JP2002114776A - ベンゾチオフェン誘導体及びそれを用いた除草剤組成物 - Google Patents

ベンゾチオフェン誘導体及びそれを用いた除草剤組成物

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JP2002114776A
JP2002114776A JP2000388045A JP2000388045A JP2002114776A JP 2002114776 A JP2002114776 A JP 2002114776A JP 2000388045 A JP2000388045 A JP 2000388045A JP 2000388045 A JP2000388045 A JP 2000388045A JP 2002114776 A JP2002114776 A JP 2002114776A
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Seiji Tomita
誠司 富田
Masatoshi Saito
雅俊 斉藤
Hironori Sekiguchi
浩紀 関口
Shinichiro Ogawa
新一郎 尾川
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 水稲などの栽培作物に対する薬害が少なく、
かつ広範囲な雑草を低薬量で防除しうる新規な化合物、
及びそれを用いた除草剤組成物を提供すること。 【解決手段】 一般式(I) 【化1】 で表されるベンゾチオフェン誘導体、及びこのベンゾチ
オフェン誘導体を有効成分として含有する除草剤組成物
である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なベンゾチオ
フェン誘導体と、このベンゾチオフェン誘導体を有効成
分とする除草剤組成物に関する。さらに詳しくは、栽培
植物の育成を阻害する畑地雑草や水田雑草、特に水田雑
草に有効な除草剤として有用性の高いベンゾチオフェン
誘導体とこれを有効成分として含有する除草剤組成物に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】雑草防除作業の省力化や農園芸作物の生
産向上にとって、除草剤はきわめて重要な薬剤であり、
そのため長年にわたって除草剤の研究開発が積極的に行
われ、現在多種多様な薬剤が実用化されている。しか
し、今日においてもさらに卓越した除草特性を有する新
規薬剤、特に畑栽培作物や水稲に薬害を及ぼすことがな
く、対象雑草のみを選択的に、かつ低薬量で防除しうる
薬剤の開発が望まれている。ある種の二環式ベンゾイル
構造を有するトリケトン誘導体は、畑作物に対して安全
性が高く、かつ畑雑草に対して良好な除草活性を有する
ことが知られている。しかしながら、該二環式ベンゾイ
ル構造を有するトリケトン誘導体の中で、(2,3−ジ
ヒドロベンゾチオフェン−5−イル)カルボニル−2,
6−シクロヘキサンジオン誘導体についての研究は少な
く、その除草活性についてはあまり知られていない。
【0003】特許第2579663号には、除草活性化
合物として、置換環式ジオン化合物が開示されており、
その特許請求の範囲には、上記(2,3−ジヒドロベン
ゾチオフェン−5−イル)カルボニル−2,6−シクロ
ヘキサンジオン誘導体も包含される。しかしながら、こ
の特許においては、上記誘導体についてはなんら具体的
に説明されておらず、また例示もなく、したがって当然
なことながら、その除草活性について、なんら言及され
ていない。また、本発明者らは、除草活性を有する
(2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−5−イル)カル
ボニル−2,6−ジシクロヘキサンジオン誘導体とし
て、一般式(II)
【0004】
【化3】
【0005】(式中、Eは1,3−シクロヘキサンジオ
ン誘導体−2−イル基、Dは置換基、Rは水素原子又は
低級アルキル基、mは0〜2の整数を示す。)で表され
る化合物を先に見出した(WO00/20408号公
報)。上記一般式(II) で表される化合物は、栽培作
物、特に水稲に対する薬害が少なく、かつ広範囲な雑草
を低薬量で防除し得るものであるが、水稲などの栽培作
物に対する薬害がさらに少なく、かつ殺草スペクトラム
が広く、低薬量で広範囲な雑草を防除し得る化合物の開
発が望まれていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、栽培作物、特に水稲などに対する薬害が極め
て少なく、かつ殺草スペクトラムが広く、広範囲の雑草
を低薬量で防除し得る新規な化合物と、これを有効成分
として含有する除草剤組成物、特に水稲用除草剤組成物
を提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、(2,3−ジ
ヒドロベンゾチオフェン−5−イル)カルボニル−2,
6−シクロヘキサンジオン誘導体であって、ベンゾチオ
フェン環の2−位にO、S、SO又はSO2を介してア
ルキル基が結合した化合物がその目的に適合し得ること
を見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成した
ものである。すなわち、本発明は、一般式(I)
【0008】
【化4】
【0009】(式中、R1〜R6は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1
〜6のハロアルキル基を示し、R1〜R6の中から選択さ
れる二つの置換基がたがいに結合してシクロヘキセン環
と合わせてビジクロ環を形成していてもよく、R7は置
換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を示
す。Qは水酸基、ハロゲン原子、又は置換基を有してい
てもよい、炭素数1〜6のアルコキシル基、炭素数1〜
6のアルキルチオ基、炭素数1〜6のアルキルスルフィ
ニル基、炭素数1〜6のアルキルスルホニル基、フェノ
キシ基、フェニルチオ基、フェニルスルフィニル基、フ
ェニルスルホニル基、炭素数2〜12のジアルキルアミ
ノ基、炭素数2〜12のN−アルコキシアルキルアミノ
基、窒素原子で接続される5員若しくは6員の含窒素複
素環式残基又は5員若しくは6員の複素環式スルフィド
基、あるいはα位で接続されるマロン酸エステル残基、
α位で接続されるβ−ケトエステル残基又はα位で接続
されるβ−ジケトン残基を示す。Xはハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基、R8、OR8、SR8、SO28又は
NR89を示す。R8及びR9は、それぞれ水素原子、あ
るいは置換基を有していてもよい、炭素数1〜6のアル
キル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6の
アルキニル基、フェニル基又はベンジル基を示し、NR
89において、R8とR9はたがいに同一であっても異な
っていてもよく、またR8とR9は、たがいに結合して環
構造を形成していてもよい。YはO、S、SO又はSO
2、nは0,1又は2、pは1又は2を示す。)で表さ
れるベンゾチオフェン誘導体を提供するものである。ま
た本発明は、上記ベンゾチオフェン誘導体を有効成分と
して含むことを特徴とする除草剤組成物をも提供するも
のである。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明のベンゾチオフェン誘導体
は、一般式(I)
【0011】
【化5】
【0012】で表される化学構造を有する化合物であ
る。一般式(I)において、R1〜R6は、それぞれ独立
して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキ
ル基、炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。ここで、
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子が挙げられ、炭素数1〜6のアルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基および各種のプロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられ
る。各種のプロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘ
キシル基は、直鎖状、分岐状または環状の置換基異性体
を含む。また、炭素数1〜6のハロアルキル基の具体例
としては、上記アルキル基の一部または全部の水素原子
が塩素原子、フッ素原子、臭素原子または沃素原子など
のハロゲン原子により置換されたハロアルキル基、例え
ば、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリクロロ
メチル基、トリフルオロメチル基、2−クロロエチル
基、2−フルオロエチル基、3−クロロプロピル基、3
−フルオロプロピル基などが挙げられる。このR1〜R6
は、水素原子であるのが好ましい。またR1〜R6の中か
ら選択される二つの置換基がたがいに結合してシクロヘ
キセン環と合わせてビシクロ環、例えばビシクロ〔3.
2.1〕オクタンなどを形成していてもよい。
【0013】R7は、置換基を有していてもよい炭素数
1〜6のアルキル基を示す。この置換基を有していても
よい炭素数1〜6のアルキル基としては、前記R1〜R6
のうちの炭素数1〜6のアルキル基の説明において例示
した各種の基、及び置換基を有する該基を挙げることが
できる。具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、プロピル基、2−メトキシエチル基、2,2−ジ
メトキシエチル基、2−オキソエチル基、2−メトキシ
イミノエチル基、2−ヒドロキシイミノエチル基、メト
キシカルボニルメチル基などが挙げられるが、これらの
中で、メチル基、エチル基、2−メトキシエチル基、2
−メトキシイミノエチル基、メトキシカルボニルメチル
基が好ましい。
【0014】Qは、水酸基、ハロゲン原子、又は置換基
を有していてもよい、炭素数1〜6のアルコキシル基、
炭素数1〜6のアルキルチオ基、炭素数1〜6のアルキ
ルスルフィニル基、炭素数1〜6のアルキルスルホニル
基、フェノキシ基、フェニルチオ基、フェニルスルフィ
ニル基、フェニルスルホニル基、炭素数2〜12のジア
ルキルアミノ基、炭素数2〜12のN−アルコキシアル
キルアミノ基、窒素原子で接続される5員若しくは6員
の含窒素複素環式残基又は5員若しくは6員の複素環式
スルフィド基、あるいはα位で接続されるマロン酸エス
テル残基、α位で接続されるβ−ケトエステル残基又は
α位で接続されるβ−ジケトン残基を示す。ここで、ハ
ロゲン原子の例としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素
などが、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアル
コキシル基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、イ
ソプロポキシ基、2−クロロエトキシ基、2−メトキシ
エトキシ基などが、置換基を有していてもよい炭素数1
〜6のアルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エ
チルチオ基、2−ヒドロキシエチルチオ基、2−シアノ
エチルチオ基、2−ヒドロキプロピルチオ基、2−アセ
トキシエチルチオ基、2−メタンスルホニルエチルチオ
基、2−アセチルアミノエチルチオ基などが、置換基を
有していてもよい炭素数1〜6のアルキルスルフィニル
基の例としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフ
ィニル基、2−ヒドロキシエチルスルフィニル基、2−
シアノエチルスルフィニル基、2−ヒドロキプロピルス
ルフィニル基、2−アセトキシエチルスルフィニル基、
2−メタンスルホニルエチルスルフィニル基、2−アセ
チルアミノエチルスルフィニル基などが、置換基を有し
ていてもよい炭素数1〜6のアルキルスルホニル基の例
としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
2−ヒドロキシエチルスルホニル基、2−シアノエチル
スルホニル基、2−ヒドロキプロピルスルホニル基、2
−アセトキシエチルスルホニル基、2−メタンスルホニ
ルエチルスルホニル基、2−アセチルアミノエチルスル
ホニル基などが挙げられる。また、置換基を有していて
もよいフェノキシ基の例としては、フェノキシ基、4−
メチルフェノキシ基、4−ヒドロキシフェノキシ基など
が、置換基を有していてもよいフェニルチオ基の例とし
ては、フェニルチオ基、4−メチルフェニルチオ基、4
−ヒドロキシフェニルチオ基などが、置換基を有してい
てもよいフェニルスルフィニル基の例としては、フェニ
ルスルフィニル基、4−メチルフェニルスルフィニル
基、4−ヒドロキシフェニルスルフィニル基などが、置
換基を有していてもよいフェニルスルホニル基の例とし
ては、フェニルスルホニル基、4−メチルフェニルスル
ホニル基、4−ヒドロキシフェニルスルホニル基などが
挙げられる。
【0015】次に、置換基を有していてもよい炭素数2
〜12のジアルキルアミノ基の例としては、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、
ジシクロヘキシルアミノ基などが、置換基を有していて
もよい炭素数2〜12のN−アルコキシアルキルアミノ
基の例としては、N−メトキシメチルアミノ基などが、
窒素原子で接続される置換基を有していてもよい5員若
しくは6員の含窒素複素環式残基の例としては、ピロリ
ジン、ピペリジン、モルホリン、ピラゾール、3−メチ
ルピラゾール、1,2,4−トリアゾール、4,5−ジ
ヒドロピラゾールなどの含窒素複素環式化合物の残基
が、置換基を有していてもよい5員若しくは6員の複素
環式スルフィド基の例としては、2−ピリジニルチオ
基、2−ピリミジニルチオ基、(4−メチルピリミジン
−2−イル)チオ基、2−チオフェニルチオ基、(1,
3−チアゾール−2−イル)チオ基、(2−メチルフラ
ン−3−イル)チオ基、(1−メチルイミダゾール−2
−イル)チオ基などが挙げられる。さらに、α位で接続
されるマロン酸エステル残基の例としては、ジメチルマ
ロン酸残基やジエチルマロン酸残基などが、α位で接続
されるβ−ケトエステル残基の例としては、アセト酢酸
メチル残基やアセト酢酸エチル残基などが、α位で接続
されるβ−ジケトン残基の例としては、アセチルアセト
ン残基や1,3−シクロヘキサンジオン残基などが挙げ
られる。このQとしては、特に水酸基が好ましい。
【0016】Xはハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、
8、OR8、SR8、SO28又はNR89を示す。R8
およびR9は、それぞれ水素原子、あるいは置換基を有
していてもよい、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数2
〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、フ
ェニル基又はベンジル基を示す。ここで、置換基を有し
ていてもよい炭素数1〜6のアルキル基の例としては、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロプロピル
基、シクロヘキシル基、トリクロロメチル基、ジフルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基
などが、置換基を有していてもよい炭素数2〜6のアル
ケニル基の例としては、エテニル基、アリル基、1−プ
ロペニル基、1−エトキシエテニル基などが、置換基を
有していてもよい炭素数2〜6のアルキニル基の例とし
ては、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル
基などが、置換基を有していてもよいフェニル基の例と
しては、フェニル基、4−メチルフェニル基などが、置
換基を有していてもよいベンジル基の例としては、ベン
ジル基、α−メチルベンジル基などが挙げられる。NR
89において、R8とR9はたがいに同一であっても異な
っていてもよく、またR8とR9は、たがいに結合して環
構造を形成していてもよい。この環構造の例としては、
ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環などが挙げ
られる。このXとしては、塩素原子、臭素原子、ニトロ
基、シアノ基及び置換基を有していてもよい炭素数1〜
6のアルキル基、具体的には、メチル基、エチル基、ト
リフルオロメチル基、メトキシメチル基が好適である。
【0017】YはO、S、SO又はSO2を示すが、好
ましくはS、SO又はSO2である。nは0,1又は2
を示すが、好ましくは2であり、pは1又は2を示す。
前記一般式(I)で表されるベンゾチオフェン誘導体の
中で、特に一般式(I−a)
【0018】
【化6】
【0019】(式中、R1〜R7、Q、X、Y、n及びp
は前記と同じである。)で表される構造を有するものが
好適である。一般式(I)で表されるベンゾチオフェン
誘導体はQが水酸基である場合には、以下に表されるよ
うな互変異性体の構造をとりうるが、本発明のベンゾチ
オフェン誘導体は、これらすべての化合物およびこれら
の混合物を包含するものである。
【0020】
【化7】
【0021】また、一般式(I)で表されるベンゾチオ
フェン誘導体は、R1又はR6が水素原子である場合に
は、以下に表されるような互変異性体の構造をとりうる
が、本発明のベンゾチオフェン誘導体は、これらすべて
の化合物およびこれらの混合物を包含するものである。
【0022】
【化8】
【0023】本発明の一般式(I)で表されるベンゾチ
オフェン誘導体は、例えば下記に示すベンゾチオフェン
の2−位への置換基導入以外は、WO00/20408
号公報に記載の方法により得ることができる。 (1)WO00/20408号公報に記載の方法により
得られるカルボン酸化合物(III)を、アルコールと反応
させて、エステル化合物(IV) を得る。
【0024】
【化9】
【0025】(ROHはメタノール、エタノールなどの
低級アルコール、X及びpは前記と同じである。)この
反応においては、触媒量の硫酸、p−トルエンスルホン
酸等のプロトン酸を用いる。アルコールはメタノール、
エタノールが好適であり、等モル以上用いる。反応溶媒
としてはベンゼン、トルエンのような不活性溶媒を用い
るか又は無溶媒で行うことができる。この反応を行う際
には、室温ないし溶媒沸点の間の温度において反応によ
り生成する水を除去しながら反応が完結するまで攪拌す
ればよい。 (2)上記(1)で得たエステル化合物(IV) をハロゲ
ン化剤と反応させて、ハロゲン化物(V)を得る。
【0026】
【化10】
【0027】(Z:ハロゲン原子)この反応において
は、四塩化炭素のような不活性溶媒下で、N−プロモス
クシイミド(NBS)のようなハロゲン化剤を等モル以
上用いる。ラジカル発生源としては、アゾビスイソブチ
ロニトリル(AIBN)等を触媒量用いる。この反応を
行う際には、溶媒沸点において反応が完結するまで攪拌
すればよい。 (3)上記(2)で得たハロゲン化物(V)を脱ハロゲ
ン化水素し、ベンゾチオフェン化合物(VI) を得る。
【0028】
【化11】
【0029】この反応においては、塩化メチレンのよう
な不活性溶媒下で、トリエチルアミンなどの塩基を等モ
ル以上用いる。この反応を行う際には、0℃から溶媒沸
点において反応が完結するまで攪拌すればよい。 (4)上記(3)で得たベンゾチオフェン化合物(VI)
におけるベンゾチオフェン環の2−位に置換基を導入し
て、化合物(VII)を得る。
【0030】
【化12】
【0031】(R7及びYは前記と同じである。)この
反応は、塩化メチレンのような不活性溶媒と水の二層系
で、メタンチオールのナトリウム塩などの求核剤を等モ
ル以上用いる。層間移動触媒として、テトラブチルアン
モニウムプロミド(TBAB)等を触媒量用いる。この
反応を行う際には、室温から溶媒沸点において反応が完
結するまで攪拌すればよい。 (5)上記(4)で得た化合物(VII)の加水分解によ
り、カルボン酸化合物(VIII) を得る。
【0032】
【化13】
【0033】この反応においては、水とメタノール、エ
タノールのようなプロトン性溶媒の混合溶媒、また場合
によっては更に塩化メチレン等の不活性溶媒を加えて、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウムなどの塩基を等モル
以上用いる。この反応を行う際には、0℃から溶媒沸点
において反応が完結するまで攪拌すればよい。上記で得
られたカルボン酸化合物(VIII) から、例えばWO00
/20408号公報に記載の方法等により、本発明の一
般式(I)で表されるベンゾチオフェン誘導体を得るこ
とができる。本発明の除草剤組成物は、上記のようにし
て得られた前記一般式(1)で表されるベンゾチオフェ
ン誘導体を有効成分として含むものであり、特に水稲用
として好適である。ベンゾチオフェン誘導体を溶媒など
の液状担体または鉱物質微粉などの固体担体と混合し、
水和剤、乳剤、粉剤または粒剤等の形態に製剤化して使
用することができる。さらに、除草剤組成物の製剤化に
際して、該組成物に乳化性、分散性および展着性などを
付与するため、界面活性剤を添加してもよい。
【0034】本発明の除草剤組成物を水和剤の形態で使
用する場合、通常、ベンゾチオフェン誘導体を5〜55
重量%、固体担体を40〜93重量%および界面活性剤
を2〜5重量%の割合で配合した組成物を調製し、これ
を除草に使用すればよい。本発明の除草剤組成物を乳剤
の形態で使用する場合には、通常、ベンゾチオフェン誘
導体を10〜50重量%、溶剤35〜85重量%および
界面活性剤を5〜15重量%の割合で配合した組成物を
調製し、これを除草に使用すればよい。本発明の除草剤
組成物を粉剤の形態で使用する場合には、通常、ベンゾ
チオフェン誘導体を1〜15重量%、固体担体を80〜
97重量%および界面活性剤を2〜5重量%の割合で配
合した組成物を調製して使用すればよい。さらに、本発
明の除草剤組成物を粒剤の形態で使用する場合には、通
常、ベンゾチオフェン誘導体を1〜15重量%、固体担
体を80〜97重量%および界面活性剤を2〜5重量%
の割合で配合した組成物を粒状に成形したものを、除草
に使用すればよい。
【0035】ここで用いる固体担体としては、例えばケ
イソウ土や消石灰などの酸化物、リン灰石などのリン酸
塩、セッコウなどの硫酸塩、タルク、パイロフェライ
ト、クレー、カオリン、ベントナイト、酸性白土、ホワ
イトカーボン、石英粉末、ケイ石粉などの鉱物質の微粉
などが好適なものとして挙げられる。また、前記溶剤と
しては、例えばベンゼン、トルエンもしくはキシレン等
の芳香族炭化水素、o−クロロトルエン、トリクロロエ
タンもしくはトリクロロエチレンなどの塩素化炭化水
素、シクロキサノール、アミルアルコール、エチレング
リコールなどのアルコール、イソホロン、シクロヘキサ
ノン、シクロヘキセニル−シクロヘキサノンなどのケト
ン、ブチルセロソルブ、ジエチルエーテル、メチルエチ
ルエーテルなどのエーテル、酢酸イソプロピル、酢酸ベ
ンジル、フタル酸メチルなどのエステル、ジメチルホル
ムアミドなどのアミド、これらの混合物などの有機溶媒
が好適なものとして挙げられる。
【0036】さらに、前記界面活性剤としては、アニオ
ン型、ノニオン型、カチオン型またはアミノ酸またはベ
タインなどの両性イオン型の界面活性剤のいずれも使用
することができる。本発明の除草剤組成物には、有効成
分として、前記一般式(I)で表されるベンゾチオフェ
ン誘導体と共に、必要に応じて、他の除草活性を有する
成分を含有させることができる。このような他の除草活
性成分としては、例えばジフェニルエーテル系、トリア
ジン系、尿素系、カーバメイト系、チオカーバメイト
系、酸アニリド系、ピラゾール系、リン酸系、スルホニ
ルウレア系、オキサジアゾン系などが挙げられ、これら
除草活性成分を適宜選択して併用することができる。さ
らに、本発明の除草剤組成物に、必要に応じて、殺虫
剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料などを含有させるこ
ともできる。
【0037】本発明の除草剤組成物は、雑草の発芽前ま
たは発芽後に、雑草またはその生育地に施用される。施
用手段としては、栽培植物の種類や使用環境によって異
なるが、たとえば噴霧、散布、散水、注水などの方法を
採用することができる。本発明の化合物の施薬量は、製
剤の形態、散布方法、雑草の種類と量、生育状況など様
々な条件を考慮して決められる。通常0.025〜5kg
/ha、好ましくは0.05〜2kg/haであり、当業
者であれば、必要な除草効果を得るための有効量を容易
に決めることができる。前記栽培植物としては、たとえ
ばイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、エンバク、
ソルガムなどのイネ科植物や、ダイズ、ワタ、ビート、
ヒマワリ、ナタネなどの広葉作物のほか、果樹、果菜類
や根菜類、葉菜類などの野菜、芝生などが挙げられる。
【0038】本発明の除草剤組成物による防除の対象と
する雑草としては、水田雑草(Paddy weed
s)のヘラオモダカ(Alisma canalicu
latum)、オモダカ(Sagittaria tr
ifolia)、ウリカワ(Sagittaria p
ygmaea)などのオモダカ科(Alismatac
eae)雑草、タマガヤツリ(Cyperus dif
formis)、ミズカヤツリ(Cyperus se
rotinus)、ホタルイ(Scirpusjunc
oides)、クログワイ(Eleocharis k
uroguwai)などのカヤツリグサ科(Cyper
aceae)雑草、アゼナ(Lindernia py
xidaria)などのゴマノハグサ科(Scroph
ulariaceae)雑草、コナギ(Monocho
ria vaginalis)などのミズアオイ科(P
ontenderiaceae)雑草、ヒルムシロ(P
otamogeton distinctus)などの
ミソハギ科(Potamogetonaceae)雑
草、キカシグサ(Rotala indica)等のミ
ソハギ科(Lythraceae)雑草、タイヌビエ
(Echinochloa cruggalli)など
のイネ科(Gramineae)雑草などがある。
【0039】また、畑雑草としては、イヌホウズキ(S
olanum nigrum)、チョウセンアサガオ
(Datura stramonium)などのナス科
(Solanaceae)雑草、イチビ(Abutil
on theophrasti)、アメリカキンゴジカ
(Sida spinosa)などのアオイ科(Mal
vaceae)雑草、マルバアサガオ(Ipomoea
purpurea)などのヒルガオ科(Convol
vulaceae)雑草、イヌビユ(Amaranth
us lividus)などのヒユ科(Amarant
haceae)雑草、オナモミ(Xanthium s
trumarium)、ブタクサ(Ambrosia
artemisifolia)、ハキダメギク(Gal
insoga ciliata)、セイヨウトゲアザミ
(Cirsium arvense)、ノボロギク(S
enecio Vulgaris)、ヒメジヨン(Er
igeron annus)などのキク科(Compo
sitae)雑草、イヌガラシ(Rorippa in
dica)、ノハラガラシ(Sinapis arve
nsis)、ナズナ(Capsella bursa−
pastoris)などのアブラナ科(Brassic
aceae)雑草、イヌタデ(Polygonum b
ulumei)、ソバカズラ(Polygonum c
onvolvulus)などのタデ科(polygon
aceae)雑草、スベリヒユ(Portulaca
oleracea)などのスベリヒユ科(Portul
acaceae)雑草、シロザ(Chenopodiu
m album)、コアカザ(Chenopodium
ficiolium)、ホウキザ(Kochia s
coparia)などのアカザ科(Chenopodi
aceae)雑草、ハコベ(Stellaria me
dia)等のナデシコ科(Caryophyllace
ae)雑草、オオイヌノフグリ(Veronica p
ersica)などのゴマノハグサ科(Scrophu
lariaceae)雑草、ツユクサ(Commeli
na communis)などのツユクサ科(Comm
elinaceae)雑草、ホトケノザ(Lamium
amplexicaule)、ヒメオドニシキソウ
(Euphorbia supina)、オオニシキソ
ウ(Euphorbia maculata)などのト
ウダイグサ科(Euphorbiaceae)雑草、ト
ゲナシヤエムグラ(Galium spurium)、
ヤエムグラ(Galium aparine)、アカネ
(Rubia akane)などのアカネ科(Rubi
aceae)雑草、スミレ(Viola arvens
is)などのスミレ科(Vilaceae)雑草、アメ
リカツノクサネム(Sesbania exaltat
a)、エビスグサ(Cassia obtusifol
ia)などのマメ科(Leguminosae)雑草な
どの広葉雑草(Broad−leaved weed
s)、野性ソルガム(Sorghumbicolo
r)、オオクサキビ(Panicum dichoto
miflorum)、ジョンソングラス(Sorghu
m haepense)、イヌビエ(Echinoch
loa crus−galli)、メヒシバ(Digi
taria adscendes)、カラスムギ(Av
ena fatua)、オヒシバ(Eleusine
indica)、エノコログサ(Setaria vi
ridis)もしくはスズメノテッポウ(Alopec
urus aequalis)などのイネ科雑草(Gr
aminaceous weeds)、ハマスゲ(Cy
perus rotundus、Cyperus es
culentus)などのカヤツリグサ科雑草(Cyp
eraceous weeds)などがある。
【0040】
【実施例】次に、本発明を製造実施例及び除草剤実施例
により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの
例によってなんら限定されるものではない。 実施例1 〔1〕4−クロロ−5−オキシカルボニル−2−メチル
チオ−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジ
オキシドの合成 (1)4−クロロ−5−エトキシカルボニル−2,3−
ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシドの合成 4−クロロ−5−オキシカルボニル−2,3−ジヒドロ
ベンゾチオフェン−1,1−ジオキシド3.0gのエタ
ノール15ml溶液にp−トルエンスルホン酸0.1g
を加え、還流管にモレキュラシーブ4Aを詰め12時間
加熱還流した。反応溶液を室温まで冷却した後、水を加
え、析出した固体を濾過、乾燥させ目的とするエステル
化合物3.2gを得た。
【0041】(2)4−クロロ−5−エトキシカルボニ
ル−3−ブロモ−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−
1,1−ジオキシドの合成 エステル化合物1.0gとNBS0.71gの四塩化炭
素10ml懸濁液にAIBN0.1gを加え、16時間
加熱還流した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルにて
抽出し、炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去
し、目的とするブロモ体1.3gを得た。 (3)4−クロロ−5−エトキシカルボニルベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドの合成 ブロモ体2.1gの塩化メチレン15ml溶液に、室温
でトリエチルアミン1mlの塩化メチレン5ml溶液を
滴下した。室温で1.5時間攪拌した後、5%塩酸を加
え、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を減圧下留去し、目的とするベンゾチオフェ
ン化合物1.7gを得た。
【0042】(4)4−クロロ−5−エトキシカルボニ
ル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオフェ
ン−1,1−ジオキシドの合成 ベンゾチオフェン化合物4.0gとTBABの塩化メチ
レン30ml溶液に室温で、メタンチオールナトリウム
塩の15%水溶液10mlを加え、4時間攪拌した。反
応混合液に水を加え、塩化メチレンで抽出し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた
粗精製物をカラムクロマトグラフィーで精製し、目的と
するスルフィド化合物2.3gを得た。 (5)4−クロロ−5−オキシカルボニル−2−メチル
チオ−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジ
オキシドの合成 スルフィド化合物2.5gの塩化メチレン12.4m
l、メタノール12.4ml、水6.2mlの混合溶液
に、室温で水酸化リチウム一水和物0.39gを加え、
4時間攪拌した。反応混合液に5%塩酸を加え、酢酸エ
チルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
減圧下留去し、目的とするカルボン酸化合物2.2gを
得た。得られたカルボン酸化合物を1H−NMR[pp
m;アセトン−d6(TMS標準)]分析した結果、2.4
3(3H,s), 3.17(1H,dd), 3.87(1H,dd), 4.79(1H,dd), 7.
83(1H,d), 8.05(1H,d) に吸収が観測された。これらの
結果より、得られた化合物は、4−クロロ−5−オキシ
カルボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾ
チオフェン−1,1−ジオキシドであることを確認し
た。
【0043】〔2〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−
(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニ
ル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオ
キシド(化合物No.1)の合成 4−クロロ−5−オキシカルボニル−2−メチルチオ−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシ
ド1.8gの1,2−ジクロロタン10ml懸濁液に塩
化チオニル0.55ml、N,N−ジメチルホルムアミ
ド(DMF)0.05mlを加え、1時間加熱還流し
た。反応混合液の溶媒を減圧下留去し、1,3−シクロ
ヘキサンジオン0.85gのアセトニトリル10ml溶
液を加え、室温でトリエチルアミン2.2mlのアセト
ニトリル5ml溶液を滴下した。反応混合液を室温で2
時間攪拌し、アセトンシアノヒドリン0.1mlを加
え、更に室温で7時間攪拌した。反応混合液に10%水
酸化ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレンで洗浄し、
水層に濃塩酸を加え酸性溶液とした後、塩化メチレンに
て抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下留去し、目的化合物1.6gを得た。上記〔2〕
において得られた生成物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。これらの測定結果により、ここで得ら
れた生成物は、4−クロロ−2−メチルチオ−5−
(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニ
ル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオ
キシド(化合物No.1)であると認められた。
【0044】実施例2 〔1〕4−クロロ−2−エチルチオ−5−(1,3−ジ
オキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3−
ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合
物No.2)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−5
−オキシカルボニル−2−エチルチオ−2,3−ジヒド
ロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシドを用いた他
は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的化合物を得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。 実施例3 〔1〕4−クロロ−2−(2−プロピル)チオ−5−
(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニ
ル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオ
キシド(化合物No.3)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−5
−オキシカルボニル−2−(2−プロピル)チオ−2,
3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシドを
用いた他は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的化合
物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤
外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測
定結果を第1表に示す。
【0045】実施例4 〔1〕4−クロロ−2−(1−プロピル)チオ−5−
(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニ
ル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオ
キシド(化合物No.4)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−5
−オキシカルボニル−2−(1−プロピル)チオ−2,
3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシドを
用いた他は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的化合
物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤
外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測
定結果を第1表に示す。
【0046】実施例5 〔1〕4−クロロ−2−(2−メトキシエチル)チオ−
5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カル
ボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−
ジオキシド(化合物No.5)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−5
−オキシカルボニル−2−(2−メトキシエチル)チオ
−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキ
シドを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様にして、目
的化合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRお
よび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融
点の測定結果を第1表に示す。 実施例6 〔1〕4−クロロ−2−(2,2−ジエトキシエチル)
チオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イ
ル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシド(化合物No.6)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−5
−オキシカルボニル−2−(2,2−ジエトキシエチ
ル)チオ−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1
−ジオキシドを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様に
して、目的化合物を得た。得られた目的化合物の1H−
NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式な
らびに融点の測定結果を第1表に示す。
【0047】実施例7 〔1〕4−クロロ−2−(2−オキソエチル)チオ−5
−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボ
ニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジ
オキシド(化合物No.7)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−5
−オキシカルボニル−2−(2−オキソエチル)チオ−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシ
ドを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的
化合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRおよ
び赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点
の測定結果を第1表に示す。 実施例8 〔1〕4−クロロ−2−(2−メトキシイミノエチル)
チオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イ
ル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシド(化合物No.8)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−5
−オキシカルボニル−2−(2−メトキシイミノエチ
ル)チオ−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1
−ジオキシドを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様に
して、目的化合物を得た。得られた目的化合物の1H−
NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式な
らびに融点の測定結果を第1表に示す。
【0048】実施例9 〔1〕4−クロロ−2−(2−ヒドロキシイミノエチ
ル)チオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−
イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシド(化合物No.9)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−5
−オキシカルボニル−2−(2−ヒドロキシイミノエチ
ル)チオ−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1
−ジオキシドを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様に
して、目的化合物を得た。得られた目的化合物の1H−
NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式な
らびに融点の測定結果を第1表に示す。
【0049】実施例10 〔1〕4−メチル−2−メチルチオ−5−(1,3−ジ
オキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3−
ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合
物No.10)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−メチル−5
−オキシカルボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒド
ロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシドを用いた他
は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的化合物を得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。 実施例11 〔1〕2−メチルチオ−4−トリフルオロメチル−5−
(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニ
ル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオ
キシド(化合物No.11)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−4−トリフルオロメチル−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシ
ドを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的
化合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRおよ
び赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点
の測定結果を第1表に示す。 実施例12 〔1〕4−メトキシ−2−メチルチオ−5−(1,3−
ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3
−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化
合物No.12)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−メトキシ−
5−オキシカルボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−1,1−ジオキシドを用いた他
は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的化合物を得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。
【0050】実施例13 〔1〕4−クロロ−2−メトキシ−5−(1,3−ジオ
キソシクロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3−ジ
ヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合物
No.13)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン−1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2
−メトキシ−5−オキシカルボニル−2,3−ジヒドロ
ベンゾチオフェン−1,1−ジオキシドを用いた他は、
実施例1の〔2〕と同様にして、目的化合物を得た。得
られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクト
ル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1
表に示す。 実施例14 〔1〕4−クロロ−2−メトキシ−5−(4,4−ジメ
チル−1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カル
ボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−
ジオキシド(化合物No.14)の合成 実施例1の〔2〕で用いた1,3−シクロヘキサンジオ
ンに代えて、4,4−ジメチル−1,3−シクロヘキサ
ンジオンを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様にし
て、目的化合物を得た。得られた目的化合物の1H−N
MRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式なら
びに融点の測定結果を第1表に示す。
【0051】実施例15 〔1〕4−クロロ−2−メタンスルホニル−5−(1,
3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニル−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシ
ド(化合物No.15)の合成 実施例1の〔2〕で得られた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシド1.0gの酢酸5ml溶液に30%過酸
化水素水溶液0.6mlを加え、60℃で2時間加熱攪
拌した。反応混合液に水を加え、析出した固体を濾取、
乾燥させ、目的化合物1.0gを得た。得られた目的化
合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、
化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示す。 実施例16 〔1〕4−クロロ−2−(1−プロパン)スルホニル−
5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カル
ボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−
ジオキシド(化合物No.16)の合成 実施例15の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−(1−プロ
ピル)チオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2
−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェ
ン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例15の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。
【0052】実施例17 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−(3−クロロ
−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)カルボ
ニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジ
オキシド(化合物No.17)の合成 実施例1の〔2〕で得られた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシド1.0gの1,2−ジクロロエタン5m
l溶液にオキサリルクロリド0.36gとDMF0.0
5mlを加え、60℃で1時間加熱攪拌した。溶媒を減
圧下留去し、得られた粗精製物をカラムクロマトグラフ
ィーで精製し、目的化合物1.0gを得た。得られた目
的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。 実施例18 〔1〕4−クロロ−2−メタンスルホニル−5−(3−
クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン1,1
−ジオキシド(化合物No.18)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−メタンスル
ホニル−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イ
ル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例17の〔1〕
と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的化合物
1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学
構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示す。
【0053】実施例19 〔1〕4−クロロ−2−エチルチオ−5−(3−クロロ
−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)カルボ
ニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジ
オキシド(化合物No.19)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−エチルチオ
−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カ
ルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1
−ジオキシドを用いた他は、実施例17の〔1〕と同様
にして、目的化合物を得た。得られた目的化合物の1
−NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式
ならびに融点の測定結果を第1表に示す。 実施例20 〔1〕4−クロロ−2−エタンスルホニル−5−(3−
クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン1,1
−ジオキシド(化合物No.20)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−エタンスル
ホニル−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イ
ル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例17の〔1〕
と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的化合物
1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学
構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示す。
【0054】実施例21 〔1〕4−クロロ−2−(2−プロピル)チオ−5−
(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−
イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシド(化合物No.21)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−(2−プロ
ピル)チオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2
−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェ
ン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例17の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。 実施例22 〔1〕4−クロロ−2−(2−プロパン)スルホニル−
5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−
2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフ
ェン 1,1−ジオキシド(化合物No.22)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−(2−プロ
パン)スルホニル−5−(1,3−ジオキソシクロヘキ
サ−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例1
7の〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた
目的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析
結果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。
【0055】実施例23 〔1〕4−クロロ−2−(1−プロピル)チオ−5−
(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−
イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシド(化合物No.23)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−(2−プロ
ピル)チオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2
−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェ
ン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例17の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。 実施例24 〔1〕4−クロロ−2−(1−プロパン)スルホニル−
5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−
2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフ
ェン 1,1−ジオキシド(化合物No.24)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−(1−プロ
パン)スルホニル−5−(1,3−ジオキソシクロヘキ
サ−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例1
7の〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた
目的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析
結果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。
【0056】実施例25 〔1〕4−クロロ−2−(2−メトキシエチル)チオ−
5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−
2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフ
ェン 1,1−ジオキシド(化合物No.25)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−(2−メト
キシエチル)チオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキ
サ−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例1
7の〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた
目的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析
結果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。 実施例26 〔1〕4−クロロ−2−(2−メトキシエタン)スルホ
ニル−5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキ
セン−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾ
チオフェン1,1−ジオキシド(化合物No.26)の
合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−(2−メト
キシエタン)スルホニル−5−(1,3−ジオキソシク
ロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベ
ンゾチオフェン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実
施例17の〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得
られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクト
ル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1
表に示す。
【0057】実施例27 〔1〕4−クロロ−2−(メトキシカルボニルメチル)
チオ−5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキ
セン−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾ
チオフェン1,1−ジオキシド(化合物No.27)の
合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−(メトキシ
カルボニルメチル)チオ−5−(1,3−ジオキソシク
ロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベ
ンゾチオフェン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実
施例17の〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得
られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクト
ル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1
表に示す。 実施例28 〔1〕4−クロロ−2−メタンスルフィニル−5−(3
−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イ
ル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシド(化合物No.28)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−2−メタンスル
フィニル−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−
イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例17の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。
【0058】実施例29 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(4−
メチルフェニル)チオ−1−オキソ−2−シクロヘキセ
ン−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン1,1−ジオキシド(化合物No.29)の合
成 実施例17の〔1〕で得られた4−クロロ−2−メチル
チオ−5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキ
セン−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾ
チオフェン 1,1−ジオキシド0.50gと4−メチ
ルベンゼンチオール.16gの塩化メチレン5ml溶液
に室温でトリエチルアミン0.20mlを滴下した。室
温で1時間攪拌した後、溶媒を減圧下留去し、得られた
粗精製物をカラムクロマトグラフィーで精製し、目的化
合物0.50gを得た。得られた目的化合物の1H−N
MRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式なら
びに融点の測定結果を第1表に示す。 実施例30 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−(3−エチル
チオ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)カ
ルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン1,1−
ジオキシド(化合物No.30)の合成 実施例29の〔1〕で用いた4−メチルベンゼンチオー
ルに代えて、エタンチオールを用いた他は、実施例29
の〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目
的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。
【0059】実施例31 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(2−
ヒドロキシエチル)チオ−1−オキソ−2−シクロヘキ
セン−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾ
チオフェン 1,1−ジオキシド(化合物No.31)
の合成 実施例29の〔1〕で用いた4−メチルベンゼンチオー
ルに代えて、2−ヒドロキシエタンチオールを用いた他
は、実施例29の〔1〕と同様にして、目的化合物を得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。 実施例32 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(2−
シアノエチル)チオ−1−オキソ−2−シクロヘキセン
−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン 1,1−ジオキシド(化合物No.32)の合
成 実施例29の〔1〕で用いた4−メチルベンゼンチオー
ルに代えて、2−シアノエタンチオールを用いた他は、
実施例29の〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。
得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペク
トル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第
1表に示す。
【0060】実施例33 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(2−
ヒドロキシ−1−プロピル)チオ−1−オキソ−2−シ
クロヘキセン−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒド
ロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合物N
o.33)の合成 実施例29の〔1〕で用いた4−メチルベンゼンチオー
ルに代えて、2−ヒドロキシ−1−プロパンチオールを
用いた他は、実施例29の〔1〕と同様にして、目的化
合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび
赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の
測定結果を第1表に示す。 実施例34 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(2−
アセトキシエチル)チオ−1−オキソ−2−シクロヘキ
セン−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾ
チオフェン 1,1−ジオキシド(化合物No.34)
の合成 実施例29の〔1〕で用いた4−メチルベンゼンチオー
ルに代えて、2−アセトキシエタンチオールを用いた他
は、実施例29の〔1〕と同様にして、目的化合物を得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。
【0061】実施例35 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(1−
メチルイミダゾール−2−イル)チオ−1−オキソ−2
−シクロヘキセン−2−イル]カルボニル−2,3−ジ
ヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合物
No.35)の合成 実施例29の〔1〕で用いた4−メチルベンゼンチオー
ルに代えて、2−メルカプト−1−メチルイミダゾール
を用いた他は、実施例29の〔1〕と同様にして、目的
化合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRおよ
び赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点
の測定結果を第1表に示す。 実施例36 〔1〕4−クロロ−2−(2−メトキシエタン)スルホ
ニル−5−[3−(2−ヒドロキシエチル)チオ−1−
オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル]カルボニル−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシ
ド(化合物No.36)の合成 実施例31の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセ
ン−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−
2−(2−メトキシエタン)スルホニル−5−(3−ク
ロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)カ
ルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1
−ジオキシドを用いた他は、実施例31の〔1〕と同様
にして、目的化合物を得た。得られた目的化合物の1
−NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式
ならびに融点の測定結果を第1表に示す。
【0062】実施例37 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−(3−エトキ
シ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル]カル
ボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−
ジオキシド(化合物No.37)の合成 実施例1の〔2〕で得られた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシド1.0gの塩化メチレン10ml溶液に
氷冷下ジエチルアミノサルファートリフルオリド0.5
2mlを滴下した。室温で1時間攪拌した後、反応混合
液を飽和重曹水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥させた。溶媒を減圧下留去した後、得られた粗精製物
をメタノールから再結晶し、目的化合物0.62gを得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。 実施例38 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(4,
5−ジヒドロピラゾール−1−イル)−1−オキソ−2
−シクロヘキセン−2−イル]カルボニル−2,3−ジ
ヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合物
No.38)の合成 実施例17の〔1〕で得られた4−クロロ−2−メチル
チオ−5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキ
セン−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾ
チオフェン 1,1−ジオキシド0.50gの塩化メチ
レン5ml溶液に室温で4,5−ジヒドロピラゾール
0.18gを加えた。室温で1時間攪拌した後、溶媒を
減圧下留去し、得られた粗精製物をカラムクロマトグラ
フィーで精製し、目的化合物0.39gを得た。得られ
た目的化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分
析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に
示す。
【0063】実施例39 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(ピラ
ゾール−1−イル)−1−オキソ−2−シクロヘキセン
−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン 1,1−ジオキシド(化合物No.39)の合
成 実施例38の〔1〕で用いた4,5−ジヒドロピラゾー
ルに代えて、ピラゾールを用いた他は、実施例38の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。 実施例40 〔1〕4−クロロ−2−メチルチオ−5−[3−(ビス
−メトキシカルボニル)メチル−1−オキソ−2−シク
ロヘキセン−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒドロ
ベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合物No.
40)の合成 60重量%水素化ナトリウム0.15gベンゼン8ml
懸濁液にマロン酸ジメチル0.49gを室温で加えた。
室温で30分攪拌した後、実施例17の〔1〕で得られ
た4−クロロ−2−メチルチオ−5−(3−クロロ−1
−オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)カルボニル
−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン1,1−ジオキシ
ド0.50gを加え、2時間加熱還流した。反応混合液
に酢酸エチルを加え、5%塩酸水溶液で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧下留去し、得ら
れた粗精製物をカラムクロマトグラフィーで精製し、目
的化合物0.43gを得た。得られた目的化合物の1
−NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式
ならびに融点の測定結果を第1表に示す。
【0064】実施例41 〔1〕4−ブロモ−2−メチルチオ−5−(1,3−ジ
オキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3−
ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合
物No.41)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−ブロモ−5
−オキシカルボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒド
ロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシドを用いた他
は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的化合物を得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。 実施例42 〔1〕4−ヨード−2−メチルチオ−5−(1,3−ジ
オキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3−
ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合
物No.42)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−ヨード−5
−オキシカルボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒド
ロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシドを用いた他
は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的化合物を得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。
【0065】実施例43 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−メチルチオ−5−
(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニ
ル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオ
キシド(化合物No.43)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−7
−メチル−5−オキシカルボニル−2−メチルチオ−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシ
ドを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的
化合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRおよ
び赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点
の測定結果を第1表に示す。 実施例44 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−エチルチオ−5−
(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カルボニ
ル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオ
キシド(化合物No.44)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−7
−メチル−5−オキシカルボニル−2−エチルチオ−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシ
ドを用いた他は、実施例1の〔2〕と同様にして、目的
化合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRおよ
び赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点
の測定結果を第1表に示す。
【0066】実施例45 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−(2−メトキシエ
チル)チオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2
−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェ
ン 1,1−ジオキシド(化合物No.45)の合成 実施例1の〔2〕で用いた4−クロロ−5−オキシカル
ボニル−2−メチルチオ−2,3−ジヒドロベンゾチオ
フェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−7
−メチル−5−オキシカルボニル−2−(2−メトキシ
エチル)チオ−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例1の〔2〕と
同様にして、目的化合物を得た。得られた目的化合物の
1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結果、化学構
造式ならびに融点の測定結果を第1表に示す。 実施例46 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−メタンスルホニル
−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カ
ルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン1,1−
ジオキシド(化合物No.46)の合成 実施例15の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−7−メチル−2
−メチルチオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−
2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフ
ェン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例15の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。
【0067】実施例47 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−エタンスルホニル
−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)カ
ルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン1,1−
ジオキシド(化合物No.47)の合成 実施例15の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−7−メチル−2
−エチルチオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−
2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフ
ェン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例15の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。 実施例48 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−(2−メトキシエ
タン)スルホニル−5−(1,3−ジオキソシクロヘキ
サ−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン 1,1−ジオキシド(化合物No.48)の
合成 実施例15の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−7−メチル−2
−(2−メトキシエチル)チオ−5−(1,3−ジオキ
ソシクロヘキサ−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒ
ドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシドを用いた他
は、実施例15の〔1〕と同様にして、目的化合物を得
た。得られた目的化合物の1H−NMRおよび赤外線ス
ペクトル分析結果、化学構造式ならびに融点の測定結果
を第1表に示す。
【0068】実施例49 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−メチルチオ−5−
(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセン−2−
イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン
1,1−ジオキシド(化合物No.49)の合成 実施例17の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−2−イル)
カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,
1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−7−メチル−2
−メチルチオ−5−(1,3−ジオキソシクロヘキサ−
2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチオフ
ェン 1,1−ジオキシドを用いた他は、実施例17の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。 実施例50 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−メチルチオ−5−
[3−(2−ヒドロキシエチル)チオ−1−オキソ−2
−シクロヘキセン−2−イル]カルボニル−2,3−ジ
ヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合物
No.50)の合成 実施例31の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセ
ン−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−
7−メチル−2−メチルチオ−5−(3−クロロ−1−
オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)カルボニル−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシ
ドを用いた他は、実施例31の〔1〕と同様にして、目
的化合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRお
よび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融
点の測定結果を第1表に示す。
【0069】実施例51 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−メチルチオ−5−
[3−(2−クロロアセトキシエチル)チオ−1−オキ
ソ−2−シクロヘキセン−2−イル]カルボニル−2,
3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド
(化合物No.51)の合成 実施例29の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセ
ン−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−
7−メチル−2−メチルチオ−5−(3−クロロ−1−
オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)カルボニル−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシ
ドを、4−メチルベンゼンチオールに代えて、2−クロ
ロアセトキシエタンチオール用いた他は、実施例29の
〔1〕と同様にして、目的化合物を得た。得られた目的
化合物の1H−NMRおよび赤外線スペクトル分析結
果、化学構造式ならびに融点の測定結果を第1表に示
す。 実施例52 〔1〕4−クロロ−7−メチル−2−メチルチオ−5−
[3−(ピラゾール−1−イル)−1−オキソ−2−シ
クロヘキセン−2−イル]カルボニル−2,3−ジヒド
ロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシド(化合物N
o.52)の合成 実施例39の〔1〕で用いた4−クロロ−2−メチルチ
オ−5−(3−クロロ−1−オキソ−2−シクロヘキセ
ン−2−イル)カルボニル−2,3−ジヒドロベンゾチ
オフェン 1,1−ジオキシドに代えて、4−クロロ−
7−メチル−2−メチルチオ−5−(3−クロロ−1−
オキソ−2−シクロヘキセン−2−イル)カルボニル−
2,3−ジヒドロベンゾチオフェン 1,1−ジオキシ
ドを用いた他は、実施例31の〔1〕と同様にして、目
的化合物を得た。得られた目的化合物の1H−NMRお
よび赤外線スペクトル分析結果、化学構造式ならびに融
点の測定結果を第一表に示す。
【0070】
【表1】
【0071】
【表2】
【0072】
【表3】
【0073】
【表4】
【0074】
【表5】
【0075】
【表6】
【0076】
【表7】
【0077】
【表8】
【0078】
【表9】
【0079】
【表10】
【0080】
【表11】
【0081】除草剤実施例 〔1〕除草剤組成物の調製 担体としてタルク57重量部およびベントナイト40重
量部を用い、界面活性剤としてアルキルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム3重量部を用い、これらを均一に粉砕混
合して、水和剤用の担体を得た。ついで、この水和剤用
担体90重量部に、製造実施例で得られたベンゾチオフ
ェン誘導体10重量部を加えて、均一に粉砕混合するこ
とにより、除草剤組成物を得た。 〔2〕除草試験 (1)湛水試験/移植3日後処理試験 1/2000アールのワグナルポットに、水田土壌を充
填してその表層に、イヌホタルイの種子を播種し、さら
に、この土壌に2.5葉期の稲苗を移植した。つぎに、
このポット内の湛水深さを3cmとして、ポットを20
〜25℃に温度調節されている温室内に入れ、植物の生
育条件下にこれらを育成した。そして、稲苗の移植後3
日目に、上記〔1〕で調製した除草剤組成物を所定量加
えて処理をした。この薬剤処理をした後30日目に、除
草効果および水稲への薬害をを観察した。結果を第2表
に示す。
【0082】(2)湛水試験/移植10日後処理試験 1/2000アールのワグネルポットに、水田土壌を充
填してその表層に、イヌホタルイの種子を播種し、さら
に、この土壌に2.5葉期の稲苗を移植した。つぎに、
このポット内の湛水深さを3cmとして、ポットを20
〜25℃に温度調節されている温室内に入れ、植物を育
成した。そして、稲苗の移植後10日目に、上記〔1〕
で調製した除草剤組成物を所定量加えて処理をした。こ
の薬剤処理をした後30日目に、除草効果および水稲へ
の薬害を観察した。結果を第2表に示す。
【0083】上記除草試験(1)及び(2)における除
草効果及び薬害は、下記の基準にしたがって求めた。 (a)殺草率 薬剤処理区の地上部生草重量と、無処理区の地上部生草
重量を測定し、殺草率(%)=〔1−(薬剤処理区の地
上部生草重量)/(無処理区の地上部生草重量)〕×1
00の式によって、殺草率(%)を算出した。
【0084】(b)除草効果 下記の判定基準にしたがって、除草効果を求めた。除草効果 殺草率 0 5%未満(ほとんど効果なし) 1 5%以上〜20%未満 2 20%以上〜40%未満 3 40%以上〜70%未満 4 70%以上〜90%未満 5 90%以上(ほとんど完全枯死)
【0085】(c)薬害 下記の判定基準にしたがって、薬害を求めた。薬害 薬害の程度 0 薬害は認められず 1 薬害はほとんど認められず 2 薬害が若干認められる 3 薬害が認められる 4 薬害が顕著に認められる 5 ほとんど完全枯死
【0086】除草剤比較例 除草剤実施例の〔1〕除草剤組成物の調製において、本
発明のベンゾチオフェン誘導体の代わりに、下記構造の
化合物(A)〔国際公開00/20408号公報記載の
化合物〕及び化合物(B)〔SB−500(エス・ディ
ー・エス・バイオテック社の開発番号)〕をそれぞれ用
いた以外は、除草剤実施例と同様に実施した。結果を第
3表に示す。
【0087】
【化14】
【0088】
【表12】
【0089】
【表13】
【0090】
【表14】
【0091】
【発明の効果】本発明のベンゾチオフェン誘導体は、除
草剤の有効成分として使用すると、水稲などの栽培作物
に対する薬害が少なく、かつ広範囲な雑草を低薬量で防
除することができるという優れた効果が得られる。該ベ
ンゾチオフェン誘導体を含む本発明の除草剤組成物は、
特に水稲用として好適である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H011 AB02 BA01 BB08 BB09 BC07 BC20 DA15 DC03 DC05 DD01

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1〜R6は、それぞれ水素原子、ハロゲン原
    子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロ
    アルキル基を示し、R1〜R6の中から選択される二つの
    置換基がたがいに結合してシクロヘキセン環と合わせて
    ビシクロ環を形成していてもよく、R7は置換基を有し
    ていてもよい炭素数1〜6のアルキル基を示す。Qは水
    酸基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよい、
    炭素数1〜6のアルコキシル基、炭素数1〜6のアルキ
    ルチオ基、炭素数1〜6のアルキルスルフィニル基、炭
    素数1〜6のアルキルスルホニル基、フェノキシ基、フ
    ェニルチオ基、フェニルスルフィニル基、フェニルスル
    ホニル基、炭素数2〜12のジアルキルアミノ基、炭素
    数2〜12のN−アルコキシアルキルアミノ基、窒素原
    子で接続される5員若しくは6員の含窒素複素環式残基
    又は5員若しくは6員の複素環式スルフィド基、あるい
    はα位で接続されるマロン酸エステル残基、α位で接続
    されるβ−ケトエステル残基又はα位で接続されるβ−
    ジケトン残基を示す。Xはハロゲン原子、ニトロ基、シ
    アノ基、R8、OR8、SR8、SO28又はNR89
    示す。R8及びR9は、それぞれ水素原子、あるいは置換
    基を有していてもよい、炭素数1〜6のアルキル基、炭
    素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル
    基、フェニル基又はベンジル基を示し、NR89におい
    て、R8とR9はたがいに同一であっても異なっていても
    よく、またR8とR9は、たがいに結合して環構造を形成
    していてもよい。YはO、S、SO又はSO2、nは
    0,1又は2、pは1又は2を示す。)で表されるベン
    ゾチオフェン誘導体。
  2. 【請求項2】 一般式(I−a) 【化2】 (式中、R1〜R7、Q、X、Y、n及びpは前記と同じ
    である。)で表される構造を有する請求項1記載のベン
    ゾチオフェン誘導体。
  3. 【請求項3】 nが2である請求項1又は2記載のベン
    ゾチオフェン誘導体。
  4. 【請求項4】 R1〜R6が、いずれも水素原子である請
    求項1,2又は3記載のベンゾチオフェン誘導体。
  5. 【請求項5】 Xが塩素原子、臭素原子、ニトロ基、シ
    アノ基又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6のア
    ルキル基である請求項1ないし4のいずれかに記載のベ
    ンゾチオフェン誘導体。
  6. 【請求項6】 YがS、SO又はSO2である請求項1
    ないし5のいずれかに記載のベンゾチオフェン誘導体。
  7. 【請求項7】 QがOHである請求項1ないし6のいず
    れかに記載のベンゾチオフェン誘導体。
  8. 【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかに記載のベ
    ンゾチオフェン誘導体を有効成分として含むことを特徴
    とする除草剤組成物。
  9. 【請求項9】 水稲用である請求項8記載の除草剤組成
    物。
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