JP2001318333A - 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 - Google Patents
走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高画質で鮮明なる画像を得ることができる走
査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。 【解決手段】 光源手段１から出射された少なくとも１
つの光束を偏向手段５に入射させる入射光学手段１６
と、該偏向手段で反射偏向された少なくとも１つの光束
を被走査面９上に結像させる少なくとも１つの回折面６
４を有する結像手段６と、を有する走査光学装置におい
て、該回折面で回折される回折光のうち、該被走査面上
にスポットを形成させる為に使用する次数の回折光に対
して他の次数の不要回折光の迷光を制限する制限手段７
を、該回折面と該被走査面との間の光路中に設けたこ
と。
査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。 【解決手段】 光源手段１から出射された少なくとも１
つの光束を偏向手段５に入射させる入射光学手段１６
と、該偏向手段で反射偏向された少なくとも１つの光束
を被走査面９上に結像させる少なくとも１つの回折面６
４を有する結像手段６と、を有する走査光学装置におい
て、該回折面で回折される回折光のうち、該被走査面上
にスポットを形成させる為に使用する次数の回折光に対
して他の次数の不要回折光の迷光を制限する制限手段７
を、該回折面と該被走査面との間の光路中に設けたこ
と。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査光学装置及びそ
れを用いた画像形成装置に関し、特に光源手段から光変
調され出射した少なくとも１つの光束を回転多面鏡等よ
り成る偏向手段で反射偏向（偏向走査）させた後、少な
くとも１つの回折面を有する結像手段を介して被走査面
上を光走査して画像情報を記録するようにした、例えば
電子写真プロセスを有するレーザービームプリンターや
デジタル複写機等の装置に好適なものである。
れを用いた画像形成装置に関し、特に光源手段から光変
調され出射した少なくとも１つの光束を回転多面鏡等よ
り成る偏向手段で反射偏向（偏向走査）させた後、少な
くとも１つの回折面を有する結像手段を介して被走査面
上を光走査して画像情報を記録するようにした、例えば
電子写真プロセスを有するレーザービームプリンターや
デジタル複写機等の装置に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンター（Ｌ
ＢＰ）等の走査光学装置においては画像信号に応じて光
源手段から光変調され出射した光束を、例えば回転多面
鏡（ポリゴンミラー）より成る光偏向器により周期的に
偏向させ、ｆθ特性を有する結像手段によって感光性の
記録媒体（感光ドラム）面上にスポット状に集束させ、
その面上を光走査して画像記録を行っている。
ＢＰ）等の走査光学装置においては画像信号に応じて光
源手段から光変調され出射した光束を、例えば回転多面
鏡（ポリゴンミラー）より成る光偏向器により周期的に
偏向させ、ｆθ特性を有する結像手段によって感光性の
記録媒体（感光ドラム）面上にスポット状に集束させ、
その面上を光走査して画像記録を行っている。
【０００３】更に結像手段（走査光学手段）の一部に回
折面を有する走査光学装置が、例えば特開平１０−６８
９０３号公報などで種々と提案されている。特開平１０
−６８９０３号公報では結像手段に屈折部（屈折面）と
回折部（回折面）とを有する光学素子を用いており、こ
の屈折部と回折部とのパワーを所望の条件を満たすよう
に設定することにより、走査光学装置の温度変動に伴う
主走査方向の倍率変化及びピント変化が、該結像手段の
屈折部と回折部とのパワー変化と、光源手段である半導
体レーザーの波長変動により補正されるようにしてい
る。このことにより温度が変動した場合でも、高精細な
画像を得ることが可能になる。
折面を有する走査光学装置が、例えば特開平１０−６８
９０３号公報などで種々と提案されている。特開平１０
−６８９０３号公報では結像手段に屈折部（屈折面）と
回折部（回折面）とを有する光学素子を用いており、こ
の屈折部と回折部とのパワーを所望の条件を満たすよう
に設定することにより、走査光学装置の温度変動に伴う
主走査方向の倍率変化及びピント変化が、該結像手段の
屈折部と回折部とのパワー変化と、光源手段である半導
体レーザーの波長変動により補正されるようにしてい
る。このことにより温度が変動した場合でも、高精細な
画像を得ることが可能になる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】結像手段に屈折面と回
折面とを有する光学素子の回折面は、使用する次数の回
折光（使用回折光）として通常１次の回折光が最大強度
となるような格子形状にて構成されている。このとき回
折面で回折されるの回折光のうち、被走査面上にスポッ
トを形成させる為に使用する次数の回折光に対して他の
次数の不要（高次）回折光は微量となる。しかしながら
像高により回折面への入射角が変化する走査光学装置で
は、この不要（高次）回折光は像高により増減する。又
実際の製造においても理想的な回折格子形状に対して製
造誤差を生じるので不要（高次）回折光が増大すること
もある。
折面とを有する光学素子の回折面は、使用する次数の回
折光（使用回折光）として通常１次の回折光が最大強度
となるような格子形状にて構成されている。このとき回
折面で回折されるの回折光のうち、被走査面上にスポッ
トを形成させる為に使用する次数の回折光に対して他の
次数の不要（高次）回折光は微量となる。しかしながら
像高により回折面への入射角が変化する走査光学装置で
は、この不要（高次）回折光は像高により増減する。又
実際の製造においても理想的な回折格子形状に対して製
造誤差を生じるので不要（高次）回折光が増大すること
もある。
【０００５】このような増大した不要（高次）回折光が
被走査面上に入射するとフレアーとなり、画質に悪影響
を及ぼす要因となる。
被走査面上に入射するとフレアーとなり、画質に悪影響
を及ぼす要因となる。
【０００６】さらに、このような回折光学素子を含めた
走査光学装置の走査レンズ系（結像手段）は、一般には
プラスチックレンズで生産され、技術的、コスト的にも
問題が多いことから、屈折面に施す反射防止コートを省
略する傾向にある。このため、回折面で生じる不要な反
射回折光が、反射防止コートを省略したプラスチックレ
ンズの屈折面で反射して被走査面上に入射して不要回折
光の迷光としてゴーストとなるという問題点がある。
走査光学装置の走査レンズ系（結像手段）は、一般には
プラスチックレンズで生産され、技術的、コスト的にも
問題が多いことから、屈折面に施す反射防止コートを省
略する傾向にある。このため、回折面で生じる不要な反
射回折光が、反射防止コートを省略したプラスチックレ
ンズの屈折面で反射して被走査面上に入射して不要回折
光の迷光としてゴーストとなるという問題点がある。
【０００７】この様子を図１０、図１１を用いて説明す
る。
る。
【０００８】図１０は従来の走査光学装置の主走査方向
の要部断面図である。
の要部断面図である。
【０００９】同図において光源手段９１から出射した発
散光束はコリメーターレンズ９２により略平行光束とさ
れ、絞り９３によって該光束を制限して副走査方向にの
み所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ９４に入
射している。シリンドリカルレンズ９４に入射した略平
行光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で
射出する。また副走査断面内においては集束してポリゴ
ンミラーから成る光偏向器９５の偏向面（反射面）９５
ａにほぼ線像として結像している。
散光束はコリメーターレンズ９２により略平行光束とさ
れ、絞り９３によって該光束を制限して副走査方向にの
み所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ９４に入
射している。シリンドリカルレンズ９４に入射した略平
行光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で
射出する。また副走査断面内においては集束してポリゴ
ンミラーから成る光偏向器９５の偏向面（反射面）９５
ａにほぼ線像として結像している。
【００１０】そして光偏向器により反射偏向された光束
１５（１５Ｐ、１５Ｕ、１５Ｌ）は屈折光学素子８１と
回折光学素子８２とからなる結像手段（走査レンズ系）
８５に入射される。同図では光偏向器９５側から順にプ
ラスチックトーリックレンズ８１、長尺の回折光学素子
８２を配置している。長尺の回折光学素子８２は射出成
形により製作されたプラスチック製である。これらの光
学素子は共に主走査方向と副走査方向とに異なるパワー
を有しており、光偏向器９５からの光束を被走査面９６
上に結像させるとともに光偏向器９５の偏向面（ミラー
面）の倒れを補正している。そして結像手段８５から出
射した光束は被走査面９６上に結像し、光偏向器９５を
矢印Ａ方向に回転させることによって該被走査面９６上
を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査して画像情報の記
録を行なっている。
１５（１５Ｐ、１５Ｕ、１５Ｌ）は屈折光学素子８１と
回折光学素子８２とからなる結像手段（走査レンズ系）
８５に入射される。同図では光偏向器９５側から順にプ
ラスチックトーリックレンズ８１、長尺の回折光学素子
８２を配置している。長尺の回折光学素子８２は射出成
形により製作されたプラスチック製である。これらの光
学素子は共に主走査方向と副走査方向とに異なるパワー
を有しており、光偏向器９５からの光束を被走査面９６
上に結像させるとともに光偏向器９５の偏向面（ミラー
面）の倒れを補正している。そして結像手段８５から出
射した光束は被走査面９６上に結像し、光偏向器９５を
矢印Ａ方向に回転させることによって該被走査面９６上
を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査して画像情報の記
録を行なっている。
【００１１】同図において長尺の回折光学素子８２は入
射面８３が屈折面、出射面８４が回折面（回折格子面）
で構成されている。光偏向器９５で反射偏向された光束
１５（１５Ｐ、１５Ｕ、１５Ｌ）のうち大部分は使用回
折光（通常は＋１次回折光）として被走査面９６上に結
像され、ビームスポット（不図示）を形成する。
射面８３が屈折面、出射面８４が回折面（回折格子面）
で構成されている。光偏向器９５で反射偏向された光束
１５（１５Ｐ、１５Ｕ、１５Ｌ）のうち大部分は使用回
折光（通常は＋１次回折光）として被走査面９６上に結
像され、ビームスポット（不図示）を形成する。
【００１２】ところが光偏向器９５で反射偏向された光
束１５（１５Ｐ、１５Ｕ、１５Ｌ）のうち一部は不要な
高次の回折光になる。そのうち回折面８４で回折される
６次の反射回折光（反射６次回折光）になるものに注目
する。
束１５（１５Ｐ、１５Ｕ、１５Ｌ）のうち一部は不要な
高次の回折光になる。そのうち回折面８４で回折される
６次の反射回折光（反射６次回折光）になるものに注目
する。
【００１３】同図において１６（１６Ｐ、１６Ｕ、１６
Ｌ）は反射６次回折光のうち、屈折面８３で表面反射
し、さらに回折面８４で使用回折光（通常は＋１次回折
光）として被走査面９６上に向かう光束（不要回折光の
迷光）である。同図ではこのような反射６次回折光が、
結像はしないものの被走査面９６上に不要回折光の迷光
として入射していることがわかる。
Ｌ）は反射６次回折光のうち、屈折面８３で表面反射
し、さらに回折面８４で使用回折光（通常は＋１次回折
光）として被走査面９６上に向かう光束（不要回折光の
迷光）である。同図ではこのような反射６次回折光が、
結像はしないものの被走査面９６上に不要回折光の迷光
として入射していることがわかる。
【００１４】次にこの反射６次回折光の迷光がどのよう
に被走査面上を走査するか図１１を用いて説明する。同
図において横軸は本来のビームスポットが被走査面９６
上に到達する像高であり、縦軸はそのときの反射６次回
折光の迷光が被走査面９６上に到達する位置である。こ
れによれば、本来のビームスポットが被走査面９６上を
走査していくと、それに応じて反射６次回折光の迷光も
被走査面９６上を走査するが、像高±８０ｍｍあたりで
走査速度が落ちることがわかる。これにより像高±８０
ｍｍあたりにはより多くの迷光が集まり、画質の劣化が
顕著になる。
に被走査面上を走査するか図１１を用いて説明する。同
図において横軸は本来のビームスポットが被走査面９６
上に到達する像高であり、縦軸はそのときの反射６次回
折光の迷光が被走査面９６上に到達する位置である。こ
れによれば、本来のビームスポットが被走査面９６上を
走査していくと、それに応じて反射６次回折光の迷光も
被走査面９６上を走査するが、像高±８０ｍｍあたりで
走査速度が落ちることがわかる。これにより像高±８０
ｍｍあたりにはより多くの迷光が集まり、画質の劣化が
顕著になる。
【００１５】フレアーやゴーストなどの迷光は被走査面
上の像を不鮮明にし、例えばレーザビームプリンタ（Ｌ
ＢＰ）では印字が不鮮明になるという問題になる。さら
に近年、中間調を持つ画像を表現する為、感光ドラムの
感度が向上する傾向にあり、迷光による画質の劣化は無
視できないものとなってきている。
上の像を不鮮明にし、例えばレーザビームプリンタ（Ｌ
ＢＰ）では印字が不鮮明になるという問題になる。さら
に近年、中間調を持つ画像を表現する為、感光ドラムの
感度が向上する傾向にあり、迷光による画質の劣化は無
視できないものとなってきている。
【００１６】本発明は回折面によって生じる不要回折光
の迷光を制限する制限手段を、該回折面と被走査面との
間の光路中に設けることにより、被走査面に達する不要
回折光の迷光を低減させることができる走査光学装置及
びそれを用いた画像形成装置の提供を目的とする。
の迷光を制限する制限手段を、該回折面と被走査面との
間の光路中に設けることにより、被走査面に達する不要
回折光の迷光を低減させることができる走査光学装置及
びそれを用いた画像形成装置の提供を目的とする。
【００１７】更に本発明は装置内の部材の形状や大きさ
等を工夫することにより、上記の制限部材を新たに設け
なくても被走査面に達する上記不要回折光の迷光を低減
させることができる走査光学装置及びそれを用いた画像
形成装置の提供を目的とする。
等を工夫することにより、上記の制限部材を新たに設け
なくても被走査面に達する上記不要回折光の迷光を低減
させることができる走査光学装置及びそれを用いた画像
形成装置の提供を目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の走査光
学装置は、光源手段から出射された少なくとも１つの光
束を偏向手段に入射させる入射光学手段と、該偏向手段
で反射偏向された少なくとも１つの光束を被走査面上に
結像させる少なくとも１つの回折面を有する結像手段
と、を有する走査光学装置において、該回折面で回折さ
れる回折光のうち、該被走査面上にスポットを形成させ
る為に使用する次数の回折光に対して他の次数の不要回
折光の迷光を制限する制限手段を、該回折面と該被走査
面との間の光路中に設けたことを特徴としている。
学装置は、光源手段から出射された少なくとも１つの光
束を偏向手段に入射させる入射光学手段と、該偏向手段
で反射偏向された少なくとも１つの光束を被走査面上に
結像させる少なくとも１つの回折面を有する結像手段
と、を有する走査光学装置において、該回折面で回折さ
れる回折光のうち、該被走査面上にスポットを形成させ
る為に使用する次数の回折光に対して他の次数の不要回
折光の迷光を制限する制限手段を、該回折面と該被走査
面との間の光路中に設けたことを特徴としている。
【００１９】請求項２の発明は請求項１の発明におい
て、前記制限手段は主走査方向に沿って略平行に配置さ
れたエッジ部により形成されていることを特徴としてい
る。
て、前記制限手段は主走査方向に沿って略平行に配置さ
れたエッジ部により形成されていることを特徴としてい
る。
【００２０】請求項３の発明は請求項１の発明におい
て、前記制限手段は主走査方向に沿って略平行に配置さ
れたスリット部材により形成されていることを特徴とし
ている。
て、前記制限手段は主走査方向に沿って略平行に配置さ
れたスリット部材により形成されていることを特徴とし
ている。
【００２１】請求項４の発明は請求項１の発明におい
て、前記制限手段は前記使用する次数の回折光の光束の
進行方向を変更する反射部材により形成されていること
を特徴としている。
て、前記制限手段は前記使用する次数の回折光の光束の
進行方向を変更する反射部材により形成されていること
を特徴としている。
【００２２】請求項５の発明は請求項１の発明におい
て、前記制限手段は走査光学装置を構成する複数の要素
のうち少なくとも一つの要素を保持するケーシングに設
けられた入射窓又は／及び出射窓により形成されている
ことを特徴としている。
て、前記制限手段は走査光学装置を構成する複数の要素
のうち少なくとも一つの要素を保持するケーシングに設
けられた入射窓又は／及び出射窓により形成されている
ことを特徴としている。
【００２３】請求項６の発明は請求項１の発明におい
て、前記不要回折光の迷光の走査幅は Ｌｍ／Ｌｏ＜０．８ （但し、Ｌｍ：不要回折光の迷光の走査幅 Ｌｏ：有効走査幅）なる条件を満足することを特徴とし
ている。
て、前記不要回折光の迷光の走査幅は Ｌｍ／Ｌｏ＜０．８ （但し、Ｌｍ：不要回折光の迷光の走査幅 Ｌｏ：有効走査幅）なる条件を満足することを特徴とし
ている。
【００２４】請求項７の発明は請求項１の発明におい
て、前記使用する次数をｎ、前記他の次数をｍとしたと
き、 ４≦ｍ／ｎ≦７ なる条件を満足することを特徴としている。
て、前記使用する次数をｎ、前記他の次数をｍとしたと
き、 ４≦ｍ／ｎ≦７ なる条件を満足することを特徴としている。
【００２５】請求項８の発明は請求項１の発明におい
て、前記使用する次数の回折光は１次の透過回折光であ
り、前記不要回折光は６次の反射回折光であることを特
徴としている。
て、前記使用する次数の回折光は１次の透過回折光であ
り、前記不要回折光は６次の反射回折光であることを特
徴としている。
【００２６】請求項９の発明は請求項１の発明におい
て、前記制限手段の開口部の副走査方向の幅をＳ、該制
限手段の置かれた場所における本来のビームスポットを
形成する光束の副走査方向の大きさをφｏ、前記不要回
折光の迷光の副走査方向の大きさをφｍとしたとき、 φｏ＜Ｓ＜φｍ なる条件を満足することを特徴としている。
て、前記制限手段の開口部の副走査方向の幅をＳ、該制
限手段の置かれた場所における本来のビームスポットを
形成する光束の副走査方向の大きさをφｏ、前記不要回
折光の迷光の副走査方向の大きさをφｍとしたとき、 φｏ＜Ｓ＜φｍ なる条件を満足することを特徴としている。
【００２７】請求項１０の発明は請求項１の発明におい
て、前記制限手段の開口部の副走査方向の幅をＳ、該制
限手段の置かれた場所における前記不要回折光の迷光の
副走査方向の大きさをφｍ、該不要回折光の迷光の走査
幅をＬｍ、有効走査幅をＬｏとしたとき、
て、前記制限手段の開口部の副走査方向の幅をＳ、該制
限手段の置かれた場所における前記不要回折光の迷光の
副走査方向の大きさをφｍ、該不要回折光の迷光の走査
幅をＬｍ、有効走査幅をＬｏとしたとき、
【００２８】
【数２】
【００２９】なる条件を満足することを特徴としてい
る。
る。
【００３０】請求項１１の発明の画像形成装置は、請求
項１乃至１０のいずれか１項に記載の走査光学装置と、
前記被走査面に配置された感光体と、前記走査光学装置
で走査された光束によって前記感光体上に形成された静
電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された
トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたト
ナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを
特徴としている。
項１乃至１０のいずれか１項に記載の走査光学装置と、
前記被走査面に配置された感光体と、前記走査光学装置
で走査された光束によって前記感光体上に形成された静
電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像された
トナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたト
ナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを
特徴としている。
【００３１】請求項１２の発明の画像形成装置は、請求
項１乃至１０の何れか１項に記載の走査光学装置と、外
部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して
前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラ
とを有していることを特徴としている。
項１乃至１０の何れか１項に記載の走査光学装置と、外
部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して
前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラ
とを有していることを特徴としている。
【００３２】
【発明の実施の形態】［実施形態１］図１は本発明の走
査光学装置の実施形態１の主走査方向の要部断面図（主
走査断面図）、図２は図１の主要部分の副走査方向の要
部断面図（副走査断面図）である。
査光学装置の実施形態１の主走査方向の要部断面図（主
走査断面図）、図２は図１の主要部分の副走査方向の要
部断面図（副走査断面図）である。
【００３３】尚、本明細書において光偏向器によって光
束が反射偏向（偏向走査）される方向を主走査方向、結
像手段の光軸及び主走査方向と直交する方向を副走査方
向と定義する。
束が反射偏向（偏向走査）される方向を主走査方向、結
像手段の光軸及び主走査方向と直交する方向を副走査方
向と定義する。
【００３４】図中、１は光源手段であり、単一の発光点
を有する半導体レーザーより成っている。２はコリメー
ターレンズであり、光源手段１から出射された発散光束
を略平行光束に変換している。３は開口絞りであり、通
過光束（光量）を制限している。４はシリンドリカルレ
ンズであり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有してお
り、開口絞り３を通過した光束を副走査断面内で後述す
る光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像として結像させて
いる。
を有する半導体レーザーより成っている。２はコリメー
ターレンズであり、光源手段１から出射された発散光束
を略平行光束に変換している。３は開口絞りであり、通
過光束（光量）を制限している。４はシリンドリカルレ
ンズであり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有してお
り、開口絞り３を通過した光束を副走査断面内で後述す
る光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像として結像させて
いる。
【００３５】尚、半導体レーザー１、コリメーターレン
ズ２、開口絞り３、そしてシリンドリカルレンズ４等の
各要素は入射光学手段１６の一要素を構成している。
ズ２、開口絞り３、そしてシリンドリカルレンズ４等の
各要素は入射光学手段１６の一要素を構成している。
【００３６】５は偏向手段としての例えばポリゴンミラ
ー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モーター等
の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度
で回転している。
ー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モーター等
の駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度
で回転している。
【００３７】６はｆθ特性を有する結像手段（ｆθレン
ズ系）であり、光偏向器５側から順にプラスチック製の
トーリックレンズ６１、そして射出成形により製作され
たプラスチック製の長尺の回折光学素子６２を有してお
り、全系では主走査方向と副走査方向とで互いに異なる
所定の屈折力を有しており、光偏向器５によって反射偏
向（偏向走査）された画像情報に基づく光束を被走査面
９上に結像させ、かつ光偏向器５の偏向面５ａの面倒れ
を補正している。長尺の回折光学素子６２は入射面６３
が屈折面、出射面６４が回折面（回折格子面）で構成さ
れている。本実施形態での回折面のベース面は巨視的に
見て平面形状である。
ズ系）であり、光偏向器５側から順にプラスチック製の
トーリックレンズ６１、そして射出成形により製作され
たプラスチック製の長尺の回折光学素子６２を有してお
り、全系では主走査方向と副走査方向とで互いに異なる
所定の屈折力を有しており、光偏向器５によって反射偏
向（偏向走査）された画像情報に基づく光束を被走査面
９上に結像させ、かつ光偏向器５の偏向面５ａの面倒れ
を補正している。長尺の回折光学素子６２は入射面６３
が屈折面、出射面６４が回折面（回折格子面）で構成さ
れている。本実施形態での回折面のベース面は巨視的に
見て平面形状である。
【００３８】本実施形態では光偏向器５で反射偏向され
た光束１５（１５Ｐ、１５Ｕ、１５Ｌ）のうち大部分の
光束は回折面６４で使用する次数（通常は＋１次）の回
折光（使用回折光）１２（１２Ｐ、１２Ｕ、１２Ｌ）と
して回折されて被走査面９上に結像され、ビームスポッ
トを形成する。
た光束１５（１５Ｐ、１５Ｕ、１５Ｌ）のうち大部分の
光束は回折面６４で使用する次数（通常は＋１次）の回
折光（使用回折光）１２（１２Ｐ、１２Ｕ、１２Ｌ）と
して回折されて被走査面９上に結像され、ビームスポッ
トを形成する。
【００３９】７は制限手段であり、回折面６４と被走査
面９との間の光路中に配置され、主走査方向に沿って略
平行に配置された不透明な樹脂からなるスリット開口部
７ａを有する細長いスリット部材より成り、回折面６４
で回折された回折光のうち、使用回折光を通過させ、そ
れ以外の他の次数の不要回折光の迷光の大部分を遮光し
ている。
面９との間の光路中に配置され、主走査方向に沿って略
平行に配置された不透明な樹脂からなるスリット開口部
７ａを有する細長いスリット部材より成り、回折面６４
で回折された回折光のうち、使用回折光を通過させ、そ
れ以外の他の次数の不要回折光の迷光の大部分を遮光し
ている。
【００４０】ここで使用回折光とは回折面６４で回折さ
れる回折光のうち、被走査面９上にスポットを形成させ
る為に使用する回折光のことである。また使用回折光は
１次の透過回折光であり、不要回折光の迷光１３は６次
の反射回折光（反射６次回折光）である。
れる回折光のうち、被走査面９上にスポットを形成させ
る為に使用する回折光のことである。また使用回折光は
１次の透過回折光であり、不要回折光の迷光１３は６次
の反射回折光（反射６次回折光）である。
【００４１】９は被走査面としての感光ドラム面、１０
は感光体（像担持体）である。
は感光体（像担持体）である。
【００４２】本実施形態において光源手段１から出射し
た発散光束はコリメーターレンズ２により略平行光束と
され、開口絞り３によって該光束を制限して副走査方向
にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ４に
入射している。シリンドリカルレンズ４に入射した略平
行光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で
射出する。また副走査断面内においては集束してポリゴ
ンミラーから成る光偏向器５の偏向面（反射面）５ａに
ほぼ線像として結像している。
た発散光束はコリメーターレンズ２により略平行光束と
され、開口絞り３によって該光束を制限して副走査方向
にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ４に
入射している。シリンドリカルレンズ４に入射した略平
行光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で
射出する。また副走査断面内においては集束してポリゴ
ンミラーから成る光偏向器５の偏向面（反射面）５ａに
ほぼ線像として結像している。
【００４３】そして光偏向器５の偏向面５ａで反射偏向
された光束をｆθ特性を有する結像手段６を介して被走
査面としての感光ドラム面９上に導光し、該光偏向器５
を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム
面９上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査して画像情
報の記録を行なっている。
された光束をｆθ特性を有する結像手段６を介して被走
査面としての感光ドラム面９上に導光し、該光偏向器５
を矢印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム
面９上を矢印Ｂ方向（主走査方向）に光走査して画像情
報の記録を行なっている。
【００４４】ここで光偏向器５で反射偏向された光束１
５の回折面６４で回折された回折光１２の振る舞いにつ
いて図２を用いて説明する。
５の回折面６４で回折された回折光１２の振る舞いにつ
いて図２を用いて説明する。
【００４５】同図において１３は回折面６４で回折され
た不要回折光（反射６次回折光）のうち、屈折面６３で
表面反射し、さらに回折面６４で使用回折光（通常は＋
１次回折光）として被走査面９上に向かう不要回折光の
迷光である。
た不要回折光（反射６次回折光）のうち、屈折面６３で
表面反射し、さらに回折面６４で使用回折光（通常は＋
１次回折光）として被走査面９上に向かう不要回折光の
迷光である。
【００４６】スリット部材７は第１、第２のスリット部
７１，７２より成り、スリット開口部７ａは該第１、第
２のスリット部７１，７２の主走査方向に略平行な端部
（エッジ部）より形成されている。本実施形態において
はこのスリット部材７により本来のビームスポットを形
成する光束１２をそのまま通過させ、不要回折光の迷光
１３の大部分を遮光している。即ち、反射６次回折光の
迷光をスリット部材７で制限している。これによりスリ
ット部材７が無い場合に被走査面９に到達してしまって
いた不要回折光の迷光１４を大幅に低減することができ
る。
７１，７２より成り、スリット開口部７ａは該第１、第
２のスリット部７１，７２の主走査方向に略平行な端部
（エッジ部）より形成されている。本実施形態において
はこのスリット部材７により本来のビームスポットを形
成する光束１２をそのまま通過させ、不要回折光の迷光
１３の大部分を遮光している。即ち、反射６次回折光の
迷光をスリット部材７で制限している。これによりスリ
ット部材７が無い場合に被走査面９に到達してしまって
いた不要回折光の迷光１４を大幅に低減することができ
る。
【００４７】反射６次回折光の迷光が被走査面上をどの
ように走査するかは前記図１１で説明した如くである。
即ち、図１１において横軸は本来のビームスポットが被
走査面９上に到達する像高であり、縦軸はそのときの反
射６次回折光の迷光が被走査面９上に到達する位置であ
る。図１１でわかるように本来のビームスポットが被走
査面９上を走査していくと、それに応じて反射６次回折
光の迷光も被走査面９上を走査し、その走査範囲は±８
０ｍｍ程度（走査幅Ｌｍ＝１６０）で有効走査範囲±１
１０ｍｍ（有効走査幅Ｌｏ＝２２０）の約７３％であ
る。
ように走査するかは前記図１１で説明した如くである。
即ち、図１１において横軸は本来のビームスポットが被
走査面９上に到達する像高であり、縦軸はそのときの反
射６次回折光の迷光が被走査面９上に到達する位置であ
る。図１１でわかるように本来のビームスポットが被走
査面９上を走査していくと、それに応じて反射６次回折
光の迷光も被走査面９上を走査し、その走査範囲は±８
０ｍｍ程度（走査幅Ｌｍ＝１６０）で有効走査範囲±１
１０ｍｍ（有効走査幅Ｌｏ＝２２０）の約７３％であ
る。
【００４８】本実施形態においては不要回折光（反射６
次回折光）の迷光の走査幅Ｌｍを Ｌｍ／Ｌｏ＜０．８ ………（１） （但し、Ｌｍ：不要回折光の迷光の走査幅 Ｌｏ：有効走査幅）なる条件を満足するように設定して
いる。
次回折光）の迷光の走査幅Ｌｍを Ｌｍ／Ｌｏ＜０．８ ………（１） （但し、Ｌｍ：不要回折光の迷光の走査幅 Ｌｏ：有効走査幅）なる条件を満足するように設定して
いる。
【００４９】本実施形態においてスリット部材７のスリ
ット開口部７ａの副走査方向の幅Ｓは、該スリット部材
７の置かれた場所における本来のビームスポットを形成
する光束１２の副走査方向の大きさをφｏ、反射６次回
折光の迷光１３の副走査方向の大きさをφｍとしたと
き、 φｏ＜Ｓ＜φｍ ………（２） なる条件を満足するように設定している。逆を言えば上
記条件式（２）を満足する位置にスリット部材７のスリ
ット開口部７ａを設ければよい。
ット開口部７ａの副走査方向の幅Ｓは、該スリット部材
７の置かれた場所における本来のビームスポットを形成
する光束１２の副走査方向の大きさをφｏ、反射６次回
折光の迷光１３の副走査方向の大きさをφｍとしたと
き、 φｏ＜Ｓ＜φｍ ………（２） なる条件を満足するように設定している。逆を言えば上
記条件式（２）を満足する位置にスリット部材７のスリ
ット開口部７ａを設ければよい。
【００５０】またスリット開口部７ａの副走査方向の幅
Ｓと反射６次回折光の迷光の副走査方向の大きさφｍの
差をできるだけ大きくとることで、不要回折光の迷光を
より多く制限し、不要回折光の迷光を低減することがで
きる。特に各要素の関係を
Ｓと反射６次回折光の迷光の副走査方向の大きさφｍの
差をできるだけ大きくとることで、不要回折光の迷光を
より多く制限し、不要回折光の迷光を低減することがで
きる。特に各要素の関係を
【００５１】
【数３】
【００５２】に設定することにより．不要回折光の迷光
の低減効果が得られる。その理由は図１１に示したよう
に不要回折光の迷光の走査は部分的にスピードが異なる
（不要回折光の迷光の走査幅が有効幅に対してＬｍ／Ｌ
ｏ）ため、平均的に軸上のＬｏ／Ｌｍ倍の不要回折光の
迷光の強度ムラを生じるが、スリット部材７で制限でき
る不要回折光の迷光は副走査方向のみであるため不要回
折光の迷光の低減効果は平方根で効くことによる。
の低減効果が得られる。その理由は図１１に示したよう
に不要回折光の迷光の走査は部分的にスピードが異なる
（不要回折光の迷光の走査幅が有効幅に対してＬｍ／Ｌ
ｏ）ため、平均的に軸上のＬｏ／Ｌｍ倍の不要回折光の
迷光の強度ムラを生じるが、スリット部材７で制限でき
る不要回折光の迷光は副走査方向のみであるため不要回
折光の迷光の低減効果は平方根で効くことによる。
【００５３】次に本実施形態において特に不要回折光と
して６次の反射回折光に注目する理由を述べる。回折面
６４のように光学素子の出射面に回折格子を形成する場
合、使用する透過回折光の次数をｎとすると、回折面６
４の格子高さｈは、通常使用する透過回折光の回折効率
が最大になるように設定される。具体的には光源の使用
波長λの整数倍の位相差がつくように格子高さｈを設定
すればよく、以下の式になる。
して６次の反射回折光に注目する理由を述べる。回折面
６４のように光学素子の出射面に回折格子を形成する場
合、使用する透過回折光の次数をｎとすると、回折面６
４の格子高さｈは、通常使用する透過回折光の回折効率
が最大になるように設定される。具体的には光源の使用
波長λの整数倍の位相差がつくように格子高さｈを設定
すればよく、以下の式になる。
【００５４】ｈ＝ｎλ／（Ｎ−１） ………（４） （但し、Ｎ：回折格子を構成する部材の使用波長λでの
屈折率） このとき回折面６４で生じる反射回折光でも同様に、使
用波長λの整数倍の位相差がついてしまう次数の反射回
折光が最大になってしまう。具体的には、そのような反
射回折光の次数をｍとすると、 ｈ＝ｍλ／（２Ｎ） …………（５） なる式を満たすものが最大になる。
屈折率） このとき回折面６４で生じる反射回折光でも同様に、使
用波長λの整数倍の位相差がついてしまう次数の反射回
折光が最大になってしまう。具体的には、そのような反
射回折光の次数をｍとすると、 ｈ＝ｍλ／（２Ｎ） …………（５） なる式を満たすものが最大になる。
【００５５】上記関係式（４），（５）から、次数ｍと
ｎとの関係は、 ｍ／ｎ＝２Ｎ／（Ｎ−１）………（６） となる。この関係式（６）の右辺は回折格子を構成する
部材の使用波長λでの屈折率で決まるが、一般的なガラ
スやプラスチックの材質の屈折率はおおよそ１．４〜
２．０の範囲であるので、関係式（６）から ４≦ｍ／ｎ≦７ ………（７） が導かれる。
ｎとの関係は、 ｍ／ｎ＝２Ｎ／（Ｎ−１）………（６） となる。この関係式（６）の右辺は回折格子を構成する
部材の使用波長λでの屈折率で決まるが、一般的なガラ
スやプラスチックの材質の屈折率はおおよそ１．４〜
２．０の範囲であるので、関係式（６）から ４≦ｍ／ｎ≦７ ………（７） が導かれる。
【００５６】回折格子の使用する次数は通常ｎ＝１であ
り、回折光学素子６２は製造の容易さとコストの面から
プラスチックで構成される場合は、材質の屈折率Ｎ≒
１．５なので、関係式（５）から６次の反射回折光が強
く発生することになる。
り、回折光学素子６２は製造の容易さとコストの面から
プラスチックで構成される場合は、材質の屈折率Ｎ≒
１．５なので、関係式（５）から６次の反射回折光が強
く発生することになる。
【００５７】このように本実施形態では上述の如く回折
面６４で回折されるの回折光のうち、被走査面９上にス
ポットを形成させる為に使用する次数の回折光（使用回
折光）に対して他の次数の不要回折光の迷光を制限する
スリット部材７を、該回折面６４と該被走査面９との間
の光路中に設けることにより、被走査面９上の像（ビー
ムスポット）を鮮明にすることができ、これにより例え
ばレーザビームプリンタでは印字が不鮮明になるという
問題点を解決することができる。
面６４で回折されるの回折光のうち、被走査面９上にス
ポットを形成させる為に使用する次数の回折光（使用回
折光）に対して他の次数の不要回折光の迷光を制限する
スリット部材７を、該回折面６４と該被走査面９との間
の光路中に設けることにより、被走査面９上の像（ビー
ムスポット）を鮮明にすることができ、これにより例え
ばレーザビームプリンタでは印字が不鮮明になるという
問題点を解決することができる。
【００５８】尚、本実施形態においても前述した従来例
と同様に走査光学装置の温度変動に伴う主走査方向の倍
率変化及びピント変化が、結像手段の屈折部と回折部と
のパワー変化と、光源手段である半導体レーザーの波長
変動により補正されるようにしている。
と同様に走査光学装置の温度変動に伴う主走査方向の倍
率変化及びピント変化が、結像手段の屈折部と回折部と
のパワー変化と、光源手段である半導体レーザーの波長
変動により補正されるようにしている。
【００５９】［実施形態２］図３は本発明の走査光学装
置の実施形態２の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）、図４は図３の主要部分の副走査方向の要部断面図
（副走査断面図）である。図３、図４において図１、図
２に示した要素と同一要素には同符番を付している。
置の実施形態２の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）、図４は図３の主要部分の副走査方向の要部断面図
（副走査断面図）である。図３、図４において図１、図
２に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００６０】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は、光源手段を複数の発光点を有する例えばマル
チ半導体レーザー３１より構成した点、制限手段を感光
体１０を保持する不透明な樹脂からなるケーシング３２
に設けられた入射窓３３より構成した点であり、その他
の構成及び光学的作用は実施形態１と略同様であり、こ
れにより同様な効果を得ている。
なる点は、光源手段を複数の発光点を有する例えばマル
チ半導体レーザー３１より構成した点、制限手段を感光
体１０を保持する不透明な樹脂からなるケーシング３２
に設けられた入射窓３３より構成した点であり、その他
の構成及び光学的作用は実施形態１と略同様であり、こ
れにより同様な効果を得ている。
【００６１】即ち、図中３１は光源手段であり、複数の
発光点を有する例えばマルチ半導体レーザー３１より成
っている。３２は感光体１０を覆うケーシングであり、
回折面６４と被走査面９との間の光路中に配置した入射
窓３３を有しており、該入射窓３３により回折面６４で
回折された回折光のうち、使用回折光（通常は＋１次回
折光）を通過させ、それ以外の他の次数の不要回折光の
迷光の大部分を遮光している。
発光点を有する例えばマルチ半導体レーザー３１より成
っている。３２は感光体１０を覆うケーシングであり、
回折面６４と被走査面９との間の光路中に配置した入射
窓３３を有しており、該入射窓３３により回折面６４で
回折された回折光のうち、使用回折光（通常は＋１次回
折光）を通過させ、それ以外の他の次数の不要回折光の
迷光の大部分を遮光している。
【００６２】ここで光偏向器５で反射偏向された光束１
５の回折面６４で回折された回折光の振る舞いについて
図４を用いて説明する。
５の回折面６４で回折された回折光の振る舞いについて
図４を用いて説明する。
【００６３】同図においてケーシング３２は、既知の電
子写真プロセスを実現する感光体１０とプロセス部品
（不図示）とを一体化にし、これらを覆う第１、第２の
ケーシング部材３２ａ，３２ｂから構成されている。
子写真プロセスを実現する感光体１０とプロセス部品
（不図示）とを一体化にし、これらを覆う第１、第２の
ケーシング部材３２ａ，３２ｂから構成されている。
【００６４】同図において１３は回折面６４で反射され
た不要回折光（反射６次回折光）のうち、屈折面６３で
表面反射し、さらに回折面６４で使用回折光（通常は＋
１次回折光）として被走査面９上に向かう不要回折光の
迷光である。
た不要回折光（反射６次回折光）のうち、屈折面６３で
表面反射し、さらに回折面６４で使用回折光（通常は＋
１次回折光）として被走査面９上に向かう不要回折光の
迷光である。
【００６５】入射窓３３は第１、第２のケーシング部材
３２ａ，３２ｂの主走査方向に略平行な端部（エッジ
部）３２ａ１，３２ｂ１より形成され、本来のビームス
ポットを形成する光束１２をそのまま通過させ、不要回
折光の迷光１３の大部分を遮光している。即ち、反射６
次回折光の迷光を入射窓３３で制限している。これによ
り入射窓３３が無い場合に感光体１０に到達してしまっ
ていた不要回折光の迷光１４を大幅に低減することがで
きる。
３２ａ，３２ｂの主走査方向に略平行な端部（エッジ
部）３２ａ１，３２ｂ１より形成され、本来のビームス
ポットを形成する光束１２をそのまま通過させ、不要回
折光の迷光１３の大部分を遮光している。即ち、反射６
次回折光の迷光を入射窓３３で制限している。これによ
り入射窓３３が無い場合に感光体１０に到達してしまっ
ていた不要回折光の迷光１４を大幅に低減することがで
きる。
【００６６】このように本実施形態では上述の如く回折
面６４で回折されるの回折光のうち、使用する次数の回
折光（使用回折光）に対して他の次数の不要回折光の迷
光１３をケーシング３２に設けられた入射窓３３により
制限することにより、被走査面９上の像（ビームスポッ
ト）を鮮明にすることができ、これにより例えばレーザ
ビームプリンタでは印字が不鮮明になるという問題点を
解決することができる。
面６４で回折されるの回折光のうち、使用する次数の回
折光（使用回折光）に対して他の次数の不要回折光の迷
光１３をケーシング３２に設けられた入射窓３３により
制限することにより、被走査面９上の像（ビームスポッ
ト）を鮮明にすることができ、これにより例えばレーザ
ビームプリンタでは印字が不鮮明になるという問題点を
解決することができる。
【００６７】尚、本実施形態では不要回折光の迷光を制
限する制限部材（入射窓）をケーシング３２を構成する
第１、第２のケーシング部材３２ａ，３２ｂの端部（エ
ッジ部）３２ａ１，３２ｂ１より形成したが、必ずしも
これに限られるものではない。また回折面６４と被走査
面９との間で主走査方向に沿って配置された制限部材と
しては感光体１０近傍に配置される既知の電子写真プロ
セスを実現する部品・装置、例えば帯電装置や現像装置
などの形状を最適化にして用いてもよい。更には回折面
６４と被走査面９との間にある枠体や側壁などの構造体
などでもよい。
限する制限部材（入射窓）をケーシング３２を構成する
第１、第２のケーシング部材３２ａ，３２ｂの端部（エ
ッジ部）３２ａ１，３２ｂ１より形成したが、必ずしも
これに限られるものではない。また回折面６４と被走査
面９との間で主走査方向に沿って配置された制限部材と
しては感光体１０近傍に配置される既知の電子写真プロ
セスを実現する部品・装置、例えば帯電装置や現像装置
などの形状を最適化にして用いてもよい。更には回折面
６４と被走査面９との間にある枠体や側壁などの構造体
などでもよい。
【００６８】［実施形態３］図５は本発明の走査光学装
置の実施形態３の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）、図６は図５の主要部分の副走査方向の要部断面図
（副走査断面図）である。図５、図６において図１、図
２に示した要素と同一要素には同符番を付している。
置の実施形態３の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）、図６は図５の主要部分の副走査方向の要部断面図
（副走査断面図）である。図５、図６において図１、図
２に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００６９】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は、制限手段を本実施形態においても条件式
（１），（２），（３），（７）が成立する不透明な樹
脂からなるユニット・ケーシング２０に設けられた出射
窓２３より構成した点、結像手段５６を３枚のレンズ６
１，６５，６２より構成した点であり、その他の構成及
び光学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより
同様な効果を得ている。
なる点は、制限手段を本実施形態においても条件式
（１），（２），（３），（７）が成立する不透明な樹
脂からなるユニット・ケーシング２０に設けられた出射
窓２３より構成した点、結像手段５６を３枚のレンズ６
１，６５，６２より構成した点であり、その他の構成及
び光学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより
同様な効果を得ている。
【００７０】即ち、図中２０は走査光学装置を覆うユニ
ット・ケーシングであり、回折面６４と被走査面９との
間の光路中に配置した出射窓２３を有しており、該出射
窓２３により回折面６４で回折された回折光のうち、使
用回折光（通常は＋１次回折光）を通過させ、それ以外
の他の次数の不要回折光の迷光の大部分を遮光してい
る。
ット・ケーシングであり、回折面６４と被走査面９との
間の光路中に配置した出射窓２３を有しており、該出射
窓２３により回折面６４で回折された回折光のうち、使
用回折光（通常は＋１次回折光）を通過させ、それ以外
の他の次数の不要回折光の迷光の大部分を遮光してい
る。
【００７１】５６はｆθ特性を有する結像手段（ｆθレ
ンズ系）であり、光偏向器５側から順にプラスチック製
のトーリックレンズ６１、球面レンズ６５、そして射出
成形により、製作されたプラスチック製の長尺の回折光
学素子６２を有しており、全系では主走査方向と副走査
方向とで互いに異なる所定の屈折力を有しており、光偏
向器５によって反射偏向された画像情報に基づく光束を
被走査面９上に結像させ、かつ光偏向器５の偏向面５ａ
の面倒れを補正している。長尺の回折光学素子６２は入
射面６３が屈折面、出射面６４が回折面で構成されてい
る。
ンズ系）であり、光偏向器５側から順にプラスチック製
のトーリックレンズ６１、球面レンズ６５、そして射出
成形により、製作されたプラスチック製の長尺の回折光
学素子６２を有しており、全系では主走査方向と副走査
方向とで互いに異なる所定の屈折力を有しており、光偏
向器５によって反射偏向された画像情報に基づく光束を
被走査面９上に結像させ、かつ光偏向器５の偏向面５ａ
の面倒れを補正している。長尺の回折光学素子６２は入
射面６３が屈折面、出射面６４が回折面で構成されてい
る。
【００７２】ここで光偏向器５で反射偏向された光束１
５の回折面６４で回折された回折光の振る舞いについて
図６を用いて説明する。
５の回折面６４で回折された回折光の振る舞いについて
図６を用いて説明する。
【００７３】同図においてユニット・ケーシング２０は
第１、第２のケーシング部材２１，２２から構成されて
おり、光源手段１、コリメータレンズ２、絞り３、シリ
ンドリカルレンズ４、光偏向器５、結像手段５６などを
取り付ける既知の構成を有している。
第１、第２のケーシング部材２１，２２から構成されて
おり、光源手段１、コリメータレンズ２、絞り３、シリ
ンドリカルレンズ４、光偏向器５、結像手段５６などを
取り付ける既知の構成を有している。
【００７４】同図において１３は回折面６４で反射され
た不要回折光（反射６次回折光）のうち、屈折面６３で
表面反射し、さらに回折面６４で使用回折光（通常は＋
１次回折光）として被走査面９上に向かう不要回折光の
迷光である。
た不要回折光（反射６次回折光）のうち、屈折面６３で
表面反射し、さらに回折面６４で使用回折光（通常は＋
１次回折光）として被走査面９上に向かう不要回折光の
迷光である。
【００７５】出射窓２３は第１、第２のケーシング部材
２１，２２の主走査方向に略平行な端部（エッジ部）よ
り形成され、即ち主走査方向に細長いスリット状の開口
部より形成され、本来のビームスポットを形成する光束
１２をそのまま通過させ、不要回折光の迷光１３の大部
分を制限している。即ち、反射６次回折光の迷光を出射
窓２３で制限している。これにより出射窓２３が無い場
合に感光体１０に到達してしまっていた不要回折光の迷
光１４を大幅に低減することができる。
２１，２２の主走査方向に略平行な端部（エッジ部）よ
り形成され、即ち主走査方向に細長いスリット状の開口
部より形成され、本来のビームスポットを形成する光束
１２をそのまま通過させ、不要回折光の迷光１３の大部
分を制限している。即ち、反射６次回折光の迷光を出射
窓２３で制限している。これにより出射窓２３が無い場
合に感光体１０に到達してしまっていた不要回折光の迷
光１４を大幅に低減することができる。
【００７６】このように本実施形態では上述の如く回折
面６４で回折されるの回折光のうち、使用する次数の回
折光（使用回折光）に対して他の次数の不要回折光の迷
光をケーシング２０に設けられた出射窓２３により制限
することにより、被走査面９上の像（ビームスポット）
を鮮明にすることができ、これにより例えばレーザビー
ムプリンタでは印字が不鮮明になるという問題点を解決
することができる。
面６４で回折されるの回折光のうち、使用する次数の回
折光（使用回折光）に対して他の次数の不要回折光の迷
光をケーシング２０に設けられた出射窓２３により制限
することにより、被走査面９上の像（ビームスポット）
を鮮明にすることができ、これにより例えばレーザビー
ムプリンタでは印字が不鮮明になるという問題点を解決
することができる。
【００７７】尚、制限手段として前述した実施形態２の
入射窓３３と本実施形態の出射窓２３とを組み合わせて
構成しても良いことはいうまでもない。
入射窓３３と本実施形態の出射窓２３とを組み合わせて
構成しても良いことはいうまでもない。
【００７８】また不要回折光をカットするという点で
は、例えば図４の端部３２ｂ１の形状より図６のように
光束に対して垂直方向に切り立った面で開口部を形成し
たほうが、開口部材の表面反射の悪影響（フレアー）に
対して有利になる。
は、例えば図４の端部３２ｂ１の形状より図６のように
光束に対して垂直方向に切り立った面で開口部を形成し
たほうが、開口部材の表面反射の悪影響（フレアー）に
対して有利になる。
【００７９】［実施形態４］図７は本発明の走査光学装
置の実施形態４の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）、図８は図７の主要部分の副走査方向の要部断面図
（副走査断面図）である。図７、図８において図１、図
２に示した要素と同一要素には同符番を付している。
置の実施形態４の主走査方向の要部断面図（主走査断面
図）、図８は図７の主要部分の副走査方向の要部断面図
（副走査断面図）である。図７、図８において図１、図
２に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００８０】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は、制限手段を光束の進行方向を変更する反射部
材２４より構成した点、結像手段７６を単一の光学素子
６２より構成した点、回折面６４のベース面の形状を曲
面とした点であり、その他の構成及び光学的作用は実施
形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得てい
る。
なる点は、制限手段を光束の進行方向を変更する反射部
材２４より構成した点、結像手段７６を単一の光学素子
６２より構成した点、回折面６４のベース面の形状を曲
面とした点であり、その他の構成及び光学的作用は実施
形態１と略同様であり、これにより同様な効果を得てい
る。
【００８１】単一の光学素子６２の場合、被走査面９上
で所望の光学特性を得る為に、屈折面６３の形状及び回
折面６４のベース面は曲面形状とする必要がある。
で所望の光学特性を得る為に、屈折面６３の形状及び回
折面６４のベース面は曲面形状とする必要がある。
【００８２】即ち、図中２４は回折面６４と被走査面９
との間の光路中に配置された制限手段としての反射部材
であり、結像手段７６を通過した光束の光路を折り曲げ
るための主走査方向に細長い折り返しミラーより成り、
回折面６４で回折されるの回折光のうち、使用回折光
（通常は＋１次回折光）をそのまま感光体１０に向けて
反射させ、それ以外の他の次数の不要回折光の迷光の大
部分を反射させずに感光体１０が無い方向に向かうよう
にしている。
との間の光路中に配置された制限手段としての反射部材
であり、結像手段７６を通過した光束の光路を折り曲げ
るための主走査方向に細長い折り返しミラーより成り、
回折面６４で回折されるの回折光のうち、使用回折光
（通常は＋１次回折光）をそのまま感光体１０に向けて
反射させ、それ以外の他の次数の不要回折光の迷光の大
部分を反射させずに感光体１０が無い方向に向かうよう
にしている。
【００８３】７６はｆθ特性を有する結像手段（ｆθレ
ンズ系）であり、主走査方向と副走査方向とで互いに異
なる所定の屈折力を有する単一の長尺の回折光学素子６
２を有しており、光偏向器５によって反射偏向された画
像情報に基づく光束を被走査面９上に結像させ、かつ光
偏向器５の偏向面５ａの面倒れを補正している。長尺の
回折光学素子６２は入射面６３が屈折面、出射面６４が
回折面で構成されている。
ンズ系）であり、主走査方向と副走査方向とで互いに異
なる所定の屈折力を有する単一の長尺の回折光学素子６
２を有しており、光偏向器５によって反射偏向された画
像情報に基づく光束を被走査面９上に結像させ、かつ光
偏向器５の偏向面５ａの面倒れを補正している。長尺の
回折光学素子６２は入射面６３が屈折面、出射面６４が
回折面で構成されている。
【００８４】ここで光偏向器５で反射偏向された光束１
５の回折面６４で回折される回折光の振る舞いについて
図８を用いて説明する。
５の回折面６４で回折される回折光の振る舞いについて
図８を用いて説明する。
【００８５】同図において折り返しミラー２４は本来の
ビームスポットを形成する光束１２をそのまま感光体１
０に向けて反射させ、迷光１３の大部分を反射させずに
感光体１０が無い方向に向かうようにしている。よって
本実施形態における折り返しミラー２４は実質的に開口
部として作用する。
ビームスポットを形成する光束１２をそのまま感光体１
０に向けて反射させ、迷光１３の大部分を反射させずに
感光体１０が無い方向に向かうようにしている。よって
本実施形態における折り返しミラー２４は実質的に開口
部として作用する。
【００８６】同図において１３は回折面６４で反射され
た不要回折光（反射６次回折光）のうち、屈折面６３で
表面反射し、さらに回折面６４で使用回折光（通常は＋
１次回折光）として被走査面９上に向かう不要回折光の
迷光である。
た不要回折光（反射６次回折光）のうち、屈折面６３で
表面反射し、さらに回折面６４で使用回折光（通常は＋
１次回折光）として被走査面９上に向かう不要回折光の
迷光である。
【００８７】折り返しミラー２４は、本来のビームスポ
ットを形成する光束１２をそのまま感光体１０に向けて
反射させるが、迷光１３の大部分を反射させずに感光体
１０が無い方向に向かうようにしている。これにより折
り返しミラー２４が無い場合に感光体１０に到達してし
まっていた迷光１４を大幅に低減することができる。
ットを形成する光束１２をそのまま感光体１０に向けて
反射させるが、迷光１３の大部分を反射させずに感光体
１０が無い方向に向かうようにしている。これにより折
り返しミラー２４が無い場合に感光体１０に到達してし
まっていた迷光１４を大幅に低減することができる。
【００８８】このように本実施形態では上述の如く回折
面６４で回折されるの回折光のうち、使用する次数の回
折光（使用回折光）に対して他の次数の不要回折光の迷
光を折り返しミラー２４により制限することにより、被
走査面上の像（ビームスポット）を鮮明にすることがで
き、これにより例えばレーザビームプリンタでは印字が
不鮮明になるという問題点を解決することができる。
面６４で回折されるの回折光のうち、使用する次数の回
折光（使用回折光）に対して他の次数の不要回折光の迷
光を折り返しミラー２４により制限することにより、被
走査面上の像（ビームスポット）を鮮明にすることがで
き、これにより例えばレーザビームプリンタでは印字が
不鮮明になるという問題点を解決することができる。
【００８９】尚、各実施形態においては結像手段（走査
レンズ系）を１〜３枚のレンズより構成したが、これに
限定されるものではない。また結像手段のレンズタイプ
は各実施形態に示したタイプに限定されるものではな
く、回折光学素子を用いた結像手段全てに適用すること
ができる。更に回折面も１面に限定されるものではな
く、複数面に回折格子を形成してもよい。
レンズ系）を１〜３枚のレンズより構成したが、これに
限定されるものではない。また結像手段のレンズタイプ
は各実施形態に示したタイプに限定されるものではな
く、回折光学素子を用いた結像手段全てに適用すること
ができる。更に回折面も１面に限定されるものではな
く、複数面に回折格子を形成してもよい。
【００９０】さらに光源手段は半導体レーザーに限定さ
れるものではない。また各実施形態はそれぞれ単一の発
光点のレーザー、もしくは複数の発光点のレーザーであ
るが、これに限定されるものではない。更に複数ビーム
の光源として、モノリシックマルチビームや、複数のシ
ングルビームを合成したマルチビームなど既知の複数ビ
ームを発する光源であってもよい。
れるものではない。また各実施形態はそれぞれ単一の発
光点のレーザー、もしくは複数の発光点のレーザーであ
るが、これに限定されるものではない。更に複数ビーム
の光源として、モノリシックマルチビームや、複数のシ
ングルビームを合成したマルチビームなど既知の複数ビ
ームを発する光源であってもよい。
【００９１】また各実施形態においては６次の反射回折
光のみ着目して説明したが、これに限定されるものでは
ない。また前述したように回折光学素子の屈折率や設計
上の使用する次数によって発生する高次の回折光の次数
は異なるので適時、適応させることができる。また実際
の製造においては回折格子の高さの誤差を生じるので発
生する高次回折光の次数にも誤差が生じるので適時、適
応させることができる。
光のみ着目して説明したが、これに限定されるものでは
ない。また前述したように回折光学素子の屈折率や設計
上の使用する次数によって発生する高次の回折光の次数
は異なるので適時、適応させることができる。また実際
の製造においては回折格子の高さの誤差を生じるので発
生する高次回折光の次数にも誤差が生じるので適時、適
応させることができる。
【００９２】また、本発明では、折り返しミラー２４が
主走査方向及び副走査方向に屈折力のない平面ミラーが
好ましい。但し、本発明では、それに限定されることは
なく、シリンドリカルミラーのような屈折力のあるミラ
ーでも良い。
主走査方向及び副走査方向に屈折力のない平面ミラーが
好ましい。但し、本発明では、それに限定されることは
なく、シリンドリカルミラーのような屈折力のあるミラ
ーでも良い。
【００９３】本発明では、各実施形態１〜４に示した制
限手段が６次の反射回折光を含む不要回折光の迷光の５
０％を制限するように配置することが好ましい。更に好
ましくは、各実施形態１〜４に示した制限手段が６次の
反射回折光を含む不要回折光の迷光の８０％を制限する
ように配置することが好ましい。
限手段が６次の反射回折光を含む不要回折光の迷光の５
０％を制限するように配置することが好ましい。更に好
ましくは、各実施形態１〜４に示した制限手段が６次の
反射回折光を含む不要回折光の迷光の８０％を制限する
ように配置することが好ましい。
【００９４】また、本発明の制限手段の材質は、不透明
な樹脂に限定されることなく、アルミニウム等の遮光機
能を有する金属でも良い。
な樹脂に限定されることなく、アルミニウム等の遮光機
能を有する金属でも良い。
【００９５】本発明の技術課題である被走査面に達する
不要回折光の迷光による画質劣化は、各実施形態１〜４
で使用された回折面６４のベース面（基準面）が巨視的
に見て平面形状な回折光学素子６２において、特に顕著
に問題となる。理由は、回折面６４のベース面（基準
面）が巨視的に見て平面形状の場合、不要回折光の迷光
が被走査面９に達する確率が高くなるためである。そこ
で、本発明では、各実施形態１〜４に示された制限手段
７，２０，２４，３２により、不要回折光の迷光を制限
している。
不要回折光の迷光による画質劣化は、各実施形態１〜４
で使用された回折面６４のベース面（基準面）が巨視的
に見て平面形状な回折光学素子６２において、特に顕著
に問題となる。理由は、回折面６４のベース面（基準
面）が巨視的に見て平面形状の場合、不要回折光の迷光
が被走査面９に達する確率が高くなるためである。そこ
で、本発明では、各実施形態１〜４に示された制限手段
７，２０，２４，３２により、不要回折光の迷光を制限
している。
【００９６】但し、本発明で使用される回折光学素子６
２は、回折面６４のベース面（基準面）が巨視的に見て
平面形状であるものに限定されない。回折面６４のベー
ス面が巨視的に見て曲面形状のものも本発明で使用され
る回折光学素子６２に適用できる。回折面６４のベース
面が巨視的に見て曲面形状の場合でも、不要回折光の迷
光が被走査面９に達するためである。
２は、回折面６４のベース面（基準面）が巨視的に見て
平面形状であるものに限定されない。回折面６４のベー
ス面が巨視的に見て曲面形状のものも本発明で使用され
る回折光学素子６２に適用できる。回折面６４のベース
面が巨視的に見て曲面形状の場合でも、不要回折光の迷
光が被走査面９に達するためである。
【００９７】尚、以上の各実施形態においてスリット部
材７により回折面６４から生ずる使用回折光以外の不要
回折光の一部を遮光するようにしても良い。
材７により回折面６４から生ずる使用回折光以外の不要
回折光の一部を遮光するようにしても良い。
【００９８】また、各実施形態１〜４では、射出成形で
製作されたプラスチック製の長尺な回折光学素子６２を
用いているが、ベース基板上に回折格子を製作するレプ
リカ法で作製された回折光学素子を用いても良い。
製作されたプラスチック製の長尺な回折光学素子６２を
用いているが、ベース基板上に回折格子を製作するレプ
リカ法で作製された回折光学素子を用いても良い。
【００９９】［画像形成装置］図９は、前述した実施形
態１〜４のいずれかの走査光学装置を用いた画像形成装
置（電子写真プリンタ）の実施形態を示す副走査方向の
要部断面図である。図９において、符号１０４は画像形
成装置を示す。この画像形成装置１０４には、パーソナ
ルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータＤ
ｃが入力する。このコードデータＤｃは、装置内のプリ
ンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドット
データ）Ｄｉに変換される。この画像データＤｉは、各
実施形態１〜４で示した構成を有する光走査ユニット１
００に入力される。そして、この光走査ユニット（走査
光学装置）１００からは、画像データＤｉに応じて変調
された光ビーム（光束）１０３が出射され、この光ビー
ム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方
向に走査される。
態１〜４のいずれかの走査光学装置を用いた画像形成装
置（電子写真プリンタ）の実施形態を示す副走査方向の
要部断面図である。図９において、符号１０４は画像形
成装置を示す。この画像形成装置１０４には、パーソナ
ルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータＤ
ｃが入力する。このコードデータＤｃは、装置内のプリ
ンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドット
データ）Ｄｉに変換される。この画像データＤｉは、各
実施形態１〜４で示した構成を有する光走査ユニット１
００に入力される。そして、この光走査ユニット（走査
光学装置）１００からは、画像データＤｉに応じて変調
された光ビーム（光束）１０３が出射され、この光ビー
ム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方
向に走査される。
【０１００】静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム
１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させら
れる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の
感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交す
る副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方に
は、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電
ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。
そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラ
ム１０１の−表面に、前記光走査ユニット１００によっ
て走査される光ビーム１０３が照射されるようになって
いる。
１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させら
れる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の
感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交す
る副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方に
は、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電
ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。
そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラ
ム１０１の−表面に、前記光走査ユニット１００によっ
て走査される光ビーム１０３が照射されるようになって
いる。
【０１０１】先に説明したように、光ビーム１０３は、
画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビー
ム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表
面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光
ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１
の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するよう
に配設された現像器１０７によってトナー像として現像
される。
画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビー
ム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表
面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光
ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１
の回転方向の下流側で感光ドラム１０１に当接するよう
に配設された現像器１０７によってトナー像として現像
される。
【０１０２】現像器１０７によって現像されたトナー像
は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対
向するように配設された転写ローラ（転写器）１０８に
よって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１
１２は感光ドラム１０１の前方（図９において右側）の
用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも
給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙
ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内
の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対
向するように配設された転写ローラ（転写器）１０８に
よって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１
１２は感光ドラム１０１の前方（図９において右側）の
用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも
給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙
ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内
の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
【０１０３】以上のようにして、未定着トナー像を転写
された用紙１１２はさらに感光ドラム１０１後方（図９
において左側）の定着器へと搬送される。定着器は内部
に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３と
この定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧
ローラ１１４とで構成されており、転写部から撒送され
てきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１
４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１
１２上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ロー
ラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されてお
り、定着された用紙１１２を画像形成装置の外に排出せ
しめる。
された用紙１１２はさらに感光ドラム１０１後方（図９
において左側）の定着器へと搬送される。定着器は内部
に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３と
この定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧
ローラ１１４とで構成されており、転写部から撒送され
てきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１
４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１
１２上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ロー
ラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されてお
り、定着された用紙１１２を画像形成装置の外に排出せ
しめる。
【０１０４】図９においては図示していないが、プリン
トコントローラ１１１は、先に説明データの変換だけで
なく、モータ１１５を始め画像形成装置内の各部や、光
走査ユニット１００内のポリゴンモータなどの制御を行
う。
トコントローラ１１１は、先に説明データの変換だけで
なく、モータ１１５を始め画像形成装置内の各部や、光
走査ユニット１００内のポリゴンモータなどの制御を行
う。
【０１０５】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く回折面によっ
て生じる不要回折光の迷光を制限する制限手段を、回折
面と被走査面との間の光路中に設けることにより、被走
査面に達する不要回折光の迷光を低減させることがで
き、これにより高画質で鮮明なる画像を得ることができ
る走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を達成す
ることができる。
て生じる不要回折光の迷光を制限する制限手段を、回折
面と被走査面との間の光路中に設けることにより、被走
査面に達する不要回折光の迷光を低減させることがで
き、これにより高画質で鮮明なる画像を得ることができ
る走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を達成す
ることができる。
【０１０６】更に本発明によれば前述の如く装置内の部
材の形状や大きさ等を工夫することにより、上記の制限
部材を新たに設けなくても被走査面に達する上記不要回
折光の迷光を低減させることができ、これにより高画質
で鮮明なる画像を得ることができる走査光学装置及びそ
れを用いた画像形成装置を達成することができる。
材の形状や大きさ等を工夫することにより、上記の制限
部材を新たに設けなくても被走査面に達する上記不要回
折光の迷光を低減させることができ、これにより高画質
で鮮明なる画像を得ることができる走査光学装置及びそ
れを用いた画像形成装置を達成することができる。
【図１】 本発明の実施形態１の主走査方向の要部断面
図
図
【図２】 本発明の実施形態１の主要部分の副走査方向
の要部断面図
の要部断面図
【図３】 本発明の実施形態２の主走査方向の要部断面
図
図
【図４】 本発明の実施形態２の主要部分の副走査方向
の要部断面図
の要部断面図
【図５】 本発明の実施形態３の主走査方向の要部断面
図
図
【図６】 本発明の実施形態３の主要部分の副走査方向
の要部断面図
の要部断面図
【図７】 本発明の実施形態４の主走査方向の要部断面
図
図
【図８】 本発明の実施形態４の主要部分の副走査方向
の要部断面図
の要部断面図
【図９】 本発明の画像形成装置の副走査方向の要部断
面図
面図
【図１０】 従来の走査光学装置の要部概略図
【図１１】 反射６次回折光の迷光がどのように被走査
面上を走査するかを示した図
面上を走査するかを示した図
１ 光源手段（半導体レーザー） ２ コリメーターレンズ ３ 開口絞り ４ シリンドリカルレンズ ５ 偏向手段（光偏向器） ６，５６，７６ 結像手段 ７ 制限手段（スリット部材） ９ 被走査面（感光ドラム面） １６ 入射光学手段 ３３ 制限手段（入射窓） ２３ 制限手段（出射窓） ２４ 制限手段（反射部材） ３１ 光源手段（マルチ半導体レーザー） ６１ トーリックレンズ ６２ 回折光学素子 ６３ 屈折面 ６４ 回折面 ６５ 長尺トーリックレンズ １００ 走査光学装置 １０１ 感光ドラム １０２ 帯電ローラ １０３ 光ビーム １０７ 現像装置 １０８ 転写ローラ １０９ 用紙カセット １１０ 給紙ローラ １１２ 転写材（用紙） １１３ 定着ローラ １１４ 加圧ローラ １１６ 排紙ローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2C362 BA85 BA86 BA87 DA27 DA28 2H045 AA01 CA03 CA67 CB22 DA02 2H087 KA19 LA22 NA18 PA02 PA17 PB02 QA03 QA05 QA12 QA41 RA08 RA31 RA46 UA01 5C072 AA03 BA17 DA02 DA20 DA21 HA13
Claims (12)
- 【請求項１】 光源手段から出射された少なくとも１つ
の光束を偏向手段に入射させる入射光学手段と、該偏向
手段で反射偏向された少なくとも１つの光束を被走査面
上に結像させる少なくとも１つの回折面を有する結像手
段と、を有する走査光学装置において、 該回折面で回折される回折光のうち、該被走査面上にス
ポットを形成させる為に使用する次数の回折光に対して
他の次数の不要回折光の迷光を制限する制限手段を、該
回折面と該被走査面との間の光路中に設けたことを特徴
とする走査光学装置。 - 【請求項２】 前記制限手段は主走査方向に沿って略平
行に配置されたエッジ部により形成されていることを特
徴とする請求項１記載の走査光学装置。 - 【請求項３】 前記制限手段は主走査方向に沿って略平
行に配置されたスリット部材により形成されていること
を特徴とする請求項１記載の走査光学装置。 - 【請求項４】 前記制限手段は前記使用する次数の回折
光の光束の進行方向を変更する反射部材により形成され
ていることを特徴とする請求項１記載の走査光学装置。 - 【請求項５】 前記制限手段は走査光学装置を構成する
複数の要素のうち少なくとも一つの要素を保持するケー
シングに設けられた入射窓又は／及び出射窓により形成
されていることを特徴とする請求項１記載の走査光学装
置。 - 【請求項６】 前記不要回折光の迷光の走査幅は Ｌｍ／Ｌｏ＜０．８ （但し、Ｌｍ：不要回折光の迷光の走査幅 Ｌｏ：有効走査幅）なる条件を満足することを特徴とす
る請求項１記載の走査光学装置。 - 【請求項７】 前記使用する次数をｎ、前記他の次数を
ｍとしたとき、 ４≦ｍ／ｎ≦７ なる条件を満足することを特徴とする請求項１記載の走
査光学装置。 - 【請求項８】 前記使用する次数の回折光は１次の透過
回折光であり、前記不要回折光は６次の反射回折光であ
ることを特徴とする請求項１記載の走査光学装置。 - 【請求項９】 前記制限手段の開口部の副走査方向の幅
をＳ、該制限手段の置かれた場所における本来のビーム
スポットを形成する光束の副走査方向の大きさをφｏ、
前記不要回折光の迷光の副走査方向の大きさをφｍとし
たとき、 φｏ＜Ｓ＜φｍ なる条件を満足することを特徴とする請求項１記載の走
査光学装置。 - 【請求項１０】 前記制限手段の開口部の副走査方向の
幅をＳ、該制限手段の置かれた場所における前記不要回
折光の迷光の副走査方向の大きさをφｍ、該不要回折光
の迷光の走査幅をＬｍ、有効走査幅をＬｏとしたとき、 【数１】 なる条件を満足することを特徴とする請求項１記載の走
査光学装置。 - 【請求項１１】 請求項１乃至１０のいずれか１項に記
載の走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体
と、前記走査光学装置で走査された光束によって前記感
光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する
現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転
写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定
着器とを有することを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項１２】 請求項１乃至１０の何れか１項に記載
の走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータ
を画像信号に変換して前記走査光学装置に入力せしめる
プリンタコントローラとを有していることを特徴とする
画像形成装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001038174A JP3667236B2 (ja) | 2000-02-29 | 2001-02-15 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| US09/794,500 US6639704B2 (en) | 2000-02-29 | 2001-02-28 | Scanning optical apparatus, and image forming apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000053547 | 2000-02-29 | ||
| JP2000-53547 | 2000-02-29 | ||
| JP2001038174A JP3667236B2 (ja) | 2000-02-29 | 2001-02-15 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001318333A true JP2001318333A (ja) | 2001-11-16 |
| JP2001318333A5 JP2001318333A5 (ja) | 2005-06-16 |
| JP3667236B2 JP3667236B2 (ja) | 2005-07-06 |
Family
ID=26586367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001038174A Expired - Fee Related JP3667236B2 (ja) | 2000-02-29 | 2001-02-15 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6639704B2 (ja) |
| JP (1) | JP3667236B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006301299A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Ricoh Co Ltd | レーザ走査装置、画像形成装置、レーザ走査方法及び画像形成方法 |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
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| US7450142B2 (en) * | 2005-09-02 | 2008-11-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical device with post-deflection diffraction element supported by an end-side swing member to suppress vibration |
| JP5106033B2 (ja) * | 2007-10-16 | 2012-12-26 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
Family Cites Families (2)
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|---|---|---|---|---|
| US5422753A (en) * | 1993-12-23 | 1995-06-06 | Xerox Corporation | Binary diffraction optical element for controlling scanning beam intensity in a raster output scanning (ROS) optical system |
| JP3432085B2 (ja) | 1996-08-28 | 2003-07-28 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置 |
-
2001
- 2001-02-15 JP JP2001038174A patent/JP3667236B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-02-28 US US09/794,500 patent/US6639704B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006301299A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Ricoh Co Ltd | レーザ走査装置、画像形成装置、レーザ走査方法及び画像形成方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6639704B2 (en) | 2003-10-28 |
| JP3667236B2 (ja) | 2005-07-06 |
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