JP2002055203A

JP2002055203A - 透明導電性反射防止フイルム及びそれを用いた表示装置

Info

Publication number: JP2002055203A
Application number: JP2000243646A
Authority: JP
Inventors: Yosuke Nishiura; 陽介西浦
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-08-11
Filing date: 2000-08-11
Publication date: 2002-02-20

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】陰極線管やプラズマディスプレイ、液晶ディ
スプレイ、及びフィールドエミッションディスプレイ等
の表示装置のフェースパネル面に貼合して、優れた帯電
防止性、電磁波遮蔽性、反射防止性、防汚性、機械強度
を発現させるための透明導電性反射防止フイルム及びそ
れを用いた表示装置を提供すること。【解決手段】透明基材上にハードコート層と、少なく
とも１種以上の金属からなる粒子を有する透明導電層
と、該透明導電層の外層に形成され、１．５〜１．７の
範囲の屈折率を有する多官能重合性モノマーの架橋体を
主体とした透明被膜層とを含む構成からなる透明導電性
反射防止フイルム及びこれを粘着剤を介して表示装置の
フェースパネル面に貼合した表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた帯電防止効
果、電磁波遮蔽効果、反射防止効果、防汚性及び機械特
性に優れた透明導電性反射防止フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】ＴＶやコンピュータ用モニタとして用い
られている陰極線管、プラズマディスプレイ、液晶ディ
スプレイ、及びフィールドエミッションディスプレイ等
の表示装置では、フェースパネル面に発生する静電気に
より埃が付着して視認性が低下する他、外光を反射して
コントラストが低下する、電磁波を放射して周囲に悪影
響を及ぼすなどの問題点を有している。またフェースパ
ネル面は手や筆記用具が触れたり、汚れを拭き取ること
により、擦り傷が発生しやすい問題がある。

【０００３】帯電防止、反射防止および電磁波遮蔽を目
的として、銀等の金属あるいはＩＴＯ等の金属酸化物を
蒸着・スパッタ等でフェースパネル面に直接形成させる
方法が提案されているが、膜形成には真空処理や高温処
理が必要であり、製造費が高価になったり、生産性に問
題があった。

【０００４】また、ゾル−ゲル法による塗布方式の導電
性薄膜の形成法も提案されているが（羽生等、Ｎａｔ
ｉｏｎａｌＴｅｃｎｉｃａｌＲｅｐｏｒｔ４０，
Ｎｏ．１，（１９９４）９０）、高温処理が必要であ
り、透明基材であるプラスチックフイルム上やハードコ
ート上への積層は基材の変質が起こることにより、基材
として使用できる素材が限定されてしまう問題があっ
た。

【０００５】導電性酸化物微粒子を分散させた透明導電
性塗料も提案されているが（特開平６−３４４４８９
、特開平７−２６８２５１）、得られた透明導電性層
の導電性が低い問題があった。

【０００６】さらに、導電性を上げるため、金属粒子か
らなる透明導電膜が提案されるようになってきた（特開
平９−５５１７５）。透明導電膜上にテトラエトキシシ
ラン等の反射防止塗料を塗布することにより透明導電性
反射防止膜を形成する方法が提案されている（特開平１
０−１４２４０１）。透明基材の上に金属粒子を塗布し
ただけでは機械強度が弱いという問題や、テトラエトキ
シシラン等の反射防止塗料は長時間の高温熱処理が必要
であり、ゾル−ゲル法による反射防止層の積層は透明基
材の使用が限られてしまう問題が生じてしまい、上記透
明導電性反射防止膜の形成方法ではガラスフェースパネ
ルに直接塗布することしかできないという問題があっ
た。

【０００７】そこで、設備投資が大きく、高温処理が必
要なフェースパネル前面に直接塗膜を形成させる方法に
対し、フイルム、基材に薄膜を形成したものを張り付け
る方法が提案されている（瀧等、ＮａｔｉｏｎａｌＴ
ｅｃｈｎｉｃａｌＲｅｐｏｒｔ，４２，Ｎｏ．３（１
９９６）２６４−２６８）。

【０００８】近年陰極線管のフラット化が進んだことに
より、フェースパネル前面に透明導電性反射防止フイル
ムを貼りやすくなったことからこの方法が注目されてい
るが、これらの薄膜の形成方法は、ＩＴＯ等の導電性金
属酸化物を蒸着・スパッタ等で導電性層を形成させる方
法であり、膜形成には真空処理が必要であり、製造費が
高価になったり、生産性に問題があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決するためになされたものであって、帯電防止性、
電磁波遮蔽性、反射防止性、防汚性、機械特性に加えて
生産性にも優れた透明導電性反射防止フイルム、及びそ
れをフェースパネルに貼り付けた表示装置を提供するこ
とを課題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の課題は、（１）透
明基材上にハードコート層と、少なくとも１種以上の金
属からなる粒子を有する透明導電性層と、該透明導電性
層の外層に形成され、１．５〜１．７の範囲の屈折率を
有する透明被膜層とを含む構成からなる透明導電性反射
防止フイルム、（２）前記透明被覆層が４官能以上の多
官能アクリレートモノマーの架橋体を主体とする（１）
に記載の透明導電性反射防止フイルム、（３）前記少な
くとも１種以上の金属からなる粒子が銀あるいは銀を主
体とする合金である（１）又は（２）に記載の透明導電
性反射防止フイルム、（４）前記少なくとも１種以上の
金属からなる粒子の粒子サイズが１〜１００ｎｍである
（３）に記載の透明導電性反射防止フイルム、（５）
（１）ないし（４）いづれか１つに記載の透明導電性反
射防止フイルムを、粘着剤を介してフェースパネル面に
貼合した表示装置、によって解決された。

【００１１】本発明の透明導電性反射防止フイルムを、
陰極線管、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、
及びフィールドエミッションディスプレイ等のフェース
パネル表面に貼合することにより、ＰＶＤ法やＣＶＤ法
を用いる従来の導電性被膜の形成技術やスピンコートに
より直接導電性皮膜等を塗布する方法に比べ、設備も工
程も格段に簡易化することができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳し
く説明する。図１に、本発明の好ましい一実施形態であ
る低反射導電性積層フイルムを示す。基材ベースの側か
らハードコート層、金属粒子からなる透明導電性層と、
その外層の防汚性を有する反射防止層から構成されてい
る。

【００１３】本積層フイルムは、ハードコート層を設け
たことによりフイルムの傷付を防止し、金属粒子からな
る透明導電性層が積層されているので導電性であり、帯
電が防止されると共に、陰極線管等から放射される電磁
波を効果的に遮断することができ、さらに反射防止層に
より外部からの反射光を低下させることができ、同時に
防汚性により、フイルムの汚れを防止することができ
る。

【００１４】本発明に用いられる透明基材は、フイルム
状のプラスチックフイルムであり、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステ
ル、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ジア
セチルセルロース等のセルロース樹脂等のフイルムが好
ましい。これらのフイルムの厚みは２０〜５００μｍが
好ましく、薄すぎると膜強度が弱く、飛散防止効果が不
足し、厚いとスティフネスが大きく貼り付けが困難にな
り、８０〜２００μｍがより好ましい。

【００１５】本発明に用いるハードコートは公知の硬化
性プラスチックを用いることができ、熱硬化樹脂、放射
線硬化型樹脂等がある。硬化性プラスチックの例として
は、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
等の放射線特に紫外線硬化性化合物が挙げられる。

【００１６】これらの化合物中には必要に応じて重合開
始剤を添加することができる。また、ハードコート層中
には硬度をアップさせるため、充填剤として、シリカ、
アルミナ、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物の微粒
子やコロイダル粒子を添加することできる。これらの粒
子の硬さは硬い方が好ましく、モース硬度６以上のもの
がより好ましい。これらの微粒子の粒子サイズは１〜１
００ｎｍが好ましい。１００ｎｍを越えるとヘイズが出
やすくなり、１ｎｍ以下では分散が難しく充填剤の効果
が得難くなる。微粒子の添加量は硬化性プラスチックの
５０％以下が好ましい。５０％以上では膜が脆く、少な
すぎると添加した効果が得られない。これらの金属酸化
微粒子は分散及び樹脂との相互作用を大きくするため、
表面修飾処理を行うことが好ましい。表面修飾の例とし
ては、アクリル基含有のシランカップリング剤等を挙げ
ることができる。

【００１７】ハードコートの層厚は２〜３０μｍが好ま
しく、８〜１５μｍが特に好ましい。さらに必要に応じ
て、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤を添加し
たり、コロナ処理、グロー処理等の表面処理を行い、表
面の親水性、密着性を向上させることができる。

【００１８】本発明の透明導電性層は、基本的には１種
以上の金属からなる粒子を含有する層からなる。１種以
上の金属としては、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニ
ッケル、パラジウム、プラチナ等の金属あるいはこれら
の合金が挙げられる。特に銀が好ましく、さらに耐候性
の観点からパラジウムと銀の合金が好ましい。パラジウ
ムの含有量としては５〜３０質量％が好ましく、パラジ
ウムが少ないと耐候性が悪く、パラジウムが多くなると
導電性が低下する。金属粒子の作成方法としては、低真
空蒸発法による微粒子の作製方法や金属塩の水溶液を鉄
（II）、ヒドラジン、ボロンハイドライド、ヒドロキシ
エチルアミン等のアミン等の還元剤で還元する金属コロ
イド作製方法が挙げられる。

【００１９】これら金属粒子の平均粒径は１〜１００ｎ
ｍが好ましく、１００ｎｍを越える場合には、金属粒子
による光の吸収が大きくなり、このために粒子層の光透
過率が低下すると同時にヘイズが大きくなる。また、こ
れら金属粒子の平均粒径が１ｎｍ未満の場合には粒子の
分散が困難になること、粒子層の表面抵抗が急激に大き
くなるため、本発明の目的を達成しうる程度の低抵抗値
を有する被膜を得ることができない。透明導電性層は実
質的に金属粒子のみからなることが好ましく、バインダ
ー等の非導電性のものを含有しないことが導電性の観点
から好ましい。

【００２０】金属の粒子層は水または溶剤に分散した塗
料をハードコート上に塗布して作製する。溶剤としては
エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロ
ピルアルコール、ブチルアルコール、メチルセルソル
ブ、ブチルセルソルブ等のアルコールが好ましい。金属
の塗布量としては、５０〜１５０ｍｇ／ｍ²が好まし
く、塗布量が少ないと導電性が取れず、塗布量が多いと
透過性が劣る。

【００２１】透明導電性層の表面抵抗率は、スウェーデ
ン中央労働者協議会が制定したＴＣＯガイドラインをク
リアーするため１０００Ω／□以下が必要であり、透過
率は５０％以上が好ましい。

【００２２】透明導電性層の導電性や透過性の向上のた
め、熱処理や水処理することができる。熱処理は、プラ
スチックフイルムの耐熱性によるが、１５０℃以下が好
ましい。６０℃から１３０℃が特に好ましい。１３０℃
以上ではプラスチックフイルムの熱による変形が起こり
やすく、６０℃以下では熱処理の効果が出難く、長時間
の処理時間が必要になる。

【００２３】熱処理の方法は、ウェッブ状態で加熱ゾー
ンを通しながら処理することが均一な処理ができて好ま
しい。加熱ゾーンの長さと搬送速度で滞在時間を調節す
ることができる。またロール状のフイルムを高温槽中で
加熱することも可能であるが、熱伝導のバラツキを考慮
した時間設定が必要になる。

【００２４】また、熱処理に先立ち、透明導電性層を水
洗等の水処理をすることで熱処理をさらに効率良くする
ことができる。水洗等の水処理は、通常の塗布方式によ
る水だけの塗布、具体的にはディップコート塗布、ワイ
ヤーバーによる水の塗布等があり、他にはスプレーやシ
ャワーで水を透明導電性層に掛ける方法がある。透明導
電性層に水をかけた後、過剰の水は必要に応じて、ワイ
ヤーバー、ロッドバーで掻き取ったり、エアーナイフで
掻き取ることができる。

【００２５】これらの水処理により、熱処理後の透明導
電性槽の表面抵抗をさらに低下させることができ、加え
て透過率の増加、透過スペクトルの平坦化、反射防止層
を積層した後の反射率の低下に対する効果が顕著にな
る。

【００２６】本発明の透明導電性層の屈折率と異なる屈
折率を有する透明被膜層（以下「透明性反射防止層」と
もいう。）は、屈折率が１．５〜１．７であることが好
ましく、１．５〜１．６であることが特に好ましい。屈
折率が１．７以上では反射率が大きくなり反射防止の効
果が小さくなる。屈折率が１．５以下では反射率は低い
ものの機械強度が劣るため耐傷性が悪い。屈折率が１．
５〜１．６の物質としては例えばポリエステル樹脂、ア
クリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、放射線硬化樹脂な
どの有機系合成樹脂、ケイ素などの金属アルコキシドの
加水分解物、またはシリコーンモノマー、シリコーンオ
リゴマーなどの有機・無機系化合物、シリカ、アルミ
ナ、チタニア、ジルコニア或いはこれらの混合物等のゾ
ル・ゲル反応による透明酸化物被膜が挙げられる。

【００２７】特に好ましくは、屈折率１．５２５のペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートやジペン
タエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の放射
線硬化性樹脂あるいはこれらに微粒子のシリカやアルミ
ナ等を添加したものや、エチルシリケートあるいはメチ
ルシリケート等金属アルコラート化合物のゾルゲル反応
により生成させた酸化ケイ素等の金属酸化物が表面硬度
も上げることで好ましい。反射防止層厚は５０〜１００
ｎｍが好ましく、反射率低下に効果がある厚みに設定す
ることが好ましい。好ましくは屈折率と透明反射防止膜
の厚み（ｎｍ）との積が１００〜２００の範囲に入るこ
とが好ましい。

【００２８】透明導電性層の屈折率と異なる透明反射防
止層の防汚性を向上させるために、フッ素および／また
はケイ素を含有する化合物を含有させることができる。
これらの化合物としては、公知のフッ素化合物やケイ素
化合物、あるいはフッ素とケイ素含有部を有するブロッ
クを有する化合物が挙げられ、さらに樹脂あるいは金属
酸化物等と相溶性の良いセグメントとフッ素あるいはケ
イ素を含有するセグメントとを有する化合物が好まし
く、透明導電性層の屈折率の異なる透明反射防止層への
添加することで、表面にフッ素あるいはケイ素が偏在さ
せることができる。

【００２９】これらの具体的な化合物としては、フッ素
あるいはケイ素を含有するモノマーと他の親水性あるい
は親油性のモノマーとのブロック共重合体、あるいはグ
ラフト共重合体が挙げられる。フッ素含有モノマーとし
てはヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、ヘプタ
デカフルオロデシルアクリレート、パーフルオロアルキ
ルスルホンアミドエチルアクリレート、パーフルオロア
ルキルアミドエチルアクリレート等に代表されるパーフ
ルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルが挙
げられる。ケイ素含有モノマーとしてはポリジメチルシ
ロキサンと（メタ）アクリル酸等の反応によるシロキサ
ン基を有するモノマーが挙げられる。親水性あるいは親
油性のモノマーとしては、メチルアクリレート等の（メ
タ）アクリル酸エステル、末端に水酸基含有ポリエステ
ルと（メタ）アクリル酸のエステル、ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールの（メ
タ）アクリル酸エステル等が挙げられる。市販の化合物
としては、パーフルオロアルキル鎖のミクロドメイン構
造を有するアクリル系オリゴマーのデフェンサＭＣＦ−
３００、３１２、３２３等、パーフルオロアルキル基・
親油性基含有オリゴマーのメガファックＦ−１７０、Ｆ
−１７３、Ｆ−１７５等、パーフルオロアルキル基・親
水性基含有オリゴマーのメガファックＦ−１７１等（大
日本インキ化学(株)製）や、表面移行性に優れたセグメ
ントと樹脂に相溶するセグメントよりなるビニルモノマ
ーのブロックポリマーであるフッ化アルキル系のモディ
パーＦ−２００、２２０、６００、８２０等、シリコン
系のモディパーＦＳ−７００、７１０等（日本油脂(株)
製）が挙げられる。

【００３０】透明導電性層の屈折率と異なる透明反射防
止層へのこれらの化合物の添加は、表面への偏在によ
り、例えば接触角が９０゜以上になる量であれば良く、
具体的な添加量は、反射防止層の１〜５０質量％、更に
好ましくは５〜３０質量％が好ましい。量が少ないと表
面の防汚性が劣り、５０質量％以上では膜強度が低下
し、耐傷性が劣る。

【００３１】本発明の積層フイルムの作製は、基材フイ
ルム上に各層の塗料をディッピング法、スピナー法、ス
プレー法、ロールコーター法、ワイヤーバー法等の公知
の薄膜塗布方法で各層を形成、乾燥して作製することが
できる。各薄膜の作成方法としてはワイヤーバーによる
方法が好ましい。

【００３２】本発明に用いられる粘着剤は、弾性係数が
１×１０Ｅ⁵〜１×１０Ｅ⁵dyn/cm²が好ましく、厚さは
１０〜３００μが好ましい。材料としては、アクリル
系、シリコン系、ポリエステル系などがあり、特にアク
リル系が好ましい。また熱架橋、光架橋タイプどちらも
用いられる。

【００３３】上記特性の粘着剤をロールtoロールで前記
透明導電性反射防止フイルム、に塗設し、適当な画面サ
イズに打ち抜いた後、表示装置の前面に貼合する。

【００３４】

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に具体的に
説明する。塗料の調製：ハードコート層塗布液の調製：（シリカ微粒子の表面処理）平均粒径が１５ｎｍのシリ
カ微粒子の４０質量％メタノール分散液２００ｇを、撹
拌装置、温度計および還流冷却管を装着した５００ｍｌ
のガラス製三口フラスコに入れた。ここに２Ｎ塩酸０．
２ｇを加え、窒素気流下で６０℃に昇温した後、３−メ
タクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１０ｇ
を添加し、４時間撹拌を続け、シリカ微粒子を表面処理
した。

【００３５】（ハードコート層用塗布液の調製）表面処
理したシリカ微粒子の４３質量％メタノール分散液１１
６ｇに、メタノール９７ｇ、イソプロパノール１６３ｇ
および酢酸ブチル１６３ｇを加えた。混合液に、ジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本
化薬（株）製）２００ｇを加えて溶解した。得られた溶
液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）５．０ｇを加えて溶解した。混
合物を３０分間撹拌した後、孔径１μｍのポリプロピレ
ン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液を調
製した。

【００３６】銀コロイド塗布液の調製：（銀コロイド分散液の調製）３０％硫酸鉄（II）ＦｅＳ
Ｏ₄・７Ｈ₂Ｏ、４０％のクエン酸を調製、混合し、これ
に１０％の硝酸銀溶液を５℃に保持しながら混合し、遠
心分離により水洗し、３質量％になるように純水を加
え、銀コロイド分散液を調製した。得られた銀コロイド
粒子の粒径はＴＥＭ観察の結果、粒径は約７〜１２ｎｍ
であった。

【００３７】（銀コロイド塗布液の調製）前記銀コロイ
ド分散液１００ｇにイソプロピルアルコールを加え、超
音波分散し孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで
濾過して塗布液を調製した。

【００３８】反射防止層用塗布液（Ａ）の調製ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）２ｇと光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）８０ｍｇ、光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３０ｍｇ
及び表１に記載の化合物を表１に記載の添加量をメチル
イソブチルケトン５０ｇ、２−ブチルアルコール５０ｇ
の混合液に加えて溶解した。混合物を３０分間撹拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し
て低反射防止層用塗布液（Ａ）を調製した。

【００３９】反射防止層用塗布液（Ｂ）の調製熱架橋性含フッ素ポリマー（オプスターＪＮ７２２８、
ＪＳＲ（株）製、固形分濃度６％）２２５ｇにメチルイ
ソブチルケトン１７４ｇを添加、撹拌の後、孔径１μの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して、反射防止層用
塗布液（Ｂ）を調製した。

【００４０】［実施例１〜４、比較例１、２］１７５μ
ｍのポリエチレンテレフタレートフイルムにワイヤーバ
ーを用いてハードコート塗布液を層厚８μｍになるよう
に塗布・乾燥し、紫外線照射しハードコート層を作製し
た。コロナ処理を施した後、上記銀コロイド塗布液をワ
イヤーバーで塗布量が７０ｍｇ／ｍ²になるように塗布
し、１２０℃５分乾燥した。次いで、所定の反射防止層
塗布液（Ａ）を膜厚８５ｎｍになるように塗布・乾燥
し、紫外線照射し、透明導電性反射防止フイルムを作製
した。

【００４１】［比較例３］実施例１と同様の方法で、１
７５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムにワイ
ヤーバーを用いてハードコート塗布液を層厚８μｍにな
るように塗布・乾燥し、紫外線照射しハードコート層を
作製した。コロナ処理を施した後、上記銀コロイド塗布
液をワイヤーバーで塗布量が７０ｍｇ／ｍ²になるよう
に塗布し、１２０℃５分乾燥した。次いで、所定の反射
防止層塗布液（Ｂ）を膜厚９５ｎｍになるように塗布・
乾燥し、１２０℃、１０分間熱処理し、低反射導電性積
層フイルムの作製した。

【００４２】作製した低反射導電性積層フイルムの特性
を測定した結果を表１に示す。

【表１】

【００４３】各測定は以下に示す方法で行った。（反射防止膜の評価） (1)屈折率アッベ屈折計を用いて、プリズム上に塗布液をキャスト
した後、２５℃にて測定。 (2)極小反射率分光光度計（日本分光(株)製）を用いて、入射光５゜に
おける正反射の極小反射率。 (3)平均反射率分光光度計（日本分光(株)製）を用いて、４５０〜６５
０ｎｍの波長領域における入射光５゜における正反射の
平均反射率。 (4)耐傷性スチールウール＃００００で１．９６Ｎ荷重で５０回往
復後、表面の傷つきの程度を目視で判定。 ○：傷なし △：やや傷あり ×：傷多い

【００４４】表１より、基材上にハードコートを設けた
ものに銀コロイド層、反射防止層を積層した透明導電性
反射防止フイルムにおいて、反射防止層の屈折率が１．
７以上の場合反射率が１．５％を越えてしまう。反射防
止層の屈折率が１．５未満の場合反射率は低いが、耐傷
性が劣り、反射防止層の屈折率が１．５〜１．７のもの
では、反射防止性、耐傷性が両立していることが解る。

【００４５】

【発明の効果】本発明の低反射透明導電性積層フイルム
は、簡単な層構成により帯電防止性および電磁波遮蔽性
に優れていると共に、表面反射が防止されており、新た
な保護層を塗設することなく耐傷性を両立可能であり、
陰極線管やプラズマディスプレー等の表面に積層するこ
とが可能な電磁波遮蔽、反射防止、傷つき防止機能を付
加できる低反射透明導電性積層フイルムを安価に供与で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の好ましい一実施形態である透明被膜層
を防汚性反射防止層とした低反射導電性積層フイルムを
示す。

フロントページの続きＦターム(参考） 2K009 AA02 AA15 BB24 BB28 CC03 CC09 CC14 CC24 CC26 DD02 EE00 EE03 EE05 4F100 AB01C AB24C AB31C AK25D AK42 AR00C AR00D AS00B BA04 BA10A BA10D CA21C DE01C GB41 GB48 JD08 JG01C JG03 JL06 JN01A JN01C JN01D JN18D YY00D 5G435 AA00 AA08 BB02 BB06 BB12 GG32 GG33 HH02 HH03 HH12 HH14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材上にハードコート層と、少なく
とも１種以上の金属からなる粒子を有する透明導電性層
と、該透明導電性層の外層に形成され、１．５〜１．７
の範囲の屈折率を有する透明被膜層とを含む構成からな
る透明導電性反射防止フイルム。
【請求項２】前記透明被覆層が４官能以上の多官能ア
クリレートモノマーの架橋体を主体とする請求項１に記
載の透明導電性反射防止フイルム。
【請求項３】前記少なくとも１種以上の金属からなる
粒子が銀あるいは銀を主体とする合金である請求項１又
は２に記載の透明導電性反射防止フイルム。
【請求項４】前記少なくとも１種以上の金属からなる
粒子の粒子サイズが１〜１００ｎｍである請求項３に記
載の透明導電性反射防止フイルム。
【請求項５】請求項１ないし４いずれか１つに記載の
透明導電性反射防止フイルムを、粘着剤を介してフェー
スパネル面に貼合した表示装置。