JP2002117964A - Simplified nonoxidation high-frequency induction heating apparatus - Google Patents
Simplified nonoxidation high-frequency induction heating apparatusInfo
- Publication number
- JP2002117964A JP2002117964A JP2000305570A JP2000305570A JP2002117964A JP 2002117964 A JP2002117964 A JP 2002117964A JP 2000305570 A JP2000305570 A JP 2000305570A JP 2000305570 A JP2000305570 A JP 2000305570A JP 2002117964 A JP2002117964 A JP 2002117964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- tank
- nonoxidation
- induction heating
- work
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- General Induction Heating (AREA)
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えばスプロケット等
のワークを誘導加熱によって焼入する際に使用される簡
易無酸化高周波誘導加熱装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a simple non-oxidizing high frequency induction heating apparatus used for quenching a work such as a sprocket by induction heating.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、スプロケット等のワークを焼入す
る場合には、高周波の誘導加熱による焼入方法が採用さ
れており、その焼入装置としては、例えばトランジスタ
インバータの高周波電流をワークに近接配置した加熱コ
イルに供給する装置が知られている。そして、この焼入
装置は、ワークを室内の空気中に置いて、誘導加熱して
いるのが一般的である。2. Description of the Related Art Conventionally, when a workpiece such as a sprocket is quenched, a quenching method using high-frequency induction heating is employed. As a quenching apparatus, for example, a high-frequency current of a transistor inverter is brought close to the workpiece. Devices for supplying arranged heating coils are known. In this quenching apparatus, a work is generally placed in room air to perform induction heating.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この焼
入装置にあっては、無酸化状態での誘導加熱が困難であ
ることから、焼入部分に酸化スケールが発生し易く、焼
入品質自体を高品質に維持することが困難であるという
問題点があった。そこで、焼入作業を無酸化状態で行う
ことにより、酸化スケールの発生を抑える方法も一部で
採用されているが、この場合は、無酸化にするための構
造が複雑化して焼入装置自体が高価となり、結果として
焼入コストをアップさせるという問題点を有している。However, in this quenching apparatus, since it is difficult to perform induction heating in a non-oxidized state, oxide scale is easily generated in the quenched portion, and the quenching quality itself is reduced. There is a problem that it is difficult to maintain high quality. Therefore, a method of suppressing the generation of oxidized scale by performing the quenching operation in a non-oxidized state is also adopted in some cases, but in this case, the structure for deoxidizing becomes complicated, and the quenching apparatus itself is used. However, there is a problem in that quenching becomes expensive, and as a result, the quenching cost is increased.
【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、無酸化状態を容易に得ることができてワーク
を高品質かつ低コストで誘導加熱し得る簡易無酸化高周
波誘導加熱装置を提供することにある。[0004] The present invention has been made in view of such circumstances, and a simple non-oxidizing high-frequency induction heating apparatus capable of easily obtaining a non-oxidized state and inductively heating a workpiece at high quality and at low cost. To provide.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成すべ
く、本発明のうち請求項１記載の発明は、液体を貯留す
るタンクと、該タンクの中央部分に配置され下端が開口
する有底筒状に形成されたチャンバーと、前記タンクの
液面上でチャンバー内に配置されたワークを誘導加熱し
得る加熱コイルと、該加熱コイルに高周波電流を供給し
得るトランジスタインバータと、前記チャンバーを上下
動させてその下端をタンクの液面上もしくは液中に位置
させ得るチャンバー移動手段と、該チャンバー移動手段
でチャンバーの下端を液中に位置させた際にチャンバー
内を無酸化状態にし得る無酸化手段と、該無酸化手段、
前記トランジスタインバータ及びチャンバー移動手段等
を制御する制御手段と を具備することを特徴とする。
また、請求項２記載の発明は、前記ワークが、少なくと
も誘導加熱時に回転されることを特徴とする。In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, there is provided a tank for storing a liquid, a bottomed cylinder disposed at a central portion of the tank and having a lower end opened. A heating coil capable of inductively heating a work placed in the chamber on the liquid level of the tank; a transistor inverter capable of supplying a high-frequency current to the heating coil; and a vertically moving chamber. Chamber moving means for lowering the lower end of the chamber on the liquid surface of the tank or in the liquid, and non-oxidizing means for making the inside of the chamber non-oxidizing when the lower end of the chamber is positioned in the liquid by the chamber moving means. And the non-oxidizing means,
Control means for controlling the transistor inverter, the chamber moving means, and the like.
The invention according to claim 2 is characterized in that the work is rotated at least at the time of induction heating.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明に係わる簡
易無酸化誘導加熱装置の一実施例を示す概略構成図であ
る。図において、簡易無酸化誘導加熱装置１（以下、加
熱装置１という）は、内部に所定量の液体としての水３
を貯留するタンク２と、このタンク２の中央部上方に配
置されたチャンバー４を有している。前記タンク２は、
その中央部分に仕切板５で仕切られることにより、内側
に空間部２ａが形成され外側に貯留部２ｂが形成されて
いる。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing one embodiment of a simple non-oxidation induction heating apparatus according to the present invention. In the figure, a simple non-oxidizing induction heating device 1 (hereinafter referred to as a heating device 1) has a predetermined amount of water 3 as a liquid.
And a chamber 4 arranged above a central portion of the tank 2. The tank 2 is
The central portion is partitioned by the partition plate 5, so that a space 2a is formed inside and a storage portion 2b is formed outside.
【０００７】そして、空間部２ａ内には、非磁性体（無
機材料）で形成されたワーク支持台６がワーク移動装置
７で上下動及び回転可能に配設されると共に、仕切板５
の内面上部には、冷却ジャケット８が配置されている。
この冷却ジャケット８から冷却水（もしくは冷却ガス等
の冷却媒体）が空間部２ａの中心位置に向けて噴射され
る。In the space 2a, a work support 6 made of a non-magnetic material (inorganic material) is vertically movable and rotatable by a work moving device 7, and a partition plate 5 is provided.
A cooling jacket 8 is arranged on the upper part of the inner surface of the cooling device.
Cooling water (or a cooling medium such as a cooling gas) is injected from the cooling jacket 8 toward the center of the space 2a.
【０００８】なお、タンク２の空間部２ａの底面には、
冷却ジャケット８から噴射される冷却水を排水する排水
口が設けられ、この排水口には排水用のバルブ９が接続
されている。また、ワーク移動装置７は、ワーク支持台
６を矢印イの如く上下動させると共に矢印ロの如く水平
面内で回転させる。The bottom of the space 2a of the tank 2
A drain port for draining the cooling water injected from the cooling jacket 8 is provided, and a drain valve 9 is connected to the drain port. Further, the work moving device 7 moves the work support base 6 up and down as shown by an arrow a and rotates it in a horizontal plane as shown by an arrow b.
【０００９】また、タンク２の貯留部２ｂは、その底面
に設けた排水口に排水用のバルブ１０が接続されると共
に、タンク２の外周上面を覆う蓋部に設けた給水口に給
水用のバルブ１１を介して給水源１３が接続されてい
る。さらに、タンク２の周壁上部には貯留部２ｂ内の水
３の水位を検出するセンサ１４が配置されている。The storage portion 2b of the tank 2 has a drain port provided on the bottom surface thereof connected to a drain valve 10 and a water supply port provided on a lid portion for covering the outer peripheral upper surface of the tank 2 for water supply. A water supply source 13 is connected via a valve 11. Further, a sensor 14 for detecting a water level of the water 3 in the storage part 2b is arranged at an upper part of a peripheral wall of the tank 2.
【００１０】前記チャンバー４は、例えばセラミック、
石英ガラス等の無機材料によって有底筒状に形成され、
開口する下端４ａが前記仕切板５の外側に位置する状態
で配置されている。そして、このチャンバー４は、外周
面が複数のローラ１５で支持されつつ、チャンバー上下
装置１６で図の実線位置と二点鎖線の位置との間で矢印
ハの如く上下動し得るように構成されている。The chamber 4 is made of, for example, ceramic,
It is formed in a bottomed cylindrical shape by an inorganic material such as quartz glass,
The lower end 4a to be opened is arranged in a state of being located outside the partition plate 5. The chamber 4 is configured to be able to move up and down between a solid line position and a two-dot chain line position in FIG. ing.
【００１１】また、チャンバー４の上面に設けたガス供
給孔には、ガス供給用のバルブ１２を介してガス源１７
が接続されており、このガス源１７としては、アルゴン
ガスや窒素ガス等が使用され、このガスの供給によって
チャンバー４内がガス置換されて無酸化状態とされる。A gas supply hole provided on the upper surface of the chamber 4 has a gas source 17 through a gas supply valve 12.
The gas source 17 is an argon gas, a nitrogen gas, or the like, and the supply of the gas causes the inside of the chamber 4 to be gas-displaced to be in a non-oxidized state.
【００１２】一方、前記チャンバー４の下部外側で、タ
ンク２の直上方には加熱コイル１８が配置されている。
この加熱コイル１８は、チャンバー４の外形形状に対応
してその外周面の全域に亘って配置され、その両端部が
トランジスタインバータ１９の出力端子に接続されてい
る。そして、トランジスタインバータ１９が作動して加
熱コイル１８に高周波電流が供給されることにより、後
述する如くワーク支持台６上のワークが誘導加熱され
る。On the other hand, a heating coil 18 is arranged outside the lower part of the chamber 4 and directly above the tank 2.
The heating coil 18 is arranged over the entire outer peripheral surface corresponding to the outer shape of the chamber 4, and both ends thereof are connected to the output terminal of the transistor inverter 19. Then, the high frequency current is supplied to the heating coil 18 by operating the transistor inverter 19, so that the work on the work support 6 is induction-heated as described later.
【００１３】なお、加熱コイル１８は、図の二点鎖線で
示すように、チャンバー４の内側に配置することもでき
る。そして、このトランジスタインバータ１８、前記ワ
ーク移動装置７やチャンバー上下装置１４、冷却ジャケ
ット８及び前記各バルブ９〜１２、センサ１４等は、制
御装置２０に接続されている。The heating coil 18 can be arranged inside the chamber 4 as shown by a two-dot chain line in the figure. The transistor inverter 18, the work moving device 7, the chamber elevating device 14, the cooling jacket 8, the valves 9 to 12, the sensor 14, and the like are connected to a control device 20.
【００１４】次に、上記加熱装置１によるワークの焼入
方法の一例を図２の工程図に基づいて説明する。なお、
ワークがスプロケットＷであり、ワーク支持台６がこの
スプロケットＷの外形形状に対応した形状に設定されて
いるものとする。先ず、チャンバー４をチャンバー上下
装置１６で最上位位置に、またワーク支持台６をワーク
移動装置７で最上位位置に設定すると共に、各バルブ９
〜１２を閉じた初期位置に設定（Ｋ２０１）し、制御装
置２０の制御信号で給水用のバルブ１１を開いてタンク
２の貯留部２ｂ内に水３を供給（Ｋ２０２）する。Next, an example of a method of quenching a workpiece by the heating device 1 will be described with reference to the process chart of FIG. In addition,
It is assumed that the work is a sprocket W, and the work support 6 is set in a shape corresponding to the outer shape of the sprocket W. First, the chamber 4 is set at the uppermost position by the chamber raising / lowering device 16, the work support 6 is set at the uppermost position by the work moving device 7, and each valve 9 is set.
12 are set to the closed initial position (K201), the water supply valve 11 is opened by the control signal of the control device 20, and the water 3 is supplied into the storage part 2b of the tank 2 (K202).
【００１５】この水３は、センサ１４でその水位が検出
されることにより、バルブ１１が閉じて水３の供給が停
止（もしくはセンサ１４の水位検出で所定水位に維持）
され、この状態で、スプロケットＷをワーク支持台６上
に、例えば該支持台６に設けた位置決め部材等（図示せ
ず）で位置決めしつつセット（Ｋ２０３）する。スプロ
ケットＷがセットされると、制御装置２０の制御信号で
チャンバー上下装置１６を作動させ、チャンバー４を下
降（Ｋ２０４）させ、その下端４ａをタンク２の貯留部
２ｂ内の水中に位置させる。When the water level of the water 3 is detected by the sensor 14, the valve 11 is closed and the supply of the water 3 is stopped (or maintained at a predetermined water level by detecting the water level of the sensor 14).
Then, in this state, the sprocket W is set (K203) while being positioned on the work support 6 by, for example, a positioning member (not shown) provided on the support 6. When the sprocket W is set, the chamber raising / lowering device 16 is operated by the control signal of the control device 20, the chamber 4 is lowered (K204), and the lower end 4a is positioned in the water in the storage part 2b of the tank 2.
【００１６】これにより、チャンバー４の下端４ａが水
３でシールされた状態となり、この状態で、制御装置２
０の制御信号で、ガス供給用のバルブ１２を開いて例え
ばガス源１７からアルゴンガスをチャンバー４内に所定
時間供給（Ｋ２０５）する。このアルゴンガスの供給に
よりチャンバー４内がガス置換されて無酸化状態とな
り、この時、チャンバー４の下端４ａが水によってシー
ルされていることから、下端開口部のシール性が良好と
なって、ガス置換が短時間に効率的に行われる。As a result, the lower end 4a of the chamber 4 is sealed with the water 3, and in this state, the control device 2
With a control signal of 0, the gas supply valve 12 is opened and, for example, an argon gas is supplied from the gas source 17 into the chamber 4 for a predetermined time (K205). By the supply of the argon gas, the inside of the chamber 4 is gas-replaced and becomes non-oxidized. At this time, since the lower end 4a of the chamber 4 is sealed with water, the sealing property of the lower end opening is improved, and the gas is removed. The replacement is performed efficiently in a short time.
【００１７】そして、制御装置２０の制御信号でワーク
移動装置７を作動させてワーク支持台６を回転（Ｋ２０
６）させつつ、トランジスタインバータ１９から加熱コ
イル１８に高周波電流を供給（Ｋ２０７）する。この高
周波電流の所定時間の供給により、ワーク支持台６上の
スプロケットＷの焼入部分に渦電流が誘起されてスプロ
ケットＷが誘導加熱され、この誘導加熱後に、制御装置
２０の制御信号でワーク移動装置７を作動させ、ワーク
支持台６（スプロケットＷ）を所定距離下降（Ｋ２０
８）させる。Then, the work moving device 7 is operated by the control signal of the control device 20 to rotate the work support 6 (K20).
6) A high-frequency current is supplied from the transistor inverter 19 to the heating coil 18 (K207). By the supply of the high-frequency current for a predetermined time, an eddy current is induced in the quenched portion of the sprocket W on the work support 6 and the sprocket W is induction-heated. After the induction heating, the work is moved by a control signal of the control device 20. The device 7 is operated to lower the work support 6 (sprocket W) by a predetermined distance (K20).
8)
【００１８】ワーク支持台６が所定位置まで下降した
ら、制御装置２０の制御信号により、冷却ジャケット８
から冷却水を噴射（Ｋ２０９）させてワーク支持台６上
の加熱状態のスプロットＷを冷却する。この冷却によ
り、スプロケットＷが焼入され、この加熱から冷却まで
の焼入作業時に、チャンバー４内及びタンク２の空間部
２ａ内が無酸化状態に維持されることから、スプロケッ
トＷの焼入部分に酸化スケールの発生等のない高品質な
焼入状態が得られる。When the work support 6 is lowered to a predetermined position, the cooling jacket 8 is controlled by a control signal of the control device 20.
The cooling water is injected (K209) to cool the heated splat W on the work support 6. By this cooling, the sprocket W is quenched. During the quenching operation from the heating to the cooling, the inside of the chamber 4 and the space 2a of the tank 2 are maintained in an unoxidized state. A high quality quenched state without generation of oxide scale can be obtained.
【００１９】なお、冷却ジャケット８から噴射される冷
却水は、貯留部２ｂ内の水３を使用することにより資源
の有効活用が図れる。また、冷却ジャケット８から噴射
されて空間部２ａの底部に溜まった水は、制御装置２０
の制御信号でバルフ９が開くことによって、タンク２外
に排水されるが、この排水もリサイクルされるのが好ま
しい。さらに、ワーク支持台６のワーク移動装置７によ
る回転動作は、少なくとも加熱時に必要であるが、例え
ば冷却時にも回転させることによって、冷却効率をより
高めることもできる。The cooling water injected from the cooling jacket 8 can effectively use resources by using the water 3 in the storage section 2b. Further, the water sprayed from the cooling jacket 8 and accumulated at the bottom of the space 2a is removed by the control device 20.
When the valve 9 is opened by the control signal of (1), the wastewater is drained out of the tank 2, and this wastewater is preferably recycled. Further, the rotating operation of the work supporting table 6 by the work moving device 7 is necessary at least at the time of heating. For example, by rotating the work supporting table 6 also at the time of cooling, the cooling efficiency can be further increased.
【００２０】そして、スプロケットＷが冷却されると、
制御装置２０の制御信号でワーク移動装置７を作動させ
てワーク支持台６（スプロケットＷ）を上昇（Ｋ２１
０）させると共に、チャンバー上下装置１６を作動させ
てチャンバー４を上昇（Ｋ２１１）させ、ワーク支持台
６上の焼入されたスプロケットＷを取り出す（Ｋ２１
２）。これにより、スプロケットＷの焼入作業が完了す
る。Then, when the sprocket W is cooled,
The work moving device 7 is operated by the control signal of the control device 20, and the work support 6 (sprocket W) is raised (K21).
0) and actuate the chamber lifting / lowering device 16 to raise the chamber 4 (K211), and take out the hardened sprocket W on the work support 6 (K21).
2). Thereby, the quenching operation of the sprocket W is completed.
【００２１】なお、以上の工程は一例であって、例えば
スプロケットＷをセットした後に水３を供給したり、高
周波電流の供給後にスプロケットＷを回転させたり、各
工程を略同時に実行する等、適宜に変更することができ
る。また、上記実施例において、水の代わりに適宜の液
体を使用することもできるし、タンク２の形状やチャン
バー４の形状、加熱コイル１８や冷却ジャケット８の配
置位置、チャンバー上下装置１６やワーク移動装置７の
構成等も一例であって、適宜に変更することができる。The above steps are merely examples. For example, the water 3 is supplied after the sprocket W is set, the sprocket W is rotated after the high-frequency current is supplied, and the respective steps are executed substantially simultaneously. Can be changed to Further, in the above embodiment, an appropriate liquid can be used instead of water, the shape of the tank 2, the shape of the chamber 4, the arrangement position of the heating coil 18 and the cooling jacket 8, the chamber up-down device 16, and the movement of the work. The configuration and the like of the device 7 are also examples, and can be appropriately changed.
【００２２】[0022]
【発明の効果】以上詳述したように、請求項１記載の発
明によれば、有底筒状のチャンバーの下端がタンク内の
液中に位置することによってチャンバーの下端開口がシ
ールされるため、チャンバー内のガス置換を短時間で効
率的に行うことができて、例えばワークの焼入時間を短
縮させることができると共に、液体によって十分なシー
ル性が得られて酸化スケールのない高品質の焼入状態を
得ることができる。また、タンクの上方に筒状のチャン
バーを上下移動可能に配置することで形成できるため、
加熱装置自体の構成の簡略化を図ることができ、安価で
使い勝手かつ汎用性に優れた加熱装置が得られて、各種
ワークの焼入等に容易に適用することができる。As described in detail above, according to the first aspect of the present invention, the lower end opening of the chamber is sealed by positioning the lower end of the bottomed cylindrical chamber in the liquid in the tank. The gas exchange in the chamber can be performed efficiently in a short time, for example, the quenching time of the work can be shortened, and a sufficient sealing property can be obtained by the liquid, and a high quality without oxide scale can be obtained. A quenched state can be obtained. Also, since it can be formed by arranging a cylindrical chamber movably up and down above the tank,
The configuration of the heating device itself can be simplified, and a heating device that is inexpensive, easy to use, and excellent in versatility can be obtained, and can be easily applied to quenching of various works.
【００２３】また、請求項２記載の発明によれば、請求
項１記載の発明の効果に加え、少なくとも誘導加熱時に
ワークが回転することから、ワークの加熱部位の均一加
熱がが可能になると共に、加熱効率も高まって加熱時間
のより短縮化が図れる等、効率的な誘導加熱作業を行う
ことができて、例えば焼入作業コストを低減させること
ができる等の効果を奏する。According to the second aspect of the present invention, in addition to the effect of the first aspect of the invention, since the work rotates at least at the time of induction heating, uniform heating of the heated portion of the work becomes possible. In addition, an efficient induction heating operation can be performed, for example, the heating efficiency can be increased and the heating time can be further shortened. For example, effects such as a reduction in quenching operation cost can be achieved.
【図１】本発明に係わる簡易無酸化誘導加熱装置の一実
施例を示す概略構成図FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing one embodiment of a simple non-oxidation induction heating apparatus according to the present invention.
【図２】同その動作を説明するための工程図FIG. 2 is a process diagram for explaining the operation thereof.
１ 簡易無酸化誘導加熱装置 ２ タンク ２ａ 空間部 ２ｂ 貯留部 ３ 水 ４ チャンバー ４ａ 下端 ５ 仕切板 ６ ワーク支持台 ７ ワーク移動装置 ８ 冷却ジャケット ９〜１２ バルブ １３ 給水源 １４ センサ １６ チャンバー上下装置 １７ ガス源 １８ 加熱コイル １９ トランジスタインバータ ２０ 制御装置 Ｗ スプロケット DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Simple non-oxidation induction heating apparatus 2 Tank 2a Space part 2b Storage part 3 Water 4 Chamber 4a Lower end 5 Partition plate 6 Work support base 7 Work moving device 8 Cooling jacket 9-12 Valve 13 Water supply source 14 Sensor 16 Chamber up-down device 17 Gas Source 18 Heating coil 19 Transistor inverter 20 Controller W Sprocket
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｂ 6/06 ３６１ Ｈ０５Ｂ 6/06 ３６１ ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05B 6/06 361 H05B 6/06 361
Claims (2)
部分に配置され下端が開口する有底筒状に形成されたチ
ャンバーと、前記タンクの液面上でチャンバー内に配置
されたワークを誘導加熱し得る加熱コイルと、該加熱コ
イルに高周波電流を供給し得るトランジスタインバータ
と、前記チャンバーを上下動させてその下端をタンクの
液面上もしくは液中に位置させ得るチャンバー移動手段
と、該チャンバー移動手段でチャンバーの下端を液中に
位置させた際にチャンバー内を無酸化状態にし得る無酸
化手段と、該無酸化手段、前記トランジスタインバータ
及びチャンバー移動手段等を制御する制御手段と を具
備することを特徴とする簡易無酸化高周波誘導加熱装
置。1. A tank for storing a liquid, a chamber formed in a cylindrical shape with a bottom that is disposed at a central portion of the tank and has a lower end opened, and a work disposed in the chamber on the liquid level of the tank. A heating coil capable of induction heating, a transistor inverter capable of supplying a high-frequency current to the heating coil, a chamber moving means capable of moving the chamber up and down to position the lower end on or above the liquid surface of the tank; A non-oxidizing means capable of bringing the inside of the chamber into a non-oxidizing state when the lower end of the chamber is positioned in the liquid by the chamber moving means, and a control means for controlling the non-oxidizing means, the transistor inverter, the chamber moving means and the like. A simple non-oxidizing high-frequency induction heating device characterized in that:
転されることを特徴とする請求項１記載の簡易無酸化高
周波誘導加熱装置。2. The simple non-oxidizing high frequency induction heating apparatus according to claim 1, wherein the work is rotated at least at the time of induction heating.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000305570A JP2002117964A (en) | 2000-10-05 | 2000-10-05 | Simplified nonoxidation high-frequency induction heating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000305570A JP2002117964A (en) | 2000-10-05 | 2000-10-05 | Simplified nonoxidation high-frequency induction heating apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002117964A true JP2002117964A (en) | 2002-04-19 |
Family
ID=18786402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000305570A Pending JP2002117964A (en) | 2000-10-05 | 2000-10-05 | Simplified nonoxidation high-frequency induction heating apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002117964A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009242928A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Neturen Co Ltd | Apparatus and method for induction-heating |
| CN102382953A (en) * | 2011-09-30 | 2012-03-21 | 安徽明雁齿轮有限公司 | Rotary lifting-type gear sleeve automatic high frequency quenching device |
-
2000
- 2000-10-05 JP JP2000305570A patent/JP2002117964A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009242928A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Neturen Co Ltd | Apparatus and method for induction-heating |
| CN102382953A (en) * | 2011-09-30 | 2012-03-21 | 安徽明雁齿轮有限公司 | Rotary lifting-type gear sleeve automatic high frequency quenching device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7745765B2 (en) | Thermal and high magnetic field treatment of materials and associated apparatus | |
| JPH07224327A (en) | High-frequency hardening method and high-frequency hardening device of nearly cylindrical work | |
| JPWO2007010607A1 (en) | Carburizing method and carburizing furnace | |
| JP2010024516A (en) | Immersing and cooling device in high-frequency quenching apparatus | |
| JP2002117964A (en) | Simplified nonoxidation high-frequency induction heating apparatus | |
| JP2022025156A (en) | Heat treatment apparatus | |
| JP5721257B2 (en) | Induction hardening equipment | |
| JP5770042B2 (en) | Heat treatment equipment | |
| JP3059167B1 (en) | Oxidation-free induction heat treatment method and apparatus | |
| JPH0748662Y2 (en) | Inner surface quenching device | |
| KR20090112407A (en) | Vertical type vacuum furnace with elevation apparatus | |
| JP2709556B2 (en) | Induction quenching method for thin ring-shaped workpiece | |
| JP2008101235A (en) | Heat treatment method | |
| JPH07331326A (en) | Nonoxidizing quenching method and nonoxidizing quenching apparatus | |
| JP6245498B2 (en) | Press heat treatment equipment | |
| CN214422693U (en) | Soaking type local quenching device | |
| JPH05109471A (en) | Cylinder liner heating device | |
| CN218517652U (en) | Efficient centering device for intermediate frequency furnace | |
| JP3309954B2 (en) | Induction hardening device and method for induction hardening of bottomed cylindrical work | |
| JP3136355B2 (en) | Induction hardening equipment | |
| JPH0643169Y2 (en) | Oxidation quenching equipment | |
| JPH06346136A (en) | Quenching apparatus in liquid | |
| US20070295428A1 (en) | Carburizing Apparatus and Carburizing Method | |
| JPH0892650A (en) | Hardening of base metal of round tip saw and device therefor | |
| JPH0726839Y2 (en) | Vapor phase growth equipment |