JP2001519044A - 光学素子を製造する方法およびそれから得る光学素子 - Google Patents

光学素子を製造する方法およびそれから得る光学素子

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、平版法で形成され、低い光学損失、良好な長期および短期安定性、良好な柔軟性を有しかつストレスもしくは亀裂誘発散乱損失が減少したポリマー材料を用いる有機光学導波管装置を提供する。この光学素子は、基体;基体表面上のパターン化された光伝達コア組成物;およびコアのパターン上の光反射クラッド組成物を有する。コア組成物は、約80℃以下のガラス転移温度を有し、クラッド組成物は、約60℃以下のガラス転移温度を有する。

Description

【発明の詳細な説明】 光学素子を製造する方法およびそれから得る光学素子発明の背景 本発明は、導波管などの有機光学装置に関し、より特定的には、低光学損失、 良好な長期および短期安定性、良好な柔軟性および減少したストレスもしくは亀 裂誘発光学散乱損失を有するポリマー材料を用いる、平版法で形成された光学導 波管に関する。 光学通信システムにおいて、メッセージは、レーザーおよび発光ダイオードな どの供給源により発生する光学周波数のキャリヤー波により伝達される。そのよ うな光学通信システムに関心が集まっているが、それはそれらが従来の通信シス テムよりいくつかの利点を有するからである。それらは、銅線を用いる電子シス テムよりもはるかに速い速度でメッセージを伝達する能力の他に、非常に増加し た数の通信チャンネルを有する。本発明は、光学装置の光伝達素子の形成に使用 できる。そのような装置の実例としては、平面光学スラブ導波管、チャンネル光 学導波管、リブ導波管、光学カプラー、光学スプリッター、光学スイッチ、マイ クロ光学素子などが挙げられ、その詳細は、米国特許第4,609,252;4, 877,717;5,136,682;5,481,385;5,462,700;5, 396,350および5,428,468号に記載されている。前記特許のすべて を、ここに参照により取り入れる。ひとつのポイントから他のポイントへと光学 周波数の波を切り替えるか又は導くための1つの好ましい手段は、光学導波管に よる。光学導波管の作動は、光に透明な媒体がより低い屈折率を有する別の媒体 に囲まれるかもしくは拘束されると、内部媒体の軸に沿って導入される光は、そ の囲んでいる媒体との境界で高度に反射し、導波効果を生じるという事実の基づ いている。 光学回路もしくはファイバーオプチックスネットワークにおいて光学信号を輸 送するポリマー光学導波管および他の光学インターコネクト装置を製造すること は、当業界では既知である。光学装置を形成するために用いられる1つの方法は 、 標準的な写真平版法の適用を含む。感光性ポリマーには、光学インターコネクト 用途について特別な関心が集まっているが、それはそれらが良好に現像される写 真平版技術でパターン化できるからである。この方法により、平版法は、選ばれ た基体に堆積させた感光層にパターンを定めるために用いられる。標準的な写真 平版法により、パターンが感光性材料中で現像される。多くの既知の感光性ポリ マーの中で、アクリレート材料は、その光学明澄度、低複屈折および広範囲のモ ノマーの容易な入手可能性ゆえに、導波管材料として広く研究されてきた。しか し、露光された材料の耐老化性に加えて光学損失が不満足なものであるので、そ のような構造の光学性能は劣っていた。これらの材料から作った装置は、高い光 学損失を有し、空気中での高温(≧120℃)での熱焼き付けの間に、透明から 黄色についで茶色へと変わるので、吸収損失が増加していた。導波管材料材料の 熱安定性は、実践的な装置用途にとって極めて重要である。高温での長期使用中 の材料の熱崩壊は、装置の破損を生じる。さらに、光学ポリマーにとっては、熱 黄変は光学損失を増加させ、装置の寿命を低下させる。初期の世代のアクリル材 料に関連する別の問題は、それらが非常に脆く、それらから作った装置が焼き付 けの際に割れることである。導波管は、しばしば平面内でも平面外でも90度に 曲げる必要がある。これは、曲げ誘発ストレスによる亀裂および光学損失を避け るために、柔軟なクラッドおよびコア材料を必要とする。本発明の目的は、低い 光学損失、良好な熱安定性、種々の基体への良好な付着性および直角の曲げを可 能にする十分な柔軟性を有する材料を提供することである。 米国特許第4,609,252号は、重合で導波管材料を形成できるアクリル系 光活性組成物を使用して平版法で光学素子を形成する1つの方法を教示している 。しかし、この特許は、最大の作動温度を与えるために、できる限り高いガラス 転移温度を有するポリマーを利用することを教示している。90℃〜220℃の ガラス転移温度が必要とされる。米国特許第5,136,682号は、少なくとも 100℃のTgを有するアクリル系樹脂などの軽重合性組成物を使用する導波管 の製造を教示している。前記導波管は、望ましくない高い光学損失を受け、あま り柔軟ではない。 装置の一体性およびパッケージングのための200℃より高い温度での短期熱 安定性、長期操作のための120℃での長期安定性、適用周波数での低吸収およ び散乱損失、異なる配置の装置設計を容易にする柔軟性を有し、モードおよび数 値アパーチュア制御のための正しく制御できる屈折率、および既存の技術との適 合性を有するポリマー材料から光学装置を製造することが望ましいであろう。 本発明は、前記問題に対処する光学装置のためのポリマーを提供する。ポリマ ー材料は、低い光学損失(810nmの波長で0.02dB/cm)、120℃ での良好な長期安定性および200℃での短期安定性を提供する。老化誘発損失 は、125℃で5年以上の装置寿命で0.1dB/cmよりも低い。良好な柔軟 性は、材料が種々の装置配置で使用されることを可能とし、ストレスもしくは亀 裂誘発散乱損失を低下させる。正確な屈折率制御は、モードおよび数値アパーチ ュアの制御を可能とし、断面寸法および数値アパーチュアの両方における単一モ ードファイバーにマッチする単一モード導波管の製作を可能とする。本組成物は 、また、種々の無機および有機基体への十分な付着性も有する。本材料は、無色 であり、そして400〜1000nmの極めて低い固有吸収損失を示す。それら の柔軟性は、ストレスおよび微小亀裂により生じる散乱損失を最小にする。それ らの高い写真平版コントラストは、平らな壁の形成を可能とし、かくて多層構造 物の界面での散乱損失を低下させる。これら材料のすべての特性は、導波管の極 めて低い損失に貢献する。黄変による熱誘発光学損失は最小にされる。これらコ アおよびクラッド材料は互いに混和性であり、したがって導波管の各層での屈折 率は、選ばれた高屈折率溶液と低屈折率溶液のペアを混和することにより正確に 調節することができる。この特性は、導波管のモードを正確に制御するために使 用でき、断面寸法および数値アパーチュアの両方における商業的な単一モードフ ァイバーにマッチする大型単一モード導波管を製作するために使用できる。発明の説明 本発明は、光学素子を製造する方法であって: a)少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第1フリ ーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも 1種の第1光開始剤の混和物を含んでなる第1感光性組成物を基体にコーティン グすること、この際、前記第1光重合開始剤は、十分な化学線へのイメージ的露 光で前記重合性成分のフリーラジカル重合を開始するのに十分な量で存在し、前 記第1重合性成分は、該第1感光性組成物が十分な化学線にイメージ的に露光さ れたときに、イメージ区別化を提供するに十分な量で存在する; b)該第1感光性組成物を十分な化学線にイメージ的に露光してその重合を行 なわせて、イメージ領域および非イメージ領域を形成させ;ついで、光伝達パタ ーン化コアを形成するイメージ領域を除去せずに該非イメージ領域を除去するこ と; c)少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第2フリ ーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも 1種の第2光重合開始剤の混和物を含んでなる第2感光性組成物を該パターン化 されたコアにコーティングすること、この際、前記第2光開始剤は、十分な化学 線への露光で前記第2重合性成分のフリーラジカル重合を開始するのに十分な量 で存在し、前記第2重合性成分は、該第2感光性組成物が十分な化学線に露光さ れたときに、該第2感光性組成物を重合させるのに十分な量で存在する; d)該第1および第2感光性組成物を十分な化学線に露光して、重合された第 2感光性組成物がコアを包むクラッドを形成するように該第2感光性組成物を重 合させること、この際、該重合されたコアは約80℃以下のガラス転移温度を有 し、該重合されたクラッドは約60℃以下のガラス転移温度を有し、そして該ク ラッドの屈折率は該コアの屈折率より小さい を含んでなる方法を提供する。 本発明は、また、基体;該基体の表面上のパターン化された光伝達コア組成物 ;および該コアのパターン上の光反射クラッド組成物を含んでなる光学素子であ って、該コア組成物が約80℃以下のガラス転移温度を有しかつ該クラッド組成 物が約60℃以下のガラス転移温度を有し、そして該クラッドの屈折率が該コア の屈折率よりも小さい光学素子も提供する。 クラッドおよびコアの各々を形成するために使用される光重合性化合物は、モ ノマー、オリゴマーもしくはポリマーであり得、それは、少なくとも1つの末端 エチレン性不飽和基を含有する、付加重合性の非気体性(標準大気圧で30℃を 超える沸騰温度)のエチレン性不飽和化合物であり、フリーラジカルで開始する 鎖生長付加重合により高分子量ポリマーを形成することができる。そのような化 合物は、当業界で既知である。好ましい態様において、前記重合性化合物の少な くとも1種は、少なくとも2つのエチレン性不飽和基を含有する。光重合性化合 物は、露光後に下記Tgおよび屈折率をもたらすように選ばれる。多官能性アク リレートモノマーが好ましい。 多官能性アクリレートの一般化された構造を示す: コアについては、mは、好ましくは1〜約6の範囲にあり、R2は、Hもしく はCH3であり、R1は、脂肪族、芳香族、もしくは脂肪族および芳香族混合有機 分子セグメントの連結基である。好ましくは、R1は、アルキレン、アルキレン オキシド、アリレンオキシド、脂肪族ポリエーテルもしくはポリエステル部分で あり、R2はHである。硬化したフィルムの耐溶剤性および高いコントラストの 写真平版法を確実にするために、架橋ポリマーおよび、したがって、多官能性ア クリレートモノマー(m≧2)が好ましい。本発明の態様の1つは、柔軟性の低 ガラス転移温度(Tg)ポリマーを使用することにより、最終導波管装置のスト レス誘発散乱光学損失を低減することである。架橋ポリマーのガラス転移温度( Tg)が架橋ポイント間の架橋密度および連結基の構造に依存することは、当業 界では既知である。架橋密度および柔軟な連結基がともに低Tgを必要とするこ とも既知である。低架橋密度を確実にするために、1≦m≦3、好ましくはm= 2であって、2つのエチレン性不飽和官能基の間に長い連結基セグメントを有す るモノマーが好ましい。本発明に関しては、長い連結基セグメントは、少なくと も約4以上、好ましくは6以上の炭素原子の平均分子鎖長を有するものである。 適切な柔軟性連結基の構造としては、約3の炭素原子より大きい鎖長を有するア ルキレン、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(プロピレンオキシド)、エトキシ レート化ビスフェノールA、ポリエーテル、チオエーテル、脂肪族および芳香族 炭化水素、エーテル、エステルおよびポリシロキサン等が挙げられる。これらは 、重合性化合物が光重合する能力を減じないいかなるペンダント基で置換されて い てもよい。適切な置換基としては、アルキル、アリール、アルコキシおよびスル ホキシド基などが挙げられるが、他を排除するものではない。熱崩壊および変色 に対する高い抵抗性を確実にするために、熱安定分子構造のR1が好ましい。そ のようなR1セグメントは、芳香族ウレタンおよびアミド基などの熱感受性部分 がないものとすべきである。低い複屈折を確実にするために、低ストレス光学係 数(optic coefficient)および光学分極率(optical polarizability)を有す るR1連結基が好ましい。 クラッドについては、アクリレートは前述の如くであるが、エチレン性不飽和 官能基間の平均分子鎖長は、好ましくは約6以上、好ましくは8以上、より好ま しくは12炭素原子以上である。適切な柔軟性連結基構造には、6炭素原子より 大きい鎖長を有するアルキレン、ポリ(エチレンオキシド)、ポリ(プロピレン オキシド)、エトキシレート化ビスフェノールAが含まれる。 クラッドおよびコアの両方にとって好ましい重合性成分は、好ましくは2〜3 0炭素原子を含有する、アクリル酸と芳香族および脂肪族ポリオールのエステル および部分エステルである。ポリオキシアルキレングリコールの部分エステルお よびエステルも適している。例としては、エチレングルコールジアクリレート、 ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート 、テトラエチレングリコールジアクリレート、200〜2000の範囲の平均分 子量を有するポリエチレングリコールジアクリレートおよびポリプロピレングリ コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレング リコールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレートおよびブタンジオー ルジアクリレートなどの(C2〜C40)アルカンジオールジアクリレート、トリ プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー ト、500〜1500の範囲の平均分子量を有するエトキシレート化トリメチロ ールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタ エリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、 ジペンタエリトリトールジアクリレート、ジペンタエリトリトールトリアクリレ ートジペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールペン タアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリ トリ ト−ルオクタアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリ レート、オリゴエステルアクリレート、グリセロールジ−およびトリアクリレー ト、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、100〜1500の平均分子量を 有するポリエチレングリコールのビスアクリレート、および上記化合物の混合物 が挙げられる。好ましい多官能性アクリレートオリゴマーには、アクリレート化 エポキシド、アクリレート化ポリウレタンおよびアクリレート化ポリエステルが 含まれる。好ましい光重合性化合物は、アリールアクリレートである。そのよう なアリールアクリレートモノマーの例としては、アリールジアクリレート、トリ アクリレートおよびテトラアクリレートが挙げられ、例えば、ベンゼン、ナフタ レン、ビスフェノール−A、ビスフェニレン、メタンビフェニレン、トリフルオ ロメタンビフェニレン、フェノキシフェニレンなどに基づくジ、トリおよびテト ラアクリレートである。好ましいアリールアクリレートモノマーは、多官能性ア リールアクリレートであり、より好ましいアリールアクリレートモノマーは、ビ スフェノール−A構造に基づく、ジ、トリおよびテトラアクリレートである。も っとも好ましいアリールアクリレートモノマーは、エトキシレート化ビスフェノ ール−Aジ−アクリレート、プロポキシレート化ビスフェノールAジアクリレー トおよびエトキシレート化ヘキサフルオロビスフェノール−Aジアクリレートな どのアルコキシレート化ビスフェノール−Aジアクリレートである。選り抜きの アリールアクリレートモノマーは、エトキシレート化ビスフェノール−Aジアク リレートてある。好ましい重合性成分は、構造(I): を有するモノマーである。 好ましい態様において、コアについては、nは約10以下、好ましくは約4以 下、もっとも好ましくは約2以下である。好ましい態様において、クラッドにつ いては、nは約2以上、好ましくは約4以上、もっとも好ましくは約10以上で ある。同様に有用なのは、当業界で周知のアクリレート含有コポリマーである。 好ましい態様において、クラッド層は、上に示したエトキシレート化ビスフェノ ール−Aジアクリレート構造(I)を有する重合性成分を含んでなり、ここで、 1≦n≦20、好ましくは4≦n≦15、より好ましくは8≦n≦12である。 本発明のもっとも好ましい態様において、その界面において、第2感光性組成物 は、重合された第1感光性組成物と混和性である。 コアおよびクラッドのそれぞれに使用される光重合性化合物を選ぶ場合、完全 な重合の後に生じるコアが、重合後のクラッドよりも高い屈折率を有することが 重要である。好ましくは、コアは、約1.3〜約1.6、より好ましくは約1.4 5〜約1.56の範囲の屈折率を有する。好ましくは、クラッドは、約1.3〜約 1.58、より好ましくは約1.42〜約1.55の範囲の屈折率を有する。クラ ッドおよびコアは構造的に類似した組成物からなっていてもよいが、クラッドが コアの屈折率よりも低い屈折率を有するようにするためには、個々の用途で異な る化学的組成を有していなければならないことは明らかである。さらに、選ばれ た基体がコアよりも低い屈折率を有するなら、緩衝層が必要であり、その緩衝層 は、以下に記載するように、コアよりも低い屈折率を有していなければならない 。 導波管コアに使用される光重合性化合物が重合後に約80℃以下、好ましくは 約50℃以下のガラス転移温度を有するコアを生成することが、本発明の重要な 特徴である。導波管クラッドに使用される光重合性化合物が重合後に約60℃以 下、好ましくは約40℃以下、より好ましくは約25℃以下のガラス転移温度を 有するクラッドを生成することが、本発明の重要な特徴である。特定のTgは、 重合性成分の特性決定および選択により、当業者により容易に得られる。これは 、分子量、不飽和の部位の数および重合性成分の架橋密度などの要因に依存する 。単一の重合成分自体が要求されるTgを有しても、所望のTgを有する重合性 モノマー、オリゴマーおよび/またはポリマーのブレンド混合物によりその重合 性成分が調合されてもよい。Tgは、重合が行なわれる露光時間および温度を変 化させることにより制御することもできる。 光重合性化合物は、十分な化学線に露光されると光重合するに十分な量で、各 光重合性組成物中に存在する。この組成物中の光重合性化合物の量は幅広く変化 し得るが、光伝達装置の光伝達素子として使用するための感光性ポリマーの製造 に使用する光重合性組成物中で普通に使用される量を使用することができる。光 重合性化合物は、一般に、組成物の約35〜約99.9重量%の量で使用される 。好ましい態様において、光重合性化合物は、全組成物中に、全組成物に基づい て、約80%〜約99.5重量%、好ましくは約95%〜約99.5重量%の量で 存在する。 各々の感光性組成物は、さらに、光分解的にフリーラジカルを発生する少なく とも1種のフリーラジカル発生光重合開始剤を含んでなる。普通、光重合開始剤 は、化学線により活性化されるフリーラジカル発生付加重合開始剤であり、好ま しくは室温(例、約20℃〜約80℃)近くで熱的に不活性である。アクリレー トを光重合するのに既知のどのような光重合開始剤も使用できる。好ましい光重 合開始剤には、米国特許第4,942,112号に記載のもの、米国特許第3,7 65,898号に記載のキノサリン化合物;米国特許第2,367,660号にお ける隣接ポリケトアルドニル化合物;米国特許第2,367,661号および第2 ,367,670号におけるα−カルボニル;米国特許第2,448,828号にお けるアシロインエーテル;米国特許第3,479,185号におけるトリアリール イミダゾリルダイマー;米国特許第2,722,512号のα−炭化水素置換芳香 族アシロイン;米国特許第2,951,758号および第3,046,127号にお ける多核キノン;および米国特許第4,656,272号におけるs−トリアジン が含まれるが、他を排除するものではない。なお、これらは参照により本明細書 中に取り入れられる。 適切な光重合開始剤には、ベンゾフェノン、アクリレート化ベンゾフェノン、 2−エチルアントラキノン、フェナントラキノン、2−t−ブチルアントラキノ ン、1,2−ベンザントラキノン、2,3−ベンザントラキノン、2,3−ジクロ ロナフトキノン、ベンジルジメチルケタールおよび他の芳香族ケトンなどの芳香 族ケトン類、例えば、ベンゾイン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ ルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルおよびベンゾインフェニルエーテル などのベンゾインエーテル;メチルベンゾイン;エチルベンゾインおよび他のべ ンゾインが含まれる。好ましい光重合開始剤は、1−ヒドロキシーシクロヘキシ ル−フェニルケトン(Igracure184)、ベンゾイン、ベンゾインエチ ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾジメチ ルケタール(Irgacure651)、α,α−ジエチルオキシアセトフェノ ン、α,α−ジメトキシ−α−ヒドロキシアセトフェノン(Darocur11 73)、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ− 2−メチル−プロパン−1−オン(Darocur2959)、2−メチル−1 −[4−メチルチオフェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン(Irg acure907)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリ ノフェニル)−ブタン−1−オン(Irgacure369)、ポリ{1−[4 −(1−メチルビニル)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロパン− 1−オン}(EsacureKIP)、[4−(4−メチルフェニルチオ)−フ ェニル]フェニルメタノン(QuantacureBMS)、ジ−カンファーキ ノンである。もっとも好ましい光重合開始剤は、照射で黄変を来さないものであ る。そのような光重合開始剤には、ベンゾジメチルケタール(Irgacure 651)、α,α−ジメチルオキシ−α−ヒドロキシアセトフェノン(Daro cur1173)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(Igr acure184)および1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]− 2−ヒドロキシ−2−メチル−プロパン−1−オン(Darocur2959) が含まれる。 フリーラジカル発生光重合開始剤は、十分な化学線への露光で光重合性化合物 の光重合をもたらすのに十分な量で各々の光重合性組成物中に存在する。光重合 開始剤は、一般に、組成物の全重量に基づいて、全組成物の約0.01〜約10 重量%、より好ましくは約0.1〜約6重量%、もっとも好ましくは約0.5〜約 4重量%の量で存在する。 他の添加物も、感光性組成物の目的および最終用途に依存して、感光性組成物 に添加可能である。これらの例には、抗酸化剤;光安定剤;体膨張剤;シリカ、 ガラス球などの充填剤;染料;フリーラジカルスカベンジャー;コントラスト増 強剤;ニトロンおよびUV吸収剤が含まれる。抗酸化剤には、フェノール、特に Ciba−Geigy製Irganox1010を含むヒンダードフェノール; スルフィド;有機ホウ素化合物;有機リン化合物;“Irganox1098” の商品名でChiba−Geigyから入手可能なN,N−ヘキサメチレンビス (3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロ桂皮酸アミド)のような化合 物が含まれる。光安定剤およびより特別にはヒンダードアミン光安定剤には、商 品名CyasorbUV3346でCytec Industriesから入手 可能なポリ[(6−モルホリノ−s−トリアジン−2,4−ジイル)[2,2,6 ,6−テトラメチル−4−ピペリジルイミノ]−ヘキサメチレン[2,2,6,6− テトラメチル−4−ピペリジルイミノ]が含まれるが、これらに限定されない。 体膨張剤化合物には、Baileyのモノマーとして知られるスパイラルモノマ ーなどの材料が含まれる。染料の例として、メチレングリーン、メチレンブルー などが挙げられる。適切なフリーラジカルスカベンジャーには、酸素、ヒンダー ドアミン光安定剤、ヒンダードフェノール、2,2,6,6,−テトラメチル−1− ピペリジルオキシフリーラジカル(TEMPO)などが含まれる。適切なコント ラスト増強剤には、ニトロンなどの他のフリーラジカルスカベンジャーが含まれ る。UV吸収剤には、ベンゾトリアゾール、ヒドロキシベンゾフェノンなどが含 まれる。これら添加物は、組成物の全重量に基づいて、約0〜約6%、好ましく は約0.1%〜約1%の量で含まれ得る。好ましくは、全組成物のすべての成分 は、互いに混和されており、もっとも好ましくは、実質的に均一な混和物である 。 本発明の好ましい態様において、本発明の光学装置は、第1感光性組成物を適 する基体の表面に適用することにより形成される。基体は、導波管を樹立するの に望まれるどのような材料でもよく、シリコン、二酸化ケイ素、ヒ化ガリウム、 窒化ケイ素、ガラス、石英、プラスチック、セラミック、結晶性材料などの半導 体材料が含まれる。基体は、溝もしくは電気回路などの地形学的特徴あるいはレ ーザーダイオードなどの電子−光学装置のいずれの他の装置を含んでも、含まな くてもよい。光伝達領域が基体材料よりも低い屈折率の有機層である基体上で、 初めに有機導波管材料の屈折率よりも低い屈折率の層を形成する必要がある。そ のような層は、当業界では緩衝層として知られ、例えば、半導体酸化物、低屈折 率ポリマーもしくはスピンオン二酸化ケイ素ガラス材料などからなり得る。 感光性組成物のフィルムは、スピンコーティング、ディップコーティング、ス ロットコーティング、ローラーコーティング、ドクターコーティング、液体キャ スティングなどの当業界で既知の多くの異なる方法で適用できる。一般に、第1 感光性組成物は、約1ミクロン〜約1mm、好ましくは約5ミクロン〜約500 ミクロンの厚さで適用される。一般に、第2感光性組成物は、少なくとも約0. 01ミクロン、好ましくは少なくとも約1ミクロンの厚さで適用される。 第1感光性組成物を基体上に薄いか又は厚いフィルムに形成したら、光伝達領 域の輪郭を描くためにフィルム上に化学線を当てる。すなわち、光伝達装置の位 置および寸法は、基体上のフィルム表面上の化学線のパターンにより決定される 。照射パターンは、光重合性組成物が所望のパターンに重合されるように、また フィルムの他の領域が未反応のまま保持されるように選ばれなければならない。 本発明の感光性ポリマーは、必要とされる波長および強度の化学線に重合性組成 物を必要とされる時間露光することにより慣用的に調製される。ここで用いられ る「化学線」とは、電子ビーム、イオンもしくは中性子ビーム、あるいはX線の 他に、スペクトルの可視、紫外もしくは赤外領域の光として定義される。化学線 は、非収束性の光であっても、収束性の光、例えば、レーザーからの光の形をと ってもよい。化学線の供給源、露光手順、時間、波長および強度は、所望の重合 度、感光性ポリマーの屈折率および当業者には既知の他の要因に依存して幅広く 変わり得る。そのような通例の光重合法およびその操作パラメーターは、当業界 では周知である。化学線の供給源および波長は、幅広く変化し得るし、どのよう な通例の波長および供給源も使用できる。光化学的励起は、加工前に普通に遭遇 する光線(例えば、室内光)への露光が重合性材料を早まって重合しないように 、比較的短い波長(もしくは高エネルギー)で行なわれるのが好ましい。あるい は、加工は、レーザーなどの化学線の高強度供給源により開始される多光子法を 利用してもよい。かくして、紫外線(300〜400nmの波長)への露光が好 都合である。また、深い紫外線(190〜300nmの波長)による露光も有用 である。好都合な供給源は、高圧キセノンもしくは加工に望まれる波長を選ぶの に適切な光ファイバーが取り付けられた水銀−キセノンアーク灯である。また、 短波長の収束性光線も本発明の実施に有用である。350nm近くの幾つかの波 長でUVモードで作動するアルゴンイオンレーザーも望ましい。また、257n m近くの波長の出力を有する周波数二倍アルゴンイオンレーザーも非常に望まし い。 電子ビームもしくはイオンビーム励起も利用できる。露光時間は、普通、2、3 秒から約1分まで変動する。温度は、通常、約10℃〜約60℃の範囲であるが 、室温がより好ましい。 化学線の空間的プロフィールの制御、すなわち、それが光重合性材料の層のど こに落ちるかは、通例の方法により達成できる。例えば、一従来法では、所望の 光伝達パターンを有するマスクが、化学線の供給源と光重合性組成物フィルムと の間に置かれる。マスクは、照射線がフィルム表面の所望の領域にのみ落ちるよ うにする透明および不透明な領域を有する。薄いフィルムでマスクされた露光は 、当業界では周知であり、光伝達パターンをフィルム上にプリントするための接 触、近接および投射技術を含み得る。別の従来の空間的制御方法は、レーザーも しくは電子ビームなどの定方向のもしくは集中させたビームを含んでなる化学線 の供給源を使用することである。そのようなビームは、光重合性材料フィルム表 面のほんの小さな面積と交差するだけである。所望の光伝達領域のパターンは、 ビームを空間で走査させるか、もしくは交差点を静止したビームに対して変化さ せるように基体を移動させることによって、この小さな交差点をフィルム表面上 で移動させることにより達成される。ビーム供給源を使用するこれらのタイプの 露光は、当業界では直書き法として既知である。照射の空間的特徴を選ぶことに より、基体表面上に光伝達領域を作り出すこと、ならびにスラブおよびチャンネ ル導波管を製造することは可能である。スラブ導波管は、光学波がフィルムの平 面のみに限られるものである。チャンネル導波管は、やはり光学波がフィルム内 の側面に限られるものである。チャンネル構造は、多くの非線形および電子−光 学装置にとって必要であるが、それは、それが、スプリット、光学波の結合、お よび導波管から光ファイバーへ光をカップリングするためのメカニズムを提供す るとともに、光を基体の一定の領域に向けさせるからである。 光重合性組成物が重合されて基体の表面上に感光性ポリマーの予め決められた パターンを形成した後、そのパターンは現像されて非イメージ領域が除去され背 後に予め決められたパターンが残る。どのような慣用的な現像法、例えば、未照 射組成物を溶媒でフラッシするなどの方法も使用できる。そのような溶媒には、 アルコールおよびケトンなどの極性溶剤が含まれる。もっとも好ましい溶媒は、 アセトン、メタノール、プロパノール、テトラヒドロフランおよび酢酸エチルで ある。 本発明の装置を得る際の次工程は、導波管コア上のクラッドの形成である。ク ラッドは、適用された光をコアに保持できるいかなる材料でもよい。クラッドは 、第2感光性組成物をイメージ的に重合された第1感光性組成物の表面上に適用 して露光することにより形成される。本発明の1つの態様において、クラッドは 、第2感光性層のブランケット露光により形成される。本発明の別の態様におい て、この第2感光性層は、コアパターンと一致してイメージ的に露光され、そし て上記の方法で現像される。後者の構造は、コアの上面および側面を覆うクラッ ドを有する。それは、そのコアが低い内部ストレスしか示さないので有利である 。 本発明の別の態様において、本光学装置は、第1感光性組成物の適用前に基体 に適用される緩衝層を有する。緩衝層は、第2感光性組成物と類似のTg特性を 有するが同じ組成物である必要はない第3感光性組成物を含んでなる。この第3 感光性組成物は、基体の表面にコーティングされ、全体的もしくは非イメージ的 に化学線に露光される。第3感光性組成物は、第2感光性組成物と同じ成分部分 を含んでなる。光重合性材料および加工条件は、重合された緩衝層のTgが約6 0℃以下、好ましくは約40℃以下、より好ましくは約25℃以下の範囲である ように選ばれる。 1つの好ましい態様において、第1感光性組成物を完全に硬化する必要はなく 、第2感光性組成物をコーティングする前に部分的に重合されるにすぎない。部 分的に重合するとは、いくつかのアクリレート基が重合後も存在する、すなわち 、すべてのアクリレートが飽和炭化水素に転化される訳ではないことを意味する 。これは、アクリレート基の数の0%よりも多いが50%未満、好ましくはアク リレート基の約20%未満が、第2感光性組成物を適用する前には未反応のまま であることを意味する。第2感光性組成物層の適用前の第1感光性組成物層の部 分重合は、これら2つの組成物がそれらの界面で混ざり合うのを可能にする。こ れは、これら2つの層の付着を向上させる。 第2感光性組成物の適用後、残りの未重合第1感光性組成物および第2感光性 組成物層を、それら両方が実質的に完全に重合するように化学線へのブランケッ トもしくは全体露光により堅く硬化させる。このようにすれば、コアおよびクラ ッド組成物は、それらの界面で混ざり合って、あらゆる所望の割合で混合され、 クラッド、コアおよび装置全体の屈折率をうまく調和させるので、共有結合によ り層間の良好な付着が確実になる。 本発明の方法は、幅広い種類の光学素子を製造するのに使用できる。適切なマ スクを使用し、露光に使用される化学線の照準度を制御することにより、光を基 体に対してほぼ直交方向に伝達するように設計できるレンズもしくはプリズムな どのマイクロ光学素子のアレーを造ることも可能である。そのような光学素子は 、バックライト(例えば、液晶ディスプレー)、投影システム、前方もしくは後 方投影スクリーン、拡散体、コリメーター、液晶画面、コリメーターおよび照明 取付具用の光定方向アレー、出口標識、ディスプレー、スクリーン、投影システ ム用ディスプレーなどの用途に利用できる。そのような用途については、鋭い輪 郭および平滑な壁面を有する個々の素子からなる本質的に外見的に完全な装置を 造ることが重要である。本発明の組成物は、輪郭および壁面の平滑性という重要 な側面を高めるために使用できる。いくつかの用途に関しては、場合により、導 波管コアおよびクラッドから基体を除くことができる。本発明により製造された 光学素子は、600〜900nmで、約0.1以下、好ましくは約0.05以下の 光学損失しか有さないように決定される。さらに、重合されたクラッド、コアお よび緩衝層は、ASTM D1544−80により記載されるガードナー指数が 約3以下、好ましくは約2以下、より好ましくは約1以下である。 装置試験およびモデル化では、120℃(作動温度)で10年よりも長い装置 寿命(0.1dB/cm損失の時間)および250℃(装置パッケージング温度 )で1時間よりも長い装置寿命が示されたので、宇宙空間および軍事産業で適用 できる装置の用途が可能である。材料の柔軟性は、所望の曲げ角度で装置を製作 することを可能とする。また、装置が非常に高いか又は非常に低い温度にさらさ れても、亀裂は避けられる。材料の良好な接着性は、高温および高湿などの厳し い環境においてすら、離層なしで種々の基体上に頑丈な装置を製作することを可 能とする。装置製作技術が半導体産業と適合するので、ハイブリッド光学電子回 路の発展が可能である。 下記の非限定の実施例は、本発明を説明する役割を果たす。感光性コーティン グ組成物の成分の割合および代替は、当業者には明らかであり、本発明の範囲内 にあることは認められよう。 実施例 架橋した感光性ポリマーを合成するために、モノマーもしくはオリゴマーを光 重合開始剤および抗酸化剤と混合し、よく攪拌した。得られた溶液を、スピンコ ーティング、スロットコーティングもしくは適宜のスペーサーを用いた直接液体 注入成形によりコーティングして、薄い液状フィルムにした。フィルムの厚さを 、スピン速度およびスペーサーの厚さにより制御した。この液状フィルムを、制 御された雰囲気の密封ボックスに入れ、オリエル(Oriel)水銀キセノン灯( 1000W)で15秒間空気中で、ついで60秒間窒素中で光硬化させた。50m m以下のフィルム厚さは、スローアン デクタク(Sloan Dektak) IIAプロフィロメーターで測定し、もっと厚いフィルムの厚さは顕微鏡で測定 した。 実施例1 20.0gのエトキシレート化ビスフェノールAジアクリレート(EBDA、 式Iにおいてn=1〜2)、10.0gの1,6−ヘキサンジオールジアクリレー ト(HDDA)、0.6gの光重合開始剤Irgacure651、および0.0 9gの抗酸化剤Irganox1010を含む混合物を、60℃で1時間激しく 攪拌して、均質な溶液を形成した。ついで溶液を基体にコーティングし、水銀キ セノン灯の下で硬化した。ついで、コートした基体を空気でパージした炉に入れ 、190℃で48時間焼き付けした。試料は無色のままで、ASTM D154 4−80に記載されるガードナー色指数1に相当した。基体からの離層がなく、 ポリマー層には亀裂がなかった。動的機械分析(DMA)により測定したガラス 転移温度は40℃であった。 実施例2 20.0gのエトキシレート化ビスフェノールAジアクリレート(EBDA、 式1においてn=1〜2)、10.0gの1,6−ヘキサンジオールジアクリレ ート(HDDA)、0.6gのI−651、および0.09gのI−1010を含 む 混合物に、0.3gのN−t−ブチルアα−(p−ニトロフェニル)ニトロン(BN PN)を添加した。この混合物を激しく攪拌して、均質な溶液を形成した。 実施例3 20.0gのエトキシレート化ビスフェノールAジアクリレート(EBDA、 式Iにおいてn=1〜2)、10.0gのトリメチロールプロパントリアクリレ ート(TMPTA)、1.8gの光重合開始剤Irgacure651、および 0.09gの抗酸化剤Irganox1010を含む混合物を、60℃で1時間 激しく攪拌して、均質な溶液を形成した。この溶液を基体にコーティングし、水 銀キセノン灯の下で硬化した。ついでコートした基体を空気でパージした炉に入 れ、190℃で48時間焼き付けした。試料はやや黄色がかった色で、ASTM D1544−80に記載されるガードナー色指数3に相当した。基体からの離 層がなく、ポリマー層にはいくぶん亀裂があった。動的機械分析(DMA)によ り測定したガラス転移温度は60℃だった。 実施例4 20.0gのエトキシレート化ビスフェノールAジアクリレート(EBDA、 式Iにおいてn=10)、10.0gのトリプロピレングリコールジアクリレー ト(TPGDA)、0.6gの光重合開始剤Irgacure651、および0. 09gの抗酸化剤Irganox1010を含む混合物を、60℃で1時間激し く攪拌して、均質な溶液を形成した。ついで、この溶液を基体にコーティングし 、水銀キセノン灯の下で硬化した。動的機械分析(DMA)により測定したガラ ス転移温度は10℃だった。このコートした基体を空気でパージした炉に入れ、 190℃で48時間焼き付けした。試料はやや黄色がかった色で、ASTM D 1544−80に記載されるガードナー色指数2に相当した。基体からの離層が なく、ポリマー層には亀裂がなかった。 実施例5 20.0gのエトキシレート化ビスフェノールAジアクリレート(EBDA、 式Iにおいてn=10)、10.0gのヘキサンジオールジアクリレート(HD DA)、0.6gの光重合開始剤Irgacure651、および0.09gの抗 酸化剤Irganox1010を含む混合物を、60℃で1時間激しく攪拌して 、 均質な溶液を形成した。この溶液を基体にコーティングし、水銀キセノン灯の下 で硬化した。ついで、この硬化フィルムを125℃で1時間焼き付けた。動的機 械分析(DMA)により測定したガラス転移温度は15℃だった。このコートし た基体を空気でパージした炉に入れ、190℃で48時間焼き付けした。試料は 無色のままで、ASTM D1544−80に記載されるガードナー色指数1に 相当した。基体からの離層がなく、ポリマー層には亀裂がなかった。 実施例6 10.0gのエトキシレート化ビスフェノールAジアクリレート(EBDA、 式Iにおいてn=10)、20.0gのヘキサンジオールジアクリレート(HD DA)、0.6gの光重合開始剤Irgacure651、および0.09gの抗 酸化剤Irganox1010を含む混合物を、60℃で1時間激しく攪拌して 、均質な溶液を形成した。溶液を基体にコーティングし、水銀キセノン灯の下で 硬化した。ついで硬化フィルムを125℃で1時間焼き付けた。動的機械分析( DMA)により測定したガラス転移温度は、12℃だった。コートした基体を空 気でパージした炉に入れ、190℃で48時間焼き付けした。試料は、ASTM D1544−80に記載されるガードナー色指数2に相当するやや黄色がかっ た色で、基体からの離層がなく、ポリマー層には亀裂がなかった。 実施例7 商品名CN981のSartomer製ポリエーテルウレタンジアクリレート 10g、20.0gのヘキサンジオールジアクリレート(HDDA)、Irga cure651、Irgacure500およびDaracur1173の1: 1:1の重量比での光重合開始剤混合物0.6g、および0.09gの抗酸化剤I rganox1010を含む混合物を、60℃で1時間激しく攪拌して、均質な 溶液を形成した。溶液を基体にコーティングし、水銀キセノン灯の下で硬化した 。ついでコートした基体を空気でパージした炉に入れ、190℃で48時間焼き 付けした。試料は、ASTM D1544−80に記載されるガードナー色指数 3に相当する黄色がかった色で、基体からの離層がなく、ポリマー層には亀裂が なかった。動的機械分析(DMA)により測定したガラス転移温度は、19℃で ある。比較例1 商品名Genomer T−1600のBiddle−Sawyer製芳香族 ポリウレタンジアクリレート10g、20.0gのヘキサンジオールジアクリレ ート(HDDA)、およびIrgacure651、Irgacure500お よびDaracur1173の1:1:1の重量比での光重合開始剤混合物0. 6gを含む混合物を、60℃で1時間激しく攪拌して、均質な溶液を形成した。 溶液を基体にコーティングし、水銀キセノン灯の下で硬化した。ついで硬化フィ ルムを、空気でパージした中で、190℃で48時間焼き付けた。試料は、AS TM D1544−80に記載されるガードナー色指数が18よりも大きいもの に相当する濃い茶色だった。ポリマー層におけるいくらかの亀裂、および基体か らの離層が観察された。 比較例2 Ebercyl8800(Radcure製の、官能価2.5を有するオリゴ マー性脂肪族ウレタンアクリレート)10.0g、20.0gのヘキサンジオール ジアクリレート(HDDA)、およびIrgacure651、Irgacur e500およびDaracur1173の1:1:1の重量比での光重合開始剤 混合物0.6gを含む混合物を、60℃で1時間激しく攪拌して、均質な溶液を 形成した。溶液を基体にコーティングし、水銀キセノン灯の下で硬化した。つい で硬化フィルムを、空気でパージした中で、190℃で48時間焼き付けた。試 料は、ASTM D1544−80に記載されるガードナー色指数が18よりも 大きいものに相当する濃い茶色だった。ポリマー層におけるいくらかの亀裂、お よびガラス基体からの離層が観察された。 比較例3 10.0gのTMPTA、およびIrgacure651、Irgacure5 00およびDaracur1173の1:1:1の重量比での光重合開始剤混合 物0.2gを含む混合物を、60℃で1時間激しく攪拌して、均質な溶液を形成 した。溶液を基体にコーティングし、水銀キセノン灯の下で硬化した。ついで硬 化フィルムを、空気でパージした中で、190℃で48時間焼き付けた。試料は 、ASTM D1544−80に記載されるガードナー色指数が6よりも大きい も のに相当する黄色がかった色だった。ポリマー層における重大な亀裂、および基 体からの離層が観察された。動的機械分析(DMA)により測定したガラス転移 温度は、130℃よりも高かった。 実施例8 清浄なガラス基体の上に実施例1で与えられた光重合性組成物の層をコーティ ングする。層の厚さは、低挿入損失のために従来のガラスおよびプラスチック光 ファイバーと適合する装置形成するために、約5〜500ミクロメーターの範囲 である。ついで光重合性層を、Oriel製の水銀キセノン灯を用いて、最終導 波管装置の所望の特徴および形状寸法を定めるフォトマスクを通して紫外線ビー ムに露光する。イメージ的に露光されたフィルムを、光案内コア構造物を形成す るために、プロパノールで現像する。コアよりも低い屈折率を有する実施例4で 与えられた第2重合性組成物をコーティングし、ブランケット露光してクラッド 層を形成する。続いて、装置を窒素パージ炉中で、120℃で1時間焼き付ける 。 実施例9 実施例4で与えられた光重合性組成物を、ポリイミドフィルム基体にスピンコ ーティングし、紫外線ビームにブランケット露光して液体モノマー組成物を固体 の薄いフィルム中に緩衝層として硬化させる。ついで実施例1で与えられた組成 物を、緩衝層の上面にコア層としてコーティングする。コア層の厚さは、低挿入 損失のために従来のガラスおよびプラスチック光ファイバーと適合する装置形成 するために、約5〜500ミクロメーターの範囲である。ついで光重合性コア層 を、最終導波管装置の所望の特徴および形状寸法を定めるフォトマスクを通して 紫外線ビームに露光する。イメージ的に露光されたフィルムを、光案内コア構造 物を形成するために、プロパノールで現像する。実施例4で与えられた重合性組 成物を、イメージコア層の上面にコーティングし、ブランケット露光してクラッ ド層を形成する。続いて、装置を窒素パージ炉中で、120℃で1時間焼き付け る。 実施例10 実施例4で与えられた光重合性組成物を、シリコンウェファーにスピンコーテ ィングし、紫外線ビームにブランケット露光して液体モノマー組成物を固体の薄 いフィルム中に緩衝層として硬化させる。実施例1で与えられた組成物を、緩衝 層の上面にコア層としてコーティングする。ついで光重合性コア層を、最終導波 管装置の所望の特徴および形状寸法を定めるフォトマスクを通して紫外線ビーム に露光する。イメージ的に露光されたフィルムを、光案内コア構造物を形成する ために、プロパノールで現像する。実施例4で与えられた重合性組成物を、イメ ージコア層の上面にコーティングし、プロパノールで現像した後にコア構造物を 包むように、最終クラッド層の所望の特徴および形状寸法を定めるフォトマスク を通して紫外線ビームに露光する。続いて、装置を窒素パージ炉中で、120℃ で1時間焼き付ける。
【手続補正書】 【提出日】平成11年10月13日(1999.10.13) 【補正内容】 請求の範囲 1.光学素子を製造する方法であって: (a)少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第1フ リーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なくと も1種の第1光開始剤の混和物を含んでなる第1感光性組成物を基体にコーティ ングすること; (b)該第1感光性組成物を十分な化学線にイメージ的に露光してその重合を 行なわせて、イメージ領域および非イメージ領域を形成させ;ついで、光伝達パ ターン化されたコアを形成するイメージ領域を除去せずに該非イメージ領域を除 去すること; (c)少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第2フ リーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なくと も1種の第2光重合開始剤の混和物を含んでなる第2感光性組成物を該パターン 化されたコアにコーティングすること; (d)該第1および第2感光性組成物を十分な化学線に露光して、重合された 第2感光性組成物がコアを包むクラッドを形成するように該第2感光性組成物を 重合させること、この際、該重合されたコアは約80℃以下のガラス転移温度を 有し、該重合されたクラッドは約60℃以下のガラス転移温度を有し、そして該 クラッドの屈折率は該コアの屈折率より小さい を含んでなる方法。 2.基体;該基体の表面上のパターン化された光伝達コア組成物;および該コ アのパターン上の光反射クラッド組成物を含んでなる光学素子であって、該コア 組成物が約80℃以下のガラス転移温度を有しかつ該クラッド組成物が約60℃ 以下のガラス転移温度を有し、そして該クラッドの屈折率が該コアの屈折率より も小さい光学素子。 3.請求項2に記載の光学素子であって、 (a)パターン化された光伝達コアが、基体の表面上に適用された第1感光性 組成物をイメージ的に露光して現像することにより形成され、該第1感光性組成 物は、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第1フリ ーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも 1種の第1光重合開始剤を含んでなり;そして (b)クラッドが、パターン化されたコア上に適用された第2感光性組成物を 露光することにより成形され、該第2感光性組成物は、少なくとも1つのエチレ ン性不飽和基を有する少なくとも1種の第2フリーラジカル重合性モノマー、オ リゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも1種の第2光重合開始剤を含ん でなり、 該工程(b)が、パターン化された第2感光性組成物が該コアのパターンをイ メージ的に包みかつ一致する該クラッドを成形するように、該パターン化された コア上の第2感光性組成物をイメージ的に露光して現像することにより行なわれ る、光学素子。 4.請求項2に記載の光学素子であって、 (a)パターン化された光伝達コアが、基体の表面上に適用された第1感光性 組成物をイメージ的に露光して現像することにより形成され、該第1感光性組成 物は、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第1フリ ーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも 1種の第1光重合開始剤を含んでなり;そして (b)クラッドが、パターン化されたコア上に適用された第2感光性組成物を 露光することにより成形され、該第2感光性組成物は、少なくとも1つのエチレ ン性不飽和基を有する少なくとも1種の第2フリーラジカル重合性モノマー、オ リゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも1種の第2光重合開始剤を含ん でなり、 該第1感光性層を該基体上にコーティングする前に、該基体と該第1感光性層 との間の該基体上に第3感光性組成物の層を適用すること、この際、該第3感光 性組成物は、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第 3フリーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少な くとも1種の第3光重合開始剤の混和物を含んでなる;ついで、該第1感光性層 を該基体上にコーティングする前に、前記第3感光性組成物を十分な化学線に露 光して該基体上に均一な重合層を提供すること、この際、該重合された第3感光 性組成物は約60℃以下のガラス転移温度を有する、を含んでなる追加の工程に より形成される、光学素子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ステンジェル,ケリー・エム・ティー アメリカ合衆国ニュージャージー州07040, メイプルウッド,ボイデン・パークウェ イ・サウス 29 (72)発明者 シャックレット,ローレンス・ダブリュー アメリカ合衆国ニュージャージー州07040, メイプルウッド,アルデン・プレイス 11 (72)発明者 エルダダ,ローエイ アメリカ合衆国ニュージャージー州07866, ロッカウェイ,レイクサイド・ドライブ 20 (72)発明者 ヤードリー,ジェームズ・ティー アメリカ合衆国ニュージャージー州07960, モーリスタウン,マッカロック・アベニュ ー 40

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.光学素子を製造する方法であって: a)少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第1フリ ーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも 1種の第1光開始剤の混和物を含んでなる第1感光性組成物を基体にコーティン グすること; b)該第1感光性組成物を十分な化学線にイメージ的に露光してその重合を行 なわせて、イメージ領域および非イメージ領域を形成させ;ついで、光伝達パタ ーン化されたコアを形成するイメージ領域を除去せずに該非イメージ領域を除去 すること; c)少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第2フリ ーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも 1種の第2光重合開始剤の混和物を含んでなる第2感光性組成物を該パターン化 されたコアにコーティングすること; d)該第1および第2感光性組成物を十分な化学線に露光して、重合された第 2感光性組成物がコアを包むクラッドを形成するように該第2感光性組成物を重 合させること、この際、該重合されたコアは約80℃以下のガラス転移温度を有 し、該重合されたクラッドは約60℃以下のガラス転移温度を有し、そして該ク ラッドの屈折率は該コアの屈折率より小さい を含んでなる方法。 2.第1感光性層を基体上にコーティングする前に、該基体と該第1感光性 層との間の該基体上に第3感光性組成物の層をコーティングすること、この際、 該第3感光性組成物は、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する第3フリ ーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および第3光重合 開始剤の混和物を含んでなる;ついで、該第1感光性層を該基体上にコーティン グする前に、前記第3感光性組成物を十分な化学線に露光して該基体上に均一な 重合層を提供すること、この際、該重合された第3感光性組成物は約60℃以下 のガラス転移温度を有する、を更に含んでなる、請求項1に記載の方法。 3.工程(d)が、第2感光性組成物を十分な化学線にイメージ的に露光し て該第2感光性組成物の重合をもたらし、該重合された第2感光性組成物がコア をイメージ的に包みかつ該コアと一致するクラッドを形成するように該第2感光 性組成物のイメージ領域および非イメージ領域を形成し、ついで該第2感光性組 成物のイメージ領域を除去せずに該第2感光性組成物の非イメージ領域を除去す ることを含んでなる、請求項1に記載の方法。 4.各々のフリーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマーが 、少なくとも2つのエチレン性不飽和基を有するアクリレートもしくはメタクリ レートである、請求項1に記載の方法。 5.各々の感光性組成物が、抗酸化剤、光安定剤、体膨張剤、充填剤、フリ ーラジカルスカベンジャー、コントラスト増強剤、ニトロンおよび染料からなる 群より選ばれる1つもしくはそれ以上の化合物を更に含んでなる、請求項1に記 載の方法。 6.基体;該基体の表面上のパターン化された光伝達コア組成物;および該 コアのパターン上の光反射クラッド組成物を含んでなる光学素子であって、該コ ア組成物が約80℃以下のガラス転移温度を有しかつ該クラッド組成物が約60 ℃以下のガラス転移温度を有し、そして該クラッドの屈折率が該コアの屈折率よ りも小さい光学素子。 7.基体とコアとの間の該基体上に光反射クラッド組成物のもう1つの層を 含んでなり、前記クラッド組成物が約60℃以下のガラス転移温度を有する、請 求項6に記載の光学素子。 8.基体が、シリコン、二酸化ケイ素、ヒ化ガリウム、窒化ケイ素、ガラス 、石英、プラスチック、セラミックおよび結晶性材料からなる群より選ばれる、 請求項6に記載の光学素子。 9.a)パターン化された光伝達コアが、基体の表面上に適用された第1感 光性組成物をイメージ的に露光して現像することにより形成され、該第1感光性 組成物は、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の第1 フリーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少なく とも1種の第1光重合開始剤を含んでなり;そして b)クラッドが、パターン化されたコア上に適用された第2感光性組成物を露 光することにより成形され、該第2感光性組成物は、少なくとも1つのエチレン 性不飽和基を有する少なくとも1種の第2フリーラジカル重合性モノマー、オリ ゴマーもしくはポリマー成分および少なくとも1種の第2光重合開始剤を含んで なる、請求項6に記載の光学素子。 10.工程(b)が、パターン化された第2感光性組成物がコアのパターンを イメージ的に包みかつ一致するクラッドを成形するように、パターン化されたコ ア上の第2感光性組成物をイメージ的に露光して現像することにより行なわれる 、請求項9に記載の光学素子。 11.第1感光性層を基体上にコーティングする前に、該基体と該第1感光性 層との間の該基体上に第3感光性組成物の層を適用すること、この際、該第3感 光性組成物は、少なくとも1つのエチレン性不飽和基を有する少なくとも1種の 第3フリーラジカル重合性モノマー、オリゴマーもしくはポリマー成分および少 なくとも1種の第3光重合開始剤の混和物を含んでなる;ついで、該第1感光性 層を該基体上にコーティングする前に、前記第3感光性組成物を十分な化学線に 露光して該基体上に均一な重合層を提供すること、この際、該重合された第3感 光性組成物は約60℃以下のガラス転移温度を有する、を含んでなる追加の工程 により形成される、請求項9に記載の光学素子。
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