JP2002012442A - 低融点ガラス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】感光性ペーストに好適な低融点ガラスの提供。 【解決手段】軟化点Ｔ_Sが５８０℃以下、５０〜２５０
℃における平均線膨張係数が１００×１０^-7／℃以下、
屈折率が１．５７以下、かつ、８０℃の水に２４時間浸
漬したときの質量変化率が０．５％以下である低融点ガ
ラス。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂粉末と
混合して使用されるガラス粉末に好適な低融点ガラスに
関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大型の薄型平板型カラー表示装置
としてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）が注目を
集めている。ＰＤＰのパネル構造の特徴のひとつに画素
を区切る隔壁がある。隔壁の幅はたとえば８０μｍ、高
さはたとえば１５０μｍであり、この隔壁は画面全域に
等間隔で形成される。

【０００３】この隔壁を形成する方法として、感光性樹
脂粉末、ガラス粉末等からなる感光性ペーストを用いる
フォトリソグラフィ法が知られている。すなわち、感光
性ペーストをガラス基板に塗布し、露光後現像し、焼成
して隔壁が形成される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような感光性ペー
ストに使用されるガラス粉末には、近年、次のような条
件を満足することが求められている。 （１）軟化点Ｔ_Sが５８０℃以下であること。５８０℃
超では焼成温度が高くなりすぎ、ＰＤＰ隔壁形成等に用
いることが困難になるからである。 （２）５０〜２５０℃における平均線膨張係数αが１０
０×１０^-7／℃以下であること。αが１００×１０^-7／
℃超では、たとえば、ＰＤＰ隔壁形成等においてガラス
基板との膨張係数マッチングが困難になるからである。

【０００５】（３）屈折率ｎが１．５７以下であるこ
と。感光性ペーストに使用される感光性樹脂の屈折率
ｎ’は典型的には１．５０であり、ｎが１．５７超では
ｎ’との差が大きくなりすぎ、その結果感光性ペースト
塗布層内における光の散乱が大きくなって加工精度が低
下するからである。

【０００６】（４）平均粒径Ｄが５μｍ以下のガラス粉
末が容易に得られること。５μｍ超ではフォトリソグラ
フィ法による加工精度が低下しすぎるからである。好ま
しくは４μｍ以下、より好ましくは３μｍ以下である。 （５）ガラス粉末を焼成して得られる焼成体の表面に気
泡、孔等（以下気泡等という。）が存在しない、または
存在してもその数が少ないこと。気泡等が焼成体表面に
存在するとフォトリソグラフィ法による加工精度が低下
しすぎるからである。

【０００７】従来知られているガラス粉末のなかには、
上記５条件のすべてを満足するものはなかった。本発明
は、以上の課題を解決する低融点ガラスの提供を目的と
する。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、軟化点Ｔ_Sが
５８０℃以下、５０〜２５０℃における平均線膨張係数
が１００×１０^-7／℃以下、屈折率が１．５７以下、か
つ、８０℃の水に２４時間浸漬したときの質量変化率が
０．５％以下である低融点ガラスである。本発明者は、
前記条件（４）、（５）を満足させるためにはガラス粉
末の耐水性を向上させればよいことを見出し、本発明に
至った。すなわち、Ｄが５μｍ以下のガラス粉末を容易
に得られか否かは該ガラスの耐水性に影響されることを
見出した。耐水性の低いガラスを粉砕してＤが５μｍ以
下のガラス粉末にする場合、ガラス粉末表面に吸着する
水分が多いためにガラス粉末の凝集が起りやすくなり、
粉砕工程の収率が低下すると考えられる。

【０００９】また、耐水性の低いガラス粉末を焼成する
と、ガラス粉末表面に吸着している水分は焼成時の昇温
途中、たとえば３００〜４００℃で気体となる。この温
度域では、軟化点の低いガラス粉末の場合焼結が始まっ
ており前記気体は焼成体から逸出できなくなる、その結
果気泡等が焼成体表面に多くなると考えられる。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の低融点ガラス（以下単に
本発明のガラスという。）は通常、粉末化されて使用さ
れる。本発明のガラスを粉末化して得られるガラス粉末
（以下本発明のガラス粉末という。）は感光性ペースト
に好適である。ここでいう感光性ペーストは感光性樹
脂、ガラス粉末および有機溶剤を必須成分として含有
し、必要に応じて、バインダ、光重合開始剤、増感剤等
を含有してもよい。本発明のガラス粉末を含有する感光
性ペーストは、ＰＤＰ、蛍光表示管（ＶＦＤ）等の隔壁
の形成に好適である。

【００１１】本発明のガラスの軟化点Ｔ_Sは５８０℃以
下である。５８０℃超では、焼成温度が高くなりすぎ、
ＰＤＰ隔壁形成等に用いることが困難になる。好ましく
は５７０℃以下、より好ましくは５６０℃以下、特に好
ましくは５５０℃以下である。また、Ｔ_Sは４５０℃以
上であることが好ましい。

【００１２】本発明のガラスのガラス転移点Ｔ_Gは４６
０℃以下であることが好ましい。４６０℃超では、ガラ
ス粉末を焼成して得られる焼成体が焼結不足となるおそ
れがある。より好ましくは４５０℃以下、特に好ましく
は４３０℃以下、最も好ましくは４２０℃以下である。
また、Ｔ_Gは３００℃以上であることが好ましい。

【００１３】本発明のガラスの結晶化温度をＴ_Cとし
て、（Ｔ_C−Ｔ_S）が２０℃以上であることが好ましい。
（Ｔ_C−Ｔ_S）が２０℃未満では、焼成時における流動性
が結晶析出のために低下し、焼成体の焼結性が低下する
おそれがある。より好ましくは５０℃以上、特に好まし
くは９０℃以上である。なお、ここでいう結晶化温度Ｔ
_Cは、８００℃までの示差熱分析（ＤＴＡ）によって得
られる結晶化ピークに対応する温度である。前記結晶化
ピークが認められない場合は、Ｔ_C＝∞とする。

【００１４】本発明のガラスの５０〜２５０℃における
平均線膨張係数αは１００×１０^-7／℃以下である。１
００×１０^-7／℃超では、ＰＤＰ隔壁形成等においてガ
ラス基板との膨張係数マッチングが困難になる。好まし
くは９５×１０^-7／℃以下、より好ましくは９０×１０
^-7／℃以下である。また、αは６０×１０^-7／℃以上で
あることが好ましい。

【００１５】本発明のガラスの屈折率ｎは１．５７以下
である。１．５７超では、ｎと感光性樹脂の屈折率ｎ’
との差が大きくなりすぎ、露光時における感光性ペース
ト塗布層内における光の散乱が大きくなって加工精度が
低下する。好ましくは１．５６以下、より好ましくは
１．５５以下、さらに好ましくは１．５４以下、特に好
ましくは１．５３以下、最も好ましくは１．５２以下で
ある。なお、ここでいう屈折率ｎは波長５８９ｎｍの光
に対する屈折率である。

【００１６】本発明のガラスは耐水性に優れ、これを８
０℃の水に２４時間浸漬したときの質量変化率ΔＷは
０．５％以下である。０．５％超では、平均粒径Ｄが５
μｍ以下のガラス粉末を容易には得られなくなる、すな
わち粉砕工程の収率が低下する、または、焼成体の表面
に気泡等が多くなる。ΔＷは、好ましくは０．３％以
下、より好ましくは０．１％以下、特に好ましくは０．
０３％以下である。ΔＷが０．１％以下であれば、Ｄが
３μｍ以下のガラス粉末もより容易に得ることができる
ようになる。

【００１７】ΔＷは次のようにして求められる。すなわ
ち、直径５ｍｍ、長さ２０ｍｍのガラスを８０℃の水２
０ｍｌに２４時間浸漬し、浸漬前後の該ガラスの質量の
差を浸漬前の該ガラスの質量で除したものをΔＷとす
る。

【００１８】本発明のガラスはハロゲン元素を実質的に
含有しないことが好ましい。ハロゲン元素を含有する
と、ＰＤＰ、ＶＦＤ等の熱処理工程においてこのハロゲ
ン元素が気体となって焼成体から逸出し、蛍光体と反応
して該蛍光体を劣化させるおそれがある、または、ＶＦ
Ｄのフィラメントに付着してエミッション低下を起こす
おそれがある。

【００１９】本発明のガラスは白濁していないことが好
ましい。白濁していると、フォトリソグラフィ法の適用
が困難になるおそれがある。

【００２０】本発明のガラスは、下記酸化物基準のモル
％表示で、実質的に、 Ｐ₂Ｏ₅ ２５〜４５％、 ＺｎＯ １０〜４５％、 ＳｎＯ ０〜３５％、 Ｌｉ₂Ｏ ０〜９％、 Ｎａ₂Ｏ ０〜９％、 Ｋ₂Ｏ ０〜９％、 Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、 Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１５％、 ＭｇＯ ０〜２０％、 ＣａＯ ０〜２０％、 ＳｒＯ ０〜２０％、 ＢａＯ ０〜２０％、 ＳｉＯ₂ ０〜１５％、 Ｉｎ₂Ｏ₃ ０〜１０％、 からなり、ＳｎＯ＋Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが１〜４
０％かつＬｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが１０％未満である
ことが好ましい。

【００２１】この好ましい態様のガラスＡについて、モ
ル％を単に％と記して以下に説明する。Ｐ₂Ｏ₅はネット
ワークフォーマであり必須である。２５％未満ではガラ
ス化が困難になる。好ましくは２６％以上、より好まし
くは２７％以上、特に好ましくは２８％以上である。４
５％超では化学的耐久性、特に耐水性が低下する。好ま
しくは４０％以下、より好ましくは３７％以下、特に好
ましくは３４％以下である。

【００２２】ＺｎＯは、Ｔ_Sを低下させる効果、化学的
耐久性、特に耐水性を向上させる効果等を有し、必須で
ある。１０％未満では前記効果が小さい。好ましくは１
５％以上、より好ましくは２０％以上、特に好ましくは
２５％以上である。４５％超では、焼成時に結晶化しや
すくなる、またはｎが高くなる。好ましくは３５％以
下、より好ましくは３２％以下である。

【００２３】ＳｎＯ、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏは
Ｔ_Sを低下させる効果を有し、これら４成分のうち１種
以上を含有しなければならない。これら４成分の含有量
の合計ＳｎＯ＋Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが１％未満で
は、前記効果が小さい。好ましくは２％以上、より好ま
しくは３％以上、特に好ましくは７％以上である。４０
％超では耐水性が低下する。好ましくは３５％以下であ
る。

【００２４】ＳｎＯは、Ｔ_Sを低下させる効果の他に、
耐水性を向上させる効果を有し、３５％まで含有しても
よい。３５％超ではｎが高くなる。好ましくは３０％以
下、より好ましくは２５％以下である。ＳｎＯを含有す
る場合、その含有量は０．５％以上であることが好まし
い。より好ましくは３％以上、特に好ましくは７％以上
である。

【００２５】Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏはいずれ
も、Ｔ_Sを低下させる効果の他に、ｎを低下させる効果
を有し、これら３成分の含有量の合計Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ
＋Ｋ₂Ｏが１０％未満の範囲で含有してもよい。１０％
以上では、αが大きくなる、または、焼成時にアルカリ
金属含有気体が多く発生する。該気体は凝縮して、ＰＤ
Ｐの画素を形成するセルの絶縁性を低下させる、また
は、該セル内の蛍光体またはフィラメントを劣化させ
る。好ましくは９％以下、より好ましくは８％以下であ
る。

【００２６】Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯまたはＫ₂Ｏを含有する
場合、それぞれの含有量は９％以下である。好ましくは
それぞれ８％以下、より好ましくはそれぞれ７％以下で
ある。

【００２７】Ｂ₂Ｏ₃は必須ではないが、ガラスを安定化
するために、２０％まで含有してもよい。２０％超では
化学的耐久性、特に耐水性が低下する、またはガラスが
かえって不安定になる。好ましくは１８％以下、より好
ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下、最も
好ましくは５％以下である。Ｂ₂Ｏ₃を含有する場合、そ
の含有量は０．５％以上であることが好ましい。より好
ましくは１％以上である。

【００２８】Ａｌ₂Ｏ₃は必須ではないが、化学的耐久
性、特に耐水性を高くするために、またはｎを低下させ
るために、１５％まで含有してもよい。１５％超ではＴ
_Sが高くなる。好ましくは１０％以下、より好ましくは
８％以下である。Ａｌ₂Ｏ₃を含有する場合、その含有量
は０．５％以上であることが好ましい。

【００２９】ＭｇＯおよびＣａＯはいずれも必須ではな
いが、ガラスを安定化するために、またはｎを低下させ
るために、それぞれ２０％まで含有してもよい。２０％
超では失透しやすくなる、またはＴ_Sが高くなる。好ま
しくはそれぞれ１８％以下、より好ましくは１５％以下
である。

【００３０】ＳｒＯおよびＢａＯはいずれも必須ではな
いが、ガラスを安定化するために、それぞれ２０％まで
含有してもよい。２０％超ではｎまたはＴ_Sが高くな
る。好ましくはそれぞれ１０％以下、より好ましくはそ
れぞれ８％以下である。

【００３１】ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのう
ちの２種以上を含有する場合、これらの含有量の合計は
２０％以下であることが好ましい。２０％超では、焼成
時に結晶化しやすくなる、またはＴ_Sが高くなる。好ま
しくは１５％以下である。

【００３２】ＳｉＯ₂は必須ではないが、化学的耐久性
を高くするために、またはｎを低下させるために１５％
まで含有してもよい。１５％超では、ガラスが不安定に
なる、またはＴ_Sが高くなる。好ましくは１０％以下、
より好ましくは５％以下である。

【００３３】Ａｌ₂Ｏ₃およびＳｉＯ₂を含有する場合、
その含有量の合計は１０％以下であることが好ましい。
１０％超では、ガラスが不安定になる、Ｔ_Sが高くな
る、または焼成時に結晶化しやすくなるおそれがある。

【００３４】Ｉｎ₂Ｏ₃は必須ではないが、化学的耐久性
を高くするために１０％まで含有してもよい。１０％超
では、Ｔ_Sまたはｎが高くなる。好ましくは８％以下、
より好ましくは５％以下である。

【００３５】前記ガラスＡは実質的に上記成分からなる
が、これ以外の成分を合計で１０モル％までの範囲で、
より好ましくは５モル％までの範囲で含有してもよい。
このような成分として、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃、
ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｖ ₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃、Ａｇ₂Ｏ、
Ｉｎ₂Ｏ₃、ＴｅＯ₂、ＷＯ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｃｅ
Ｏ₂が例示される。

【００３６】また、他の好ましい態様として、下記酸化
物基準のモル％表示で、実質的に、 Ｂ₂Ｏ₃ １０〜４０％、 ＳｉＯ₂ ５〜４０％、 ＺｎＯ １５〜４５％、 ＳｎＯ ０．１〜３％、 Ｌｉ₂Ｏ ０〜１５％、 Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、 Ｋ₂Ｏ ０〜５％、 Ａｌ₂Ｏ₃ ０．１〜１０％、 ＭｇＯ ０〜２０％、 ＣａＯ ０〜２０％、 ＳｒＯ ０〜１０％、 ＢａＯ ０〜１０％、 ＴｉＯ₂ ０〜１．５％、 ＺｒＯ₂ ０〜１．５％、 からなり、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが５〜２０％であ
るガラスＢが挙げられる。

【００３７】この好ましい態様のガラスＢについて、モ
ル％を単に％と記して以下に説明する。Ｂ₂Ｏ₃はネット
ワークフォーマであり必須である。１０％未満ではガラ
ス化が困難になる。好ましくは１５％以上である。４０
％超では化学的耐久性、特に耐水性が低下する、また
は、焼成時にアルカリ金属ホウ酸塩等のホウ酸塩の気体
が多く発生する。該気体は凝縮して、ＰＤＰの画素を形
成するセルの絶縁性を低下させる、または、該セル内の
蛍光体またはフィラメントを劣化させる。好ましくは３
５％以下である。

【００３８】ＳｉＯ₂はネットワークフォーマであり、
またｎを低下させる効果を有し、必須である。５％未満
ではガラス化が困難になる。好ましくは１０％以上、よ
り好ましくは１５％以上である。４０％超ではＴ_Sが高
くなる。好ましくは３５％以下、より好ましくは３０％
以下である。

【００３９】ＺｎＯは、ガラスを安定化させる効果、Ｔ
_Sを低下させる効果、化学的耐久性、特に耐水性を向上
させる効果等を有し、必須である。１５％未満では前記
効果が小さい。好ましくは２３％以上、より好ましくは
２４％以上、特に好ましくは２５％以上である。４５％
超では、かえってガラスが不安定になる。好ましくは４
２％以下、より好ましくは４０％以下である。

【００４０】ＳｎＯは耐水性を向上させる効果を有し、
必須である。０．１％未満では前記効果が小さい。好ま
しくは０．３％以上である。３％超ではＴ_Sまたはｎが
高くなる。好ましくは２．５％以下、より好ましくは
１．５％以下である。

【００４１】Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏは、Ｔ_Sまた
はｎを低下させる効果を有し、これら３成分のうち１種
以上を含有しなければならない。これら３成分の含有量
の合計Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが５％未満では前記効
果が小さい。好ましくは１０％以上、より好ましくは１
２％以上、特に好ましくは１４％以上である。２０％超
では、化学的耐久性が低下する、または、焼成時にアル
カリ金属含有気体が多く発生する。該気体は凝縮して、
ＰＤＰの画素を形成するセルの絶縁性を低下させる、ま
たは、該セル内の蛍光体またはフィラメントを劣化させ
る。好ましくは１８％以下、より好ましくは１７％以下
である。

【００４２】Ｌｉ₂Ｏは１５％まで含有してもよい。Ｎ
ａ₂Ｏは１０％まで含有してもよい。好ましくは９％以
下である。Ｋ₂Ｏは５％まで含有してもよい。好ましく
は３％以下である。

【００４３】Ａｌ₂Ｏ₃は、化学的耐久性、特に耐水性を
高くする効果、ｎを低下させる効果等を有し、必須であ
る。０．１％未満では前記効果が小さい。好ましくは
０．５％以上、より好ましくは１％以上である。１０％
超ではＴ_Sが高くなる。好ましくは８％以下、より好ま
しくは５％以下である。

【００４４】ＭｇＯおよびＣａＯはいずれも必須ではな
いが、ガラスを安定化させるために、またはｎを低下さ
せるために、それぞれ２０％まで含有してもよい。２０
％超ではＴ_Sが高くなる。好ましくはそれぞれ１５％以
下、より好ましくはそれぞれ１０％以下である。

【００４５】ＳｒＯおよびＢａＯはいずれも必須ではな
いが、ガラスを安定化させるために、またはＴ_Sを低下
させるために、それぞれ１０％まで含有してもよい。１
０％超ではｎが高くなる。

【００４６】ガラスを安定化させるために、ＭｇＯ、Ｃ
ａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのうちの１種以上を含有し、
これらの含有量の合計は０．１％以上であることが好ま
しい。より好ましくは１％以上である。

【００４７】ＴｉＯ₂およびＺｒＯ₂はいずれも必須では
ないが、αを低下させるために、それぞれ１．５％まで
含有してもよい。１．５％超ではガラスが不安定にな
る。好ましくは１％以下である。ガラスをより安定化さ
せたい場合は、これらを実質的に含有しないことが好ま
しい。

【００４８】前記ガラスＢは実質的に上記成分からなる
が、これ以外の成分を合計で１０モル％までの範囲で、
より好ましくは５モル％までの範囲で含有してもよい。
このような成分として、Ｐ₂Ｏ₅、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｕＯ、Ｖ
₂Ｏ₅、ＭｏＯ₃、ＷＯ₃、Ｉｎ ₂Ｏ₃、Ｂｉ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、
Ｌａ₂Ｏ₃が例示される。

【００４９】

【実施例】表１のＰ₂Ｏ₅〜ＺｒＯ₂の欄および表２のＢ₂
Ｏ₃〜ＺｒＯ₂の欄にモル％表示で示した組成となるよう
に原料を調合、混合し溶解した。なお、ＳｎＯの原料と
して、例１〜７については酸化第一スズを、例９〜１２
については酸化第二スズをそれぞれ使用した。また、前
記溶解は、例１〜７についてはふた付き石英るつぼを用
いて１１００℃に３０分保持して、例８〜１６について
は白金るつぼを用いて１３００℃に３０分保持して、そ
れぞれ行った。

【００５０】次いで、溶融ガラスの一部をステンレス鋼
製ローラに流し込んでフレーク化し、得られたフレーク
状のガラスをアルミナ製ボールミルで１０５分間粉砕し
てガラス粉末とした。また、残りの溶融ガラスをステン
レス鋼製板の上に流し出し、徐冷してガラス塊とした。
例１〜６、例９〜１２は実施例、例７、例８、例１３〜
１６は比較例である。得られたガラス粉末のガラス転移
点Ｔ_G（単位：℃）、軟化点Ｔ_s（単位：℃）、結晶化温
度Ｔ_C（単位：℃）を、昇温速度１０℃／分で８００℃
まで加熱する示差熱分析によって測定した。

【００５１】また、前記ガラス塊を加工して、直径５ｍ
ｍ、長さ２０ｍｍの円柱サンプルとし、示差熱膨張測定
を行った。得られた示差熱膨張曲線から、５０〜２５０
℃における平均線膨張係数α（単位：１０^-7／℃）およ
び屈伏点Ｔ_D（単位：℃）を求めた。

【００５２】また、同様にして作製した直径５ｍｍ、長
さ２０ｍｍの円柱サンプルを用いてΔＷ（単位：％）を
測定した。

【００５３】また、前記ガラス塊を加工して、５ｍｍ×
２０ｍｍ×２５ｍｍの直方体サンプルとし、この表面を
鏡面研磨してＶブロック法を用いてｎを測定した。な
お、例１６のガラスは白濁しており、ｎは測定できなか
った。また、例１５のガラスのｎは測定できたが、やや
白濁していた。これら白濁は、失透によるものと考えら
れる。

【００５４】さらに、Ｄが５μｍ以下のガラス粉末が容
易に得られるか否か、また前記ガラス粉末を焼成して得
られる焼成体の表面に気泡等が存在するか否かを、例１
〜６、例８〜１２、例１５について、次のようにして調
べた。すなわち、先に述べた方法と同様にしてフレーク
状のガラスを１０５分間粉砕して約１ｋｇのガラス粉末
（平均粒径≒１５μｍ）を作製した。このガラス粉末を
さらに、粉体衝突式粉砕装置（ジェットミル）を用いて
１ｋｇ／時間の条件で粉砕した。ジェットミルから取り
出したガラス粉末の平均粒径Ｄ（単位：μｍ）をレーザ
ー回折式粒度分布計により測定した。

【００５５】また、ジェットミルから取り出したガラス
粉末の重量をジェットミルに投入したガラス粉末の重量
で除して収率（単位：％）を求めた。なお、収率低下
は、ガラス粉末のジェットミル内壁への付着等によるも
のと考えられる。Ｄおよび収率を表に示す。収率は６０
％以上であることが好ましく、７０％以上であることが
より好ましい。この収率が６０％以上であれば、ガラス
粉末が容易に得られると考えてよい。

【００５６】一方、前記ジェットミルから取り出したガ
ラス粉末３ｇを直径１３ｍｍの円柱状にプレス成形し、
得られた成形体を表に示す焼成温度Ｔ_B（単位：℃）で
１０分間焼成した。得られた焼成体の表面に気泡等が認
められなかったものを○、気泡等が認められたものを×
として表の外観の欄に示した。

【００５７】

【表１】

【００５８】

【表２】

【００５９】

【発明の効果】本発明のガラスを用いることにより、フ
ォトリソグラフィ法による加工精度が優れた感光性ペー
ストが得られる。また、粉砕収率に優れる低融点ガラス
が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０３Ｃ 8/24 Ｃ０３Ｃ 8/24 (72)発明者 山中 一彦 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 真鍋 恒夫 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 4G062 AA08 AA09 AA15 BB01 BB09 CC10 DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DB01 DB02 DB03 DB04 DC01 DC02 DC03 DC04 DC05 DD04 DD05 DE04 DE05 DF01 EA01 EA02 EA03 EA10 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FE02 FE03 FE04 FE05 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH06 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 MM10 NN26 NN32 NN34 PP13 PP14

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】軟化点Ｔ_Sが５８０℃以下、５０〜２５０
   ℃における平均線膨張係数が１００×１０^-7／℃以下、
   屈折率が１．５７以下、かつ、８０℃の水に２４時間浸
   漬したときの質量変化率が０．５％以下である低融点ガ
   ラス。
2. 【請求項２】結晶化温度をＴ_Cとして、（Ｔ_C−Ｔ_S）が
   ２０℃以上である請求項１に記載の低融点ガラス。
3. 【請求項３】ガラス転移点が４６０℃以下である請求項
   １または２に記載の低融点ガラス。
4. 【請求項４】ハロゲン元素を実質的に含有しない請求項
   １、２または３に記載の低融点ガラス。
5. 【請求項５】下記酸化物基準のモル％表示で、実質的
   に、 Ｐ₂Ｏ₅ ２５〜４５％、 ＺｎＯ １０〜４５％、 ＳｎＯ ０〜３５％、 Ｌｉ₂Ｏ ０〜９％、 Ｎａ₂Ｏ ０〜９％、 Ｋ₂Ｏ ０〜９％、 Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、 Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１５％、 ＭｇＯ ０〜２０％、 ＣａＯ ０〜２０％、 ＳｒＯ ０〜２０％、 ＢａＯ ０〜２０％、 ＳｉＯ₂ ０〜１５％、 Ｉｎ₂Ｏ₃ ０〜１０％、 からなり、ＳｎＯ＋Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが１〜４
   ０％かつＬｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが１０％未満である
   請求項１〜４のいずれかに記載の低融点ガラス。
6. 【請求項６】下記酸化物基準のモル％表示で、実質的
   に、 Ｂ₂Ｏ₃ １０〜４０％、 ＳｉＯ₂ ５〜４０％、 ＺｎＯ １５〜４５％、 ＳｎＯ ０．１〜３％、 Ｌｉ₂Ｏ ０〜１５％、 Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、 Ｋ₂Ｏ ０〜５％、 Ａｌ₂Ｏ₃ ０．１〜１０％、 ＭｇＯ ０〜２０％、 ＣａＯ ０〜２０％、 ＳｒＯ ０〜１０％、 ＢａＯ ０〜１０％、 ＴｉＯ₂ ０〜１．５％、 ＺｒＯ₂ ０〜１．５％、 からなり、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが５〜２０％であ
   る請求項１〜４のいずれかに記載の低融点ガラス。