シリコン系化合物：ジメチルシロキサン １０重量部First layer Base resin: 40 parts by weight of polymethyl methacrylate Photopolymerizable monomer: 40 parts by weight of pentaerythrit trimethacrylate Photoinitiator: 10 parts by weight of “Irgacure 907” manufactured by Ciba-Geigy Silicon-based compound: dimethylsiloxane 10 parts by weight

【０１０７】〔混色及び白抜けの評価〕得られたカラー
フィルタを光学顕微鏡で観察したところ、全てのカラー
フィルタにおいて、混色、白抜けは観察されなかった。[Evaluation of color mixture and white spots] When the obtained color filters were observed with an optical microscope, no color mixture or white spots were observed in all the color filters.

【０１０８】（実施例４）パターン露光をガラス基板側
から行った以外は実施例３と同様にしてカラーフィルタ
を作製した。得られたカラーフィルタを光学顕微鏡で観
察したところ、全てのカラーフィルタにおいて、混色、
白抜けは観察されなかった。Example 4 A color filter was produced in the same manner as in Example 3 except that the pattern exposure was performed from the glass substrate side. Observation of the obtained color filters with an optical microscope showed that all of the color filters
No white spots were observed.

【０１０９】（実施例５） 〔ＥＬ素子用基板の作製〕薄膜プロセスによって形成さ
れた、配線膜及び絶縁膜等が多層に積層されてなるＴＦ
Ｔ駆動基板上に画素（発光層）単位に、透明電極として
ＩＴＯをスパッタリングにより厚さ４０ｎｍ形成し、フ
ォトリソ法により、画素形状に従ってパターニングを行
った。Example 5 [Preparation of EL Element Substrate] A TF formed by laminating a wiring film, an insulating film and the like in a thin film process.
ITO was formed as a transparent electrode by sputtering to a thickness of 40 nm on the T drive substrate in pixel (light emitting layer) units, and patterning was performed according to the pixel shape by a photolithography method.

【０１１０】〔隔壁の形成〕次に、第２層を膜厚が１．
０μｍで以下の組成とした転写フィルムを用いた以外は
実施例１と同様にして隔壁を作製した。下記インクに対
する第１層の接触角は６２°、第２層の接触角は１６°
であった。[Formation of Partition] Next, the second layer is formed to a thickness of 1.
A partition wall was produced in the same manner as in Example 1 except that a transfer film having a composition of 0 μm and having the following composition was used. The contact angle of the first layer with the following ink is 62 °, and the contact angle of the second layer is 16 °
Met.

【０１１１】 第２層 基材樹脂：メチルメタクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体 （３／７） ４５重量部 光重合性モノマー：トリメチロールプロパントリアクリレート ４５重量部 光重合開始剤：チバガイギー社製「イルガキュア９０７」 １０重量部Second layer Base resin: Methyl methacrylate / hydroxyethyl methacrylate copolymer (3/7) 45 parts by weight Photopolymerizable monomer: Trimethylolpropane triacrylate 45 parts by weight Photopolymerization initiator: “Irgacure” manufactured by Ciba Geigy 907 "10 parts by weight

【０１１２】〔発光層の形成〕次に前記基板の隔壁内に
発光層を充填した。インクとして、電子輸送性２，５−
ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾオキサゾルイ
ル）−チオフェン〔蛍光ピーク４５０ｎｍをもつ電子輸
送性青色発光色素であり、発光中心形成化合物の１つで
ある。以下、「ＢＢＯＴ」と記す〕を、ポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾール〔分子量１５０，０００、関東化学社
製、以下、「ＰＶＫ」と記す〕よりなるホール輸送性ホ
スト化合物中に３０重量％となるように分子分散させる
ことができるよう、両者をジクロロエタン溶液に溶解さ
せた。もう１つの発光中心形成化合物であるナイルレッ
ドを前記ＰＶＫ−ＢＢＯＴのジクロロエタン溶液に０．
０１５モル％になるように溶解してインクを調製した。
該インクをインクジェット法により透明樹脂からなる隔
壁の開口部内に充填、乾燥し、厚さ２００ｎｍの発光層
を形成した。このとき、各画素（発光層）は独立し、隔
壁間で前記発光材料を含む溶液が隣接画素で混ざること
はなかった。さらにこの上に、Ｍｇ：Ａｇ（１０：１）
を真空蒸着させて厚さ２００ｎｍのＭｇ：Ａｇ陰極を作
った。このようにして作ったＥＬ素子の各画素に１８Ｖ
の電圧を印加したところ、４８０ｃｄ／ｍ²の均一な白
色発光が得られた。[Formation of Light Emitting Layer] Next, a light emitting layer was filled in the partition wall of the substrate. Electron transportable 2,5-
Bis (5-tert-butyl-2-benzoxazolyl) -thiophene [An electron-transporting blue light-emitting dye having a fluorescence peak of 450 nm, and is one of the luminescent center-forming compounds. Hereinafter, referred to as “BBOT”] in a hole-transporting host compound made of poly-N-vinylcarbazole (molecular weight: 150,000, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .; hereinafter, referred to as “PVK”) in an amount of 30 wt%. Both were dissolved in a dichloroethane solution so that the molecules could be dispersed in water. Nile red, another compound that forms a luminescent center, was added to the above solution of PVK-BBOT in dichloroethane at a concentration of 0.1%.
An ink was prepared by dissolving the solution to 015 mol%.
The ink was filled into the opening of a partition made of a transparent resin by an inkjet method, and dried to form a 200-nm-thick light-emitting layer. At this time, each pixel (light-emitting layer) was independent, and the solution containing the light-emitting material was not mixed in the adjacent pixels between the partition walls. On top of this, Mg: Ag (10: 1)
Was vacuum deposited to produce a 200 nm thick Mg: Ag cathode. 18V is applied to each pixel of the EL element thus made.
, A uniform white light emission of 480 cd / m ² was obtained.

【０１１３】（比較例１）第１層にフッ素化合物を添加
しない転写フィルムを用いた以外は実施例１と同様にし
てカラーフィルタを作製した。第１層の各インクに対す
る接触角は１８°〜２５°であった。得られたカラーフ
ィルタを光学顕微鏡で観察したところ、インクの付与量
が２５０ｐｌ以上のカラーフィルタにおいて混色が観察
された。Comparative Example 1 A color filter was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a transfer film containing no fluorine compound was used for the first layer. The contact angle of the first layer to each ink was 18 ° to 25 °. When the obtained color filter was observed with an optical microscope, color mixing was observed in the color filter having an applied amount of 250 pl or more.

【０１１４】[0114]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
混色や白抜けのない画素を備えた信頼性の高い光学素子
をインクジェット方式により簡易なプロセスによって歩
留まり良く製造することができ、着色部内で濃度ムラの
ないカラーフィルタ、発光層内で発光輝度ムラのないＥ
Ｌ素子を歩留まり良く提供することができる。As described above, according to the present invention,
A highly reliable optical element having pixels without color mixing or white spots can be manufactured with a high yield by a simple process using an ink-jet method. Not E
L elements can be provided with high yield.

【０１１５】特に、本発明においては転写フィルムを用
いて隔壁を形成するため、カラーフィルタの製造工程に
おいて、２層構成の隔壁を容易に形成することができ、
製造効率が高く、また、該隔壁の素子間のバラツキがな
く、より信頼性の高い光学素子を提供することができ
る。In particular, in the present invention, since the partition is formed using the transfer film, the partition having a two-layer structure can be easily formed in the color filter manufacturing process.
It is possible to provide an optical element with high manufacturing efficiency, no variation between the elements of the partition wall, and high reliability.

【０１１６】よって、上記カラーフィルタを用いて、カ
ラー表示特性に優れた液晶素子をより安価に提供するこ
とができる。Thus, a liquid crystal element having excellent color display characteristics can be provided at a lower cost by using the above color filter.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。FIG. 1 is a process chart of one embodiment of a method for manufacturing an optical element of the present invention.

【図２】本発明の光学素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。FIG. 2 is a process chart of one embodiment of a method for manufacturing an optical element of the present invention.

【図３】インクジェット方式による光学素子の製造方法
において発生する、混色の概念図である。FIG. 3 is a conceptual diagram of color mixing that occurs in a method of manufacturing an optical element by an inkjet method.

【図４】インクジェット方式による光学素子の製造方法
において発生する、白抜けの概念図である。FIG. 4 is a conceptual diagram of white spots generated in a method of manufacturing an optical element by an inkjet method.

【図５】本発明の光学素子の一実施形態であるカラーフ
ィルタの一例の断面模式図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an example of a color filter which is an embodiment of the optical element of the present invention.

【図６】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。FIG. 6 is a schematic sectional view of one embodiment of the liquid crystal element of the present invention.

【図７】本発明の光学素子の他の実施形態であるＥＬ素
子の一例の断面模式図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of an example of an EL element which is another embodiment of the optical element of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 支持基板 ２ 転写フィルム ３ ベースフィルム ４、４’ 第１層 ５、５’ 第２層 ６ フォトマスク ７ 隔壁 ８ 開口部 ９ インク １０ 画素 ３１ 透明基板 ３３ ブラックマトリクス ３６ インク ３８ 白抜け ５１ 透明基板 ５２ ブラックマトリクス ５２ａ 第２層 ５２ｂ 第１層 ５３ 着色部 ５４ 保護層 ５７ 共通電極 ５８ 配向膜 ５９ 液晶 ６１ 対向基板 ６２ 画素電極 ６３ 配向膜 ７１ 駆動基板 ７２ 隔壁 ７２ａ 第２層 ７２ｂ 第１層 ７３ 発光層 ７４ 透明電極 ７６ 金属層 Reference Signs List 1 support substrate 2 transfer film 3 base film 4, 4 'first layer 5, 5' second layer 6 photomask 7 partition 8 opening 9 ink 10 pixel 31 transparent substrate 33 black matrix 36 ink 38 white spot 51 transparent substrate 52 Black matrix 52a Second layer 52b First layer 53 Colored portion 54 Protective layer 57 Common electrode 58 Alignment film 59 Liquid crystal 61 Opposite substrate 62 Pixel electrode 63 Alignment film 71 Driving substrate 72 Partition 72a Second layer 72b First layer 73 Light emitting layer 74 Transparent electrode 76 Metal layer

フロントページの続き (72)発明者 岡田 健 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 西田 武人 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 谷内 洋 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 国峯 昇 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 FB01 FB08 2H048 BA02 BA11 BA64 BB02 BB22 BB41 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC10 FC12 LA12 LA20 LA30 3K007 AB04 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EA00 EB00 FA01 Continuing on the front page (72) Inventor Ken Okada 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Takehito 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Hiroshi Taniuchi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Noboru Kunimine 3-30-2 Shimomaruko 3-chome, Ota-ku, Tokyo F-term (Canon Inc.) Reference) 2C056 FB01 FB08 2H048 BA02 BA11 BA64 BB02 BB22 BB41 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC10 FC12 LA12 LA20 LA30 3K007 AB04 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EA00 EB00 FA01

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 支持基板上に複数の画素と、隣接する画
素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子の製
造方法であって、ベースフィルム上に、撥インク性を有
する樹脂組成物からなる第１層と、親インク性を有する
樹脂組成物からなる第２層と、を積層してなる転写フィ
ルムを、上記支持基板に、上記第２層を支持基板側に向
けて密着させる工程と、上記転写フィルムをパターン露
光する工程と、上記転写フィルムのベースフィルムを第
１層及び第２層の未露光部と共に剥離して、隔壁を形成
する工程と、インクジェット方式により隔壁に囲まれた
領域にインクを付与して画素を形成する工程とを少なく
とも有することを特徴とする光学素子の製造方法。1. A method for manufacturing an optical element having at least a plurality of pixels on a support substrate and a partition located between adjacent pixels, comprising a resin composition having ink repellency on a base film. Contacting a transfer film formed by laminating a first layer and a second layer made of a resin composition having ink affinity to the support substrate, with the second layer facing the support substrate side; A step of pattern-exposing the transfer film, a step of peeling the base film of the transfer film together with the unexposed portions of the first layer and the second layer, and a step of forming a partition; At least a step of applying ink to form a pixel. 【請求項２】 上記第１層が、シリコン系化合物或いは
フッ素系化合物の少なくとも一方を含有する請求項１に
記載の光学素子の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the first layer contains at least one of a silicon compound and a fluorine compound. 【請求項３】 上記第１層が、光照射によりベースフィ
ルムとの接着性が低下する感光性樹脂組成物からなり、
上記第２層が、光照射により支持基板との接着性が向上
する感光性樹脂組成物からなる請求項１または２に記載
の光学素子の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the first layer is made of a photosensitive resin composition whose adhesiveness to a base film is reduced by light irradiation,
The method for producing an optical element according to claim 1, wherein the second layer is made of a photosensitive resin composition whose adhesion to a support substrate is improved by light irradiation. 【請求項４】 上記第２層が遮光剤を含有する請求項１
〜３のいずれかに記載の光学素子の製造方法。4. The method according to claim 1, wherein the second layer contains a light-shielding agent.
4. The method for manufacturing an optical element according to any one of claims 1 to 3. 【請求項５】 上記インクが少なくとも硬化成分、水、
有機溶剤を含有する請求項１〜４のいずれかに記載の光
学素子の製造方法。5. The method according to claim 1, wherein the ink comprises at least a curing component, water,
The method for producing an optical element according to claim 1, further comprising an organic solvent. 【請求項６】 上記支持基板が透明基板であり、上記イ
ンクが着色剤を含有し、上記画素が着色部であるカラー
フィルタを製造する請求項１〜５のいずれかに記載の光
学素子の製造方法。6. The production of an optical element according to claim 1, wherein the support substrate is a transparent substrate, the ink contains a colorant, and the pixel is a color filter. Method. 【請求項７】 上記インクが蛍光性材料を含有し、画素
が発光層であり、該発光層を挟んで上下に電極を有する
エレクトロルミネッセンス素子を製造する請求項１〜５
のいずれかに記載の光学素子の製造方法。7. The electroluminescent device according to claim 1, wherein the ink contains a fluorescent material, the pixel is a light emitting layer, and an electrode is provided above and below the light emitting layer.
The method for producing an optical element according to any one of the above. 【請求項８】 支持基板上に複数の画素と、隣接する画
素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子を、
支持基板上に隔壁を形成した後、インクジェット方式に
より隔壁で囲まれた領域にインクを付与して画素を形成
する製造方法において、上記隔壁の形成工程に用いる剥
離現像可能な転写フィルムであって、ベースフィルム上
に、撥インク性を有する樹脂組成物からなる第１層と、
親インク性を有する樹脂組成物からなる第２層と、を積
層してなることを特徴とする転写フィルム。8. An optical element having at least a plurality of pixels on a support substrate and a partition located between adjacent pixels,
After forming the partition on the support substrate, in a manufacturing method of applying a ink by applying an ink to the region surrounded by the partition by an inkjet method to form a pixel, a transfer film capable of peeling development used in the step of forming the partition, A first layer made of a resin composition having ink repellency on a base film;
A transfer film obtained by laminating a second layer made of a resin composition having ink affinity. 【請求項９】 上記第１層が、シリコン系化合物或いは
フッ素系化合物の少なくとも一方を含有する請求項８に
記載の転写フィルム。9. The transfer film according to claim 8, wherein the first layer contains at least one of a silicon compound and a fluorine compound. 【請求項１０】 上記第１層が、光照射によりベースフ
ィルムとの接着性が低下する感光性樹脂組成物からな
り、上記第２層が、光照射により支持基板との接着性が
向上する感光性樹脂組成物からなる請求項８または９に
記載の転写フィルム。10. The photosensitive layer according to claim 1, wherein said first layer is made of a photosensitive resin composition whose adhesiveness to a base film is reduced by light irradiation, and said second layer is a photosensitive resin composition whose adhesiveness to a support substrate is improved by light irradiation. The transfer film according to claim 8, comprising a conductive resin composition. 【請求項１１】 上記第２層が遮光剤を含有する請求項
８〜１０のいずれかに記載の転写フィルム。11. The transfer film according to claim 8, wherein the second layer contains a light-shielding agent. 【請求項１２】 支持基板上に複数の画素と、隣接する
画素間に位置する隔壁とを少なくとも有し、請求項１〜
５のいずれかに記載の光学素子の製造方法により製造さ
れたことを特徴とする光学素子。12. The display device according to claim 1, further comprising a plurality of pixels on a supporting substrate and a partition wall located between adjacent pixels.
5. An optical element manufactured by the method for manufacturing an optical element according to any one of 5. 【請求項１３】 上記隔壁が遮光層である請求項１２に
記載の光学素子。13. The optical element according to claim 12, wherein the partition is a light shielding layer. 【請求項１４】 上記支持基板が透明基板であり、上記
画素が着色剤を含有するインクで形成された着色部であ
り、複数色の着色部を備えたカラーフィルタである請求
項１２または１３に記載の光学素子。14. The color filter according to claim 12, wherein the support substrate is a transparent substrate, the pixels are colored portions formed of ink containing a colorant, and the color filters are provided with colored portions of a plurality of colors. The optical element as described in the above. 【請求項１５】 上記着色部上に保護層を有する請求項
１４に記載の光学素子。15. The optical element according to claim 14, further comprising a protective layer on the colored portion. 【請求項１６】 表面に透明導電膜を有する請求項１４
または１５に記載の光学素子。16. A transparent conductive film on a surface.
Or the optical element according to 15. 【請求項１７】 上記画素が蛍光性材料からなる発光層
であり、該発光層を挟んで上下に電極を有するエレクト
ロルミネッセンス素子である請求項１２または１３に記
載の光学素子。17. The optical element according to claim 12, wherein the pixel is a light emitting layer made of a fluorescent material, and the pixel is an electroluminescent element having electrodes above and below the light emitting layer. 【請求項１８】 一対の基板間に液晶を挟持してなり、
一方の基板が請求項１４〜１６のいずれかに記載の光学
素子を用いて構成されたことを特徴とする液晶素子。18. A liquid crystal sandwiched between a pair of substrates,
A liquid crystal element, wherein one of the substrates is formed using the optical element according to claim 14.