JP2002053776A - 製版用レジスト及びグラビアインキ等の除去剤 - Google Patents
製版用レジスト及びグラビアインキ等の除去剤Info
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- JP2002053776A JP2002053776A JP2000243346A JP2000243346A JP2002053776A JP 2002053776 A JP2002053776 A JP 2002053776A JP 2000243346 A JP2000243346 A JP 2000243346A JP 2000243346 A JP2000243346 A JP 2000243346A JP 2002053776 A JP2002053776 A JP 2002053776A
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Abstract
毒性の材料の混合した液剤であり、グラビア用版ロール
の,製版工程の感光膜若しくはブラックラッカーのコー
ティング前のバフ研磨の汚れや油脂分等の付着によるピ
ンホールなどが発生して失敗したコーティング膜や校正
印刷後及び印刷後のインクの除去等を環境汚染を伴わな
いで良好に除去できる。 【解決手段】 シクロヘキサン等と、ケトン類と、アル
コール類とを所要割合で含んで成る。ケトン類は、極性
基物質を溶かす極性溶媒であり、アルコール類はアルコ
ール類を含む高分子を溶かす溶媒であり、シクロヘキサ
ン等は非極性基物質を有効に溶かす非極性溶媒である。
Description
ールの,製版工程の感光膜若しくはブラックラッカーの
コーティング前のバフ研磨の汚れや油脂分等の付着によ
るピンホールなどが発生して失敗したコーティング膜や
校正印刷後及び印刷後のインクの除去等を環境汚染を伴
わないで良好に除去できる,製版用レジスト及びグラビ
アインキ等の除去剤に関する。
感光膜コーティング前のバフ研磨の汚れや油脂分等の付
着によるピンホールなどの発生による感光膜コーティン
グの失敗、並びに校正印刷後及び印刷後のインクの除去
等は、トルエンとメタノールを主成分とする洗浄剤によ
り除去していた。
化学物質管理促進法、いわゆるPRTR法によって、ト
ルエンは第1種指定物質に登録されている毒性が強い物
質である。トルエンにメタノールを混合すると、トルエ
ンの皮膚吸収が増幅される。混触経皮吸収は有害物質が
手穴から入るのではなく、皮膚を突き抜けて入っていく
ため、皮膚吸収速度は、メタノール単独の場合の4〜5
倍になる。メタノールはトルエンに対して経皮吸収促進
効果が大きい。逆に、トルエンにベンゼンを混合する
と、トルエンの皮膚吸収が縮小される。ベンゼンはトル
エンに対して経皮吸収促進効果が小さい。又、トルエン
は光化学スモッグの原因物質でもあった。このような背
景から、トルエンを含んでおらず、トルエンよりも低毒
性であり、化学物質の組み合わせが経皮吸収促進効果を
増幅しない洗浄剤の組み合わせを開発して、現行におい
て使用されているトルエンとメタノールを主成分とする
洗浄剤に置き換えることが急務となっている。
ので、トルエン等の毒性が強い溶剤を含んでおらず低毒
性の材料の混合した液剤であり、グラビア用版ロール
の,製版工程の感光膜若しくはブラックラッカーのコー
ティング前のバフ研磨の汚れや油脂分等の付着によるピ
ンホールなどが発生して失敗したコーティング膜や校正
印刷後のインクの除去等を環境汚染を伴わないで良好に
除去でき、環境特性、毒性、臭気の点で満足する,製版
用レジスト及びグラビアインキ等の除去剤を提供するこ
とを目的としている。
サンとメチルシクロヘキサンとエチルシクロヘキサンと
シクロペンタンとメチルシクロペンタンとエチルシクロ
ペンタンの少なくともいずれか一つと、ケトン類と、ア
ルコール類とを所要割合で含んで成ることを特徴とする
製版用レジスト及びグラビアインキ等の除去剤を提供す
るものである。
ラビアインキ等の除去剤は、シクロヘキサンとメチルシ
クロヘキサンとエチルシクロヘキサンとシクロペンタン
とメチルシクロペンタンとエチルシクロペンタンの少な
くともいずれか一つと、ケトン類(例えばメチルエチル
ケトン、アセトン等)と、アルコール類(メタノール、
イソプロピルアルコール等)とを所要割合で含んで成
る。本願発明の除去剤は、シクロヘキサンとメチルシク
ロヘキサンとエチルシクロヘキサンとシクロペンタンと
メチルシクロペンタンとエチルシクロペンタンが水に溶
けない炭化水素などの非極性基物質の非極性溶媒であ
り、ケトン類が極性基高分子の極性溶媒であり、アルコ
ール類がアルコール類を含む高分子の溶媒であるので、
多様な高分子に対する洗浄特性を有しており、特に、製
版用レジスト及びグラビアインキ等の除去に効果があ
る。
al Industrial Hygiensts)−1999年のデータによれ
ば、各種溶剤の毒性の指標となる値が示されており、表
1に示す。
0PPMであるのに対し、メチルエチルケトンの許容濃
度は200PPMであり、メチルシクロヘキサンの許容
濃度は400PPMであるから、メチルエチルケトンは
トルエンよりも低毒性であり、メチルシクロヘキサンは
メチルエチルケトンよりもさらに低毒性である。シクロ
ヘキサンとメチルシクロヘキサンとエチルシクロヘキサ
ンとシクロペンタンとメチルシクロペンタンとエチルシ
クロペンタンは、いずれも、PRTR法によって第1種
指定物質に登録されていない。又、メチルエチルケトン
とメタノールも、PRTR法によって第1種指定物質に
登録されていない。
エチルケトン40重量%とメタノール40重量%とメチ
ルシクロヘキサン20重量%からなる混合液を作り、該
混合液を被製版ロールに塗布し乾固した感光レジストに
対して浸漬して拭ったところ、感光レジストを良好に除
去することができた。
エチルケトン40重量%とメタノール40重量%とメチ
ルシクロペンタン20重量%からなる混合液を作り、該
混合液を被製版ロールに塗布し乾固した感光レジストに
対して浸漬して拭ったところ、感光レジストを良好に除
去することができた。
去剤として、メチルエチルケトン30重量%とメタノー
ル40重量%とシクロヘキサン30重量%からなる混合
液を作り、被製版ロールに塗布し乾固したブラックラッ
カー被膜に対して該混合液で浸漬して被製版ロールを回
転し超音波を当てたところ、ブラックラッカー被膜を良
好に除去することができた。
去剤として、メチルエチルケトン30重量%とメタノー
ル40重量%とシクロペンタン30重量%からなる混合
液を作り、被製版ロールに塗布し乾固したブラックラッ
カー被膜に対して該混合液で浸漬して被製版ロールを回
転し超音波を当てたところ、ブラックラッカー被膜を良
好に除去することができた。
ルケトン40重量%とメタノール30重量%とエチルシ
クロヘキサン30重量%からなる混合液を作り、該混合
液を被製版ロールに版を形成し校正刷りした後のインク
の除去に使用したところ、良好に除去することができ
た。
ルケトン40重量%とメタノール30重量%とエチルシ
クロペンタン30重量%からなる混合液を作り、該混合
液を被製版ロールに版を形成し校正刷りした後のインク
の除去に使用したところ、良好に除去することができ
た。
ンキ等の除去剤は、感光膜やブラックラッカーのコーテ
ィング前のバフ研磨の汚れや油脂分等の付着の除去につ
いても良好に除去できた。
ン等の毒性が強い溶剤を含んでおらず低毒性の材料の混
合した液剤であり、グラビア用版ロールの,製版工程の
感光膜若しくはブラックラッカーのコーティング前のバ
フ研磨の汚れや油脂分等の付着によるピンホールなどが
発生して失敗したコーティング膜や校正印刷後及び印刷
後のインクの除去等を環境汚染を伴わないで良好に除去
できて環境特性、毒性、臭気の点で満足でき、又、バフ
研磨の汚れや油脂分等の付着の除去についても良好に除
去できる。
Claims (1)
- 【請求項1】 シクロヘキサンとメチルシクロヘキサン
とエチルシクロヘキサンとシクロペンタンとメチルシク
ロペンタンとエチルシクロペンタンの少なくともいずれ
か一つと、ケトン類と、アルコール類とを所要割合で含
んで成ることを特徴とする製版用レジスト及びグラビア
インキ等の除去剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000243346A JP2002053776A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | 製版用レジスト及びグラビアインキ等の除去剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000243346A JP2002053776A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | 製版用レジスト及びグラビアインキ等の除去剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002053776A true JP2002053776A (ja) | 2002-02-19 |
Family
ID=18734215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000243346A Pending JP2002053776A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | 製版用レジスト及びグラビアインキ等の除去剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002053776A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102070933A (zh) * | 2010-09-30 | 2011-05-25 | 王宝盛 | 一种混合环烷烃环保型溶剂 |
CN104845435A (zh) * | 2015-06-02 | 2015-08-19 | 深圳市板明科技有限公司 | 一种感光油墨清洗剂 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH024268A (ja) * | 1988-06-22 | 1990-01-09 | Asahi Glass Co Ltd | レジスト剥離剤 |
JPH06220489A (ja) * | 1992-07-09 | 1994-08-09 | Kentosu:Kk | 除去剤 |
JP2000044994A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-15 | Showa Denko Kk | レジスト除去溶剤 |
-
2000
- 2000-08-10 JP JP2000243346A patent/JP2002053776A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH024268A (ja) * | 1988-06-22 | 1990-01-09 | Asahi Glass Co Ltd | レジスト剥離剤 |
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Cited By (2)
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