JP2002096004A - 塗工装置 - Google Patents
塗工装置Info
- Publication number
- JP2002096004A JP2002096004A JP2000286892A JP2000286892A JP2002096004A JP 2002096004 A JP2002096004 A JP 2002096004A JP 2000286892 A JP2000286892 A JP 2000286892A JP 2000286892 A JP2000286892 A JP 2000286892A JP 2002096004 A JP2002096004 A JP 2002096004A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier gas
- coating
- passage
- coating solution
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Nozzles (AREA)
- Special Spraying Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】基材に、欠陥となる大きな塗工溶液粒子を塗着
させないようにすること。 【解決手段】基材通路Ｒに臨む噴出口３と、塗工溶液Ｄ
を霧状にする霧化装置４と、上流側の該霧化装置４から
下流側の噴出口３へ至る搬送ガス用通路５と、搬送ガス
用通路５の上流側へ搬送ガスＧを供給する搬送ガス供給
装置６とを備え、搬送ガス用通路５の途中にバッフル板
７が設けられ、搬送ガス用通路５を通過する際にバッフ
ル板７で捕捉されない小粒の塗工溶液粒子Ｅを搬送ガス
Ｇと共に噴出口３へ導くようにしたこと。
させないようにすること。 【解決手段】基材通路Ｒに臨む噴出口３と、塗工溶液Ｄ
を霧状にする霧化装置４と、上流側の該霧化装置４から
下流側の噴出口３へ至る搬送ガス用通路５と、搬送ガス
用通路５の上流側へ搬送ガスＧを供給する搬送ガス供給
装置６とを備え、搬送ガス用通路５の途中にバッフル板
７が設けられ、搬送ガス用通路５を通過する際にバッフ
ル板７で捕捉されない小粒の塗工溶液粒子Ｅを搬送ガス
Ｇと共に噴出口３へ導くようにしたこと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材通路を走行す
る基材に、霧状の塗工溶液粒子を塗着させる塗工装置の
改良に関する。
る基材に、霧状の塗工溶液粒子を塗着させる塗工装置の
改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の塗工装置としては、基材通路に
臨む噴出口と、塗工溶液を霧状にする霧化装置と、上流
側の該霧化装置から下流側の該噴出口へ至る搬送ガス用
通路と、該搬送ガス用通路の上流側へ搬送ガスを供給す
る搬送ガス供給装置とを備え、霧化装置で生成した霧状
の塗工溶液粒子を、搬送ガスで搬送して噴出口から噴出
して、基材通路を走行する基材の表面に塗着させて塗膜
を形成するものがある（特開平９−９９４号公報参
照）。
臨む噴出口と、塗工溶液を霧状にする霧化装置と、上流
側の該霧化装置から下流側の該噴出口へ至る搬送ガス用
通路と、該搬送ガス用通路の上流側へ搬送ガスを供給す
る搬送ガス供給装置とを備え、霧化装置で生成した霧状
の塗工溶液粒子を、搬送ガスで搬送して噴出口から噴出
して、基材通路を走行する基材の表面に塗着させて塗膜
を形成するものがある（特開平９−９９４号公報参
照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】霧化装置は、生成した
塗工溶液粒子の大きさに、不揃いを生じさせることがあ
る。この場合には、基材に大きな粒子が点状に塗着し
て、塗工の欠陥となることがある。
塗工溶液粒子の大きさに、不揃いを生じさせることがあ
る。この場合には、基材に大きな粒子が点状に塗着し
て、塗工の欠陥となることがある。
【０００４】本発明は、この問題を解決するために、基
材に大きな塗工溶液粒子を塗着させない塗工装置の提供
を目的とする。
材に大きな塗工溶液粒子を塗着させない塗工装置の提供
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】基材に大きな塗工溶液粒
子を塗着させないために請求項１記載の本発明が採用し
た手段は、基材通路に臨む噴出口と、塗工溶液を霧状に
する霧化装置と、上流側の該霧化装置から下流側の該噴
出口へ至る搬送ガス用通路と、該搬送ガス用通路の上流
側へ搬送ガスを供給する搬送ガス供給装置と、を備えた
塗工装置において、前記搬送ガス用通路の途中にバッフ
ル板が設けられ、前記搬送ガス用通路を通過する際に該
バッフル板で捕捉されない小粒の塗工溶液粒子を搬送ガ
スと共に前記噴出口へ導くようにしたことを特徴とする
塗工装置である。
子を塗着させないために請求項１記載の本発明が採用し
た手段は、基材通路に臨む噴出口と、塗工溶液を霧状に
する霧化装置と、上流側の該霧化装置から下流側の該噴
出口へ至る搬送ガス用通路と、該搬送ガス用通路の上流
側へ搬送ガスを供給する搬送ガス供給装置と、を備えた
塗工装置において、前記搬送ガス用通路の途中にバッフ
ル板が設けられ、前記搬送ガス用通路を通過する際に該
バッフル板で捕捉されない小粒の塗工溶液粒子を搬送ガ
スと共に前記噴出口へ導くようにしたことを特徴とする
塗工装置である。
【０００６】請求項１記載の本発明にあっては、霧化装
置で生成した霧状の塗工溶液粒子は、搬送ガスに同伴さ
れて搬送ガス用通路を通過する際に、バッフル板で大き
な粒子が捕捉され、小さな粒子のみが通過して噴出口へ
至り、基材通路を走行する基材の表面に塗着する。
置で生成した霧状の塗工溶液粒子は、搬送ガスに同伴さ
れて搬送ガス用通路を通過する際に、バッフル板で大き
な粒子が捕捉され、小さな粒子のみが通過して噴出口へ
至り、基材通路を走行する基材の表面に塗着する。
【０００７】間欠塗工ができるようにするために請求項
２記載の本発明が採用した手段は、前記噴出口を開閉す
るためのシャッターと、シャッターを開閉するための開
閉操作具と、を備えた請求項１記載の塗工装置である。
２記載の本発明が採用した手段は、前記噴出口を開閉す
るためのシャッターと、シャッターを開閉するための開
閉操作具と、を備えた請求項１記載の塗工装置である。
【０００８】請求項２記載の本発明にあっては、噴出口
が開いているときには、噴出口へ至った霧状の塗工溶液
粒子を基材の表面に塗着して塗膜を形成し、噴出口がシ
ャッターで閉じているときには、霧状の塗工溶液粒子の
移動をシャッターで阻止し、基材の表面に塗膜の無い領
域を形成する。
が開いているときには、噴出口へ至った霧状の塗工溶液
粒子を基材の表面に塗着して塗膜を形成し、噴出口がシ
ャッターで閉じているときには、霧状の塗工溶液粒子の
移動をシャッターで阻止し、基材の表面に塗膜の無い領
域を形成する。
【０００９】噴出口の回りを綺麗にして安定した塗工を
確保するために請求項３記載の本発明が採用した手段
は、前記噴出口から前記基材通路へ至る噴出空間の外側
に、該噴出空間に臨む吸引口を備えた請求項１又は２記
載の塗工装置である。
確保するために請求項３記載の本発明が採用した手段
は、前記噴出口から前記基材通路へ至る噴出空間の外側
に、該噴出空間に臨む吸引口を備えた請求項１又は２記
載の塗工装置である。
【００１０】請求項３記載の本発明にあっては、塗着さ
せる霧状の塗工溶液粒子の搬送を終えて不要となった搬
送ガスを、吸引口へ吸引して噴出空間から排除する。
せる霧状の塗工溶液粒子の搬送を終えて不要となった搬
送ガスを、吸引口へ吸引して噴出空間から排除する。
【００１１】基材の幅方向に亘って塗工ができるように
するために請求項４記載の本発明が採用した手段は、前
記噴出口は、前記基材通路の横断方向に延設され、前記
霧化装置は、該横断方向に延びる液槽と、該液槽内に超
音波を該横断方向に亘って発する超音波装置とを備え、
前記バッフル板は、前記噴出口と該液槽との間に設けら
れて該横断方向に延びるものである請求項１，２又は３
記載の塗工装置である。噴出口は、前記基材通路の横断
方向に延設するスリット状とすることもある。また、霧
状の塗工溶液の生成を安定させるために、前記液槽の液
面高さを調節する液面調節具を備えることもある。
するために請求項４記載の本発明が採用した手段は、前
記噴出口は、前記基材通路の横断方向に延設され、前記
霧化装置は、該横断方向に延びる液槽と、該液槽内に超
音波を該横断方向に亘って発する超音波装置とを備え、
前記バッフル板は、前記噴出口と該液槽との間に設けら
れて該横断方向に延びるものである請求項１，２又は３
記載の塗工装置である。噴出口は、前記基材通路の横断
方向に延設するスリット状とすることもある。また、霧
状の塗工溶液の生成を安定させるために、前記液槽の液
面高さを調節する液面調節具を備えることもある。
【００１２】請求項４記載の本発明にあっては、霧化装
置は、超音波装置から横断方向に延びる液槽内に発せら
れた超音波により横断方向の全域で霧状の塗工溶液粒子
を生成し、生成した霧状の塗工溶液粒子は、搬送ガスに
同伴されて搬送ガス用通路を通過する際に、横断方向に
延びるバッフル板で大きな粒子が横断方向の全域で捕捉
され、小さな粒子のみが通過して、横断方向に延びる噴
出口へ至り、噴出口から基材通路を走行する基材の表面
の横断方向（基材の幅方向）に亘って塗着する。
置は、超音波装置から横断方向に延びる液槽内に発せら
れた超音波により横断方向の全域で霧状の塗工溶液粒子
を生成し、生成した霧状の塗工溶液粒子は、搬送ガスに
同伴されて搬送ガス用通路を通過する際に、横断方向に
延びるバッフル板で大きな粒子が横断方向の全域で捕捉
され、小さな粒子のみが通過して、横断方向に延びる噴
出口へ至り、噴出口から基材通路を走行する基材の表面
の横断方向（基材の幅方向）に亘って塗着する。
【００１３】両面塗工ができるようにするために請求項
５記載の本発明が採用した手段は、縦方向に延びる前記
基材通路の両外側の各々に、請求項１乃至４のいずれか
に記載の塗工装置を設けたことを特徴とする両面塗工装
置である。
５記載の本発明が採用した手段は、縦方向に延びる前記
基材通路の両外側の各々に、請求項１乃至４のいずれか
に記載の塗工装置を設けたことを特徴とする両面塗工装
置である。
【００１４】請求項５記載の本発明にあっては、基材通
路を通過する基材の両面に、両側の塗工装置で霧状の塗
工溶液粒子を塗着できる。
路を通過する基材の両面に、両側の塗工装置で霧状の塗
工溶液粒子を塗着できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る塗工装置を図
面に示す実施の形態に基づいて説明する。
面に示す実施の形態に基づいて説明する。
【００１６】（第１の実施の形態）図１及び図２は本発
明に係る塗工装置の第１の実施の形態を示すものであ
り、図１は右側断面図、図２は図１のＡ−Ａ線で断面し
た正面図である。
明に係る塗工装置の第１の実施の形態を示すものであ
り、図１は右側断面図、図２は図１のＡ−Ａ線で断面し
た正面図である。
【００１７】本実施の形態に係る塗工装置１は、基材Ｗ
の片側の表面に塗工するものであり、バッキングロール
２の表面に形成された基材通路Ｒに臨む噴出口３と、塗
工溶液を霧状にする霧化装置４と、上流側の該霧化装置
４から下流側の噴出口３へ至る搬送ガス用通路５と、搬
送ガス用通路５の上流側へ搬送ガスＧを供給する搬送ガ
ス供給装置６とを備えている。塗工装置１は、搬送ガス
用通路５の途中にバッフル板７が設けられ、搬送ガス用
通路５を通過する際にバッフル板７で捕捉されない小粒
の塗工溶液粒子Ｅを搬送ガスＧと共に噴出口３へ導くよ
うにしてある。霧化装置４で生成した霧状の塗工溶液粒
子Ｅは、搬送ガスＧに同伴されて搬送ガス用通路５を通
過する際に、バッフル板７で大きな粒子が捕捉され、小
さな粒子のみが噴出口３へ至り、基材通路Ｒを走行する
基材Ｗの表面に塗着して塗膜Ｆを形成する。
の片側の表面に塗工するものであり、バッキングロール
２の表面に形成された基材通路Ｒに臨む噴出口３と、塗
工溶液を霧状にする霧化装置４と、上流側の該霧化装置
４から下流側の噴出口３へ至る搬送ガス用通路５と、搬
送ガス用通路５の上流側へ搬送ガスＧを供給する搬送ガ
ス供給装置６とを備えている。塗工装置１は、搬送ガス
用通路５の途中にバッフル板７が設けられ、搬送ガス用
通路５を通過する際にバッフル板７で捕捉されない小粒
の塗工溶液粒子Ｅを搬送ガスＧと共に噴出口３へ導くよ
うにしてある。霧化装置４で生成した霧状の塗工溶液粒
子Ｅは、搬送ガスＧに同伴されて搬送ガス用通路５を通
過する際に、バッフル板７で大きな粒子が捕捉され、小
さな粒子のみが噴出口３へ至り、基材通路Ｒを走行する
基材Ｗの表面に塗着して塗膜Ｆを形成する。
【００１８】前記霧化装置４は、ケーシング９の下半部
に形成した液槽８と、液槽８内に超音波を発する超音波
装置１０とを備え、液槽８内に貯えられている塗工溶液
Ｄに超音波を発して、貯えられている塗工溶液Ｄの表面
から霧状の塗工溶液粒子Ｅを発生するようにしてある。
液槽８は、液面レベルを調節するために、オーバーフロ
ー口１１ａの高さ位置を変更できる液面調節具１１を備
え、霧状の塗工溶液粒子Ｅの発生量を安定するようにし
てある。液槽８は、霧状の塗工溶液粒子Ｅを発生する箇
所と塗工液供給口１２との間に、複数枚の邪魔板１３を
配置して、塗工液供給口１２から供給される塗工溶液の
動きが、塗工溶液粒子Ｅを発生する箇所に貯える塗工溶
液Ｄに影響を及ぼさないようにしてある。霧化装置４
は、液槽８を左右方向に延設すると共に、左右方向に沿
って超音波装置１０を配置することにより、液槽８内に
貯えられている塗工溶液Ｄの表面から左右方向全域に亘
って霧状の塗工溶液粒子Ｅを発生するようにしてある。
に形成した液槽８と、液槽８内に超音波を発する超音波
装置１０とを備え、液槽８内に貯えられている塗工溶液
Ｄに超音波を発して、貯えられている塗工溶液Ｄの表面
から霧状の塗工溶液粒子Ｅを発生するようにしてある。
液槽８は、液面レベルを調節するために、オーバーフロ
ー口１１ａの高さ位置を変更できる液面調節具１１を備
え、霧状の塗工溶液粒子Ｅの発生量を安定するようにし
てある。液槽８は、霧状の塗工溶液粒子Ｅを発生する箇
所と塗工液供給口１２との間に、複数枚の邪魔板１３を
配置して、塗工液供給口１２から供給される塗工溶液の
動きが、塗工溶液粒子Ｅを発生する箇所に貯える塗工溶
液Ｄに影響を及ぼさないようにしてある。霧化装置４
は、液槽８を左右方向に延設すると共に、左右方向に沿
って超音波装置１０を配置することにより、液槽８内に
貯えられている塗工溶液Ｄの表面から左右方向全域に亘
って霧状の塗工溶液粒子Ｅを発生するようにしてある。
【００１９】前記噴出口３は、ケーシング９の上部に開
設され、基材通路Ｒの横断方向（基材Ｗの幅方向）であ
る左右方向に延びるスリット状に形成されている。噴出
口３は、基材Ｗの左右方向の全域に亘って塗工するため
に、連続したスリット状に形成する場合と、基材Ｗの左
右方向の適所に塗工されない無塗工域を基材Ｗの走行方
向に沿って得るために、複数のスリットを断続的に形成
し、隣接するスリットの間に形成した盲部で無塗工域を
得るようにする場合とがある。噴出口３は、前後方向へ
移動自在なシャッター１４と、シャッター１４を開閉移
動させるためのエアーシリンダーやソレノイド等からな
る開閉操作具１５とを設けることもある。噴出口３が開
いているときには、霧状の塗工溶液粒子Ｅを基材Ｗの表
面に塗着して塗膜Ｆを形成し、シャッター１４で噴出口
３が閉じているときには、霧状の塗工溶液粒子Ｅの移動
をシャッター１４で阻止し、基材Ｗの表面に、塗膜の無
い左右方向に延びる無塗工域を形成する。
設され、基材通路Ｒの横断方向（基材Ｗの幅方向）であ
る左右方向に延びるスリット状に形成されている。噴出
口３は、基材Ｗの左右方向の全域に亘って塗工するため
に、連続したスリット状に形成する場合と、基材Ｗの左
右方向の適所に塗工されない無塗工域を基材Ｗの走行方
向に沿って得るために、複数のスリットを断続的に形成
し、隣接するスリットの間に形成した盲部で無塗工域を
得るようにする場合とがある。噴出口３は、前後方向へ
移動自在なシャッター１４と、シャッター１４を開閉移
動させるためのエアーシリンダーやソレノイド等からな
る開閉操作具１５とを設けることもある。噴出口３が開
いているときには、霧状の塗工溶液粒子Ｅを基材Ｗの表
面に塗着して塗膜Ｆを形成し、シャッター１４で噴出口
３が閉じているときには、霧状の塗工溶液粒子Ｅの移動
をシャッター１４で阻止し、基材Ｗの表面に、塗膜の無
い左右方向に延びる無塗工域を形成する。
【００２０】前記バッフル板７は、水平状態又は傾斜状
態の複数枚の構成板７ａ，７ａ，…の組み合わせから構
成され、隣接する構成板７ａ，７ａの間に搬送ガス用通
路５を形成すると共に、霧化装置４で発生した塗工溶液
粒子Ｅの中で、大きな粒子を各構成板７ａで捕捉して搬
送ガス用通路５から除去し、小さな粒子を搬送ガスＧに
同伴させて隣接する構成板７ａ，７ａの間を通過させて
噴出口３へ導くようにしてある。バッフル板７は、左右
方向に延設されていると共に、液槽８における霧状の塗
工溶液粒子Ｅを発生する領域と対面するように配置さ
れ、大きな塗工溶液粒子を効率的に捕捉できるようにし
てある。搬送ガス用通路５は、バッフル板７の左右方向
の全域に形成されることになる。バッフル板７は、捕捉
する塗工溶液粒子Ｅの粒径に応じて、各構成板７ａの形
状及び各構成板７ａの配置する位置が選択される。塗工
装置１は、下方の液槽８と上方の噴出口３との間にバッ
フル板７を配置することにより、液槽８と噴出口３とを
接近させることができ、コンパクトにすることが可能と
なる。
態の複数枚の構成板７ａ，７ａ，…の組み合わせから構
成され、隣接する構成板７ａ，７ａの間に搬送ガス用通
路５を形成すると共に、霧化装置４で発生した塗工溶液
粒子Ｅの中で、大きな粒子を各構成板７ａで捕捉して搬
送ガス用通路５から除去し、小さな粒子を搬送ガスＧに
同伴させて隣接する構成板７ａ，７ａの間を通過させて
噴出口３へ導くようにしてある。バッフル板７は、左右
方向に延設されていると共に、液槽８における霧状の塗
工溶液粒子Ｅを発生する領域と対面するように配置さ
れ、大きな塗工溶液粒子を効率的に捕捉できるようにし
てある。搬送ガス用通路５は、バッフル板７の左右方向
の全域に形成されることになる。バッフル板７は、捕捉
する塗工溶液粒子Ｅの粒径に応じて、各構成板７ａの形
状及び各構成板７ａの配置する位置が選択される。塗工
装置１は、下方の液槽８と上方の噴出口３との間にバッ
フル板７を配置することにより、液槽８と噴出口３とを
接近させることができ、コンパクトにすることが可能と
なる。
【００２１】前記搬送ガス供給装置６は、搬送ガス用通
路５の上流側へ搬送ガスＧを吐出するガス吐出口１６
と、更に上流側に設けた開閉弁付きガス供給管１７と、
ガス吐出口１６とガス供給管１７との間の部屋に配した
整流板１８とを備えている。ガス吐出口１６は、左右方
向に延びるスリット又は多孔板等から形成され、搬送ガ
ス用通路５の左右方向の全域へ均等に搬送用ガスＧを供
給できるようにしてある。
路５の上流側へ搬送ガスＧを吐出するガス吐出口１６
と、更に上流側に設けた開閉弁付きガス供給管１７と、
ガス吐出口１６とガス供給管１７との間の部屋に配した
整流板１８とを備えている。ガス吐出口１６は、左右方
向に延びるスリット又は多孔板等から形成され、搬送ガ
ス用通路５の左右方向の全域へ均等に搬送用ガスＧを供
給できるようにしてある。
【００２２】前記噴出口３から基材通路Ｒへ至る噴出空
間Ｋの前後外側には、吸引箱１９，１９が配置され、噴
出空間Ｋに臨む各吸引口１９ａを開口させてある。各吸
引箱１９は、基材Ｗの表面へ霧状の塗工溶液粒子を塗着
させた後の不要な搬送ガスＧを、吸引口１９ａで吸引し
て噴出空間Ｋから排除することで、噴出空間Ｋに不要な
塗工溶液粒子Ｅを残留させることもなく、噴出口３の回
りを綺麗にして安定した塗工を確保することができる。
間Ｋの前後外側には、吸引箱１９，１９が配置され、噴
出空間Ｋに臨む各吸引口１９ａを開口させてある。各吸
引箱１９は、基材Ｗの表面へ霧状の塗工溶液粒子を塗着
させた後の不要な搬送ガスＧを、吸引口１９ａで吸引し
て噴出空間Ｋから排除することで、噴出空間Ｋに不要な
塗工溶液粒子Ｅを残留させることもなく、噴出口３の回
りを綺麗にして安定した塗工を確保することができる。
【００２３】前記基材Ｗとしては、連続的に延びるプラ
スチックフィルムや金属箔等のシート状のもの以外に、
切断されたプラスチックフィルム板やガラス板等の板状
のもの（図示略）を選択することもある。前記基材通路
Ｒは、シート状の基材Ｗを案内するためにバッキングロ
ール２の表面に形成する以外に、板状の基材Ｗを吸引保
持した状態で搬送する吸引式コンベア等で形成すること
もある。
スチックフィルムや金属箔等のシート状のもの以外に、
切断されたプラスチックフィルム板やガラス板等の板状
のもの（図示略）を選択することもある。前記基材通路
Ｒは、シート状の基材Ｗを案内するためにバッキングロ
ール２の表面に形成する以外に、板状の基材Ｗを吸引保
持した状態で搬送する吸引式コンベア等で形成すること
もある。
【００２４】塗工を開始するときには、前記塗工装置１
は、塗工液供給口１２で供給された塗工溶液を液槽８に
貯めると共に、ガス供給管１７で供給された搬送ガスＧ
を搬送ガス供給路５へ向かって吐出させて準備される。
次に、霧化装置４の超音波装置１０を起動すると、基材
通路の横断方向（左右方向）に延びる液槽内に発せられ
た超音波により横断方向の全域で霧状の塗工溶液粒子Ｅ
を生成する。生成した霧状の塗工溶液粒子Ｅは、搬送ガ
スＧに同伴されて搬送ガス用通路５を通過する際に、横
断方向に延びるバッフル板７で大きな粒子が横断方向の
全域で捕捉され、小さな粒子のみが通過して横断方向に
延びる噴出口３のへ至り、噴出口３の横断方向の全域か
ら搬送ガスＧと共に噴出して、基材通路Ｒを走行する基
材Ｗの表面の横断方向（基材の幅方向）の全域に塗着す
る。
は、塗工液供給口１２で供給された塗工溶液を液槽８に
貯めると共に、ガス供給管１７で供給された搬送ガスＧ
を搬送ガス供給路５へ向かって吐出させて準備される。
次に、霧化装置４の超音波装置１０を起動すると、基材
通路の横断方向（左右方向）に延びる液槽内に発せられ
た超音波により横断方向の全域で霧状の塗工溶液粒子Ｅ
を生成する。生成した霧状の塗工溶液粒子Ｅは、搬送ガ
スＧに同伴されて搬送ガス用通路５を通過する際に、横
断方向に延びるバッフル板７で大きな粒子が横断方向の
全域で捕捉され、小さな粒子のみが通過して横断方向に
延びる噴出口３のへ至り、噴出口３の横断方向の全域か
ら搬送ガスＧと共に噴出して、基材通路Ｒを走行する基
材Ｗの表面の横断方向（基材の幅方向）の全域に塗着す
る。
【００２５】（第２の実施の形態）図３及び図４は本発
明に係る塗工装置の第２の実施の形態を示すものであ
り、図３は右側断面図、図４は図３のＢ−Ｂ線で断面し
た正面図である。
明に係る塗工装置の第２の実施の形態を示すものであ
り、図３は右側断面図、図４は図３のＢ−Ｂ線で断面し
た正面図である。
【００２６】本実施の形態に係る両面塗工用塗工装置２
１は、縦方向に延びる基材通路Ｒの両側の各々に、片面
塗工用の塗工装置２２を設けてある。各塗工装置２２
は、第１の実施の形態に係る前記塗工装置１と同様に、
基材通路Ｒに臨む噴出口３と、塗工溶液を霧状にする霧
化装置４と、上流側の該霧化装置４から下流側の噴出口
３へ至る搬送ガス用通路５と、搬送ガス用通路５の上流
側へ搬送ガスＧを供給する搬送ガス供給装置６と、噴出
口３から基材通路Ｒへ至る噴出空間Ｋに臨む吸引口１９
ａを開口させた吸引箱１９とを備えている。各塗工装置
２１は、搬送ガス用通路５の途中にバッフル板７が設け
られ、搬送ガス用通路５を通過する際にバッフル板７で
捕捉されない小粒の塗工溶液粒子を搬送ガスＧと共に噴
出口３へ導くようにしてある。霧化装置４で生成した霧
状の塗工溶液粒子Ｅは、搬送ガスＧに同伴されて搬送ガ
ス用通路５を通過する際に、バッフル板７で大きな粒子
が捕捉され、小さな粒子のみが噴出口３へ至り、基材通
路Ｒを走行する基材Ｗの表面に塗着して塗膜Ｆを形成す
る。
１は、縦方向に延びる基材通路Ｒの両側の各々に、片面
塗工用の塗工装置２２を設けてある。各塗工装置２２
は、第１の実施の形態に係る前記塗工装置１と同様に、
基材通路Ｒに臨む噴出口３と、塗工溶液を霧状にする霧
化装置４と、上流側の該霧化装置４から下流側の噴出口
３へ至る搬送ガス用通路５と、搬送ガス用通路５の上流
側へ搬送ガスＧを供給する搬送ガス供給装置６と、噴出
口３から基材通路Ｒへ至る噴出空間Ｋに臨む吸引口１９
ａを開口させた吸引箱１９とを備えている。各塗工装置
２１は、搬送ガス用通路５の途中にバッフル板７が設け
られ、搬送ガス用通路５を通過する際にバッフル板７で
捕捉されない小粒の塗工溶液粒子を搬送ガスＧと共に噴
出口３へ導くようにしてある。霧化装置４で生成した霧
状の塗工溶液粒子Ｅは、搬送ガスＧに同伴されて搬送ガ
ス用通路５を通過する際に、バッフル板７で大きな粒子
が捕捉され、小さな粒子のみが噴出口３へ至り、基材通
路Ｒを走行する基材Ｗの表面に塗着して塗膜Ｆを形成す
る。
【００２７】各塗工装置２２の噴出口３、霧化装置４の
液槽８及び超音波発生装置１０、搬送ガス用通路５、搬
送ガス供給装置６及びバッフル板７は、前記塗工装置１
のものと同様に構成されている。
液槽８及び超音波発生装置１０、搬送ガス用通路５、搬
送ガス供給装置６及びバッフル板７は、前記塗工装置１
のものと同様に構成されている。
【００２８】両面塗工用塗工装置２１は、基材通路Ｒを
通過するシート状の基材Ｗの両面に、両側の塗工装置２
２，２２で霧状の塗工溶液粒子Ｅを塗着して、両面に塗
膜Ｆ，Ｆを形成することができる。
通過するシート状の基材Ｗの両面に、両側の塗工装置２
２，２２で霧状の塗工溶液粒子Ｅを塗着して、両面に塗
膜Ｆ，Ｆを形成することができる。
【００２９】
【発明の効果】請求項１記載の本発明は、バッフル板で
大きな塗工溶液粒子を予め除去できるため、基材に大き
な塗工溶液粒子が点状に塗着した欠陥を生じさせること
がなく、塗工品質の向上を図ることができる。
大きな塗工溶液粒子を予め除去できるため、基材に大き
な塗工溶液粒子が点状に塗着した欠陥を生じさせること
がなく、塗工品質の向上を図ることができる。
【００３０】請求項２記載の本発明は、シャッターを開
閉することにより、間欠塗工が容易にできる。
閉することにより、間欠塗工が容易にできる。
【００３１】請求項３記載の本発明は、塗着後に不要と
なった搬送ガスを吸引口で吸引して噴出空間から排除す
るため、噴出空間に不要な塗工溶液粒子を残留させるこ
ともなく、噴出口の回りを常に綺麗にして安定した塗工
を確保することができる。
なった搬送ガスを吸引口で吸引して噴出空間から排除す
るため、噴出空間に不要な塗工溶液粒子を残留させるこ
ともなく、噴出口の回りを常に綺麗にして安定した塗工
を確保することができる。
【００３２】請求項４記載の本発明は、基材の幅方向に
亘って塗工ができる。
亘って塗工ができる。
【００３３】請求項５記載の本発明は、基材の両面に大
きな塗工溶液粒子が点状に塗着した欠陥を生じさせるこ
とがなく、塗工品質の向上を図ることができる。
きな塗工溶液粒子が点状に塗着した欠陥を生じさせるこ
とがなく、塗工品質の向上を図ることができる。
【図１】本発明に係る塗工装置の第１の実施の形態を示
す右側断面図である。
す右側断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線で断面した正面図である。
【図３】本発明に係る塗工装置の第２の実施の形態を示
す右側断面図である。
す右側断面図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ線で断面した正面図である。
Ｒ…基材通路、Ｄ…塗工溶液、Ｇ…搬送ガス、Ｅ…塗工
溶液粒子、３…噴出口、４…霧化装置、５…搬送ガス用
通路、６…搬送ガス供給装置、７…バッフル板
溶液粒子、３…噴出口、４…霧化装置、５…搬送ガス用
通路、６…搬送ガス供給装置、７…バッフル板
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D074 AA01 BB05 DD03 DD12 DD17 4F033 AA01 BA03 CA04 DA01 EA01 EA05 LA09 QA01 QB02Y QB03X QB12Y QB13Y QB18 QC02 QC06 QD02 QD06 QD09 QD14 QE01 QE10 QE14 QE24 QF07Y
Claims (5)
- 【請求項１】基材通路に臨む噴出口と、塗工溶液を霧状
にする霧化装置と、上流側の該霧化装置から下流側の該
噴出口へ至る搬送ガス用通路と、該搬送ガス用通路の上
流側へ搬送ガスを供給する搬送ガス供給装置とを備えた
塗工装置において、前記搬送ガス用通路の途中にバッフ
ル板が設けられ、前記搬送ガス用通路を通過する際に該
バッフル板で捕捉されない小粒の塗工溶液粒子を搬送ガ
スと共に前記噴出口へ導くようにしたことを特徴とする
塗工装置。 - 【請求項２】前記噴出口を開閉するためのシャッター
と、シャッターを開閉するための開閉操作具とを備えた
請求項１記載の塗工装置。 - 【請求項３】前記噴出口から前記基材通路へ至る噴出空
間の外側に、該噴出空間に臨む吸引口を備えた請求項１
又は２記載の塗工装置。 - 【請求項４】前記噴出口は、前記基材通路の横断方向に
延設され、前記霧化装置は、該横断方向に延びる液槽
と、該液槽内に超音波を該横断方向に亘って発する超音
波装置とを備え、前記バッフル板は、前記噴出口と該液
槽との間に設けられて該横断方向に延びるものである請
求項１，２又は３記載の塗工装置。 - 【請求項５】縦方向に延びる前記基材通路の両外側の各
々に、請求項１乃至４のいずれかに記載の塗工装置を設
けたことを特徴とする両面塗工用塗工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000286892A JP2002096004A (ja) | 2000-09-21 | 2000-09-21 | 塗工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000286892A JP2002096004A (ja) | 2000-09-21 | 2000-09-21 | 塗工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002096004A true JP2002096004A (ja) | 2002-04-02 |
Family
ID=18770746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000286892A Pending JP2002096004A (ja) | 2000-09-21 | 2000-09-21 | 塗工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002096004A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019072700A (ja) * | 2017-10-19 | 2019-05-16 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 薄膜製造装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57110357A (en) * | 1980-11-10 | 1982-07-09 | Siemens Ag | Spray device for liquid |
| JPS5861854A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-04-13 | Tokyo Copal Kagaku Kk | エアロゾルの粒子選別移送装置 |
| JPS59115763A (ja) * | 1982-12-21 | 1984-07-04 | Fujitsu Ltd | 超音波フオグ処理装置 |
| JPH0365261A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-20 | Hoechst Ag | 基板を被覆するための方法および装置 |
| JPH03296460A (ja) * | 1990-04-13 | 1991-12-27 | Fujitsu General Ltd | フラックス塗付装置 |
| JPH09994A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-07 | Seiko Epson Corp | 基板のコーティング方法およびその装置、ならびに液晶表示装置用面照明装置 |
-
2000
- 2000-09-21 JP JP2000286892A patent/JP2002096004A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57110357A (en) * | 1980-11-10 | 1982-07-09 | Siemens Ag | Spray device for liquid |
| JPS5861854A (ja) * | 1981-10-06 | 1983-04-13 | Tokyo Copal Kagaku Kk | エアロゾルの粒子選別移送装置 |
| JPS59115763A (ja) * | 1982-12-21 | 1984-07-04 | Fujitsu Ltd | 超音波フオグ処理装置 |
| JPH0365261A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-20 | Hoechst Ag | 基板を被覆するための方法および装置 |
| JPH03296460A (ja) * | 1990-04-13 | 1991-12-27 | Fujitsu General Ltd | フラックス塗付装置 |
| JPH09994A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-07 | Seiko Epson Corp | 基板のコーティング方法およびその装置、ならびに液晶表示装置用面照明装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019072700A (ja) * | 2017-10-19 | 2019-05-16 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 薄膜製造装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4738539B1 (ja) | フィルタ装置、そのフィルタ装置を用いた塗装ブース、そのフィルタ装置を用いた簡易塗装ブース | |
| JPS6133271A (ja) | 基材スプレ被覆システム | |
| JP2003512205A (ja) | 石膏板又は石膏タイルの処理方法 | |
| TWI668053B (zh) | 噴嘴、材料分配系統以及從噴嘴施加材料的方法 | |
| US5849321A (en) | Method and apparatus for spray-coating a paper or board web | |
| JPH0852398A (ja) | 吹付け塗装方法及び吹付け塗装装置 | |
| JP2002096004A (ja) | 塗工装置 | |
| JP5754628B2 (ja) | フィルタ装置、及び、そのフィルタ装置を用いた塗装ブース | |
| JP5515178B2 (ja) | 排気設備 | |
| TWI583818B (zh) | 成膜裝置 | |
| JPH09141170A (ja) | 塗布装置 | |
| JPS62277184A (ja) | 塗布，含浸調整方法 | |
| JPH03226367A (ja) | フラックス噴霧用ノズル | |
| JPH03226368A (ja) | フラックス噴霧装置 | |
| JP2005262703A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
| JPH0918126A (ja) | フラックス塗布装置 | |
| JP2017217582A (ja) | 塗装設備 | |
| JP2006272199A (ja) | 基板乾燥装置 | |
| JP3488109B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH03226369A (ja) | フラックス噴霧用ノズル | |
| JP2014033976A (ja) | 塗装ブース | |
| JPS641020Y2 (ja) | ||
| JP2002273290A (ja) | 筒型ミスト補集フィルターを備えた水溶性塗料の塗装ブース | |
| JPH0659449B2 (ja) | 塗装装置 | |
| JPH0248069A (ja) | 塗装装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070913 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100301 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100817 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101210 |