JP2002047032A - 光触媒膜付き基板及びその製造方法 - Google Patents
光触媒膜付き基板及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 汚染物質の良好な分解作用を有すると共に耐
久性にも優れた光触媒膜付き基板を容易に大量生産する
ことができるようにした。 【解決手段】 アナターゼ形の結晶構造を有する粒径が
５ｎｍ〜１０ｎｍのＴｉＯ2微粒子（光活性微粒子）２
がスプレーガンでガラス基板１上に撒布されて該ガラス
基板１の表面に固着され、熱処理を経てスパッタリング
処理を施し、これによりＴｉＯ2微粒子２を覆うように
ＳｉＯ2膜３（被膜）を形成する。そして、ＴｉＯ2微粒
子２とＳｉＯ2膜３とで光触媒膜４を構成すると共に、
上記光触媒膜４は、ＴｉＯ2とＳｉＯ2の組成比が、重量
％でＴｉＯ2／ＳｉＯ2＝２０／８０〜７０／３０となる
ように調製されている。
久性にも優れた光触媒膜付き基板を容易に大量生産する
ことができるようにした。 【解決手段】 アナターゼ形の結晶構造を有する粒径が
５ｎｍ〜１０ｎｍのＴｉＯ2微粒子（光活性微粒子）２
がスプレーガンでガラス基板１上に撒布されて該ガラス
基板１の表面に固着され、熱処理を経てスパッタリング
処理を施し、これによりＴｉＯ2微粒子２を覆うように
ＳｉＯ2膜３（被膜）を形成する。そして、ＴｉＯ2微粒
子２とＳｉＯ2膜３とで光触媒膜４を構成すると共に、
上記光触媒膜４は、ＴｉＯ2とＳｉＯ2の組成比が、重量
％でＴｉＯ2／ＳｉＯ2＝２０／８０〜７０／３０となる
ように調製されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光触媒膜付き基板及
びその製造方法に関し、より詳しくは、窓ガラスや照明
器具等の各種ガラス物品に使用される光触媒膜付き基板
及び該光触媒膜付き基板の製造方法に関する。
びその製造方法に関し、より詳しくは、窓ガラスや照明
器具等の各種ガラス物品に使用される光触媒膜付き基板
及び該光触媒膜付き基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、窓ガラスや照明器具等のガラ
ス物品においては、光触媒膜をガラス基板上に被着させ
ることにより、光触媒の表面に付着している汚染物質を
分解させ、これによりガラス物品の表面に汚れが付着す
るのを防止している。
ス物品においては、光触媒膜をガラス基板上に被着させ
ることにより、光触媒の表面に付着している汚染物質を
分解させ、これによりガラス物品の表面に汚れが付着す
るのを防止している。
【０００３】すなわち、この種の光触媒膜付き基板は、
光触媒の酸化作用（光触媒反応）によって前記表面に付
着している汚染物質を分解させることができ、これによ
り所謂自己防汚性（セルフクリーニング機能）を発揮し
て基板表面の清浄性を保持することができる。
光触媒の酸化作用（光触媒反応）によって前記表面に付
着している汚染物質を分解させることができ、これによ
り所謂自己防汚性（セルフクリーニング機能）を発揮し
て基板表面の清浄性を保持することができる。
【０００４】そして、前記光触媒膜付き基板としては、
光触媒反応を起こす光活性物質として二酸化チタンの微
粒子（ＴｉＯ2微粒子）を使用し、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2、
ＴｉＯ2−ＳｎＯ2、又はＴｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3の混成材料
からなる光触媒膜をガラス基体上に形成した光触媒体が
既に提案されている（特開平１１−９９９４号公報）。
光触媒反応を起こす光活性物質として二酸化チタンの微
粒子（ＴｉＯ2微粒子）を使用し、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2、
ＴｉＯ2−ＳｎＯ2、又はＴｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3の混成材料
からなる光触媒膜をガラス基体上に形成した光触媒体が
既に提案されている（特開平１１−９９９４号公報）。
【０００５】該従来技術は、前記混成材料（二成分系材
料）からなる光触媒膜がガラス基体の表面に形成されて
おり、また、光触媒膜中には１０ｗｔ％〜３０ｗｔ％の
ＴｉＯ2微粒子が含有されている。
料）からなる光触媒膜がガラス基体の表面に形成されて
おり、また、光触媒膜中には１０ｗｔ％〜３０ｗｔ％の
ＴｉＯ2微粒子が含有されている。
【０００６】また、該従来技術では、例えばＴｉＯ2−
ＳｉＯ2の混成材料で光触媒膜を形成する場合、アルコ
キシチタン系化合物とアルコキシシラン系化合物との混
合溶液を作製した後、ＴｉＯ2微粉末を前記混合溶液に
分散・懸濁させて懸濁液を調製し、次いでガラス基板を
前記懸濁液に浸漬・塗布し、その後焼成処理を行うこと
により前記光触媒体を製造している。
ＳｉＯ2の混成材料で光触媒膜を形成する場合、アルコ
キシチタン系化合物とアルコキシシラン系化合物との混
合溶液を作製した後、ＴｉＯ2微粉末を前記混合溶液に
分散・懸濁させて懸濁液を調製し、次いでガラス基板を
前記懸濁液に浸漬・塗布し、その後焼成処理を行うこと
により前記光触媒体を製造している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、例えば、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2の混成材料で光
触媒膜を形成した場合、光触媒膜中にはＴｉＯ2微粒子
とＳｉＯ2とが混在しているため、ＴｉＯ2微粒子が膜表
面近傍に存在したり膜表面に露出し、このため膜表面が
傷付き易く、またＴｉＯ2微粒子が膜表面から剥離し易
い等、機械的強度が弱く耐久性に劣るという問題点があ
った。
来技術では、例えば、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2の混成材料で光
触媒膜を形成した場合、光触媒膜中にはＴｉＯ2微粒子
とＳｉＯ2とが混在しているため、ＴｉＯ2微粒子が膜表
面近傍に存在したり膜表面に露出し、このため膜表面が
傷付き易く、またＴｉＯ2微粒子が膜表面から剥離し易
い等、機械的強度が弱く耐久性に劣るという問題点があ
った。
【０００８】また、上記従来技術では、ガラス基板を懸
濁液に浸漬することによりガラス基体上に上記混成材料
を塗布しているため、懸濁液を入れる器具の容量を考慮
すると、照明器具のような比較的小形のガラス物品の製
造には適していても、窓ガラスのような大形のガラス物
品の製造には適さないという問題点があった。
濁液に浸漬することによりガラス基体上に上記混成材料
を塗布しているため、懸濁液を入れる器具の容量を考慮
すると、照明器具のような比較的小形のガラス物品の製
造には適していても、窓ガラスのような大形のガラス物
品の製造には適さないという問題点があった。
【０００９】本発明はこのような問題点に鑑みなされた
ものであって、良好な自己防汚性を有すると共に耐久性
にも優れ、且つ容易に大量生産することのできる光触媒
膜付き基板及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
ものであって、良好な自己防汚性を有すると共に耐久性
にも優れ、且つ容易に大量生産することのできる光触媒
膜付き基板及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、光触媒膜
の機械的強度を向上させるべく鋭意研究した結果、光活
性微粒子を金属酸化物で被覆することにより、膜表面が
損傷することもなく、耐剥離性も向上させることがで
き、これにより機械的強度に優れた光触媒膜付き基板を
得ることができ、光触媒膜付き基板の耐久性を飛躍的に
向上させることができるという知見を得た。
の機械的強度を向上させるべく鋭意研究した結果、光活
性微粒子を金属酸化物で被覆することにより、膜表面が
損傷することもなく、耐剥離性も向上させることがで
き、これにより機械的強度に優れた光触媒膜付き基板を
得ることができ、光触媒膜付き基板の耐久性を飛躍的に
向上させることができるという知見を得た。
【００１１】本発明はこのような知見に基づきなされた
ものであって、本発明に係る光触媒膜付き基板は、光触
媒作用を呈する光活性微粒子が透明基板上に撒布される
と共に、前記光活性微粒子を覆うように金属酸化物から
なる被膜が前記透明基板上に形成されていることを特徴
としている。
ものであって、本発明に係る光触媒膜付き基板は、光触
媒作用を呈する光活性微粒子が透明基板上に撒布される
と共に、前記光活性微粒子を覆うように金属酸化物から
なる被膜が前記透明基板上に形成されていることを特徴
としている。
【００１２】また、上述した光触媒膜付き基板は、透過
性に優れていることが要求されることから、前記金属酸
化物は良好な透明性を有することが必要とされ、斯かる
観点から金属酸化物としてはケイ素酸化物を使用するの
が好ましい。
性に優れていることが要求されることから、前記金属酸
化物は良好な透明性を有することが必要とされ、斯かる
観点から金属酸化物としてはケイ素酸化物を使用するの
が好ましい。
【００１３】また、上記光触媒膜付き基板は、予め光活
性微粒子を水等の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製して
おき、該懸濁液をスプレーガン等でガラス基板上に撒布
した後、熱処理を施して液を蒸発させることにより、光
活性微粒子をガラス基板に固着させ、その後、所定の金
属材料（例えば、ケイ素）をターゲット物質としてスパ
ッタリング処理を施すことにより、容易に製造すること
ができる。
性微粒子を水等の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製して
おき、該懸濁液をスプレーガン等でガラス基板上に撒布
した後、熱処理を施して液を蒸発させることにより、光
活性微粒子をガラス基板に固着させ、その後、所定の金
属材料（例えば、ケイ素）をターゲット物質としてスパ
ッタリング処理を施すことにより、容易に製造すること
ができる。
【００１４】すなわち、本発明に係る光触媒膜付き基板
の製造方法は、光触媒作用を呈する光活性微粒子を透明
基板上に撒布した後、熱処理を施し、その後、所定の金
属材料をターゲットとしてスパッタリング処理を施し、
前記光活性微粒子が撒布された透明基板上に金属酸化物
からなる被膜を形成することを特徴とし、さらに前記光
活性微粒子を所定の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製
し、該懸濁液を前記透明基板上に撒布した後、前記熱処
理を施して前記透明基板上の懸濁液を蒸発させ、前記光
活性微粒子を前記透明基板上に固着させることを特徴と
している。
の製造方法は、光触媒作用を呈する光活性微粒子を透明
基板上に撒布した後、熱処理を施し、その後、所定の金
属材料をターゲットとしてスパッタリング処理を施し、
前記光活性微粒子が撒布された透明基板上に金属酸化物
からなる被膜を形成することを特徴とし、さらに前記光
活性微粒子を所定の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製
し、該懸濁液を前記透明基板上に撒布した後、前記熱処
理を施して前記透明基板上の懸濁液を蒸発させ、前記光
活性微粒子を前記透明基板上に固着させることを特徴と
している。
【００１５】上記製造方法によれば、従来のように透明
基板を懸濁液に浸漬することなく透明基板上に光活性微
粒子を撒布し、その後スパッタリング処理を施している
ので、窓ガラスのような大形のガラス物品として使用す
る場合であっても、容易に大量生産することが可能とな
る。
基板を懸濁液に浸漬することなく透明基板上に光活性微
粒子を撒布し、その後スパッタリング処理を施している
ので、窓ガラスのような大形のガラス物品として使用す
る場合であっても、容易に大量生産することが可能とな
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳説する。
に基づいて詳説する。
【００１７】図１は本発明に係る光触媒膜付き基板を模
式的に示した断面図である。
式的に示した断面図である。
【００１８】同図において、１はソーダライム等からな
るガラス基板であって、該ガラス基板１の表面には、ア
ナターゼ形の結晶構造を有する粒径が５ｎｍ〜１０ｎｍ
のＴｉＯ2微粒子（光活性微粒子）２が撒布され、さら
にガラス基板１上にはＴｉＯ2微粒子２を覆うようにＳ
ｉＯ2膜３（被膜）が形成され、ＴｉＯ2微粒子２とＳｉ
Ｏ2膜３とで光触媒膜４を構成している。
るガラス基板であって、該ガラス基板１の表面には、ア
ナターゼ形の結晶構造を有する粒径が５ｎｍ〜１０ｎｍ
のＴｉＯ2微粒子（光活性微粒子）２が撒布され、さら
にガラス基板１上にはＴｉＯ2微粒子２を覆うようにＳ
ｉＯ2膜３（被膜）が形成され、ＴｉＯ2微粒子２とＳｉ
Ｏ2膜３とで光触媒膜４を構成している。
【００１９】そして、上記光触媒膜４は、本実施の形態
では、ＴｉＯ2とＳｉＯ2の組成比が、重量％でＴｉＯ2
／ＳｉＯ2＝２０／８０〜５０／５０となるように設定
されている。
では、ＴｉＯ2とＳｉＯ2の組成比が、重量％でＴｉＯ2
／ＳｉＯ2＝２０／８０〜５０／５０となるように設定
されている。
【００２０】このようにＴｉＯ2とＳｉＯ2の組成比を重
量％でＴｉＯ2／ＳｉＯ2＝２０／８０〜５０／５０とし
たのは、以下の理由による。
量％でＴｉＯ2／ＳｉＯ2＝２０／８０〜５０／５０とし
たのは、以下の理由による。
【００２１】ＴｉＯ2のＳｉＯ2に対する割合が２０ｗｔ
％未満の場合は、ＳｉＯ2含有量が８０％以上となるた
めＳｉＯ2膜の膜厚が厚くなり、したがって膜自体の機
械的強度は優れたものとなるが、光触媒膜４中のＴｉＯ
2微粒子２の含有率が少ないため、所望の光触媒反応を
促進することができず、その結果膜表面上の汚染物質を
十分に分解することができず、所望の自己防汚性を確保
することができない。
％未満の場合は、ＳｉＯ2含有量が８０％以上となるた
めＳｉＯ2膜の膜厚が厚くなり、したがって膜自体の機
械的強度は優れたものとなるが、光触媒膜４中のＴｉＯ
2微粒子２の含有率が少ないため、所望の光触媒反応を
促進することができず、その結果膜表面上の汚染物質を
十分に分解することができず、所望の自己防汚性を確保
することができない。
【００２２】一方、ＴｉＯ2のＳｉＯ2に対する割合が５
０ｗｔ％を超えた場合は、光触媒膜４中のＴｉＯ2微粒
子２の含有率が５０ｗｔ％以上に増加するため自己防汚
性については優れたものとなるが、膜中のＳｉＯ2含有
量が少なくなるためＳｉＯ2膜３の膜厚も薄くなり、こ
のため膜表面に傷が付き易くなったり耐剥離性が低下
し、機械的強度が悪化する。
０ｗｔ％を超えた場合は、光触媒膜４中のＴｉＯ2微粒
子２の含有率が５０ｗｔ％以上に増加するため自己防汚
性については優れたものとなるが、膜中のＳｉＯ2含有
量が少なくなるためＳｉＯ2膜３の膜厚も薄くなり、こ
のため膜表面に傷が付き易くなったり耐剥離性が低下
し、機械的強度が悪化する。
【００２３】そこで、本実施の形態ではＴｉＯ2とＳｉ
Ｏ2の組成比を重量％でＴｉＯ2／ＳｉＯ2＝２０／８０
〜５０／５０とした。
Ｏ2の組成比を重量％でＴｉＯ2／ＳｉＯ2＝２０／８０
〜５０／５０とした。
【００２４】次に、上記光触媒膜付き基板の製造方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００２５】図２は上記光触媒膜付き基板の製造工程を
示す製造工程図である。
示す製造工程図である。
【００２６】すなわち、ソーダライム等からなる所定形
状のガラス基板１を用意し、次いで撒布工程５でＴｉＯ
2微粒子２を懸濁させた懸濁液をガラス基板１に撒布す
る。具体的には、まず、アナターゼ形の結晶構造を有す
る粒径が５ｎｍ〜１０ｎｍのＴｉＯ2微粒子２を水溶液
中に懸濁させると共にバインダ（例えば、リン系物質）
を該水溶液に混入し、これによりＴｉＯ2微粒子２が５
ｗｔ％の懸濁液を作製する。そして該懸濁液を希釈した
後、該希釈された懸濁液をガラス基板１上に撒布する。
状のガラス基板１を用意し、次いで撒布工程５でＴｉＯ
2微粒子２を懸濁させた懸濁液をガラス基板１に撒布す
る。具体的には、まず、アナターゼ形の結晶構造を有す
る粒径が５ｎｍ〜１０ｎｍのＴｉＯ2微粒子２を水溶液
中に懸濁させると共にバインダ（例えば、リン系物質）
を該水溶液に混入し、これによりＴｉＯ2微粒子２が５
ｗｔ％の懸濁液を作製する。そして該懸濁液を希釈した
後、該希釈された懸濁液をガラス基板１上に撒布する。
【００２７】尚、上記懸濁液としては、光触媒液として
既に市販されているものを使用するのが生産効率の点か
らも好ましく、例えば、テイカ社製のＴＫＣ−３０４を
使用することができる。
既に市販されているものを使用するのが生産効率の点か
らも好ましく、例えば、テイカ社製のＴＫＣ−３０４を
使用することができる。
【００２８】次いで、熱処理工程６に進み、温度１５０
℃〜３００℃程度で３０分〜６０分程度、ガラス基板１
を加熱してガラス基板１上に付着している懸濁液を蒸発
させる。
℃〜３００℃程度で３０分〜６０分程度、ガラス基板１
を加熱してガラス基板１上に付着している懸濁液を蒸発
させる。
【００２９】次に、スパッタリング工程７に進み、Ｓｉ
をターゲット物質とし、ＡｒとＯ2の混合ガスをスパッ
タリングガスとして所定の減圧下、スパッタリング処理
を施し、ＴｉＯ2微粒子２を含むガラス基板１の表面上
にＳｉＯ2膜３を形成し、その後必要に応じて焼成処理
を行う。すなわち、必要に応じて焼成工程８に進み、２
００℃〜５００℃の温度条件下で焼成処理を施すことに
より、被膜の密着性向上等を図ることができる。そし
て、このようにしてガラス基板１には所望の光触媒膜４
が形成され、光触媒膜付き基板が得られる。
をターゲット物質とし、ＡｒとＯ2の混合ガスをスパッ
タリングガスとして所定の減圧下、スパッタリング処理
を施し、ＴｉＯ2微粒子２を含むガラス基板１の表面上
にＳｉＯ2膜３を形成し、その後必要に応じて焼成処理
を行う。すなわち、必要に応じて焼成工程８に進み、２
００℃〜５００℃の温度条件下で焼成処理を施すことに
より、被膜の密着性向上等を図ることができる。そし
て、このようにしてガラス基板１には所望の光触媒膜４
が形成され、光触媒膜付き基板が得られる。
【００３０】図３は上記製造方法の詳細を示す図であっ
て、本実施の形態ではこの図３に示すように、一連の製
造工程が連続的に行われ、これにより所望の光触媒膜付
き基板を容易に大量生産することができる。
て、本実施の形態ではこの図３に示すように、一連の製
造工程が連続的に行われ、これにより所望の光触媒膜付
き基板を容易に大量生産することができる。
【００３１】すなわち、撒布工程５では上述した懸濁液
をスプレーガン９に供給し、コンベア１０上を矢印Ａ方
向に移動しているガラス基板１にスプレーガン９から懸
濁液を撒布し、これによりＴｉＯ2微粒子２は懸濁液中
のバインダを介してガラス基板１に固着される。次い
で、熱処理工程６では、ヒータ１１によりガラス基板１
を３０分〜６０分、１５０℃〜３００℃で加熱し、ガラ
ス基板１上に付着している水分を蒸発させる。
をスプレーガン９に供給し、コンベア１０上を矢印Ａ方
向に移動しているガラス基板１にスプレーガン９から懸
濁液を撒布し、これによりＴｉＯ2微粒子２は懸濁液中
のバインダを介してガラス基板１に固着される。次い
で、熱処理工程６では、ヒータ１１によりガラス基板１
を３０分〜６０分、１５０℃〜３００℃で加熱し、ガラ
ス基板１上に付着している水分を蒸発させる。
【００３２】次いで、スパッタリング工程７に進み、ス
パッタリング装置１２を使用して所定のスパッタリング
処理を行う。
パッタリング装置１２を使用して所定のスパッタリング
処理を行う。
【００３３】スパッタリング装置１２は、具体的には、
スパッタリングガスが導入されるガス導入口１３と、装
置内部を減圧状態にするための真空排気口１４と、被成
膜物としてのガラス基板１の供給・排出を行う開閉バル
ブ１５ａ、１５ｂとを有している。そして、装置上部に
は直流電源により負電圧が印加される２個のカソード
（第１及び第２のカソード１６ａ、１６ｂ）が配設さ
れ、また、装置下部には加熱ヒータ１７が配設されてい
る。
スパッタリングガスが導入されるガス導入口１３と、装
置内部を減圧状態にするための真空排気口１４と、被成
膜物としてのガラス基板１の供給・排出を行う開閉バル
ブ１５ａ、１５ｂとを有している。そして、装置上部に
は直流電源により負電圧が印加される２個のカソード
（第１及び第２のカソード１６ａ、１６ｂ）が配設さ
れ、また、装置下部には加熱ヒータ１７が配設されてい
る。
【００３４】そして、該スパッタリング装置１２では、
第１及び第２のカソード１６ａ、１６ｂの下面にターゲ
ット物質１８としてケイ素が貼り付けられ、所定のスパ
ッタリング条件下、スパッタリングガスをガス導入口１
３から供給し、加速されたスパッタリングガスイオンを
ターゲット物質１８に照射して弾き飛ばす。一方、ガラ
ス基板１は、加熱ヒータ１７により１００℃〜３５０℃
に加熱されてコンベヤ１０上を矢印Ｂ方向に搬送され、
前記第１及び第２のカソード１６ａ、１６ｂから弾き飛
ばされたスパッタリングガスイオンがガラス基板１の表
面に堆積し、ガラス基板１上にはＳｉＯ2膜３が形成さ
れる。尚、本スパッタリング工程７では２個のカソード
１６ａ、１６ｂを使用してスパッタリング処理を行って
いるが、成膜されるＳｉＯ2膜の膜厚に応じて適宜１個
又は２個のカソードを使用してスパッタリング処理は行
われる。
第１及び第２のカソード１６ａ、１６ｂの下面にターゲ
ット物質１８としてケイ素が貼り付けられ、所定のスパ
ッタリング条件下、スパッタリングガスをガス導入口１
３から供給し、加速されたスパッタリングガスイオンを
ターゲット物質１８に照射して弾き飛ばす。一方、ガラ
ス基板１は、加熱ヒータ１７により１００℃〜３５０℃
に加熱されてコンベヤ１０上を矢印Ｂ方向に搬送され、
前記第１及び第２のカソード１６ａ、１６ｂから弾き飛
ばされたスパッタリングガスイオンがガラス基板１の表
面に堆積し、ガラス基板１上にはＳｉＯ2膜３が形成さ
れる。尚、本スパッタリング工程７では２個のカソード
１６ａ、１６ｂを使用してスパッタリング処理を行って
いるが、成膜されるＳｉＯ2膜の膜厚に応じて適宜１個
又は２個のカソードを使用してスパッタリング処理は行
われる。
【００３５】そして、上記スパッタリング処理が終了し
た後、被膜の密着性向上等を図るために、必要に応じて
２００℃〜５００℃の温度条件下、焼成処理を施しても
よい。
た後、被膜の密着性向上等を図るために、必要に応じて
２００℃〜５００℃の温度条件下、焼成処理を施しても
よい。
【００３６】このように本実施の形態では、スプレーガ
ン９で懸濁液をガラス基板１上に撒布した後、熱処理を
施し、その後、第１及び第２のカソード１６ａ、１６ｂ
を使用してスパッタリング処理を行っているので、ガラ
ス基板１上にはＴｉＯ2微粒子２を覆う形で所望の膜厚
を有するＳｉＯ2膜３が容易に形成される。しかも、ガ
ラス基板１を懸濁液に浸漬することなく、懸濁液をガラ
ス基板１上に撒布してＴｉＯ2微粒子２を該ガラス基板
１上に固着させているので、ガラス基板１が大判の場合
であっても、容易に大量生産することが可能となる。
ン９で懸濁液をガラス基板１上に撒布した後、熱処理を
施し、その後、第１及び第２のカソード１６ａ、１６ｂ
を使用してスパッタリング処理を行っているので、ガラ
ス基板１上にはＴｉＯ2微粒子２を覆う形で所望の膜厚
を有するＳｉＯ2膜３が容易に形成される。しかも、ガ
ラス基板１を懸濁液に浸漬することなく、懸濁液をガラ
ス基板１上に撒布してＴｉＯ2微粒子２を該ガラス基板
１上に固着させているので、ガラス基板１が大判の場合
であっても、容易に大量生産することが可能となる。
【００３７】尚、本発明は上記実施の形態に限定される
ものではない。
ものではない。
【００３８】上記実施の形態では、光活性微粒子として
アナターゼ形の結晶構造を有するＴｉＯ2微粒子２を使
用し、斯かるアナターゼ形のＴｉＯ2微粒子２を懸濁さ
せた市販の懸濁液としてテイカ社製のＴＫＣ−３０４を
例示したが、光活性微粒子をガラス基板上に撒布・固着
させることができるのであれば、他の市販の懸濁液を使
用することができるのはいうまでもない。
アナターゼ形の結晶構造を有するＴｉＯ2微粒子２を使
用し、斯かるアナターゼ形のＴｉＯ2微粒子２を懸濁さ
せた市販の懸濁液としてテイカ社製のＴＫＣ−３０４を
例示したが、光活性微粒子をガラス基板上に撒布・固着
させることができるのであれば、他の市販の懸濁液を使
用することができるのはいうまでもない。
【００３９】また、上記実施の形態では、被膜をＳｉＯ
2膜３で形成した場合を示しているが、被膜をＳｉＯ2−
Ａｌ2Ｏ3、或いはＳｉＯ2−ＴｉＯ2の混成膜で形成する
ようにするのも好ましい。
2膜３で形成した場合を示しているが、被膜をＳｉＯ2−
Ａｌ2Ｏ3、或いはＳｉＯ2−ＴｉＯ2の混成膜で形成する
ようにするのも好ましい。
【００４０】すなわち、Ａｌ2Ｏ3、或いはＴｉＯ2はＳ
ｉＯ2に比べて屈折率が高いため、前記ガラス基板１の
表面から離間するに従い前記ＳｉＯ2の含有量が傾斜的
に増加するような組成勾配を有するように被膜を形成す
ることによりガラス基板１側から膜表面にかけて徐々に
屈折率が小さくなり、これによりガラス基板１からの反
射率を低下させることができる。しかも、ＳｉＯ2は親
水性に優れているため、ＳｉＯ2を膜表面側に形成する
ことにより、水洗等により汚染物質の除去を容易に行う
ことができる。
ｉＯ2に比べて屈折率が高いため、前記ガラス基板１の
表面から離間するに従い前記ＳｉＯ2の含有量が傾斜的
に増加するような組成勾配を有するように被膜を形成す
ることによりガラス基板１側から膜表面にかけて徐々に
屈折率が小さくなり、これによりガラス基板１からの反
射率を低下させることができる。しかも、ＳｉＯ2は親
水性に優れているため、ＳｉＯ2を膜表面側に形成する
ことにより、水洗等により汚染物質の除去を容易に行う
ことができる。
【００４１】この場合、例えば、ＳｉＯ2−ＴｉＯ2の混
成膜をガラス基板１に形成するときは、図３の第１のカ
ソード１６ａにはターゲット物質としてチタンをセット
し、第２のカソード１６ｂにはターゲット物質としてケ
イ素をセットし、ＴｉＯ2微粒子２が固着されたガラス
基板１を矢印Ｂ方向に移動させながら所定のスパッタリ
ング条件でスパッタリング処理を施すことにより、膜表
面近傍でのＳｉＯ2成分が増加するような組成勾配を有
する混成膜を形成することができる。
成膜をガラス基板１に形成するときは、図３の第１のカ
ソード１６ａにはターゲット物質としてチタンをセット
し、第２のカソード１６ｂにはターゲット物質としてケ
イ素をセットし、ＴｉＯ2微粒子２が固着されたガラス
基板１を矢印Ｂ方向に移動させながら所定のスパッタリ
ング条件でスパッタリング処理を施すことにより、膜表
面近傍でのＳｉＯ2成分が増加するような組成勾配を有
する混成膜を形成することができる。
【００４２】特に、この場合、第１のカソード１６ａと
第２のカソード１６ｂの間隔を狭くすることにより、所
望の組成勾配を有する光触媒膜を円滑に得ることができ
る。
第２のカソード１６ｂの間隔を狭くすることにより、所
望の組成勾配を有する光触媒膜を円滑に得ることができ
る。
【００４３】また、上記懸濁液にＦｅ（鉄）、Ａｌ（ア
ルミニウム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｖ（バナジウム）の
中から選択された少なくとも１種以上の元素を微量（例
えば、０．１ｗｔ％）添加するようにするのも好まし
い。具体的には、例えばＦｅを含有させる場合は、Ｆｅ
の鉱石を硫酸で溶解させたもの、或いはＦｅのアセチル
アセトナト錯体やＦｅのエチレンジアミン四錯酸塩（Ｆ
ｅ−ＥＤＴＡ）等のキレート化合物を懸濁液に混入した
ものを使用する。そして、このように膜中に微量のＦ
ｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｖ等を添加させることにより、被膜の
光透過スペクトルにおける光吸収端が５ｎｍ以上長波長
側にシフトさせることができ、したがって、撒布されて
いるＴｉＯ2微粒子２の光吸収特性と相俟って、より広
い波長範囲での光吸収が可能となり、より大きな触媒活
性を得ることが可能となる。
ルミニウム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｖ（バナジウム）の
中から選択された少なくとも１種以上の元素を微量（例
えば、０．１ｗｔ％）添加するようにするのも好まし
い。具体的には、例えばＦｅを含有させる場合は、Ｆｅ
の鉱石を硫酸で溶解させたもの、或いはＦｅのアセチル
アセトナト錯体やＦｅのエチレンジアミン四錯酸塩（Ｆ
ｅ−ＥＤＴＡ）等のキレート化合物を懸濁液に混入した
ものを使用する。そして、このように膜中に微量のＦ
ｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｖ等を添加させることにより、被膜の
光透過スペクトルにおける光吸収端が５ｎｍ以上長波長
側にシフトさせることができ、したがって、撒布されて
いるＴｉＯ2微粒子２の光吸収特性と相俟って、より広
い波長範囲での光吸収が可能となり、より大きな触媒活
性を得ることが可能となる。
【００４４】
【実施例】次に、本発明の実施例を具体的に説明する。
【００４５】本発明者等は、本発明範囲内となる試験片
（実施例１〜実施例３）と本発明範囲外となる試験片
（比較例１〜比較例２）とを夫々作製し、各々膜特性を
評価した。
（実施例１〜実施例３）と本発明範囲外となる試験片
（比較例１〜比較例２）とを夫々作製し、各々膜特性を
評価した。
【００４６】〔実施例１〕まず、下記の液特性を有する
テイカ社製のＴＫＣ−３０４を１／１０に希釈し、アナ
ターゼ形結晶構造を有するＴｉＯ2微粒子が懸濁したス
プレー液（懸濁液）を用意した。
テイカ社製のＴＫＣ−３０４を１／１０に希釈し、アナ
ターゼ形結晶構造を有するＴｉＯ2微粒子が懸濁したス
プレー液（懸濁液）を用意した。
【００４７】〔ＴＫＣ−３０４の液特性〕 溶剤：水 水素イオン濃度：中性（ｐＨ＝７） ＴｉＯ2濃度：５ｗｔ％ Ｔｉ形状：アナターゼ結晶 バインダ：リン系 そして、該懸濁液をスプレーガン９を使用してガラス基
板１上に撒布し、次いで、該ガラス基板１を３０分間、
２００℃の温度で加熱してガラス基板１上の水分を蒸発
させ、ＴｉＯ2微粒子２をガラス基板１上に固着させ
た。次いで、ターゲット物質１８として微量のＢ（ホウ
素）を含有したＳｉを使用すると共に、スパッタリング
ガスとしてＡｒとＯ2との混合ガス（Ａｒ／Ｏ2＝４０／
６０）を使用し、ガス圧を０．４Ｐａに調製してスパッ
タリング処理を施した。そして、これによりＴｉＯ2微
粒子２を覆うようにしてガラス基板１上にＳｉＯ2膜３
を形成し、実施例１の試験片を作製した。
板１上に撒布し、次いで、該ガラス基板１を３０分間、
２００℃の温度で加熱してガラス基板１上の水分を蒸発
させ、ＴｉＯ2微粒子２をガラス基板１上に固着させ
た。次いで、ターゲット物質１８として微量のＢ（ホウ
素）を含有したＳｉを使用すると共に、スパッタリング
ガスとしてＡｒとＯ2との混合ガス（Ａｒ／Ｏ2＝４０／
６０）を使用し、ガス圧を０．４Ｐａに調製してスパッ
タリング処理を施した。そして、これによりＴｉＯ2微
粒子２を覆うようにしてガラス基板１上にＳｉＯ2膜３
を形成し、実施例１の試験片を作製した。
【００４８】尚、スパッタリングガスのガス供給量は、
ＳｉＯ2に対するＴｉＯ2の比、すなわちＴｉＯ2／Ｓｉ
Ｏ2が、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2＝４０／６０となるように調
製し、成膜されたＳｉＯ2膜３の膜厚は３００ｎｍであ
った。
ＳｉＯ2に対するＴｉＯ2の比、すなわちＴｉＯ2／Ｓｉ
Ｏ2が、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2＝４０／６０となるように調
製し、成膜されたＳｉＯ2膜３の膜厚は３００ｎｍであ
った。
【００４９】〔実施例２〕上記ＴＫＣ−３０４にＦｅ−
ＥＤＴＡを０．５ｗｔ％含有させた溶液を１／１０に希
釈してスプレー液を作製し、該スプレー液をスプレーガ
ン９でガラス基板１上に撒布し、次いで、該ガラス基板
１を３０分間、２００℃の温度で加熱してガラス基板１
に付着している水分を蒸発させ、ＴｉＯ2微粒子２をガ
ラス基板１上に固着させた。次いで、ターゲット物質１
８としてＳｉ−Ａｌ合金（Ｓｉ：９０ｗｔ％、Ａｌ：１
０ｗｔ％）を使用し、実施例１と略同様の方法でスパッ
タリング処理を施した。そして、このようにしてガラス
基板１上にＳｉＯ2膜３を成膜した後、温度５００℃で
焼成処理を施し、実施例２の試験片を作製した。
ＥＤＴＡを０．５ｗｔ％含有させた溶液を１／１０に希
釈してスプレー液を作製し、該スプレー液をスプレーガ
ン９でガラス基板１上に撒布し、次いで、該ガラス基板
１を３０分間、２００℃の温度で加熱してガラス基板１
に付着している水分を蒸発させ、ＴｉＯ2微粒子２をガ
ラス基板１上に固着させた。次いで、ターゲット物質１
８としてＳｉ−Ａｌ合金（Ｓｉ：９０ｗｔ％、Ａｌ：１
０ｗｔ％）を使用し、実施例１と略同様の方法でスパッ
タリング処理を施した。そして、このようにしてガラス
基板１上にＳｉＯ2膜３を成膜した後、温度５００℃で
焼成処理を施し、実施例２の試験片を作製した。
【００５０】尚、本実施例２では、スパッタリングガス
のガス供給量は、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2が、ＴｉＯ2／Ｓｉ
Ｏ2＝３０／７０となるように調製し、成膜されたＳｉ
Ｏ2膜３の膜厚は５００ｎｍであった。
のガス供給量は、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2が、ＴｉＯ2／Ｓｉ
Ｏ2＝３０／７０となるように調製し、成膜されたＳｉ
Ｏ2膜３の膜厚は５００ｎｍであった。
【００５１】〔実施例３〕上記ＴＫＣ−３０４にＡｌ−
ＥＤＴＡを０．１ｗｔ％含有させた溶液を１／１０に希
釈してスプレー液を作製し、該スプレー液をスプレーガ
ン９でガラス基板１上に撒布し、次いで実施例１と同様
の熱処理及びスパッタリング処理を施してガラス基板１
上にＳｉＯ2膜３を形成し、その後、温度５００℃で焼
成処理を施し、実施例３の試験片を作製した。
ＥＤＴＡを０．１ｗｔ％含有させた溶液を１／１０に希
釈してスプレー液を作製し、該スプレー液をスプレーガ
ン９でガラス基板１上に撒布し、次いで実施例１と同様
の熱処理及びスパッタリング処理を施してガラス基板１
上にＳｉＯ2膜３を形成し、その後、温度５００℃で焼
成処理を施し、実施例３の試験片を作製した。
【００５２】尚、本実施例３では、スパッタリングガス
のガス供給量は、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2が、ＴｉＯ2／Ｓｉ
Ｏ2＝５０／５０となるように調製し、成膜されたＳｉ
Ｏ2膜３の膜厚は４００ｎｍであった。
のガス供給量は、ＴｉＯ2／ＳｉＯ2が、ＴｉＯ2／Ｓｉ
Ｏ2＝５０／５０となるように調製し、成膜されたＳｉ
Ｏ2膜３の膜厚は４００ｎｍであった。
【００５３】〔比較例１〕次に、本発明者等は、ＳｉＯ
2膜３を形成することなくＴｉＯ2微粒子２をガラス基板
１上に露出させた試験片を作製した。
2膜３を形成することなくＴｉＯ2微粒子２をガラス基板
１上に露出させた試験片を作製した。
【００５４】すなわち、ＴＫＣ−３０４を１／１０に希
釈した溶液をスプレー液とし、該スプレー液をスプレー
ガン９でガラス基板１上に撒布し、次いで、該ガラス基
板１を６０分間、２００℃の温度で加熱してガラス基板
１に付着している水分を完全に蒸発させ、比較例１の試
験片を作製した。
釈した溶液をスプレー液とし、該スプレー液をスプレー
ガン９でガラス基板１上に撒布し、次いで、該ガラス基
板１を６０分間、２００℃の温度で加熱してガラス基板
１に付着している水分を完全に蒸発させ、比較例１の試
験片を作製した。
【００５５】〔比較例２〕次に、本発明者等は、ＴｉＯ
2膜をガラス基板上にスパッタリング処理積層した試験
片を作製した。
2膜をガラス基板上にスパッタリング処理積層した試験
片を作製した。
【００５６】すなわち、ターゲット物質１８としてＴｉ
金属を使用し、スパッタリングガスとしてＡｒとＯ2の
混合ガス（Ａｒ／Ｏ2＝５０／５０）を使用し、ガス圧
を０．４Ｐａに調製してスパッタリング処理を施し、こ
れによりガラス基板１上にＴｉＯ2膜を積層し、比較例
２の試験片を作製した。
金属を使用し、スパッタリングガスとしてＡｒとＯ2の
混合ガス（Ａｒ／Ｏ2＝５０／５０）を使用し、ガス圧
を０．４Ｐａに調製してスパッタリング処理を施し、こ
れによりガラス基板１上にＴｉＯ2膜を積層し、比較例
２の試験片を作製した。
【００５７】次に、上記各試験片について膜特性（自己
防汚性、機械的強度、親水性）を評価した。
防汚性、機械的強度、親水性）を評価した。
【００５８】尚、自己防汚性は、各試験片を屋外に１ヶ
月放置し、その汚れ状況をガラス基板単体と比較して評
価した。また、機械的強度は、ＪＩＳ Ｒ３２２１．
６．４．に準拠したテ−バ摩耗試験（荷重１００ｇ／ｃ
ｍ2）を行い、表面の損傷の有無等で評価した。さら
に、親水性は、上記各試験片に水を撒布し、水の弾き具
合を目視で確認することにより評価した。
月放置し、その汚れ状況をガラス基板単体と比較して評
価した。また、機械的強度は、ＪＩＳ Ｒ３２２１．
６．４．に準拠したテ−バ摩耗試験（荷重１００ｇ／ｃ
ｍ2）を行い、表面の損傷の有無等で評価した。さら
に、親水性は、上記各試験片に水を撒布し、水の弾き具
合を目視で確認することにより評価した。
【００５９】表１は各試験片についての膜特性を示して
いる。
いる。
【００６０】
【表１】
【００６１】表１中、自己防汚性については、◎印はガ
ラス基板単体と比較して明確な効果があった場合を示
し、〇印はガラス基板単体と比較して多少の効果があっ
た場合を示し、また×印はガラス基板単体と比較して効
果が見られなかった場合を示している。機械的強度につ
いては、◎印は良、〇印は可、×印は不可を示してい
る。親水性については、〇印は水が膜面上に６０％以上
の面積を占めて広がった場合を示し、×印は水が膜面上
に３０％未満の面積しか占めなかっ場合を示している。
尚、本実施例及び比較例では水が膜面上で３０〜６０％
の面積を占めたものは得られなかった。
ラス基板単体と比較して明確な効果があった場合を示
し、〇印はガラス基板単体と比較して多少の効果があっ
た場合を示し、また×印はガラス基板単体と比較して効
果が見られなかった場合を示している。機械的強度につ
いては、◎印は良、〇印は可、×印は不可を示してい
る。親水性については、〇印は水が膜面上に６０％以上
の面積を占めて広がった場合を示し、×印は水が膜面上
に３０％未満の面積しか占めなかっ場合を示している。
尚、本実施例及び比較例では水が膜面上で３０〜６０％
の面積を占めたものは得られなかった。
【００６２】この表１から明らかなように、比較例１は
ＴｉＯ2微粒子２がガラス基板１上に固着されているた
め、光照射によりＴｉＯ2微粒子が触媒反応を起こして
表面の汚染物質が分解され、したがってＴｉＯ2微粒子
２が固着されていないガラス基板単体に比べると、自己
防汚性は良好であるが、ＴｉＯ2微粒子がＳｉＯ2膜で被
覆されていないためＴｉＯ2微粒子のガラス基板からの
剥離が生じて機械的強度に劣り、また、ＴｉＯ2はＳｉ
Ｏ2のように水に対する親和性を有さないため親水性に
も劣ることが確認された。
ＴｉＯ2微粒子２がガラス基板１上に固着されているた
め、光照射によりＴｉＯ2微粒子が触媒反応を起こして
表面の汚染物質が分解され、したがってＴｉＯ2微粒子
２が固着されていないガラス基板単体に比べると、自己
防汚性は良好であるが、ＴｉＯ2微粒子がＳｉＯ2膜で被
覆されていないためＴｉＯ2微粒子のガラス基板からの
剥離が生じて機械的強度に劣り、また、ＴｉＯ2はＳｉ
Ｏ2のように水に対する親和性を有さないため親水性に
も劣ることが確認された。
【００６３】比較例２はガラス基板上にＴｉＯ2膜を形
成したに過ぎないため、機械的強度には優れているが、
自己防汚性についてはガラス基板単体の場合と同程度の
汚れが残存し、また親水性に関しても劣ることが確認さ
れた。
成したに過ぎないため、機械的強度には優れているが、
自己防汚性についてはガラス基板単体の場合と同程度の
汚れが残存し、また親水性に関しても劣ることが確認さ
れた。
【００６４】これに対して実施例１〜実施例３はガラス
基板１上にＴｉＯ2微粒子２が固着され、さらに該Ｔｉ
Ｏ2微粒子２を覆うようにガラス基板１上にＳｉＯ2膜３
が形成されているので、光照射されるとＴｉＯ2微粒子
２による光触媒反応が促進されて自己防汚性が改善さ
れ、しかもＴｉＯ2微粒子２がＳｉＯ2膜３により被覆さ
れることにより機械的強度が大幅に改善されて表面に傷
が付いたり、或いは光触媒膜４（ＴｉＯ2微粒子２及び
ＳｉＯ2膜３）がガラス基板１から剥離するのが回避さ
れ、さらに被膜を形成するＳｉＯ2膜３は水に対して親
和性を有しているので親水性についても良好な結果を得
ることができる。
基板１上にＴｉＯ2微粒子２が固着され、さらに該Ｔｉ
Ｏ2微粒子２を覆うようにガラス基板１上にＳｉＯ2膜３
が形成されているので、光照射されるとＴｉＯ2微粒子
２による光触媒反応が促進されて自己防汚性が改善さ
れ、しかもＴｉＯ2微粒子２がＳｉＯ2膜３により被覆さ
れることにより機械的強度が大幅に改善されて表面に傷
が付いたり、或いは光触媒膜４（ＴｉＯ2微粒子２及び
ＳｉＯ2膜３）がガラス基板１から剥離するのが回避さ
れ、さらに被膜を形成するＳｉＯ2膜３は水に対して親
和性を有しているので親水性についても良好な結果を得
ることができる。
【００６５】
【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る光触媒
膜付き基板は、光触媒作用を呈する光活性微粒子が透明
基板上に撒布されると共に、前記透明基板上には前記光
活性微粒子を覆うように金属酸化物（ケイ素酸化物）か
らなる被膜が形成されているので、光活性微粒子の有す
る光触媒作用を損なうことなく、したがって、良好な自
己防汚性を有し、しかも耐久性にも優れた光触媒膜付き
基板を得ることができる。
膜付き基板は、光触媒作用を呈する光活性微粒子が透明
基板上に撒布されると共に、前記透明基板上には前記光
活性微粒子を覆うように金属酸化物（ケイ素酸化物）か
らなる被膜が形成されているので、光活性微粒子の有す
る光触媒作用を損なうことなく、したがって、良好な自
己防汚性を有し、しかも耐久性にも優れた光触媒膜付き
基板を得ることができる。
【００６６】また、本発明に係る光触媒膜付き基板の製
造方法は、光触媒作用を呈する光活性微粒子を透明基板
上に撒布した後、熱処理を施し、その後、所定の金属材
料（ケイ素）をターゲット物質としてスパッタリング処
理を施し、前記光活性微粒子が撒布された透明基板上に
金属酸化物からなる被膜を形成し、また、前記光活性微
粒子を所定の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製し、該懸
濁液を前記透明基板上に撒布した後、前記熱処理を施し
て前記透明基板上の懸濁液を蒸発させ、前記光活性微粒
子を前記透明基板上に固着させているので、従来のよう
に透明基板を懸濁液に浸漬することなく透明基板上に光
活性微粒子を撒布することにより、種々のガラス物品に
対応可能な光触媒膜付き基板を容易に大量生産すること
ができる。
造方法は、光触媒作用を呈する光活性微粒子を透明基板
上に撒布した後、熱処理を施し、その後、所定の金属材
料（ケイ素）をターゲット物質としてスパッタリング処
理を施し、前記光活性微粒子が撒布された透明基板上に
金属酸化物からなる被膜を形成し、また、前記光活性微
粒子を所定の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製し、該懸
濁液を前記透明基板上に撒布した後、前記熱処理を施し
て前記透明基板上の懸濁液を蒸発させ、前記光活性微粒
子を前記透明基板上に固着させているので、従来のよう
に透明基板を懸濁液に浸漬することなく透明基板上に光
活性微粒子を撒布することにより、種々のガラス物品に
対応可能な光触媒膜付き基板を容易に大量生産すること
ができる。
【００６７】さらに、本発明では、光活性微粒子を屈折
率の小さい金属酸化物からなる被膜中に埋設させること
ができるので、反射色が目立たないようにすることがで
きる。
率の小さい金属酸化物からなる被膜中に埋設させること
ができるので、反射色が目立たないようにすることがで
きる。
【図１】本発明に係る光触媒膜付き基板を模式的に示し
た断面図である。
た断面図である。
【図２】本発明に係る光触媒膜付き基板の製造方法を示
す製造工程図である。
す製造工程図である。
【図３】上記光触媒膜付き基板の製造方法の詳細を示す
図である。
図である。
１ ガラス基板（透明基板） ２ ＴｉＯ2微粒子（光活性微粒子） ３ ＳｉＯ2膜（被膜）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河原 哲郎 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 新井 大介 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 4G059 AA01 AA07 AB01 AB09 AB11 AC22 EA04 EA05 EA18 EB04 EB06 GA01 GA05 GA12 4G069 AA03 AA08 AA11 BA02A BA02B BA04A BA04B BA48A BB04A BB04B BD05A BD05B CA01 DA06 EA07 EC22Y FB24 FB58 4K029 AA09 BA46 BD00 CA06
Claims (5)
- 【請求項１】 光触媒作用を呈する光活性微粒子が透明
基板上に撒布されると共に、前記光活性微粒子を覆うよ
うに金属酸化物からなる被膜が前記透明基板上に形成さ
れていることを特徴とする光触媒膜付き基板。 - 【請求項２】 前記金属酸化物は、ケイ素酸化物である
ことを特徴とする請求項１記載の光触媒膜付き基板。 - 【請求項３】 光触媒作用を呈する光活性微粒子を透明
基板上に撒布した後、熱処理を施し、次いで、所定の金
属材料をターゲット物質としてスパッタリング処理を施
し、前記光活性微粒子が撒布された透明基板上に金属酸
化物からなる被膜を形成することを特徴とする光触媒膜
付き基板の製造方法。 - 【請求項４】 前記所定の金属材料はケイ素であること
を特徴とする請求項３記載の光触媒膜付き基板の製造方
法。 - 【請求項５】 前記光活性微粒子を所定の溶剤中に懸濁
させて懸濁液を作製し、該懸濁液を前記透明基板上に撒
布した後、前記熱処理を施して前記透明基板上の懸濁液
を蒸発させ、前記光活性微粒子を前記透明基板上に固着
させることを特徴とする請求項３又は請求項４記載の光
触媒膜付き基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000233407A JP2002047032A (ja) | 2000-08-01 | 2000-08-01 | 光触媒膜付き基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000233407A JP2002047032A (ja) | 2000-08-01 | 2000-08-01 | 光触媒膜付き基板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002047032A true JP2002047032A (ja) | 2002-02-12 |
Family
ID=18725930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000233407A Pending JP2002047032A (ja) | 2000-08-01 | 2000-08-01 | 光触媒膜付き基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002047032A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2861386A1 (fr) | 2003-10-23 | 2005-04-29 | Saint Gobain | Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique revetue d'une couche mince protectrice. |
| JP2009512573A (ja) * | 2005-10-21 | 2009-03-26 | サン−ゴバン グラス フランス | 防汚性材料及びその製造方法 |
| US20110045967A1 (en) * | 2008-03-03 | 2011-02-24 | Rhodia Operations | Catalyst compositions based on nanoparticles of a zirconium oxide, a titanium oxide or a mixed zirconium/titanium oxide deposited onto a silica support therefor |
| KR101364626B1 (ko) | 2012-12-10 | 2014-02-20 | 아주대학교산학협력단 | 판상 입자 코팅 기판 및 이의 제조 방법 |
| WO2014103768A1 (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | 積層体 |
| CN106513055A (zh) * | 2016-09-06 | 2017-03-22 | 南昌大学 | 一种PDMS‑TiO2‑SiO2薄膜的制备方法及其在固定床光降解反应器中的应用 |
-
2000
- 2000-08-01 JP JP2000233407A patent/JP2002047032A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2861386A1 (fr) | 2003-10-23 | 2005-04-29 | Saint Gobain | Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique revetue d'une couche mince protectrice. |
| JP2009512573A (ja) * | 2005-10-21 | 2009-03-26 | サン−ゴバン グラス フランス | 防汚性材料及びその製造方法 |
| US20110045967A1 (en) * | 2008-03-03 | 2011-02-24 | Rhodia Operations | Catalyst compositions based on nanoparticles of a zirconium oxide, a titanium oxide or a mixed zirconium/titanium oxide deposited onto a silica support therefor |
| US8563462B2 (en) * | 2008-03-03 | 2013-10-22 | Rhodia Operations | Catalyst compositions based on nanoparticles of a zirconium oxide, a titanium oxide or a mixed zirconium/titanium oxide deposited onto a silica support therefor |
| KR101364626B1 (ko) | 2012-12-10 | 2014-02-20 | 아주대학교산학협력단 | 판상 입자 코팅 기판 및 이의 제조 방법 |
| WO2014092423A1 (ko) * | 2012-12-10 | 2014-06-19 | 아주대학교 산학협력단 | 판상 입자 코팅 기판 및 이의 제조 방법 |
| WO2014103768A1 (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | 積層体 |
| CN106513055A (zh) * | 2016-09-06 | 2017-03-22 | 南昌大学 | 一种PDMS‑TiO2‑SiO2薄膜的制备方法及其在固定床光降解反应器中的应用 |
| CN106513055B (zh) * | 2016-09-06 | 2019-01-29 | 南昌大学 | 一种PDMS-TiO2-SiO2薄膜的制备方法及其在固定床光降解反应器中的应用 |
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