JP2002050310A - 蛍光表示管 - Google Patents
蛍光表示管Info
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- JP2002050310A JP2002050310A JP2000234587A JP2000234587A JP2002050310A JP 2002050310 A JP2002050310 A JP 2002050310A JP 2000234587 A JP2000234587 A JP 2000234587A JP 2000234587 A JP2000234587 A JP 2000234587A JP 2002050310 A JP2002050310 A JP 2002050310A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 焼成時に導通不良を招くほどのヒュームが発
生することなく、配線間の静電容量を小さくして漏れ発
光を低減する。 【解決手段】 内部が高真空状態に保持された外囲器の
一部を構成する基板３の内面には、表示セグメント１０
のパターンに応じて配線層７が形成される。配線層７上
には、低融点ガラスを主成分とする絶縁材料により２つ
の層９ａ，９ｂからなる絶縁層９が形成される。配線層
７上の一層目の層９ａはＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリ
ットと主成分とする絶縁材料により形成される。絶縁層
９上には、表示セグメント１０の形状に蛍光体層１４が
被着された陽極導体１３が形成される。表示セグメント
１０の桁毎にはメッシュ状のグリッド１６が設けられ、
グリッド１６の上方には電子を放出する陰極１７が設け
られる。陽極導体１３と配線層７との間は絶縁層９に形
成されたスルーホール１１に導体層１２を介して接続さ
れており、時分割方式により各グリッド１６に電圧を印
加し、所望の表示セグメント１０に正電圧を印加して表
示セグメント１０を発光駆動する。
生することなく、配線間の静電容量を小さくして漏れ発
光を低減する。 【解決手段】 内部が高真空状態に保持された外囲器の
一部を構成する基板３の内面には、表示セグメント１０
のパターンに応じて配線層７が形成される。配線層７上
には、低融点ガラスを主成分とする絶縁材料により２つ
の層９ａ，９ｂからなる絶縁層９が形成される。配線層
７上の一層目の層９ａはＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリ
ットと主成分とする絶縁材料により形成される。絶縁層
９上には、表示セグメント１０の形状に蛍光体層１４が
被着された陽極導体１３が形成される。表示セグメント
１０の桁毎にはメッシュ状のグリッド１６が設けられ、
グリッド１６の上方には電子を放出する陰極１７が設け
られる。陽極導体１３と配線層７との間は絶縁層９に形
成されたスルーホール１１に導体層１２を介して接続さ
れており、時分割方式により各グリッド１６に電圧を印
加し、所望の表示セグメント１０に正電圧を印加して表
示セグメント１０を発光駆動する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子の射突により
蛍光体を励起発光させて所望の表示を行う蛍光表示管に
関し、例えば絶縁性基板上に形成された配線層と、配線
層を覆うように形成された絶縁層と、絶縁層のスルホー
ルを介して配線層と電気的に接続されるように絶縁層上
に形成された陽極導体と、陽極導体の上に形成された蛍
光体層とを有し、陰極から放出される電子の射突により
蛍光体層を発光させ、その発光を絶縁性基板と対面する
基板の外側から観察するタイプの蛍光表示管や、絶縁性
基板上に配線層と陽極導体が一体に形成され、配線層と
陽極導体が形成された部分以外の隙間を埋めるように絶
縁性基板上に形成された絶縁層と、陽極導体の上に形成
された蛍光体層とを有し、陰極から放出される電子の射
突により蛍光体層を発光させ、その発光を絶縁性基板の
外側から観察するタイプの蛍光表示管に関する。
蛍光体を励起発光させて所望の表示を行う蛍光表示管に
関し、例えば絶縁性基板上に形成された配線層と、配線
層を覆うように形成された絶縁層と、絶縁層のスルホー
ルを介して配線層と電気的に接続されるように絶縁層上
に形成された陽極導体と、陽極導体の上に形成された蛍
光体層とを有し、陰極から放出される電子の射突により
蛍光体層を発光させ、その発光を絶縁性基板と対面する
基板の外側から観察するタイプの蛍光表示管や、絶縁性
基板上に配線層と陽極導体が一体に形成され、配線層と
陽極導体が形成された部分以外の隙間を埋めるように絶
縁性基板上に形成された絶縁層と、陽極導体の上に形成
された蛍光体層とを有し、陰極から放出される電子の射
突により蛍光体層を発光させ、その発光を絶縁性基板の
外側から観察するタイプの蛍光表示管に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１は一般的に知られている蛍光表示管
の全体構成を示す一部裁断斜視図、図２は同蛍光表示管
の部分断面図である。
の全体構成を示す一部裁断斜視図、図２は同蛍光表示管
の部分断面図である。
【０００３】図１に示すように、蛍光表示管１は、内部
が高真空状態に気密保持された外囲器２を有している。
外囲器２は、絶縁性を有する陽極基板３と、絶縁性及び
透光性を有する前面板４と絶縁性を有する枠状の側面板
５とにより形成された蓋状の容器部６とによって箱状に
組み立てられる。
が高真空状態に気密保持された外囲器２を有している。
外囲器２は、絶縁性を有する陽極基板３と、絶縁性及び
透光性を有する前面板４と絶縁性を有する枠状の側面板
５とにより形成された蓋状の容器部６とによって箱状に
組み立てられる。
【０００４】図２に示すように、外囲器２内における陽
極基板３の内面には、Ａｌ薄膜からなる配線層（配線導
体）７が表示パターン８に応じた所定パターン形状に形
成されている。配線層７上には絶縁層９が積層形成され
ている。絶縁層９における表示パターン８の表示セグメ
ント１０をなす部分には、スルーホール１１が形成され
ており、このスルーホール１１には配線層７が表出して
いる。配線層７が表出したスルーホール１１部分は、導
体ペーストの印刷による導体層１２で穴埋めされてい
る。
極基板３の内面には、Ａｌ薄膜からなる配線層（配線導
体）７が表示パターン８に応じた所定パターン形状に形
成されている。配線層７上には絶縁層９が積層形成され
ている。絶縁層９における表示パターン８の表示セグメ
ント１０をなす部分には、スルーホール１１が形成され
ており、このスルーホール１１には配線層７が表出して
いる。配線層７が表出したスルーホール１１部分は、導
体ペーストの印刷による導体層１２で穴埋めされてい
る。
【０００５】図２に示すように、絶縁層９の同一面上に
は、導体層１２を介して配線層７と導通するように、陽
極導体１３が表示パターン８の表示セグメント１０毎に
分割形成されている。各陽極導体１３は、例えば黒鉛粉
末と無機バインダーからなる黒鉛ペーストやＡｌペース
トの厚膜印刷により形成される。各陽極導体１３上に
は、蛍光体粉末とビークルからなる蛍光体ペーストの印
刷により表示パターン８の表示セグメント１０の形状に
蛍光体層１４が形成されている。これにより、表示パタ
ーン８の各表示セグメント１０毎の陽極１５が形成され
る。陽極１５の上方にはメッシュ状のグリッド１６が設
けられ、このグリッド１６の上方にはフィラメント状の
陰極１７が設けられている。
は、導体層１２を介して配線層７と導通するように、陽
極導体１３が表示パターン８の表示セグメント１０毎に
分割形成されている。各陽極導体１３は、例えば黒鉛粉
末と無機バインダーからなる黒鉛ペーストやＡｌペース
トの厚膜印刷により形成される。各陽極導体１３上に
は、蛍光体粉末とビークルからなる蛍光体ペーストの印
刷により表示パターン８の表示セグメント１０の形状に
蛍光体層１４が形成されている。これにより、表示パタ
ーン８の各表示セグメント１０毎の陽極１５が形成され
る。陽極１５の上方にはメッシュ状のグリッド１６が設
けられ、このグリッド１６の上方にはフィラメント状の
陰極１７が設けられている。
【０００６】ところで、従来の蛍光表示管１では、抵抗
が大きく絶縁性の有る材料として、低融点フリットガラ
スに顔料及びビークルを混合したペーストをスクリーン
印刷し、その後の焼成工程を経て絶縁層９を形成してい
た。
が大きく絶縁性の有る材料として、低融点フリットガラ
スに顔料及びビークルを混合したペーストをスクリーン
印刷し、その後の焼成工程を経て絶縁層９を形成してい
た。
【０００７】その際、上記低融点フリットガラスとして
は、ＰｂＯ系ガラスフリットが用いられていた。ＰｂＯ
系ガラスフリットとしては、例えばＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 、
ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −Ｚｎ
Ｏ、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ−ＳｉＯ2 、ＰｂＯ−Ｓ
ｉＯ2 の何れかを主成分（７０％以上）とするものが使
用され、これらの材料に流動防止フィラーとしてアルミ
ナやＴｉＯ2 等の酸化物を混入する場合もある。
は、ＰｂＯ系ガラスフリットが用いられていた。ＰｂＯ
系ガラスフリットとしては、例えばＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 、
ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −Ｚｎ
Ｏ、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ−ＳｉＯ2 、ＰｂＯ−Ｓ
ｉＯ2 の何れかを主成分（７０％以上）とするものが使
用され、これらの材料に流動防止フィラーとしてアルミ
ナやＴｉＯ2 等の酸化物を混入する場合もある。
【０００８】ところで、最近の高密度化パターンが図ら
れた蛍光表示管では、配線間のギャップが５０μｍ以下
と狭くなってきている。このため、対向する配線が電極
として作用し、配線間の静電容量が大きいものとなって
いる。その結果、隣接する配線の電位に影響され、電圧
波形にダレが生じて漏れ発光を引き起こしていた。
れた蛍光表示管では、配線間のギャップが５０μｍ以下
と狭くなってきている。このため、対向する配線が電極
として作用し、配線間の静電容量が大きいものとなって
いる。その結果、隣接する配線の電位に影響され、電圧
波形にダレが生じて漏れ発光を引き起こしていた。
【０００９】通常、蛍光表示管は、図１でも示すよう
に、外囲器２内の表示パターン８を複数の表示セグメン
ト１０を含む複数桁（通常は制御電極をなすグリッド１
６により分割している）に分割されている。そして、時
分割方式により各グリッド１６に電圧を印加し、所望の
表示セグメント１０に正電圧を印加する。これにより、
その表示セグメント１０の蛍光体層にカソードからの電
子が射突して発光駆動される。
に、外囲器２内の表示パターン８を複数の表示セグメン
ト１０を含む複数桁（通常は制御電極をなすグリッド１
６により分割している）に分割されている。そして、時
分割方式により各グリッド１６に電圧を印加し、所望の
表示セグメント１０に正電圧を印加する。これにより、
その表示セグメント１０の蛍光体層にカソードからの電
子が射突して発光駆動される。
【００１０】この場合、共通アノードには正電位が印加
されており、選択されたグリッド内のアノードが発光
し、他のグリッド内のアノードにはグリッドにカットオ
フ電圧−Ｅｋを印加して電子を遮蔽する事により発光す
ることはない。
されており、選択されたグリッド内のアノードが発光
し、他のグリッド内のアノードにはグリッドにカットオ
フ電圧−Ｅｋを印加して電子を遮蔽する事により発光す
ることはない。
【００１１】ところが、蛍光表示管は、絶縁基板上に導
電物質からなる配線パターンを形成し、その上に絶縁層
を積層した構成を有しているので、断面から観察する
と、配線パターン間に絶縁層を挟んだコンデンサーを構
成する事となる。また、真空容器内では隣接グリッド間
等においても浮遊容量を持つことがある。
電物質からなる配線パターンを形成し、その上に絶縁層
を積層した構成を有しているので、断面から観察する
と、配線パターン間に絶縁層を挟んだコンデンサーを構
成する事となる。また、真空容器内では隣接グリッド間
等においても浮遊容量を持つことがある。
【００１２】前記配線間に発生する容量は、前述したよ
うに、近年蛍光表示管に要求されるパターン密度の高ま
りに対応して配線間のギャップを狭くし、且つ蛍光表示
管の大型化により配線の長さが長くなると大きくなる。
しかも、蛍光表示管の隣接グリッド間の静電容量は前記
絶縁基板上に形成される配線パターン間によるものが大
きい。
うに、近年蛍光表示管に要求されるパターン密度の高ま
りに対応して配線間のギャップを狭くし、且つ蛍光表示
管の大型化により配線の長さが長くなると大きくなる。
しかも、蛍光表示管の隣接グリッド間の静電容量は前記
絶縁基板上に形成される配線パターン間によるものが大
きい。
【００１３】そして、隣接グリッド間には微小な静電容
量が発生し、オン状態のパルス信号が印加されると、こ
の隣接グリッド間の静電容量と、発光面と電源間の抵抗
によりパルス信号の印加されていない隣接グリッドに微
分回路が形成される事により、非発光グリッドに微分波
形状のノイズが発生することになる。この現象はパルス
回路においては常に発生しているが、通常は問題となっ
ていない。
量が発生し、オン状態のパルス信号が印加されると、こ
の隣接グリッド間の静電容量と、発光面と電源間の抵抗
によりパルス信号の印加されていない隣接グリッドに微
分回路が形成される事により、非発光グリッドに微分波
形状のノイズが発生することになる。この現象はパルス
回路においては常に発生しているが、通常は問題となっ
ていない。
【００１４】この微分波形状のピーク値がＥｋよりも大
きく且つ波形がなだらかになると、このノイズ波によ
り、非発光グリッド内の対応する不要なセグメントが発
光することになる。この現象を漏れ発光と言っている。
きく且つ波形がなだらかになると、このノイズ波によ
り、非発光グリッド内の対応する不要なセグメントが発
光することになる。この現象を漏れ発光と言っている。
【００１５】図４〜図７にその具体例を示す。図４にお
いて、図７（ａ）に示すように、ｎ番目のグリッドＧn
にグリッド駆動用パルス電圧ｅｃを印加し、隣接グリッ
ドＧn-1 ／Ｇn+1 にはカットオフバイアス電圧−Ｅｋを
常時印加している。これにより、通常はＧn 内のｂセグ
メントのみが発光し、ａ，ｃセグメントは発光しない。
いて、図７（ａ）に示すように、ｎ番目のグリッドＧn
にグリッド駆動用パルス電圧ｅｃを印加し、隣接グリッ
ドＧn-1 ／Ｇn+1 にはカットオフバイアス電圧−Ｅｋを
常時印加している。これにより、通常はＧn 内のｂセグ
メントのみが発光し、ａ，ｃセグメントは発光しない。
【００１６】ところが、隣接グリッド間の静電容量が一
定値以上になると、図５に示すように、隣接グリッド間
の静電容量をグリッド入力抵抗により微分回路を形成
し、グリッド信号電圧を供給していないにも関わらず隣
接グリッドに入力されるグリッド信号ｅｃにより、図７
（ｂ）に示すようなスパイク状のノイズが非点灯グリッ
ドに誘導されて不要部が微弱発光する。この発光は静電
容量が大きいほど大きくなる。そして、特に、従来の蛍
光表示管では、絶縁層としてＰｂ系ガラスが用いられて
いたため、前記静電容量が大きくなり、図６（ｂ）に示
すようなスパイク状のノイズが非点灯グリッドに誘導さ
れ、漏れ発光を生じさせていた。
定値以上になると、図５に示すように、隣接グリッド間
の静電容量をグリッド入力抵抗により微分回路を形成
し、グリッド信号電圧を供給していないにも関わらず隣
接グリッドに入力されるグリッド信号ｅｃにより、図７
（ｂ）に示すようなスパイク状のノイズが非点灯グリッ
ドに誘導されて不要部が微弱発光する。この発光は静電
容量が大きいほど大きくなる。そして、特に、従来の蛍
光表示管では、絶縁層としてＰｂ系ガラスが用いられて
いたため、前記静電容量が大きくなり、図６（ｂ）に示
すようなスパイク状のノイズが非点灯グリッドに誘導さ
れ、漏れ発光を生じさせていた。
【００１７】しかしながら、従来の蛍光表示管１では、
絶縁層９全体がＰｂを含む材料から形成されているの
で、蛍光表示管におけるエミッション特性が優れている
メリットがある反面、公害の問題があり、しかも、後に
詳述する配線間の静電容量が大きくなるため、漏れ発光
が生じやすいという問題があった。
絶縁層９全体がＰｂを含む材料から形成されているの
で、蛍光表示管におけるエミッション特性が優れている
メリットがある反面、公害の問題があり、しかも、後に
詳述する配線間の静電容量が大きくなるため、漏れ発光
が生じやすいという問題があった。
【００１８】そこで、上記問題を解消するため、本件出
願人は、鉛を含有しないＰ2 Ｏ5 系ガラスを用いて絶縁
層を形成した蛍光表示管を既に出願している。
願人は、鉛を含有しないＰ2 Ｏ5 系ガラスを用いて絶縁
層を形成した蛍光表示管を既に出願している。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】ところが、絶縁層９の
材料として用いられる上記Ｐ2 Ｏ5 系ガラスは、後工程
の外囲器の組立時に用いられる封着用のシールガラスよ
り更に高温（例えば約５６０℃）で焼成されるため、こ
の焼成時にヒュームという現象が発生する。ヒュームと
は、焼成時にＰ2 Ｏ5 系ガラスのガラス成分が表面から
滲み出して蒸発し飛散する現象である。そして、このヒ
ュームによって飛散したガラス成分が抵抗率の高い層と
してスルーホール内の導電材の上下面に形成され、これ
が配線層７と陽極導体１３との間の導通不良（スルーホ
ール不良）の原因となり、蛍光表示管の完成後にパルス
エミッション等の特性を劣化させるという問題を招いて
いた。
材料として用いられる上記Ｐ2 Ｏ5 系ガラスは、後工程
の外囲器の組立時に用いられる封着用のシールガラスよ
り更に高温（例えば約５６０℃）で焼成されるため、こ
の焼成時にヒュームという現象が発生する。ヒュームと
は、焼成時にＰ2 Ｏ5 系ガラスのガラス成分が表面から
滲み出して蒸発し飛散する現象である。そして、このヒ
ュームによって飛散したガラス成分が抵抗率の高い層と
してスルーホール内の導電材の上下面に形成され、これ
が配線層７と陽極導体１３との間の導通不良（スルーホ
ール不良）の原因となり、蛍光表示管の完成後にパルス
エミッション等の特性を劣化させるという問題を招いて
いた。
【００２０】このように、Ｐ2 Ｏ5 系のガラスを使用し
て絶縁層を形成した構成では、配線間の静電容量による
波形のダレからモレ発光するのを防止することはできる
が、焼成時のヒュームによる導通不良の問題があり、パ
ルスエミッション等に悪影響を及ぼしていた。
て絶縁層を形成した構成では、配線間の静電容量による
波形のダレからモレ発光するのを防止することはできる
が、焼成時のヒュームによる導通不良の問題があり、パ
ルスエミッション等に悪影響を及ぼしていた。
【００２１】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてな
されたものであり、焼成時のヒュームによって導通不良
を招くことなく、配線間の静電容量を小さくして漏れ発
光を低減することができ、しかも公害問題が少なくエミ
ッション特性の優れた蛍光表示管を提供することを目的
としている。
されたものであり、焼成時のヒュームによって導通不良
を招くことなく、配線間の静電容量を小さくして漏れ発
光を低減することができ、しかも公害問題が少なくエミ
ッション特性の優れた蛍光表示管を提供することを目的
としている。
【００２２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、内部が真空保持された箱状の外
囲器内に、電子の射突により蛍光体を励起発光させて所
望の表示を行う表示セグメントが設けられた蛍光表示管
において、前記外囲器の一部を構成する絶縁性基板の内
面に前記表示セグメントの配線層が形成され、該配線層
の上面および／または隣接する配線層との間にＢ2 Ｏ3
−ＺｎＯ系ガラスからなる絶縁層が設けられたことを特
徴とする。
め、請求項１の発明は、内部が真空保持された箱状の外
囲器内に、電子の射突により蛍光体を励起発光させて所
望の表示を行う表示セグメントが設けられた蛍光表示管
において、前記外囲器の一部を構成する絶縁性基板の内
面に前記表示セグメントの配線層が形成され、該配線層
の上面および／または隣接する配線層との間にＢ2 Ｏ3
−ＺｎＯ系ガラスからなる絶縁層が設けられたことを特
徴とする。
【００２３】請求項２の発明は、請求項１の蛍光表示管
において、前記絶縁層上に少なくとも１層のＰｂＯ系ガ
ラスからなる絶縁層が設けられたことを特徴とする。
において、前記絶縁層上に少なくとも１層のＰｂＯ系ガ
ラスからなる絶縁層が設けられたことを特徴とする。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下に説明する本実施の形態の蛍
光表示管は、その全体構成、配線接続構成、駆動構成等
については図１，図４，図５に示す通りなので、その説
明については省略する。
光表示管は、その全体構成、配線接続構成、駆動構成等
については図１，図４，図５に示す通りなので、その説
明については省略する。
【００２５】図２に示すように、本例の蛍光表示管１の
絶縁層９は、１層当たりの膜厚が例えば１０μｍ程度か
らなる２層構造となっている。配線層７を覆うように陽
極基板３の上に積層形成される１層目（最下層）の絶縁
層９ａは、誘電率の小さい材料（例えば誘電率ε＝１
０）で形成されている。
絶縁層９は、１層当たりの膜厚が例えば１０μｍ程度か
らなる２層構造となっている。配線層７を覆うように陽
極基板３の上に積層形成される１層目（最下層）の絶縁
層９ａは、誘電率の小さい材料（例えば誘電率ε＝１
０）で形成されている。
【００２６】上記誘電率の小さい材料としては、無鉛の
Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットが用いられる。具体
的に、１層目の絶縁層９ａは、ＰｂＯ系ガラスフリット
を含まないＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系を主成分とする絶縁ペー
ストが所定パターン形状にスクリーン印刷され、その後
の焼成工程を経て形成される。
Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットが用いられる。具体
的に、１層目の絶縁層９ａは、ＰｂＯ系ガラスフリット
を含まないＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系を主成分とする絶縁ペー
ストが所定パターン形状にスクリーン印刷され、その後
の焼成工程を経て形成される。
【００２７】更に説明すると、Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラ
スフリットを主成分とする絶縁ペーストとしては、Ｂ2
Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットにビークルを混合したも
の、Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットに酸化物とビー
クルを混合したものが用いられる。酸化物は、流動防止
フィラーとして用いられるものであり、例えばアルミナ
やＴｉＯ2 等がある。Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリッ
トとしては、Ｎａ2 Ｏをアルカリ成分とするＮａ2 Ｏ−
Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯがガラス主成分として用いられる。
スフリットを主成分とする絶縁ペーストとしては、Ｂ2
Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットにビークルを混合したも
の、Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットに酸化物とビー
クルを混合したものが用いられる。酸化物は、流動防止
フィラーとして用いられるものであり、例えばアルミナ
やＴｉＯ2 等がある。Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリッ
トとしては、Ｎａ2 Ｏをアルカリ成分とするＮａ2 Ｏ−
Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯがガラス主成分として用いられる。
【００２８】上記Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットを
主成分とする絶縁ペーストは、例えばＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ
系ガラスフリット３５〜８０％、酸化物０〜４０％、ビ
ークル２０〜２５％の割合で調合される。更に好ましく
は、Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリット５５〜７０％、
酸化物１０〜２０％、ビークル２０〜２５％の割合で調
合される。
主成分とする絶縁ペーストは、例えばＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ
系ガラスフリット３５〜８０％、酸化物０〜４０％、ビ
ークル２０〜２５％の割合で調合される。更に好ましく
は、Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリット５５〜７０％、
酸化物１０〜２０％、ビークル２０〜２５％の割合で調
合される。
【００２９】なお、上記ビークルは、所定パターン形状
の絶縁層９をスクリーン印刷するために必要なもので、
有機高分子を有機溶剤に溶解した粘性のある液体で、焼
成時には除去されるものである。
の絶縁層９をスクリーン印刷するために必要なもので、
有機高分子を有機溶剤に溶解した粘性のある液体で、焼
成時には除去されるものである。
【００３０】２層目の絶縁層９ｂは、誘電率が１層目の
絶縁層９ａよりも高い（例えば誘電率ε＝２２）通常の
ＰｂＯ系ガラスフリットを主成分とする絶縁ペーストの
スクリーン印刷により１層目の絶縁層９ａの上に積層形
成される。ＰｂＯ系ガラスフリットとしては、例えばＰ
ｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 ，ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 、ＰｂＯ
−Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ−Ｓｉ
Ｏ2 、ＰｂＯ−ＳｉＯ 2 の何れかを主成分（７０％以
上）とするものが使用され、これらの材料に流動防止フ
ィラーとしてアルミナやＴｉＯ2 等の酸化物を混入する
場合もある。
絶縁層９ａよりも高い（例えば誘電率ε＝２２）通常の
ＰｂＯ系ガラスフリットを主成分とする絶縁ペーストの
スクリーン印刷により１層目の絶縁層９ａの上に積層形
成される。ＰｂＯ系ガラスフリットとしては、例えばＰ
ｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 ，ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 、ＰｂＯ
−Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ−Ｓｉ
Ｏ2 、ＰｂＯ−ＳｉＯ 2 の何れかを主成分（７０％以
上）とするものが使用され、これらの材料に流動防止フ
ィラーとしてアルミナやＴｉＯ2 等の酸化物を混入する
場合もある。
【００３１】このように、上記実施の形態によれば、配
線層７を覆う１層目の絶縁層９ａを２層目の絶縁層９ｂ
よりも誘電率の小さいＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラス材料で
形成することにより、焼成時に導通不良を招くほどのヒ
ュームの発生を防ぐことができる。しかも、配線層７
間、及び配線層７と陽極導体１３との間の静電容量を小
さくして漏れ発光を低減することができる。すなわち、
配線層７間の静電容量をＣP 、誘電率をε、空気中の誘
電率をε0 、配線層７の面積をＳ、配線層間のギャップ
をｄとしたとき、ＣP ＝εε0 （Ｓ／ｄ）の式からも明
らかなように、静電容量を小さくすることができる。そ
の結果、発光対象でない蛍光体層に電子が射突すること
なく、漏れ発光を防止することができる。
線層７を覆う１層目の絶縁層９ａを２層目の絶縁層９ｂ
よりも誘電率の小さいＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラス材料で
形成することにより、焼成時に導通不良を招くほどのヒ
ュームの発生を防ぐことができる。しかも、配線層７
間、及び配線層７と陽極導体１３との間の静電容量を小
さくして漏れ発光を低減することができる。すなわち、
配線層７間の静電容量をＣP 、誘電率をε、空気中の誘
電率をε0 、配線層７の面積をＳ、配線層間のギャップ
をｄとしたとき、ＣP ＝εε0 （Ｓ／ｄ）の式からも明
らかなように、静電容量を小さくすることができる。そ
の結果、発光対象でない蛍光体層に電子が射突すること
なく、漏れ発光を防止することができる。
【００３２】また、２層目（最上層）の絶縁層９ｂがＰ
ｂＯ系ガラスフリットを主成分とする絶縁ペーストによ
り形成されているので、パルスエミッションを低下させ
ることなく、エミッション特性の優れた蛍光表示管を提
供することができる。
ｂＯ系ガラスフリットを主成分とする絶縁ペーストによ
り形成されているので、パルスエミッションを低下させ
ることなく、エミッション特性の優れた蛍光表示管を提
供することができる。
【００３３】なお、上記２層構造からなる絶縁層９とし
ては、１層目の絶縁層９ａと２層目の絶縁層９ｂの両方
にＰｂＯ系ガラスフリット材料よりも誘電率の小さいＢ
2 Ｏ 3 −ＺｎＯ系ガラスフリット材料を使用してもよ
い。これにより、１層目の絶縁層９ａのみにＢ2 Ｏ3 −
ＺｎＯ系ガラスフリット材料を使用した場合に比べ、配
線層７間、及び配線層７と陽極導体１３との間の静電容
量を更に小さくして漏れ発光の防止を図ることができ
る。
ては、１層目の絶縁層９ａと２層目の絶縁層９ｂの両方
にＰｂＯ系ガラスフリット材料よりも誘電率の小さいＢ
2 Ｏ 3 −ＺｎＯ系ガラスフリット材料を使用してもよ
い。これにより、１層目の絶縁層９ａのみにＢ2 Ｏ3 −
ＺｎＯ系ガラスフリット材料を使用した場合に比べ、配
線層７間、及び配線層７と陽極導体１３との間の静電容
量を更に小さくして漏れ発光の防止を図ることができ
る。
【００３４】次に、図３（ａ）〜（ｃ）は本発明による
蛍光表示管の他の構成を示している。なお、図３（ａ）
〜（ｃ）では、蛍光表示管の陽極基板３側の構成のみを
示している。
蛍光表示管の他の構成を示している。なお、図３（ａ）
〜（ｃ）では、蛍光表示管の陽極基板３側の構成のみを
示している。
【００３５】図３（ａ）では、陽極基板３上に配線層７
が所定パターン形状に形成され、陽極導体１３が形成さ
れる位置にスルーホール１１を有する絶縁層９が配線層
７を覆うように積層形成されている。陽極導体１３は、
スルーホール１１を埋めるようにして表示パターン形状
に絶縁層９上に形成され、陽極導体１３上には蛍光体層
１４が形成されている。
が所定パターン形状に形成され、陽極導体１３が形成さ
れる位置にスルーホール１１を有する絶縁層９が配線層
７を覆うように積層形成されている。陽極導体１３は、
スルーホール１１を埋めるようにして表示パターン形状
に絶縁層９上に形成され、陽極導体１３上には蛍光体層
１４が形成されている。
【００３６】図３（ｂ）では、陽極基板３上に配線層７
が所定パターン形状に形成され、各配線層７間を埋める
ように絶縁層９が配線層７と略同等の膜厚で形成されて
いる。陽極導体を兼ねる表示パターン形状の配線層７上
には蛍光体層１４が形成されている。
が所定パターン形状に形成され、各配線層７間を埋める
ように絶縁層９が配線層７と略同等の膜厚で形成されて
いる。陽極導体を兼ねる表示パターン形状の配線層７上
には蛍光体層１４が形成されている。
【００３７】図３（ｃ）では、陽極基板３上に配線層７
が所定パターン形状に形成され、各配線層７を覆うよう
に絶縁層９が形成されている。絶縁層９は、表示パター
ン形状の共通の陽極導体１３が形成される配線層７の周
囲に開口部を有して配線層７を覆うように形成されてい
る。陽極導体１３上には蛍光体層１４が形成されてい
る。
が所定パターン形状に形成され、各配線層７を覆うよう
に絶縁層９が形成されている。絶縁層９は、表示パター
ン形状の共通の陽極導体１３が形成される配線層７の周
囲に開口部を有して配線層７を覆うように形成されてい
る。陽極導体１３上には蛍光体層１４が形成されてい
る。
【００３８】そして、図３（ａ）〜（ｃ）のいずれも絶
縁層９が１層のみで形成され、この絶縁層９を形成する
ための材料には図２の構成で説明した無鉛のＢ2 Ｏ3 −
ＺｎＯ系ガラスフリットが用いられる。これら図３
（ａ）〜（ｃ）の構成によれば、焼成時にヒュームが発
生しても導通不良がなく、蛍光表示管の完成後でも十分
なパルスエミッション特性を得ることができる。しか
も、導体間（配線層７間や配線層７とグリッドとの間）
の静電容量を小さくして漏れ発光を低減することができ
る。
縁層９が１層のみで形成され、この絶縁層９を形成する
ための材料には図２の構成で説明した無鉛のＢ2 Ｏ3 −
ＺｎＯ系ガラスフリットが用いられる。これら図３
（ａ）〜（ｃ）の構成によれば、焼成時にヒュームが発
生しても導通不良がなく、蛍光表示管の完成後でも十分
なパルスエミッション特性を得ることができる。しか
も、導体間（配線層７間や配線層７とグリッドとの間）
の静電容量を小さくして漏れ発光を低減することができ
る。
【００３９】具体的に、蛍光表示管１を製作するにあた
って、内径０．６φのスルーホール１１を有する絶縁層
９を形成して約５６０℃で焼成した結果、Ｐ2 Ｏ5 系ガ
ラスフリットを絶縁層９の材料として使用した場合には
ヒュームの発生によって１００％の導通不良が発生した
のに対し、本例のＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットを
絶縁層９の材料として使用した場合には導通不良が全く
見られなかった。
って、内径０．６φのスルーホール１１を有する絶縁層
９を形成して約５６０℃で焼成した結果、Ｐ2 Ｏ5 系ガ
ラスフリットを絶縁層９の材料として使用した場合には
ヒュームの発生によって１００％の導通不良が発生した
のに対し、本例のＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリットを
絶縁層９の材料として使用した場合には導通不良が全く
見られなかった。
【００４０】ところで、図２に示す構成では、配線層７
を覆うように陽極基板３の上に形成される絶縁層９を２
層構造として説明したが、少なくとも配線層７に最も近
接する１層目の絶縁層をＰｂＯ系ガラスフリットに比べ
て誘電率の小さい無鉛のＢ2Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリ
ット材料で形成し、３層以上の構造としてもよい。この
場合、全ての層の絶縁層に誘電率の小さいＢ2 Ｏ3 −Ｚ
ｎＯ系ガラスフリット材料を使用すれば、前述したよう
に、より静電容量を小さくして漏れ発光の防止を図るこ
とができる。
を覆うように陽極基板３の上に形成される絶縁層９を２
層構造として説明したが、少なくとも配線層７に最も近
接する１層目の絶縁層をＰｂＯ系ガラスフリットに比べ
て誘電率の小さい無鉛のＢ2Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリ
ット材料で形成し、３層以上の構造としてもよい。この
場合、全ての層の絶縁層に誘電率の小さいＢ2 Ｏ3 −Ｚ
ｎＯ系ガラスフリット材料を使用すれば、前述したよう
に、より静電容量を小さくして漏れ発光の防止を図るこ
とができる。
【００４１】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
係る蛍光表示管によれば、Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフ
リット材料を用いて絶縁層を形成した構成なので、焼成
時にヒュームの発生によって導通不良を招くことがな
く、配線間の静電容量を小さくして漏れ発光を低減する
ことができ、エミッション特性の優れた蛍光表示管を提
供することができる。しかも、絶縁層の形成に使用され
るＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリット材料は鉛を含有し
ないガラスで形成されるので、公害問題も少ないという
利点がある。
係る蛍光表示管によれば、Ｂ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフ
リット材料を用いて絶縁層を形成した構成なので、焼成
時にヒュームの発生によって導通不良を招くことがな
く、配線間の静電容量を小さくして漏れ発光を低減する
ことができ、エミッション特性の優れた蛍光表示管を提
供することができる。しかも、絶縁層の形成に使用され
るＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系ガラスフリット材料は鉛を含有し
ないガラスで形成されるので、公害問題も少ないという
利点がある。
【図１】蛍光表示管の全体構成を示す一部裁断斜視図
【図２】図１の部分断面図
【図３】（ａ）〜（ｃ）本発明による蛍光表示管の他の
構成を示す図
構成を示す図
【図４】蛍光表示管の配線接続構成の一例を示す模式図
【図５】隣接グリッドに入力されるグリッド信号を示す
図
図
【図６】（ａ）本発明の蛍光表示管における隣接グリッ
ドにより誘起されるノイズの波形図 （ｂ）従来の蛍光表示管における隣接グリッドにより誘
起されるノイズの波形図
ドにより誘起されるノイズの波形図 （ｂ）従来の蛍光表示管における隣接グリッドにより誘
起されるノイズの波形図
【図７】（ａ）図３において、ｎ番目のグリッドＧn に
入力されるグリッド信号の波形図 （ｂ）グリッドＧn の隣接グリッドであるＧn-1 ，Ｇ
n+1 の波形図
入力されるグリッド信号の波形図 （ｂ）グリッドＧn の隣接グリッドであるＧn-1 ，Ｇ
n+1 の波形図
１…蛍光表示管、３…陽極基板、７…配線層、８…表示
パターン、９（９ａ，９ｂ）…絶縁層、１０…表示セグ
メント、１１…スルーホール、１２…導体層、１３…陽
極導体、１４…蛍光体層。
パターン、９（９ａ，９ｂ）…絶縁層、１０…表示セグ
メント、１１…スルーホール、１２…導体層、１３…陽
極導体、１４…蛍光体層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高山 定則 千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株式 会社内 Ｆターム(参考） 5C036 EE19 EF05 EF09 EG02 EG30 EH04 EH11
Claims (2)
- 【請求項１】 内部が真空保持された箱状の外囲器内
に、電子の射突により蛍光体を励起発光させて所望の表
示を行う表示セグメントが設けられた蛍光表示管におい
て、 前記外囲器の一部を構成する絶縁性基板の内面に前記表
示セグメントの配線層が形成され、該配線層の上面およ
び／または隣接する配線層との間にＢ2 Ｏ3 −ＺｎＯ系
ガラスからなる絶縁層が設けられたことを特徴とする蛍
光表示管。 - 【請求項２】 前記絶縁層上に少なくとも１層のＰｂＯ
系ガラスからなる絶縁層が設けられたことを特徴とする
請求項１記載の蛍光表示管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000234587A JP2002050310A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 蛍光表示管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000234587A JP2002050310A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 蛍光表示管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002050310A true JP2002050310A (ja) | 2002-02-15 |
Family
ID=18726933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000234587A Pending JP2002050310A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 蛍光表示管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002050310A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015096392A1 (zh) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制造方法、显示装置 |
-
2000
- 2000-08-02 JP JP2000234587A patent/JP2002050310A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015096392A1 (zh) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制造方法、显示装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040316 |
|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041124 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050412 |