JP2001267487A - 高周波モジュール - Google Patents

高周波モジュール

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JP2001267487A JP2000081224A JP2000081224A JP2001267487A JP 2001267487 A JP2001267487 A JP 2001267487A JP 2000081224 A JP2000081224 A JP 2000081224A JP 2000081224 A JP2000081224 A JP 2000081224A JP 2001267487 A JP2001267487 A JP 2001267487A
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Kazuaki Takahashi
和晃 高橋
Taku Fujita
卓 藤田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高周波におけるモジュールを高性能かつ安価
に実現する 【解決手段】 テフロン基板101に角状の穴102を
設け、ガラスエポキシ基板106上にボンディングシー
ト107で接着した基板構造を有し、マイクロストリッ
プ線路104、108、および接地導体103、107
を設け、ミリ波用集積回路109をバンプ110でフリ
ップチップ実装した構造を設ける。裏面に低周波用デバ
イス113を実装することで、高密度の実装が実現でき
る。このような形状を樹脂基板を用いて実現すること
で、低コスト化を実現することができる。さらにMMI
C109の実装にバンプ110によるフリップチップ実
装を用いることで、構造接続部の寄生リアクタンス成分
が少なく、ミリ波においても実装による特性劣化がな
い。また角状の穴を設けることで、封止樹脂がMMIC
の回路面を覆わないため、特性劣化が非常に少ない

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、無線通信に使用す
る高周波半導体集積回路を実装するための高周波半導体
集積回路を実装した高周波モジュールに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、多層基板を用いた高周波モジュー
ルとしては、1997IEEE MTT−Sマイクロ波
国際シンポジウムダイジェスト509頁から513頁に
記載されたものが知られている。
【0003】図9に従来の多層基板を用いた高周波モジ
ュールの構造を示す。701のポリイミド多層基板を7
07のアルミナ多層基板上に積層した構造を有し、ポリ
イミド基板に角状の穴を設け709の高周波集積回路
(MMIC)を埋め込み710のボンディングワイヤで
実装する構造を有している。703はポリイミド基板下
面に形成した接地導体で、704はポリイミド基板上面
に形成したマイクロストリップ線路である。アルミナ基
板の裏面に712の電源回路や制御回路を設けており、
各層間の配線は714のスルーホールで接続されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この高周波モジュール
においては、高周波回路を形成する側の基板としてポリ
イミドを多層化するとともに、薄膜工程により金属配線
を設けていることから、高精度かつ高密度に配線ができ
るものの、コストが非常に大きいという課題がある。さ
らに電源回路や制御回路をアルミナ基板側に形成してお
り、基板コストが大きくなる。
【0005】また、高周波集積回路をフェースアップ実
装しているから、信頼性のために封止をする必要があ
る。さらに、アルミナ基板では、強度的な問題により大
きな面積の回路を形成することが困難であるという課題
もある。本発明は、上記課題を解決するものであり、低
コストで高い性能を実現し、十分な機械的な強度も有し
た誘電体多層基板を提供するとともに、この基板を用い
た高性能な高周波モジュールを安価に実現することを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の高周波モジュー
ルは、両面に導体層を有する第1および第2の誘電体基
板を接着用の樹脂を用いて張り合わせた、積層誘電体基
板において、前記第1の誘電体基板は、裏面全面を第1
の接地導体とし、表面に第1の伝送線路を有し、半導体
集積回路より小さい角状の穴を有する構造とし、前記第
2の誘電体基板において、表面に第2の接地用導体を有
し、裏面に第2の伝送線路を有し、各層の接地導体およ
び伝送線路を各々スルーホールで接続した構造を有し、
前記角状の穴の上に半導体集積回路をフリップチップ実
装して高周波回路を形成し、裏面に低周波用デバイスを
実装して低周波回路を形成したことを特長とする。
【0007】この発明によれば、基板材料を樹脂材料を
張り合わせることにより実現しているため、アルミナな
どの基板と比べると低コストが実現できる。また、金属
配線には薄膜工程を必要としないため、プロセス的にも
低コストである。また、半導体集積回路の実装にフリッ
プチップ実装を用いており、実装すると同時に封止もさ
れるため、新たに封止の工程を行なう必要がない。また
フリップチップのチップの直下の基板に角状の穴を設け
ているために、封止樹脂が半導体集積回路に与える影響
が少なくフェースアップで実装した状態と同じ特性を確
保できる。さらにボンディングワイヤによる寄生リアク
タンスが少ないという特長も有し、高性能な高周波モジ
ュールを低コストで実現することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、両面に導体層を有する第1および第2の誘電体基板
を接着用の樹脂を用いて張り合わせた、積層誘電体基板
において、前記第1の誘電体基板においては、裏面全面
を第1の接地導体とし、表面に第1の伝送線路を有し、
半導体集積回路より小さい角状の穴を有する構造とし、
前記第2の誘電体基板において、表面に第2の接地導体
を有し、裏面に第2の伝送線路を有し、各層の接地導体
および伝送線路を各々スルーホールで接続した構造を有
し、前記角状の穴の上にに半導体集積回路をフリップチ
ップ実装して高周波波回路を形成し、裏面に低周波用デ
バイスを実装して低周波回路を形成した構造を有する。
【0009】樹脂材料を用いてこのような構造をとるこ
とにより、高周波集積回路を実装することを目的とした
低コストの積層誘電体基板を実現することができる。ま
た前記角状の穴を設けた上に、前記半導体集積回路をフ
リップチップ実装することにより、封止樹脂の影響をほ
とんど受けずに、封止が可能となる。
【0010】本発明の請求項2から4に記載の発明は、
第1の誘電体基板の角状の穴を前記第1の誘電体基板を
貫通させずに、凹状の形状としたり、第1の誘電体基板
を貫通し第2の誘電体基板の途中まで削り凹状とした
り、第1および第2の誘電体基板を貫通させたりした形
状とすることを特長とし、このような構造は誘電体基板
を積層した後に、切削加工またはレーザー加工などによ
り容易に実現できるため、量産性に優れる。
【0011】本発明の請求項5に記載の発明は、第1の
誘電体基板をテフロン基板、第2の誘電体基板をガラス
エポキシ基板としたことを特長とし、低損失特性が要求
される高周波回路部に低誘電率かつ低誘電正接のテフロ
ン基板を用い、あまり低損失特性が要求されない低周波
回路部にガラスエポキシ基板を用いることで、全体とし
ての材料コストを押さえることができる。
【0012】本発明の請求項6および7に記載の発明
は、第2の誘電体基板または第1の誘電体基板をそれぞ
れガラスエポキシ多層、テフロン多層としたことを特長
とし、このような構造とすることにより、高密度の配線
が可能となり、小型の高周波モジュールを実現すること
ができる。
【0013】本発明の請求項8および9に記載の発明
は、接地導体を第1の誘電体基板裏面または、第2の誘
電体基板の表面どちらか片方に設けたことを特長とし、
どちらか一方のみを接地導体とすることで、導体同士を
接続するスルーホールが不要となる。
【0014】本発明の請求項10に記載の発明は、第2
の誘電体基板表面の第2の接地導体を第1の誘電体基板
の角状の穴位置に合わせて選択的に残し、前記第2の接
地導体を取り除いた部分に、第3の伝送線路を設けたこ
とを構造を有し、このような構造とすることにより、高
密度の配線が可能となり、小型の高周波モジュールを実
現することができる。
【0015】本発明の請求項11に記載の発明は、第1
および第2の誘電体材料を接着用樹脂を用いずに熱圧着
により張り合わせたことを特長とし、熱圧着用樹脂によ
る高周波特性の劣化のない高周波モジュールを実現する
ことができる。
【0016】本発明の請求項12に記載の発明は、第1
の誘電体材料に設けた角状の穴を半導体集積回路より大
きい形状とし、半導体集積回路を埋め込むようにしてフ
ェースアップ実装し、第1の伝送線路と前記半導体集積
回路の電極とをワイヤまたはリボンで接続したことを特
長とし、このような構造を複数の樹脂基板で実現するこ
とで、安価な高周波モジュールを実現することができ
る。
【0017】本発明の請求項13に記載の発明は、第1
の誘電体材料に設けた角状の穴を半導体集積回路より大
きい形状とし、パッケージに封入された半導体集積回路
を埋め込むようにして実装したことを特長とし、このよ
うな構造を樹脂基板で実現することで、安価な高周波モ
ジュールを実現することができる。
【0018】本発明の請求項14に記載の発明は、第1
の誘電体基板上に設けた角状の穴より大きな穴を有す
る、第3の誘電体基板を設け、前記第3の誘電体基板を
第1の誘電体基板上に接着用の樹脂を用いて張り合わ
せ、前記第3の誘電体基板上にシールド用の蓋を接着し
たことを特長とし、このような構造とすることで、半導
体集積回路を簡便に封止することができる。
【0019】本発明の請求項15から17に記載の発明
は請求項1から12に記載の高周波モジュールを無線端
末装置、無線基地局装置、無線計測装置に用いたことを
特長とし、小型かつ安価な高周波モジュールを用いるこ
とで、小型かつ安価な装置を提供することができる。
【0020】(実施の形態1)図1は本発明の高周波モ
ジュールにおける第1の実施の形態の断面構造図を示し
たものである。図2は本発明の高周波モジュールにおけ
る第1の実施の形態の立体的な構造を示したものであ
る。
【0021】図1および図2において101は第1の誘
電体基板として用いたテフロン基板、102はテフロン
基板に設けた角状の穴、103は第1の誘電体基板裏面
の第1の接地用導体、104は第1の誘電体基板101
上に設けた、第1の伝送線路としてのマイクロストリッ
プ線路、105は接着用の樹脂としてのボンディングシ
ート、106は第2の誘電体基板としてのガラスエポキ
シ基板、107は第2の誘電体基板表面の第2の接地用
導体、108はガラスエポキシ基板裏面の第2の伝送線
路、109は高周波半導体集積回路としてのミリ波用集
積回路(MMIC)、110はバンプ、111は封止樹
脂、112はガラスエポキシ基板裏面に実装した、低周
波用デバイス、113はチップ部品、114は、スルー
ホールである。
【0022】このような形状を樹脂基板を用いて実現す
ることで、一体焼成による低温焼成セラミック基板を用
いる場合と比べて、低コスト化を実現することができ
る。さらに高周波特性が必要とされる、第1の誘電体基
板101にのみ、低損失のテフロン基板を用い、高周波
特性の必要ない第2の誘電体基板として安価なガラスエ
ポキシ基板を用いることで、低損失かつ低コストな誘電
体基板を実現することができる。
【0023】MMIC109の実装にバンプ110によ
るフリップチップ実装を用いることで、ボンディングワ
イヤによるフェースアップ実装と比べて、接続部の寄生
リアクタンス成分が少なく、ミリ波においても実装によ
る特性劣化がない。しかしながら、通常のフリップチッ
プ実装においては、接続の信頼性を確保するために、封
止樹脂をMMICと実装基板の間に注入するが、誘電体
材料である封止樹脂がMMICの回路面にかかることに
より、特性が劣化する。
【0024】そこで、テフロン基板にMMICチップ1
09よりやや小さい、角状の穴を形成し、その上にMM
ICをバンプ実装することで、MMICの主要な回路部
分に封止樹脂がかからないようにすることができる。ま
たMMICの電源バイパスコンデンサや、中間周波数回
路などは裏面のガラスエポキシ基板上に形成することに
より、モジュール全体としての小型化を実現することが
できるとともに、ミリ波回路と電源および中間周波数回
路は、接地導体103、106で各々分離されるため、
回路間のアイソレーションを高めることができる。
【0025】なお本実施例においては、ミリ波回路と、
電源および中間周波数回路は各々別の面に形成している
が、例えばミリ波回路面に電源回路の一部を形成しても
よいことは言うまでもない。
【0026】また、基板材料としてテフロンとガラスエ
ポキシ基板を用いたが別の樹脂材料を用いてもよいこと
は言うまでもない。
【0027】(実施の形態2)図3は本発明の高周波モ
ジュールにおける第2の実施の形態の断面構造図を示し
たものである。図3において図1の第1の実施の形態と
異なる点は、第2の接地導体206を全面でなく、選択
的に残した点と、第2の接地導体と同じ導体層に、第3
の伝送線路207を設けた点と、スルーホールとして内
層スルーホール204を用いた点と、第2の誘電体基板
としてガラスエポキシの多層基板107a、107bを
用いたことである。
【0028】このような構造とすることにより、ボンデ
ィングシート105を誘電体とし、第1の接地導体10
3を接地層としたマイクロストリップ線路が形成でき
る。第2の接地導体206はその周辺部を内層スルーホ
ール214で、第1の接地導体103と接続されるた
め、電気的特性として、全面に接地導体を設けた場合と
同等の特性を実現できるとともに、第2の接地導体と同
一の平面状に設けた第3の伝送線路により高密度の配線
が実現できる。さらに、ガラスエポキシ基板を多層化す
ることにより高密度配線が実現できる。
【0029】なお、本実施の形態ではテフロン基板を単
層としているが、多層基板としてもよいことは言うまで
もない。
【0030】(実施の形態3)図4は本発明の高周波モ
ジュールにおける第3の実施の形態の断面構造図を示し
たものである。本実施の形態において第1の実施の形態
と異なる点は、テフロン基板101上に設けた角状の穴
302を基板を貫通させずに凹状の形状とした点であ
る。
【0031】このような基板構造は、通常の多層基板の
作成プロセスと同じ工程で基板を形成した後に、レーザ
加工やドリル加工などでで形成することができ、安価な
製作コストで実現できる。
【0032】なお、本実施の形態において角状の穴30
2の低部にテフロンを残した形であるが、後加工により
テフロンを貫通するまでの穴をあけてもよい。さらに、
ガラスエポキシ基板107の一部まで穴が及んでもよ
い。さらにガラスエポキシ基板までも貫通させてもよ
い。
【0033】(実施の形態4)図5は本発明の高周波モ
ジュールにおける第4の実施の形態の断面構造図を示し
たものである。本実施の形態において第1の実施の形態
と異なる点は、テフロン基板101上に設けた角状の穴
402をMMIC409より大きい穴とし、MMIC1
09の回路面を上にして角状の穴402にはめ込む形で
実装し、MMIC109の電極と第1の伝送線路104
とをボンディングワイヤまたはリボンで接続した点であ
る。
【0034】このような形状にすることにより、フリッ
プチップ実装と比べると接続部分の寄生リアクタンスが
増えるが、実装が比較的容易であり実装コストを低減す
ることができる。
【0035】(実施の形態5)図6は本発明の高周波モ
ジュールにおける第5の実施の形態の断面構造図を示し
たものである。本実施の形態において、第4の実施の形
態と異なる点は、テフロン基板101上に角状の穴40
2より大きな角状の穴502を設けたテフロン基板を積
層し、さらにその上にシールド用蓋517を積層した点
である。
【0036】このような形状にすることにより、フェー
スアップ実装されたMMICを密閉して封止することが
でき、MMICを湿度などから保護することができる。
【0037】(実施の形態6)図7は本発明の高周波モ
ジュールにおける第6の実施の形態の断面構造図を示し
たものである。本実施の形態において、第4の実施の形
態と異なる点は、MMICとしてベアチップのものでは
なく、マイクロストリップ型、またはコプレナ線路型の
パッケージに封入されたものを用いた点である。パッケ
ージに封入されたMMICを用いることにより、信頼性
をさらに高めることができる。
【0038】(実施の形態7)図8は本発明の高周波モ
ジュールを用いた無線端末装置の実施の形態の一例を示
したものである。本実施の形態において、901はアン
テナ、902は送受切替スイッチ、903は低雑音増幅
器、904はパワーアンプ、905はフィルタ、906
は局部発信器、907はミキサ、908は中間信号処理
回路、909はベースバンド信号処理回路である。本発
明の高周波モジュールの構造を用いて、例えば破線で囲
んだ部分910を一枚の基板上に集積化することなどが
容易にでき、小型かつ低コストの無線端末を実現するこ
とができる。
【0039】なお本実施の形態においては、無線端末へ
適用した例を示したが、無線基地局装置または無線計測
装置に適用しても同様の効果が得られる。
【0040】また、本実施の形態においては図8の破線
部分を基板上に集積化するとしたが、図8に示したブロ
ック図以外の無線機の機能を同一の基板上に集積化して
もよい。また、2枚以上の基板に分割してもよいことは
言うまでもない。
【0041】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、樹脂によ
る誘電体材料を張り合わせた誘電体多層基板に空洞を設
け、フリップチップ実装を行うことで、高周波において
も実装に起因する特性劣化を抑え、高い性能を有する高
周波モジュールを安価に実現できるという効果が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態による高周モジュールの
構造断面図
【図2】本発明の一実施の形態による高周波モジュール
構造図
【図3】本発明の一実施の形態による高周波モジュール
構造図
【図4】本発明の一実施の形態による高周波モジュール
構造図
【図5】本発明の一実施の形態による高周波モジュール
構造図
【図6】本発明の一実施の形態による高周波モジュール
構造図
【図7】本発明の一実施の形態による高周波モジュール
構造図
【図8】本発明の一実施の形態による高周波モジュール
を用いた無線装置のブロック図
【図9】従来の高周波モジュールの構造を示す図
【符号の説明】
101 テフロン基板 102 角状の穴 103、106 接地導体 104 108 マイクロストリップ線路 105 接着用樹脂 107 ガラスエポキシ基板 109 ミリ波MMIC 110 バンプ 111 封止樹脂 112 低周波用IC 113 チップ抵抗
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01P 3/08 H01L 23/14 R 5/08

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 両面に導体層を有する第1および第2の
    誘電体基板を接着用の樹脂を用いて張り合わせた、積層
    誘電体基板において、前記第1の誘電体基板は裏面全面
    を第1の接地導体とし、表面に第1の伝送線路を有し、
    半導体集積回路より小さい面積の角状の穴を有する構造
    とし、前記第2の誘電体基板において、表面に第2の接
    地導体を有し、裏面に第2の伝送線路を有し、第1、第
    2の接地導体および第1、第2の伝送線路を各々スルー
    ホールで接続した構造を有し、前記角状の穴の上にに前
    記半導体集積回路をフリップチップ実装して高周波波回
    路を形成し、裏面に低周波用デバイスを実装して低周波
    回路を形成したことを特長とする高周波モジュール。
  2. 【請求項2】 第1の誘電体基板の角状の穴を前記第1
    の誘電体基板を貫通させずに、凹状の形状としたことを
    特長とする請求項1記載の高周波モジュール。
  3. 【請求項3】 第1の誘電体基板の角状の穴を前記第1
    の誘電体基板を貫通させるとともに、第2の誘電体基板
    の途中まで削った凹状の形状としたことを特長とする請
    求項1記載の高周波モジュール。
  4. 【請求項4】 第1の誘電体基板の角状の穴を前記第1
    の誘電体基板を貫通させるとともに、第2の誘電体基板
    も貫通させたことを特長とする請求項1または3記載の
    高周波モジュール。
  5. 【請求項5】 第1の誘電体基板をテフロン基板、第2
    の誘電体基板をガラスエポキシ基板としたことを特徴と
    する請求項1から4記載の高周波モジュール。
  6. 【請求項6】 第2の誘電体基板としてガラスエポキシ
    基板を少なくとも2層用いた多層基板としたことを特徴
    とする請求項5記載の高周波モジュール。
  7. 【請求項7】 第1の誘電体基板としてテフロン基板を
    少なくとも2層用いた多層基板としたことを特長とする
    請求項5、6記載の高周波モジュール
  8. 【請求項8】 第1の誘電体基板裏面の第1の接地導体
    をなくし、第2の誘電体基板表面の第2の接地導体を残
    したことを特徴とする請求項1から6記載の高周波モジ
    ュール。
  9. 【請求項9】 第2の誘電体基板表面の第2の接地導体
    をなくし、第1の誘電体基板裏面の第1の接地導体を残
    したことを特徴とする請求項1から6記載の高周波モジ
    ュール。
  10. 【請求項10】 第2の誘電体基板表面の第2の接地導
    体を第1の誘電体基板の角状の穴位置に合わせて選択的
    に残し、前記第2の接地導体を取り除いた部分に、第3
    の伝送線路を設けたことを特徴とする請求項1から8記
    載の高周波モジュール。
  11. 【請求項11】 第1および第2の誘電体材料を、接着
    用樹脂を用いずに熱圧着により基板を張り合わせたこと
    を特徴とする請求項1から9記載の高周波モジュール。
  12. 【請求項12】 第1の誘電体材料に設けた角状の穴を
    半導体集積回路より大きい形状とし、半導体集積回路を
    埋め込むようにしてフェースアップ実装し、第1の伝送
    線路と前記半導体集積回路の電極とをワイヤまたはリボ
    ンで接続したことを特徴とする請求項1から8記載の高
    周波モジュール。
  13. 【請求項13】 パッケージに封入した半導体集積回路
    を用いたことを特徴とする請求項8記載の高周波モジュ
    ール
  14. 【請求項14】 第1の誘電体基板上に設けた角状の穴
    より大きな穴を有する、第3の誘電体基板を有し、前記
    第3の誘電体基板を第1の誘電体基板上に接着用の樹脂
    を用いて張り合わせ、前記第3の誘電体基板上にシール
    ド用の蓋を接着したことを特徴とする請求項1記載の高
    周波モジュール。
  15. 【請求項15】 請求項1記載の誘電体積層基板および
    高周波モジュールを用いたことを特長とする無線端末装
    置。
  16. 【請求項16】 請求項1記載の誘電体積層基板および
    高周波モジュールを用いたことを特長とする無線基地局
    装置。
  17. 【請求項17】 請求項1記載の誘電体積層基板および
    高周波モジュールを用いたことを特長とする無線計測装
    置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8592957B2 (en) 2009-08-18 2013-11-26 Nec Corporation Semiconductor device having shield layer and chip-side power supply terminal capacitively coupled therein
CN103733426A (zh) * 2012-01-06 2014-04-16 株式会社村田制作所 高频信号线路及电子设备
CN114256575A (zh) * 2021-12-10 2022-03-29 中国电子科技集团公司第二十九研究所 一种多通道小型化微波组件及其金属基复合基板结构

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8592957B2 (en) 2009-08-18 2013-11-26 Nec Corporation Semiconductor device having shield layer and chip-side power supply terminal capacitively coupled therein
CN103733426A (zh) * 2012-01-06 2014-04-16 株式会社村田制作所 高频信号线路及电子设备
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