JP2002085029A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
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Abstract
線を大気中へ導き粉粒体に電子線照射を行う電子線照射
装置において、照射窓を囲む振動コンベヤトラフの一部
の下流端板に粉体が溜まり腐敗し被処理物を汚染する。
これを解決すること。 【解決手段】 照射窓を囲むトラフの一部である下流端
板を進行方向に直交させず内側向きの傾斜面とする。
Description
の電子線照射装置におけるトラフの隅部の形状の改良に
関する。電子線照射装置というのは真空中で電子線を発
生させ加速して大気中に取り出し被処理物に電子線を当
てて何らかの効果を被処理物に与える装置である。電子
線を発生させるために真空チャンバの内部にフィラメン
トを備える。これに電流を流し負高電圧を掛けることに
よって熱電子を発生させる。負高電圧が加速電圧にな
る。電子線は真空中で加速されるが被処理物は大気中に
あるので真空と大気を分かつものが必要である。それが
照射窓である。照射窓にはアルミやチタンの薄い箔が張
り付けてある。これはチャンバ内部の真空を維持し電子
線を通すという役割を持つ。
った。定型の固体に電子線を当てるのであるが、電子線
と固体の衝突によってX線が出るという問題がある。X
線や電子線は人体に有害であるから、これらの放射線を
厳重に遮蔽する必要がある。そのために金属製、コンク
リート製などの厚い遮蔽筐体に電子線照射部を閉じ込め
る必要がある。筐体内部に被処理物を運ぶための搬送機
構を設けてX線が洩れないようにする。
ベヤを搬送機構として用いることが多い。筐体には被処
理物の入口と出口が設けられる。定型固体の被処理物は
コンベヤに乗せられて遮蔽筐体の内部を運ばれ照射窓下
で電子線の処理を受けて、さらに進んで出口に至る。コ
ンベヤは単純な水平経路をとらず上下に蛇行する。これ
はX線が外部に洩れるのを防止するためである。遮蔽筐
体の内部にも数多くの仕切板があってX線漏洩を防ぐ構
造となっている。
ネルギーが熱に変換される。1気圧の圧力差を受けてい
る窓箔が加熱されるとたちまちに破損してしまう。これ
を防ぐため窓箔には冷却機構が設けられる。窓箔の下斜
めから窒素ガスを吹き付け窓箔を冷却する。あるいは窓
箔を支持する枠や桟に水冷パイプを通し、冷却水を桟、
枠に通すことにより窓箔を冷却するようになっている。
する。オゾン臭の付着を嫌う被処理物の場合は、窒素や
アルゴンなどによって空気を置換してオゾン発生を防
ぐ。そのために冷却風は空気でなくて窒素(或いは不活
性ガス)とする。
V程度の高い加速エネルギーを有する走査型の装置と、
500keV〜数十keVの低エネルギー加速の非走査
型(エリア型)のものがある。走査型の場合は比較的細
い高エネルギービームを交番磁界によって左右に走査す
る。非走査型の場合は平行のフィラメントを使って初め
から実効面積の広い電子線を発生する。
香辛料などの無定型の粉粒体を電子線による殺菌処理を
行うという試みがなされている。穀物の防虫殺虫処理に
は臭化メチルなどの化学薬品で薫浄するという手段があ
るが、残留ガスの問題がある。そこで、より安全な電子
線照射による殺菌という方法が注目される。コストの問
題やその他の問題があるが電子線による食品の殺菌とい
うのは有望な手段である。
電子線を当てて殺菌する場合は、特別な困難がある。電
子線が内部を貫通すると風味が落ち品質が劣化する。し
かし殺菌の必要があるのは表面だけである。被処理物の
内部に入らないよう、表面表層だけに弱い電子線を当て
るという必要がある。それで数十keV〜百keVの低
い加速エネルギーの電子線を食品被処理物に当てるとい
うことになる。加速エネルギーがこのような値でも窓箔
で大きく減衰するから被処理物に照射される時のエネル
ギーはずっと低い。
ら穀物を回転させる必要がある。従来の無端周回コンベ
ヤでは静的な搬送をするだけだから役に立たない。そこ
で小さい穀物粒などの粉粒体の搬送には振動コンベヤを
用いるということを本発明者等が思い付いた。振動コン
ベヤというのはベルトが動くのではなくて、板が微小振
動することによって被処理物を跳ね上げ舞い上げ転がし
て、ある方向に前進させるものである。振動によって被
処理物である粉粒体が舞い上がり転がるから粉粒体の全
面が電子線照射方向を向く瞬間があり、全面に電子線が
照射されることになる。粉粒体を回転させながら電子線
を当てるようにして穀物などの表面だけに電子線を当て
殺菌するようにできる。
て殺菌処理するというのは新しい試みである。従来技術
として指摘できるようなものは本出願人の作製した装置
以外にはない。図1に本出願人が製作して試験した粉粒
体殺菌用の電子線照射装置を示す。これは非走査型(エ
リア型)の電子線照射装置である。搬送機構としては先
述のように振動コンベヤを用いている。電子線処理され
るのは例えば小麦である。しかし、それ以外にも利用で
きるから以後粉粒体と一般的に表現する。X線の漏れを
防ぐために全体を遮蔽筐体で囲むが図面では省略してい
る。
が設けられる。真空チャンバ1には同心にカソードシー
ルド2が設けられる。真空チャンバ1の中心部には、平
行に並べられたフィラメント3が設けられる。フィラメ
ント3には電流が流され発熱する。大地とフィラメント
間に負の電源が接続されるが、図示は略した。フィラメ
ント3はカソードなので熱電子が出る。フィラメント3
の直下の開口部が照射窓4である。照射窓4には窓箔5
が張ってある。真空チャンバ1の内部は真空に引いてあ
り、窓箔5の下の照射部は大気圧である。窓箔5が真空
を保持し電子線を通す役割をする。窓箔はチタン箔ある
いはアルミ箔である。窓箔5を冷却する機構が備えられ
るが、ここでは簡単のため図示を略している。
が利用される。これは水平に延びるトラフ7と振動源
8、トラフ7を振動可能に支持するスプリング9、架台
10等よりなる。振動源8というのは斜め上方に振幅を
有する振動を発生するものである。錘を往復運動させる
モータや偏心した弾み車を回転させるモータなどによっ
て振動源を構成することができる。振動の方向は、前方
斜め上方約45゜を向いている。振幅は可変であるが、
例えば約3mmである。周期も可変である。目的物によ
って振動角、周期、振幅を変えるようにする。
振動板である。これが上昇する時に上にある粉粒体を押
し上げる。前向きの分力があるから前向きの力積を得
る。トラフ7が次の半周期で下降すると粉粒体Sが板面
から離れる。上前向きの初速をもって粉粒体が飛び上が
るので放物線を描いて前へ飛び、前のある地点に落下す
る。トラフ7と粉粒体Sが上り半周期では接触し、下り
の半周期では離隔飛翔しているから粉粒体が上向き振幅
の方向に漸進することができる。トラフ7が水平であっ
ても前進する。前に傾けると速度が増大する。飛び上が
るとともに回転するから電子線を全周面に当てることが
できる。表面だけに電子線を照射するようになる。振動
コンベヤを採用した理由はそういうところにある。
縁のある板か、上方を閉じた筒状の部材である。トラフ
7には中央部に開口部11があり、ここに電子線照射機
構の照射窓4が差し込まれている。
体入口12が設けられる。これは上向き開口であって粉
粒体Sをここへ投入するようになっている。トラフ7の
終端には粉粒体出口13がある。粉粒体入口12から穀
物香辛料などの粉粒体Sが投入される。これが水平のト
ラフ7に落下する。トラフ7は振動源8の作用で前向き
の振動をしているから粉粒体は舞い上がり転がりながら
前進する。照射窓4の直下の照射部14に至ると電子線
eが窓箔5を通って照射部14へと降り注ぐ。粉粒体S
は回転しているから電子線が粉粒体の全周に当たる。全
周に電子線が当たることによって表面が殺菌される。電
子線が固体に当たることによってX線が発生する。窒素
ガスが照射部14に供給されているからX線によってオ
ゾンが生じない。窒素ガスの供給排出機構や冷却機構に
ついては図示を略す。照射処理を受けた粉粒体Sはさら
に振動コンベヤによって粉粒体出口13に運ばれる。こ
こで落下して外部に導き出される。
るトラフの部分の段部に粉粒体Sが残留するということ
である。照射窓4の長辺(y方向の長さ)はトラフの幅
d以上でなければならない。照射窓4をトラフ7の近く
に設ける必要がある。だから照射窓の近傍でトラフは横
方向(y方向)に少し突出した形状になる。
て照射窓4を囲むような張り出し部が形成される。する
と段部の下流側に粉粒体が溜まり、これがトラフへ落下
しない。粒の大きい粒体は、またトラフに落ちることも
あるが、粉体に近いものは容易に落ちないで下流側の段
部に溜まる。
留するうちに腐敗することもある。腐敗した粉体は舞い
上がって搬送系を汚す惧れがある。また腐敗した滞留物
が処理中の粉粒体に混ざり込むと対象となる食材を汚染
することになる。これを防ぐには、電子線照射装置の休
止期間中に電子線照射装置を分解してトラフの段部を掃
除して殺菌すればよい。しかし休止のたびに装置を開き
清掃するというのは人手が掛かり面倒であり作業能率を
下げる。これは困ったことである。
は照射部の近傍の横断平面図であり照射窓4とトラフ7
の上面を示す。図3はトラフ7だけの平面図である。図
4はトラフ7の斜視図である。図5は照射部付近の縦断
正面図である。水平の金属板であるトラフ7はx方向に
粉粒体を運ぶ。トラフ7の中心線に座標のx軸をとる。
ラフの両側の端であるが、ここには粉粒体が落ちないよ
うに縁板16が折立てて形成されている。縁板16の高
さh(図4に示す)は粉粒体や振幅などを考慮して適当
なものに決められている。電子線を当てる照射窓4の部
分ではトラフが±y方向に広がっている。照射窓を差し
入れる必要があるからである。照射窓4において、窓箔
5の四辺が窓箔フランジ15によって固定されている。
込むような形になる。照射窓4の窓箔フランジ15より
もトラフは横に張り出さなければならない。照射部14
の近傍ではトラフ7の縁板16の外側に水平の段部17
が設けられる。段部17はトラフ面よりkの高さにあ
る。この段部17は照射窓4のフランジ15が上から入
り込み対向する部分である。段部17は長方形ABCD
をなす。段部17の上流側辺ABには上流端板20が側
方辺BCには横板21が設けられる。さらに段部の下流
側辺CDには下流端板22が、それぞれ板を折立てて形
成されている。図4では段部17のトラフ面からの高さ
kは縁板16の高さhと同じとなっている(k=h)
が、これは相違していても(k≠h)良い。窓箔フラン
ジ15の側面と、上流端板20、横板21、下流端板2
2は僅かな隙間を置いて対向するようになる。
部の横幅は10cm程度になる。つまり照射部ではトラ
フ張り出し部分の幅は65cmになる。このような余分
の部分は照射窓をトラフ間近に対向させるために必要で
ある。
7には振動によって粉粒体Sの一部が飛び上がることが
ある。粉粒体Sと言っても粉体に近いものと粒体である
ものがある。粒体は反対に段部17から落下することも
ある。しかし粒子の細かい粉体の方は段部17からなか
なかに落下しにくいものである。段部17にも振動があ
るから、それが前方の下流端板22まで進む。下流端板
22は振動の水平成分と直交する。振動成分が横方向に
存在しない。ために下流端板22に当たった粉体はそこ
に留まってしまう。大した量ではないが微小な粉体Sが
滞留する。例えば1時間当たりの処理量が500kgの
装置において、1時間〜2時間して段部に滞留する粉体
量は10g以下にすぎない。しかしそのような僅かな分
量であっても腐敗したり酸化したりするから処理物を汚
染する。如何に僅かな残留粉体といっても無視できない
問題である。
トラフの段部の下流端板を流れの方向に傾斜させる。下
流端板が流れ方向(x方向)と直交するから粉体が段部
に残留するのである。下流端板を傾けると振動によって
段部上の粉粒体が前向きに進み、端板の傾きによって導
かれて内側に進みトラフの本流へ落下する。ために粉粒
体が段部に残留しなくなる。段部はトラフの底部より上
になるが振動はしているから、やはり粉粒体を前進させ
る作用がある。下流端板が少しでも傾いていれば傾きに
そって粉粒体が前進してトラフ底面に戻る。段部での滞
留時間はごく極短いものであるから腐食、腐敗の惧れは
ない。段部の粉粒体残留による汚染という問題は解消さ
れる。それとともに休止時に、装置を分解掃除するとい
うような必要性もなくなる。
フの平面図を示す。図7には同じトラフの斜視図を示
す。図8は照射窓とトラフ拡大部分の一部の横断平面
図。図9は傾斜したトラフ段部の下流端板の部分での粉
粒体に掛かる力を説明するための横断平面図である。こ
れによって本発明の改良を説明する。
板に内向きの傾斜を与える事により粉粒体が振動ととも
にトラフに戻るようにしている。トラフ7の両側に縁板
16があり、これが粉粒体Sの側方への落下を防いでい
る。電子線の照射部14の近くではトラフが側方へ広が
る段部17、17を有する。段部17の上流側には上流
端板20が、側方には横板21が、下流側には下流端板
23が設けられる。
いうところが特徴である。下流端板23は図8のように
辺EFがy軸方向(FG)と傾斜角θをなしている。こ
の傾斜角は2゜〜30゜程度である。このように下流端
板23が斜めになるから、段部17は長方形にならず不
等脚台形ABEFになる。このために粉粒体Sが一旦段
部へ舞い上げられても、すぐにトラフ底面に落ちてしま
う。
すように段部17の下流端板23の近傍に粉粒体Sが存
在すると仮定する。段部17も振動コンベヤの一部だか
ら粉粒体Sは前向きの力fを受ける。これによって粉粒
体Sは下流端板23(EF)に衝突する。これがθだけ
傾斜しているから粉粒体は垂直抗力fcosθの力を下
流端板23から受ける。それとともにfsinθの内向
きの力も受ける。この力によって粉粒体Sは内側に弾き
飛ばされる。やがて中央のトラフ7へと粉粒体Sは落下
する。トラフに戻れば他の粉粒体と同じように振動によ
って前進して粉粒体出口13に至って装置から排出され
る。だから段部に粉体、粒体が残留しない。
する惧れはない。だから、これが他の粉粒体を汚染する
ことはない。また電子線照射装置を開いて、たびたび清
掃する必要はない。
子線照射処理を施した。振動コンベヤトラフ幅dが45
cm、周波数が30Hz、振幅が3mmで振動方向が4
5゜上向き斜めである。段部の横幅は10cmである。
電子線照射の処理量は100kg/Hである。トラフ段
部の下流端板の傾斜角θは5゜とした。この時、トラフ
側方段部に粉粒体が残留しないことを確かめた。粉粒体
の種類、振動コンベヤの振幅、周期、段部の高さkなど
によって適当な下流端板の傾斜角θの範囲が異なる。一
般には2゜〜30゜の範囲にある。
したので、振動によって粉体がトラフに戻りここに粉体
が残留しなくなる。長らく粉体、粒体が段部に残留しな
いから残留粉粒体の腐敗という問題はなくなる。残留粉
体が飛散して周りを汚染することはない。処理される対
象物の中に落ちて汚染するということもない。衛生的な
処理が可能になる。残留粉体による汚染の惧れがないか
ら電子線照射装置の運転休止中に装置を開き分解してた
びたびトラフの掃除をする必要がない。作業者の手間を
軽減することができる。
射する電子線照射装置の概略構成図。
射する電子線照射装置の振動コンベヤトラフの照射窓近
傍での一部横断平面図。
図。トラフ段部の下流端板が進行方向に直交する。
図。トラフ段部の下流端板が進行方向に直交する。
すためのトラフ、照射窓の縦断正面図。
図。トラフ段部の下流端板が進行方向に直交せず内向き
傾斜面となっている。
図。トラフ段部の下流端板が進行方向に直交せず内向き
傾斜面となっている。
面図。
から粉体が存在していると振動が内向きの分力を発生し
てトラフ底部に戻る事を説明する図。
Claims (1)
- 【請求項1】 振動コンベヤによって粉粒体を搬送し、
電子線を大気中へ導き粉粒体に電子線照射を行う電子線
照射装置において、照射窓を囲む振動コンベヤトラフの
一部である下流端板を進行方向に直交させず内側向きの
傾斜面としたことを特徴とする電子線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000271700A JP2002085029A (ja) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000271700A JP2002085029A (ja) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002085029A true JP2002085029A (ja) | 2002-03-26 |
Family
ID=18757945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000271700A Pending JP2002085029A (ja) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002085029A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007532899A (ja) * | 2004-04-13 | 2007-11-15 | テレダイン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 高エネルギー電子用の改良型ソース |
JP2015534073A (ja) * | 2012-10-10 | 2015-11-26 | ザイレコ,インコーポレイテッド | 機器保護筐体 |
JP2016512161A (ja) * | 2013-03-08 | 2016-04-25 | ザイレコ,インコーポレイテッド | 材料を処理するための格納庫 |
EP3528273A1 (de) * | 2018-02-20 | 2019-08-21 | Bühler AG | Vorrichtung und verfahren zum pasteurisieren und/oder sterilisieren von partikelförmigem gut |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11337700A (ja) * | 1998-05-25 | 1999-12-10 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線照射装置 |
JP2000006928A (ja) * | 1998-06-18 | 2000-01-11 | Nisshin Flour Milling Co Ltd | ケース内の破袋検出装置 |
-
2000
- 2000-09-07 JP JP2000271700A patent/JP2002085029A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11337700A (ja) * | 1998-05-25 | 1999-12-10 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線照射装置 |
JP2000006928A (ja) * | 1998-06-18 | 2000-01-11 | Nisshin Flour Milling Co Ltd | ケース内の破袋検出装置 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007532899A (ja) * | 2004-04-13 | 2007-11-15 | テレダイン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 高エネルギー電子用の改良型ソース |
US10176900B2 (en) | 2012-10-10 | 2019-01-08 | Xyleco, Inc. | Equipment protecting enclosures |
JP2015534073A (ja) * | 2012-10-10 | 2015-11-26 | ザイレコ,インコーポレイテッド | 機器保護筐体 |
US10589251B2 (en) | 2012-10-10 | 2020-03-17 | Xyleco, Inc. | Equipment protecting enclosures |
US10682623B2 (en) | 2013-03-08 | 2020-06-16 | Xyleco, Inc. | Array for processing materials |
US10549241B2 (en) | 2013-03-08 | 2020-02-04 | Xyleco, Inc. | Enclosures for treating materials |
JP2018187630A (ja) * | 2013-03-08 | 2018-11-29 | ザイレコ,インコーポレイテッド | 材料を処理するための格納庫 |
JP2016512161A (ja) * | 2013-03-08 | 2016-04-25 | ザイレコ,インコーポレイテッド | 材料を処理するための格納庫 |
EP3528273A1 (de) * | 2018-02-20 | 2019-08-21 | Bühler AG | Vorrichtung und verfahren zum pasteurisieren und/oder sterilisieren von partikelförmigem gut |
WO2019162343A1 (de) * | 2018-02-20 | 2019-08-29 | Bühler AG | Vorrichtung und verfahren zum pasteurisieren und/oder sterilisieren von partikelförmigem gut |
CN112204693A (zh) * | 2018-02-20 | 2021-01-08 | 布勒股份公司 | 用于对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的设备和过程 |
JP2021514237A (ja) * | 2018-02-20 | 2021-06-10 | ビューラー・アクチエンゲゼルシャフトBuehler AG | 粒子状の物品を低温殺菌および/または滅菌する装置および方法 |
JP7143428B2 (ja) | 2018-02-20 | 2022-09-28 | ビューラー・アクチエンゲゼルシャフト | 粒子状の物品を低温殺菌および/または滅菌する装置および方法 |
US11896041B2 (en) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | Bühler AG | Device and method for pasteurizing and/or sterilizing particulate material |
CN112204693B (zh) * | 2018-02-20 | 2024-06-04 | 布勒股份公司 | 用于对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的设备和过程 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20041109 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
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