JP2002063746A - Information recording medium and method for recording and reproducing the same - Google Patents
Information recording medium and method for recording and reproducing the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、情報を記録するた
めの記録層を有する情報記録媒体及びその記録再生方法
に関し、更に詳細には、高密度記録された情報を確実に
再生することができる情報記録媒体及びその記録再生方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium having a recording layer for recording information and a recording / reproducing method for the information recording medium. More specifically, it is possible to reliably reproduce information recorded at high density. The present invention relates to an information recording medium and a method for recording and reproducing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】コンピュータなどの外部メモリとして光
磁気ディスクなどの光磁気記録媒体が知られている。光
磁気記録媒体は動画像や音声などの大容量データを取り
扱うことができるため、マルチメディア時代の記録媒体
として頻繁に使用されている。かかる光磁気記録媒体
は、その記憶容量をより一層増やすことが望まれてお
り、これを実現するための方法として記録磁区を一層小
さくして高密度に情報を記録することが考えられる。記
録磁区を微小化して記録することは、記録クロックと同
期してパルス化された光を照射しながら記録信号に応じ
た極性の磁界を印加する光磁界変調方式を用いることで
可能である。2. Description of the Related Art A magneto-optical recording medium such as a magneto-optical disk is known as an external memory of a computer or the like. Magneto-optical recording media can handle large volumes of data such as moving images and audio, and are therefore frequently used as recording media in the multimedia age. It is desired to further increase the storage capacity of such a magneto-optical recording medium. As a method for achieving this, it is conceivable to record information at a high density by making the recording magnetic domain smaller. It is possible to perform recording by miniaturizing the recording magnetic domain by using an optical magnetic field modulation method of applying a magnetic field having a polarity corresponding to a recording signal while irradiating pulsed light in synchronization with a recording clock.
【０００３】しかし、微小な記録磁区を再生しようとし
た場合、再生光のスポット径は、レーザ波長及び光ヘッ
ドのＮＡの限界によりそれ以上小さくすることができな
いために、再生光スポット内に存在する複数の微小な記
録磁区を個別に再生することはできない。すなわち、再
生光の分解能が足りないため個々の微小な記録磁区を再
生することができない。それゆえ、微小な記録磁区より
も大きな再生光スポットであっても、その微小な記録磁
区を再生する技術が求められている。However, when trying to reproduce a minute recording magnetic domain, the spot diameter of the reproduction light cannot be reduced any more due to the limitation of the laser wavelength and the NA of the optical head, and therefore exists in the reproduction light spot. A plurality of minute recording magnetic domains cannot be reproduced individually. That is, since the resolution of the reproduction light is insufficient, it is not possible to reproduce each minute recording magnetic domain. Therefore, there is a need for a technique for reproducing a minute recording magnetic domain even if the reproducing light spot is larger than a minute recording magnetic domain.
【０００４】この問題を解決するための一つの方法とし
て、磁気超解像再生方式（ＭＳＲ；Magnetically-induc
ed Super Resolution）が提案されている。ＭＳＲ技術
は、再生光スポット内における再生領域の位置に応じ
て、ＦＡＤ（Front Aperture Detection；前方開口検
出）方式、ＲＡＤ（Rear Aperture Detection；後方開
口検出）方式、ＣＡＤ（Center Aperture Detection；
中央開口検出）方式の３種類に大きく分類される。かか
る磁気超解像再生方式を用いれば、現状の大きさの再生
スポット径で微小な記録磁区を個別に再生することがで
きる。As one method for solving this problem, a magnetic super-resolution reproduction method (MSR; Magnetically-inducible
ed Super Resolution) has been proposed. According to the MSR technique, a FAD (Front Aperture Detection; front aperture detection) method, a RAD (Rear Aperture Detection; rear aperture detection) method, a CAD (Center Aperture Detection;
(Central aperture detection) method. By using such a magnetic super-resolution reproducing method, it is possible to individually reproduce minute recording magnetic domains with a reproducing spot diameter of the current size.
【０００５】また、更に微小な磁区を再生する技術とし
て、例えば、磁区拡大再生技術（ＭＡＭＭＯＳ；Magnet
ic Amplifying Magneto-Optical System）が提案されて
いる。この技術を用いれば、記録層に記録された磁区
（磁化情報）を再生層に転写拡大して再生することで現
状の再生スポット径で微小な磁区を十分大きな再生信号
強度で再生することが可能である。Further, as a technique for reproducing a finer magnetic domain, for example, a magnetic domain expansion reproduction technique (MAMMOS; Magnet
ic Amplifying Magneto-Optical System). With this technology, magnetic domains (magnetization information) recorded on the recording layer are transferred to the reproducing layer and enlarged for reproduction, whereby it is possible to reproduce minute magnetic domains with the current reproducing spot diameter with a sufficiently large reproducing signal intensity. It is.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところが、本発明者ら
の研究によると、磁区拡大再生方式において、例えば、
磁区長が０．１０μｍ以下の極めて微小な記録磁区を微
小な再生光スポットで再生した場合に、ビットエラーレ
ート（ＢＥＲ）が高く、再生が困難となることがあっ
た。これは、記録層の微小な磁区が再生層に確実に転写
されないことが原因の一つであることがわかった。However, according to the study of the present inventors, in the magnetic domain expansion reproduction method, for example,
When an extremely minute recording magnetic domain having a magnetic domain length of 0.10 μm or less is reproduced with a minute reproducing light spot, a bit error rate (BER) is high, and reproduction may be difficult. It has been found that this is one of the causes of the fact that minute magnetic domains in the recording layer are not reliably transferred to the reproducing layer.
【０００７】本発明は、上記従来技術の問題を解決する
ためになされたものであり、その目的は、高密度に記録
された情報を微小な光スポットを用いて確実に再生する
ことができる情報記録媒体及びその記録再生方法を提供
することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide information capable of reliably reproducing information recorded at high density by using a minute light spot. An object of the present invention is to provide a recording medium and a recording / reproducing method thereof.
【０００８】[0008]
【発明を解決するための手段】本発明の第１の態様に従
えば、基板と、情報を記録するための記録層とを備える
情報記録媒体において、該情報記録媒体の記録または再
生に用いられるレーザー光の波長をλ、該レーザー光を
集光するための対物レンズの開口数をＮＡ、上記基板表
面の中心線平均粗さをＲａとしたときに、 ８×１０−５≦Ｒａ×ＮＡ／λ≦１×１０−３ の関係を満足するような基板表面の中心線平均粗さＲａ
を有する基板を備えることを特徴とする情報記録媒体が
提供される。According to the first aspect of the present invention,
For example, comprising a substrate and a recording layer for recording information
In the information recording medium, the recording or reproduction of the information recording medium is performed.
The wavelength of the laser light used for raw is λ,
The numerical aperture of the objective lens for focusing is NA,
When the center line average roughness of the surface is Ra, 8 × 10-5≦ Ra × NA / λ ≦ 1 × 10-3 Center line average roughness Ra that satisfies the relationship
An information recording medium comprising a substrate having
Provided.
【０００９】本発明の情報記録媒体は、記録または再生
の際に媒体に照射される光のスポット径に対して、下記
不等式を満足するような中心線平均粗さＲａを有する基
板を備える。An information recording medium according to the present invention includes a substrate having a center line average roughness Ra satisfying the following inequality with respect to the spot diameter of light irradiated on the medium during recording or reproduction.
【００１０】 ８×１０−５≦Ｒａ×ＮＡ／λ≦１×１０−３ 8 × 10 −5 ≦ Ra × NA / λ ≦ 1 × 10 −3
【００１１】上記不等式中、λは記録または再生の際に
媒体に照射されるレーザー光の波長を、ＮＡはレーザー
光を媒体上で収束させるための対物レンズの開口数を表
し、情報記録媒体上に形成される光スポットのスポット
径は通常λ／ＮＡで表される。本明細書において、「中
心線平均粗さＲａ」はＪＩＳ（日本工業規格）の規格
（Ｂ ０６０１）に基づく。基板の表面粗さの測定に
は、例えば、位相差測定法や、非点収差法、ＡＦＭ（At
omic Force Microscope；原子間力顕微鏡）などを利用
することができる。後述する実施例においてはＡＦＭを
用いた。In the above inequality, λ represents the wavelength of the laser beam irradiated on the medium during recording or reproduction, NA represents the numerical aperture of the objective lens for converging the laser beam on the medium, and Is usually represented by λ / NA. In this specification, the “center line average roughness Ra” is based on JIS (Japanese Industrial Standards) standard (B0601). For measuring the surface roughness of the substrate, for example, a phase difference measurement method, an astigmatism method, an AFM (At
An omic Force Microscope (atomic force microscope) or the like can be used. AFM was used in the examples described later.
【００１２】上記不等式において、Ｒａ×ＮＡ／λは、
情報記録媒体の所定の層上に形成される光スポットのス
ポット径（λ／ＮＡ）に対する基板表面の中心線平均粗
さＲａを表している。例えば、記録再生時に、情報記録
媒体の所定の層上に形成される光スポットのスポット径
が１μｍ程度であるならば、情報記録媒体を構成する基
板を、その表面の中心線平均粗さＲａが０．０８ｎｍ〜
１ｎｍの範囲内になるように表面処理すれば良い。この
ように、本発明の情報記録媒体は、記録再生時に媒体上
に形成される光スポットのスポット径に応じて、基板表
面の中心線平均粗さを調整した基板を用いる。それゆ
え、かかる情報記録媒体は、高Ｃ／Ｎで且つ低ビットエ
ラーレート（ＢＥＲ）で情報を再生することができる。In the above inequality, Ra × NA / λ is:
It shows the center line average roughness Ra of the substrate surface with respect to the spot diameter (λ / NA) of the light spot formed on a predetermined layer of the information recording medium. For example, if the spot diameter of a light spot formed on a predetermined layer of the information recording medium during recording / reproducing is about 1 μm, the substrate constituting the information recording medium may have a center line average roughness Ra of the surface. 0.08 nm ~
The surface treatment may be performed so as to be within the range of 1 nm. As described above, the information recording medium of the present invention uses a substrate in which the center line average roughness of the substrate surface is adjusted in accordance with the spot diameter of the light spot formed on the medium during recording and reproduction. Therefore, such an information recording medium can reproduce information at a high C / N and a low bit error rate (BER).
【００１３】本発明の情報記録媒体は、例えば、基板上
に情報を磁気的に記録する記録層と、記録層に記録され
た情報が再生時に磁気的に転写される再生層とを備える
ような光磁気記録媒体にすることが好ましく、磁気超解
像再生方式や磁区拡大再生方式に従う光磁気記録媒体に
することが一層好ましい。これにより、光スポット径よ
りも微小な記録磁区であっても確実に再生層に転写して
低いエラーレートで情報を再生することができる。以下
その理由について説明する。An information recording medium according to the present invention includes, for example, a recording layer for magnetically recording information on a substrate, and a reproducing layer on which information recorded on the recording layer is magnetically transferred during reproduction. It is preferable to use a magneto-optical recording medium, and it is more preferable to use a magneto-optical recording medium that complies with a magnetic super-resolution reproducing method or a magnetic domain expansion reproducing method. As a result, even if the recording magnetic domain is smaller than the light spot diameter, the information can be reliably transferred to the reproducing layer and reproduced at a low error rate. The reason will be described below.
【００１４】本発明者らの研究によると、磁気超解像再
生方式や磁区拡大再生方式において、例えばマーク長が
０．１０μｍの繰り返し記録マークを再生してビットエ
ラーレート（ＢＥＲ）を測定すると、１０−４以上とな
る場合があった。磁気超解像再生方式や磁区拡大再生方
式においては、記録層からの情報を確実に再生層へ転写
させる必要があり、特に、磁区拡大再生方式では、記録
層から転写された磁気マークを再生層内で光スポット程
度にまで拡大させる必要がある。上記ビットエラーレー
ト（ＢＥＲ）の低下は、記録層に形成された微小な磁区
が再生層に転写されていなかったり、若しくは、再生層
に転写された記録磁区が再生層内で十分な大きさに拡大
されていないためと考えられる。According to the study by the present inventors, in the magnetic super-resolution reproducing method and the magnetic domain enlarging reproducing method, for example, when a repeatedly recorded mark having a mark length of 0.10 μm is reproduced and a bit error rate (BER) is measured, In some cases, it became 10 -4 or more. In the magnetic super-resolution reproduction method and the magnetic domain expansion reproduction method, it is necessary to transfer information from the recording layer to the reproduction layer without fail.In particular, in the magnetic domain expansion reproduction method, the magnetic mark transferred from the recording layer is reproduced by the reproduction layer. It is necessary to enlarge it to about a light spot inside. The decrease in the bit error rate (BER) is caused by the fact that minute magnetic domains formed in the recording layer are not transferred to the reproducing layer or the recording magnetic domains transferred to the reproducing layer are sufficiently large in the reproducing layer. Probably because it has not been expanded.
【００１５】本発明者らは、更なる研究の結果、再生層
の転写不良や拡大不安定は、基板表面に存在する、レー
ザー光スポット径よりも小さな凹凸の部分において発生
することを見出した。情報記録媒体に用いられる基板
は、通常、射出成型などにより得られ、成型された基板
の表面には微小な凹凸が存在している。かかる基板表面
の凹凸が磁気転写を伴う方式の媒体においては問題とな
ることがわかった。特に、高密度化のために記録磁区が
微小化され、それを読み出すための光スポット径も微小
化されると、基板表面の凹凸が再生信号に及ぼす影響も
著しいことがわかった。As a result of further studies, the present inventors have found that poor transfer and expansion instability of the reproducing layer occur in a portion of the substrate surface having irregularities smaller than the laser beam spot diameter. A substrate used for an information recording medium is usually obtained by injection molding or the like, and the surface of the molded substrate has minute irregularities. It has been found that such irregularities on the substrate surface pose a problem in a medium of the type involving magnetic transfer. In particular, it was found that when the recording magnetic domain was miniaturized for high density and the light spot diameter for reading it was also miniaturized, the unevenness of the substrate surface had a remarkable effect on the reproduction signal.
【００１６】磁気超解像方式や磁区拡大再生方式のよう
な、再生時に、記録層に記録された磁区を再生層に転写
する過程を経る再生方式は、再生時に再生層内で磁化回
転（磁化反転）や磁壁移動を伴う、いわば磁気的に動的
な再生方式である。このような再生方式の場合、レーザ
ー光のスポット径より小さい凹凸、すなわち基板表面に
存在する光学的分解能以下の微細な凹凸は、再生時の磁
化回転や磁壁移動を阻害する。これは、基板表面の凹凸
によって再生層の磁気的な性質がその周辺部で局所的に
変化することによる。すなわち、基板上に再生層などの
磁性体薄膜を成膜すると、基板表面の凹凸付近に成膜さ
れた磁性体薄膜には局所的に内部応力が発生する。かか
る内部応力は磁性体薄膜の磁気的性質に影響を及ぼし、
保磁力の不均一や磁壁移動に対するピン止めが生じると
考えられる。この磁気的性質の影響が及ぶ範囲は、基板
表面の凹凸サイズの１０〜２０倍に相当する。それゆ
え、基板表面の凹凸が光学分解能以下のサイズであって
も、記録層に形成される記録磁区が微小である場合には
結果として再生信号ノイズとして発現してしまう。In a reproducing method such as a magnetic super-resolution method or a magnetic domain enlarging reproducing method, a magnetic domain recorded on a recording layer is transferred to a reproducing layer at the time of reproducing. This is a so-called magnetically dynamic reproduction method involving inversion and domain wall movement. In the case of such a reproducing method, irregularities smaller than the spot diameter of the laser beam, that is, minute irregularities existing on the substrate surface and having optical resolution or less, hinder magnetization rotation and domain wall movement during reproduction. This is because the magnetic properties of the reproducing layer locally change in the peripheral portion due to the unevenness of the substrate surface. That is, when a magnetic thin film such as a reproducing layer is formed on a substrate, an internal stress is locally generated in the magnetic thin film formed near irregularities on the surface of the substrate. Such internal stress affects the magnetic properties of the magnetic thin film,
It is considered that coercive force non-uniformity and pinning against domain wall movement are caused. The range affected by the magnetic properties corresponds to 10 to 20 times the size of the irregularities on the substrate surface. Therefore, even if the irregularities on the substrate surface are smaller than the optical resolution, if the recording magnetic domains formed in the recording layer are minute, they will appear as reproduction signal noise as a result.
【００１７】本発明では、記録または再生時の光照射に
より媒体上に形成される光スポット径に対して基板表面
の中心線平均粗さＲａを上記範囲内にすることにより、
再生層の保磁力の不均一や磁壁移動に対するピン止めを
低減することができる。すなわち、光スポット径に比べ
て基板表面のラフネス（粗さ）を小さくすることによ
り、成膜後の再生層などの磁性体薄膜の表面のラフネス
も小さくなり、その結果、再生層の保磁力の不均一さが
低減され、再生層に確実に記録マーク（記録磁区）を転
写することができる。したがって、微小な記録マークを
微小な光スポットを用いて再生する場合であっても、高
いキャリア／ノイズ（Ｃ／Ｎ）を維持して再生すること
ができる。特に、ＭＡＭＭＯＳ用の光磁気記録媒体の場
合には、再生層に転写された記録マークが拡大するとき
に、再生層内で磁壁移動がスムーズに起こり、転写され
た記録マークを光スポット程度にまで安定して拡大させ
ることができるので、大きな再生信号強度で情報を再生
することが可能となる。In the present invention, the center line average roughness Ra of the substrate surface is set within the above range with respect to the diameter of a light spot formed on the medium by light irradiation during recording or reproduction.
Non-uniform coercive force of the reproducing layer and pinning against domain wall movement can be reduced. That is, by reducing the roughness (roughness) of the substrate surface as compared with the light spot diameter, the surface roughness of the magnetic thin film such as the reproduction layer after film formation is also reduced, and as a result, the coercive force of the reproduction layer is reduced. Non-uniformity is reduced, and recording marks (recorded magnetic domains) can be reliably transferred to the reproducing layer. Therefore, even when a minute recording mark is reproduced using a minute light spot, reproduction can be performed while maintaining a high carrier / noise (C / N). In particular, in the case of a magneto-optical recording medium for MAMMOS, when a recording mark transferred to the reproducing layer expands, domain wall movement occurs smoothly in the reproducing layer, and the transferred recording mark is reduced to a light spot. Since the information can be stably expanded, information can be reproduced with a large reproduction signal intensity.
【００１８】本発明において、情報記録時または再生時
に情報記録媒体に照射する光のスポットが、高密度化の
ために微小化された場合は、上記不等式を満足するよう
に基板表面の中心線平均粗さＲａを小さくした基板を用
いて情報記録媒体を構成することが好ましい。一方、大
きな光スポットを用いる場合には、基板表面の中心線平
均粗さＲａが大きな基板を用いて媒体を構成することも
できるが、高密度記録化の要求にそぐわない。このよう
に記録再生時に照射される光のスポット径に応じて、基
板表面の中心線平均粗さＲａが調整された基板を用いる
ことにより、情報再生時に記録層に記録された情報を再
生層に確実に転写させることが可能となる。本発明にお
いて、Ｒａ×ＮＡ／λは１×１０−４〜８×１０−４が
一層好ましい。かかる範囲内にすることによりエラーレ
ートを一層低減し、大きな再生信号強度を得ることがで
きる。In the present invention, when the spot of light applied to the information recording medium at the time of information recording or reproduction is miniaturized for high density, the center line average of the substrate surface is adjusted so as to satisfy the above inequality. It is preferable to configure the information recording medium using a substrate having a reduced roughness Ra. On the other hand, when a large light spot is used, the medium can be formed using a substrate having a large center line average roughness Ra on the substrate surface, but this does not meet the demand for high density recording. As described above, by using a substrate whose center line average roughness Ra is adjusted in accordance with the spot diameter of light irradiated at the time of recording / reproduction, information recorded on the recording layer at the time of information reproduction is recorded on the reproduction layer. Transfer can be performed reliably. In the present invention, Ra × NA / λ is more preferably 1 × 10 −4 to 8 × 10 −4 . By setting it within such a range, the error rate can be further reduced and a large reproduced signal intensity can be obtained.
【００１９】また、本発明において、情報記録時または
情報再生時に情報記録媒体に照射する光の波長λは７８
０ｎｍ〜４００ｎｍに、情報記録媒体上に光を集光する
ための対物レンズの開口数ＮＡは０．５５〜１．９にし
得る。この場合、情報再生時に情報記録媒体を構成する
膜上に形成される光スポット径は１．４μｍ〜０．２μ
ｍ程度になる。このとき、光スポット径と中心線平均粗
さＲａの関係は図１０で示したグラフのようになる。情
報記録時または情報再生時に情報記録媒体に照射する光
スポットのスポット径がわかっている場合は、情報記録
媒体を構成する基板は、図１０の２本の実線で挟まれた
領域Ａ、望ましくは２本の破線で挟まれた領域Ｂに中心
線平均粗さＲａの値が含まれるように表面粗さが平滑化
されていることが好ましい。基板の表面をかかる範囲に
平滑化するには、例えば次のような手段を用いることが
できる。In the present invention, the wavelength λ of the light irradiated on the information recording medium during information recording or information reproduction is 78.
The numerical aperture NA of the objective lens for condensing light on the information recording medium can be 0.55 to 1.9 between 0 nm and 400 nm. In this case, the diameter of the light spot formed on the film constituting the information recording medium during information reproduction is from 1.4 μm to 0.2 μm.
m. At this time, the relationship between the light spot diameter and the center line average roughness Ra is as shown in the graph of FIG. When the spot diameter of the light spot irradiated on the information recording medium at the time of information recording or information reproduction is known, the substrate constituting the information recording medium is a region A sandwiched between two solid lines in FIG. It is preferable that the surface roughness is smoothed so that the value of the center line average roughness Ra is included in the region B sandwiched between the two broken lines. In order to smooth the surface of the substrate to such a range, for example, the following means can be used.
【００２０】（１）成形基板の表面を紫外線照射する。 （２）成形基板を加熱処理する。 （３）成形基板の表面をプラズマ照射する。(1) The surface of the molded substrate is irradiated with ultraviolet rays. (2) Heat treatment of the molded substrate. (3) The surface of the molded substrate is irradiated with plasma.
【００２１】（１）〜（３）の方法を用いて基板表面を
平滑化したときに、時間に応じて基板表面の中心線平均
粗さＲａが変化する様子を図３〜５のグラフにそれぞれ
示した。図３〜５のグラフから、（１）〜（３）のいず
れの方法を用いても基板表面のＲａを小さくできること
が分かる。また、基板表面のＲａの値は、プラズマ照射
法や紫外線照射法の場合には照射時間を、加熱処理の場
合には加熱時間や加熱温度を制御することによって調節
することができる。FIGS. 3 to 5 show how the center line average roughness Ra of the substrate surface changes with time when the substrate surface is smoothed using the methods (1) to (3). Indicated. It can be seen from the graphs of FIGS. 3 to 5 that Ra on the substrate surface can be reduced by using any of the methods (1) to (3). Further, the value of Ra on the substrate surface can be adjusted by controlling the irradiation time in the case of the plasma irradiation method or the ultraviolet irradiation method, and controlling the heating time or the heating temperature in the case of the heat treatment.
【００２２】本発明の第２の態様に従えば、基板と、情
報を記録するための記録層を備える情報記録媒体の記録
再生方法において、上記基板表面の中心線平均粗さがＲ
ａである場合、情報の記録または再生の際に、上記情報
記録媒体に照射する波長λのレーザー光と、該レーザー
光を情報記録媒体上に集光するための開口数ＮＡの対物
レンズとを、８×１０−５≦Ｒａ×ＮＡ／λ≦１×１０
−３の関係を満足するように選択することを特徴とする
情報記録媒体の記録再生方法が提供される。According to a second aspect of the present invention, in the method for recording / reproducing an information recording medium having a substrate and a recording layer for recording information, the center line average roughness of the substrate surface is R
In the case of a, when recording or reproducing information, a laser beam having a wavelength λ applied to the information recording medium and an objective lens having a numerical aperture NA for condensing the laser beam on the information recording medium are used. , 8 × 10 −5 ≦ Ra × NA / λ ≦ 1 × 10
A recording / reproducing method for an information recording medium, characterized in that selection is made so as to satisfy the relationship of -3 .
【００２３】本発明の記録再生方法では、情報記録媒体
を構成する基板が中心線平均粗さとしてＲａの表面粗さ
を有する場合に、記録再生時に、下記不等式を満足する
ような光の波長λ及び対物レンズの開口数ＮＡを用いて
記録再生を行う。According to the recording / reproducing method of the present invention, when a substrate constituting an information recording medium has a surface roughness of Ra as a center line average roughness, a light wavelength λ satisfying the following inequality during recording / reproducing: Recording and reproduction are performed using the numerical aperture NA of the objective lens.
【００２４】 ８×１０−５≦Ｒａ×ＮＡ／λ≦１×１０−３ 8 × 10 −5 ≦ Ra × NA / λ ≦ 1 × 10 −3
【００２５】このように情報記録媒体を構成する基板の
表面粗さに応じて、光の波長及び対物レンズの開口数
（すなわち媒体上に形成する光スポット径）を適宜選択
することにより、情報記録媒体に高密度記録された情報
を確実に再生することできる。As described above, by appropriately selecting the wavelength of light and the numerical aperture of the objective lens (that is, the diameter of the light spot formed on the medium) in accordance with the surface roughness of the substrate constituting the information recording medium, information recording can be performed. Information recorded at high density on a medium can be reliably reproduced.
【００２６】本発明の記録再生方法において、情報記録
媒体の記録層に形成される記録マークの最短マーク長
が、基板表面の中心線平均粗さＲａの５０倍〜１５００
倍の範囲内になるように情報を記録することが好まし
い。最短マーク長がＲａの５０倍未満である場合は、記
録マークを決定するための記録層内のピン止め点（ピン
ニングサイト）が減少し、微小磁区を安定に記録できな
くなる恐れがあり、また、最短記録マークが、Ｒａの１
５００倍よりも大きい場合は、記録マークが再生層に正
確に転写または転写拡大できなくなる恐れがある。In the recording / reproducing method of the present invention, the shortest mark length of the recording mark formed on the recording layer of the information recording medium is 50 times to 1500 times the center line average roughness Ra of the substrate surface.
It is preferable to record the information so as to be within the double range. When the shortest mark length is less than 50 times Ra, the number of pinning points (pinning sites) in the recording layer for determining a recording mark is reduced, and there is a possibility that a minute magnetic domain cannot be stably recorded. The shortest recording mark is Ra 1
If it is larger than 500 times, there is a possibility that the recording mark cannot be accurately transferred or transferred to the reproduction layer.
【００２７】[0027]
【発明の実施の形態】以下、本発明に従う光磁気記録媒
体の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれ
に限定されるものではない。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the magneto-optical recording medium according to the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited thereto.
【００２８】[0028]
【実施例１】図１に、本発明に従う光磁気記録媒体の概
略断面構造を示す。光磁気記録媒体１００は、透明基板
１上に誘電体層２、再生層３、再生補助層４、非磁性層
５、記録層６、記録補助層７、保護層８及び放熱層９を
順次積層した構造を有する。図１に示した構造におい
て、透明基板１は、不図示の射出成形機を用いて作製し
たポリカーボネート基板であり、その表面にはレーザー
光案内用のグルーブ部と、隣り合うグルーブ部によって
画成されたランド部とが形成されている。基板１は、射
出成形時において、中心線平均粗さＲａ＝約１．５ｎｍ
の凹凸を有する。基板１は、後述する方法により中心線
平均粗さＲａが小さくなるように表面処理した。FIG. 1 shows a schematic sectional structure of a magneto-optical recording medium according to the present invention. In the magneto-optical recording medium 100, a dielectric layer 2, a reproducing layer 3, a reproducing auxiliary layer 4, a nonmagnetic layer 5, a recording layer 6, a recording auxiliary layer 7, a protective layer 8, and a heat radiation layer 9 are sequentially laminated on a transparent substrate 1. It has the following structure. In the structure shown in FIG. 1, the transparent substrate 1 is a polycarbonate substrate produced by using an injection molding machine (not shown), and its surface is defined by a groove portion for guiding laser light and an adjacent groove portion. Land portions are formed. The substrate 1 has a center line average roughness Ra of about 1.5 nm during injection molding.
Having irregularities. The substrate 1 was subjected to a surface treatment by a method described later so as to reduce the center line average roughness Ra.
【００２９】図１において、誘電体層２は、情報再生時
に層内で再生用光ビームを多重干渉させ、検出されるカ
ー回転角を実質的に増加させるための層であり、ＳｉＮ
を用いて構成される。再生層３は、記録層６の磁区が転
写される層であり、フェリ磁性を示す面内磁化膜ＧｄＦ
ｅＣｏを用いて構成される。再生補助層４は、光スポッ
ト内に磁気的マスクを形成するための層であり、ＧｄＦ
ｅＣｏを用いて構成される。かかる再生補助層４は、情
報再生時に光スポットの中心部に開口部が形成されるよ
うな磁気特性を有する。非磁性層５は、再生補助層４と
記録層６の交換結合力を切断して静磁結合させるための
層であり、ＳｉＮを用いて構成される。記録層６は、情
報が磁化情報として記録される層であり、垂直磁化を有
する希土類−遷移金属非晶質膜ＴｂＦｅＣｏを用いて構
成される。記録補助層７は、記録層６と交換結合し、よ
り小さい変調磁界で記録を可能とするために設けられる
層であり、面内磁化を有する希土類−遷移金属の非晶質
膜のＧｄＦｅＣｏを用いて構成される。保護層８は、基
板１上に積層された各層２〜７を保護するための層であ
り、ＳｉＮを用いて構成される。放熱層９は記録時に効
率よく熱を逃すための層であり、ＡｌＴｉを用いて構成
される。In FIG. 1, a dielectric layer 2 is a layer for causing a reproduction light beam to cause multiple interference in the layer at the time of reproducing information, thereby substantially increasing the detected Kerr rotation angle.
It is configured using The reproducing layer 3 is a layer to which the magnetic domains of the recording layer 6 are transferred, and has an in-plane magnetic film GdF showing ferrimagnetism.
It is configured using eCo. The reproduction auxiliary layer 4 is a layer for forming a magnetic mask in the light spot, and has a GdF
It is configured using eCo. Such a reproduction auxiliary layer 4 has magnetic characteristics such that an opening is formed at the center of a light spot during information reproduction. The non-magnetic layer 5 is a layer for cutting the exchange coupling force between the auxiliary reproduction layer 4 and the recording layer 6 to perform magnetostatic coupling, and is made of SiN. The recording layer 6 is a layer in which information is recorded as magnetization information, and is configured using a rare earth-transition metal amorphous film TbFeCo having perpendicular magnetization. The recording auxiliary layer 7 is a layer that is exchange-coupled with the recording layer 6 and is provided to enable recording with a smaller modulation magnetic field, and uses a rare earth-transition metal amorphous film GdFeCo having in-plane magnetization. It is composed. The protective layer 8 is a layer for protecting each of the layers 2 to 7 laminated on the substrate 1 and is configured using SiN. The heat radiation layer 9 is a layer for efficiently releasing heat during recording, and is made of AlTi.
【００３０】つぎに、これらの層２〜９を備える光磁気
記録媒体の製造方法について説明する。Next, a method for manufacturing a magneto-optical recording medium having these layers 2 to 9 will be described.
【００３１】基板の表面処理 不図示の射出成形により得られた基板の表面処理を行
う。基板の表面処理には、前述の（３）の紫外線照射法
を用い、次のようにして基板表面を平滑化する。まず、
ピーク波長λ＝２５６ｎｍ、１５０Ｗの紫外線ランプに
対向して配置されたスピンドル上に基板を載置する。こ
のとき、基板表面がランプから７０ｍｍの距離になるよ
うに設置される。次いで、スピンドルを２ｒｐｍの速度
で回転させながら３０ｍＷ／ｃｍ２の照度にて紫外線を
照射した。紫外線照射時間に対する基板表面の中心線平
均粗さＲａの変化の様子は図３のグラフのようになる。
基板表面の中心線平均粗さＲａはＡＦＭ（Atomic Force
Microscope）を用いて測定した。Substrate Surface Treatment A substrate obtained by injection molding (not shown) is subjected to surface treatment. For the surface treatment of the substrate, the above-mentioned ultraviolet irradiation method (3) is used, and the substrate surface is smoothed as follows. First,
The substrate is mounted on a spindle arranged opposite to an ultraviolet lamp having a peak wavelength λ = 256 nm and 150 W. At this time, it is set so that the substrate surface is at a distance of 70 mm from the lamp. Then, ultraviolet rays were irradiated at an illuminance of 30 mW / cm 2 while rotating the spindle at a speed of 2 rpm. The state of the change in the center line average roughness Ra of the substrate surface with respect to the ultraviolet irradiation time is as shown in the graph of FIG.
The center line average roughness Ra of the substrate surface is AFM (Atomic Force
Microscope).
【００３２】図３のグラフから、紫外線照射時間が長く
なるに伴ってＲａは低下し、約６０秒の照射により初期
の値の約半分に減少している。そして、１２０秒以上の
紫外線照射で０．５ｎｍ以下にまで低下して飽和してい
ることがわかる。本実施例では、かかる表面処理を行な
うことによって基板表面の中心線平均粗さＲａが０．１
０、０．２６、０．４７、０．６１、０．９０、１．３
２の６種類の基板を作製した。また、表面処理を行なっ
ていない基板（表面の中心線平均粗さＲａ＝１．５ｎ
ｍ）も用意し、これらの基板上に、上記層２〜７を、不
図示のスパッタ装置を用いて、以下に示す条件にて順次
成膜して、７種類の光磁気記録媒体を作製した。From the graph of FIG. 3, Ra decreases as the ultraviolet irradiation time increases, and decreases to about half of the initial value by irradiation for about 60 seconds. Then, it can be seen that the saturation is lowered to 0.5 nm or less by ultraviolet irradiation for 120 seconds or more, and saturation is achieved. In this embodiment, by performing such a surface treatment, the center line average roughness Ra of the substrate surface becomes 0.1%.
0, 0.26, 0.47, 0.61, 0.90, 1.3
Two types of substrates 2 were produced. In addition, a substrate not subjected to surface treatment (the center line average roughness Ra of the surface is Ra = 1.5 n
m) were also prepared, and the above layers 2 to 7 were sequentially formed on these substrates by using a sputtering apparatus (not shown) under the following conditions to produce seven types of magneto-optical recording media. .
【００３３】誘電体層２の成膜では、ターゲット材料と
してＳｉを用い、Ａｒ＋Ｎ２雰囲気中で成膜を行い、膜
厚を６０ｎｍとした。再生層３は、Ｇｄの単体ターゲッ
ト及びＦｅＣｏの合金ターゲットを同時スパッタして成
膜した。同時スパッタにおいて、各ターゲットヘの投入
電力の比を制御して、室温で面内磁化膜となり、補償温
度及びキュリー温度がそれぞれ約３１０℃、約３３０℃
になるように膜組成を調節した。このように補償温度と
キュリー温度を近づけて設定することにより、室温にお
いて面内磁化を示していた膜は、高温において垂直磁化
膜となる。本実施例の光磁気記録媒体では、磁化方向が
膜面内から垂直方向に変化する温度（垂直化温度）が約
１５０℃になるように設定した。再生層３の膜厚は５０
ｎｍとした。[0033] In the deposition of the dielectric layer 2, using Si as a target material, subjected to deposition in Ar + N 2 atmosphere, was 60nm thickness. The reproducing layer 3 was formed by simultaneously sputtering a single target of Gd and an alloy target of FeCo. In the simultaneous sputtering, the ratio of the power applied to each target is controlled to form an in-plane magnetized film at room temperature, and the compensation temperature and Curie temperature are about 310 ° C. and about 330 ° C., respectively.
The film composition was adjusted so that By setting the compensation temperature and the Curie temperature close to each other in this manner, a film that has shown in-plane magnetization at room temperature becomes a perpendicular magnetization film at a high temperature. In the magneto-optical recording medium of this embodiment, the temperature at which the magnetization direction changes from the in-plane direction to the vertical direction (verticalization temperature) is set to about 150 ° C. The thickness of the reproducing layer 3 is 50
nm.
【００３４】非磁性層５の成膜では膜厚を５ｎｍとし
た。記録層６の成膜では、Ｔｂの単体ターゲット及びＦ
ｅＣｏの合金ターゲットを同時スパッタし、補償温度が
約２５℃、キュリー温度が２３０℃になるように記録層
の膜組成を調整した。記録層６の膜厚は５０ｎｍとし
た。記録補助層７の成膜では、Ｇｄの単体ターゲット及
びＦｅＣｏの合金ターゲットを同時スパッタして成膜し
た。同時スパッタにおいて、各ターゲットへの投入電力
の比を制御して、低温から３００℃以上まで面内磁化を
有するように膜組成を調節した。In forming the non-magnetic layer 5, the thickness was set to 5 nm. In forming the recording layer 6, a single target of Tb and F
An eCo alloy target was sputtered simultaneously, and the film composition of the recording layer was adjusted so that the compensation temperature was about 25 ° C. and the Curie temperature was 230 ° C. The thickness of the recording layer 6 was 50 nm. In forming the recording auxiliary layer 7, a single target of Gd and an alloy target of FeCo were simultaneously sputtered to form a film. In the simultaneous sputtering, the film composition was adjusted so as to have an in-plane magnetization from a low temperature to 300 ° C. or more by controlling the ratio of the power supplied to each target.
【００３５】保護層８の成膜は、Ａｒ＋Ｎ２雰囲気中で
行ない、ターゲット材料としてＳｉを用い、膜厚を２０
ｎｍとした。放熱層９の成膜ではＡｌＴｉの合金をター
ゲットに用い、膜厚は３０ｎｍとした。こうして図１に
示す積層構造を有する光磁気記録媒体１００を作製し
た。The protective layer 8 is formed in an atmosphere of Ar + N 2 , using Si as a target material and
nm. In forming the heat radiation layer 9, an AlTi alloy was used as a target, and the film thickness was 30 nm. Thus, a magneto-optical recording medium 100 having the laminated structure shown in FIG. 1 was manufactured.
【００３６】こうして得られた光磁気記録媒体は、ＣＡ
Ｄタイプの磁気超解像再生方式に従う。すなわち、ＣＡ
Ｄタイプの磁気超解像再生では、媒体に再生用レーザー
光を照射すると、再生層に形成された光スポットの中央
部に高温領域（垂直化温度以上の温度領域）が形成され
る。かかる光スポット中央部の高温領域において再生層
の磁化の方向が膜面内から垂直方向に変わり、記録層の
記録磁区の磁化が転写される。かかる磁気転写を受ける
光スポット中央部の高温領域は開口部と呼ばれる。磁気
超解像再生方式では、再生用レーザー光スポットよりも
小さい領域の開口部を再生層に形成して、高分解能で情
報を再生することができる。The magneto-optical recording medium thus obtained is a CA
It follows the D type magnetic super-resolution reproduction method. That is, CA
In D-type magnetic super-resolution reproduction, when a medium is irradiated with a reproduction laser beam, a high-temperature region (a temperature region equal to or higher than the perpendicularization temperature) is formed at the center of a light spot formed on the reproduction layer. In the high temperature region at the center of the light spot, the direction of magnetization of the reproducing layer changes from the in-plane direction to the vertical direction, and the magnetization of the recording magnetic domain of the recording layer is transferred. The high-temperature area at the center of the light spot that receives such magnetic transfer is called an opening. In the magnetic super-resolution reproducing method, information can be reproduced with high resolution by forming an opening in a region smaller than the reproducing laser beam spot in the reproducing layer.
【００３７】ところで、本実施例の光磁気記録媒体のよ
うに、室温で面内磁化膜であり、高温で垂直磁化膜へと
変化する再生層を備える媒体の場合、基板上に形成され
ている凹凸、すなわち基板表面の粗さの影響が顕著に現
れる。本実施例の光磁気記録媒体の再生層において、磁
化方向が面内と垂直に切り替わる磁気的性質は、垂直磁
気異方性エネルギーと形状磁気異方性エネルギーの大小
が温度によって切り替わる性質による。しかるに再生層
の垂直磁気異方性エネルギーは再生層の内部応力により
敏感に影響を受ける。それゆえ、基板表面に凹凸が存在
すると、その凹凸上に成膜される再生層もその形状を反
映して凹凸状になる。そして、再生層の凹凸周辺では内
部応力が局在し、これにより垂直磁気異方性が変動す
る。その結果、再生層の磁化が面内方向から垂直方向へ
変化する温度（Ｔｐ）が凹凸の周辺で局所的に変動し、
再生時に、再生層の開口部分において形状の歪が発生
し、Ｃ／Ｎが低下する。By the way, in the case of a medium having an in-plane magnetic film at room temperature and a reproducing layer which changes to a perpendicular magnetic film at a high temperature, such as the magneto-optical recording medium of this embodiment, the medium is formed on the substrate. The influence of the unevenness, that is, the roughness of the substrate surface appears remarkably. In the reproducing layer of the magneto-optical recording medium of the present embodiment, the magnetic property in which the magnetization direction switches perpendicular to the in-plane direction depends on the property in which the magnitude of the perpendicular magnetic anisotropy energy and the shape magnetic anisotropy energy switch according to the temperature. However, the perpendicular magnetic anisotropy energy of the reproducing layer is sensitively affected by the internal stress of the reproducing layer. Therefore, if unevenness is present on the substrate surface, the reproducing layer formed on the unevenness also has an uneven shape reflecting the shape. Then, an internal stress is localized around the unevenness of the reproducing layer, whereby the perpendicular magnetic anisotropy fluctuates. As a result, the temperature (Tp) at which the magnetization of the reproducing layer changes from the in-plane direction to the vertical direction locally fluctuates around the irregularities,
At the time of reproduction, shape distortion occurs at the opening portion of the reproduction layer, and C / N decreases.
【００３８】そこで、光磁気記録媒体の基板表面の粗さ
とＣ／Ｎの関係について調べた。表面粗さの異なる基板
を用いて製造したそれぞれの光磁気記録媒体に、不図示
の記録再生装置を用いて情報の記録を行なった。情報の
記録には、レーザ光波長が６４０ｎｍ、対物レンズの開
口比ＮＡが０．６の光ヘッドを用いた。記録方式には、
レーザー光をパルス状に照射して、外部磁界を変調して
印加する光パルス磁界変調方式を用い、ランド部及びグ
ルーブ部に情報の記録を行なった。Therefore, the relationship between the roughness of the substrate surface of the magneto-optical recording medium and C / N was examined. Information was recorded on each of the magneto-optical recording media manufactured using substrates having different surface roughness using a recording / reproducing device (not shown). For recording information, an optical head having a laser beam wavelength of 640 nm and an aperture ratio NA of the objective lens of 0.6 was used. Recording methods include
Information was recorded on the lands and grooves by using an optical pulse magnetic field modulation system in which a laser beam was irradiated in a pulse shape to modulate and apply an external magnetic field.
【００３９】記録の際、マーク長が０．２μｍ以上の記
録マークを記録するときは、光磁気記録媒体を線速５ｍ
／ｓｅｃで回転させ、媒体に印加する記録磁界は２００
Ｏｅ（約１５８００Ａ／ｍ）とした。記録時のライトパ
ワーは１０ｍＷとし、パルス光のデューティは５０％と
した。In recording, when recording a recording mark having a mark length of 0.2 μm or more, the magneto-optical recording medium must have a linear velocity of 5 m.
/ Sec, and the recording magnetic field applied to the medium is 200
Oe (about 15800 A / m). The write power during recording was 10 mW, and the duty of the pulse light was 50%.
【００４０】つぎに、レーザ光波長λ及び対物レンズの
開口数ＮＡが異なる３種類の光ヘッドＡ〜Ｃ（下記表１
参照）を用いて、記録情報を再生して、Ｃ／Ｎ（キャリ
ア／ノイズ）を測定した。再生条件は、再生レーザーパ
ワー２．０ｍＷ、再生磁界±２００Ｏｅ（約１５８００
Ａ／ｍ）とした。なお、Ｃ／Ｎの測定において、測定値
の下限は４５ｄＢとした。図６に、得られた測定値を表
にして示した。Next, three types of optical heads A to C having different laser beam wavelengths λ and numerical apertures NA of the objective lens (see Table 1 below)
) Was used to reproduce the recorded information, and the C / N (carrier / noise) was measured. The reproducing conditions were as follows: reproducing laser power 2.0 mW, reproducing magnetic field ± 200 Oe (about 15800
A / m). In the measurement of C / N, the lower limit of the measured value was 45 dB. FIG. 6 is a table showing the measured values obtained.
【００４１】 [0041]
【００４２】図６の表から、Ｒａ×ＮＡ／λの値が８×
１０−５〜１×１０−３の場合に、規格値である４５ｄ
Ｂ以上のＣ／Ｎが得られることがわかる。更に、Ｒａ×
ＮＡ／λの値が１×１０−４〜８×１０−４の場合には
４７ｄＢ以上の高いＣ／Ｎを得ることができる。このよ
うに基板表面の中心線平均粗さＲａと、媒体に照射する
レーザー光の波長λ、該レーザー光を集光する対物レン
ズの開口数ＮＡを好適に選択することにより、高いＣ／
Ｎを得ることができることがわかる。特に、図６の表に
示すように、開口数ＮＡが０．６以上の対物レンズを用
いた場合に４８ｄＢ以上の高Ｃ／Ｎ（図６の表中、二重
丸で示した）が得られていることから、本発明は、開口
数ＮＡの大きな対物レンズを用いるときに十分変更箇所
高い効果が得られることがわかる。From the table of FIG. 6, the value of Ra × NA / λ is 8 ×
In the case of 10 −5 to 1 × 10 −3 , the standard value of 45 d
It can be seen that a C / N of B or more can be obtained. Furthermore, Ra ×
When the value of NA / λ is 1 × 10 −4 to 8 × 10 −4 , a high C / N of 47 dB or more can be obtained. As described above, by appropriately selecting the center line average roughness Ra of the substrate surface, the wavelength λ of the laser beam irradiated on the medium, and the numerical aperture NA of the objective lens for condensing the laser beam, a high C /
It can be seen that N can be obtained. In particular, as shown in the table of FIG. 6, when an objective lens having a numerical aperture NA of 0.6 or more is used, a high C / N of 48 dB or more (indicated by a double circle in the table of FIG. 6) is obtained. Therefore, it can be seen that the present invention can obtain a sufficiently high effect of changing the position when an objective lens having a large numerical aperture NA is used.
【００４３】また、基板の表面処理の際の紫外線（Ｕ
Ｖ）照射時間と、得られた基板を備える光磁気記録媒体
のＣ／Ｎとの関係を図７にグラフとして示した。図７の
グラフには、マーク長が０．２μｍの記録マークをレー
ザ光波長６４０ｎｍ、対物レンズの開口数０．６の光ヘ
ッドを用いて再生したときのＣ／Ｎの変化の様子と、マ
ーク長が０．１２μｍの記録マークをレーザ光波長４３
０ｎｍ、対物レンズの開口数０．７の光ヘッドを用いて
再生したときのＣ／Ｎの変化の様子を示してある。図３
のグラフによると、紫外線照射時間が長くなるに従って
Ｒａが減少しており、この結果と図７のグラフとから、
基板表面のＲａが小さくなるに従ってＣ／Ｎが大きくな
ることがわかる。また、微小な磁区を微小な光スポット
で再生する場合には、Ｒａを小さくする必要があること
がわかる。In addition, ultraviolet rays (U
V) The relationship between the irradiation time and the C / N of the magneto-optical recording medium having the obtained substrate is shown as a graph in FIG. The graph of FIG. 7 shows how the C / N changes when a recording mark having a mark length of 0.2 μm is reproduced using an optical head having a laser beam wavelength of 640 nm and a numerical aperture of the objective lens of 0.6, and the mark. Recording marks having a length of 0.12 μm were
The state of change in C / N at the time of reproduction using an optical head having a numerical aperture of 0 nm and an objective lens of 0.7 is shown. FIG.
According to the graph, Ra decreases as the ultraviolet irradiation time increases, and from this result and the graph of FIG.
It can be seen that C / N increases as Ra on the substrate surface decreases. Further, when reproducing a minute magnetic domain with a minute light spot, it is understood that Ra needs to be reduced.
【００４４】なお、本実施例では、情報記録媒体として
７層構造のＣＡＤタイプの光磁気記録媒体を例に示した
が、これに限らず、基板上に情報を担持する記録層と、
情報再生時に記録層の情報が転写される再生層を有する
媒体であれば、本発明の効果発揮することが可能であ
る。また、基板表面を平滑化する方法として紫外線を照
射する方法を用いたが、前述の（２）の基板加熱法や
（３）のプラズマエッチ法で行なっても同様の効果を得
ることができる。In this embodiment, a CAD type magneto-optical recording medium having a seven-layer structure is shown as an example of the information recording medium. However, the present invention is not limited to this.
As long as the medium has a reproducing layer to which information on the recording layer is transferred at the time of reproducing information, the effect of the present invention can be exhibited. Although a method of irradiating ultraviolet rays is used as a method of smoothing the substrate surface, the same effect can be obtained by performing the above-described substrate heating method (2) or the plasma etching method (3).
【００４５】[0045]
【実施例２】この実施例では、本発明に従う情報記録媒
体の別の具体例として、ＭＡＭＭＯＳ用の光磁気記録媒
体を作製した。ＭＡＭＭＯＳ用の光磁気記録媒体及びそ
の原理については、国際公開番号ＷＯ９８／０２８７８
号に詳細に記載されているので、これを参照することが
できる。Embodiment 2 In this embodiment, a magneto-optical recording medium for MAMMOS was manufactured as another specific example of the information recording medium according to the present invention. For a magneto-optical recording medium for MAMMOS and its principle, see WO 98/02878.
This can be referred to since it is described in detail in the issue.
【００４６】図２に、本実施例で作製したＭＡＭＭＯＳ
用の光磁気記録媒体の概略断面構造を示す。光磁気記録
媒体２００は、透明基板１１上に誘電体層１２、磁区拡
大再生層１３、再生補助層１４、非磁性層１５、記録層
１６、記録補助層１７、保護層１８及び放熱層１９を順
次積層した構造を有する。図２に示した構造において、
透明基板１１は、不図示の射出成形機を用いて作製した
ポリカーボネート基板であり、その表面にプリフォーマ
ットパターンに対応した凹凸を有し、１．２ｍｍの厚み
を有する。射出成形により作製された基板に紫外線（波
長λ＝２５６ｎｍ）を１２０秒間照射して、基板表面を
平坦化した。平坦化された基板表面の中心線平均粗さＲ
ａは０．１５ｎｍであった。FIG. 2 shows the MAMMOS fabricated in this embodiment.
1 shows a schematic cross-sectional structure of a magneto-optical recording medium for use. In the magneto-optical recording medium 200, a dielectric layer 12, a magnetic domain expansion reproduction layer 13, a reproduction auxiliary layer 14, a nonmagnetic layer 15, a recording layer 16, a recording auxiliary layer 17, a protective layer 18, and a heat radiation layer 19 are formed on a transparent substrate 11. It has a structure that is sequentially laminated. In the structure shown in FIG.
The transparent substrate 11 is a polycarbonate substrate manufactured using an injection molding machine (not shown), and has a surface with irregularities corresponding to the preformat pattern and a thickness of 1.2 mm. The substrate produced by injection molding was irradiated with ultraviolet rays (wavelength λ = 256 nm) for 120 seconds to flatten the substrate surface. Centerline average roughness R of the flattened substrate surface
a was 0.15 nm.
【００４７】図２において、誘電体層１２は、層内で再
生用光ビームを多重干渉させ、検出されるカー回転角を
実質的に増加させるための層であり、ＳｉＮを用いて構
成される。磁区拡大再生層１３は、記録層１５から転写
される磁区が拡大できる層であり、フェリ磁性を示す垂
直磁化膜ＧｄＦｅＣｏを用いて構成される。再生補助層
１４はＧｄＦｅを用いて構成される面内磁化膜である。
非磁性層１５は、再生層１３と記録層１６の交換結合力
を切断して静磁結合させるための層であり、ＳｉＮを用
いて構成される。記録層１６は、情報が磁化情報として
記録される層であり、垂直磁化を有する希土類−遷移金
属非晶質膜ＴｂＦｅＣｏを用いて構成される。記録補助
層１７は、記録層１６と交換結合し、より小さい変調磁
界で記録を可能とするために設けられる層であり、面内
磁化を有するＧｄＦｅＣｏを用いて構成される。保護層
１８は、基板１１上に積層された各層１２〜１７を保護
するための層であり、ＳｉＮを用いて構成される。放熱
層１９は記録時に効率よく熱を逃がすための層であり、
ＡｌＴｉを用いて構成される。これらの層１２〜１７
は、不図示のスパッタ装置を用いて、以下に示した条件
にて順次成膜した。In FIG. 2, a dielectric layer 12 is a layer for causing a reproduction light beam to cause multiple interference in the layer to substantially increase the detected Kerr rotation angle, and is made of SiN. . The magnetic domain expansion reproduction layer 13 is a layer in which the magnetic domain transferred from the recording layer 15 can be expanded, and is formed using a perpendicular magnetization film GdFeCo exhibiting ferrimagnetism. The auxiliary reproduction layer 14 is an in-plane magnetization film made of GdFe.
The non-magnetic layer 15 is a layer for cutting the exchange coupling force between the reproducing layer 13 and the recording layer 16 to perform magnetostatic coupling, and is made of SiN. The recording layer 16 is a layer in which information is recorded as magnetization information, and is configured using a rare earth-transition metal amorphous film TbFeCo having perpendicular magnetization. The recording auxiliary layer 17 is a layer that is exchange-coupled with the recording layer 16 and is provided to enable recording with a smaller modulation magnetic field, and is made of GdFeCo having in-plane magnetization. The protective layer 18 is a layer for protecting each of the layers 12 to 17 laminated on the substrate 11, and is made of SiN. The heat radiation layer 19 is a layer for efficiently releasing heat during recording.
It is configured using AlTi. These layers 12-17
Were formed sequentially using a sputtering apparatus (not shown) under the following conditions.
【００４８】誘電体層１２の成膜では、ターゲット材料
としてＳｉを用い、Ａｒ＋Ｎ２雰囲気中で成膜を行なっ
た。誘電体層１２の膜厚は６０ｎｍとした。磁区拡大再
生層１３の成膜では、Ｇｄ、Ｆｅ及びＣｏの各単体ター
ゲットを同時スパッタした。同時スパッタにおいて、各
ターゲットヘの投入電力の比を制御することにより膜組
成を調節した。また、補償温度及びキュリー温度がそれ
ぞれ約８０℃、約２７０℃になるように、磁区拡大再生
層１３の膜組成を調節した。磁区拡大再生層１３の膜厚
は２０ｎｍとした。再生補助層１４の成膜では、Ｇｄ及
びＦｅの各単体ターゲットを同時スパッタし、低温から
３００℃以上まで面内磁化を示す磁気特性を有するよう
に膜組成を調整した。再生補助層１４の膜厚は５ｎｍと
した。非磁性層１５の成膜では、膜厚を５ｎｍとした。
記録層１６の成膜では、Ｔｂ、Ｆｅ及びＣｏの各単体タ
ーゲットを同時スパッタし、補償温度が約２５℃、キュ
リー温度が３１０℃となるように膜組成を調整した。記
録層１５の膜厚は５０ｎｍとした。記録補助層１７の成
膜では、Ｇｄ、Ｆｅ及びＣｏの各単体ターゲットを、投
入電力の比を制御しながら同時スパッタし、低温から３
００℃以上まで面内磁化を示す磁気特性を有するように
膜組成を調節した。保護層１８の成膜では、ターゲット
材料としてＳｉを用い、Ａｒ＋Ｎ２雰囲気中で成膜を行
なった。保護層１６の膜厚は２０ｎｍとした。放熱層１
９の成膜ではＡＩＴｉの合金をターゲットに用い、膜厚
は３０ｎｍとした。こうして図２に示す積層構造を有す
る光磁気記録媒体２００を作製した。[0048] In the deposition of the dielectric layer 12, using Si as a target material was subjected to deposition in Ar + N 2 atmosphere. The thickness of the dielectric layer 12 was set to 60 nm. In the formation of the magnetic domain expansion reproduction layer 13, each single target of Gd, Fe, and Co was sputtered simultaneously. In the simultaneous sputtering, the film composition was adjusted by controlling the ratio of the power applied to each target. Further, the film composition of the magnetic domain expansion reproducing layer 13 was adjusted such that the compensation temperature and the Curie temperature were about 80 ° C. and about 270 ° C., respectively. The thickness of the magnetic domain expansion reproducing layer 13 was 20 nm. In the formation of the reproduction auxiliary layer 14, each single target of Gd and Fe was simultaneously sputtered, and the film composition was adjusted so as to have magnetic characteristics indicating in-plane magnetization from a low temperature to 300 ° C. or more. The thickness of the reproduction auxiliary layer 14 was 5 nm. In forming the nonmagnetic layer 15, the thickness was set to 5 nm.
In the formation of the recording layer 16, each single target of Tb, Fe and Co was sputtered simultaneously, and the film composition was adjusted so that the compensation temperature was about 25 ° C and the Curie temperature was 310 ° C. The thickness of the recording layer 15 was 50 nm. In the formation of the recording auxiliary layer 17, the individual targets of Gd, Fe and Co are simultaneously sputtered while controlling the ratio of the applied power, and the target is heated from low temperature to 3%.
The film composition was adjusted so as to have magnetic properties showing in-plane magnetization up to 00 ° C. or higher. The protective layer 18 was formed using Si as a target material in an Ar + N 2 atmosphere. The thickness of the protective layer 16 was 20 nm. Heat dissipation layer 1
In the film formation of No. 9, an AITi alloy was used as a target, and the film thickness was 30 nm. Thus, a magneto-optical recording medium 200 having the laminated structure shown in FIG. 2 was manufactured.
【００４９】次いで、得られた光磁気記録媒体に不図示
の記録再生装置を用いて情報の記録再生を行った。記録
再生には、レーザ光波長が６８０ｎｍ、対物レンズの開
口比ＮＡが０．５５の光ヘッドを用いた。記録方式に
は、レーザー光をパルス状に照射して、外部磁界を変調
して印加する光パルス磁界変調方式を用い、ランド部及
びグルーブ部に情報を記録した。Next, information was recorded and reproduced on the obtained magneto-optical recording medium by using a recording and reproducing device (not shown). For recording and reproduction, an optical head having a laser beam wavelength of 680 nm and an aperture ratio NA of the objective lens of 0.55 was used. As a recording method, an optical pulse magnetic field modulation method of irradiating a laser beam in a pulse shape and modulating and applying an external magnetic field was used, and information was recorded on the land portion and the groove portion.
【００５０】情報の記録において、マーク長が０．２μ
ｍ以上の記録マークを記録する場合には線速を５ｍ／ｓ
ｅｃに設定し、マーク長が０．１８μｍの記録マークを
記録する場合には線速を１．８７５ｍ／ｓｅｃに、マー
ク長が０．１５μｍの記録マークの記録では線速を１．
５ｍ／ｓｅｃに設定した。また、記録磁界の磁界強度は
すべて２００Ｏｅ（約１５８００Ａ／ｍ）とした。記録
光のパワーは１０ｍＷとし、パルス光のデューティは５
０％とした。こうして種々のマーク長の繰り返し記録マ
ークをランド部及びグルーブ部に記録した。In recording information, the mark length is 0.2 μm.
When recording a recording mark of m or more, set the linear velocity to 5 m / s.
ec and a linear velocity of 1.875 m / sec when recording a recording mark having a mark length of 0.18 μm, and a linear velocity of 1.875 m / sec when recording a recording mark having a mark length of 0.15 μm.
It was set to 5 m / sec. The magnetic field intensity of the recording magnetic field was set to 200 Oe (about 15800 A / m). The power of the recording light is 10 mW, and the duty of the pulse light is 5
0%. Thus, repetitive recording marks of various mark lengths were recorded on the land and the groove.
【００５１】情報を再生する際の再生条件はレーザ再生
パワーを２．０ｍＷ、再生交番磁界を±２００Ｏｅ（約
±１５８００Ａ／ｍ）とした。かかる再生条件にて、ラ
ンド部及びグループ部に記録した記録マークをそれぞれ
再生し、繰り返しマークのマーク長とビットエラーレー
ト（ＢＥＲ）の関係を調べた。なお、ＢＥＲの測定にお
いて測定値の下限は１０−５とした。結果を図８グラフ
に示す。The reproducing conditions for reproducing the information were as follows: the laser reproducing power was 2.0 mW and the reproducing alternating magnetic field was ± 200 Oe (about ± 15800 A / m). The recording marks recorded on the land portion and the group portion were reproduced under these reproduction conditions, and the relationship between the mark length of the repetitive marks and the bit error rate (BER) was examined. In the measurement of BER, the lower limit of the measured value was 10 −5 . The results are shown in the graph of FIG.
【００５２】このグラフからわかるように、マーク長が
０．１５μｍの繰り返しマークまでＢＥＲは１０−４以
下であった。それゆえ本実施例の光磁気記録媒体は、微
小な記録マークを記録しても、それを確実に再生するこ
とができる。As can be seen from this graph, the BER was 10 -4 or less up to the repetitive mark having a mark length of 0.15 μm. Therefore, even if a minute recording mark is recorded, the magneto-optical recording medium of the present embodiment can reliably reproduce it.
【００５３】次いで、上記光磁気記録媒体の製造工程に
おいて、ポリカーボネート基板に紫外線照射を行なわな
かった以外は、上記と同様にして光磁気記録媒体を作製
した。基板表面の中心線平均粗さＲａは約１．５ｎｍで
あった。得られた光磁気記録媒体について上記と同様に
記録及び再生を行って繰り返しマークのマーク長とビッ
トエラーレート（ＢＥＲ）の関係を調べた。ビットエラ
ーレートの測定値の下限は１０−５とした。測定結果を
図８のグラフに示す。このグラフから分かるように、マ
ーク長が０．２μｍ以下の繰り返しマークにおいてビッ
トエラーレートが１０−４以上であるため、再生は困難
となっていた。Next, a magneto-optical recording medium was manufactured in the same manner as described above except that the polycarbonate substrate was not irradiated with ultraviolet light in the above-mentioned process of manufacturing the magneto-optical recording medium. The center line average roughness Ra of the substrate surface was about 1.5 nm. Recording and reproduction were performed on the obtained magneto-optical recording medium in the same manner as described above, and the relationship between the mark length of the repetitive marks and the bit error rate (BER) was examined. The lower limit of the measured value of the bit error rate was set to 10 −5 . The measurement results are shown in the graph of FIG. As can be seen from this graph, the reproduction was difficult because the bit error rate was 10 −4 or more for the repetition mark with the mark length of 0.2 μm or less.
【００５４】つぎに、基板の表面処理の際に基板に照射
する紫外線の照射時間と、表面処理された基板を用いて
製造された光磁気記録媒体を再生したときのＢＥＲとの
関係を調べた。ＢＥＲの測定には、基板厚が１．２ｍｍ
の基板を備える光磁気記録媒体と基板厚０．６ｍｍの基
板を備える光磁気記録媒体の２種類の光磁気記録媒体を
用いた。これらの光磁気記録媒体は、基板の表面処理の
際に基板に照射する紫外線の照射時間を３０秒、６０
秒、１２０秒、１８０秒に変更した以外は、上記と同様
にしてそれぞれ製造した。Next, the relationship between the irradiation time of the ultraviolet light applied to the substrate during the surface treatment of the substrate and the BER when reproducing the magneto-optical recording medium manufactured using the surface-treated substrate was examined. . For measurement of BER, the substrate thickness is 1.2 mm
Two types of magneto-optical recording media were used: a magneto-optical recording medium having a substrate of 0.6 mm and a magneto-optical recording medium having a substrate having a substrate thickness of 0.6 mm. These magneto-optical recording media have an irradiation time of 30 seconds, 60 seconds, for irradiating the substrate with ultraviolet light during the surface treatment of the substrate.
Each was manufactured in the same manner as above except that the time was changed to seconds, 120 seconds, and 180 seconds.
【００５５】基板厚１．２ｍｍの基板を備える光磁気記
録媒体のＢＥＲ測定では、レーザ光波長が６８０ｎｍ、
対物レンズの開口比ＮＡが０．５５の光ヘッドを用い
た。一方、基板厚０．６ｍｍの基板を備える光磁気記録
媒体のＢＥＲ測定では、レーザ光波長が４０５ｎｍ、対
物レンズの開口比ＮＡが０．５５の光ヘッドを用いた。
ここに、対物レンズには上記光ヘッドと同じ対物レンズ
を用いたが、基板の厚さが半分であるため対物レンズの
実効的開口数は０．６０となる。In a BER measurement of a magneto-optical recording medium provided with a substrate having a substrate thickness of 1.2 mm, the wavelength of the laser beam was 680 nm.
An optical head having an aperture ratio NA of the objective lens of 0.55 was used. On the other hand, in the BER measurement of a magneto-optical recording medium having a substrate having a substrate thickness of 0.6 mm, an optical head having a laser light wavelength of 405 nm and an aperture ratio NA of an objective lens of 0.55 was used.
Here, the same objective lens as the optical head was used as the objective lens, but the effective numerical aperture of the objective lens was 0.60 because the thickness of the substrate was half.
【００５６】基板厚の異なる２種類の光磁気記録媒体の
ランド部及びグルーブ部に、マーク長が０．１５μｍと
０．２μｍの記録マークを記録した後、それら記録マー
クを再生してＢＥＲの測定を行なった。測定結果を図９
のグラフに示す。図９のグラフから、ＵＶ（紫外線）の
照射時間を長くすることによってＢＥＲを低くできるこ
とがわかる。また、再生時に光磁気記録媒体に照射する
光の波長を短くし、対物レンズの開口数を大きくした場
合、すなわち光スポット径を小さくした場合は、光磁気
記録媒体を構成する基板として、基板表面のＲａを一層
小さくした基板を用いたほうが、ＢＥＲの低減には有効
であることがわかる。After recording marks having mark lengths of 0.15 μm and 0.2 μm on lands and grooves of two types of magneto-optical recording media having different substrate thicknesses, the recorded marks are reproduced to measure BER. Was performed. Figure 9 shows the measurement results.
Is shown in the graph. It can be seen from the graph of FIG. 9 that the BER can be reduced by increasing the irradiation time of UV (ultraviolet light). Also, when the wavelength of the light irradiated on the magneto-optical recording medium during reproduction is shortened and the numerical aperture of the objective lens is increased, that is, when the light spot diameter is reduced, the substrate surface as the substrate constituting the magneto-optical recording medium is used. It can be seen that the use of a substrate with a smaller Ra is more effective in reducing the BER.
【００５７】なお、基板の中心線平均粗さＲａは、基板
上に形成された膜の中で基板から最も遠い位置に形成さ
れた膜（最上膜と称す）の表面の粗さから推定すること
もできる。基板上に成膜される膜の表面は、基板表面の
粗さをほぼ反映した粗さを有しているので、基板表面の
粗さを直接測定できない場合には、例えば基板表面の粗
さとその基板上の最上膜の表面の粗さとの関係を実験的
に予め調べておいて、媒体の最上膜の表面の粗さを測定
することによって基板表面の粗さを推定することができ
る。紫外線硬化樹脂膜が最上膜として形成されている場
合は、紫外線硬化樹脂膜は膜厚が厚く基板の表面粗さが
反映されにくいので、紫外線硬化樹脂膜を化学薬品など
を用いて除去し、紫外線硬化樹脂膜の直下に位置する膜
の表面の粗さを測定すればよい。The center line average roughness Ra of the substrate is to be estimated from the surface roughness of a film formed farthest from the substrate (referred to as an uppermost film) among the films formed on the substrate. Can also. Since the surface of the film formed on the substrate has a roughness almost reflecting the roughness of the substrate surface, when the roughness of the substrate surface cannot be directly measured, for example, the roughness of the substrate surface and the The relationship with the surface roughness of the uppermost film on the substrate is experimentally checked beforehand, and the surface roughness of the substrate can be estimated by measuring the surface roughness of the uppermost film of the medium. When the UV-curable resin film is formed as the uppermost film, the UV-curable resin film is thick and hardly reflects the surface roughness of the substrate. What is necessary is just to measure the surface roughness of the film located immediately below the cured resin film.
【００５８】以上、本発明の情報記録媒体について実施
例により詳細に説明したが、本発明はこれらに限定され
るものではない。例えば、上記実施例では、磁気超解像
再生方式や磁区拡大再生方式に従う光磁気記録媒体（Ｍ
ＡＭＭＯＳ用光磁気記録媒体）を製造したが、本発明
は、追記型光記録媒体や相変化型光記録媒体にも適用可
能であり、媒体の種類は問わない。例えば、実施例２で
は、再生時に、交番磁界を印加して記録層の磁区を磁区
拡大再生層に転写し拡大させるタイプのＭＡＭＭＯＳ用
媒体を製造したが、これに限らず、再生時に、直流磁界
を印加して、或いは外部磁界を印加しないで、記録層の
磁区を磁区拡大再生層に転写し拡大させるタイプのＭＡ
ＭＭＯＳ用媒体にも本発明は有効である。Although the information recording medium of the present invention has been described in detail with reference to the embodiments, the present invention is not limited to these. For example, in the above embodiment, the magneto-optical recording medium (M
Although a magneto-optical recording medium for AMMOS was manufactured, the present invention can be applied to a write-once optical recording medium and a phase-change optical recording medium, and the type of the medium is not limited. For example, in the second embodiment, a MAMMOS medium of a type in which an alternating magnetic field is applied at the time of reproduction to transfer and expand the magnetic domain of the recording layer to the magnetic domain expansion reproduction layer was manufactured, but the present invention is not limited to this. MA of a type in which the magnetic domain of the recording layer is transferred to the magnetic domain enlarging / reproducing layer and expanded without applying a magnetic field or without applying an external magnetic field.
The present invention is also effective for an MMOS medium.
【００５９】[0059]
【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、情報記録また
は再生の際に用いられる光の波長をλ、及び該光を媒体
上に集光する際に用いられる対物レンズの開口数をＮＡ
としたときに、基板表面の中心線平均粗さＲａが、 ８×１０−５≦Ｒａ×ＮＡ／λ≦１×１０−３ の関係を満足するように表面処理された基板を用いてい
るので、かかる情報記録媒体を、例えば、記録層と該記
録層の記録磁区が転写される再生層とを備える光磁気記
録媒体として構成した場合に、記録層に超高密度に記録
された微小記録磁区を確実に再生層に転写して、高Ｃ／
Ｎで且つ低ビットエラーレートで再生することが可能と
なる。The information recording medium of the present invention can record information on a medium.
Is the wavelength of light used for reproduction, λ, and the light
The numerical aperture of the objective lens used to focus light on
, The center line average roughness Ra of the substrate surface is 8 × 10-5≦ Ra × NA / λ ≦ 1 × 10-3 Using a substrate that has been surface treated to satisfy
Therefore, such an information recording medium is, for example, a recording layer and the recording layer.
A magneto-optical recording device comprising: a recording layer;
Ultra-high density recording on the recording layer when configured as a recording medium
The transferred minute recording magnetic domain is reliably transferred to the reproducing layer to obtain a high C /
N and low bit error rate
Become.
【００６０】本発明の記録再生方法によれば、情報記録
媒体の基板の表面粗さに応じて、光の波長及び対物レン
ズの開口数を適宜選択しているので、情報記録媒体に高
密度記録された情報を確実に再生することできる。According to the recording / reproducing method of the present invention, the wavelength of light and the numerical aperture of the objective lens are appropriately selected according to the surface roughness of the substrate of the information recording medium. The reproduced information can be reliably reproduced.
【図１】実施例１で製造したＣＡＤタイプの磁気超解像
再生方式に従う光磁気記録媒体の概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a magneto-optical recording medium according to a CAD type magnetic super-resolution reproducing system manufactured in Example 1.
【図２】実施例２で製造した磁区拡大再生方式に従う光
磁気記録媒体の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a magneto-optical recording medium according to a magnetic domain enlarging and reproducing method manufactured in Example 2.
【図３】紫外線照射による基板表面処理における紫外線
照射時間と基板表面の中心線平均粗さとの関係を示すグ
ラフである。FIG. 3 is a graph showing a relationship between an ultraviolet irradiation time and a center line average roughness of a substrate surface in a substrate surface treatment by ultraviolet irradiation.
【図４】加熱による基板表面処理における加熱時間と基
板表面の中心線平均粗さとの関係を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a relationship between a heating time in a substrate surface treatment by heating and a center line average roughness of a substrate surface.
【図５】プラズマ照射による基板表面処理におけるプラ
ズマ照射時間と基板表面の中心線平均粗さとの関係を示
すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a relationship between a plasma irradiation time and a center line average roughness of a substrate surface in a substrate surface treatment by plasma irradiation.
【図６】表面粗さの異なる基板を用いて製造した光磁気
記録媒体を、光の波長及び対物レンズの開口数の異なる
光ヘッドを用いて再生したときのＣ／Ｎの値をまとめた
票である。FIG. 6 is a chart summarizing C / N values when reproducing magneto-optical recording media manufactured using substrates having different surface roughnesses using optical heads having different light wavelengths and numerical apertures of an objective lens. It is.
【図７】基板の表面処理の際の紫外線照射時間と、それ
により得られた基板を備える光磁気記録媒体から得られ
るＣ／Ｎの関係を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing the relationship between the ultraviolet irradiation time during the surface treatment of the substrate and the C / N obtained from the magneto-optical recording medium having the substrate obtained by the irradiation.
【図８】実施例２において、ビットレングス（記録マー
ク長）に対するビットエラーレートの測定結果を示すグ
ラフである。FIG. 8 is a graph showing a measurement result of a bit error rate with respect to a bit length (recording mark length) in Example 2.
【図９】実施例２において、基板への紫外線照射時間に
対するビットエラーレートの測定結果を示すグラフであ
る。FIG. 9 is a graph showing a measurement result of a bit error rate with respect to an ultraviolet irradiation time on a substrate in Example 2.
【図１０】本発明の情報記録媒体の基板の中心線平均粗
さＲａと記録再生時に用いられるレーザー光の光スポッ
ト径との関係を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing the relationship between the center line average roughness Ra of the substrate of the information recording medium of the present invention and the light spot diameter of laser light used during recording and reproduction.
１、１１ 基板 ２、１２ 誘電体層 ３ 再生層 ４、１４ 再生補助層 ５、１５ 非磁性層 ６、１６ 記録層 ７、１７ 記録補助層 ８、１８ 保護層 ９、１９ 放熱層 １３ 磁区拡大再生層 １００、２００ 光磁気記録媒体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 11 Substrate 2, 12 Dielectric layer 3 Reproducing layer 4, 14 Reproducing auxiliary layer 5, 15 Nonmagnetic layer 6, 16 Recording layer 7, 17 Recording auxiliary layer 8, 18 Protective layer 9, 19 Heat dissipating layer 13 Magnetic domain expansion reproduction Layer 100, 200 Magneto-optical recording medium
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/105 ５８６ Ｇ１１Ｂ 11/105 ５８６Ｌ ５８６Ｍ 7/24 ５３１ 7/24 ５３１Ｄ (72)発明者 島崎 勝輔 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 谷 学 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 粟野 博之 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 KB11 5D075 CC01 CC11 CC40 EE03 FG17──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G11B 11/105 586 G11B 11/105 586L 586M 7/24 531 7/24 531D (72) Inventor Katsusuke Shimazaki 1-88 Ushitora, Ibaraki-shi, Osaka Hitachi Maxell, Inc. (72) Inventor Manabu Tani 1-188 Ushitora, Ibaraki-shi, Osaka, Japan Inside Hitachi Maxell, Inc. (72) Hiroyuki Awano, Osaka 1-88 Ushitora, Ibaraki-shi F-term in Hitachi Maxell, Ltd. (Reference) 5D029 KB11 5D075 CC01 CC11 CC40 CCEEEEFG17
Claims (5)
を備える情報記録媒体において、 該情報記録媒体の記録または再生に用いられるレーザー
光の波長をλ、該レーザー光を集光するための対物レン
ズの開口数をＮＡ、上記基板表面の中心線平均粗さをＲ
ａとしたときに、 ８×１０−５≦Ｒａ×ＮＡ／λ≦１×１０−３ の関係を満足するような基板表面の中心線平均粗さＲａ
を有する基板を備えることを特徴とする情報記録媒体。A substrate and a recording layer for recording information
An information recording medium comprising: a laser used for recording or reproducing the information recording medium
The wavelength of the light is λ and the objective lens for focusing the laser light
Is the numerical aperture of the substrate, and R is the center line average roughness of the substrate surface.
8 × 10-5≦ Ra × NA / λ ≦ 1 × 10-3 Center line average roughness Ra that satisfies the relationship
An information recording medium comprising a substrate having:
記録層に極性の異なる磁区が情報に応じて形成され、 更に、再生時に、該記録層に形成された磁区が転写され
る再生層、または、該記録層に形成された磁区からの磁
気的な影響を利用して情報を再生するための再生層を備
えることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体。2. The recording layer is made of a magnetic material, magnetic domains having different polarities are formed in the recording layer in accordance with information, and a reproducing layer to which the magnetic domains formed in the recording layer are transferred during reproduction. 2. The information recording medium according to claim 1, further comprising a reproducing layer for reproducing information by utilizing a magnetic effect from a magnetic domain formed in the recording layer.
７８０ｎｍの範囲内にあり、上記対物レンズの開口数Ｎ
Ａが０．５５〜１．９の範囲内にあることを特徴とする
請求項１または２に記載の情報記録媒体。3. The laser beam having a wavelength λ of 400 nm or more.
780 nm, and the numerical aperture N of the objective lens
3. The information recording medium according to claim 1, wherein A is in a range of 0.55 to 1.9.
備える情報記録媒体の記録再生方法において、 上記基板表面の中心線平均粗さがＲａである場合、情報
の記録または再生の際に、上記情報記録媒体に照射する
波長λのレーザー光と、該レーザー光を情報記録媒体上
に集光するための開口数ＮＡの対物レンズとを、 ８×１０−５≦Ｒａ×ＮＡ／λ≦１×１０−３の関係を
満足するように選択することを特徴とする情報記録媒体
の記録再生方法。4. A recording / reproducing method for an information recording medium comprising a substrate and a recording layer for recording information, wherein the center line average roughness of the substrate surface is Ra when recording or reproducing information. A laser beam having a wavelength λ for irradiating the information recording medium and an objective lens having a numerical aperture NA for condensing the laser beam on the information recording medium are defined as follows: 8 × 10 −5 ≦ Ra × NA / λ ≦ A recording / reproducing method for an information recording medium, which is selected so as to satisfy a relationship of 1 × 10 −3 .
短マーク長が、上記基板表面の中心線平均粗さＲａの５
０倍〜１５００倍の範囲内になるように情報を記録する
ことを特徴とする請求項４に記載の情報記録媒体の記録
再生方法。5. The shortest mark length of a recording mark formed on the recording layer is 5 times the center line average roughness Ra of the substrate surface.
5. The recording / reproducing method for an information recording medium according to claim 4, wherein information is recorded so as to be within a range of 0 to 1500 times.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010150315A1 (en) * | 2009-06-25 | 2010-12-29 | パイオニア株式会社 | Optical disc production method and optical disc production line |
-
2001
- 2001-06-08 JP JP2001173298A patent/JP2002063746A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2010150315A1 (en) * | 2009-06-25 | 2010-12-29 | パイオニア株式会社 | Optical disc production method and optical disc production line |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040608 |