JP2001298016A - プラズマクリーニング装置 - Google Patents
プラズマクリーニング装置Info
- Publication number
- JP2001298016A JP2001298016A JP2001043046A JP2001043046A JP2001298016A JP 2001298016 A JP2001298016 A JP 2001298016A JP 2001043046 A JP2001043046 A JP 2001043046A JP 2001043046 A JP2001043046 A JP 2001043046A JP 2001298016 A JP2001298016 A JP 2001298016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base
- lid
- plasma cleaning
- arm
- transport path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンパクトに構成できるプラズマクリーニン
グ装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 ベース12と、ベース12に設けられ対
象物6を案内するガイド40、41と、下方が開口して
おり、かつベース12に対して上方から接離自在に支持
され、しかもベース12に接した際、ベース12の上方
に密閉空間60を形成する蓋13と、ガイド40、41
の一方の側方に設けられ且つ蓋13をベース12に接離
させる接離手段と、ガイド40、41の他方の側方に設
けられ且つベース12上の対象物6を蓋13の下方へ進
入させ及び又は蓋13の下方から退避させる搬送手段を
備える。
グ装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 ベース12と、ベース12に設けられ対
象物6を案内するガイド40、41と、下方が開口して
おり、かつベース12に対して上方から接離自在に支持
され、しかもベース12に接した際、ベース12の上方
に密閉空間60を形成する蓋13と、ガイド40、41
の一方の側方に設けられ且つ蓋13をベース12に接離
させる接離手段と、ガイド40、41の他方の側方に設
けられ且つベース12上の対象物6を蓋13の下方へ進
入させ及び又は蓋13の下方から退避させる搬送手段を
備える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、密閉空間内で対象
物にプラズマクリーニングを行うプラズマクリーニング
装置に関するものである。
物にプラズマクリーニングを行うプラズマクリーニング
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば基板などの対象物に、密閉空間中
にてプラズマクリーニングによる表面処理を行うプラズ
マクリーニング装置が、電子部品の製造ラインや電子機
器の組立ラインなどにおいて使用されている。
にてプラズマクリーニングによる表面処理を行うプラズ
マクリーニング装置が、電子部品の製造ラインや電子機
器の組立ラインなどにおいて使用されている。
【0003】次に従来のプラズマクリーニング装置につ
いて、図16を参照しながら説明する。図16は従来の
プラズマクリーニング装置の斜視図である。図16中、
1は密閉空間を形成し、この密閉空間内にて上述したよ
うな表面処理(プラズマクリーニング)を行う本体、2
は本体1の前面に設けられた出入口、3は出入口2を開
閉するゲートである。また、ゲート3にて出入口2を開
閉するため、本体1に固定されるシリンダ4のロッド5
の上端部がゲート3に連結されている。
いて、図16を参照しながら説明する。図16は従来の
プラズマクリーニング装置の斜視図である。図16中、
1は密閉空間を形成し、この密閉空間内にて上述したよ
うな表面処理(プラズマクリーニング)を行う本体、2
は本体1の前面に設けられた出入口、3は出入口2を開
閉するゲートである。また、ゲート3にて出入口2を開
閉するため、本体1に固定されるシリンダ4のロッド5
の上端部がゲート3に連結されている。
【0004】即ち、シリンダ4を駆動してロッド5を突
出させると、図16に示すように、ゲート3で出入口2
を塞いで、本体1内に密閉空間を形成することができ、
ロッド5を没入させると、出入口2を外部に露呈させる
ことができる。なお、ゲート3で出入口2を塞いだ際、
本体1内に密閉空間が形成されるようにするため、本体
1は、出入口2を除いて、外部に対して閉鎖されてい
る。
出させると、図16に示すように、ゲート3で出入口2
を塞いで、本体1内に密閉空間を形成することができ、
ロッド5を没入させると、出入口2を外部に露呈させる
ことができる。なお、ゲート3で出入口2を塞いだ際、
本体1内に密閉空間が形成されるようにするため、本体
1は、出入口2を除いて、外部に対して閉鎖されてい
る。
【0005】6は矢印Lで示す搬送ラインに沿って送ら
れる対象物であり、対象物6にプラズマクリーニングを
施すべきときは、搬送ラインL中に配置される供給部T
に対象物6が一旦載置される。7は供給部Tに載置され
たプラズマクリーニング前の対象物6を本体1内へ入
れ、あるいは本体1内にあるプラズマクリーニング済み
の対象物6を供給部T、即ち搬送ラインLへ戻す出入手
段である。
れる対象物であり、対象物6にプラズマクリーニングを
施すべきときは、搬送ラインL中に配置される供給部T
に対象物6が一旦載置される。7は供給部Tに載置され
たプラズマクリーニング前の対象物6を本体1内へ入
れ、あるいは本体1内にあるプラズマクリーニング済み
の対象物6を供給部T、即ち搬送ラインLへ戻す出入手
段である。
【0006】次に従来のプラズマクリーニング装置の動
作を説明する。まず本体1内をプラズマクリーニングを
行うための雰囲気とするため、出入口2はゲート3によ
り塞がれている。次に、対象物6が搬送ラインL方向に
送られ、供給部T上へ載置される。
作を説明する。まず本体1内をプラズマクリーニングを
行うための雰囲気とするため、出入口2はゲート3によ
り塞がれている。次に、対象物6が搬送ラインL方向に
送られ、供給部T上へ載置される。
【0007】次に出入手段7を駆動し、供給部T上から
対象物6を取出す。そして、ゲート3を下降させ出入口
2を開き、出入手段7により対象物6を本体1内へ入れ
る。次に出入手段7を本体1から退避させ、ゲート3を
上昇させ出入口2を閉じる。これにより、本体1内は密
閉空間となり、その密閉空間内に対象物6が存在するこ
とになる。
対象物6を取出す。そして、ゲート3を下降させ出入口
2を開き、出入手段7により対象物6を本体1内へ入れ
る。次に出入手段7を本体1から退避させ、ゲート3を
上昇させ出入口2を閉じる。これにより、本体1内は密
閉空間となり、その密閉空間内に対象物6が存在するこ
とになる。
【0008】次に、本体1内において対象物6のプラズ
マクリーニングが行われる。そしてプラズマクリーニン
グが終了したら、ゲート3を下降させ出入口2を開く。
そして、退避していた出入手段7を駆動して本体1内へ
入れ、本体1内に存在するプラズマクリーニング済みの
対象物6を、本体1から取出す。
マクリーニングが行われる。そしてプラズマクリーニン
グが終了したら、ゲート3を下降させ出入口2を開く。
そして、退避していた出入手段7を駆動して本体1内へ
入れ、本体1内に存在するプラズマクリーニング済みの
対象物6を、本体1から取出す。
【0009】次に、ゲート3を上昇させ出入口2を塞
ぎ、出入手段7によりプラズマクリーニング済みの対象
物6を供給部Tへ戻す。この後プラズマクリーニング済
みの対象物6は、搬送ラインLにより送出される。
ぎ、出入手段7によりプラズマクリーニング済みの対象
物6を供給部Tへ戻す。この後プラズマクリーニング済
みの対象物6は、搬送ラインLにより送出される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
プラズマクリーニング装置では搬送ライン内に配置でき
ず、合理的なライン構成が行えない。なぜなら、出入口
2が本体1の前面に1箇所のみしか設けられておらず、
本体1の片側からしか対象物6を出入れできないからで
ある。より詳しく言えば、図16にて一直線状の搬送ラ
インLが構成されているが、本体1には1箇所の出入口
2しかないため、本体1の一方から対象物6を本体1内
へ入れ、他方から対象物6を出すということができな
い。
プラズマクリーニング装置では搬送ライン内に配置でき
ず、合理的なライン構成が行えない。なぜなら、出入口
2が本体1の前面に1箇所のみしか設けられておらず、
本体1の片側からしか対象物6を出入れできないからで
ある。より詳しく言えば、図16にて一直線状の搬送ラ
インLが構成されているが、本体1には1箇所の出入口
2しかないため、本体1の一方から対象物6を本体1内
へ入れ、他方から対象物6を出すということができな
い。
【0011】このため、本体1の外部に搬送ラインLと
出入口2の間において、対象物6を出し入れする出入手
段7などのような構成要素を設けなければならない。し
たがって、本体1の外にも出入手段7のための設置スペ
ースを要し、装置全体が大型化してしまうという問題点
があった。
出入口2の間において、対象物6を出し入れする出入手
段7などのような構成要素を設けなければならない。し
たがって、本体1の外にも出入手段7のための設置スペ
ースを要し、装置全体が大型化してしまうという問題点
があった。
【0012】そこで本発明は、コンパクトに構成できる
プラズマクリーニング装置を提供することを目的とす
る。
プラズマクリーニング装置を提供することを目的とす
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1記載のプラズマ
クリーニング装置は、対象物をプラズマクリーニングす
るプラズマクリーニング装置であって、開口部と吸込口
を備えたベースと、前記開口部に挿入されて前記ベース
に絶縁された状態で装着された電極と、前記電極に高周
波電圧を印加する高周波電源と、下方が開口しており、
かつ前記ベースに対して上方から接離自在に支持され、
前記ベースに当接して前記ベースの上方に密閉空間を形
成する蓋と、前記蓋を前記ベースに接離させる接離手段
と、前記吸込口より前記密閉空間を減圧する真空ポンプ
と、前記密閉空間内にガスを供給するガス供給部と、プ
ラズマクリーニングの対象物を搬送する搬送路の一部を
構成し、前記密閉空間内においてこの対象物を支持する
ガイドと、前記蓋が前記ベースから離れているときに対
象物の搬送動作を行う搬送手段とを備え、前記接離手段
を前記ガイドの一方側の側方に設け、前記搬送手段を前
記ガイドの他方側の側方に配置した。
クリーニング装置は、対象物をプラズマクリーニングす
るプラズマクリーニング装置であって、開口部と吸込口
を備えたベースと、前記開口部に挿入されて前記ベース
に絶縁された状態で装着された電極と、前記電極に高周
波電圧を印加する高周波電源と、下方が開口しており、
かつ前記ベースに対して上方から接離自在に支持され、
前記ベースに当接して前記ベースの上方に密閉空間を形
成する蓋と、前記蓋を前記ベースに接離させる接離手段
と、前記吸込口より前記密閉空間を減圧する真空ポンプ
と、前記密閉空間内にガスを供給するガス供給部と、プ
ラズマクリーニングの対象物を搬送する搬送路の一部を
構成し、前記密閉空間内においてこの対象物を支持する
ガイドと、前記蓋が前記ベースから離れているときに対
象物の搬送動作を行う搬送手段とを備え、前記接離手段
を前記ガイドの一方側の側方に設け、前記搬送手段を前
記ガイドの他方側の側方に配置した。
【0014】請求項2記載のプラズマクリーニング装置
は、請求項1記載のプラズマクリーニング装置であっ
て、前記搬送手段は、前記蓋が前記ガイドから離れてい
る際、前記蓋と前記ガイドとの隙間に進入して対象物を
押送するアームを有する。
は、請求項1記載のプラズマクリーニング装置であっ
て、前記搬送手段は、前記蓋が前記ガイドから離れてい
る際、前記蓋と前記ガイドとの隙間に進入して対象物を
押送するアームを有する。
【0015】上記構成により、接離手段を用いて搬送路
に対して蓋を接離させる。そして、蓋が搬送路から離れ
ている際、蓋と搬送路との間に形成される隙間を介し
て、蓋の下方へプラズマクリーニング前の対象物を進入
させる。またこの隙間を介して、蓋の下方にあるプラズ
マクリーニング済みの対象物を蓋の下方から退避させ
る。
に対して蓋を接離させる。そして、蓋が搬送路から離れ
ている際、蓋と搬送路との間に形成される隙間を介し
て、蓋の下方へプラズマクリーニング前の対象物を進入
させる。またこの隙間を介して、蓋の下方にあるプラズ
マクリーニング済みの対象物を蓋の下方から退避させ
る。
【0016】ここで、ベースの一方の側方に接離手段が
設けられ、他方の側方に搬送手段が設けられているの
で、接離手段と搬送手段が干渉するおそれが少なく、出
来るだけベースに接近して接離手段と搬送手段を配置す
ることができ、ベースの側方に設けられる部材の幅を狭
くしてそれだけプラズマクリーニング装置をコンパクト
に構成することができる。
設けられ、他方の側方に搬送手段が設けられているの
で、接離手段と搬送手段が干渉するおそれが少なく、出
来るだけベースに接近して接離手段と搬送手段を配置す
ることができ、ベースの側方に設けられる部材の幅を狭
くしてそれだけプラズマクリーニング装置をコンパクト
に構成することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】次に、図面を参照しながら本発明
の実施の形態を説明する。図1は、本発明の一実施の形
態におけるプラズマクリーニング装置の全体斜視図、図
2および図3は本発明の一実施の形態における接離手段
の斜視図、図4および図5は本発明の一実施の形態にお
けるブラケットの斜視図、図6は本発明の一実施の形態
における蓋を下側から見た分解斜視図、図7は本発明の
一実施の形態における蓋を下方から見た斜視図、図8は
本発明の一実施の形態におけるベースの分解斜視図、図
9は本発明の一実施の形態におけるベースの平面図、図
10および図11は本発明の一実施の形態におけるプラ
ズマクリーニング装置の断面図、図12は本発明の一実
施の形態における電極の付帯構成の斜視図、図13は図
2のX−X端面図、図14は本発明の一実施の形態にお
ける搬送路を示す平面図、図15は本発明の一実施の形
態における搬送動作説明図である。なお、本実施の形態
のプラズマクリーニング装置は、多数の構成要素を有
し、細かな部分については図示できない点も多々あるの
で、まず、図1によって概略を説明した上で、順次詳細
な説明を行うこととする。
の実施の形態を説明する。図1は、本発明の一実施の形
態におけるプラズマクリーニング装置の全体斜視図、図
2および図3は本発明の一実施の形態における接離手段
の斜視図、図4および図5は本発明の一実施の形態にお
けるブラケットの斜視図、図6は本発明の一実施の形態
における蓋を下側から見た分解斜視図、図7は本発明の
一実施の形態における蓋を下方から見た斜視図、図8は
本発明の一実施の形態におけるベースの分解斜視図、図
9は本発明の一実施の形態におけるベースの平面図、図
10および図11は本発明の一実施の形態におけるプラ
ズマクリーニング装置の断面図、図12は本発明の一実
施の形態における電極の付帯構成の斜視図、図13は図
2のX−X端面図、図14は本発明の一実施の形態にお
ける搬送路を示す平面図、図15は本発明の一実施の形
態における搬送動作説明図である。なお、本実施の形態
のプラズマクリーニング装置は、多数の構成要素を有
し、細かな部分については図示できない点も多々あるの
で、まず、図1によって概略を説明した上で、順次詳細
な説明を行うこととする。
【0018】図1において、8は上面がほぼ水平に形成
された基台である。基台8の奥側には、基台8の上面よ
りも背が高い起立部8aが設けられ、起立部8aの前面
には、モニタ8bが配置されており、オペレータはモニ
タ8bによりプラズマクリーニング装置の動作状況を把
握できる。
された基台である。基台8の奥側には、基台8の上面よ
りも背が高い起立部8aが設けられ、起立部8aの前面
には、モニタ8bが配置されており、オペレータはモニ
タ8bによりプラズマクリーニング装置の動作状況を把
握できる。
【0019】そして基台8の上面には、図1左下から右
上へ一直線状の搬送路Lが形成されている。9は搬送路
Lの上流側に配設され、プラズマクリーニング前の対象
物6を上下多段に収納する供給マガジンである。10
は、搬送路Lの下流側に配設され、プラズマクリーニン
グ済みの対象物6を収納する回収マガジンである。
上へ一直線状の搬送路Lが形成されている。9は搬送路
Lの上流側に配設され、プラズマクリーニング前の対象
物6を上下多段に収納する供給マガジンである。10
は、搬送路Lの下流側に配設され、プラズマクリーニン
グ済みの対象物6を収納する回収マガジンである。
【0020】11は供給マガジン9からプラズマクリー
ニング前の対象物6を、搬送路Lへ送り出す押出シリン
ダである。12は基台8の上面のうち供給マガジン9側
であって、搬送路L上にインライン展開され、搬送路L
の一部を構成するベース、13は下方が開口しており、
ベース12に対して上方から接離自在に支持された蓋で
ある。
ニング前の対象物6を、搬送路Lへ送り出す押出シリン
ダである。12は基台8の上面のうち供給マガジン9側
であって、搬送路L上にインライン展開され、搬送路L
の一部を構成するベース、13は下方が開口しており、
ベース12に対して上方から接離自在に支持された蓋で
ある。
【0021】ベース12、蓋13の構成は、後に詳述す
るが、蓋13が、搬送路Lの一部を構成するベース12
に接した際、搬送路L上に密閉空間が形成されるように
なっている。即ちベース12は、蓋13と共にこの密閉
空間を包囲する部材としての役割と、搬送路Lとしての
役割を兼務している。14はベース12と回収マガジン
10の間であって、搬送路Lからやや奥側にオフセット
した位置に配設されるワイヤボンディング部である。
るが、蓋13が、搬送路Lの一部を構成するベース12
に接した際、搬送路L上に密閉空間が形成されるように
なっている。即ちベース12は、蓋13と共にこの密閉
空間を包囲する部材としての役割と、搬送路Lとしての
役割を兼務している。14はベース12と回収マガジン
10の間であって、搬送路Lからやや奥側にオフセット
した位置に配設されるワイヤボンディング部である。
【0022】本実施の形態では、対象物6として基板を
採用し、この対象物6に、蓋13とベース12により形
成される密閉空間にて、プラズマクリーニングの一例と
してのプラズマクリーニングを施して、基板の電極等に
存在する付着物あるいは折出物を除去し、この電極等を
ボンディングしやすくする。そして、隣接するワイヤボ
ンディング部14で、プラズマクリーニングされた直後
の対象物6に対してボンディングを行い、回収マガジン
10へ収納することとしている。
採用し、この対象物6に、蓋13とベース12により形
成される密閉空間にて、プラズマクリーニングの一例と
してのプラズマクリーニングを施して、基板の電極等に
存在する付着物あるいは折出物を除去し、この電極等を
ボンディングしやすくする。そして、隣接するワイヤボ
ンディング部14で、プラズマクリーニングされた直後
の対象物6に対してボンディングを行い、回収マガジン
10へ収納することとしている。
【0023】15は先端部が搬送路Lに至り、搬送路L
に直交する第1アームであり、16は第1アーム15と
平行でかつ第1アーム15から搬送路Lの下流側に一定
距離を隔てた位置にある第2アームである。17は基台
8の上面の前側に搬送路Lと平行に長く形成されたカバ
ーである。そして、カバー17内には後に詳述するよう
に、第1アーム15、第2アーム16を上記一定距離を
隔てて平行にしたまま搬送路Lと平行に移動させるアー
ム移動機構が収納されている。
に直交する第1アームであり、16は第1アーム15と
平行でかつ第1アーム15から搬送路Lの下流側に一定
距離を隔てた位置にある第2アームである。17は基台
8の上面の前側に搬送路Lと平行に長く形成されたカバ
ーである。そして、カバー17内には後に詳述するよう
に、第1アーム15、第2アーム16を上記一定距離を
隔てて平行にしたまま搬送路Lと平行に移動させるアー
ム移動機構が収納されている。
【0024】18は搬送路Lにおいてワイヤボンディン
グ部14よりも上流側から回収マガジン10までの間に
おいて、対象物6を搬送路Lに沿って案内する一対のガ
イドである。ここで、第1アーム15、第2アーム16
は、対象物6を搬送路Lに沿って搬送する搬送手段に対
応する。なお、アーム移動機構及び対象物6の搬送動作
は、後に詳述する。
グ部14よりも上流側から回収マガジン10までの間に
おいて、対象物6を搬送路Lに沿って案内する一対のガ
イドである。ここで、第1アーム15、第2アーム16
は、対象物6を搬送路Lに沿って搬送する搬送手段に対
応する。なお、アーム移動機構及び対象物6の搬送動作
は、後に詳述する。
【0025】次に図2〜図5を参照しながら、蓋13を
上昇/下降させ、また蓋13を水平/垂直の状態とする
ための機構(接離手段)について説明する。
上昇/下降させ、また蓋13を水平/垂直の状態とする
ための機構(接離手段)について説明する。
【0026】ここで蓋13の姿勢について定義を行う。
まず蓋13の下端面が水平面内にあるとき、蓋13は水
平状態であるという。一方、蓋13の下端面が垂直面内
にあるとき、蓋13は垂直状態であるという。
まず蓋13の下端面が水平面内にあるとき、蓋13は水
平状態であるという。一方、蓋13の下端面が垂直面内
にあるとき、蓋13は垂直状態であるという。
【0027】また、蓋13の下端面が、ベース12に密
着しているとき、蓋13は下降状態であるといい、蓋1
3の下端面がベース12から離れ、蓋13とベース12
との間に隙間があいているとき蓋13は上昇状態である
という。
着しているとき、蓋13は下降状態であるといい、蓋1
3の下端面がベース12から離れ、蓋13とベース12
との間に隙間があいているとき蓋13は上昇状態である
という。
【0028】そして、蓋13が水平状態であり、かつ下
降状態であるとき、これを水平下降状態というように、
2つの状態が同時に成立しているときに、これらの状態
を連記して表現するものとする。
降状態であるとき、これを水平下降状態というように、
2つの状態が同時に成立しているときに、これらの状態
を連記して表現するものとする。
【0029】さて蓋13は、次に述べる機構によって、
水平下降状態、水平上昇状態及び垂直上昇状態の3つの
状態を採り得るように支持されている。図2では蓋13
が水平下降状態にあり、図3では蓋13が水平上昇状態
にある。
水平下降状態、水平上昇状態及び垂直上昇状態の3つの
状態を採り得るように支持されている。図2では蓋13
が水平下降状態にあり、図3では蓋13が水平上昇状態
にある。
【0030】図2において、20は基台8の上面に固定
される水平部20aと、この水平部20aの両端部から
垂直に起立する起立部20b,20cを有するフレーム
である。またフレーム20の起立部20b,20cの上
部には、横断面がL字状をなし、先端が外側を向くガイ
ド21,22がそれぞれ突設されている。
される水平部20aと、この水平部20aの両端部から
垂直に起立する起立部20b,20cを有するフレーム
である。またフレーム20の起立部20b,20cの上
部には、横断面がL字状をなし、先端が外側を向くガイ
ド21,22がそれぞれ突設されている。
【0031】23はそのロッド23aが上向きとなるよ
うに、水平部20aの中央に固定される接離手段として
のシリンダである。ロッド23aの上端部は、U字状を
なすU字アーム24の水平部24aの中央に連結されて
いる。そして、U字アーム24の水平部24aの両端か
ら上向きに起立する起立部24b,24cは、それぞれ
上述したガイド21,22が上下方向スライド自在に係
合している。また起立部24b,24cの上端部には、
軸26が装着され、この軸26によって垂直面内を回転
できるようにブラケット25が枢支されている。
うに、水平部20aの中央に固定される接離手段として
のシリンダである。ロッド23aの上端部は、U字状を
なすU字アーム24の水平部24aの中央に連結されて
いる。そして、U字アーム24の水平部24aの両端か
ら上向きに起立する起立部24b,24cは、それぞれ
上述したガイド21,22が上下方向スライド自在に係
合している。また起立部24b,24cの上端部には、
軸26が装着され、この軸26によって垂直面内を回転
できるようにブラケット25が枢支されている。
【0032】ここで、図4に拡大して示しているよう
に、ブラケット25は2箇所で直角に折曲る略Z字状を
なす。ブラケット25のうち、25aは第1片、25b
は第1片25aと同長で第1片25aに対して90度折
曲がった第2片である。そして、第1片25aと第2片
25bの中心線の交点が、軸26の軸心と一致するよう
になっている。
に、ブラケット25は2箇所で直角に折曲る略Z字状を
なす。ブラケット25のうち、25aは第1片、25b
は第1片25aと同長で第1片25aに対して90度折
曲がった第2片である。そして、第1片25aと第2片
25bの中心線の交点が、軸26の軸心と一致するよう
になっている。
【0033】また25cは、第2片25bよりも長く形
成され、第2片25bに対し、第1片25aと第2片2
5bとの関係に対して逆向きに、90度折曲った第3片
である。そして、第1片25aと、第2片25bには、
軸26の軸心から見て等距離の位置に、それぞれ第1ピ
ン孔27、第2ピン孔28が厚さ方向に開けられてい
る。
成され、第2片25bに対し、第1片25aと第2片2
5bとの関係に対して逆向きに、90度折曲った第3片
である。そして、第1片25aと、第2片25bには、
軸26の軸心から見て等距離の位置に、それぞれ第1ピ
ン孔27、第2ピン孔28が厚さ方向に開けられてい
る。
【0034】また図4に示すように、第3片25cが水
平方向を向くとき、U字アーム24の起立部24b,2
4cのうち、第2片25bに開けられた第2ピン孔28
と一致する位置には、挿入孔24dが開けてある。した
がって、図4に示すように、ブラケット25の第3片2
5cが水平方向を向く際、第2ピン孔28と挿入孔24
dを一致させ、これらにピン30を挿通することによ
り、第3片25cが水平方向を向く位置においてブラケ
ット25の回転を禁止することができる。
平方向を向くとき、U字アーム24の起立部24b,2
4cのうち、第2片25bに開けられた第2ピン孔28
と一致する位置には、挿入孔24dが開けてある。した
がって、図4に示すように、ブラケット25の第3片2
5cが水平方向を向く際、第2ピン孔28と挿入孔24
dを一致させ、これらにピン30を挿通することによ
り、第3片25cが水平方向を向く位置においてブラケ
ット25の回転を禁止することができる。
【0035】また、ブラケット25の第3片25cの先
端部には、蓋13の側面13aを、矢印N2方向に揺動
可能に支持する軸29が装着されているから、上記のよ
うにブラケット25の回転を禁止しておくと、蓋13を
水平状態に保持できるものである。
端部には、蓋13の側面13aを、矢印N2方向に揺動
可能に支持する軸29が装着されているから、上記のよ
うにブラケット25の回転を禁止しておくと、蓋13を
水平状態に保持できるものである。
【0036】一方、図5に示すように、第3片25cを
垂直方向に向けた際、第1片25aに開けられた第1ピ
ン孔27が、挿入孔24dと一致する。このとき、第1
ピン孔27と挿入孔24dに、ピン30を挿通すること
により、第3片25cを垂直方向に起立させたままにし
ておくことができる。また上述したように、蓋13の側
面13aは、軸29によりブラケット25に対して揺動
可能に支持されているので、蓋13を垂直状態とするこ
とができる。
垂直方向に向けた際、第1片25aに開けられた第1ピ
ン孔27が、挿入孔24dと一致する。このとき、第1
ピン孔27と挿入孔24dに、ピン30を挿通すること
により、第3片25cを垂直方向に起立させたままにし
ておくことができる。また上述したように、蓋13の側
面13aは、軸29によりブラケット25に対して揺動
可能に支持されているので、蓋13を垂直状態とするこ
とができる。
【0037】ここで、蓋13が垂直状態になると、蓋1
3の内部が外部に露呈する。したがって、蓋13の内部
に取付けられた部材の交換あるいは清掃等を容易に行う
ことができる。また、蓋13が起立することで、ベース
12の上部の空間が広くあくので、ベース12及びベー
ス12に取付けられた部材等について同様のメンテナン
スを行うことができる。
3の内部が外部に露呈する。したがって、蓋13の内部
に取付けられた部材の交換あるいは清掃等を容易に行う
ことができる。また、蓋13が起立することで、ベース
12の上部の空間が広くあくので、ベース12及びベー
ス12に取付けられた部材等について同様のメンテナン
スを行うことができる。
【0038】このように本実施の形態のプラズマクリー
ニング装置では、蓋13を垂直状態として蓋13とベー
ス12との間の空間(この空間は搬送路Lの一部でもあ
る)を広く開放して、極めて容易にメンテナンスを行う
ことができるようになっている。
ニング装置では、蓋13を垂直状態として蓋13とベー
ス12との間の空間(この空間は搬送路Lの一部でもあ
る)を広く開放して、極めて容易にメンテナンスを行う
ことができるようになっている。
【0039】次に図2、図3を参照しながら、蓋13を
水平下降状態から水平上昇状態へ移行する動作について
説明する。さて図2に示すように、蓋13が水平下降状
態にあるとき、ロッド23aは没入し、ピン30は第2
ピン孔28と挿入孔24dに挿通されており、蓋13は
水平状態に保持されている。そして蓋13の下端面は、
ベース12に密着している。
水平下降状態から水平上昇状態へ移行する動作について
説明する。さて図2に示すように、蓋13が水平下降状
態にあるとき、ロッド23aは没入し、ピン30は第2
ピン孔28と挿入孔24dに挿通されており、蓋13は
水平状態に保持されている。そして蓋13の下端面は、
ベース12に密着している。
【0040】ここで後述するように、蓋13が水平下降
状態にあり、蓋13とベース12により密閉空間が形成
され、この密閉空間内においてプラズマクリーニングが
行われる際、密閉空間は大気圧よりも低い圧力にされる
ので、ことさらにシリンダ23の動作力で蓋13をベー
ス12に押し付けなくとも、十分に蓋13はベース12
に密着する。
状態にあり、蓋13とベース12により密閉空間が形成
され、この密閉空間内においてプラズマクリーニングが
行われる際、密閉空間は大気圧よりも低い圧力にされる
ので、ことさらにシリンダ23の動作力で蓋13をベー
ス12に押し付けなくとも、十分に蓋13はベース12
に密着する。
【0041】次に、蓋13を水平上昇状態にするには、
シリンダ23を駆動してロッド23aを突出させる。す
ると、U字アーム24がガイド21,22に案内されな
がら、垂直に上昇し、それに伴いブラケット25は、第
3片25cが水平方向を向く状態を維持したまま上昇す
る。その結果、蓋13が水平状態のままベース12から
離れて上昇する。これにより、図3に示すように、蓋1
3とベース12との間に隙間が形成され、対象物6を押
送する第1アーム15、第2アーム16がこの隙間の中
を通過できるようにすることができる(矢印N1)。
シリンダ23を駆動してロッド23aを突出させる。す
ると、U字アーム24がガイド21,22に案内されな
がら、垂直に上昇し、それに伴いブラケット25は、第
3片25cが水平方向を向く状態を維持したまま上昇す
る。その結果、蓋13が水平状態のままベース12から
離れて上昇する。これにより、図3に示すように、蓋1
3とベース12との間に隙間が形成され、対象物6を押
送する第1アーム15、第2アーム16がこの隙間の中
を通過できるようにすることができる(矢印N1)。
【0042】次に図6、図7を参照しながら、蓋13の
構成を詳細に説明する。図6は蓋を下側から見た分解斜
視図である。図6に示すように、蓋13は下側が開口し
た形状をなしている。このうち、13bは略矩形をなす
蓋本体である。蓋本体13bは、対象物6を完全に内部
に収納でき、対象物6にプラズマクリーニングとしての
プラズマクリーニングを行う処理室13cと、この処理
室13cよりも小さく、処理室13cの側方に連続する
排気室13dを備える。
構成を詳細に説明する。図6は蓋を下側から見た分解斜
視図である。図6に示すように、蓋13は下側が開口し
た形状をなしている。このうち、13bは略矩形をなす
蓋本体である。蓋本体13bは、対象物6を完全に内部
に収納でき、対象物6にプラズマクリーニングとしての
プラズマクリーニングを行う処理室13cと、この処理
室13cよりも小さく、処理室13cの側方に連続する
排気室13dを備える。
【0043】また13eは処理室13c内を外部から観
察するための窓、13fは処理室13cに4箇所設けら
れたネジ孔である。また、処理室13c及び排気室13
dを囲む壁には、インナーカバー31が取付けられる。
このインナーカバー31のうち、処理室13c及び排気
室13dの内部側へ臨む表面Sには、細かな凸凹が多数
形成され表面Sの実質的な表面積が大きくなるように工
夫されている。
察するための窓、13fは処理室13cに4箇所設けら
れたネジ孔である。また、処理室13c及び排気室13
dを囲む壁には、インナーカバー31が取付けられる。
このインナーカバー31のうち、処理室13c及び排気
室13dの内部側へ臨む表面Sには、細かな凸凹が多数
形成され表面Sの実質的な表面積が大きくなるように工
夫されている。
【0044】これは、処理室13c内で対象物6がプラ
ズマクリーニングされる際、削り取られた微小物質が飛
散するのであるが、表面Sにこの微小物質が付着しやす
くすることにより、対象物6から削り取られた微小物質
が対象物6に再付着しないようにするためのものであ
る。
ズマクリーニングされる際、削り取られた微小物質が飛
散するのであるが、表面Sにこの微小物質が付着しやす
くすることにより、対象物6から削り取られた微小物質
が対象物6に再付着しないようにするためのものであ
る。
【0045】32はプラズマを発生するための第1電極
であり、第1電極32は、図7に示すように、ネジ孔3
2a及びネジ孔13fが止ネジ33でネジ止めされるこ
とにより、処理室13cに固定される。また第1電極3
2は、電気的にアースされる。
であり、第1電極32は、図7に示すように、ネジ孔3
2a及びネジ孔13fが止ネジ33でネジ止めされるこ
とにより、処理室13cに固定される。また第1電極3
2は、電気的にアースされる。
【0046】次に図8、図9を参照しながら、ベース1
2及びその関連部材について説明する。図8に示すよう
に、ベース12は図7に示す蓋13よりも少し大き目に
形成された厚板から構成されている。ベース12の中央
部には、ケーブル35により高周波電圧が印加される第
2電極34を挿入するため、矩形の開口部12aが開け
られている。
2及びその関連部材について説明する。図8に示すよう
に、ベース12は図7に示す蓋13よりも少し大き目に
形成された厚板から構成されている。ベース12の中央
部には、ケーブル35により高周波電圧が印加される第
2電極34を挿入するため、矩形の開口部12aが開け
られている。
【0047】そして、ベース12のうち、蓋13の処理
室13cと対面する部分は、対象物6にプラズマクリー
ニングを行うための処理エリアAとなっており、それに
隣接して排気室13dに対面する部分は排気エリアBと
なっている。ここで、ベース12のうち蓋13の下端面
に当接する部分には、溝12eが刻まれ、この溝12e
の中央部には、密着部としてのOリング39が嵌め込ま
れている。なおOリング39の上端部は、図11に示す
ようにベース12の上面よりもやや下方に位置するよう
になっている。
室13cと対面する部分は、対象物6にプラズマクリー
ニングを行うための処理エリアAとなっており、それに
隣接して排気室13dに対面する部分は排気エリアBと
なっている。ここで、ベース12のうち蓋13の下端面
に当接する部分には、溝12eが刻まれ、この溝12e
の中央部には、密着部としてのOリング39が嵌め込ま
れている。なおOリング39の上端部は、図11に示す
ようにベース12の上面よりもやや下方に位置するよう
になっている。
【0048】これは、図9の矢印N2で示すように、ベ
ース12上を対象物6が横切る際に、対象物6や第1ア
ーム15、第2アーム16が、Oリング39に触れず、
スムーズに移動できるようにするためのものである。ま
たこのようにベース12上を対象物6が横切る際、対象
物6や第1アーム15、第2アーム16が、Oリング3
9に接触しないようにすることで、Oリング39の損傷
を回避し、密閉空間60内の気密性を高く保持して、真
空度が低下しないようにすることができる。図8におい
て、12bは後述するガスボンベから供給される動作ガ
スとしてのアルゴンガスを、処理エリアA(即ち処理室
13c)内へ供給するため、処理エリアAの角部に開け
られたガス供給口である。
ース12上を対象物6が横切る際に、対象物6や第1ア
ーム15、第2アーム16が、Oリング39に触れず、
スムーズに移動できるようにするためのものである。ま
たこのようにベース12上を対象物6が横切る際、対象
物6や第1アーム15、第2アーム16が、Oリング3
9に接触しないようにすることで、Oリング39の損傷
を回避し、密閉空間60内の気密性を高く保持して、真
空度が低下しないようにすることができる。図8におい
て、12bは後述するガスボンベから供給される動作ガ
スとしてのアルゴンガスを、処理エリアA(即ち処理室
13c)内へ供給するため、処理エリアAの角部に開け
られたガス供給口である。
【0049】さらにベース12の処理エリアAには、搬
送路Lに直交する向きに複数のネジ孔12cが開けられ
ている。そして、これらのネジ孔12cのうち、対象物
6の幅にあうものが選択され、選択されたネジ孔12c
に、搬送路Lの一部を構成し、対象物6を案内するガイ
ド40,41が止ネジ42で固定される。勿論対象物6
の幅が変更されたときは、選択するネジ孔12cの位置
を変更して対応することができる。またこれらのガイド
40,41は絶縁体から構成されている。
送路Lに直交する向きに複数のネジ孔12cが開けられ
ている。そして、これらのネジ孔12cのうち、対象物
6の幅にあうものが選択され、選択されたネジ孔12c
に、搬送路Lの一部を構成し、対象物6を案内するガイ
ド40,41が止ネジ42で固定される。勿論対象物6
の幅が変更されたときは、選択するネジ孔12cの位置
を変更して対応することができる。またこれらのガイド
40,41は絶縁体から構成されている。
【0050】一方、ベース12の排気エリアBの中央部
には、プラズマクリーニングが終了した後にアルゴンガ
スなどを外部へ排気したり、処理室13c及び排気室1
3d内の大気を外部へ排出したりするために、吸込口1
2dが開設されている。また吸込口12dには、電気的
にアースされた金網38がかぶせてあり、プラズマ発生
時に帯電した粒子が吸込口12dを通過しようとする際
には、金網38で除電されるようになっている。一方、
第2電極34の下部には、第2電極34の動作時に発生
する熱を外部に放射するため、冷却フィン36が熱的に
結合されている。
には、プラズマクリーニングが終了した後にアルゴンガ
スなどを外部へ排気したり、処理室13c及び排気室1
3d内の大気を外部へ排出したりするために、吸込口1
2dが開設されている。また吸込口12dには、電気的
にアースされた金網38がかぶせてあり、プラズマ発生
時に帯電した粒子が吸込口12dを通過しようとする際
には、金網38で除電されるようになっている。一方、
第2電極34の下部には、第2電極34の動作時に発生
する熱を外部に放射するため、冷却フィン36が熱的に
結合されている。
【0051】ここで、従来のプラズマクリーニング装置
では、第2電極34に相当する部材の周囲は、完全に壁
面で包囲され、第2電極34に相当する部材の熱を外部
に逃すことが困難であったため、第2電極34に相当す
る部材を水冷方式で冷却していた。
では、第2電極34に相当する部材の周囲は、完全に壁
面で包囲され、第2電極34に相当する部材の熱を外部
に逃すことが困難であったため、第2電極34に相当す
る部材を水冷方式で冷却していた。
【0052】このようにすると、作動させる水を循環さ
せるための配管及びポンプなどの圧送装置、さらに熱交
換器などが必須となり、装置全体が大規範になってい
た。しかし、本実施の形態のようにすると、第2電極3
4の下方を外部に開放することができ、冷却フィン36
等を用いた空冷方式による冷却が可能となり、コンパク
トで効率のよい冷却を行うことができる。
せるための配管及びポンプなどの圧送装置、さらに熱交
換器などが必須となり、装置全体が大規範になってい
た。しかし、本実施の形態のようにすると、第2電極3
4の下方を外部に開放することができ、冷却フィン36
等を用いた空冷方式による冷却が可能となり、コンパク
トで効率のよい冷却を行うことができる。
【0053】さて第2電極34には、下方に段下りした
位置に、フランジ部34aが設けてある。そして、この
フランジ部34aと、ベース12の下面との間に、フラ
ンジ部34aと同形状の絶縁プレート37が介装され、
ベース12とフランジ部34aとが、ボルト43により
固定される。ここで、絶縁プレート37によりベース1
2と第2電極34が短絡しないようになっている。
位置に、フランジ部34aが設けてある。そして、この
フランジ部34aと、ベース12の下面との間に、フラ
ンジ部34aと同形状の絶縁プレート37が介装され、
ベース12とフランジ部34aとが、ボルト43により
固定される。ここで、絶縁プレート37によりベース1
2と第2電極34が短絡しないようになっている。
【0054】図10は、プラズマクリーニング装置の断
面図である。図10では、蓋13が水平上昇状態にあ
り、蓋13とベース12の間に隙間があいており、対象
物6を第1アーム15で押送する状態を示している。次
に図10を参照しながら、第1アーム15及び第2アー
ム16の移動機構について説明する。
面図である。図10では、蓋13が水平上昇状態にあ
り、蓋13とベース12の間に隙間があいており、対象
物6を第1アーム15で押送する状態を示している。次
に図10を参照しながら、第1アーム15及び第2アー
ム16の移動機構について説明する。
【0055】図1に示したカバー17の内部には、搬送
路Lと平行なリニアガイド44が設けられている。そし
てリニアガイド44には、移動フレーム46に固定され
たスライダ45がスライド自在に係合しており、移動フ
レーム46は搬送路Lと平行(紙面垂直方向)に自由に
移動できるようになっている。また移動フレーム46の
下部は、搬送路Lと平行に調帯されるタイミングベルト
49に固定され、タイミングベルト49にはモータ47
の駆動力がプーリ48を介して伝達される。
路Lと平行なリニアガイド44が設けられている。そし
てリニアガイド44には、移動フレーム46に固定され
たスライダ45がスライド自在に係合しており、移動フ
レーム46は搬送路Lと平行(紙面垂直方向)に自由に
移動できるようになっている。また移動フレーム46の
下部は、搬送路Lと平行に調帯されるタイミングベルト
49に固定され、タイミングベルト49にはモータ47
の駆動力がプーリ48を介して伝達される。
【0056】また移動フレーム46の上部には、軸50
が設けられ、この軸50には、先端部がカギ状に下向き
に折曲る第1アーム15の基端部が枢支されている。そ
して、移動フレーム46に固定されるシリンダ51のロ
ッド52は、第1アーム15の基部に連結されている。
が設けられ、この軸50には、先端部がカギ状に下向き
に折曲る第1アーム15の基端部が枢支されている。そ
して、移動フレーム46に固定されるシリンダ51のロ
ッド52は、第1アーム15の基部に連結されている。
【0057】したがって、モータ47を駆動すると、第
1アーム15を搬送路Lと平行に往復移動させることが
でき、シリンダ51を駆動してロッド52を突没させる
と、第1アーム15を鎖線で示すように対象物6から外
すこともできるし、第1アーム15を実線で示すように
対象物6の端部に当接させることができる。
1アーム15を搬送路Lと平行に往復移動させることが
でき、シリンダ51を駆動してロッド52を突没させる
と、第1アーム15を鎖線で示すように対象物6から外
すこともできるし、第1アーム15を実線で示すように
対象物6の端部に当接させることができる。
【0058】そして第1アーム15を対象物6に当接さ
せてモータ47を駆動すると、対象物6を搬送路Lに沿
って押送することができる。また第2アーム16につい
ても、第1アーム15と同様の移動機構を備えている。
ここで本実施の形態では、第1アーム15と第2アーム
16を一定距離だけ離して同一のタイミングベルト49
に連結したが、第1アーム15、第2アーム16を別々
の移動手段により独立して搬送路Lと平行移動させても
良い。
せてモータ47を駆動すると、対象物6を搬送路Lに沿
って押送することができる。また第2アーム16につい
ても、第1アーム15と同様の移動機構を備えている。
ここで本実施の形態では、第1アーム15と第2アーム
16を一定距離だけ離して同一のタイミングベルト49
に連結したが、第1アーム15、第2アーム16を別々
の移動手段により独立して搬送路Lと平行移動させても
良い。
【0059】このように、本実施の形態では、ベース1
2の一方の側方(図10では右側)に、蓋13をベース
12に接離させる接離手段としてのシリンダ23および
蓋13の支持機構を設けてある。またベース12の他方
の側方(図10では左側)に、対象物6の搬送手段とし
ての第1、第2アーム15、16及びこれらのアーム1
5、16の移動機構を設けている。
2の一方の側方(図10では右側)に、蓋13をベース
12に接離させる接離手段としてのシリンダ23および
蓋13の支持機構を設けてある。またベース12の他方
の側方(図10では左側)に、対象物6の搬送手段とし
ての第1、第2アーム15、16及びこれらのアーム1
5、16の移動機構を設けている。
【0060】このようにすると、接離手段と搬送手段と
は、ベース12に対して反対側に位置し、互いに干渉す
るおそれが少ないので、できるだけベースに近付けて配
置することができ、結局プラズマクリーニング装置の幅
を小さくコンパクトに構成することができる。
は、ベース12に対して反対側に位置し、互いに干渉す
るおそれが少ないので、できるだけベースに近付けて配
置することができ、結局プラズマクリーニング装置の幅
を小さくコンパクトに構成することができる。
【0061】さて図10において、53は冷却フィン3
6に送風するファンである。本実施の形態では、ファン
53から送られる風を、ワイヤボンディング部14の反
対側へ向けている。これは、送風によってワイヤボンデ
ィング部14に影響を及ぼさないようにするためであ
る。
6に送風するファンである。本実施の形態では、ファン
53から送られる風を、ワイヤボンディング部14の反
対側へ向けている。これは、送風によってワイヤボンデ
ィング部14に影響を及ぼさないようにするためであ
る。
【0062】さて、蓋13を水平下降状態にすると、図
11に示すように、蓋13の下端面は、溝12e内のO
リング39と密着し、処理室13cと排気室13dとか
らなる密閉空間60が形成される。処理室13c内にお
いて、アースされた第1電極32と、高周波電圧が印加
される第2電極34が対面し、これら電極32,34の
間にガイド40,41により支持された対象物6が位置
することになる。また排気室13dは、金網38を介し
て吸込口12dに連通することになる。
11に示すように、蓋13の下端面は、溝12e内のO
リング39と密着し、処理室13cと排気室13dとか
らなる密閉空間60が形成される。処理室13c内にお
いて、アースされた第1電極32と、高周波電圧が印加
される第2電極34が対面し、これら電極32,34の
間にガイド40,41により支持された対象物6が位置
することになる。また排気室13dは、金網38を介し
て吸込口12dに連通することになる。
【0063】次に図12を参照しながら、本実施の形態
のプラズマクリーニング装置における電極及びその付帯
構成について説明する。さて図6〜図9を参照して既に
説明したように、本実施の形態のプラズマクリーニング
装置では、蓋13にアースされた第1電極32が設けら
れ、それと対面するベース12に、高周波電圧が印加さ
れる第2電極34が設けられている。
のプラズマクリーニング装置における電極及びその付帯
構成について説明する。さて図6〜図9を参照して既に
説明したように、本実施の形態のプラズマクリーニング
装置では、蓋13にアースされた第1電極32が設けら
れ、それと対面するベース12に、高周波電圧が印加さ
れる第2電極34が設けられている。
【0064】そして、第2電極34には、図12に示す
ように、ケーブル35を介して高周波印加部61が接続
されている。高周波印加部61は、高周波電圧を発生す
る高周波電源62と、この高周波電源62が発生した高
周波電圧を調整してケーブル35即ち第2電極34へ出
力するチューナ63とを備えている。
ように、ケーブル35を介して高周波印加部61が接続
されている。高周波印加部61は、高周波電圧を発生す
る高周波電源62と、この高周波電源62が発生した高
周波電圧を調整してケーブル35即ち第2電極34へ出
力するチューナ63とを備えている。
【0065】従って、蓋13とベース12間に対象物6
を位置させ、蓋13を水平下降状態として、第1電極3
2と第2電極34を所定距離を隔てて位置させると共
に、高周波印加部61を作動させると、密閉空間60内
においてプラズマを発生させるための電気的環境を作り
出すことができる。そして高周波印加部61を作動させ
ると、第2電極34が発熱するので、第2電極34が熱
的に結合された冷却フィン36を冷却するファン53を
併せて作動させ、第2電極34が過度に温度上昇しない
ようにする。
を位置させ、蓋13を水平下降状態として、第1電極3
2と第2電極34を所定距離を隔てて位置させると共
に、高周波印加部61を作動させると、密閉空間60内
においてプラズマを発生させるための電気的環境を作り
出すことができる。そして高周波印加部61を作動させ
ると、第2電極34が発熱するので、第2電極34が熱
的に結合された冷却フィン36を冷却するファン53を
併せて作動させ、第2電極34が過度に温度上昇しない
ようにする。
【0066】次に図12、図13を参照しながら、ベー
ス12に開けられたガス供給口12bを介して密閉空間
60中にアルゴンガスを供給するガス供給部64と、ベ
ース12の排気エリアBに開けられた吸込口12dを介
して密閉空間60内の圧力の計測及び制御を行う圧力調
整部68について説明する。
ス12に開けられたガス供給口12bを介して密閉空間
60中にアルゴンガスを供給するガス供給部64と、ベ
ース12の排気エリアBに開けられた吸込口12dを介
して密閉空間60内の圧力の計測及び制御を行う圧力調
整部68について説明する。
【0067】まずガス供給部64のうち、65は動作ガ
スとしてのアルゴンガスを貯蔵するガスボンベ、66は
吐出するアルゴンガスの流量、圧力等を制御するガス制
御部、67はガス制御部66とガス供給口12bとを接
続する吐出管である。
スとしてのアルゴンガスを貯蔵するガスボンベ、66は
吐出するアルゴンガスの流量、圧力等を制御するガス制
御部、67はガス制御部66とガス供給口12bとを接
続する吐出管である。
【0068】したがって、ガス供給部64を作動させる
と、流量等がコントロールされたアルゴンガスをガス供
給口12bを介して処理室13c内へ送り出すことがで
きる。なお、ガス供給口12bは、処理エリアAのうち
吸込口12dから離れた位置にあり、吸込口12dは処
理エリアAから外れた排気エリアBに設けてあるので、
アルゴンガスは処理エリアA内を通過しないと、吸込口
12dに至ることはできず、処理エリアAに十分アルゴ
ンガスを行きわたらせてアルゴンガスの濃度のバラツキ
を小さく抑えることができる。
と、流量等がコントロールされたアルゴンガスをガス供
給口12bを介して処理室13c内へ送り出すことがで
きる。なお、ガス供給口12bは、処理エリアAのうち
吸込口12dから離れた位置にあり、吸込口12dは処
理エリアAから外れた排気エリアBに設けてあるので、
アルゴンガスは処理エリアA内を通過しないと、吸込口
12dに至ることはできず、処理エリアAに十分アルゴ
ンガスを行きわたらせてアルゴンガスの濃度のバラツキ
を小さく抑えることができる。
【0069】ここで後述するように、アルゴンは単なる
ガスのまま吸込口12dへ排出されるのではなく、アル
ゴンガスが処理エリアAに供給される際には、密閉空間
60内は真空に近い減圧状態にあり、また第2電極34
に高周波電圧が印加されるので、アルゴンガスはプラズ
マとなって、対象物6に対してエッチング(プラズマク
リーニング)を行うものである。なお本実施の形態で
は、プラズマを発生させるためにアルゴンガスを用いた
が、他のガスを用いてもよい。
ガスのまま吸込口12dへ排出されるのではなく、アル
ゴンガスが処理エリアAに供給される際には、密閉空間
60内は真空に近い減圧状態にあり、また第2電極34
に高周波電圧が印加されるので、アルゴンガスはプラズ
マとなって、対象物6に対してエッチング(プラズマク
リーニング)を行うものである。なお本実施の形態で
は、プラズマを発生させるためにアルゴンガスを用いた
が、他のガスを用いてもよい。
【0070】次に圧力調整部68について説明する。圧
力調整部68は、次の4つの系統からなる。第1の系統
は、真空系統である。即ち、上述した真空ポンプ19の
吐出口は、真空配管69を介して吸込口12dへ接続さ
れている。70は、真空配管69の中間に介装される真
空系バルブである。したがって、真空ポンプ19を作動
させ、真空系バルブ70を開くと、密閉空間60内を減
圧してほぼ真空の状態にすることができる。
力調整部68は、次の4つの系統からなる。第1の系統
は、真空系統である。即ち、上述した真空ポンプ19の
吐出口は、真空配管69を介して吸込口12dへ接続さ
れている。70は、真空配管69の中間に介装される真
空系バルブである。したがって、真空ポンプ19を作動
させ、真空系バルブ70を開くと、密閉空間60内を減
圧してほぼ真空の状態にすることができる。
【0071】第2の系統は、大気開放系である。即ち、
吸込口12dには、大気開放配管71が接続され、大気
開放配管71は大気開放バルブ72を介して大気開放口
73に至っている。したがって、密閉空間60内を上述
した真空系統を用いて真空にした後、大気開放バルブ7
2を開くと、大気開放口73から大気開放配管71を介
して密閉空間60内に大気を導入し、密閉空間60内を
大気圧に復圧することができる。
吸込口12dには、大気開放配管71が接続され、大気
開放配管71は大気開放バルブ72を介して大気開放口
73に至っている。したがって、密閉空間60内を上述
した真空系統を用いて真空にした後、大気開放バルブ7
2を開くと、大気開放口73から大気開放配管71を介
して密閉空間60内に大気を導入し、密閉空間60内を
大気圧に復圧することができる。
【0072】第3の系統は、圧力スイッチ74の系統で
ある。この圧力スイッチ74は、大気開放系を用いて密
閉空間60内を大気圧に戻す際、密閉空間60内が大気
圧に戻ったかどうかを検知するためのものである。ま
た、第4の系統は、真空計75の系統である。この真空
計75は、真空系統を用いて密閉空間60内を減圧する
際などにおいて、密閉空間60内の真空圧を計測するた
めのものである。なお、圧力スイッチ74は、省略して
も差し支えない。
ある。この圧力スイッチ74は、大気開放系を用いて密
閉空間60内を大気圧に戻す際、密閉空間60内が大気
圧に戻ったかどうかを検知するためのものである。ま
た、第4の系統は、真空計75の系統である。この真空
計75は、真空系統を用いて密閉空間60内を減圧する
際などにおいて、密閉空間60内の真空圧を計測するた
めのものである。なお、圧力スイッチ74は、省略して
も差し支えない。
【0073】そして、図2のX−X端面図である図13
に示すように、上述した4つの系統は、接続ユニット7
6の下向きに開口する第1ポート76a、第2ポート7
6b、第3ポート76c、第4ポート76dにそれぞれ
接続されている。また、これらのポート76a〜76d
は、接続ユニット76の内部において、上向きに開口す
る共通ポート76eに全て連結されており、共通ポート
76eはベース12の吸込口12dに直結されている。
に示すように、上述した4つの系統は、接続ユニット7
6の下向きに開口する第1ポート76a、第2ポート7
6b、第3ポート76c、第4ポート76dにそれぞれ
接続されている。また、これらのポート76a〜76d
は、接続ユニット76の内部において、上向きに開口す
る共通ポート76eに全て連結されており、共通ポート
76eはベース12の吸込口12dに直結されている。
【0074】次に、蓋13が水平上昇状態にあり、蓋1
3とベース12との間に対象物6が送られてから、この
対象物6に対するプラズマクリーニングが完了するまで
の動作について説明する。まず対象物6が蓋13とベー
ス12との間に送られると、対象物6は搬送路Lにおい
て、この搬送路Lの一部を構成するガイド40、41に
より支持されている。また蓋13は上昇状態にあるか
ら、対象物6の周囲は大気圧となっている。
3とベース12との間に対象物6が送られてから、この
対象物6に対するプラズマクリーニングが完了するまで
の動作について説明する。まず対象物6が蓋13とベー
ス12との間に送られると、対象物6は搬送路Lにおい
て、この搬送路Lの一部を構成するガイド40、41に
より支持されている。また蓋13は上昇状態にあるか
ら、対象物6の周囲は大気圧となっている。
【0075】次に、図11に示したように、シリンダ2
3を駆動して蓋13の下端面をOリング39に接触さ
せ、蓋13とベース12により密閉空間60を形成す
る。次に、真空ポンプ19を駆動して真空系バルブ70
を開き、密閉空間60内を減圧してゆく。このとき、真
空計75により密閉空間60内の真空圧をモニタリング
しておく。
3を駆動して蓋13の下端面をOリング39に接触さ
せ、蓋13とベース12により密閉空間60を形成す
る。次に、真空ポンプ19を駆動して真空系バルブ70
を開き、密閉空間60内を減圧してゆく。このとき、真
空計75により密閉空間60内の真空圧をモニタリング
しておく。
【0076】十分密閉空間60内の圧力が低下したら、
ガス供給部64を作動し、ガス供給口12bを介して密
閉空間60の処理室13c内にアルゴンガスを供給す
る。そして、高周波印加部61を作動させ、第2電極3
4に高周波電圧を印加し、処理室13c内でプラズマを
発生させる。そして、このプラズマ中の荷電粒子により
対象物6のクリーニングを行う。
ガス供給部64を作動し、ガス供給口12bを介して密
閉空間60の処理室13c内にアルゴンガスを供給す
る。そして、高周波印加部61を作動させ、第2電極3
4に高周波電圧を印加し、処理室13c内でプラズマを
発生させる。そして、このプラズマ中の荷電粒子により
対象物6のクリーニングを行う。
【0077】このとき、吸込口12d側へ荷電粒子が飛
散することもあるが、吸込口12dにはアースされた金
網38が取り付けられているので、荷電粒子が金網38
に付着すると除電され、真空系統等に荷電粒子が至るこ
とはない。そして、この状態を所定時間維持する。この
時間は、十分なクリーニングを行うためのものであり、
予め設定された時間である。
散することもあるが、吸込口12dにはアースされた金
網38が取り付けられているので、荷電粒子が金網38
に付着すると除電され、真空系統等に荷電粒子が至るこ
とはない。そして、この状態を所定時間維持する。この
時間は、十分なクリーニングを行うためのものであり、
予め設定された時間である。
【0078】この所定時間が経過すると、高周波印加を
中止し、さらにガス供給部64によるアルゴンガスの供
給を停止する。また、真空系バルブ70を閉じる。そし
て、大気開放バルブ72を開き、大気開放口73から密
閉空間60内に大気を導入する。すると、密閉空間60
内の圧力が上昇するが、この際圧力スイッチ74により
大気圧まで密閉空間60内の圧力が戻ったかどうかモニ
タリングする。
中止し、さらにガス供給部64によるアルゴンガスの供
給を停止する。また、真空系バルブ70を閉じる。そし
て、大気開放バルブ72を開き、大気開放口73から密
閉空間60内に大気を導入する。すると、密閉空間60
内の圧力が上昇するが、この際圧力スイッチ74により
大気圧まで密閉空間60内の圧力が戻ったかどうかモニ
タリングする。
【0079】そして、密閉空間60内が大気圧まで戻っ
たら、大気開放バルブ72を閉じ、シリンダ23を駆動
して蓋13を水平上昇状態にする。そしてプラズマクリ
ーニング済みの対象物6を蓋13とベース12の間から
退避させ、プラズマクリーニング前の対象物6を蓋13
とベース12の間に進入させる。
たら、大気開放バルブ72を閉じ、シリンダ23を駆動
して蓋13を水平上昇状態にする。そしてプラズマクリ
ーニング済みの対象物6を蓋13とベース12の間から
退避させ、プラズマクリーニング前の対象物6を蓋13
とベース12の間に進入させる。
【0080】次に図14、図15を参照しながら、本実
施の形態のプラズマクリーニング装置における対象物6
の搬送動作を説明する。図14は、搬送路を示す平面図
である。
施の形態のプラズマクリーニング装置における対象物6
の搬送動作を説明する。図14は、搬送路を示す平面図
である。
【0081】ここで上述したように、対象物6の搬送
は、主として搬送手段としての第1アーム15及び第2
アーム16を用いて行うものである。そして、第1アー
ム15、第2アーム16は、共に一本のタイミングベル
ト49に一定間隔tを隔てて固定されており、搬送路L
と平行な方向については、第1アーム15、第2アーム
16は一体的に移動する。
は、主として搬送手段としての第1アーム15及び第2
アーム16を用いて行うものである。そして、第1アー
ム15、第2アーム16は、共に一本のタイミングベル
ト49に一定間隔tを隔てて固定されており、搬送路L
と平行な方向については、第1アーム15、第2アーム
16は一体的に移動する。
【0082】一方、第1アーム15、第2アーム16に
は、図10に示したようなアームを上下動させるための
シリンダ51が独立に備えられており、第1アーム1
5、第2アーム16は上下動についてはそれぞれ独立に
行うことができるようになっている。
は、図10に示したようなアームを上下動させるための
シリンダ51が独立に備えられており、第1アーム1
5、第2アーム16は上下動についてはそれぞれ独立に
行うことができるようになっている。
【0083】さて以下の説明では、搬送路Lの下流側か
ら順に、第1対象物6Xは既にプラズマクリーニング済
みでワイヤボンディング部14によるワイヤボンディン
グを施されており、第2対象物6Yには密閉空間60内
で上述したプラズマクリーニングがなされており、第3
対象物6Zは、未だプラズマクリーニング前であって供
給マガジン9内に収納されているものとする。
ら順に、第1対象物6Xは既にプラズマクリーニング済
みでワイヤボンディング部14によるワイヤボンディン
グを施されており、第2対象物6Yには密閉空間60内
で上述したプラズマクリーニングがなされており、第3
対象物6Zは、未だプラズマクリーニング前であって供
給マガジン9内に収納されているものとする。
【0084】さて、図14の位置関係において、第1対
象物6Xに対するワイヤボンディングと第2対象物6Y
に対するプラズマクリーニングが済むと、蓋13を水平
上昇状態とする。そして、図15(a)に示すように、
第2アーム16を第1対象物6Xに、第1アーム15を
第2対象物6Yに当接させ、モータ47を駆動して、第
1対象物6Xを回収マガジン10へ、第2対象物6Yを
ワイヤボンディング部14の前方へ、それぞれ押送する
(矢印M1)。またこれと並行して、押出シリンダ11
を駆動して、供給マガジン9から第3対象物6Zを押出
して、蓋13とベース12との隙間へ接近させる。
象物6Xに対するワイヤボンディングと第2対象物6Y
に対するプラズマクリーニングが済むと、蓋13を水平
上昇状態とする。そして、図15(a)に示すように、
第2アーム16を第1対象物6Xに、第1アーム15を
第2対象物6Yに当接させ、モータ47を駆動して、第
1対象物6Xを回収マガジン10へ、第2対象物6Yを
ワイヤボンディング部14の前方へ、それぞれ押送する
(矢印M1)。またこれと並行して、押出シリンダ11
を駆動して、供給マガジン9から第3対象物6Zを押出
して、蓋13とベース12との隙間へ接近させる。
【0085】次に、図15(a)に示すように、第1ア
ーム15及び第2アーム16を上昇させて、第1アーム
15を第3対象物6Zの前方へ、第2アーム16を第2
対象物6Yの前方へ、それぞれ移動させる(矢印M
2)。そして、図15(c)に示すように、第1アーム
15を第3対象物6Zに、第2アーム16を第2対象物
6Yに当接させ、第1アーム15、第2アーム16によ
り、第3対象物6Zを図14の第2対象物6Yの位置
へ、第2対象物6Yを図14の第1対象物6Xの位置へ
それぞれ押送する(矢印M3)。
ーム15及び第2アーム16を上昇させて、第1アーム
15を第3対象物6Zの前方へ、第2アーム16を第2
対象物6Yの前方へ、それぞれ移動させる(矢印M
2)。そして、図15(c)に示すように、第1アーム
15を第3対象物6Zに、第2アーム16を第2対象物
6Yに当接させ、第1アーム15、第2アーム16によ
り、第3対象物6Zを図14の第2対象物6Yの位置
へ、第2対象物6Yを図14の第1対象物6Xの位置へ
それぞれ押送する(矢印M3)。
【0086】その後、第1アーム15、第2アーム16
を図14の位置へ戻し、蓋13を水平下降状態とする。
そして、第3対象物6Zに対するプラズマクリーニング
と、第2対象物6Yに対するワイヤボンディングを並行
して行う。以下上述の動作を繰り返すことにより、プラ
ズマクリーニングを済ませた直後の対象物に対してワイ
ヤボンディングを行う工程を行う。
を図14の位置へ戻し、蓋13を水平下降状態とする。
そして、第3対象物6Zに対するプラズマクリーニング
と、第2対象物6Yに対するワイヤボンディングを並行
して行う。以下上述の動作を繰り返すことにより、プラ
ズマクリーニングを済ませた直後の対象物に対してワイ
ヤボンディングを行う工程を行う。
【0087】このように、本実施の形態のプラズマクリ
ーニング装置では、搬送路L上においてプラズマクリー
ニング装置をインライン展開でき、しかもプラズマクリ
ーニング装置の搬送路Lの下流側からプラズマクリーニ
ング済みの対象物6を退避させ、それとほぼ同時にプラ
ズマクリーニング装置の搬送路Lの上流側からプラズマ
クリーニング前の対象物6をプラズマクリーニング装置
に進入させることができる。これにより対象物6のプラ
ズマクリーニングと搬送をほとんどロスタイムなしに行
うことができ、生産性を大幅に向上することができる。
ーニング装置では、搬送路L上においてプラズマクリー
ニング装置をインライン展開でき、しかもプラズマクリ
ーニング装置の搬送路Lの下流側からプラズマクリーニ
ング済みの対象物6を退避させ、それとほぼ同時にプラ
ズマクリーニング装置の搬送路Lの上流側からプラズマ
クリーニング前の対象物6をプラズマクリーニング装置
に進入させることができる。これにより対象物6のプラ
ズマクリーニングと搬送をほとんどロスタイムなしに行
うことができ、生産性を大幅に向上することができる。
【0088】
【発明の効果】本発明のプラズマクリーニング装置によ
れば、接離手段と搬送手段をベースに近付けることがで
き、それだけ全体のサイズをコンパクトに構成すること
ができる。
れば、接離手段と搬送手段をベースに近付けることがで
き、それだけ全体のサイズをコンパクトに構成すること
ができる。
【図1】本発明の一実施の形態におけるプラズマクリー
ニング装置の全体斜視図
ニング装置の全体斜視図
【図2】本発明の一実施の形態における接離手段の斜視
図
図
【図3】本発明の一実施の形態における接離手段の斜視
図
図
【図4】本発明の一実施の形態におけるブラケットの斜
視図
視図
【図5】本発明の一実施の形態におけるブラケットの斜
視図
視図
【図6】本発明の一実施の形態における蓋を下側から見
た分解斜視図
た分解斜視図
【図7】本発明の一実施の形態における蓋を下方から見
た斜視図
た斜視図
【図8】本発明の一実施の形態におけるベースの分解斜
視図
視図
【図9】本発明の一実施の形態におけるベースの平面図
【図10】本発明の一実施の形態におけるプラズマクリ
ーニング装置の断面図
ーニング装置の断面図
【図11】本発明の一実施の形態におけるプラズマクリ
ーニング装置の断面図
ーニング装置の断面図
【図12】本発明の一実施の形態における電極の付帯構
成の斜視図
成の斜視図
【図13】図2のX−X端面図
【図14】本発明の一実施の形態における搬送路を示す
平面図
平面図
【図15】(a)本発明の一実施の形態における搬送動
作説明図 (b)本発明の一実施の形態における搬送動作説明図 (c)本発明の一実施の形態における搬送動作説明図
作説明図 (b)本発明の一実施の形態における搬送動作説明図 (c)本発明の一実施の形態における搬送動作説明図
【図16】従来のプラズマクリーニング装置の斜視図
6 対象物 12 ベース 13 蓋 15 第1アーム 16 第2アーム 19 真空ポンプ 23 シリンダ 24 U字アーム 25 ブラケット 26 軸 29 軸 32 第1電極 34 第2電極 40 ガイド 41 ガイド 60 密閉空間 61 高周波印加部 L 搬送路
Claims (2)
- 【請求項1】対象物をプラズマクリーニングするプラズ
マクリーニング装置であって、開口部と吸込口を備えた
ベースと、前記開口部に挿入されて前記ベースに絶縁さ
れた状態で装着された電極と、前記電極に高周波電圧を
印加する高周波電源と、下方が開口しており、かつ前記
ベースに対して上方から接離自在に支持され、前記ベー
スに当接して前記ベースの上方に密閉空間を形成する蓋
と、前記蓋を前記ベースに接離させる接離手段と、前記
吸込口より前記密閉空間を減圧する真空ポンプと、前記
密閉空間内にガスを供給するガス供給部と、プラズマク
リーニングの対象物を搬送する搬送路の一部を構成し、
前記密閉空間内においてこの対象物を支持するガイド
と、前記蓋が前記ベースから離れているときに対象物の
搬送動作を行う搬送手段とを備え、前記接離手段を前記
ガイドの一方側の側方に設け、前記搬送手段を前記ガイ
ドの他方側の側方に配置したことを特徴とするプラズマ
クリーニング装置。 - 【請求項2】前記搬送手段は、前記蓋が前記ガイドから
離れている際、前記蓋と前記ガイドとの隙間に進入して
対象物を押送するアームを有することを特徴とする請求
項1記載のプラズマクリーニング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001043046A JP2001298016A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | プラズマクリーニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001043046A JP2001298016A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | プラズマクリーニング装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21586095A Division JP3173339B2 (ja) | 1995-07-28 | 1995-08-24 | 表面処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001298016A true JP2001298016A (ja) | 2001-10-26 |
Family
ID=18905275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001043046A Pending JP2001298016A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | プラズマクリーニング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001298016A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100853573B1 (ko) | 2005-08-31 | 2008-08-21 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 시스템 |
-
2001
- 2001-02-20 JP JP2001043046A patent/JP2001298016A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100853573B1 (ko) | 2005-08-31 | 2008-08-21 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 시스템 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100235586B1 (ko) | 표면처리장치 및 방법과 이 표면처리장치를 이용하는 와이어 본딩장치 및 방법 | |
US20060163201A1 (en) | Plasma processing system and plasma treatment process | |
US6035804A (en) | Process chamber apparatus | |
CN101688296A (zh) | 真空处理***及基板搬送方法 | |
WO2004100247A1 (ja) | プラズマエッチングチャンバーと、これを用いたプラズマエッチングシステム | |
JP2001148378A (ja) | プラズマ処理装置、クラスターツールおよびプラズマ制御方法 | |
US5395474A (en) | Apparatus and method for etching semiconductor wafer | |
JPH10223725A (ja) | 基板のプラズマクリーニング装置 | |
JP3173498B2 (ja) | プラズマクリーニング装置 | |
JP3173339B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP3173497B2 (ja) | プラズマクリーニング装置 | |
JP2001326266A (ja) | プラズマクリーニング装置 | |
JP2001298016A (ja) | プラズマクリーニング装置 | |
JP3353557B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP3173341B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP3173340B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP2001286839A (ja) | プラズマクリーニング装置 | |
JP2001327937A (ja) | プラズマクリーニング装置 | |
JP3173345B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP2001271183A (ja) | プラズマクリーニング装置 | |
JP3353747B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP3353746B2 (ja) | 表面処理装置 | |
JP3173342B2 (ja) | 表面処理装置及び表面処理方法 | |
JP2000087264A (ja) | 表面処理装置及び表面処理方法 | |
US5474643A (en) | Plasma processing apparatus |