JP2001314827A - 基板の洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents
基板の洗浄方法および洗浄装置Info
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Abstract
を抑制すべく、洗浄ムラや純水等の乾きムラが生じない
基板の洗浄方法および洗浄装置を提供する。 【解決手段】 洗浄装置は、前処理室1、超音波洗浄室
2、純水洗浄室3、第一液切り室4、後処理室5、第二
液切り室6、基板昇温室7、および、基板冷却室8を、
基板10の搬送方向に沿ってこの順に備えている。上記
各室1〜8は順次連結されており、搬送ローラ11…群
によって基板搬送路が形成されている。後処理室5で
は、基板10の上面にシャワーノズル22からイソプロ
ピルアルコール(IPA)を噴射する。第二液切り室6
では、基板10表面にエアーナイフ23・23から加圧
空気を吹き付けてIPAを除去する。基板昇温室7で
は、基板10をヒータ24・24で凡そ100℃に加熱
(昇温)し、目視が不可能なレベルの微細なIPAや、
置換されずに残留している純水を蒸発(乾燥)させる。
Description
置等の製造時に用いられる、配向膜を有する基板の洗浄
方法および洗浄装置に関するものである。
間に液晶層を挟持してなる液晶表示装置の製造工程にお
いては、ポリイミド等の高分子からなる配向膜を基板の
片面に形成してラビング処理(配向処理)を施した後、
該基板を洗浄することが行われている。しかしながら、
純水のみを用いて基板を洗浄すると、ランニングコスト
は安価ではあるが、配向膜を構成する高分子の種類によ
っては、該高分子が加水分解反応等を受けるので、配向
膜の特性が変化してしまう。このため、該配向膜を有す
る基板を用いて液晶表示装置を製造すると、その表示品
位に悪影響が及ぼされることになる。
は、基板を多数収納可能なカセットを用い、該カセット
を単位として、純水および例えばイソプロピルアルコー
ル(以下、IPAと記す)等の洗浄液で洗浄するバッチ
式洗浄方式と、基板を一枚ずつ搬送ローラを用いて搬送
しながら、純水および上記洗浄液で洗浄する枚葉式洗浄
方式とが採用されている。
板の洗浄ムラや洗浄液の乾きムラが生じ易い。このた
め、従来より種々の改善策が提案されている。例えば、
特開平9−33927号公報には、図2に示すように、
基板100表面にIPAまたはその水溶液を供給するシ
ャワーノズル111を備えた前処理室101、基板10
0表面に純水を供給して洗浄するシャワーノズル112
…を備えた純水洗浄室102、および、基板100表面
に加圧空気を供給して乾燥させるエアーナイフ113…
を備えた液切り室103をこの順に備えた洗浄装置が開
示されている。該洗浄装置を用いた洗浄方法において
は、基板100を純水で洗浄する工程の前処理工程とし
て、該基板100表面をIPAまたはその水溶液で以て
覆う(保護膜を形成する)処理を施し、これにより、配
向膜を構成する高分子が受ける加水分解反応等を軽減
(抑制)すると共に、基板100の洗浄ムラや洗浄液の
乾きムラを抑制するようになっている。
来の洗浄方法では、配向膜を構成する高分子が受ける加
水分解反応等を軽減することができるものの、該配向膜
を有する基板を用いて液晶表示装置を製造すると、コン
トラストムラ等の表示品位の低下(不良)を引き起こ
し、不良品が発生し易い。上記のコントラストムラは、
液晶表示装置内部に残留するイオン(以下、残留イオン
と記す)が原因の一つである。コントラストムラが発生
するメカニズムとしては、液晶の駆動方法や制御電場の
印加方法等の違いによってその発生度合いに程度の差は
あるものの、液晶に制御電場が印加されることによって
残留イオンに偏りが生じることが挙げられる。
は、配向膜を構成する高分子や液晶等に含まれる不純物
の他に、洗浄時に乾きムラが生じることによって基板上
の配向膜表面に残された、目視が不可能なレベルの微細
な水滴が挙げられる。つまり、上記従来の洗浄方法で
は、基板表面に加圧空気を吹き付けて乾燥させるだけで
あるので、目視が不可能なレベルの微細な水滴が配向膜
表面に残る乾きムラが生じ易く、従って、該水滴が残留
イオンの発生源となって液晶表示装置のコントラストム
ラ等の表示品位の低下を引き起こし、不良品が発生し易
いという問題点を有している。
ムラは低減される。それゆえ、例えば液晶表示装置内部
における残留イオンの発生を抑制すべく、洗浄ムラや純
水等の乾きムラが生じない基板の洗浄方法および洗浄装
置が求められている。
たものであり、その目的は、例えば液晶表示装置内部に
おける残留イオンの発生を抑制すべく、洗浄ムラや純水
等の乾きムラが生じない基板の洗浄方法および洗浄装置
を提供することにある。
は、上記の課題を解決するために、配向膜を有する基板
を有機溶媒を含む溶液で洗浄する溶液洗浄工程を行った
後、該基板を純水で洗浄する純水洗浄工程と、基板上の
純水を除去する純水除去工程とを行う基板の洗浄方法に
おいて、純水除去工程の後に、基板上に残留する純水を
乾燥させる加熱工程と、加熱した基板を冷却する冷却工
程とを行うことを特徴としている。
解決するために、配向膜を有する基板を有機溶媒を含む
溶液で洗浄する溶液洗浄工程を行った後、該基板を純水
で洗浄する純水洗浄工程と、基板上の純水を除去する純
水除去工程とを行う基板の洗浄方法において、純水除去
工程の後に、基板上に残留する純水を有機溶媒を含む溶
液で置換する置換工程と、基板上の該溶液を除去する溶
液除去工程とを行うことを特徴としている。
に、純水を乾燥させる加熱工程と、基板を冷却する冷却
工程とを行うので、配向膜を有する基板の乾きムラを抑
制することができる。または、上記の構成によれば、純
水除去工程の後に、純水を有機溶媒を含む溶液で置換す
る置換工程と、該溶液を除去する溶液除去工程とを行う
ので、配向膜を有する基板の乾きムラを抑制することが
できる。
能なレベルの微細な水滴が残留することを、充分に抑制
することができる。従って、該基板を用いて例えば液晶
表示装置、即ち、配向処理が施された一対の基板間に液
晶層を挟持してなる液晶表示装置を製造すると、水滴が
液晶表示装置内部に残留するイオンの発生源とならない
ので、配向膜を構成する高分子や液晶等に含まれる不純
物から発生するイオン以外のイオンの発生量を低減する
ことができる。
や純水等の乾きムラが生じない基板の洗浄方法を提供す
ることができる。そして、液晶表示装置内部に残留する
イオンの発生量が低減されるので、該液晶表示装置のコ
ントラストムラ等の表示品位の低下が抑制され、良好な
状態が維持される。即ち、液晶表示装置の表示品位を向
上させることができ、不良品の発生を防止することがで
きる。
解決するために、さらに、溶液除去工程の後に、基板上
に残留する溶液を乾燥させる加熱工程と、加熱した基板
を冷却する冷却工程とを行うことを特徴としている。
課題を解決するために、さらに、上記有機溶媒がイソプ
ロピルアルコールであることを特徴としている。
乾きムラがより一層生じない基板の洗浄方法を提供する
ことができる。そして、液晶表示装置内部に残留するイ
オンの発生量がさらに低減されるので、該液晶表示装置
のコントラストムラ等の表示品位の低下がさらに抑制さ
れ、良好な状態が維持される。即ち、液晶表示装置の表
示品位をさらに向上させることができる。
解決するために、配向膜を有する基板を有機溶媒を含む
溶液で洗浄する溶液洗浄室と、該基板を純水で洗浄する
純水洗浄室と、基板上の純水を除去する純水除去室とを
備えると共に、基板上に残留する純水を乾燥させる加熱
室と、加熱した基板を冷却する冷却室とをさらに備えて
いることを特徴としている。
解決するために、配向膜を有する基板を有機溶媒を含む
溶液で洗浄する溶液洗浄室と、該基板を純水で洗浄する
純水洗浄室と、基板上の純水を除去する純水除去室とを
備えると共に、基板上に残留する純水を有機溶媒を含む
溶液で置換する置換室と、基板上の該溶液を除去する溶
液除去室とをさらに備えていることを特徴としている。
熱室と、基板を冷却する冷却室とを備えているので、配
向膜を有する基板の乾きムラを抑制することができる。
または、上記の構成によれば、純水を有機溶媒を含む溶
液で置換する置換室と、該溶液を除去する溶液除去室と
を備えているので、配向膜を有する基板の乾きムラを抑
制することができる。
能なレベルの微細な水滴が残留することを、充分に抑制
することができる。従って、該基板を用いて例えば液晶
表示装置、即ち、配向処理が施された一対の基板間に液
晶層を挟持してなる液晶表示装置を製造すると、水滴が
液晶表示装置内部に残留するイオンの発生源とならない
ので、配向膜を構成する高分子や液晶等に含まれる不純
物から発生するイオン以外のイオンの発生量を低減する
ことができる。
や純水等の乾きムラが生じない基板の洗浄装置を提供す
ることができる。そして、液晶表示装置内部に残留する
イオンの発生量が低減されるので、該液晶表示装置のコ
ントラストムラ等の表示品位の低下が抑制され、良好な
状態が維持される。即ち、液晶表示装置の表示品位を向
上させることができ、不良品の発生を防止することがで
きる。
解決するために、基板上に残留する溶液を乾燥させる加
熱室と、加熱した基板を冷却する冷却室とをさらに備え
ていることを特徴としている。
課題を解決するために、さらに、上記有機溶媒がイソプ
ロピルアルコールであることを特徴としている。
乾きムラがより一層生じない基板の洗浄装置を提供する
ことができる。そして、液晶表示装置内部に残留するイ
オンの発生量がさらに低減されるので、該液晶表示装置
のコントラストムラ等の表示品位の低下がさらに抑制さ
れ、良好な状態が維持される。即ち、液晶表示装置の表
示品位をさらに向上させることができる。
一形態について図1に基づいて説明すれば、以下の通り
である。尚、本発明において、「有機溶媒を含む溶液」
とは、有機溶媒またはその水溶液を示すこととする。
複数の基板を連続的に洗浄する構成となっており、図1
に示すように、例えば、前処理室1、超音波洗浄室2、
純水洗浄室3、第一液切り室4、後処理室5、第二液切
り室6、基板昇温室7、および、基板冷却室8を、基板
10の搬送方向に沿ってこの順に備えている。上記各室
1〜8は、基板10を搬送するための搬送ローラ11…
群を備えており、基板10を搬送して一連の洗浄工程に
おける各処理を円滑に行うことができるように、順次連
結されている。つまり、搬送ローラ11…群によって基
板搬送路が形成されている。基板10は、配向膜が形成
されている面を上にした状態で搬送され、上記各室1〜
8を順に通過することによって洗浄される。尚、基板冷
却室8を出た基板10は、基板10に合成樹脂からなる
シール材を塗布する塗布装置、および、一対の基板10
・10を貼着する貼着装置に順次搬送されると共に、該
基板10・10を各液晶パネル毎に分断する分断装置、
および、各液晶パネルに液晶を封入する封入装置等に搬
送される。
びに洗浄方法)において用いることができる有機溶媒と
しては、具体的には、例えば、メチルアルコール、イソ
プロピルアルコール等が挙げられるが、特に限定される
ものではない。上記例示の有機溶媒のうち、イソプロピ
ルアルコール(以下、IPAと記す)が、油脂分等の洗
浄能力に優れ、揮発性が比較的低く、人体に対して安全
であり、かつ、比較的安価であることから、最適であ
る。以下、有機溶媒としてIPAを用いた場合を一例に
挙げて説明する。
はその水溶液(以下、まとめて単にIPAと記す)を供
給して洗浄するシャワーノズル12と、基板10表面に
加圧空気を供給してIPAを除去する、上下一対のエア
ーナイフ13・13と、使用後のIPAを回収して貯留
するタンク14と、該タンク14から上記シャワーノズ
ル12にIPAを供給する(循環させる)ポンプ15
と、上記エアーナイフ13・13に各々独立した圧力で
以て加圧空気を供給するコンプレッサー(図示せず)と
を有している。該コンプレッサーは、基板10の上面
(配向膜が形成されている面)側に設けられているエア
ーナイフ13に対して、比較的弱い圧力で以て加圧空気
を供給する一方、基板10の下面側に設けられているエ
アーナイフ13に対して、比較的強い圧力で以て加圧空
気を供給するようになっている。尚、シャワーノズル1
2の本数は、特に限定されるものではない。また、IP
Aの水溶液は、IPAを50容量%以上含んでいること
が望ましい。IPAは繰り返し使用されるが、必要に応
じて、タンク14には、新しい(未使用の)IPAが適
宜補給される。
供給する供給ノズル16…群と、純水を貯留して基板1
0を浸漬・洗浄する洗浄槽17と、該洗浄槽17に貯留
された純水を超音波振動させる超音波振動子(図示せ
ず)とを有している。洗浄槽17に貯留された純水は、
適宜排水されることにより、一定の水位を保つようにな
っている。また、基板10は、洗浄槽17における水面
の直下付近を搬送されるようになっている。従って、基
板10は超音波洗浄されるようになっている。尚、供給
ノズル16の本数は、特に限定されるものではない。ま
た、純水の供給方式としては、例えば、高圧噴射方式や
シャワー方式等が挙げられるが、特に限定されるもので
はなく、必要に応じて両方式を併用する等の、最適な方
式を採用すればよい。
給して洗浄するシャワーノズル18と、該シャワーノズ
ル18に新しい(未使用の)純水を供給する純水供給装
置(図示せず)と、使用後の純水を回収して貯留するタ
ンク19と、該タンク19から前記超音波洗浄室2の供
給ノズル16…群に純水を供給するポンプ20とを有し
ている。純水洗浄室3にて使用した純水を超音波洗浄室
2にて再使用することにより、純水の使用量を節約する
ことができる。尚、シャワーノズル18の本数や供給方
式は、特に限定されるものではなく、最適な本数や方式
を採用すればよい。また、純水を再使用する構成とする
代わりに、超音波洗浄室2の供給ノズル16…群に新し
い純水を供給する構成としてもよい。
気を供給して純水を除去する、上下一対のエアーナイフ
21・21と、該エアーナイフ21・21に各々独立し
た圧力で以て加圧空気を供給するコンプレッサー(図示
せず)とを有している。尚、第一液切り室4において
は、加圧空気を供給して純水を除去する構成の代わり
に、純水を除去することが可能な他の構成を採用するこ
ともできる。
給して、残留する純水と置換するシャワーノズル22
と、該シャワーノズル22にIPAを供給するIPA供
給装置(図示せず)とを有している。尚、シャワーノズ
ル22の本数は、特に限定されるものではない。
気を供給してIPAを除去する、上下一対のエアーナイ
フ23・23と、該エアーナイフ23・23に各々独立
した圧力で以て加圧空気を供給するコンプレッサー(図
示せず)とを有している。後処理室5および第二液切り
室6は、各々独立した処理室として設けられているの
で、後処理室5にて飛び散ったIPAが第二液切り室6
に位置する基板10表面に付着することはなく、それゆ
え、第二液切り室6において基板10の乾きムラ(IP
Aの除去ムラ)が生じるおそれは無い。
て上下に配設された一対のヒータ24・24と、基板昇
温室7の入口に設けられた上下一対のエアー吹き出し口
25・25と、基板昇温室7の出口に設けられた上下一
対のエアー吹き出し口26・26と、該エアー吹き出し
口25…・26…に所定の圧力で以て加圧空気を供給す
るコンプレッサー(図示せず)とを有している。ヒータ
24・24は、基板10を凡そ100℃に加熱(昇温)
するようになっている。ヒータ24・24による加熱温
度は、基板10、特に配向膜に悪影響を及ぼさず、か
つ、基板10表面に残留しているIPAや、場合によっ
ては置換されずに残留している純水を完全に乾かすこと
ができるように、水の沸点である100℃を目安とする
ことが望ましい。エアー吹き出し口25…・26…は、
基板昇温室7の出入口にエアカーテンを形成するように
なっている。これにより、ヒータ24・24で温められ
た空気が基板昇温室7から漏れることを防止して、該基
板昇温室7の室温を維持するようになっている。
て上下に配設された一対の冷却プレート27・27を有
している。該冷却プレート27・27は、前記基板昇温
室7にて加熱された基板10を室温程度に冷却するよう
になっている。これにより、一連の洗浄工程の次に行う
工程であるシール材の塗布工程における、該シール材の
品質維持および塗布操作の安定性を図るようになってい
る。尚、基板冷却室8は、必要に応じて、その出入口に
エアカーテンを形成する構成を採用することもできる。
いて、以下に説明する。先ず、前処理室1では、搬送ロ
ーラ11…群によって搬送されてきた基板10の上面
に、シャワーノズル12からIPAを噴射する(溶液洗
浄工程)。これにより、基板10は、IPAによって洗
浄されると共に、全体がIPAで濡れた(覆われた)状
態となる。次いで、該基板10表面に(基板の全面にわ
たって)エアーナイフ13・13から加圧空気を吹き付
けて、余剰のIPAを除去する(洗浄溶液除去工程)。
この際、基板10の上側に設けられているエアーナイフ
13からは比較的弱い圧力で以て加圧空気が吹き付けら
れるので、IPAは完全に除去されることなく、その一
部が配向膜と充分に馴染んだ状態で該配向膜表面に存在
することになる。一方、基板10の下側に設けられてい
るエアーナイフ13からは比較的強い圧力で以て加圧空
気が吹き付けられるので、IPAはほぼ完全にかつ効率
的に除去される。つまり、配向膜が形成されていない基
板10の下面については、表示品位の優劣とは無関係で
あるため、該下面に回り込んだ余分なIPAをほぼ完全
に除去する。尚、除去した(使用後の)IPAはタンク
14に回収し、ポンプ15によって再度シャワーノズル
12に供給することにより、繰り返し使用する。
1…群によって搬送されてきた基板10の上面に供給ノ
ズル16…群から純水を噴射すると共に、純水を貯留し
た洗浄槽17に該基板10を浸漬する。これにより、基
板10を超音波洗浄する(純水洗浄工程)。
1…群によって搬送されてきた基板10の上面に、シャ
ワーノズル18から新しい純水を噴射して洗浄する(純
水洗浄工程)。従って、本発明にかかる洗浄装置におい
ては、超音波洗浄室2および純水洗浄室3の両方で純水
洗浄工程を行うので、基板10を純水で2回洗浄するこ
とになる。尚、使用後の純水はタンク19に回収し、ポ
ンプ20によって供給ノズル16…群に供給することに
より、再使用する。
によって搬送されてきた基板10表面に(基板の全面に
わたって)エアーナイフ21・21から加圧空気を吹き
付けて、基板10に付着している純水を除去する(純水
除去工程)。この際、エアーナイフ21・21からは比
較的強い圧力で以て加圧空気が吹き付けられるので、純
水はほぼ完全にかつ効率的に除去される。尚、基板10
に付着している純水を除去する方法は、加圧空気を吹き
付ける方法にのみ限定されるものではない。
群によって搬送されてきた基板10の上面に、シャワー
ノズル22からIPAを噴射する(置換工程)。これに
より、基板10表面、特に配向膜表面に残留する、目視
が不可能なレベルの微細な水滴をIPAで置換する。
11…群によって搬送されてきた基板10表面に(基板
の全面にわたって)エアーナイフ23・23から加圧空
気を吹き付けて、基板10に付着しているIPAを除去
する(溶液除去工程)。この際、エアーナイフ23・2
3からは比較的強い圧力で以て加圧空気が吹き付けられ
るので、IPAはほぼ完全にかつ効率的に除去される。
よって搬送されてきた基板10をヒータ24・24で凡
そ100℃に加熱(昇温)し、該基板10表面、特に配
向膜表面に残留する、目視が不可能なレベルの微細なI
PAや、場合によっては置換されずに残留している純水
を蒸発(乾燥)させて、完全に除去する(加熱工程)。
この際、基板昇温室7の出入口にはエアー吹き出し口2
5…・26…によってエアカーテンを形成するので、ヒ
ータ24・24によって温められた空気が漏れず、基板
10を速やかに加熱することができる。
…群によって搬送されてきた基板10を冷却プレート2
7・27で室温程度に冷却する(冷却工程)。これによ
り、上記一連の洗浄工程の次に行う工程であるシール材
の塗布工程における、該シール材の品質維持および塗布
操作の安定性を図ることができる。
0上の配向膜表面に目視が不可能なレベルの微細な水滴
が残留することを、充分に抑制することができる。つま
り、後処理室5において目視が不可能なレベルの微細な
水滴をIPAで置換すると共に、基板昇温室7において
基板10を加熱してIPAや、場合によっては残留して
いる純水を蒸発させる。従って、該基板10を用いて例
えば液晶表示装置、即ち、配向処理が施された一対の基
板間に液晶層を挟持してなる液晶表示装置を製造する
と、水滴が液晶表示装置内部に残留するイオンの発生源
とならないので、配向膜を構成する高分子や液晶等に含
まれる不純物から発生するイオン以外のイオンの発生量
を低減することができる。
来の洗浄方法の工程と比較して増加しているので、洗浄
コストが従来よりもかかる。また、本発明にかかる洗浄
装置は、その設置面積が従来の洗浄装置と比較して、工
程の増加分だけ大きくなっている(トレードオフ)。し
かしながら、本発明にかかる洗浄方法および洗浄装置を
採用することによって、液晶表示装置の表示品位を向上
させることができ、不良品の発生を防止することができ
るので、この点を考慮すると結果的に、液晶表示装置の
製造コストを低減することができる。
応じて、後処理室5および第二液切り室6を省略した構
成としてもよく、或いは、基板昇温室7および基板冷却
室8を省略した構成としてもよい。即ち、本発明にかか
る基板の洗浄装置は、前処理室1、超音波洗浄室2、
純水洗浄室3、第一液切り室4、後処理室5、第二液切
り室6、基板昇温室7、および、基板冷却室8をこの順
に備えている構成であってもよく、或いは、前処理室
1、超音波洗浄室2、純水洗浄室3、第一液切り室4、
基板昇温室7、および、基板冷却室8をこの順に備えて
いる構成であってもよく、さらには、前処理室1、超
音波洗浄室2、純水洗浄室3、第一液切り室4、後処理
室5、および、第二液切り室6をこの順に備えている構
成であってもよい。後処理室5および第二液切り室6を
省略した構成、若しくは、基板昇温室7および基板冷却
室8を省略した構成であっても、上述した種々の効果を
奏することができる。
板を洗浄した結果を以下に示す。即ち、上記の構成を
備えた洗浄装置(以下、洗浄装置と記す)、の構成
を備えた洗浄装置(以下、洗浄装置と記す)、の構
成を備えた洗浄装置(以下、洗浄装置と記す)、およ
び、従来の構成(特開平9−33927号公報に記載の
構成)を備えた洗浄装置(以下、比較洗浄装置と記す)
を用いて基板を洗浄した後、該基板を用いて液晶表示装
置を製造した。そして、該装置内部に残留するイオンの
密度(以下、残留イオン密度と記す)を、最も一般的な
測定方法の一つである三角波電圧印加法を採用して測定
した。その結果、残留イオン密度は、洗浄装置では1
35pC/cm2 であり、洗浄装置では235pC/
cm2 であり、洗浄装置では248pC/cm2 であ
り、比較洗浄装置では411pC/cm2 であった。
浄方法を用いて基板を洗浄することにより、残留イオン
密度を小さくすることができることが判る。また、基板
昇温室および基板冷却室を備えると共に、後処理室およ
び第二液切り室を備えている洗浄装置は、後処理室お
よび第二液切り室を省略した構成である洗浄装置、並
びに、基板昇温室および基板冷却室を省略した構成であ
る洗浄装置と比較して、残留イオン密度をより一層小
さくすることができることが判る。
膜を基板の片面に形成してラビング処理(配向処理)を
施した後、本発明にかかる洗浄方法並びに洗浄装置を採
用して基板を洗浄することにより、該基板の洗浄ムラや
純水等の乾きムラを抑制することができる。つまり、基
板上の配向膜表面に目視が不可能なレベルの微細な水滴
が残留することを、充分に抑制することができる。従っ
て、該基板を用いて液晶表示装置を製造すると、水滴が
液晶表示装置内部に残留するイオンの発生源とならない
ので、配向膜を構成する高分子や液晶等に含まれる不純
物から発生するイオン以外のイオンの発生量を低減する
ことができる。これにより、液晶表示装置のコントラス
トムラ等の表示品位の低下が抑制され、良好な状態が維
持される。即ち、液晶表示装置の表示品位を向上させる
ことができ、不良品の発生を防止することができる。
置は、配向膜を有するあらゆる基板に対して好適である
ので、該方法並びに装置を採用して、例えばカラーフィ
ルタ用基板を洗浄することもできる。
に、基板上の純水を除去する純水除去工程の後に、基板
上に残留する純水を乾燥させる加熱工程と、加熱した基
板を冷却する冷却工程とを行う構成である。
に、基板上の純水を除去する純水除去工程の後に、基板
上に残留する純水を有機溶媒を含む溶液で置換する置換
工程と、基板上の該溶液を除去する溶液除去工程とを行
う構成である。
が生じない基板の洗浄方法を提供することができる。即
ち、液晶表示装置内部に残留するイオンを低減すること
によって該液晶表示装置の表示品位を向上させることが
でき、不良品の発生を防止することができるという効果
を奏する。
に、さらに、溶液除去工程の後に、基板上に残留する溶
液を乾燥させる加熱工程と、加熱した基板を冷却する冷
却工程とを行う構成である。
ように、さらに、有機溶媒がイソプロピルアルコールで
ある構成である。
がより一層生じない基板の洗浄方法を提供することがで
きる。即ち、液晶表示装置内部に残留するイオンを低減
することによって該液晶表示装置の表示品位をさらに向
上させることができるという効果を奏する。
に、基板上の純水を除去する純水除去室を備えると共
に、基板上に残留する純水を乾燥させる加熱室と、加熱
した基板を冷却する冷却室とをさらに備えている構成で
ある。
に、基板上の純水を除去する純水除去室を備えると共
に、基板上に残留する純水を有機溶媒を含む溶液で置換
する置換室と、基板上の該溶液を除去する溶液除去室と
をさらに備えている構成である。
が生じない基板の洗浄装置を提供することができる。即
ち、液晶表示装置内部に残留するイオンを低減すること
によって該液晶表示装置の表示品位を向上させることが
でき、不良品の発生を防止することができるという効果
を奏する。
に、基板上に残留する溶液を乾燥させる加熱室と、加熱
した基板を冷却する冷却室とをさらに備えている構成で
ある。
ように、さらに、有機溶媒がイソプロピルアルコールで
ある構成である。
がより一層生じない基板の洗浄装置を提供することがで
きる。即ち、液晶表示装置内部に残留するイオンを低減
することによって該液晶表示装置の表示品位をさらに向
上させることができるという効果を奏する。
の、概略の構成を示す正面図である。
面図である。
Claims (8)
- 【請求項1】配向膜を有する基板を有機溶媒を含む溶液
で洗浄する溶液洗浄工程を行った後、該基板を純水で洗
浄する純水洗浄工程と、基板上の純水を除去する純水除
去工程とを行う基板の洗浄方法において、 純水除去工程の後に、基板上に残留する純水を乾燥させ
る加熱工程と、加熱した基板を冷却する冷却工程とを行
うことを特徴とする基板の洗浄方法。 - 【請求項2】配向膜を有する基板を有機溶媒を含む溶液
で洗浄する溶液洗浄工程を行った後、該基板を純水で洗
浄する純水洗浄工程と、基板上の純水を除去する純水除
去工程とを行う基板の洗浄方法において、 純水除去工程の後に、基板上に残留する純水を有機溶媒
を含む溶液で置換する置換工程と、基板上の該溶液を除
去する溶液除去工程とを行うことを特徴とする基板の洗
浄方法。 - 【請求項3】溶液除去工程の後に、基板上に残留する溶
液を乾燥させる加熱工程と、加熱した基板を冷却する冷
却工程とを行うことを特徴とする請求項2記載の基板の
洗浄方法。 - 【請求項4】上記有機溶媒がイソプロピルアルコールで
あることを特徴とする請求項1、2または3記載の基板
の洗浄方法。 - 【請求項5】配向膜を有する基板を有機溶媒を含む溶液
で洗浄する溶液洗浄室と、該基板を純水で洗浄する純水
洗浄室と、基板上の純水を除去する純水除去室とを備え
ると共に、 基板上に残留する純水を乾燥させる加熱室と、加熱した
基板を冷却する冷却室とをさらに備えていることを特徴
とする基板の洗浄装置。 - 【請求項6】配向膜を有する基板を有機溶媒を含む溶液
で洗浄する溶液洗浄室と、該基板を純水で洗浄する純水
洗浄室と、基板上の純水を除去する純水除去室とを備え
ると共に、 基板上に残留する純水を有機溶媒を含む溶液で置換する
置換室と、基板上の該溶液を除去する溶液除去室とをさ
らに備えていることを特徴とする基板の洗浄装置。 - 【請求項7】基板上に残留する溶液を乾燥させる加熱室
と、加熱した基板を冷却する冷却室とをさらに備えてい
ることを特徴とする請求項6記載の基板の洗浄装置。 - 【請求項8】上記有機溶媒がイソプロピルアルコールで
あることを特徴とする請求項5、6または7記載の基板
の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000137725A JP2001314827A (ja) | 2000-05-10 | 2000-05-10 | 基板の洗浄方法および洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000137725A JP2001314827A (ja) | 2000-05-10 | 2000-05-10 | 基板の洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001314827A true JP2001314827A (ja) | 2001-11-13 |
Family
ID=18645452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000137725A Pending JP2001314827A (ja) | 2000-05-10 | 2000-05-10 | 基板の洗浄方法および洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001314827A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100608452B1 (ko) * | 2002-04-19 | 2006-08-02 | 주식회사 디엠에스 | 플라즈마를 이용한 tft-lcd 세정방법 및 이를이용한 tft-lcd제조장비 |
JP2019105835A (ja) * | 2017-12-12 | 2019-06-27 | シャープ株式会社 | 基板処理装置 |
JP2019215536A (ja) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | シャープ株式会社 | 液晶用基板の製造方法、及び液晶用基板の処理装置 |
JP2020013127A (ja) * | 2018-07-19 | 2020-01-23 | シャープ株式会社 | 液晶用基板の製造方法 |
-
2000
- 2000-05-10 JP JP2000137725A patent/JP2001314827A/ja active Pending
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CN110737118A (zh) * | 2018-07-19 | 2020-01-31 | 夏普株式会社 | 液晶用基板的制造方法 |
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