JP2001335528A - ６−アシル−２−置換ナフタレン類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 容易に、収率よく、選択的に６−アシル−
２−置換ナフタレン類を製造する方法を提供すること。 【解決手段】２−置換ナフタレン類とアシル化剤を、酸
触媒および一般式（１） （式中、Ｍはアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金
属イオンを表わし、Ｘは過ハロゲン酸イオン、ペルフル
オロアルキルスルホン酸イオン、ビス（ペルフルオロア
ルキルスルホニル）アミドイオンまたはトリス（ペルフ
ルオロアルキルスルホニル）メタイドイオンを表わす。
Ｍがアルカリ金属イオンのとき、ｎは１を表わし、Ｍが
アルカリ土類金属イオンのとき、ｎは２を表わす。）で
示される金属塩の存在下に反応させることを特徴とする
６−アシル−２−置換ナフタレン類の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【0001】

【発明の属する技術分野】本発明は、６−アシル−２−
置換ナフタレン類の製造方法に関する。

【0002】

【従来の技術】６−アセチル−２−メトキシナフタレン
に代表される６−アシル−２−置換ナフタレン類は、医
薬中間体等として有用な化合物である。

【0003】かかる６−アシル−２−置換ナフタレン類の製
造方法としては、例えばニトロベンゼン中、塩化アル
ミニウムの存在下、２−メトキシナフタレンと塩化アセ
チルを反応させる方法（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｅｓ，５３，５（１９７３））フッ化水素酸溶媒中
で、２−メトキシナフタレンとアシル化剤を反応させる
方法（特開昭６１−１７８９４７号公報）フッ化水素
酸溶媒中、三フッ化ホウ素の存在下、２−メチルナフタ
レンとアシル化剤を反応させる方法（特開昭５４−１３
５７５６号公報）塩化インジウム触媒の存在下に、２
−メトキシナフタレンとアシル化剤を反応させる方法
（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．
1，１７０３（１９９４））等が知られている。

【0004】しかしながら、の方法は、反応温度の制御に
注意を要し、しかも反応時間が長く、収率も低いという
問題が、およびの方法は、取り扱いが困難で毒性の
高いフッ化水素酸を大量に用いるという問題が、の方
法は、目的とする２−メトキシ−６−アシルナフタレン
の収率が低いという問題があった。

【0005】

【発明が解決しようとする課題】このような状況の下、
本発明者らは、毒性の高い試剤を大量に用いることな
く、容易に、収率よく、選択的に６−アシル−２−置換
ナフタレン類を製造する方法を鋭意検討した結果、酸触
媒とともに、過塩素酸リチウム等の特定の金属塩を併用
することにより、６−アシル−２−置換ナフタレン類が
選択的に、収率よく得られることを見出し、本発明に至
った。

【0006】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、２−
置換ナフタレン類とアシル化剤を、酸触媒および一般式
（１） （式中、Ｍはアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金
属イオンを表わし、Ｘは過ハロゲン酸イオン、ペルフル
オロアルキルスルホン酸イオン、ビス（ペルフルオロア
ルキルスルホニル）アミドイオンまたはトリス（ペルフ
ルオロアルキルスルホニル）メタイドイオンを表わす。
Ｍがアルカリ金属イオンのとき、ｎは１を表わし、Ｍが
アルカリ土類金属イオンのとき、ｎは２を表わす。）で
示される金属塩の存在下に反応させることを特徴とする
６−アシル−２−置換ナフタレン類の製造方法を提供す
るものである。

【0007】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。２−置換ナフタレン類の置換基としては、例えば
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル
基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基等の炭素数１〜１０
のアルキル基、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニ
ル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜１０のアルケニル
基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−
ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−オク
チルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等の炭素数１〜１０
のアルコキシ基等が挙げられる。

【0008】かかる２−置換ナフタレン類としては、例えば
２−メチルナフタレン、２−エチルナフタレン、２−ｎ
−プロピルナフタレン、２−イソプロピルナフタレン、
２−ｎ−ブチルナフタレン、２−ｎ−ヘキシルナフタレ
ン、２−シクロヘキシルナフタレン、２−ｎ−デシルナ
フタレン、２−ビニルナフタレン、２−プロペニルナフ
タレン、２−ブテニルナフタレン、２−ヘキセニルナフ
タレン、２−メトキシナフタレン、２−エトキシナフタ
レン、２−ｎ−プロポキシナフタレン、２−ｔｅｒｔ−
ブトキシナフタレン、２−ｎ−オクチルオキシナフタレ
ン等が挙げられる。

【0009】アシル化剤としては、例えば塩化アセチル、臭
化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ｎ−ブチリル、塩
化ヘキサノイル、塩化ベンゾイル、臭化ベンゾイル等の
カルボン酸ハロゲン化物、例えば無水酢酸、無水プロピ
オン酸、無水コハク酸、無水安息香酸等のカルボン酸無
水物、例えばベンゾイルトリフラート等の混合酸無水物
等が挙げられる。なお、かかるアシル化剤を構成する例
えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のア
シル基は、例えば炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換
されていてもよいアリール基、ヒドロキシ基、炭素数１
〜１０のアルキルチオ基、炭素数２〜１０のアシル基、
保護基で保護されたアミノ基等で置換されていてもよ
い。

【0010】ここで、炭素数１〜１０のアルコキシ基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−
ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−オク
チルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が挙げられ、置換
されていてもよいアリール基としては、例えばフェニル
基、ナフチル基等、およびこれらフェニル基、ナフチル
基等を構成する芳香環に、例えばアルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲン原子、ニトロ基等が置換した、例えば２
−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メト
キシフェニル基、３−ニトロフェニル基等が挙げられ
る。

【0011】また、炭素数１〜１０のアルキルチオ基として
は、上記した炭素数１〜１０のアルコキシ基を構成する
酸素原子が硫黄原子に代わった、例えばメチルチオ基、
エチルチオ基等が、炭素数２〜１０のアシル基として
は、例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基
等が挙げられる。さらに、保護基で保護されたアミノ基
の保護基としては、例えばアセチル基、トリフルオロア
セチル基等のアシル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリル基等のトリアルキルシリル基、
ベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等の
スルホニル基等が挙げられ、かかる保護基で保護された
アミノ基としては、例えばアセチルアミノ基、トリメチ
ルシリルアミノ基、ベンゼンスルホニルオキシアミノ基
等が挙げられる。

【0012】２−置換ナフタレン類とアシル化剤の使用モル
比は特に制限されず、反応性、経済性等を考慮して適宜
決めればよく、２−置換ナフタレン類をアシル化剤に対
して等モル倍以上用いてもよいし、アシル化剤を２−置
換ナフタレン類に対して等モル倍以上用いてもよい。

【0013】酸触媒としては、例えば塩化アルミニウム、臭
化アルミニウム、塩化インジウム、塩化アンチモン（Ｉ
ＩＩ）、塩化アンチモン（Ｖ）、塩化鉄（ＩＩ）、塩化
鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、四塩化チタン等の金
属塩化物、チタン テトライソプロポキシド、ジルコニ
ウム テトラｔｅｒｔ−ブトキシド、アルミニウム ト
リイソプロポキシド等の金属アルコキシド類、フッ化水
素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、リン酸等のプロ
トン酸類、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミ
ド、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミド等の
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）イミド類、ト
リス（トリフルオロメタンスルホニル）メタン、トリス
（ノナフルオロブタンスルホニル）メタン等のトリス
（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン類、ヨウ
素、三フッ化ホウ素、一般式（２） （式中、Ｍ’は第ＩＶａ族、第Ｖａ族、第ＶＩａ族、第
ＶＩＩａ族、第ＶＩＩＩ族、第Ｉｂ族、第ＩＩｂ族、第
ＩＩＩｂ族、第ＩＶｂ族、第Ｖｂ族もしくは第ＶＩｂ族
金属原子または水素原子を表わす。Ｍ’がアンチモンの
とき、Ｒは炭素数１〜１０のペルフルオロアルキル基ま
たは炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、Ａは酸素原
子、窒素原子または炭素原子を表わし、ｎは３を表わ
す。ここで、Ａが酸素原子の場合、ｍは１を、Ａが窒素
原子の場合、ｍは２を、Ａが炭素原子の場合、ｍは３を
表わす。Ｍ’がアンチモン以外の金属原子のとき、Ｒは
トリフルオロメチル基を表わし、Ａは酸素原子を表わ
し、ｍは１を表わし、ｎは該金属原子の価数を表わす。
Ｍ’が水素原子のとき、Ｒはヒドロキシ基、炭素数１〜
１０のペルフルオロアルキル基、炭素数１〜１０のアル
キル基または置換されていてもよいアリール基を表わ
し、Ａは酸素原子を表わし、ｍおよびｎは１を表わ
す。）で示される化合物等が挙げられ、反応活性の点
で、上記一般式（２）で示される化合物が好適である。

【0014】第ＩＶａ族金属原子としては、例えばチタン、
ジルコニウム、ハフニウム等が、第Ｖａ族金属原子とし
ては、例えばバナジウム等が、第ＶＩａ族金属原子とし
ては、例えばモリブデン等が、第ＶＩＩａ族金属原子と
しては、例えばマンガン等が挙げられる。

【0015】第ＶＩＩＩ族金属原子としては、例えば鉄等
が、第Ｉｂ族金属原子としては、例えば銅、銀等が、第
ＩＩｂ族金属原子としては、例えば亜鉛等が、第ＩＩＩ
ｂ族金属原子としては、例えばホウ素、アルミニウム、
ガリウム、インジウム等が、第ＩＶｂ族金属原子として
は、例えばスズ等が、第Ｖｂ族金属原子としては、例え
ばアンチモン、ビスマス等が、第ＶＩｂ族金属原子とし
ては、例えばテルル、ポロニウム等が挙げられる。

【0016】炭素数１〜１０のペルフルオロアルキル基とし
ては、例えばトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエ
チル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチ
ル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロ
ヘキシル基、ヘプタデカフルオロオクチル基等が挙げら
れる。

【0017】炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−デシル基等
が挙げられる。

【0018】置換されていてもよいアリール基としては、例
えばフェニル基、ナフチル基等、およびこれらフェニル
基、ナフチル基等を構成する芳香環に、例えばアルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基等が置換し
た、例えば２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル
基、４−メトキシフェニル基、３−ニトロフェニル基等
が挙げられる。

【0019】かかる一般式（２）で示される化合物として
は、例えばハフニウム トリフラート、鉄（ＩＩＩ）ト
リフラート、鉄（ＩＩ）トリフラート、ボロン トリフ
ラート、アルミニウム トリフラート、ガリウム トリ
フラート、インジウム トリフラート、スズ（ＩＩ）ト
リフラート、ビスマス（ＩＩＩ）トリフラート等の金属
トリフルオロメタンスルホン酸塩、アンチモン（ＩＩ
Ｉ）トリフラート、アンチモン（ＩＩＩ）ノナフルオロ
ブタンスルホナート等のアンチモン（ＩＩＩ）ペルフル
オロアルキルスルホン酸塩、アンチモン（ＩＩＩ）ビス
（トリフルオロメタンスルホニル）アミド等のアンチモ
ン（ＩＩＩ）ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）
アミド類、アンチモン（ＩＩＩ）トリス（トリフルオロ
メタンスルホニル）メタイド等のアンチモン（ＩＩＩ）
トリス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタイド
類、例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ノナフルオ
ロブタンスルホン酸等のペルフルオロアルキルスルホン
酸類、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸等のスルホン酸類、硫酸等が挙げられ
る。

【0020】かかる酸触媒の使用量は、アシル化剤に対し
て、通常０．０１〜５００モル％であり、好ましくは
０．１〜３０モル％である。

【0021】本発明は、酸触媒とともに、一般式（１） （式中、Ｍはアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金
属イオンを表わし、Ｘは過ハロゲン酸イオン、ペルフル
オロアルキルスルホン酸イオン、ビス（ペルフルオロア
ルキルスルホニル）アミドイオンまたはトリス（ペルフ
ルオロアルキルスルホニル）メタイドイオンを表わす。
Ｍがアルカリ金属イオンのとき、ｎは１を表わし、Ｍが
アルカリ土類金属イオンのとき、ｎは２を表わす。）で
示される金属塩を用いることが重要であり、これにより
６−アシル−２−置換ナフタレン類が選択的に得られ
る。

【0022】上記一般式（１）で示される金属塩の式中、Ｍ
はアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを
表わすが、アルカリ金属イオンとしては、例えばリチウ
ムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン等が挙げ
られ、アルカリ土類金属イオンとしては、例えばカルシ
ウムイオン、マグネシウムイオン、バリウムイオン等が
挙げられる。

【0023】また、上記一般式（１）の式中、Ｘは過ハロゲ
ン酸イオン、ペルフルオロアルキルスルホン酸イオン、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）アミドイオン
またはトリス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタ
イドイオンを表わす。

【0024】過ハロゲン酸イオンとしては、例えば過塩素酸
イオン、過臭素酸イオン、過ヨウ素酸イオン等が挙げら
れる。ペルフルオロアルキルスルホン酸イオンとして
は、例えばトリフルオロメチルスルホン酸イオン、ペン
タフルオロエチルスルホン酸イオン、ヘプタフルオロプ
ロピルスルホン酸イオン、ノナフルオロブチルスルホン
酸イオン、ヘプタデカフルオロオクチルスルホン酸イオ
ン等が挙げられる。

【0025】ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）アミ
ドイオンとしては、例えばビス（トリフルオロメチルス
ルホニル）アミドイオン、ビス（ペンタフルオロエチル
スルホニル）アミドイオン、ビス（ヘプタフルオロプロ
ピルスルホニル）アミドイオン、ビス（ノナフルオロブ
チルスルホニル）アミドイオン、ビス（ヘプタデカフル
オロオクチルスルホニル）アミドイオン等が挙げられ
る。

【0026】トリス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メ
タイドイオンとしては、例えばトリス（トリフルオロメ
チルスルホニル）メタイドイオン、トリス（ペンタフル
オロエチルスルホニル）メタイドイオン、トリス（ヘプ
タフルオロプロピルスルホニル）メタイドイオン、トリ
ス（ノナフルオロブチルスルホニル）メタイドイオン、
トリス（ヘプタデカフルオロオクチルスルホニル）メタ
イドイオン等が挙げられる。

【0027】かかる一般式（１）で示される金属塩として
は、例えば過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム等の
アルカリ金属過塩素酸塩、例えば過ヨウ素酸リチウム、
過ヨウ素酸ナトリウム等のアルカリ金属過ヨウ素酸塩、
例えば過塩素酸マグネシウム、過塩素酸カルシウム、過
塩素酸バリウム等のアルカリ土類金属過塩素酸塩、例え
ばリチウム トリフルオロメタンスルホナート、ナトリ
ウム トリフルオロメタンスルホナート、カリウム ト
リフルオロメタンスルホナート、リチウムノナフルオロ
ブタンスルホナート、リチウム ヘプタデカフルオロオ
クタンスルホナート等のアルカリ金属ぺルフルオロアル
キルスルホン酸塩、マグネシウムトリフルオロメタンス
ルホナート、カルシウム トリフルオロメタンスルホナ
ート、バリウム トリフルオロメタンスルホナート等の
アルカリ土類金属ペルフルオロアルキルスルホン酸塩、
リチウム ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミ
ド、ナトリウム ビス（トリフルオロメタンスルホニ
ル）アミド、リチウムビス（ノナフルオロブタンスルホ
ニル）アミド等のアルカリ金属ビス（ペルフルオロアル
キルスルホニル）イミド、リチウム トリス（トリフル
オロメタンスルホニル）メタイド、ナトリウム トリス
（トリフルオロメタンスルホニル）メタイド、リチウム
トリス（ノナフルオロブタンスルホニル）メタイド等
のアルカリ金属ビス（ペルフルオロアルキルスルホニ
ル）メタン等が挙げられ、アルカリ金属過塩素酸塩、ア
ルカリ金属ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミ
ドが好ましい。

【0028】かかる一般式（１）で示される化合物の使用量
は、それが少ないと効果が小さいため、アシル化剤に対
して、通常０．０１モル倍以上、好ましくは０．１モル
倍以上である。使用量の上限は特にないが、あまり多す
ぎると経済的に不利になりやすいため、実用的には、ア
シル化剤に対して、１００モル倍以下、好ましくは１０
モル倍以下である。

【0029】本反応は、通常２−置換ナフタレン類、アシル
化剤、酸触媒および一般式（１）で示される金属塩を混
合することにより実施され、その混合順序は特に制限さ
れない。また、本反応は、窒素ガス、アルゴンガス等の
不活性ガス雰囲気下で行なってもよい。

【0030】反応温度は、通常−５０〜２００℃、好ましく
は０〜１５０℃である。

【0031】反応時間は特に制限されず、例えばガスクロマ
トグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の通常の
分析手段により反応の進行を分析し、２−置換ナフタレ
ン類またはアシル化剤の少なくとも一方が消失した時
点、反応の進行が停止した時点等を終点とすればよい。

【0032】また、本反応は無溶媒で行なってもよいし、溶
媒の存在下に行なってもよい。溶媒の存在下に反応を実
施する場合、溶媒の使用量は特に制限されない。溶媒と
しては、反応に不活性なものであればよく、例えばジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゾトリフロライド等の
ハロゲン化炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、シク
ロヘキサン、へプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ニト
ロベンゼン、ニトロメタン、ニトロエタン等のニトロ化
炭化水素系溶媒、アセトニトリル、二硫化炭素等の非プ
ロトン性溶媒等が挙げられ、好ましくはニトロ化炭化水
素系溶媒が挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独で用
いてもよいし、混合して用いてもよい。また、用いる２
−置換ナフタレン類よりも、ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素系溶媒が、反応に対して不活性な場合に
は、該芳香族炭化水素系溶媒を溶媒として用いてもよ
い。

【0033】反応終了後、例えば反応混合物に水もしくは希
アルカリ水、必要に応じて水に不溶の有機溶媒を加えて
抽出処理することにより、目的とする６−アシル−２−
置換ナフタレン類を含む有機層が得られ、該有機層を濃
縮処理することにより、６−アシル−２−置換ナフタレ
ン類を取り出すことができる。取り出した６−アシル−
２−置換ナフタレン類は、例えば蒸留、再結晶、カラム
クロマトグラフィー等によりさらに精製してもよい。

【0034】かかる６−アシル−２−置換ナフタレン類とし
ては、例えば６−アセチル−２−メトキシナフタレン、
６−プロピオニル−２−メトキシナフタレン、６−ブチ
リル−２−メトキシナフタレン、６−イソブチリル−２
−メトキシナフタレン、６−バレリル−２−メトキシナ
フタレン、６−ピバロイル−２−メトキシナフタレン、
６−ベンゾイル−２−メトキシナフタレン、６−アセチ
ル−２−エトキシナフタレン、６−プロピオニル−２−
エトキシナフタレン、６−ピバロイル−２−エトキシナ
フタレン、６−ベンゾイル−２−エトキシナフタレン、
６−アセチル−２−ブトキシナフタレン、６−プロピオ
ニル−２−ブトキシナフタレン、

【0035】６−アセチル−２−メチルナフタレン、６−プ
ロピオニル−２−メチルナフタレン、６−ブチリル−２
−メチルナフタレン、６−イソブチリル−２−メチルナ
フタレン、６−バレリル−２−メチルナフタレン、６−
ピバロイル−２−メチルナフタレン、６−ベンゾイル−
２−メチルナフタレン、６−アセチル−２−エチルナフ
タレン、６−プロピオニル−２−エチルナフタレン、６
−ピバロイル−２−エチルナフタレン、６−ベンゾイル
−２−エチルナフタレン、６−アセチル−２−ブチルナ
フタレン、６−プロピオニル−２−ブチルナフタレン、
６−アセチル−２−ビニルナフタレン、６−プロピオニ
ル−２−ビニルナフタレン、６−ピバロイル−２−ビニ
ルナフタレン、６−ベンゾイル−２−ビニルナフタレ
ン、６−アセチル−２−ブテニルナフタレン、６−プロ
ピオニル−２−ブテニルナフタレン等が挙げられる。

【0036】

【発明の効果】本発明によれば、２−置換ナフタレン類
とアシル化剤とを、酸触媒および過塩素酸リチウム等の
特定の金属塩の存在下に反応させることにより、６−ア
シル−２−置換ナフタレン類を選択的に、収率よく得る
ことができる。

【0037】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。

【0038】実施例１ アルゴン雰囲気下、室温で、反応容器に、２−メトキシ
ナフタレン１４１ｍｇ、無水酢酸９１ｍｇ、過塩素酸リ
チウム０．５７ｇおよびニトロメタン０．９ｍｌを仕込
み、さらにアンチモン（ＩＩＩ）トリフラート２５ｍｇ
を加え、内温５０℃で４時間攪拌、保持した。得られた
反応混合液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで２回抽出処理し
た。得られた油層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた
後、硫酸ナトリウムをろ別し、濾液をガスクロマトグラ
フィーにて分析したところ、９３％収率で６−アセチル
−２−メトキシナフタレンが生成していた。副生物とし
て、１−アセチル−２−メトキシナフタレン、８−アセ
チル−２−メトキシナフタレンおよびジアセチル−２−
メトキシナフタレンが生成していた。６−アセチル−２
−メトキシナフタレンとかかる副生物を合わせたアセチ
ル化体に対する６−アセチル−２−メトキシナフタレン
の比率（位置選択率）は、９５％であった。

【0039】実施例２〜１１ 実施例１において、アンチモン（ＩＩＩ）トリフラート
に代えて下記表１に示す触媒を用いた以外は実施例１と
同じ使用モル比で実施し、６−アセチル−２−メトキシ
ナフタレンを得た。結果を表１に示した。なお、表１中
の位置選択率は、生成アセチル化体に対する６−アセチ
ル−２−メトキシナフタレンの比率を表わす。

【0040】

【表１】

【0041】実施例１２〜１３ 実施例１において、過塩素酸リチウムに代えて表２に示
す化合物を用いた以外は実施例１と同じ使用モル比で実
施し、６−アセチル−２−メトキシナフタレンを得た。
結果を表２に示した。なお、表２中の位置選択率は、生
成アセチル化体に対する６−アセチル−２−メトキシナ
フタレンの比率を表わす。

【0042】

【表２】

【0043】実施例１４ 実施例１において、無水酢酸に代えて無水イソブタン酸
を用いた以外は実施例１と同じ使用モル比で反応を実施
し、６−イソブタノイル−２−メトキシナフタレンを収
率６５％で得た。原料の２−メトキシナフタレンは２１
％残存していたが、他の副生イソブタノイル化体は、ガ
スクロマトグラム上確認されなかった。

【0044】比較例１ 実施例１において、過塩素酸リチウムを加えない以外は
実施例１と同じ使用モル比で実施し、６−アセチル−２
−メトキシナフタレンを収率８％で得た。生成アセチル
化体に対する６−アセチル−２−メトキシナフタレンの
比率（位置選択率）は、２０％であった。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G069 AA06 AA15 BA21A BA21B BB08A BB08B BB10A BB10B BC01A BC04B BC08A BC15A BC16B BC17B BC18B BC20A BC22B BC24A BC25B BC26A BC26B BC30A BC34A BC49A BC52B BC53A BC57A BC61A BC65A BC66B BC69A BE13A BE14B BE22A BE22B BE34A BE34B CB25 DA02 4H006 AA02 AC44 BA02 BA06 BA09 BA10 BA11 BA13 BA19 BA34 BA36 BA37 BA52 BA66 4H039 CA62 CD10

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項1】２−置換ナフタレン類とアシル化剤を、酸
   触媒および一般式（１） （式中、Ｍはアルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金
   属イオンを表わし、Ｘは過ハロゲン酸イオン、ペルフル
   オロアルキルスルホン酸イオン、ビス（ペルフルオロア
   ルキルスルホニル）アミドイオンまたはトリス（ペルフ
   ルオロアルキルスルホニル）メタイドイオンを表わす。
   Ｍがアルカリ金属イオンのとき、ｎは１を表わし、Ｍが
   アルカリ土類金属イオンのとき、ｎは２を表わす。）で
   示される金属塩の存在下に反応させることを特徴とする
   ６−アシル−２−置換ナフタレン類の製造方法。
2. 【請求項2】酸触媒が、一般式（２） （式中、Ｍ’は第ＩＶａ族、第Ｖａ族、第ＶＩａ族、第
   ＶＩＩａ族、第ＶＩＩＩ族、第Ｉｂ族、第ＩＩｂ族、第
   ＩＩＩｂ族、第ＩＶｂ族、第Ｖｂ族もしくは第ＶＩｂ族
   金属原子または水素原子を表わす。Ｍ’がアンチモンの
   とき、Ｒは炭素数１〜１０のペルフルオロアルキル基ま
   たは炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、Ａは酸素原
   子、窒素原子または炭素原子を表わし、ｎは３を表わ
   す。ここで、Ａが酸素原子の場合、ｍは１を、Ａが窒素
   原子の場合、ｍは２を、Ａが炭素原子の場合、ｍは３を
   表わす。Ｍ’がアンチモン以外の金属原子のとき、Ｒは
   トリフルオロメチル基を表わし、Ａは酸素原子を表わ
   し、ｍは１を表わし、ｎは該金属原子の価数を表わす。
   Ｍ’が水素原子のとき、Ｒはヒドロキシ基、炭素数１〜
   １０のペルフルオロアルキル基、炭素数１〜１０のアル
   キル基または置換されていてもよいアリール基を表わ
   し、Ａは酸素原子を表わし、ｍおよびｎは１を表わ
   す。）で示される化合物である請求項１に記載の６−ア
   シル−２−置換ナフタレン類の製造方法。
3. 【請求項3】一般式（２）で示される金属塩が、アルカ
   リ金属過塩素酸塩またはアルカリ金属ビス（トリフルオ
   ロメタンスルホニル）アミドである請求項２に記載の６
   −アシル−２−置換ナフタレン類の製造方法。