JP2002049043A - Laminated type liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the treatment by a mother glass possible and to form barrier walls only in the display area of each panel in the method for manufacturing a laminated type liquid crystal display device using a film as the barrier walls. SOLUTION: In the process of manufacturing a laminated type liquid crystal display device, a polymer thin film as the barrier walls is preliminarily and temporarily adhered to a temporary substrate as a temporary supporting body and then laminated as temporarily adhered to the temporary substrate on a substrate such as glass, and then the temporary substrate is removed to form barrier walls of the polymer thin film on the substrate to obtain the laminated type liquid crystal display device. A dry film resist is used for the barrier walls and the temporary substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶層を複数積層
した液晶表示装置の製造方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device in which a plurality of liquid crystal layers are stacked.

【０００２】[0002]

【従来の技術】平面型ディスプレイとして重要な位置を
占める液晶表示装置は、いくつかの光学部材により構成
されており、その一例の模式図を図１７に示す。図１７
の液晶表示装置は、ガラス基板１、液晶層２、配向膜
３、透明電極４、バックライトユニット５、偏光板６の
光学部材により構成されている。なお、図１７では透過
型液晶表示装置について記載しているが、反射型液晶表
示装置の場合は、バックライトユニットの代わりが反射
板または反射電極となる。2. Description of the Related Art A liquid crystal display, which occupies an important position as a flat-panel display, is composed of several optical members. FIG. 17 is a schematic view showing an example of the optical member. FIG.
The liquid crystal display device includes a glass substrate 1, a liquid crystal layer 2, an alignment film 3, a transparent electrode 4, a backlight unit 5, and a polarizing plate 6. Although FIG. 17 illustrates a transmissive liquid crystal display device, in the case of a reflective liquid crystal display device, a reflector or a reflective electrode is used instead of a backlight unit.

【０００３】このような液晶表示装置を構成する光学部
材は、液晶パネル（以下セルと称する。）により代用で
きることは以前から知られており、例えば２色性色素を
混入した液晶を用いたゲスト−ホスト（以下ＧＨと称す
る。）モードは偏光板に、液晶セルそのものは位相差板
に、コレステリック液晶は選択反射層としてカラーフィ
ルタと反射板を兼ねたものとして使用できる。It has long been known that an optical member constituting such a liquid crystal display device can be replaced by a liquid crystal panel (hereinafter, referred to as a cell). For example, a guest using a liquid crystal mixed with a dichroic dye has been known. The host (hereinafter, referred to as GH) mode can be used as a polarizing plate, the liquid crystal cell itself can be used as a retardation plate, and the cholesteric liquid crystal can be used as a selective reflection layer that serves as both a color filter and a reflection plate.

【０００４】このように液晶セルを光学部材として使用
した場合の利点は、液晶表示装置を構成する各部材の光
学特性も必要に応じて変化させられることである。例え
ば光の利用効率が重要視される反射型液晶表示装置など
では偏光板による光のロス（１／２程度）の発生をなく
すことができ、理屈の上では偏光板を利用した表示方式
と比較して明るさが２倍となる。このような液晶表示方
式としては２層型ＧＨ（以下ＤＧＨと称する。）モード
などが挙げられる。更に、シアン（Ｃ）、マジェンタ
（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の３原色を積層すれば、カラー
フィルターを用いる必要がなくなり、光の利用効率が一
層向上する。An advantage of using a liquid crystal cell as an optical member as described above is that the optical characteristics of each member constituting the liquid crystal display device can be changed as required. For example, in a reflective liquid crystal display device in which light utilization efficiency is regarded as important, it is possible to eliminate the occurrence of light loss (about 1/2) due to a polarizing plate. And the brightness is doubled. As such a liquid crystal display system, a two-layer GH (hereinafter, referred to as DGH) mode or the like can be given. Furthermore, if the three primary colors of cyan (C), magenta (M), and yellow (Y) are stacked, it is not necessary to use a color filter, and the light use efficiency is further improved.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このように非常に利点
の多い積層型液晶表示装置であるが、その問題点は積層
方法に有る。例えば２枚の液晶セルを積層した場合の模
式図は図１８（ａ）のようになるが、実際には液晶層２
とそのガラス基板１とでは、厚さとして数１０〜数１０
０倍もの差が生じ、おおよそ前記縮尺にて図１８（ａ）
を書き直すと図１８（ｂ）のようになる。このため例え
ば図１９（ａ）に示すような市松模様を表示した場合、
上部液晶層の白（黒）表示領域９（８）と下部液晶層の
白（黒）表示領域９（８）とに視差が発生する。この時
の状態を図１９（ｂ）及び図１９（ｃ）に示すが、観察
者１１がパネルをパネル法線方向より表示を確認したと
きには問題は生じないものの、法線方向よりある程度傾
けて表示を確認した場合、視差による影１０（ボケ）が
発生する。As described above, the multi-layer liquid crystal display device has many advantages, but the problem lies in the lamination method. For example, a schematic diagram when two liquid crystal cells are stacked is as shown in FIG.
And its glass substrate 1, the thickness is several tens to several tens.
The difference is as large as 0 times, and approximately at the scale shown in FIG.
Is rewritten as shown in FIG. Therefore, for example, when a checkerboard pattern as shown in FIG.
Parallax occurs between the white (black) display area 9 (8) of the upper liquid crystal layer and the white (black) display area 9 (8) of the lower liquid crystal layer. The state at this time is shown in FIGS. 19B and 19C. When the observer 11 checks the display of the panel from the normal direction of the panel, there is no problem, but the display is performed at a certain angle from the normal direction. Is confirmed, a shadow 10 (blurring) due to parallax occurs.

【０００６】この視差を解消するためには、液晶層間に
存在する支持基板を薄くすればよく、例えば１００〜３
００μｍ□の画素の場合、ガラス基板の厚さが数１００
μｍ以下であれば視差の発生が抑えられることが、筆者
らの試算により確認されているが、このような薄いガラ
スを用いる場合には、割れる、欠けるなど製造上の問題
が多数発生する。また各層を独立に駆動する場合、それ
ぞれにスイッチング素子が必要となり、製造コストの大
幅な上昇や１画素あたりの開口率の低下による光のロ
ス、透明電極を複数回通過することによる光のロスが発
生する。In order to eliminate the parallax, the thickness of the supporting substrate existing between the liquid crystal layers may be reduced.
In the case of a pixel of 00 μm square, the thickness of the glass substrate is several hundreds.
It is confirmed by the authors' calculations that the generation of parallax is suppressed when the thickness is less than μm. However, when such a thin glass is used, many manufacturing problems such as cracking and chipping occur. In addition, when each layer is driven independently, a switching element is required for each layer, resulting in a large increase in manufacturing cost, a light loss due to a decrease in the aperture ratio per pixel, and a light loss due to passing through the transparent electrode a plurality of times. appear.

【０００７】この問題を解決するために、液晶層を分離
する隔壁に液晶層と同程度以下の厚さのフィルムを使用
した液晶表示装置（月刊ＦＰＤ Intelligence 1998,8
P.66:IBM、ＳＩＤ '99 P.962:IBM等）が発表されてお
り、その方法であれば、２層の液晶層を独立に駆動する
必要もなく、隔壁を介し駆動することでスイッチング素
子は１枚の基板に形成するだけですむ。隔壁を介し駆動
する際に発生する、隔壁での電圧降下も従来使用される
１ｍｍ弱程度のガラス基板にて行なう場合に比べ、格段
に減少するため大幅な改善が期待できると共に、視差の
問題についても大幅に改善される。In order to solve this problem, a liquid crystal display device using a film having a thickness approximately equal to or less than that of the liquid crystal layer as a partition for separating the liquid crystal layer (FPD Intelligence 1998, August 8).
P.66: IBM, SID '99 P.962: IBM, etc.), and in this method, there is no need to drive the two liquid crystal layers independently, and switching is performed by driving through a partition. The elements need only be formed on one substrate. The voltage drop at the partition wall, which occurs when driving through the partition wall, is significantly reduced as compared with the conventional case using a glass substrate of about 1 mm or less. Is also greatly improved.

【０００８】上記文献内にて開示された製造方法では、
液晶層の層厚を確保するために、また隔壁となるフィル
ム１３のたわみ、シワをなくすためにフィルム周囲に金
枠１４を形成している（図２０（ａ）参照）が、このよ
うな金枠１４を用いて作製した場合、次のような問題が
ある。In the manufacturing method disclosed in the above document,
A metal frame 14 is formed around the film 13 to secure the thickness of the liquid crystal layer and to eliminate the bending and wrinkles of the film 13 serving as a partition (see FIG. 20A). In the case of manufacturing using the frame 14, there are the following problems.

【０００９】前述の文献内の記載では、１つの液晶表示
装置の作製方法についての模式図が開示されているが、
実際の液晶表示装置の貼り合わせ工程は、１枚の大きな
マザーガラスと呼ばれるガラスより、複数枚の表示装置
（パネル）を作製する。この工程に前述の金枠付き隔壁
を用いた製造方法を適応させる場合として以下の２通り
が挙げられる。 １）マザーガラス内の１パネル毎に金枠付のフィルム
（隔壁）を添付する。 ２）マザーガラス全面に渡り金枠付のフィルム（隔壁）
を添付する。In the above-mentioned document, a schematic diagram of a method for manufacturing one liquid crystal display device is disclosed.
In an actual bonding process of a liquid crystal display device, a plurality of display devices (panels) are manufactured from one large glass called mother glass. The following two methods are given as a case where the above-described manufacturing method using the partition with a metal frame is applied to this step. 1) A film (partition) with a metal frame is attached to each panel in the mother glass. 2) Film with metal frame over the entire mother glass (partition wall)
Is attached.

【００１０】１）の方法の場合、図２０（ｂ）に示すよ
うに、貼り合せる一対のマザーガラス内に金枠１４がく
ることとなる。この場合、隔壁となるフィルム１３を支
持する金枠１４がガラス基板の間にくることとなり、こ
の金枠１４が液晶層の厚み以下でない限り、図２０
（ｃ）に示すようにセル厚不良が発生する。よって１パ
ネル毎に金枠付きの隔壁となる薄膜１３を使用する場合
は、マザーガラスより事前に１パネル毎に分断し貼り合
せる必要が生じ、生産性が悪いという欠点が生じる。In the case of the method 1), as shown in FIG. 20B, the metal frame 14 is provided in a pair of mother glasses to be bonded. In this case, a metal frame 14 for supporting the film 13 serving as a partition comes between the glass substrates, and unless the metal frame 14 is not less than the thickness of the liquid crystal layer, FIG.
As shown in (c), a cell thickness defect occurs. Therefore, when the thin film 13 serving as a partition with a metal frame is used for each panel, it is necessary to cut and bond each panel in advance from the mother glass, resulting in a disadvantage that productivity is poor.

【００１１】また、２）のようにマザーガラス全面に渡
る隔壁を付加した場合、基板上にパネルとして隔壁の必
要な領域１６と隔壁の不要な領域１７が発生する（図２
０（ｄ）参照）。この隔壁の不要な領域１７の部分には
通常液晶表示装置に外部からの信号を入力するためのド
ライバなどを付加するための端子群３７が形成されてい
る。ガラス全面に渡り隔壁を形成した場合、この端子群
３７上にも隔壁となるフィルム１３が存在するためこの
隔壁の不要な領域１７部分の隔壁となるフィルム１３の
除去が必要となるが、この部分の隔壁となるフィルム１
３を切断する際、図２１に示すようにフィルムカッター
用のカッター３４でその下の端子３５、または端子上に
形成される絶縁膜（図示せず）等にキズ３６を付ける恐
れがある。このようなキズ３６が発生した場合、例えば
高湿下にて連続的に表示を行う（高湿下における信頼性
試験など）場合に、端子配線の電食が発生するなどパネ
ル自身の信頼性低下の原因となる。When a partition is provided over the entire surface of the mother glass as in 2), a region 16 where a partition is required and a region 17 where a partition is not required are generated on the substrate as a panel (FIG. 2).
0 (d)). A terminal group 37 for adding a driver or the like for inputting a signal from the outside to the liquid crystal display device is usually formed in the unnecessary area 17 of the partition. In the case where the partition wall is formed over the entire surface of the glass, the film 13 serving as a partition wall is also present on the terminal group 37. Therefore, it is necessary to remove the film 13 serving as a partition wall in an unnecessary area 17 of the partition wall. Film 1 to be the partition wall
When cutting 3, as shown in FIG. 21, there is a possibility that a flaw 36 may be formed on a terminal 35 thereunder or an insulating film (not shown) formed on the terminal with a cutter 34 for a film cutter. When such scratches 36 occur, for example, when displaying continuously under high humidity (such as a reliability test under high humidity), the reliability of the panel itself deteriorates, such as the occurrence of electrolytic corrosion of terminal wiring. Cause.

【００１２】以上のことから、フィルムを隔壁として使
用した液晶表示装置の製造方法としては、マザーガラス
による処理（多面取り）が可能であること、事前に各パ
ネルの表示エリア内のみに隔壁が形成されるようにする
ことが望ましい。本発明は前述の問題を解決し、容易に
かつ従来の工法と同様、１枚のマザーガラスにて貼り合
わせ（多面取りが）可能な隔壁を用いた積層型液晶表示
装置の製造方法を提供するものである。From the above, as a method of manufacturing a liquid crystal display device using a film as a partition, processing using a mother glass (multi-paneling) is possible, and a partition is formed in advance only in the display area of each panel. It is desirable to be done. The present invention solves the above-mentioned problem, and provides a method of manufacturing a multi-layer liquid crystal display device using barrier ribs that can be easily and multiply bonded with one mother glass as in the conventional method. Things.

【００１３】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の積層型液晶表示
装置の製造方法は、基板上に、略均一な間隙を形成する
ためのスペーサを形成又は散布する工程と、該基板に、
隔壁となる薄膜が付加された暫定基板を、前記基板のス
ペーサ形成面と前記薄膜とが対向するよう貼り合せる工
程と、前記暫定基板を剥離し、隔壁となる薄膜のみを残
す工程と、前記基板と同様にスペーサを形成又は散布し
た対向側となる基板と、前記薄膜とが対向するよう貼り
合せる工程と、を含むことを特徴としている。According to a method of manufacturing a multi-layer liquid crystal display device of the present invention, a step of forming or spraying a spacer for forming a substantially uniform gap on a substrate is provided.
A step of bonding the provisional substrate to which the thin film serving as a partition is added so that the spacer forming surface of the substrate and the thin film face each other, a step of separating the temporary substrate and leaving only the thin film serving as the partition, In the same manner as described above, the method includes a step of bonding the substrate so that the thin film is opposed to the substrate on the opposite side where the spacers are formed or dispersed.

【００１４】また、前記暫定基板上に付加された前記薄
膜が予め所定の形状に加工されており、かつ前記基板お
よび前記対向側となる基板上に形成されるシール材の形
成領域が前記薄膜内に収まるように形成されていれば良
い。Further, the thin film added on the temporary substrate is processed into a predetermined shape in advance, and a formation region of a sealing material formed on the substrate and the substrate on the opposite side is formed in the thin film. What is necessary is just to be formed so that it may fit.

【００１５】また、前記隔壁と前記暫定基板とがドライ
フィルムレジストからなり、該ドライフィルムレジスト
のレジスト層を隔壁に使用し、ベースフィルムを暫定基
板に使用している。The partition and the temporary substrate are made of a dry film resist, a resist layer of the dry film resist is used for the partition, and a base film is used for the temporary substrate.

【００１６】また、前記ドライフィルムレジストのレジ
スト層に、光照射領域が硬化するネガ型レジストを用い
ている。Further, a negative resist in which a light irradiation area is cured is used for the resist layer of the dry film resist.

【００１７】また、前記ドライフィルムレジストを貼り
合わせる基板上で、表示領域に複数配置される第１のス
ペーサと、表示領域外周に複数配置される第2のスペー
サとを感光性樹脂を用いて同時に形成している。Further, on the substrate to which the dry film resist is bonded, a plurality of first spacers arranged in the display area and a plurality of second spacers arranged in the outer periphery of the display area are simultaneously formed using a photosensitive resin. Has formed.

【００１８】また、複数配置された前記第2のスペーサ
のうち、少なくとも最外周のスペーサを環状形状にして
シールに用いている。Further, at least the outermost spacer among the plurality of second spacers is formed in an annular shape and used for sealing.

【００１９】また、前記環状形状のシールの一部にくび
れ部を設け、該くびれ部の箇所で基板を切断してシール
を開口させ、液晶の注入口を形成している。Further, a constricted portion is provided in a part of the ring-shaped seal, and the substrate is cut at the constricted portion to open the seal, thereby forming a liquid crystal injection port.

【００２０】また、前記基板上に形成されたスペーサの
高さを、ドライフィルムレジストへの埋没量だけ厚く形
成している。Further, the height of the spacer formed on the substrate is made thicker by the amount buried in the dry film resist.

【００２１】また、液晶層を複数積層した積層型液晶表
示装置において、液晶層を分離する隔壁が液晶層の厚さ
以下のフィルムであり、表示エリア内に収まるようパタ
ーン化されている。In a multi-layer liquid crystal display device in which a plurality of liquid crystal layers are stacked, a partition for separating the liquid crystal layer is a film having a thickness equal to or less than the thickness of the liquid crystal layer, and is patterned so as to fit within the display area.

【００２２】以下、上記構成による作用を説明する。The operation of the above configuration will be described below.

【００２３】本発明により製造される液晶表示装置の模
式図を図１に示す。尚、図１中において液晶層と隔壁と
なるフィルムの断面は同一の縮尺にて記載してある。図
１において、液晶層を複数層に分離するための隔壁とな
る薄膜１３に求められる特性としては、ａ）薄いこと、
すなわち隔壁に分圧される電圧を小さくすると同時に異
なる層間の視差を解消する、ｂ）誘電率が高いこと、す
なわち隔壁に分圧される電圧を小さくする、ｃ）光透過
性の良いこと、すなわち液晶表示装置の明るさが向上で
きる、ｄ）特定波長の光の吸収が無いこと、すなわち液
晶表示装置の着色を防止する、等が挙げられる。このよ
うな部材には高分子フィルムがもっとも適当であるもの
の、数μｍ程度の膜厚のフィルムでは、シワ、たわみ等
が発生しやすく、また静電気等によりフィルムどうしが
貼りつくなど取り扱いが非常に困難である。FIG. 1 is a schematic view of a liquid crystal display device manufactured according to the present invention. In FIG. 1, the cross sections of the liquid crystal layer and the film serving as the partition wall are shown on the same scale. In FIG. 1, the characteristics required for the thin film 13 serving as a partition wall for separating the liquid crystal layer into a plurality of layers are a) that it is thin;
That is, the voltage divided by the partition is reduced and the parallax between different layers is eliminated at the same time. B) The dielectric constant is high, that is, the voltage divided by the partition is reduced. C) The light transmittance is good. And d) no absorption of light of a specific wavelength, that is, prevention of coloring of the liquid crystal display device, and the like. Although a polymer film is most suitable for such a member, it is very difficult to handle a film having a thickness of about several μm, such as wrinkling and bending, and sticking between the films due to static electricity or the like. It is.

【００２４】そこで本発明の製造工程では、隔壁として
機能する薄膜（フィルム）を処理する際に、暫定的な支
持体（以下、暫定基板と称する。）を用いて処理するこ
とで前述の諸問題を解決している。Therefore, in the manufacturing process of the present invention, when the thin film (film) functioning as the partition wall is processed, the processing is performed using a temporary support (hereinafter, referred to as a temporary substrate), so that the above-mentioned problems can be solved. Has been resolved.

【００２５】この暫定基板をフィルムに添付する事で、
厚さ、強度が増し、ハンドリングが容易になる。また暫
定基板に添付しておくことでフィルム自身の曲がりやタ
ワミが解消されるばかりでなく、フィルム自身が各パネ
ルサイズにカットされていても１枚の基板として用いる
ことができるため、金枠付フィルムでは困難であった多
面取り工程への応用が非常に容易に実現できる。また、
この暫定基板は一時的に使用するものであるため、最終
形態としては存在せず、隔壁となるフィルムの膜厚を増
大させることもない。By attaching this temporary substrate to a film,
Thickness and strength are increased, and handling becomes easier. Also, by attaching it to the temporary board, not only the bending and warping of the film itself can be eliminated, but also the film itself can be used as one board even if the film itself is cut to each panel size. It is very easy to apply it to a multi-panning process, which was difficult with a film. Also,
Since this temporary substrate is used temporarily, it does not exist as a final form and does not increase the film thickness of the partition wall film.

【００２６】更にフィルムを所望の状態にカットするこ
とについても、前記暫定基板にフィルムを添付した後、
カットすることも可能（暫定基板は最終形態に残らず、
フィルムカット時に発生するキズ等も暫定基板側に発生
し、最終形態のパネルには影響しないため）となる。Further, regarding the cutting of the film into a desired state, after attaching the film to the temporary substrate,
It is also possible to cut (provisional substrate does not remain in final form,
Scratches and the like generated at the time of film cutting also occur on the provisional substrate side and do not affect the panel in the final form).

【００２７】図２（ａ）〜（ｆ）に本発明による製造方
法の工程フロー（模式図）を示す。FIGS. 2A to 2F show a process flow (schematic diagram) of the manufacturing method according to the present invention.

【００２８】本発明では、隔壁となる薄膜（フィルム）
２１を予め前記暫定基板２４上に添付し、この暫定基板
２４をガラスなどの液晶表示装置を構成する基板に貼り
合わせる。その後、前記暫定基板２４を剥離することで
ガラス基板１上に隔壁となる薄膜２１を残し、対向基板
を貼り合わせ液晶表示装置を形成する。In the present invention, a thin film (film) serving as a partition wall
21 is attached on the temporary substrate 24 in advance, and the temporary substrate 24 is bonded to a substrate such as glass which constitutes a liquid crystal display device. After that, the temporary substrate 24 is peeled off to leave the thin film 21 serving as a partition on the glass substrate 1, and the opposing substrate is attached to form a liquid crystal display device.

【００２９】本発明の積層型液晶表示装置の製造方法に
よれば、液晶層を分離する隔壁として用いる薄膜を、暫
定基板として使用する基材に添付したうえで貼り合わせ
工程を行うことで、取り扱いが非常に困難であった薄膜
を使用した貼り合わせ工程が容易に実現可能となるう
え、前記暫定基板を貼り合わせ工程終了時に剥離するこ
とで隔壁の非常に薄い積層型液晶表示装置が実現でき
る。According to the method of manufacturing a multi-layer liquid crystal display device of the present invention, a thin film used as a partition for separating a liquid crystal layer is attached to a base material used as a provisional substrate, and then a laminating step is performed. It is possible to easily realize a bonding step using a thin film, which has been very difficult, and to realize a multi-layer liquid crystal display device having very thin partition walls by separating the temporary substrate at the end of the bonding step.

【００３０】また、隔壁となる薄膜が予め所定の形状に
加工され、基板との接着層が該薄膜内に収まる様形成さ
れることにより、接続用の端子などが形成されたパネル
外周部上を薄膜が覆うことを事前に防ぐことができる。
この結果、基板と薄膜とが貼り合わされた後、薄膜を加
工する必要がなくなりパネル外周部に無用なキズを残さ
なくてすむ。Further, the thin film serving as a partition is processed into a predetermined shape in advance, and an adhesive layer with the substrate is formed so as to fit in the thin film, so that the outer peripheral portion of the panel on which connection terminals and the like are formed is formed. The covering of the thin film can be prevented in advance.
As a result, after the substrate and the thin film are bonded, it is not necessary to process the thin film, so that unnecessary scratches are not left on the outer peripheral portion of the panel.

【００３１】また、隔壁と暫定基板とをドライフィルム
レジストにより実現することにより、隔壁をパターン化
する工程として、ナイフ等による機械的な裁断（接触
型）を行う事無く、フォトリソ工程によるパターン形成
（非接触型）が利用できる。これにより、対向基板への
ダメージや裁断線部分での隔壁の変形などを防止でき
る。Further, by realizing the partition and the temporary substrate with a dry film resist, as a step of patterning the partition, a pattern is formed by a photolithography process without mechanical cutting (contact type) using a knife or the like. Non-contact type) can be used. This can prevent damage to the opposing substrate and deformation of the partition wall at the cutting line portion.

【００３２】さらに、隔壁となるフィルムのみを予め作
成する必要が無いので、薄膜化が比較的容易であり、ま
た、隔壁材料を延伸する工程を用いないので、不要なリ
ターデイションは発生せず、上層と下層の液晶層のみの
光学特性でディスプレイの特性が決定できる。Further, since it is not necessary to prepare only a film serving as a partition wall in advance, it is relatively easy to make a thin film. Further, since a step of stretching a partition wall material is not used, unnecessary retardation does not occur. The display characteristics can be determined only by the optical characteristics of the upper and lower liquid crystal layers.

【００３３】隔壁がリターデイションを有する場合、上
層にて変調されなかった光の偏光状態が隔壁通過後に変
化してしまう。これは隔壁が位相差板として機能してし
まうためであり、例えばコレステリック液晶の2層化を
考えた場合、本来上層にて選択反射されず透過してしま
った円偏光成分が、リターデイションを持つ隔壁を透過
する事で偏光状態が変化する。この結果、下層での選択
反射効率が減少、更に下層で選択反射された円偏光が隔
壁で再度偏光状態が変化し、本来上層部で変調を受けな
いはずの下層での反射光の一部が反射される。この結
果、理想的には上層：50%＋下層：50%で100%近い効率を
望めるはずが、隔壁のリターデイションによる偏光変化
分だけ低下してしまう。When the partition has retardation, the polarization state of light not modulated in the upper layer changes after passing through the partition. This is because the partition walls function as a retardation plate.For example, when a two-layer cholesteric liquid crystal is considered, a circularly polarized light component that was originally selectively reflected by the upper layer and transmitted therethrough causes retardation. The polarization state changes by transmitting through the partition wall. As a result, the selective reflection efficiency in the lower layer decreases, and the circularly polarized light selectively reflected in the lower layer changes its polarization state again at the partition, and a part of the reflected light in the lower layer that should not be modulated in the upper layer part is changed. Is reflected. As a result, ideally, the efficiency should be close to 100% when the upper layer is 50% and the lower layer is 50%, but the efficiency is reduced by the polarization change due to the retardation of the partition walls.

【００３４】また、ドライフィルムレジストのレジスト
材料に、光が照射された部分が重合反応を起こして現像
後に残るネガ型の感光性樹脂を用いることにより、露光
した時点で感光性樹脂の重合と硬化反応が終了する。こ
のため、ポジ型を採用した場合と比べ、ベースフィルム
を剥離した状態で処理する工程（例えば現像、焼成工
程）において、外的な影響に対し形状の変化が少ない。In addition, by using a negative photosensitive resin which is left behind after development due to a polymerization reaction of a portion irradiated with light as a resist material of a dry film resist, polymerization and curing of the photosensitive resin at the time of exposure are performed. The reaction ends. For this reason, in the process (for example, development and baking processes) in which the base film is peeled off, there is less change in shape due to external influences than in the case where a positive mold is employed.

【００３５】また、感光性樹脂により所望の位置に形成
したスペーサを、表示領域の外周部にも形成することに
より、表示領域全体に渡り所望のセル厚にすることがで
きる。Further, by forming a spacer formed at a desired position with a photosensitive resin also on the outer peripheral portion of the display area, a desired cell thickness can be obtained over the entire display area.

【００３６】また、表示領域の外周部に形成するスペー
サを環状形状にしてシールに用いることにより、基板と
隔壁との接着性を増して液晶層の混ざり合いを防止し、
製造工程途中での基板と隔壁の剥離を防止するととも
に、さらに、ドライフィルムレジストの現像工程で、本
来液晶を入れるための隔壁と基板間に形成した間隙間
へ、現像液や洗浄水等が進入することを防止する。Further, by forming a spacer formed on the outer peripheral portion of the display area in an annular shape and using the spacer for sealing, the adhesiveness between the substrate and the partition wall is increased, and mixing of the liquid crystal layer is prevented.
In addition to preventing the separation of the substrate and the partition wall during the manufacturing process, the developing solution and washing water enter the gap formed between the partition wall and the substrate for the liquid crystal in the developing process of the dry film resist. To prevent

【００３７】また、環状形状のシールの一部にくびれを
設け、該くびれ部の箇所で基板を切断してシールを開口
させ液晶の注入口を形成することにより、レジストの現
像工程で現像液や洗浄水等が進入することを防止すると
ともに、液晶の注入口を容易に形成できる。Further, a part of the annular seal is provided with a constriction, and the substrate is cut at the constricted part to open the seal and form a liquid crystal injection port. It is possible to prevent entry of cleaning water and the like, and to easily form a liquid crystal injection port.

【００３８】また、前記基板上に形成されたスペーサの
高さを、ドライフィルムレジストへの埋没量だけ厚く形
成することにより、セル厚の減少を防止できる。Further, by making the height of the spacer formed on the substrate thicker by the amount buried in the dry film resist, a decrease in cell thickness can be prevented.

【００３９】また、積層型液晶表示装置の液晶層を分離
する隔壁が液晶層の厚さ以下のフィルムであり、表示エ
リア内に収まるようパターン化されているため、視差の
発生が抑えられ、さらに多面取りに適した積層型液晶表
示装置となる。In addition, since the partition for separating the liquid crystal layer of the multi-layer liquid crystal display device is a film having a thickness equal to or less than the thickness of the liquid crystal layer and is patterned so as to fit within the display area, the occurrence of parallax is suppressed. A multi-layer liquid crystal display device suitable for multi-paning is obtained.

【００４０】[0040]

【発明の実施の形態】以下、実施の形態に従い本発明の
積層型液晶表示装置及びその製造方法を詳細に説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a multilayer liquid crystal display device according to the present invention and a method for manufacturing the same will be described in detail according to embodiments.

【００４１】（実施の形態１）図１及び図２を用いて実
施の形態１について説明する。まず、図１に示すように
積層型液晶表示装置は、ガラス基板１上に透明電極４が
形成され、さらに配向膜３が形成された一対の基板間を
隔壁となる薄膜１３を間隙に挟み柱状などのスぺーサ１
８により支持される。このガラス基板１と隔壁となる薄
膜１３および柱状などのスぺーサで囲まれた空間の上部
には上部液晶層２２が存在しており、一方、下部には下
部液晶層２３が存在している構成になっている。(Embodiment 1) Embodiment 1 will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 1, in a multi-layer liquid crystal display device, a transparent electrode 4 is formed on a glass substrate 1 and a thin film 13 serving as a partition is sandwiched between a pair of substrates on which an alignment film 3 is formed. Such as spacer 1
8 supported. An upper liquid crystal layer 22 exists above the space surrounded by the glass substrate 1 and the thin film 13 serving as a partition and a spacer such as a column, and a lower liquid crystal layer 23 exists below. It has a configuration.

【００４２】図２には本実施の形態１での液晶表示装置
の作製フローを示しており、以下のフローにより作製さ
れる。FIG. 2 shows a manufacturing flow of the liquid crystal display device according to the first embodiment, which is manufactured by the following flow.

【００４３】図２（ａ）では、透明電極４付きガラス基
板１上に感光性樹脂材料１９を塗布する。図２（ｂ）で
は、フォトリソ工程により感光性樹脂材料１９のパター
ニング後、スペーサ（柱状）１８を形成する。図２
（ｃ）では、前記ガラス基板１に配向処理（例えばラビ
ング処理、配向膜は図示せず。）を施す。図２（ｄ）で
は、隔壁となる薄膜２１を添付した暫定基板２４を下部
液晶層用シール材２６にて貼り合わせる。図２（ｅ）で
は、暫定基板２４を剥離する。図２（ｆ）では、透明電
極４及びスペーサ（柱状）１８を別途形成した対向基板
であるガラス基板１を貼り合わせる。In FIG. 2A, a photosensitive resin material 19 is applied on the glass substrate 1 with the transparent electrode 4. In FIG. 2B, a spacer (column) 18 is formed after the photosensitive resin material 19 is patterned by a photolithography process. FIG.
In (c), the glass substrate 1 is subjected to an alignment process (for example, a rubbing process, an alignment film is not shown). In FIG. 2D, a temporary substrate 24 to which a thin film 21 serving as a partition wall is attached is bonded with a lower liquid crystal layer sealing material 26. In FIG. 2E, the temporary substrate 24 is peeled off. In FIG. 2F, the glass substrate 1, which is the opposite substrate on which the transparent electrode 4 and the spacer (column) 18 are separately formed, is bonded.

【００４４】このように隔壁となる薄膜２１を、一旦暫
定基板２４に添付することで、隔壁となる薄膜２１の持
つ諸問題（たわみ、シワ、曲がり、薄膜どうし貼りつ
く）の発生をなくすことが出来るとともに、暫定基板２
４の存在により薄膜２１配向処理時などにおける取り扱
いが容易となる。以下、具体的に説明する。As described above, once the thin film 21 serving as a partition is attached to the temporary substrate 24, various problems (bending, wrinkling, bending, sticking between thin films) of the thin film 21 serving as a partition can be eliminated. Possible and provisional board 2
The presence of 4 facilitates handling of the thin film 21 at the time of orientation processing or the like. Hereinafter, a specific description will be given.

【００４５】ガラス基板（１７３７ガラス：コーニング
社製）１上にＩＴＯ（インジウム・チン・オキサイド）
等の透明導電膜をスパッタ装置により５０〜１００［ｎ
ｍ］成膜した後、このＩＴＯを所定の形状にフォトリソ
工程を用いてパターニングして、透明電極４を形成す
る。このＩＴＯ付きガラス基板１上に感光性樹脂材料１
９をスピンコータにより５μｍ程度塗布（図２（ａ））
した後、フォトリソ工程にてパターニング及び焼成する
ことでスペーサ（柱状）１８を形成（図２（ｂ））す
る。このように作製されたガラス基板１に配向膜（オプ
トマーＡＬ−４５５２：ＪＳＲ社製：図示せず）をスピ
ンコータにより塗布した後、ラビング・ローラー２０に
より配向処理を施す（図２（ｃ））。On a glass substrate (1737 glass: manufactured by Corning Incorporated) 1 ITO (indium tin oxide)
50 to 100 [n] of a transparent conductive film such as
m] After forming the film, the ITO is patterned into a predetermined shape by using a photolithography process to form the transparent electrode 4. A photosensitive resin material 1 is placed on the glass substrate 1 with ITO.
9 is applied about 5 μm by a spin coater (FIG. 2A)
After that, spacers (columns) 18 are formed by patterning and baking in a photolithography process (FIG. 2B). After an orientation film (Optmer AL-4552: manufactured by JSR Corporation: not shown) is applied to the glass substrate 1 thus manufactured by a spin coater, an orientation process is performed by a rubbing roller 20 (FIG. 2C).

【００４６】次に隔壁として膜厚７．５μｍのポリイミ
ド（以下ＰＩと称する）フィルム（カプトン：デュポン
社製）である薄膜２１を暫定基板２４であるＵＶテープ
（ＥＬＥＧＲＩＰ ＴＡＰＥ ＵＨＰ−１５２５Ｆ８：
Ｄｉｓｃｏ社製）上に添付する。Next, a thin film 21 made of a 7.5 μm-thick polyimide (hereinafter referred to as PI) film (Kapton: manufactured by DuPont) is used as a partition, and a UV tape (ELEGRIP TAPE UHP-1525F8) serving as a temporary substrate 24:
Disco).

【００４７】この暫定基板２４上の隔壁となる薄膜（Ｐ
Ｉフィルム）２１の表面をＵＶランプによるドライ洗浄
にて表面処理した後、前記ガラス基板１と同様に配向処
理を施す。The thin film (P) serving as a partition on the temporary substrate 24
After the surface of the I film 21 is subjected to dry cleaning with a UV lamp, an orientation process is performed in the same manner as the glass substrate 1.

【００４８】次に、ガラス基板１と隔壁となる薄膜２１
が対向するように暫定基板２４とを下部液晶層用シール
材（ＵＶ硬化性シール材）２６にて貼り合わせる（図２
（ｄ））。尚、ガラス基板１上に形成した下部液晶層用
シール材（ＵＶ硬化性シール材）２６には５．１μｍの
ファイバースペーサが混入され、更に下部液晶層用シー
ル材（ＵＶ硬化性シール材）２６のパターンは暫定基板
２４上に添付した隔壁となる薄膜（ＰＩフィルム）２１
の範囲内に収まるよう形成されている。Next, the glass substrate 1 and the thin film 21 serving as a partition are formed.
Are bonded to a temporary substrate 24 with a lower liquid crystal layer sealing material (UV curable sealing material) 26 (FIG. 2).
(D)). The lower liquid crystal layer sealing material (UV curable sealing material) 26 formed on the glass substrate 1 is mixed with a 5.1 μm fiber spacer, and the lower liquid crystal layer sealing material (UV curable sealing material) 26 Is a thin film (PI film) 21 serving as a partition attached to the temporary substrate 24.
It is formed so that it may fall within the range.

【００４９】暫定基板２４として使用したＵＶテープ
は、紫外線を照射することによりその粘着力が著しく低
下するという特徴を持つ。このため、下部液晶層用シー
ル材（ＵＶ硬化性シール材）２６の硬化を完了させた後
に暫定基板２４の隔壁となる薄膜２１を添付していない
表面側より紫外線を照射し、隔壁となる薄膜（ＰＩフィ
ルム）２１との密着力を下げ、暫定基板２４を剥離し易
くすることでガラス基板１上にスペーサ１８の高さを保
った間隙を有し、膜厚７．５μｍ程度の隔壁となる薄膜
２１が形成される（図２（ｅ））。次に、対向ガラス基
板となるガラス基板１に形成した上部液晶層用シール材
（ＵＶ硬化性シール材）２５により隔壁となる薄膜２１
と対向ガラス基板となるガラス基板を貼り合わせる（図
２（ｆ））。The UV tape used as the temporary substrate 24 has a feature that its adhesive strength is significantly reduced by irradiating ultraviolet rays. For this reason, after the curing of the lower liquid crystal layer sealing material (UV curable sealing material) 26 is completed, ultraviolet rays are irradiated from the front side of the temporary substrate 24 to which the thin film 21 serving as a partition is not attached, and the thin film serving as a partition is formed. (PI film) By lowering the adhesive force with 21 and facilitating peeling of the provisional substrate 24, a gap is maintained on the glass substrate 1 with the height of the spacer 18, and a partition wall having a thickness of about 7.5 μm is formed. A thin film 21 is formed (FIG. 2E). Next, a thin film 21 serving as a partition is formed by a sealing material (UV curable sealing material) 25 for the upper liquid crystal layer formed on the glass substrate 1 serving as the opposite glass substrate.
And a glass substrate to be an opposing glass substrate are bonded together (FIG. 2F).

【００５０】以上の工程により、液晶層が隔壁となる薄
膜２１により分離された積層型液晶表示装置が、一対の
ガラス基板間で実現できる。この分離された上部液晶層
２２、下部液晶層２３にそれぞれ別種の液晶材料を注
入、または層毎に異なる配向処理を施す（この場合、上
下層で同一の液晶を注入することも可）ことで、従来の
液晶表示装置ではなし得なかった機能を付加することが
可能となる。Through the above steps, a multi-layer liquid crystal display device in which the liquid crystal layer is separated by the thin film 21 serving as a partition can be realized between a pair of glass substrates. A different type of liquid crystal material is injected into the separated upper liquid crystal layer 22 and the lower liquid crystal layer 23, or different alignment treatment is performed for each layer (in this case, the same liquid crystal may be injected into the upper and lower layers). In addition, it is possible to add a function that cannot be performed by a conventional liquid crystal display device.

【００５１】尚、本実施の形態において示した工程はあ
くまでも一例であり、上記内容に限定されるものではな
く、たとえば液晶の配向制御方法についてもラビング法
だけでなく、ＳｉＯの斜方蒸着、偏光ＵＶ光を用いるな
どの方法が利用できる。また、具体例中において隔壁と
なる薄膜２１としてデュポン社製のカプトンを採用して
いるが、カプトンは可視光の短波長側を吸収するため黄
色に着色している。しかしながら耐熱性、耐薬品性に優
れることから本実施の形態においては工程を説明する上
での利便性から採用した。ただし、隔壁となる薄膜２１
が本実施の形態に限定されないことは自明である。The steps described in the present embodiment are merely examples, and the present invention is not limited to the above-described method. For example, the method of controlling the alignment of the liquid crystal is not limited to the rubbing method, but may include oblique deposition of SiO, polarization Methods such as using UV light can be used. In the specific example, Kapton manufactured by DuPont is used as the thin film 21 serving as a partition wall, but Kapton is colored yellow to absorb the short wavelength side of visible light. However, because of its excellent heat resistance and chemical resistance, this embodiment is adopted for the convenience in describing the steps. However, the thin film 21 serving as a partition
Is not limited to the present embodiment.

【００５２】（実施の形態２）図２〜５を用いて実施の
形態２について説明する。本実施の形態２ではコレステ
リックの選択反射を利用した表示モードについて述べ
る。本実施の形態２において使用する液晶表示装置は、
実施の形態１と同様に、図２に記載の作製フローにより
作製される。尚、本実施の形態２においては、ガラス基
板１及び隔壁となる薄膜２１に対し施す配向処理の方向
が反平行となるよう処理されている。また、隔壁となる
薄膜２１と前面及び背面のガラス基板１とを貼り合わせ
る際のシールパターンは、図３に示すように注入口が異
なる位置に設定されている。これは以下に示す理由によ
る。(Embodiment 2) Embodiment 2 will be described with reference to FIGS. In the second embodiment, a display mode using cholesteric selective reflection will be described. The liquid crystal display device used in the second embodiment is:
Similar to the first embodiment, it is manufactured by the manufacturing flow shown in FIG. In the second embodiment, the glass substrate 1 and the thin film 21 serving as the partition wall are processed so that the directions of the alignment processing performed are antiparallel. In addition, as shown in FIG. 3, the seal pattern when the thin film 21 serving as a partition wall and the glass substrate 1 on the front surface and the back surface are bonded is set at a position where the injection port is different. This is for the following reason.

【００５３】コレステリック液晶の選択反射は、 λ＝ｎ_ave×ｐ （式1） ここで、λ：選択反射の光の波長、ｎ_ave：液晶層の平
均屈折率、ｐ：液晶層のねじれピッチ。式１にて表され
る波長の光の中で、分子のねじれる方向と等しい回転の
円偏光を反射するものである。The selective reflection of the cholesteric liquid crystal is as follows: λ = n _ave × p (Equation 1) where λ: wavelength of the light for selective reflection, n _ave : average refractive index of the liquid crystal layer, and p: twist pitch of the liquid crystal layer. It reflects circularly polarized light having a rotation equal to the direction in which molecules are twisted in the light having the wavelength represented by Formula 1.

【００５４】図５にその分光反射特性の一例を示すが、
波長６００〜６５０［ｎｍ］の範囲の光を約５０％反射
している（図中３１、３２でありそれぞれ右ねじれ、左
ねじれである。）。自然光は一般に左右の円偏光の組み
合せと考えられることから、１層のコレステリック液晶
層の選択反射効率は最大でも５０％となる。このため、
入射する光の全てを反射しようとした場合、右ねじれの
コレステリック層と左ねじれのコレステリック層を積層
する必要が生じる。図５には積層した場合の分光反射特
性３３も併記する。図５に記載の分光反射特性３１、３
２、３３を比較すれば一目瞭然であるが、互いに逆回転
にねじれ配向したセルを積層することで、入射光の変調
（選択反射）効率が格段に向上する。しかしながら上
層、下層とでねじれ方向を変えるためには異なる液晶を
注入する必要が生じることから、本実施の形態２にて示
す積層型液晶表示装置では、図３に示すように、異なる
位置に注入口２９が配置されており、その結果２種類の
異なる液晶を独立に注入することが可能となる。図４は
その工程の一例であるが、先ず上層、下層いずれか一方
に液晶を、セル内を真空脱気することで液晶導入方向２
８より導入する（図４（ａ））。先に液晶を導入した側
を封止材２７にて封止した後、もう一方の領域も真空脱
気にて（図４（ａ）とは異なる）液晶を液晶導入方向２
８より導入（図４（ｂ））することで、上下層それぞれ
独立に液晶を注入することが出来る（図４（ｃ））。FIG. 5 shows an example of the spectral reflection characteristic.
Approximately 50% of light in the wavelength range of 600 to 650 [nm] is reflected (31 and 32 in the figure, which are right-handed and left-handed, respectively). Since natural light is generally considered to be a combination of left and right circularly polarized light, the selective reflection efficiency of one cholesteric liquid crystal layer is at most 50%. For this reason,
When trying to reflect all of the incident light, it is necessary to stack a cholesteric layer having a right twist and a cholesteric layer having a left twist. FIG. 5 also shows the spectral reflection characteristics 33 when the layers are stacked. The spectral reflection characteristics 31, 3 shown in FIG.
It is obvious from a comparison between 2 and 33, but by stacking cells that are twisted and oriented in opposite directions to each other, the efficiency of the modulation (selective reflection) of incident light is significantly improved. However, in order to change the twist direction between the upper layer and the lower layer, it is necessary to inject different liquid crystals. Therefore, in the multi-layer liquid crystal display device according to the second embodiment, as shown in FIG. An inlet 29 is provided, so that two different liquid crystals can be injected independently. FIG. 4 shows an example of the process. First, a liquid crystal is applied to one of the upper layer and the lower layer, and the inside of the cell is evacuated to a vacuum so that the liquid crystal is introduced in the second direction.
8 (FIG. 4A). After the side into which the liquid crystal has been introduced first is sealed with a sealing material 27, the other area is also subjected to vacuum degassing (different from FIG.
8 (FIG. 4 (b)), liquid crystal can be independently injected into the upper and lower layers (FIG. 4 (c)).

【００５５】このように、本実施の形態２において作製
された２層型コレステリック液晶表示装置の分光反射特
性３０は、図５に示すとおり前述の３１と３２の特性を
有するセルを２枚重ねた物の分光反射特性３３とほぼ同
等の分光反射特性となることから、本実施の形態２での
有効性が確認できた。As described above, the spectral reflection characteristic 30 of the two-layer cholesteric liquid crystal display device manufactured in the second embodiment is obtained by stacking two cells having the above-mentioned characteristics 31 and 32 as shown in FIG. Since the spectral reflection characteristics are almost the same as the spectral reflection characteristics 33 of the object, the effectiveness of the second embodiment has been confirmed.

【００５６】尚、本実施の形態２にて示したものはあく
までも一例であり選択反射波長の設定値もこれに限定さ
れるものではない。また、実施の形態中では同一波長で
左右両円偏光を反射させる形態について述べたが、各層
毎に異なる波長を反射する液晶を注入する事で、マルチ
カラーとする事も、本実施の形態２の応用にて実現可能
である。また液晶の導入方法についても、本実施の形態
では各層ごとに順次導入したが、シール材のパターンを
最適化することで両層に同時に異なる液晶を導入するこ
とも可能である。Note that what is shown in the second embodiment is merely an example, and the set value of the selective reflection wavelength is not limited to this. Further, in the embodiment, the mode in which both left and right circularly polarized light are reflected at the same wavelength has been described. However, a multi-color can be obtained by injecting a liquid crystal that reflects different wavelengths in each layer. It can be realized by the application of In the present embodiment, the method of introducing the liquid crystal is sequentially introduced for each layer. However, it is also possible to simultaneously introduce different liquid crystals to both layers by optimizing the pattern of the sealing material.

【００５７】（実施の形態３）図６および図７を用いて
実施の形態３について説明する。(Embodiment 3) Embodiment 3 will be described with reference to FIGS.

【００５８】本実施の形態３では、本発明の製造方法を
用いてマザーガラスからの多面取りを行った場合につい
て述べる。基本的な工程のフローとしては、実施の形態
１と同様であり、本件では多面取りを行うために、事前
に隔壁である薄膜を所定の形状に加工する部分について
詳細に述べる。In the third embodiment, a case will be described in which multiple productions from mother glass are performed using the manufacturing method of the present invention. The basic process flow is the same as that of the first embodiment. In this case, in order to perform multi-panning, a part of processing a thin film serving as a partition in advance into a predetermined shape will be described in detail.

【００５９】本実施の形態３にて使用する暫定基板（隔
壁用のフィルム付）は図６に記載する手法にて作製され
る。The temporary substrate (with a film for a partition) used in the third embodiment is manufactured by the method shown in FIG.

【００６０】図６（ａ）は、暫定基板２４に隔壁となる
薄膜１３を添付する。図６（ｂ）は、暫定基板２４上に
添付された隔壁となる薄膜１３をフィルムカット用のカ
ッター３４で破線に示すラインで、所定の形状にカット
する。図６（ｃ）は、不要な部分の隔壁用フィルムを剥
離し暫定基板２４上にはパネルの隔壁となる薄膜２１の
みが残る。FIG. 6A shows a provisional substrate 24 to which the thin film 13 serving as a partition is attached. In FIG. 6B, the thin film 13 serving as a partition attached to the temporary substrate 24 is cut into a predetermined shape by a line shown by a broken line by a cutter 34 for film cutting. In FIG. 6C, the unnecessary portion of the film for the partition is peeled off, and only the thin film 21 serving as the partition of the panel remains on the temporary substrate 24.

【００６１】このように作製された隔壁となる薄膜２１
付暫定基板２４を、図６に示すように、実施の形態１同
様の工程を用いて、ガラス基板１に添付することで、パ
ネルの表示エリア（図２０（ｄ）記載の隔壁の必要な領
域１６）のみに隔壁となる薄膜２１を形成することが可
能となる。尚、本実施の形態において使用する暫定基板
２４は、実施の形態１同様にＵＶ光の照射により粘着力
が変化する部材を採用しているため、カットした後取り
除く部分のみ露光すれば容易に取り除くことができる。
また、この暫定基板２４として使用した部材は、最終形
態としては残るものではなく隔壁用のフィルム切断時に
若干キズが発生しても、パネル自身には何ら影響しな
い。また、この暫定基板２４とガラス基板１とのアライ
メントについても、ガラス基板１上に形成したシール材
１５が隔壁となる薄膜２１内に収まれば良い程度の荒い
精度ですむため製造上の問題も非常に小さい。The thin film 21 serving as a partition wall manufactured as described above
As shown in FIG. 6, by attaching the provisional substrate 24 to the glass substrate 1 by using the same process as in the first embodiment, the display area of the panel (the area required for the partition shown in FIG. 16), the thin film 21 serving as a partition can be formed. Note that the temporary substrate 24 used in the present embodiment employs a member whose adhesive force changes by irradiation with UV light as in the first embodiment, so that it is easily removed by exposing only a portion to be removed after cutting. be able to.
Further, the member used as the temporary substrate 24 does not remain as a final form, and even if a slight scratch occurs at the time of cutting the film for the partition wall, it does not affect the panel itself. Also, the alignment between the provisional substrate 24 and the glass substrate 1 requires only rough accuracy as long as the sealing material 15 formed on the glass substrate 1 can be accommodated in the thin film 21 serving as a partition wall. Small.

【００６２】本実施の形態では、事前に不要部分を剥離
しているが、図７のような工程も考えられる。図６
（ｂ）の工程を実施した後、ガラス基板１と貼り合せる
（図７（ａ））。隔壁が不要な部分はＵＶ光が透過しな
いようにマスク３８を行い、その後、隔壁が必要となる
領域にＵＶ光を照射し（図７（ｂ））、暫定基板２４を
剥離することでガラス基板１上には隔壁用となる薄膜２
１のみが残り、隔壁の不要な領域１７は暫定基板２４と
共に剥離される（図７（ｃ））。このようにして作製さ
れた基板に対向基板を貼り合わせることで積層型液晶表
示装置が実現される。In the present embodiment, unnecessary portions are peeled in advance, but a process as shown in FIG. 7 can be considered. FIG.
After performing the step (b), it is bonded to the glass substrate 1 (FIG. 7A). A mask 38 is provided so that UV light does not pass through a portion where a partition is unnecessary, and thereafter, a region where a partition is required is irradiated with UV light (FIG. 7B), and the temporary substrate 24 is peeled off to remove the glass substrate. 1 is a thin film 2 serving as a partition wall
Only 1 remains, and the unnecessary region 17 of the partition is peeled off together with the temporary substrate 24 (FIG. 7C). By laminating the counter substrate to the substrate thus manufactured, a multi-layer liquid crystal display device is realized.

【００６３】（実施の形態４）本実施の形態では、隔壁
と暫定基板との２つの機能を兼ね持つドライフィルムレ
ジストを用いた積層型液晶表示装置の製造方法について
説明する。(Embodiment 4) In this embodiment, a method of manufacturing a multi-layer liquid crystal display device using a dry film resist having two functions of a partition and a temporary substrate will be described.

【００６４】最初に図８を用いて、本実施の形態で使用
するドライフィルムレジストの作成方法を説明する。First, a method of forming a dry film resist used in the present embodiment will be described with reference to FIG.

【００６５】透明なベースフィルム３９（例えばＰＥ
Ｔ：ポリエチレンテレフタレート）が巻き取りローラ側
へ移動しながら、スリット７１（例えばキスタッチリバ
ース方式の塗工機）の下方においてスリットから吐出さ
れた感光性樹脂材料４０がベースフィルム上に均一に塗
布され、さらにヒータ６６上を通過することにより塗布
した感光性樹脂材料が乾燥される。A transparent base film 39 (eg, PE
T: Polyethylene terephthalate) moves to the take-up roller side, and the photosensitive resin material 40 discharged from the slit is uniformly applied on the base film below the slit 71 (for example, a kiss-touch reverse type coating machine). Then, the applied photosensitive resin material is dried by passing over the heater 66.

【００６６】続いて、感光性樹脂４０の損傷、異物の付
着を防止する保護フィルム層４１（例えばＰＥＴフィル
ム）が貼り合わされドライフィルムレジストが完成す
る。Subsequently, a protective film layer 41 (for example, a PET film) for preventing the photosensitive resin 40 from being damaged and foreign substances from being attached thereto is bonded to complete a dry film resist.

【００６７】なお、感光性樹脂の材料は限定されるもの
ではなく、公知の材料を使用できるが、特にアクリル系
の（ネガ型）感光性樹脂材料がより好ましい。ネガ型の
感光性樹脂材料は、露光された部分が重合硬化反応を起
こして現像後に残る。このため、焼成により重合硬化反
応が進行するポジ型に比べ、焼成工程間での外的な影響
を受け難くする効果がある。The material of the photosensitive resin is not limited, and known materials can be used. In particular, an acrylic (negative type) photosensitive resin material is more preferable. The exposed portion of the negative photosensitive resin material undergoes a polymerization curing reaction and remains after development. For this reason, compared with the positive type in which the polymerization and curing reaction proceeds by firing, there is an effect that external influence during the firing process is less likely to occur.

【００６８】本実施の形態では、上記方法にて、４００
μｍのＰＥＴフィルム上に膜厚１μｍのネガ型のアクリ
ル樹脂層を塗布してドライフィルムレジストを作成し、
隔壁及び暫定基板として使用した。In the present embodiment, 400
A dry film resist is prepared by coating a 1 μm-thick negative acrylic resin layer on a μm PET film,
It was used as a partition and a temporary substrate.

【００６９】続いて、本実施の形態の製造方法における
各工程について説明する。本製造方法は図９及び図１０
に示す以下の工程から成る。 （１）スペーサとなる感光性樹脂材料の塗布（図９
（ａ）） （２）スペーサ、環状シールの形成（図９（ｂ）
（ｃ）） （３）液晶注入口（脱気口）の形成（図９（ｄ）） （４）配向処理（図９（ｅ）） （５）ドライフィルムレジストの貼り合わせ（図１０
（ａ）） （６）隔壁の形成と暫定基板の切り離し（図１０（ｂ）
（ｃ）） （７）対向基板の貼り合わせ（図１０（ｄ）） これらの工程の内、実施の形態１（図２）と共通する部
分は省略し、ここではドライフィルムレジストを用いた
製造方法の特徴部について述べる。Next, each step in the manufacturing method of the present embodiment will be described. This manufacturing method is shown in FIGS.
The following steps shown in FIG. (1) Application of a photosensitive resin material serving as a spacer (FIG. 9)
(A)) (2) Formation of spacer and annular seal (FIG. 9B)
(C)) (3) Formation of liquid crystal injection port (deaeration port) (FIG. 9 (d)) (4) Alignment treatment (FIG. 9 (e)) (5) Lamination of dry film resist (FIG. 10)
(A)) (6) Formation of partition and separation of provisional substrate (FIG. 10 (b)
(C)) (7) Lamination of Counter Substrate (FIG. 10 (d)) Among these steps, parts common to the first embodiment (FIG. 2) are omitted, and here, manufacturing using a dry film resist is performed. The features of the method will be described.

【００７０】図１１を用いて、ドライフィルムレジスト
を基板上へ貼り合わせる工程について説明する。転写に
は真空ラミネータを用いるが、この真空ラミネータとし
ては、ＡＮＧＥＲ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ（アンガー・
エレクトロニック）ＧＭＢＨ社製のＶＡＣＵＵＭ ＬＡ
ＭＩＮＡＴＯＲ ＴＹＰＥ ＶＣＬ等がある。The step of attaching a dry film resist to a substrate will be described with reference to FIG. A vacuum laminator is used for the transfer, and as this vacuum laminator, ANGER ELECTRONIC (Anger
(Electronic) VACUUM LA manufactured by GMBH
MINATOR TYPE VCL and the like.

【００７１】真空ラミネータにセットされたドライフィ
ルムレジスト４２は、ロールから引出されながら剥離機
６８でレジスト上の保護フィルムが剥された後、圧着ロ
ーラ６７により基板に圧着される。なお、図１１ではベ
ースフィルム巻取りローラー７０と他方の剥離機６８を
別途備えおり、ドライフィルムレジストを基板に圧着し
た後、連続して暫定基板（ベースフィルム）を剥すこと
も可能である。The dry film resist 42 set on the vacuum laminator is peeled off the protective film on the resist by the peeling machine 68 while being pulled out from the roll, and then pressed against the substrate by the pressure roller 67. In FIG. 11, a base film take-up roller 70 and the other peeling device 68 are separately provided, and after the dry film resist is pressed against the substrate, the temporary substrate (base film) can be continuously peeled off.

【００７２】ここで、図９（Ａ）の要部拡大図に示すよ
うに、基板上のスペーサ１８はドライフィルムレジスト
４２にある程度埋没する形で圧着されている。したがっ
て、この埋没量４４を、転写する際の圧力、温度、送り
速度といった工程条件から見積もってスペーサの高さを
設定する必要がある。Here, as shown in the enlarged view of the main part of FIG. 9 (A), the spacer 18 on the substrate is pressure-bonded so as to be partially buried in the dry film resist 42. Therefore, it is necessary to set the height of the spacer by estimating the buried amount 44 from process conditions such as pressure, temperature, and feed rate at the time of transfer.

【００７３】本実施の形態では、事前の条件出しで、厚
さ１μｍのドライフィルムを転写する場合、実際に形成
される間隙部の高さはスペーサ高より０．５μｍ程低く
なることが判明したため、間隙部の高さを５μｍにする
ためにスペーサ高は５．５μｍに設定した。In the present embodiment, it has been found that when a dry film having a thickness of 1 μm is transferred in advance by setting the conditions, the height of the gap actually formed is about 0.5 μm lower than the height of the spacer. The spacer height was set to 5.5 μm in order to make the height of the gap 5 μm.

【００７４】なお、隔壁５１は暫定基板を剥離した後、
基板ごと２００℃で1時間焼成され硬化反応は完全に終
了する。このため、対向基板側に形成するスペーサ１８
は、隔壁であるドライフィルムレジストに埋没すること
がないため、所望のセル厚の高さに設定すればよい。After the temporary substrate is peeled off from the partition 51,
The whole substrate is baked at 200 ° C. for one hour, and the curing reaction is completed. Therefore, the spacer 18 formed on the counter substrate side
Is not buried in a dry film resist serving as a partition wall, and therefore, may be set to a desired cell thickness.

【００７５】次に、ドライフィルムレジストの貼り合わ
せにおいて生じる、ベースフィルムのたわみによるセル
厚異常の防止に有効な形態を説明する。例えば、表示領
域などスペーサが密に存在する領域では、スペーサの埋
没量だけを考慮すれば所定のセル厚が得られるが、スペ
ーサの密度が低い領域では、ベースフィルムが４００μ
mと厚いため、貼りつける際の圧着力によりベースフィ
ルムがたわみ、図１３（ａ）のようにドライフィルムレ
ジストと基板が直接貼り合わされたり、その周辺の表示
領域４９でセル厚が薄くなってしまう問題がある。Next, a description will be given of an embodiment which is effective for preventing an abnormal cell thickness due to the deflection of the base film, which is generated when the dry film resist is bonded. For example, in a region where spacers are densely present, such as a display region, a predetermined cell thickness can be obtained by considering only the buried amount of the spacer, but in a region where the density of the spacer is low, the base film has a thickness of 400 μm.
Since the thickness is as large as m, the base film is deflected by the pressing force at the time of bonding, and the dry film resist and the substrate are directly bonded as shown in FIG. 13A, or the cell thickness is reduced in the display region 49 around the substrate. There's a problem.

【００７６】そこで、図１２に示すように、本実施の形
態ではスペーサを形成するとき、表示領域５６内にスペ
ーサ１８（スペーサ群６１）を形成すると同時に、表示
領域５６の外周に沿って全体を囲う環状形状のパターン
４６（以下、このパターンを環状シール４６と称する）
も併せて形成している。Therefore, as shown in FIG. 12, in the present embodiment, when forming the spacer, the spacer 18 (spacer group 61) is formed in the display area 56 and at the same time, the whole is formed along the outer periphery of the display area 56. An encircling annular pattern 46 (hereinafter, this pattern is referred to as an annular seal 46)
Are also formed.

【００７７】図１２及び図１３（ｂ）に示すように、環
状シール４６を形成することにより、スペーサ密度の低
い部分でのベースフィルムのたわみを防止し、セル厚を
均一にすることができる。また、環状シールを複数形成
したり、表示領域５６と環状シールとの間に点状または
線状の他のスペーサを形成して、基板との接着性を高め
ることもできる。As shown in FIGS. 12 and 13B, by forming the annular seal 46, the base film can be prevented from bending at the portion where the spacer density is low, and the cell thickness can be made uniform. Further, a plurality of annular seals may be formed, or another dot-like or linear spacer may be formed between the display region 56 and the annular seal to enhance the adhesiveness to the substrate.

【００７８】スペーサ及び環状シールと貼り合わされた
ドライフィルムレジストは、フォトリソ工程により隔壁
の形状にパターン化される。具体的には、図１０（ｂ）
に示すように、基板１上にドライフィルムレジスト４２
が転写された後、マスクを介してレジスト層に露光を行
い、ベースフィルムの剥離、現像工程を経て、所望の領
域のみに隔壁５１を形成することができる。The dry film resist bonded to the spacer and the annular seal is patterned into a shape of a partition by a photolithography process. Specifically, FIG.
As shown in FIG.
After the is transferred, the resist layer is exposed to light through a mask, the base film is peeled off, and the developing process is performed, so that the partition wall 51 can be formed only in a desired region.

【００７９】このドライフィルムレジスト４２のフォト
リソ工程では、環状シール４６とドライフィルムレジス
ト４２とで間隙部４７を密閉することで、隔壁部へ現像
液や洗浄水が進入することを防止できる。In the photolithography process of the dry film resist 42, the gap 47 is sealed by the annular seal 46 and the dry film resist 42, so that the developing solution or cleaning water can be prevented from entering the partition wall.

【００８０】図１０（ｄ）に示す隔壁を設けた基板と対
向基板の貼り合せは、（１）対向基板上に形成されたス
ペーサ及び環状シールの頂点部分に接着剤をつけ貼り合
せる（環状シールにシールとしての機能を付加する）、
（２）従来のLCD同様にシール材により上下基板を貼り
合せる等の方法が用いられ、上記の方法のいずれか、ま
たは併用して貼り合せる事も可能である。As shown in FIG. 10 (d), the substrate provided with the partition walls and the opposing substrate are bonded together by (1) an adhesive is applied to the spacer formed on the opposing substrate and the vertex of the ring seal (the ring seal). To add a function as a seal),
(2) A method of bonding the upper and lower substrates with a sealing material as in the case of the conventional LCD is used, and it is also possible to bond by using any of the above methods or a combination thereof.

【００８１】次に、液晶の注入工程について説明する。
本実施の形態では環状シール４６を設けているため、従
来の液晶表示装置のような液晶注入口は形成していな
い。そのため、図９（ｄ）に示すように、スペーサを形
成後、基板１の表示領域外でありかつ環状シール内に１
φのダイヤモンド電着ドリルにて複数個の貫通孔５０を
空けて、液晶の注入口および脱気口を形成している。Next, the step of injecting liquid crystal will be described.
In the present embodiment, since the annular seal 46 is provided, a liquid crystal injection port unlike a conventional liquid crystal display device is not formed. For this reason, as shown in FIG. 9D, after the spacer is formed, one spacer is formed outside the display area of the substrate 1 and inside the annular seal.
A plurality of through holes 50 are opened by a diamond electrodeposition drill of φ to form a liquid crystal injection port and a degassing port.

【００８２】また、この貫通孔５０は、ドライフィルム
レジスト４２の現像工程で隔壁部へ現像液や洗浄水の進
入を防止するため、基板裏面よりカプトンテープ（デュ
ポン社製）７３で液晶注入工程まで一時的に塞いでい
る。（なお、この貫通孔５０については図の煩雑化を避
けるため、図９（ｅ）−図１０（ｄ）では省略してい
る。） 液晶の注入方法は、図１４（ａ）に示すように、上下基
板に空けられた複数個所の貫通孔５０のうち、１〜数点
を液晶導入口５４に、残りの穴を間隙部内の空気の脱気
口５５として使用して上下層から同時に行った。The through holes 50 are formed from the back surface of the substrate to the liquid crystal injecting step using a Kapton tape (manufactured by DuPont) 73 in order to prevent a developing solution or washing water from entering the partition wall in the developing step of the dry film resist 42. Temporarily closed. (Note that this through-hole 50 is omitted in FIGS. 9E to 10D in order to avoid complication of the drawing.) As shown in FIG. Of the plural through holes 50 formed in the upper and lower substrates, one through several points were used as the liquid crystal introduction port 54, and the remaining holes were used as the air vents 55 in the gaps, and were simultaneously formed from the upper and lower layers. .

【００８３】このように、上下層から同時に注入、脱気
することにより、隔壁が1μｍと薄い場合でも、2層間に
圧力差が生じないため隔壁がつぶれることを防止でき
る。図１４（ｂ）に1層づつ液晶を注入した場合を示
す。As described above, by simultaneously injecting and degassing from the upper and lower layers, even if the partition is as thin as 1 μm, it is possible to prevent the partition from being crushed because there is no pressure difference between the two layers. FIG. 14B shows a case where the liquid crystal is injected one layer at a time.

【００８４】以上の工程により積層型液晶表示装置が作
成される。尚、本実施の形態４にて示した、スペーサ、
環状シール等の形状はあくまでも一例であり、特に本実
施の形態に限定されるものではない。Through the above steps, a multi-layer liquid crystal display device is manufactured. In addition, the spacer shown in the fourth embodiment,
The shape of the annular seal or the like is merely an example, and is not particularly limited to the present embodiment.

【００８５】（実施の形態５）環状シールの目的の一つ
である水分の進入防止機能を必要とする工程は、隔壁の
フォトリソ工程までであり、以降の工程では水分が進入
するような工程は無い。そのため、隔壁のフォトリソ工
程が終了後は、パネル端辺に従来と同様の注入口を形成
しても、問題は生じない。その手法について図１５〜１
６を用いて説明する。(Embodiment 5) The process that requires the function of preventing the invasion of moisture, which is one of the objects of the annular seal, is up to the photolithography process of the partition walls. There is no. Therefore, after the photolithography step of the partition walls, no problem occurs even if an injection port similar to the conventional one is formed at the edge of the panel. FIGS. 15-1
6 will be described.

【００８６】図１５に示すように本実施の形態では、環
状形状のシール材は表示領域全体を囲む最外周の環状シ
ール５７と、基板の切断により注入口が開口するように
一部がくびれ形状になったシール５８を環状シール５７
の内側に配置した多重構造にしている。As shown in FIG. 15, in this embodiment, the annular sealing material has an outermost annular seal 57 surrounding the entire display area, and a partially constricted shape so that the injection port is opened by cutting the substrate. The seal 58 that has become the annular seal 57
It has a multiplex structure arranged inside.

【００８７】また、環状シールの多重構造は、図１６に
示すように前記環状シール５７と前記シール５８とを組
み合わせたシール形状にしても良い。The multiplex structure of the annular seal may be a seal shape in which the annular seal 57 and the seal 58 are combined as shown in FIG.

【００８８】この環状シールの多重構造は、実施の形態
４と同様に製造過程において、表示領域外周のセル厚を
確保することと、フォトリソ工程での水分の進入防止す
ることを満足し、さらに対向基板と貼り合わせ後に上下
基板のくびれ部を設けた端面（図中一点鎖線：Ａ−Ａ）
で切断することにより、くびれ部が開口し注入口６５を
容易に形成できる。この注入口６５を使用して従来と同
様に液晶を注入することができる。The multiple structure of the annular seal satisfies securing the cell thickness around the display area and preventing moisture from entering in the photolithography process in the manufacturing process as in the fourth embodiment. End faces of the upper and lower substrates provided with constrictions after bonding to the substrate (dashed line AA in the figure)
By cutting, the constricted portion opens and the injection port 65 can be easily formed. Using this injection port 65, liquid crystal can be injected as in the conventional case.

【００８９】このように、環状シールを多重構造にする
ことにより、隔壁との接着強度を増すことができ、膜は
がれ等といった不良の発生を低減できる。さらに、従来
と同じ液晶注入工程を用いることができ、積層型液晶表
示装置を容易に製造することができる。As described above, by forming the annular seal into a multi-layer structure, the adhesive strength with the partition can be increased, and the occurrence of defects such as film peeling can be reduced. Further, the same liquid crystal injecting step as that of the related art can be used, and the multilayer liquid crystal display device can be easily manufactured.

【００９０】尚、本実施の形態にて示したスペーサ、環
状シール、注入口の形状、及び設置場所はあくまでも1
例であり、特に本実施の形態に限定されるものではな
い。Note that the spacers, annular seals, injection port shapes, and installation locations described in the present embodiment are only one.
This is an example and is not particularly limited to the present embodiment.

【００９１】[0091]

【発明の効果】以上のように、本発明の製造方法を利用
することにより、従来のような中間基板による視差の発
生を防止し、多面取りが可能な積層型液晶表示装置が製
造可能となる。As described above, by utilizing the manufacturing method of the present invention, it is possible to prevent the occurrence of parallax due to the intermediate substrate as in the prior art, and to manufacture a multi-panel type liquid crystal display device. .

【００９２】また、隔壁と暫定基板の機能を有するドラ
イフィルムレジストを利用することにより、隔壁の薄膜
化がより容易に行え、隔壁のリターデイションを無く
し、隔壁の機械的裁断に起因する諸問題も防止できる。Further, by using a dry film resist having the function of a partition and a temporary substrate, the partition can be made thinner more easily, the retardation of the partition can be eliminated, and various problems caused by mechanical cutting of the partition can be achieved. Can also be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の製造方法による積層型液晶表示装置の
断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multi-layer liquid crystal display device according to a manufacturing method of the present invention.

【図２】本発明の製造方法の工程フローの一例を説明す
る図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a process flow of the manufacturing method of the present invention.

【図３】実施の形態２におけるシールパターンの斜視図
である。FIG. 3 is a perspective view of a seal pattern according to a second embodiment.

【図４】実施の形態２における液晶の注入方法を説明す
る図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a method for injecting liquid crystal according to a second embodiment.

【図５】実施の形態２により作製された積層型コレステ
リック液晶表示装置の分光反射特性と、従来の１層及び
２層を積層したセルの分光反射特性を説明する図であ
る。FIG. 5 is a diagram for explaining the spectral reflection characteristics of the multilayer cholesteric liquid crystal display device manufactured according to the second embodiment and the spectral reflection characteristics of a conventional cell in which one or two layers are stacked.

【図６】実施の形態３にて記載の隔壁となる薄膜２１付
き暫定基板２４の作製方法（その１）を説明する図であ
る。FIG. 6 is a diagram illustrating a method (part 1) of manufacturing a provisional substrate 24 with a thin film 21 to be a partition described in Embodiment 3.

【図７】実施の形態３にて記載の積層型液晶表示装置の
別の製造方法を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating another method for manufacturing the multilayer liquid crystal display device described in Embodiment 3.

【図８】ドライフィルムレジストの製造方法の模式図で
ある。FIG. 8 is a schematic view of a method for manufacturing a dry film resist.

【図９】実施の形態４に記載の積層型液晶表示装置の製
造方法を説明する図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a method for manufacturing the multilayer liquid crystal display device described in Embodiment 4.

【図１０】実施の形態４に記載の積層型液晶表示装置の
製造方法を説明する図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a method for manufacturing the multilayer liquid crystal display device described in Embodiment 4.

【図１１】ドライフィルムレジストの転写工程を説明す
る図であり、Ａは要部拡大図である。FIG. 11 is a diagram illustrating a transfer process of a dry film resist, and A is an enlarged view of a main part.

【図１２】基板上にスペーサ、環状シール、貫通孔を形
成した上面図である。FIG. 12 is a top view in which a spacer, an annular seal, and a through hole are formed on a substrate.

【図１３】ドライフィルムレジストのたわみを説明する
図である。FIG. 13 is a diagram illustrating deflection of a dry film resist.

【図１４】液晶注入工程を説明する図である。FIG. 14 is a diagram illustrating a liquid crystal injection step.

【図１５】多重の環状シールによる液晶注入口の形成方
法を説明する図である。FIG. 15 is a diagram illustrating a method of forming a liquid crystal injection port by using multiple annular seals.

【図１６】他の環状シールによる液晶注入口の形成方法
を説明する図である。FIG. 16 is a diagram illustrating a method of forming a liquid crystal injection port by using another annular seal.

【図１７】従来の液晶表示装置の模式図である。FIG. 17 is a schematic view of a conventional liquid crystal display device.

【図１８】積層型液晶表示装置の模式図を示し、図１８
（ｂ）は図１８（ａ）の模式図を実際の縮尺に近い状態
で記載した模式図である。18 is a schematic view of a multi-layer liquid crystal display device, and FIG.
FIG. 18B is a schematic diagram illustrating the schematic diagram of FIG. 18A in a state close to the actual scale.

【図１９】視差による表示特性劣化の説明図である。FIG. 19 is an explanatory diagram of display characteristic deterioration due to parallax.

【図２０】金枠による薄膜フィルムを用いる製造方法を
説明する図である。FIG. 20 is a view for explaining a manufacturing method using a thin film with a metal frame.

【図２１】隔壁用のフィルムをカットする場合の問題点
を示す。FIG. 21 shows a problem when a film for a partition is cut.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ ガラス基板 ２ 液晶層 ３ 配向膜 ４ 透明電極 ５ バックライト・ユニット ６ 偏光子 ７ 反射板 ８ 黒表示領域 ９ 白表示領域 １０ 視差による影 １１ 観察者 １２ パネル １３ 隔壁となる薄膜 １４ 金枠 １５ シール材 １６ 隔壁の必要な領域 １７ 隔壁の不要な領域 １８ （柱状）スペーサ １９ 感光性樹脂材料 ２０ ラビング・ローラ ２１ 隔壁となる薄膜 ２２ 上部液晶層 ２３ 下部液晶層 ２４ 暫定基板 ２５ 上部液晶層用シール材 ２６ 下部液晶層用シール材 ２７ 封止材 ２８ 液晶導入方向 ２９ 注入口 ３０ 実施の形態２にて作製したセルの分光反射特
性 ３１ 右ねじれセルの分光反射特性 ３２ 左ねじれセルの分光反射特性 ３３ ３１と３２の特性を有するセルを２層積層し
たセルの分光反射特性 ３４ フィルムカット用のカッター ３５ 端子 ３６ キズ ３７ 端子群 ３８ マスク ３９ ベースフィルム ４０ 感光性樹脂（ドライフィルムレジスト） ４１ 保護フィルム ４２ ト゛ライフィルムレシ゛スト ４３ スペーサ高 ４４ スペーサのドライフィルムレジストへの埋没
分 ４５ セル厚 ４６ 環状シール ４７ ドライフィルムレジストと基板間の間隙部 ４８ マザーガラスでのパネル間隔 ４９ ドライフィルムレジスト転写時のたわみによ
るセル厚不良部分 ５０ 基板に形成された貫通孔 ５１ 隔壁 ５２ ドライフィルムレジストによる隔壁を形成し
た基板 ５３ 対向基板 ５４ 液晶導入口 ５５ 脱気口 ５６ 表示領域 ５７ パネル周辺全体を囲う環状シール ５８ 注入口を設けた環状シール ５９ 液晶の回り込み防止用環状シール ６０ 分断ライン ６１ スペーサ形成領域（表示領域） ６２ 隔壁の変形により間隙部のつぶれた部分 ６３ 表示エリア周辺 ６４ 真空ポンプ ６５ 注入口 ６６ ヒータ ６７ 圧着ローラー ６８ 剥離器 ６９ 保護フィルム巻き取りローラ ７０ ベースフィルム巻き取りローラ ７１ スリット ７２ ドライフィルムレジストの膜厚 ７３ カプトンテープ ７４ シール材 ７５ 開閉バルブDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Liquid crystal layer 3 Alignment film 4 Transparent electrode 5 Backlight unit 6 Polarizer 7 Reflector 8 Black display area 9 White display area 10 Shadow by parallax 11 Observer 12 Panel 13 Thin film serving as partition wall 14 Metal frame 15 Seal Material 16 Necessary area for partition 17 Unnecessary area for partition 18 (Columnar) spacer 19 Photosensitive resin material 20 Rubbing roller 21 Thin film to be a partition 22 Upper liquid crystal layer 23 Lower liquid crystal layer 24 Temporary substrate 25 Sealing material for upper liquid crystal layer 26 Sealing Material for Lower Liquid Crystal Layer 27 Sealing Material 28 Liquid Crystal Introduction Direction 29 Inlet 30 Spectral Reflection Characteristics of Cell Produced in Embodiment 2 31 Spectral Reflection Characteristics of Right-Twisted Cell 32 Spectral Reflection Characteristics of Left-Twisted Cell 33 31 And spectral reflection characteristics of a cell obtained by laminating two layers of cells having characteristics 32 and 34. Cutter for film cutting 35 Child 36 Scratches 37 Terminal group 38 Mask 39 Base film 40 Photosensitive resin (dry film resist) 41 Protective film 42 Trifilm resist 43 Spacer height 44 Buried portion of spacer in dry film resist 45 Cell thickness 46 Ring seal 47 Dry film resist 48 gap between panel and substrate 48 panel gap with mother glass 49 defective cell thickness due to deflection during transfer of dry film resist 50 through hole 51 formed in substrate 51 partition 52 substrate provided with partition formed by dry film resist 53 opposed substrate 54 Liquid crystal introduction port 55 Deaeration port 56 Display area 57 Annular seal surrounding the entire periphery of panel 58 Annular seal provided with injection port 59 Annular seal for preventing liquid crystal from wrapping 60 Dividing line 61 Spacer formation area (display area) 62 Part of the gap collapsed due to deformation of the wall 63 Around the display area 64 Vacuum pump 65 Inlet 66 Heater 67 Crimping roller 68 Peeler 69 Protective film take-up roller 70 Base film take-up roller 71 Slit 72 Dry film resist film thickness 73 Kapton tape 74 Seal material 75 Open / close valve

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 基板上に、略均一な間隙を形成するため
のスペーサを形成又は散布する工程と、 該基板に、隔壁となる薄膜が付加された暫定基板を、前
記基板のスペーサ形成面と前記薄膜とが対向するよう貼
り合せる工程と、 前記暫定基板を剥離し、隔壁となる薄膜のみを残す工程
と、 前記基板と同様にスペーサを形成又は散布した対向側と
なる基板と、前記薄膜とが対向するよう貼り合せる工程
と、を含むことを特徴とする積層型液晶表示装置の製造
方法。1. A step of forming or dispersing spacers for forming a substantially uniform gap on a substrate, and a step of forming a temporary substrate on which a thin film serving as a partition is added to the substrate by using a spacer forming surface of the substrate. A step of bonding the thin film so as to be opposed, a step of peeling the temporary substrate, and a step of leaving only a thin film serving as a partition, and a substrate on the opposite side on which spacers are formed or dispersed in the same manner as the substrate, and the thin film And a step of bonding the substrates so that they face each other. 【請求項２】 前記暫定基板上に付加された前記薄膜が
予め所定の形状に加工されており、かつ前記基板および
前記対向側となる基板上に形成されるシール材の形成領
域が前記薄膜内に収まるように形成されることを特徴と
する請求項１記載の積層型液晶表示装置の製造方法。2. The thin film added on the temporary substrate is processed in a predetermined shape in advance, and a region where a sealing material formed on the substrate and the substrate on the opposite side is formed in the thin film. 2. The method for manufacturing a multi-layer liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed so as to fit within the range. 【請求項３】 前記隔壁と前記暫定基板とがドライフィ
ルムレジストからなり、該ドライフィルムレジストのレ
ジスト層を隔壁に使用し、ベースフィルムを暫定基板に
使用することを特徴とする請求項１記載の積層型液晶表
示装置の製造方法。3. The provisional substrate according to claim 1, wherein the partition and the temporary substrate are made of a dry film resist, a resist layer of the dry film resist is used for the partition, and a base film is used for the temporary substrate. A method for manufacturing a multilayer liquid crystal display device. 【請求項４】 前記ドライフィルムレジストのレジスト
層に、光照射領域が硬化するネガ型レジストを用いるこ
とを特徴とする請求項３記載の積層型液晶表示装置の製
造方法。4. The method of manufacturing a multi-layer liquid crystal display device according to claim 3, wherein a negative resist in which a light irradiation area is cured is used for the resist layer of the dry film resist. 【請求項５】 前記ドライフィルムレジストを貼り合わ
せる基板上で、表示領域に複数配置される第１のスペー
サと、表示領域外周に複数配置される第2のスペーサと
を感光性樹脂を用いて同時に形成することを特徴とする
請求項３乃至４記載の積層型液晶表示装置の製造方法。5. A plurality of first spacers arranged in a display area and a plurality of second spacers arranged in an outer periphery of a display area are simultaneously formed on a substrate to which the dry film resist is bonded by using a photosensitive resin. 5. The method of manufacturing a multi-layer liquid crystal display device according to claim 3, wherein the method is performed. 【請求項６】 複数配置された前記第2のスペーサのう
ち、少なくとも最外周のスペーサを環状形状にしてシー
ルに用いることを特徴とする請求項５記載の積層型液晶
表示装置の製造方法。6. The method for manufacturing a multi-layer liquid crystal display device according to claim 5, wherein at least the outermost spacer among the plurality of second spacers is formed in an annular shape and used for sealing. 【請求項７】 前記環状形状のシールの一部にくびれ部
を設け、該くびれ部の箇所で基板を切断してシールを開
口させ、液晶の注入口を形成することを特徴とする請求
項６記載の積層型液晶表示装置の製造方法。7. A constricted portion is provided in a part of the annular seal, and the substrate is cut at the constricted portion to open the seal, thereby forming a liquid crystal injection port. A manufacturing method of the multilayer liquid crystal display device according to the above. 【請求項８】 前記基板上に形成されたスペーサの高さ
を、ドライフィルムレジストへの埋没量だけ厚く形成す
ることを特徴とする請求項３乃至７記載の積層型液晶表
示装置の製造方法。8. The method of manufacturing a multi-layer liquid crystal display device according to claim 3, wherein the height of the spacer formed on the substrate is increased by an amount buried in a dry film resist. 【請求項９】 液晶層を複数積層した積層型液晶表示装
置において、 液晶層を分離する隔壁が液晶層の厚さ以下のフィルムで
あり、表示領域内に収まるようパターン化されているこ
とを特徴とする積層型液晶表示装置。9. A multi-layer liquid crystal display device in which a plurality of liquid crystal layers are stacked, wherein a partition for separating the liquid crystal layer is a film having a thickness equal to or less than the thickness of the liquid crystal layer, and is patterned so as to fit within the display area. Liquid crystal display device.