JP2002090741A - Apparatus and method for manufacturing liquid crystal substrate, liquid crystal device - Google Patents
Apparatus and method for manufacturing liquid crystal substrate, liquid crystal deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置の技術分野
に属し、特に配向膜の製造装置及び形成方法の技術分野
に属する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of a liquid crystal device, and particularly to the technical field of an apparatus and a method for forming an alignment film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶装置は、液晶基板としての対向基板
とＴＦＴアレイ基板との間に液晶層を挟持して構成さ
れ、液晶層に電圧を印加し液晶分子の光学特性を変化さ
せることにより表示を行う。対向基板及びＴＦＴアレイ
基板の液晶層と接する面上には配向膜が形成されてお
り、配向膜により電圧無印加時の液晶分子の配列が決定
される。液晶装置においては、チルトむらによるディス
クリネーションラインなどの発生を防止するために、配
向膜はラビング処理されており、ある一定の方向に液晶
分子を配列させ、かつ電圧無印加時における液晶分子の
長軸が基板に対し数度傾くようにしている。この電圧無
印加時における液晶分子の長軸と基板とがなすプレチル
ト角の設定は表示特性上重要であり、プレチルト角の数
値はラビング処理時のラビング条件以外に、配向膜の膜
厚によっても異なってくる。このため、常に一定した表
示特性を有する液晶装置を安定して得るには、配向膜の
膜厚を一定に保持することが重要となってくる。2. Description of the Related Art A liquid crystal device is constructed by sandwiching a liquid crystal layer between a counter substrate serving as a liquid crystal substrate and a TFT array substrate, and applying a voltage to the liquid crystal layer to change the optical characteristics of liquid crystal molecules. I do. An alignment film is formed on the surface of the opposing substrate and the TFT array substrate that is in contact with the liquid crystal layer, and the alignment film determines the alignment of the liquid crystal molecules when no voltage is applied. In a liquid crystal device, the alignment film is subjected to a rubbing treatment to prevent the occurrence of disclination lines due to tilt unevenness, to align the liquid crystal molecules in a certain direction, and to prevent the liquid crystal molecules from being applied when no voltage is applied. The major axis is inclined several degrees with respect to the substrate. The setting of the pretilt angle between the major axis of the liquid crystal molecules and the substrate when no voltage is applied is important for display characteristics, and the numerical value of the pretilt angle differs depending on the thickness of the alignment film in addition to the rubbing conditions during the rubbing process. Come. Therefore, in order to stably obtain a liquid crystal device having always constant display characteristics, it is important to keep the thickness of the alignment film constant.
【０００３】配向膜は、例えば印刷法などを用いて形成
される。まず、配向膜材料を微細なくぼみを持ったアニ
ロックスローラの上に一旦転写して広げ、次に広げた配
向膜材料を、版胴と呼ばれる金属ローラに巻き付けた印
刷版に転写し、その後、基板上に印刷する。これによ
り、基板上に配向膜材料からなる塗布膜が形成される。
印刷後、焼成が行われることにより溶媒が除去され、塗
布膜は硬化し配向膜となる。The alignment film is formed by using, for example, a printing method. First, the alignment film material is first transferred onto an anilox roller having fine depressions and spread, and then the spread alignment film material is transferred onto a printing plate wound around a metal roller called a plate cylinder. Print on top. Thereby, a coating film made of the alignment film material is formed on the substrate.
After printing, the solvent is removed by baking, and the coating film is cured to become an alignment film.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一定の
印刷条件で印刷を行っても、膜厚が変動してしまうとい
う不具合がある。これは、配向膜材料の粘度が変動する
ことが原因である。配向膜材料の粘度が変動する要因と
しては、温度、湿度といった環境の変化、ロット毎の配
向膜材料の固形分濃度の違い、そして配向膜材料が製造
されてからの経過日数の違い等が考えられる。しかし、
これらの項目を一定に保つのは困難であり、配向膜の膜
厚を一定に保つのは困難であった。However, there is a disadvantage that the film thickness fluctuates even when printing is performed under a constant printing condition. This is because the viscosity of the alignment film material fluctuates. Factors that cause the viscosity of the alignment film material to fluctuate include changes in the environment such as temperature and humidity, differences in the solid content concentration of the alignment film material for each lot, and differences in the number of days elapsed since the alignment film material was manufactured. Can be But,
It was difficult to keep these items constant, and it was difficult to keep the thickness of the alignment film constant.
【０００５】本発明は、このような課題を解決するため
になされたものであり、常に一定の膜厚の配向膜を効率
良く形成することができる液晶基板の製造装置、液晶基
板の製造方法及び液晶装置を提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and it is an object of the present invention to provide a liquid crystal substrate manufacturing apparatus, a liquid crystal substrate manufacturing method and a liquid crystal substrate capable of always efficiently forming an alignment film having a constant film thickness. It is an object to provide a liquid crystal device.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るため、本発明は以下のような構成を採用している。In order to solve such a problem, the present invention employs the following configuration.
【０００７】本発明の液晶基板の製造装置は、基板が水
平に載置される載置台と、前記載置台に対して相対的に
水平方向に移動し、前記基板上に配向膜材料からなる塗
布膜を転写する印刷版と、前記塗布膜を硬化して配向膜
を形成する処理室と、前記配向膜の膜厚を測定する測定
手段と、前記測定手段により測定された測定情報が伝送
され、該測定情報に基づき、前記載置台と前記印刷版と
の相対的な前記印刷版の移動速度を制御する制御部とを
具備することを特徴とする。According to the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal substrate, comprising: a mounting table on which the substrate is mounted horizontally; A printing plate that transfers the film, a processing chamber that cures the coating film to form an alignment film, a measurement unit that measures the thickness of the alignment film, and measurement information measured by the measurement unit is transmitted. A control unit for controlling a moving speed of the printing plate relative to the mounting table and the printing plate based on the measurement information.
【０００８】本発明のこのような構成によれば、本格的
なラインの稼動前に、条件だし用に基板上に配向膜を形
成し、この配向膜の膜厚の測定結果をもとにして、載置
台に対する相対的な印刷版の最適な移動速度を算出する
ことができるので、塗布膜の粘度の変動に左右されるこ
となく、常に一定の膜厚の塗布膜、結果的には配向膜を
得ることができる。According to such a configuration of the present invention, an alignment film is formed on a substrate for condition determination before the full-scale operation of the line, and the thickness of the alignment film is measured based on the measurement result. Since the optimum moving speed of the printing plate relative to the mounting table can be calculated, the coating film always has a constant film thickness without being affected by the fluctuation of the viscosity of the coating film. Can be obtained.
【０００９】また、前記制御部は、前記測定情報に基づ
いて前記載置台の移動速度を制御することを特徴とす
る。このように載置台の移動速度を制御しても良い。Further, the control unit controls the moving speed of the mounting table based on the measurement information. Thus, the moving speed of the mounting table may be controlled.
【００１０】また、前記制御部は、前記測定情報に基づ
いて前記印刷版の移動速度を制御することを特徴とす
る。このように印刷版の移動速度を制御しても良い。Further, the control section controls the moving speed of the printing plate based on the measurement information. In this way, the moving speed of the printing plate may be controlled.
【００１１】また、前記制御部は、前記測定情報に基づ
いて前記載置台及び前記印刷版の移動速度を制御するこ
とを特徴とする。このように載置台及び印刷版の双方の
移動速度を制御しても良い。Further, the control unit controls the moving speed of the mounting table and the printing plate based on the measurement information. In this manner, the moving speed of both the mounting table and the printing plate may be controlled.
【００１２】また、さらに前記配向膜材料の粘度を測定
する測定手段を備え、前記制御部は、前記配向膜の膜厚
と前記配向膜材料の粘度の測定情報に基づいて前記載置
台及び前記印刷版の移動速度を制御することを特徴とす
る。このような構成によれば、配向膜の膜厚及び粘度の
測定結果をもとにして、載置台に対する相対的な印刷版
の最適な移動速度を算出することができるので、常に一
定の膜厚の塗布膜、結果的には配向膜を得ることができ
る。Further, the apparatus further comprises measuring means for measuring the viscosity of the alignment film material, wherein the control unit is configured to measure the thickness of the alignment film and the viscosity of the alignment film material based on the measurement information. It is characterized by controlling the moving speed of the plate. According to such a configuration, the optimum moving speed of the printing plate relative to the mounting table can be calculated based on the measurement results of the thickness and the viscosity of the alignment film. , And as a result, an alignment film can be obtained.
【００１３】また、前記配向膜材料が滴下されるアニロ
ックスローラと、前記アニロックスローラに塗布された
前記配向膜材料の余分な液を取り去るドクターローラと
を更に具備し、前記印刷版にはアニロックスローラに塗
布された配向膜材料が転写され、前記制御部は、前記測
定情報に基づいて、前記載置台に対する相対的な前記印
刷版の移動速度及び前記アニロックスローラに対する前
記ドクターローラの抑え込み量を制御することを特徴と
する。このように、載置台に対する相対的な印刷版の移
動速度の制御に加え、ドクターローラの抑え込み量の制
御を行っても良い。The printing plate further includes an anilox roller onto which the alignment film material is dropped, and a doctor roller for removing excess liquid of the alignment film material applied to the anilox roller. The applied alignment film material is transferred, and the control unit controls, based on the measurement information, a moving speed of the printing plate relative to the mounting table and a suppression amount of the doctor roller with respect to the anilox roller. It is characterized by. As described above, in addition to controlling the moving speed of the printing plate relative to the mounting table, control of the amount of depression of the doctor roller may be performed.
【００１４】また、前記ドクターローラ上の前記配向膜
材料の粘度を測定する手段を更に具備することを特徴と
する。このように、膜厚測定情報に加え、ドクターロー
ラ上の配向膜材料の粘度の測定情報をもパラメータに加
えて制御することもできる。Further, the apparatus further comprises means for measuring the viscosity of the alignment film material on the doctor roller. In this manner, in addition to the film thickness measurement information, the viscosity measurement information of the alignment film material on the doctor roller can be controlled by adding it to the parameter.
【００１５】本発明の液晶基板の製造方法は、載置台に
載置された基板上に、前記載置台に対し印刷版を相対的
に水平方向に移動させながら、前記印刷版上に形成され
た配向膜材料からなる塗布膜を転写する工程と、前記塗
布膜を硬化し、配向膜を形成する工程と、前記配向膜の
膜厚を測定する工程と、前記測定結果に基づいて、前記
載置台と前記印刷版との相対的な移動速度を制御する工
程とを有することを特徴とする。In the method of manufacturing a liquid crystal substrate according to the present invention, a printing plate is formed on a substrate mounted on a mounting table while moving the printing plate relatively horizontally with respect to the mounting table. A step of transferring a coating film made of an alignment film material; a step of curing the coating film to form an alignment film; a step of measuring the thickness of the alignment film; and a table based on the measurement result. And controlling the relative movement speed of the printing plate and the printing plate.
【００１６】本発明のこのような構成によれば、本格的
なラインの稼動前に、条件だし用に基板上に配向膜を形
成し、この配向膜の膜厚の測定結果をもとにして、載置
台に対する相対的な印刷版の最適な移動速度を算出して
いるため、塗布膜の粘度の変動に左右されることなく、
常に一定の膜厚の塗布膜、結果的には配向膜を得ること
ができる。According to such a configuration of the present invention, an alignment film is formed on a substrate for condition determination before the full-scale operation of the line, and based on a measurement result of the thickness of the alignment film. Since the optimum moving speed of the printing plate relative to the mounting table is calculated, without being affected by the fluctuation of the viscosity of the coating film,
It is possible to always obtain a coating film having a constant thickness, and as a result, an alignment film.
【００１７】本発明の液晶装置は、２枚の基板間に液晶
を挟持してなる液晶装置において、前記２枚の基板の少
なくとも一方の基板は、上述の液晶基板の製造方法によ
り製造された液晶基板であることを特徴とする。このよ
うな構成によれば、常に表示特性の安定した液晶装置を
得ることができる。A liquid crystal device according to the present invention is a liquid crystal device having a liquid crystal sandwiched between two substrates, wherein at least one of the two substrates is a liquid crystal manufactured by the above-described method for manufacturing a liquid crystal substrate. It is a substrate. According to such a configuration, a liquid crystal device having stable display characteristics can be always obtained.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１９】（液晶装置の構造）まず、後述する本発明
の液晶装置用基板の製造方法を用いて製造された液晶装
置用基板が組み込まれた液晶装置の構造について、図
６、図７を用いて説明する。図６は、データ線、走査
線、画素電極、遮光膜等が形成されたＴＦＴアレイ基板
の表示領域中の縦断面図である。図７は、ＴＦＴアレイ
基板の表示画素領域を構成するマトリクス状に形成され
た複数の画素における各種素子、配線等の等価回路であ
る。尚、各図においては、各層や各部材を図面上で認識
可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺
を適宜設定している。(Structure of Liquid Crystal Device) First, the structure of a liquid crystal device incorporating a substrate for a liquid crystal device manufactured using the method for manufacturing a substrate for a liquid crystal device of the present invention described later will be described with reference to FIGS. Will be explained. FIG. 6 is a vertical cross-sectional view of a display area of a TFT array substrate on which data lines, scanning lines, pixel electrodes, light-shielding films, and the like are formed. FIG. 7 is an equivalent circuit of various elements, wiring, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix forming a display pixel region of a TFT array substrate. In each drawing, the scale is appropriately set for each layer and each member so that each layer and each member have a size that can be recognized in the drawings.
【００２０】図６に示すように、液晶装置３１の基本構
成は、液晶装置用基板としてのＴＦＴアレイ基板１０
と、これに対向配置される液晶装置用基板としての対向
基板２０とを備え、両基板間に液晶層５０が挟持されて
構成されている。As shown in FIG. 6, the basic structure of the liquid crystal device 31 is a TFT array substrate 10 as a substrate for a liquid crystal device.
And a counter substrate 20 as a substrate for a liquid crystal device, which is disposed to face the liquid crystal device. The liquid crystal layer 50 is sandwiched between the two substrates.
【００２１】図７に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０
は、表示画素領域とこの表示画素領域の表示を制御する
周辺駆動回路領域とからなる。表示画素領域には、互い
に交差する複数の走査線３と複数のデータ線６とが配置
され、走査線３とデータ線６で区画された画素電極９ａ
が配置され、各交差部毎に画素電極９ａを制御するため
の薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）３０が配置され、
更に走査線３とほぼ平行に容量線３ｂが配置されてい
る。そして、誘電体を介して画素電位の容量電極と容量
線３ｂとからなる蓄積容量７０が設けられている。周辺
駆動回路領域には、走査線３に走査信号Ｇ１、Ｇ２、…
Ｇｎを供給する走査線駆動回路１０４と、データ線６に
画像信号Ｓ１、Ｓ２…、Ｓｎを供給するデータ線駆動回
路１０５が配置されている。データ線６とデータ線駆動
回路１０５との間には、データ線駆動回路１０５が順次
データ（画像）信号VIDを送出すためのサンプリング回
路３０１が接続されている。また、データ線６の他端に
はコントラスト比の向上、データ線の電位レベルの安
定、表示画面上のラインむらの低減等を目的として、サ
ンプリング回路３０１により画像信号がサンプリングさ
れるタイミングに先行するタイミングで、プリチャージ
信号を供給するプリチャージ回路２０１が接続されてい
る。As shown in FIG. 7, the TFT array substrate 10
Consists of a display pixel area and a peripheral drive circuit area for controlling display of the display pixel area. In the display pixel area, a plurality of scanning lines 3 and a plurality of data lines 6 intersecting with each other are arranged, and a pixel electrode 9a partitioned by the scanning lines 3 and the data lines 6 is provided.
Are disposed, and a thin film transistor (hereinafter, TFT) 30 for controlling the pixel electrode 9a is disposed at each intersection.
Further, a capacitance line 3b is arranged substantially in parallel with the scanning line 3. Further, a storage capacitor 70 including a capacitor electrode of the pixel potential and the capacitor line 3b is provided via a dielectric. In the peripheral driving circuit area, scanning signals G1, G2,.
A scanning line driving circuit 104 for supplying Gn and a data line driving circuit 105 for supplying image signals S1, S2,. A sampling circuit 301 is connected between the data line 6 and the data line driving circuit 105 so that the data line driving circuit 105 sequentially sends out a data (image) signal VID. At the other end of the data line 6, the image signal is sampled by the sampling circuit 301 for the purpose of improving the contrast ratio, stabilizing the potential level of the data line, reducing line unevenness on the display screen, and the like. At a timing, a precharge circuit 201 for supplying a precharge signal is connected.
【００２２】図６に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０
では、石英基板６０上にＴＦＴ３０に対応して配置され
固定電位である遮光膜１１ａと、遮光膜１１ａ上に配置
される下地絶縁膜１２と、下地絶縁膜１２上に配置され
るＴＦＴ３０の一部を構成する半導体層１と、半導体層
１を覆うゲート絶縁膜２と、ゲート絶縁膜２上に配置さ
れる走査線３の一部をなすゲート電極３ａと、ゲート電
極３ａと同層の容量線３ｂと、ゲート電極３ａ及び容量
線３ｂとを覆う絶縁膜４とが形成されている。更に、絶
縁膜４上にはデータ線６が配置され、データ線６は絶縁
膜４に形成されるコンタクトホール５を介して半導体層
１のソース領域１ｄと電気的に接続されている。更に、
データ線６上には層間絶縁膜７が配置され、層間絶縁膜
７上に画素電極９ａが配置される。画素電極９ａは絶縁
膜４及び層間絶縁膜７に形成されるコンタクトホール８
により半導体層１のドレイン領域１ｅと電気的に接続さ
れている。そして、画素電極９ａ上には、基板全面にポ
リイミドからなる配向膜１６が配置されている。この配
向膜１６は、走査線３に沿った方向でラビング処理が施
されており、詳細な処理方法については後述する。半導
体層１は、チャネル領域１ａを挟むように両側に低濃度
不純物領域１ｂ、１ｃ、更にこれらを挟んで高濃度不純
物領域１ｄ、１ｅが形成されたＬＤＤ構造となってい
る。また、半導体層１の一部は容量用電極１ｆとして機
能し、容量線３ｂとゲート絶縁膜２を介して蓄積容量７
０を形成している。As shown in FIG. 6, the TFT array substrate 10
Here, a light-shielding film 11a which is disposed on the quartz substrate 60 in correspondence with the TFT 30 and has a fixed potential, a base insulating film 12 provided on the light-shielding film 11a, and a part of the TFT 30 provided on the base insulating film 12 , A gate insulating film 2 covering the semiconductor layer 1, a gate electrode 3a forming a part of a scanning line 3 disposed on the gate insulating film 2, and a capacitance line in the same layer as the gate electrode 3a. 3b, and an insulating film 4 covering the gate electrode 3a and the capacitance line 3b. Further, a data line 6 is disposed on the insulating film 4, and the data line 6 is electrically connected to a source region 1 d of the semiconductor layer 1 via a contact hole 5 formed in the insulating film 4. Furthermore,
An interlayer insulating film 7 is arranged on the data line 6, and a pixel electrode 9a is arranged on the interlayer insulating film 7. The pixel electrode 9a is provided with a contact hole 8 formed in the insulating film 4 and the interlayer insulating film 7.
Is electrically connected to the drain region 1e of the semiconductor layer 1. Then, an alignment film 16 made of polyimide is arranged on the entire surface of the substrate on the pixel electrode 9a. The alignment film 16 has been subjected to a rubbing process in a direction along the scanning line 3, and a detailed processing method will be described later. The semiconductor layer 1 has an LDD structure in which low-concentration impurity regions 1b and 1c are formed on both sides of the channel region 1a, and high-concentration impurity regions 1d and 1e are formed on both sides of the channel region 1a. A part of the semiconductor layer 1 functions as a capacitor electrode 1f, and the storage capacitor 7
0 is formed.
【００２３】一方、対向基板２０は、例えばガラス基板
８０上に、格子状に設けられた遮光層２３と、これを覆
うように配置された対向電極２１と、更に対向電極２１
上に配置されたポリイミドからなる配向膜２２とから構
成される。配向膜２２は、ＴＦＴアレイ基板側に配置さ
れる配向膜１６に施されるラビング処理方向とほぼ直交
した方向にラビング処理が施されている。On the other hand, the opposing substrate 20 includes, for example, a light-shielding layer 23 provided in a lattice on a glass substrate 80, an opposing electrode 21 disposed so as to cover the
And an alignment film 22 made of polyimide disposed thereon. The alignment film 22 is rubbed in a direction substantially orthogonal to the rubbing direction of the alignment film 16 disposed on the TFT array substrate side.
【００２４】それぞれ互いに交差する方向にラビング処
理が施されたＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の
配向膜１６及び２２により、電圧無印加時における液晶
層５０の液晶分子の配向状態が決定される。The alignment state of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 50 when no voltage is applied is determined by the alignment films 16 and 22 of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 which have been rubbed in directions intersecting each other.
【００２５】（液晶装置の製造装置）次に、上述の配向
膜の形成持に用いられる製造装置について、図１〜図５
を用いて説明する。ここでは対向基板上の配向膜の形成
を例にあげて説明するが、ＴＦＴアレイ基板上の配向膜
の形成にも同様の装置が用いられる。(Manufacturing Apparatus for Liquid Crystal Device) Next, a manufacturing apparatus used for forming the above-mentioned alignment film will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG. Here, the formation of an alignment film on a counter substrate will be described as an example, but a similar apparatus is used for forming an alignment film on a TFT array substrate.
【００２６】図１は製造装置の全体概略図、図２は配向
膜材料塗布装置の斜視図である。図３は配向膜材料塗布
装置に設けられている第１搬送装置の動作を説明するた
めの図である。図４は、配向膜材料からなる塗布膜を硬
化する乾燥・焼成装置の断面図である。図５は乾燥・焼
成装置内の動作を説明する図である。FIG. 1 is an overall schematic view of a manufacturing apparatus, and FIG. 2 is a perspective view of an alignment film material coating apparatus. FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the first transfer device provided in the alignment film material application device. FIG. 4 is a cross-sectional view of a drying / firing apparatus for curing a coating film made of an alignment film material. FIG. 5 is a diagram for explaining the operation in the drying / firing apparatus.
【００２７】図１に示すように、配向膜の形成に用いら
れる製造装置４００は、配向膜を塗布する配向膜材料塗
布装置５００と、塗布膜を硬化して配向膜を形成する乾
燥・焼成装置６００と、配向膜の膜厚を測定する膜厚測
定装置７００と、膜厚測定装置７０にて測定された測定
情報が伝送され、この測定情報に基づいて、後述する載
置台の移動速度を制御する制御部８００とから構成され
る。As shown in FIG. 1, a manufacturing apparatus 400 used for forming an alignment film includes an alignment film material coating apparatus 500 for coating an alignment film, and a drying / sintering apparatus for hardening the coating film to form an alignment film. 600, a film thickness measuring device 700 for measuring the film thickness of the alignment film, and measurement information measured by the film thickness measuring device 70, and based on the measurement information, a moving speed of a mounting table described later is controlled. And a control unit 800 that performs the operation.
【００２８】図１、図２に示すように、配向膜材料塗布
装置５００は、配向膜材料塗布部と、対向基板２０が載
置された載置台５１２を配向膜材料塗布部を経由して乾
燥・焼成装置６００へ搬送する搬送部とからなる。As shown in FIGS. 1 and 2, the alignment film material coating apparatus 500 dries the mounting table 512 on which the counter substrate 20 is mounted and the mounting table 512 via the alignment film material coating section. And a transport unit for transporting to the firing device 600.
【００２９】配向膜材料塗布部は、配向膜材料５０４が
滴下される刻印されて微細なくぼみを持った金属製のア
ニロックスローラ５０２と、アニロックスローラ５０２
に塗布された配向膜材料の余分な液を取り去るドクター
ローラ５０３と、アニロックスローラ５０２に塗布され
た配向膜材料からなる塗布膜５１３が転写され、この塗
布膜５１３を対向基板２０へ印刷する印刷版５０５を巻
き付けた版胴５０１とを有する。載置台５１２は、図１
上、ｘ方向に水平移動可能に設定されている。配向膜材
料塗布部では、載置台５１２の移動及び印刷版５０５の
回転により、載置台５１２上の対向基板２０に塗布膜５
１３が印刷される。印刷スピードは、載置台５１２に対
する相対的な印刷版５０５の移動速度により決定され
る。本実施形態においては、配向膜材料として、ポリイ
ミドが溶媒としてのγ‐ブチロラクトンに溶解したもの
を用いる。The alignment film material application section includes a metal anilox roller 502 having an engraved and fine depression into which the alignment film material 504 is dropped, and an anilox roller 502.
A roller 503 for removing excess liquid of the alignment film material applied to the substrate and a coating film 513 made of the alignment film material applied to the anilox roller 502 are transferred, and a printing plate for printing the coating film 513 on the opposing substrate 20 505 is wound around the plate cylinder 501. The mounting table 512 is shown in FIG.
Above, it is set so that it can move horizontally in the x direction. In the alignment film material application section, the coating film 5 is applied to the opposing substrate 20 on the mounting table 512 by moving the mounting table 512 and rotating the printing plate 505.
13 is printed. The printing speed is determined by the moving speed of the printing plate 505 relative to the mounting table 512. In the present embodiment, a material obtained by dissolving polyimide in γ-butyrolactone as a solvent is used as an alignment film material.
【００３０】搬送部は、対向基板２０が載置され、配向
膜材料塗布部へ対向基板２０を案内する載置台５１２
と、対向基板２０を載置台５１２から受け取り、第２搬
送装置６０１の搬送ハンド６０１ａへ受け渡す第１搬送
装置５１４とを有する。第２搬送装置６０１の一部は、
乾燥・焼成装置６００から延在している。The transfer section has a mounting table 512 on which the counter substrate 20 is mounted and which guides the counter substrate 20 to the alignment film material coating section.
And a first transfer device 514 that receives the counter substrate 20 from the mounting table 512 and transfers it to the transfer hand 601 a of the second transfer device 601. A part of the second transfer device 601 includes:
It extends from the drying / firing apparatus 600.
【００３１】図２及び図３に示すように、載置台５１２
には、載置台５１２を貫いて例えば３本の昇降可能なリ
フトピン５１０が設けられている。載置台５１２に載置
されている対向基板２０は、３本のリフトピン５１０に
より保持され、リフトピン５１０の上昇とともに載置台
５１２から離間する。対向基板２０と載置台５１２とが
離間した状態で、第１搬送装置５１４は対向基板２０の
下側に入り込み対向基板２０を保持する。第１搬送装置
５１４は、保持した対向基板２０を搬送ハンド６０１ａ
上へ搬送する。As shown in FIGS. 2 and 3, the mounting table 512
Is provided with, for example, three lift pins 510 that can move up and down through the mounting table 512. The opposing substrate 20 mounted on the mounting table 512 is held by three lift pins 510, and is separated from the mounting table 512 as the lift pins 510 rise. In a state where the counter substrate 20 and the mounting table 512 are separated from each other, the first transfer device 514 enters the lower side of the counter substrate 20 and holds the counter substrate 20. The first transfer device 514 transfers the held counter substrate 20 to the transfer hand 601a.
Convey up.
【００３２】乾燥・焼成装置６００は、図４に示すよう
に、基台６０６と、処理室としての乾燥・焼成処理室６
０５と、配向膜材料からなる塗布膜５１３が形成された
対向基板２０を乾燥・焼成処理室６０５内へ搬送し、乾
燥・焼成処理室６０５内から搬出する第２搬送装置６０
１とを有する。As shown in FIG. 4, the drying / firing apparatus 600 includes a base 606 and a drying / firing processing chamber 6 serving as a processing chamber.
05 and the second transfer device 60 that transfers the counter substrate 20 on which the coating film 513 made of the alignment film material is formed into the drying and baking processing chamber 605 and unloads from the drying and baking processing chamber 605.
And 1.
【００３３】乾燥・焼成処理室６０５には、対向基板２
０を搬送及び搬出するための開口部がそれぞれ１つずつ
設けられており、それぞれの開口部には開閉可能なシャ
ッタ６０２、６０３が設けられている。乾燥・焼成処理
室６０５に対応する基台６０６は、一部がホットプレー
トとなっており、例えば、基板が搬入される側の第１ホ
ットプレート６１０は３５℃に保持され、基板が搬出さ
れる側の第２ホットプレート６１１は１５０℃に保持さ
れている。乾燥・焼成処理室６０５内は、例えば対向基
板２０を最大５枚収容可能となっている。この乾燥・焼
成処理室６０５内で、配向膜材料からなる塗布膜５１３
が形成された対向基板２０は、第１ホットプレート６１
０上に載置されることにより塗布膜５１３が乾燥され、
更に第２ホットプレート６１１上に載置されることによ
り塗布膜５１３は硬化されて配向膜２２となる。The drying / firing processing chamber 605 contains the counter substrate 2
One opening for transporting and unloading 0 is provided, and each opening is provided with shutters 602 and 603 that can be opened and closed. A part of the base 606 corresponding to the drying / firing processing chamber 605 is a hot plate. For example, the first hot plate 610 on the side where the substrate is loaded is kept at 35 ° C., and the substrate is unloaded. The second hot plate 611 on the side is kept at 150 ° C. The inside of the drying / firing processing chamber 605 can accommodate, for example, up to five counter substrates 20. In the drying / firing processing chamber 605, a coating film 513 made of an alignment film material is formed.
The counter substrate 20 on which is formed the first hot plate 61
0, the coating film 513 is dried,
Further, by being placed on the second hot plate 611, the coating film 513 is cured to become the alignment film 22.
【００３４】第２搬送装置６０１は配向膜材料塗布装置
５００から受け渡された対向基板２０を搬送する装置で
あり、第２搬送装置６０１の作動により、対向基板２０
は、図４上で、左から右へ順次搬送される。第２搬送装
置６０１には、１枚の対向基板２０毎に一対の搬送ハン
ド６０１ａ〜６０１ｆが設けられ、第２搬送装置６０１
の移動に連動して搬送ハンド６０１ａ〜６０１ｆも移動
する。尚、詳細な第２搬送装置６０１の動作について
は、後述する液晶装置の製造方法で図５を用いて説明す
る。The second transfer device 601 is a device for transferring the counter substrate 20 delivered from the alignment film material coating device 500. The second transfer device 601 activates the counter substrate 20.
Are sequentially conveyed from left to right on FIG. The second transfer device 601 is provided with a pair of transfer hands 601a to 601f for each one opposing substrate 20.
The transfer hands 601a to 601f also move in conjunction with the movement of. The detailed operation of the second transfer device 601 will be described with reference to FIGS.
【００３５】膜厚測定装置７００は、配向膜材料塗布装
置５００及び乾燥・焼成装置６００を経て形成された対
向基板２０上の配向膜の膜厚を測定する装置である。本
実施形態においては、測定手段として、非接触式の膜厚
測定方法、例えば光の偏光状態を利用して測定するエリ
プソメータを用いている。図１に示すように、膜厚測定
装置７００は、偏光を基板２０に対し入射する光源７０
１と、光源７０１からの偏光が対向基板２０に対し入射
され、反射した反射光を検出する検出器７０２とを有す
る。検出器７０２では、基板に対する入射前後の光の偏
光状態の変化をエリプソメータで計算し、膜厚が推定さ
れる。The film thickness measuring device 700 is a device for measuring the film thickness of the alignment film on the counter substrate 20 formed through the alignment film material coating device 500 and the drying / firing device 600. In the present embodiment, as a measuring means, a non-contact type film thickness measuring method, for example, an ellipsometer for measuring using the polarization state of light is used. As shown in FIG. 1, a film thickness measuring device 700 includes a light source 70 that impinges polarized light on a substrate 20.
1 and a detector 702 for detecting the reflected light that has been reflected by the polarized light from the light source 701 incident on the counter substrate 20. In the detector 702, a change in the polarization state of light before and after the light enters the substrate is calculated by an ellipsometer, and the film thickness is estimated.
【００３６】制御部８００は、膜厚測定装置７００にて
測定された測定情報が伝送され、この測定情報に基づい
て載置台５１２の移動速度を制御するものである。図８
は、制御部８００での制御方法を説明するためのグラフ
であり、以下に制御部８００による制御方法について説
明する。The control section 800 receives the measurement information measured by the film thickness measuring device 700 and controls the moving speed of the mounting table 512 based on the measurement information. FIG.
Is a graph for explaining a control method in the control unit 800, and a control method in the control unit 800 will be described below.
【００３７】制御部８００には、図８に示すように、予
め基準データ（図上、曲線ａ）として、ある印刷時にお
ける載置台５１２の移動速度と塗布膜の膜厚との関係が
入力されている。ここで、塗布膜の膜厚の適性値を４０
ｎｍとすると、この基準データにおいては、適性な膜厚
を得るには、載置台５１２の移動速度を１８ｍ／分に設
定すれば良いこととなる。しかしながら、この基準デー
タが入力されてから例えば数日たつと、いろいろな要因
で配向膜材料の粘度が変化し、基準データを測定した時
と同じ載置台の移動速度条件にて印刷を行っても、適正
な膜厚の塗布膜を得ることができない。そこで、本実施
形態においては、対向基板を本格的にラインに流す前
に、載置台の移動速度の条件だしをするために条件だし
用としてダミーの対向基板を流している。この条件だし
用の対向基板には、基準データを測定した時と同じ載置
台の移動速度条件にて配向膜を形成する。この時、例え
ば５０ｎｍの膜厚の塗布膜が得られたとすると、この膜
厚情報が制御部８００へ伝送され、図８に示すように、
制御部８００では、移動速度が１８ｍ／分の時に５０ｎ
ｍの膜厚に位置するように、基準データの曲線ａを平行
移動させた曲線ｂが算出される。そして、制御部８００
では、この曲線ｂを元にして、適性値である膜厚４０ｎ
ｍの時の載置台の移動速度が求められ、この移動速度と
なるように、載置台の移動速度が制御される。As shown in FIG. 8, the relationship between the moving speed of the mounting table 512 and the thickness of the coating film during a certain printing operation is input to the control unit 800 as reference data (curve a in the figure) in advance. ing. Here, the appropriate value of the thickness of the coating film is set to 40.
Assuming that the thickness is nm, in this reference data, in order to obtain an appropriate film thickness, the moving speed of the mounting table 512 may be set to 18 m / min. However, for example, several days after the reference data is input, the viscosity of the alignment film material changes due to various factors, and even when printing is performed under the same mounting table moving speed condition as when the reference data was measured. However, a coating film having an appropriate thickness cannot be obtained. Therefore, in this embodiment, before flowing the counter substrate into the line in earnest, a dummy counter substrate is flowed as a condition for determining the condition of the moving speed of the mounting table. An alignment film is formed on the counter substrate for this condition under the same moving speed of the mounting table as when the reference data was measured. At this time, if a coating film having a thickness of, for example, 50 nm is obtained, this film thickness information is transmitted to the control unit 800, and as shown in FIG.
In the control unit 800, when the moving speed is 18 m / min, 50n
A curve b obtained by translating the curve a of the reference data in parallel so as to be positioned at the film thickness of m is calculated. Then, the control unit 800
Then, based on this curve b, an appropriate value of the film thickness 40n
The moving speed of the mounting table at the time of m is obtained, and the moving speed of the mounting table is controlled so as to be the moving speed.
【００３８】このように、本実施形態の製造装置におい
ては、多数の基板を流す前に、条件だし用に配向膜を形
成し、この配向膜の膜厚から最適な載置台の移動速度を
算出しているため、配向膜材料の粘度の変動に左右され
ることなく、常に一定の膜厚の配向膜を得ることができ
る。As described above, in the manufacturing apparatus of the present embodiment, before flowing a large number of substrates, an alignment film is formed for condition determination, and the optimum moving speed of the mounting table is calculated from the thickness of the alignment film. Therefore, an alignment film having a constant film thickness can always be obtained without being affected by fluctuations in the viscosity of the alignment film material.
【００３９】また、本実施形態においては、載置台の移
動速度を制御しているが、印刷版の移動速度や、載置台
の移動速度と印刷版の移動速度の双方を制御しても良
く、載置台に対する相対的な印刷版の移動速度、すなわ
ち印刷スピードを制御すれば良い。In this embodiment, the moving speed of the mounting table is controlled. However, the moving speed of the printing plate or both the moving speed of the mounting plate and the moving speed of the printing plate may be controlled. What is necessary is just to control the moving speed of the printing plate relative to the mounting table, that is, the printing speed.
【００４０】また、印刷スピードの制御に加え、アニロ
ックスローラに対するドクターローラの抑え込み量の制
御を行っても良い。例えば、膜厚測定装置による測定情
報に基づいて、ドクターローラの抑え込み量を変えるこ
とによりおおまかな制御を行った後、印刷スピードを変
えることにより微調整を行うこともできる。更に、膜厚
測定情報に加え、ドクターローラ上の配向膜材料の粘度
の測定情報をもパラメータに加えて制御しても良い。粘
度の測定は、例えば、ドクターローラを駆動するモータ
にかかる負荷を測定することにより行うことができる。In addition to the control of the printing speed, the control of the amount of the doctor roller held down by the anilox roller may be controlled. For example, based on information measured by a film thickness measuring device, rough control can be performed by changing the amount of depression of the doctor roller, and then fine adjustment can be performed by changing the printing speed. Further, in addition to the film thickness measurement information, the measurement information of the viscosity of the alignment film material on the doctor roller may be controlled in addition to the parameter. The viscosity can be measured, for example, by measuring a load applied to a motor that drives a doctor roller.
【００４１】また、上述の製造装置の構造に加えて、配
向膜材料の粘度を測定する手段を更に設け、配向膜材料
の膜厚及び粘度の測定結果を基に印刷スピードを制御す
ることもできる。Further, in addition to the structure of the above-described manufacturing apparatus, a means for measuring the viscosity of the alignment film material may be further provided to control the printing speed based on the measurement results of the thickness and the viscosity of the alignment film material. .
【００４２】（液晶装置の製造方法）上述の製造装置を
用いた配向膜の形成方法方法及び上述の製造装置の動作
について図１〜図５を用いて以下に説明する。ここでは
対向基板上の配向膜の形成を例にあげて説明するが、Ｔ
ＦＴアレイ基板上の配向膜も同様に形成される。(Method of Manufacturing Liquid Crystal Device) A method of forming an alignment film using the above-described manufacturing apparatus and the operation of the above-described manufacturing apparatus will be described below with reference to FIGS. Here, the formation of an alignment film on a counter substrate will be described as an example.
An alignment film on the FT array substrate is formed similarly.
【００４３】まず、配向膜材料塗布装置５００の載置台
５１２上に、条件だし用のダミーの対向基板２０を遮光
層及び対向電極が形成された面を上にして水平に配置す
る。First, the dummy opposing substrate 20 for condition setting is horizontally arranged on the mounting table 512 of the alignment film material applying apparatus 500 with the surface on which the light shielding layer and the opposing electrode are formed facing upward.
【００４４】まず、対向基板２０が載置された載置台５
１２は、配向膜材料塗布部内に移動する。配向膜材料塗
布部では、アニロックスローラ５０２上に、ポリイミド
が溶媒としてのγ‐ブチロラクトンに溶解した配向膜材
料が滴下され、ドクターローラ５０３により平滑に広げ
られる。アニロックスローラ５０２上の配向膜材料は版
胴５０１に巻き付けられた印刷版５０５へ転写される。
そして、配向膜材料からなる塗布膜５１３が転写された
版胴５０１を回転させるとともに、載置台を移動させ
て、版胴５０１上の配向膜材料からなる塗布膜５１３を
対向基板２０上に印刷塗布する。ここで、載置台の移動
速度は、上述した制御部８００にあらかじめ入力されて
いる基準データにおける適正な膜厚値を得るための移動
速度に設定されている。対向基板２０上に塗布膜５１３
が形成され、載置台５１２が配向膜材料塗布部から出て
所定の位置にくると、リフトピン５１０が上昇し、対向
基板２０を載置台５１２から離間する。離間した対向基
板２０の下側に位置するように第１搬送装置５１４が移
動し、対向基板２０を保持する。対向基板２０を保持し
た状態で第１搬送装置５１４は移動し、配向膜材料塗布
装置５００に最も近い搬送ハンド６０１ａ上に対向基板
２０を受け渡す。First, the mounting table 5 on which the counter substrate 20 is mounted
Reference numeral 12 moves into the alignment film material application section. In the alignment film material application section, an alignment film material in which polyimide is dissolved in γ-butyrolactone as a solvent is dropped on the anilox roller 502 and spread smoothly by the doctor roller 503. The alignment film material on the anilox roller 502 is transferred to the printing plate 505 wound around the plate cylinder 501.
Then, while rotating the plate cylinder 501 to which the coating film 513 made of the alignment film material is transferred, the mounting table is moved, and the coating film 513 made of the alignment film material on the plate cylinder 501 is printed and coated on the counter substrate 20. I do. Here, the moving speed of the mounting table is set to a moving speed for obtaining an appropriate film thickness value in the reference data previously input to the control unit 800 described above. Coating film 513 on opposing substrate 20
Is formed, and when the mounting table 512 comes out of the alignment film material application section and reaches a predetermined position, the lift pins 510 rise and separate the opposing substrate 20 from the mounting table 512. The first transporting device 514 moves so as to be located below the separated opposing substrate 20 and holds the opposing substrate 20. The first transfer device 514 moves while holding the counter substrate 20, and transfers the counter substrate 20 to the transfer hand 601 a closest to the alignment film material coating device 500.
【００４５】ここで、図５を用いて、第２搬送装置６０
１の動作について説明する。図５は乾燥・焼成処理室６
０５内へ対向基板２０が搬送されるシャッタ６０２付近
の部分図である。図５（ａ）に示すように、搬送ハンド
６０１ａ上には、第１搬送装置５１４により搬送された
対向基板２０ａが保持されている。搬送ハンド６０１ｂ
上には対向基板２０ｂが保持され、対向基板２０ｂは第
１ホットプレート６１０上に配置されて加熱されてい
る。この際、シャッタ６０２により乾燥・焼成処理室６
０５の開口部は閉じられている。Here, referring to FIG.
1 will be described. FIG. 5 shows a drying / firing processing chamber 6
FIG. 5 is a partial view of the vicinity of a shutter 602 in which a counter substrate 20 is transported into the inside of a shutter 05. As shown in FIG. 5A, the opposite substrate 20a transported by the first transport device 514 is held on the transport hand 601a. Transfer hand 601b
The opposing substrate 20b is held thereon, and the opposing substrate 20b is disposed on the first hot plate 610 and heated. At this time, the drying and firing processing chamber 6 is opened by the shutter 602.
The opening 05 is closed.
【００４６】次に、図５（ｂ）に示すように、シャッタ
６０２が上昇し、開口部が開くとともに、搬送装置６０
１は各搬送ハンドを上昇するように作動し、対向基板６
０ａ、ｂは基台６０６から離間する。図５（ｃ）に示す
ように、基台６０６から離間した対向基板２０ａ、２０
ｂは、それぞれ搬送ハンド６０１ａ、６０１ｂに保持さ
れた状態で、第２搬送装置６０１が図上、左から右へ移
動することに連動して左から右へ移動する。これにより
対向基板２０ａは乾燥・焼成処理室６０５内へ搬送され
る。Next, as shown in FIG. 5B, the shutter 602 is raised to open the opening,
1 operates to raise each transport hand, and the counter substrate 6
0 a and b are separated from the base 606. As shown in FIG. 5C, the opposing substrates 20a and 20a separated from the base 606
b moves from left to right in conjunction with the movement of the second transfer device 601 from left to right in the figure while being held by the transfer hands 601a and 601b, respectively. Thereby, the opposing substrate 20a is transported into the drying / firing processing chamber 605.
【００４７】次に、図５（ｄ）に示すように、シャッタ
６０２が下降し、開口部が閉じるとともに、搬送装置６
０１は各搬送ハンドを下降するように作動する。この
際、乾燥・焼成処理室６０５の搬入付近には、次に乾燥
・焼成処理室６０５内に搬入される対向基板２０ｃが配
置されている。対向基板２０ａ、２０ｂは、第１ホット
プレート６１０上に配置されて加熱されている。Next, as shown in FIG. 5D, the shutter 602 is lowered to close the opening, and
01 operates to lower each transport hand. At this time, near the carry-in of the drying / firing processing chamber 605, the counter substrate 20c to be carried next into the drying / firing processing chamber 605 is arranged. The opposite substrates 20a and 20b are arranged on the first hot plate 610 and heated.
【００４８】次に、図５（ｅ）に示すように、搬送ハン
ドが下降した状態で、搬送装置６０１は、図上、右から
左に移動し、搬送ハンド６０１ａ上には対向基板２０ｃ
が配置され、搬送ハンド６０１ｂ上には対向基板２０ａ
が配置される。Next, as shown in FIG. 5 (e), with the transport hand lowered, the transport device 601 moves from right to left in the figure, and the opposing substrate 20c is placed on the transport hand 601a.
Is disposed on the transfer hand 601b.
Is arranged.
【００４９】以上図５（ａ）〜（ｅ）の工程が繰り返さ
れることにより、対向基板２０は順次処理室内へ搬送さ
れ、最後には乾燥・焼成処理室６０５から搬出される。
乾燥・焼成処理室６０５内では、塗布膜５１３は第１ホ
ットプレート６１０上で乾燥され、第２ホットプレート
６１１上で焼成され、硬化して配向膜２２となる。By repeating the steps shown in FIGS. 5A to 5E, the opposing substrate 20 is sequentially transported into the processing chamber, and finally carried out from the drying / firing processing chamber 605.
In the drying / firing processing chamber 605, the coating film 513 is dried on the first hot plate 610, baked on the second hot plate 611, and cured to become the alignment film 22.
【００５０】配向膜２２が形成された対向基板２０は、
膜厚測定装置７００内に搬送され、膜厚が測定される。
この測定情報は、制御部８００に伝送され、上述したよ
うに基準データをもとに制御部８００にて好ましい載置
台の移動速度が算出され、載置台の移動速度が制御され
る。制御後、本格的に製造装置は稼動し、対向基板上へ
の配向膜形成が行われる。このような条件だしのための
配向膜形成は、例えば、一定時間毎やロットの交換時な
どに行えばよい。The opposite substrate 20 on which the alignment film 22 is formed is
The film is conveyed into the film thickness measuring device 700 and the film thickness is measured.
The measurement information is transmitted to the control unit 800, and the control unit 800 calculates a preferable moving speed of the mounting table based on the reference data as described above, and controls the moving speed of the mounting table. After the control, the manufacturing apparatus operates in earnest, and an alignment film is formed on the counter substrate. The formation of the alignment film for setting such conditions may be performed, for example, at regular time intervals or when changing lots.
【００５１】以上のように、好ましい膜厚にて形成され
た配向膜２２には、ラビング処理が施される。この後、
対向基板と、対向基板と同様の形成工程にて配向膜を形
成したＴＦＴアレイ基板とをシールにより貼り合わせ、
液晶を注入して液晶装置が製造される。このように製造
された液晶装置は、常に安定した表示特性を有する。As described above, the rubbing treatment is performed on the alignment film 22 formed with a preferable film thickness. After this,
The opposing substrate and the TFT array substrate on which the alignment film is formed in the same forming process as the opposing substrate are bonded by a seal,
Liquid crystal is injected to manufacture a liquid crystal device. The liquid crystal device manufactured as described above always has stable display characteristics.
【図１】実施形態における配向膜形成にかかわる製造装
置を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing apparatus for forming an alignment film in an embodiment.
【図２】図１の製造装置の部分図であり、配向膜材料塗
布装置の斜視図である。FIG. 2 is a partial view of the manufacturing apparatus of FIG. 1, and is a perspective view of an alignment film material coating apparatus.
【図３】配向膜材料塗布装置に設けられている第１搬送
装置の動作を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining an operation of a first transport device provided in the alignment film material application device.
【図４】図１の製造装置の部分図であり、乾燥・焼成装
置の断面図である。FIG. 4 is a partial view of the manufacturing apparatus of FIG. 1, and is a cross-sectional view of a drying / firing apparatus.
【図５】乾燥・焼成装置の第２搬送装置の動作を説明す
る図である。FIG. 5 is a view for explaining the operation of a second transfer device of the drying / firing device.
【図６】液晶装置の縦断面図である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal device.
【図７】ＴＦＴアレイ基板の等価回路図である。FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of a TFT array substrate.
【図８】制御部での制御方法を説明するための図であ
る。FIG. 8 is a diagram for explaining a control method in a control unit.
１０…ＴＦＴアレイ基板 １６、２２…配向膜 ２０…対向基板 ４００…製造装置 ５００…配向膜材料塗布装置 ５０２…アニロックスローラ ５０３…ドクターローラ ５０４…配向膜材料 ５０５…印刷版 ５１２…載置台 ５１３…塗布膜 ６００…乾燥・焼成装置 ６０５…乾燥・焼成処理室 ７００…膜厚測定装置 ８００…制御部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... TFT array substrate 16, 22 ... Alignment film 20 ... Counter substrate 400 ... Manufacturing apparatus 500 ... Alignment film material coating apparatus 502 ... Anilox roller 503 ... Doctor roller 504 ... Alignment film material 505 ... Printing plate 512 ... Mounting table 513 ... Coating Film 600: Drying / firing apparatus 605: Drying / firing processing chamber 700: Film thickness measuring apparatus 800: Control unit
Claims (9)
板上に配向膜材料からなる塗布膜を転写する印刷版と、 前記塗布膜を硬化して配向膜を形成する処理室と、 前記配向膜の膜厚を測定する測定手段と、 前記測定手段により測定された測定情報が伝送され、該
測定情報に基づき、前記載置台と前記印刷版との相対的
な移動速度を制御する制御部とを具備することを特徴と
する液晶基板の製造装置。A mounting table on which a substrate is mounted horizontally, a printing plate which moves in a horizontal direction relative to the mounting table, and transfers a coating film made of an alignment film material onto the substrate; A treatment chamber for curing the coating film to form an alignment film, measuring means for measuring the thickness of the alignment film, measurement information measured by the measurement means is transmitted, and based on the measurement information, An apparatus for manufacturing a liquid crystal substrate, comprising: a control unit that controls a relative moving speed between a table and the printing plate.
前記載置台の移動速度を制御することを特徴とする請求
項１記載の液晶基板の製造装置。2. The liquid crystal substrate manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls a moving speed of the mounting table based on the measurement information.
前記印刷版の移動速度を制御することを特徴とする請求
項１記載の液晶基板の製造装置。3. The apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls a moving speed of the printing plate based on the measurement information.
前記載置台及び前記印刷版の移動速度を制御することを
特徴とする請求項１記載の液晶基板の製造装置。4. The apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls the moving speed of the mounting table and the printing plate based on the measurement information.
測定手段を備え、前記制御部は、前記配向膜の膜厚と前
記配向膜材料の粘度の測定情報に基づいて前記載置台及
び前記印刷版の移動速度を制御することを特徴とする請
求項１記載の液晶基板の製造装置。5. The apparatus according to claim 1, further comprising measuring means for measuring the viscosity of the alignment film material, wherein the control unit is configured to determine the thickness of the alignment film and the viscosity of the alignment film material based on the measurement information. The apparatus for manufacturing a liquid crystal substrate according to claim 1, wherein the moving speed of the plate is controlled.
スローラと、 前記アニロックスローラに塗布された前記配向膜材料の
余分な液を取り去るドクターローラとを更に具備し、 前記印刷版にはアニロックスローラに塗布された配向膜
材料が転写され、 前記制御部は、前記測定情報に基づいて、前記載置台に
対する相対的な前記印刷版の移動速度及び前記アニロッ
クスローラに対する前記ドクターローラの抑え込み量を
制御することを特徴とする請求項１記載の液晶基板の製
造装置。6. An anilox roller on which the alignment film material is dropped, and a doctor roller for removing excess liquid of the alignment film material applied to the anilox roller, wherein the printing plate includes an anilox roller. The applied alignment film material is transferred, and the control unit controls the moving speed of the printing plate relative to the mounting table and the amount of depression of the doctor roller relative to the anilox roller based on the measurement information. 2. The apparatus for manufacturing a liquid crystal substrate according to claim 1, wherein:
の粘度を測定する手段を更に具備することを特徴とする
請求項６記載の液晶基板の製造装置。7. The apparatus according to claim 6, further comprising means for measuring a viscosity of the alignment film material on the doctor roller.
台に対し印刷版を相対的に水平方向に移動させながら、
前記印刷版上に形成された配向膜材料からなる塗布膜を
転写する工程と、 前記塗布膜を硬化し、配向膜を形成する工程と、 前記配向膜の膜厚を測定する工程と、 前記測定結果に基づいて、前記載置台と前記印刷版との
相対的な移動速度を制御する工程とを有することを特徴
とする液晶基板の製造方法。8. On a substrate mounted on a mounting table, while moving the printing plate relatively horizontally with respect to the mounting table,
Transferring a coating film made of an alignment film material formed on the printing plate, curing the coating film to form an alignment film, measuring the thickness of the alignment film, and measuring Controlling the relative movement speed between the mounting table and the printing plate based on the result.
装置において、 前記２枚の基板の少なくとも一方の基板は、請求項８記
載の液晶基板の製造方法により製造された液晶基板であ
ることを特徴とする液晶装置。9. A liquid crystal device comprising a liquid crystal sandwiched between two substrates, wherein at least one of the two substrates is a liquid crystal substrate manufactured by the method of manufacturing a liquid crystal substrate according to claim 8. A liquid crystal device, comprising:
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| JP2000275534A JP2002090741A (en) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | Apparatus and method for manufacturing liquid crystal substrate, liquid crystal device |
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| JP (1) | JP2002090741A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100480826B1 (en) * | 2002-12-11 | 2005-04-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Alignment Film Printing Device for Liquid Crystal Display Device |
| CN100456108C (en) * | 2003-07-07 | 2009-01-28 | 三星电子株式会社 | Equipment for aligning liquid crystals and method of transporting a plurality of substrates through liquid crystal aligning equipment |
| KR101160827B1 (en) * | 2004-12-13 | 2012-06-29 | 삼성전자주식회사 | Ink get alignment film printing apparatus and method |
| JP2014119673A (en) * | 2012-12-19 | 2014-06-30 | Japan Display Inc | Production method for liquid crystal display device and alignment layer printing device |
-
2000
- 2000-09-11 JP JP2000275534A patent/JP2002090741A/en active Pending
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