JP2001225568A - 感熱性印刷版前駆体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 高強度レーザービームにより像通りに露出さ
れて印刷機械上で高い耐性を示し、且つ良好な解像を示
しそして背景汚染のない像を与える印刷版を与える平版
印刷版前駆体を提供する。 【解決手段】 平版印刷版前駆体は電気化学的に研磨さ
れたアルミニウム基質を含んでなり、その基質の研磨さ
れた表面が−一般的には5%より低い水準の−金属アル
ミニウムおよび金属間アルミニウム合金を導入するゲル
様非晶質コロイド状のアルミニウムの酸化物および水酸
化物並びにそれらの水和物の層でコーテイングされ、こ
の層は電気化学的研磨工程中に製造される。
れて印刷機械上で高い耐性を示し、且つ良好な解像を示
しそして背景汚染のない像を与える印刷版を与える平版
印刷版前駆体を提供する。 【解決手段】 平版印刷版前駆体は電気化学的に研磨さ
れたアルミニウム基質を含んでなり、その基質の研磨さ
れた表面が−一般的には5%より低い水準の−金属アル
ミニウムおよび金属間アルミニウム合金を導入するゲル
様非晶質コロイド状のアルミニウムの酸化物および水酸
化物並びにそれらの水和物の層でコーテイングされ、こ
の層は電気化学的研磨工程中に製造される。
Description
【0001】本発明は電子的に構成されたデジタル源か
らの直接的な像の形成に関し、そして特に平版印刷版前
駆体上での像の形成に関する。より特に、本発明は金属
アルミニウムおよび金属間アルミニウム合金を導入する
ゲル様非晶質コロイド状のアルミニウムの酸化物および
水酸化物並びにそれらの水和物を含んでなる像形成層を
導入する平版印刷版前駆体、並びに熱放射線への露出に
より像形成が達成され化学処理の使用を必要としない平
版印刷版の製造方法に関する。
らの直接的な像の形成に関し、そして特に平版印刷版前
駆体上での像の形成に関する。より特に、本発明は金属
アルミニウムおよび金属間アルミニウム合金を導入する
ゲル様非晶質コロイド状のアルミニウムの酸化物および
水酸化物並びにそれらの水和物を含んでなる像形成層を
導入する平版印刷版前駆体、並びに熱放射線への露出に
より像形成が達成され化学処理の使用を必要としない平
版印刷版の製造方法に関する。
【0002】平版印刷はある領域はインキを受容可能で
ある(親油性領域)が他の領域はインキを受容しないで
あろう(疎油性領域)方法で製造された表面からの印刷
方法である。親油性領域が印刷領域を形成し、一方で疎
油性領域が背景領域を形成する。
ある(親油性領域)が他の領域はインキを受容しないで
あろう(疎油性領域)方法で製造された表面からの印刷
方法である。親油性領域が印刷領域を形成し、一方で疎
油性領域が背景領域を形成する。
【0003】平版印刷方法における使用のための版は、
写真材料の露光およびその後の化学処理で像通りにイン
キに対して受容性または反撥性にされる写真材料を使用
して製造することができる。しかしながら、写真処理技
術に基づくこの製造方法は数段階を包含し、そしてその
結果としてかなりの量の時間、労力および費用を必要と
する。
写真材料の露光およびその後の化学処理で像通りにイン
キに対して受容性または反撥性にされる写真材料を使用
して製造することができる。しかしながら、写真処理技
術に基づくこの製造方法は数段階を包含し、そしてその
結果としてかなりの量の時間、労力および費用を必要と
する。
【0004】従って、長年にわたり、印刷工業において
は電子的に構成されたデジタルデータベースから直接的
に、すなわちいわゆる「ダイレクト刷版(computer-to-p
late)」システムにより、像を形成することが長期の目
標であった。そのようなシステムの従来の印刷版製造方
法と比べた利点は、(i)高価な中間銀フィルムおよび
処理用化学薬品の排除、(ii)時間の節約、および(ii
i)システムを自動化できることおよびその結果として
の労働コストの減少である。
は電子的に構成されたデジタルデータベースから直接的
に、すなわちいわゆる「ダイレクト刷版(computer-to-p
late)」システムにより、像を形成することが長期の目
標であった。そのようなシステムの従来の印刷版製造方
法と比べた利点は、(i)高価な中間銀フィルムおよび
処理用化学薬品の排除、(ii)時間の節約、および(ii
i)システムを自動化できることおよびその結果として
の労働コストの減少である。
【0005】レーザー技術の導入が、前駆体の表面を越
えてレーザービームを走査させそしてビームを調整して
効果的に作動および遮断させることにより印刷版前駆体
上に像を直接形成するための最初の機会を与えた。この
方法では、高感度重合体コーテイングを含んでなる感放
射線(radiation sensitive)版は水冷された紫外線アル
ゴン−イオンレーザーにより発生したレーザービームに
露出されそして可視スペクトル領域中に及ぶ感度を有す
る電子写真版が低出力の空冷アルゴン−イオン、ヘリウ
ム-ネオンおよび半導体レーザー装置を用いて首尾よく
露出された。
えてレーザービームを走査させそしてビームを調整して
効果的に作動および遮断させることにより印刷版前駆体
上に像を直接形成するための最初の機会を与えた。この
方法では、高感度重合体コーテイングを含んでなる感放
射線(radiation sensitive)版は水冷された紫外線アル
ゴン−イオンレーザーにより発生したレーザービームに
露出されそして可視スペクトル領域中に及ぶ感度を有す
る電子写真版が低出力の空冷アルゴン−イオン、ヘリウ
ム-ネオンおよび半導体レーザー装置を用いて首尾よく
露出された。
【0006】熱発生赤外レーザービームへの露出で選択
的な(像通りの)剥離およびその後の材料の移動を受け
るサンドイッチ構造を含む像形成システムも入手可能で
ある。そのようないわゆる剥離システム(peel-apart s
ystem)は一般的にはハロゲン化銀フィルムの代替品と
して使用される。
的な(像通りの)剥離およびその後の材料の移動を受け
るサンドイッチ構造を含む像形成システムも入手可能で
ある。そのようないわゆる剥離システム(peel-apart s
ystem)は一般的にはハロゲン化銀フィルムの代替品と
して使用される。
【0007】デジタル像形成技術は米国特許第4911
075号に記載されており、それにより水性湿し溶液で
湿して印刷中に非−像領域を湿らす必要のないいわゆる
ドリオグラフィー(driographic)版がスパーク放電によ
り製造される。この場合、伝導性基質上にコーテイング
された電気伝導性粒子を含有するインキ−反撥性コーテ
イングを含んでなる版前駆体が使用されそしてコーテイ
ングが基質から融除される(ablatively removed)。し
かしながら、残念なことに、融除性スパーク放電は比較
的劣った解像度を有する像を与える。
075号に記載されており、それにより水性湿し溶液で
湿して印刷中に非−像領域を湿らす必要のないいわゆる
ドリオグラフィー(driographic)版がスパーク放電によ
り製造される。この場合、伝導性基質上にコーテイング
された電気伝導性粒子を含有するインキ−反撥性コーテ
イングを含んでなる版前駆体が使用されそしてコーテイ
ングが基質から融除される(ablatively removed)。し
かしながら、残念なことに、融除性スパーク放電は比較
的劣った解像度を有する像を与える。
【0008】レーザーの使用によりこの特徴を改良して
高解像融除を得ることは、例えば、P E Dyer により "L
aser Ablation of Polymers" (Chapter 14 of "Photoch
emical Processing of Electronic Materials", Academ
ic Press, 1992, p359-385)に記載されているように既
知である。最近まで、この方法による像形成は一般的に
は高性能二酸化炭素またはエキシマーレーザーの使用を
含んでいた。残念なことに、そのようなレーザーはそれ
らの高い動力消費および過多な費用並びに高圧気体取り
扱いシステムの必要性のために印刷用途にはあまり適し
ていない。しかしながら、最近の開発がより小型で、高
度に効率的で且つ非常に経済的な固体装置であるより適
切な赤外ダイオードレーザーの利用可能性をもたらし
た。3000mJ/cm2まで放出することが可能であ
るそのようなレーザーの高出力バージョンが現在市販さ
れている。
高解像融除を得ることは、例えば、P E Dyer により "L
aser Ablation of Polymers" (Chapter 14 of "Photoch
emical Processing of Electronic Materials", Academ
ic Press, 1992, p359-385)に記載されているように既
知である。最近まで、この方法による像形成は一般的に
は高性能二酸化炭素またはエキシマーレーザーの使用を
含んでいた。残念なことに、そのようなレーザーはそれ
らの高い動力消費および過多な費用並びに高圧気体取り
扱いシステムの必要性のために印刷用途にはあまり適し
ていない。しかしながら、最近の開発がより小型で、高
度に効率的で且つ非常に経済的な固体装置であるより適
切な赤外ダイオードレーザーの利用可能性をもたらし
た。3000mJ/cm2まで放出することが可能であ
るそのようなレーザーの高出力バージョンが現在市販さ
れている。
【0009】赤外放射線での融除により像形成すること
ができるコーテイングはこれまでに提案されている。そ
れ故、例えば、受容シート上での着色層の像通りの融除
により像が形成されるような校正刷り用フィルム(proo
fing film)がPCT出願番号90/12342に記載
されている。しかしながら、このシステムは像形成段階
における材料の物理的移動を必要とする点で不利であ
り、そしてそのような方法は劣った像解像度をもたらす
傾向がある。
ができるコーテイングはこれまでに提案されている。そ
れ故、例えば、受容シート上での着色層の像通りの融除
により像が形成されるような校正刷り用フィルム(proo
fing film)がPCT出願番号90/12342に記載
されている。しかしながら、このシステムは像形成段階
における材料の物理的移動を必要とする点で不利であ
り、そしてそのような方法は劣った像解像度をもたらす
傾向がある。
【0010】多くの優れた解像度はヨーロッパ特許第6
49374号に記載された融除技術により得られ、そこ
ではドリオグラフィー印刷版前駆体が赤外ダイオードレ
ーザーまたはYAGレーザーによりデジタル式に像形成
され、そして望ましくない材料の除去により像が直接形
成される。この技術は版前駆体を露出し、透明なカバー
シートで覆われた赤外放射線で融除可能なコーテイング
を導入し、赤外レーザーからのビームをコーテイングの
継続する領域に指向しコーテイングをこれらの領域で融
除し且つそのインキ反撥性を失わせて像を形成し、カバ
ーシートおよび融除生成物を除去し、そして像にインキ
付与することを包含する。
49374号に記載された融除技術により得られ、そこ
ではドリオグラフィー印刷版前駆体が赤外ダイオードレ
ーザーまたはYAGレーザーによりデジタル式に像形成
され、そして望ましくない材料の除去により像が直接形
成される。この技術は版前駆体を露出し、透明なカバー
シートで覆われた赤外放射線で融除可能なコーテイング
を導入し、赤外レーザーからのビームをコーテイングの
継続する領域に指向しコーテイングをこれらの領域で融
除し且つそのインキ反撥性を失わせて像を形成し、カバ
ーシートおよび融除生成物を除去し、そして像にインキ
付与することを包含する。
【0011】ヒートモード記録材料は米国特許第403
4183号に開示されており、それは親水性層でコーテ
イングされたアノード処理されたアルミニウム支持体を
含んでなる。レーザーを用いる像通りの露出で、露出さ
れた領域は疎水性にされ、そしてそれによりインキを受
容する。
4183号に開示されており、それは親水性層でコーテ
イングされたアノード処理されたアルミニウム支持体を
含んでなる。レーザーを用いる像通りの露出で、露出さ
れた領域は疎水性にされ、そしてそれによりインキを受
容する。
【0012】日本特許出願公開番号49−117102
(1974)は印刷版の製造方法を開示しており、そこ
では電気信号により調整されるレーザービーム照射によ
り像形成される印刷版前駆体の像形成層の中に金属が導
入される。典型的には、版前駆体は樹脂フィルムでコー
テイングされた金属ベース、例えばアルミニウム、を含
んでなり、そのフィルムは典型的にはニトロセルロース
でありそしてその上部に銅の薄層が付与される。樹脂お
よび金属層はレーザー−衝突領域で除去され、それによ
り印刷版を製造する。しかしながら、このシステムの欠
点は最初に銅を(例えばアルゴン−イオンレーザーによ
り)そして次に樹脂を(例えば二酸化炭素レーザーで)
除去するために2つのタイプのレーザービーム照射が必
要であることであり、その結果、必要な装置は高価にな
る。
(1974)は印刷版の製造方法を開示しており、そこ
では電気信号により調整されるレーザービーム照射によ
り像形成される印刷版前駆体の像形成層の中に金属が導
入される。典型的には、版前駆体は樹脂フィルムでコー
テイングされた金属ベース、例えばアルミニウム、を含
んでなり、そのフィルムは典型的にはニトロセルロース
でありそしてその上部に銅の薄層が付与される。樹脂お
よび金属層はレーザー−衝突領域で除去され、それによ
り印刷版を製造する。しかしながら、このシステムの欠
点は最初に銅を(例えばアルゴン−イオンレーザーによ
り)そして次に樹脂を(例えば二酸化炭素レーザーで)
除去するために2つのタイプのレーザービーム照射が必
要であることであり、その結果、必要な装置は高価にな
る。
【0013】次いで、第二のレーザー露出の必要性を排
除した印刷版の製造方法が日本特許出願公開番号52−
37104(1977)に開示された。そこでは、支持
体、典型的にはアルミニウム、アノード酸化アルミニウ
ム層、および黄銅、銀、グラファイトまたは、好ましく
は、銅の層を含んでなる印刷版前駆体が高エネルギー密
度のレーザービームに露出されて露出された領域を親水
性にして印刷版を生ずる。しかしながら、印刷版前駆体
はむしろ低い感度でありそして露出用に高エネルギーレ
ーザーの使用を必要とする。
除した印刷版の製造方法が日本特許出願公開番号52−
37104(1977)に開示された。そこでは、支持
体、典型的にはアルミニウム、アノード酸化アルミニウ
ム層、および黄銅、銀、グラファイトまたは、好ましく
は、銅の層を含んでなる印刷版前駆体が高エネルギー密
度のレーザービームに露出されて露出された領域を親水
性にして印刷版を生ずる。しかしながら、印刷版前駆体
はむしろ低い感度でありそして露出用に高エネルギーレ
ーザーの使用を必要とする。
【0014】平版印刷版を製造するための別のヒートモ
ード記録材料がヨーロッパ特許第609941号に開示
されており、それは親水性表面を有するかまたは親水性
層が付与されている支持体を含んでなり、その上に金属
層がコーテイングされ、その上部に50nmより薄い厚
さを有する疎水性層がある。平版印刷版は該材料から化
学線への像通りの露出により製造することができ、それ
により露出された領域が親水性となり且つグリース状イ
ンキに対して反撥性となる。
ード記録材料がヨーロッパ特許第609941号に開示
されており、それは親水性表面を有するかまたは親水性
層が付与されている支持体を含んでなり、その上に金属
層がコーテイングされ、その上部に50nmより薄い厚
さを有する疎水性層がある。平版印刷版は該材料から化
学線への像通りの露出により製造することができ、それ
により露出された領域が親水性となり且つグリース状イ
ンキに対して反撥性となる。
【0015】逆に、ヨーロッパ特許第628409号
は、支持体および金属層を含んでなり、その上部に50
nmより薄い厚さを有する親水性層が付与されている平
版印刷版を製造するためのヒートモード記録材料を開示
している。平版印刷版は材料を化学放射線に像通りに露
出することにより製造され露出された領域が疎水性とな
り且つグリース状インキに対して反撥性となる。
は、支持体および金属層を含んでなり、その上部に50
nmより薄い厚さを有する親水性層が付与されている平
版印刷版を製造するためのヒートモード記録材料を開示
している。平版印刷版は材料を化学放射線に像通りに露
出することにより製造され露出された領域が疎水性とな
り且つグリース状インキに対して反撥性となる。
【0016】しかしながら、二つの前記のヒートモード
記録材料の各々においては、印刷中に難点に遭遇するで
あろう。化学放射線への材料露出で、像領域では金属層
との相互作用によりエネルギーが熱に転化され、それに
よりこれらの領域中の最上層の−使用する材料によって
−親水性または疎水性を失わせる。その結果、金属層の
表面が露呈するようになり、そして印刷操作の成功は、
場合次第で、金属表面と親水性または疎水性層との間の
親水性および親油性における差に依存する。金属層はあ
る場合には疎水性表面としてそして別の場合には親水性
表面として機能するため、親水性および親油性における
そのような差は満足のいく印刷版を与えるのに充分なほ
ど明確には規定されないことが予測されるであろう。さ
らに、親水性層が存在しそして金属表面が版の親油性領
域として機能する時には、像領域は金属表面から必ず印
刷されるであろうし、そのような配置は不満足であり且
つ許容可能な印刷品質を得る際の難点を生ずることが知
られている。
記録材料の各々においては、印刷中に難点に遭遇するで
あろう。化学放射線への材料露出で、像領域では金属層
との相互作用によりエネルギーが熱に転化され、それに
よりこれらの領域中の最上層の−使用する材料によって
−親水性または疎水性を失わせる。その結果、金属層の
表面が露呈するようになり、そして印刷操作の成功は、
場合次第で、金属表面と親水性または疎水性層との間の
親水性および親油性における差に依存する。金属層はあ
る場合には疎水性表面としてそして別の場合には親水性
表面として機能するため、親水性および親油性における
そのような差は満足のいく印刷版を与えるのに充分なほ
ど明確には規定されないことが予測されるであろう。さ
らに、親水性層が存在しそして金属表面が版の親油性領
域として機能する時には、像領域は金属表面から必ず印
刷されるであろうし、そのような配置は不満足であり且
つ許容可能な印刷品質を得る際の難点を生ずることが知
られている。
【0017】次いで、金属銀を含んでなる感放射性層を
研磨されそしてアノード処理されたアルミニウム基質に
適用する像形成システムが提案され、生ずる平版印刷版
は放射線衝突領域で銀層の融除をもたらす熱放射線への
露出により像形成される。PCT特許出願WO98/5
5307−WO98/55311およびWO98/55
330−WO98/55332に記載されている、生ず
るシステムは、高い像品質、良好な印刷器機械性質およ
び高い印刷機械上の耐性を示し高価な中間フィルムおよ
び現像剤化学物質の使用の必要性並びにこれらの材料の
使用から生ずる付随する不便さのない印刷機械ですぐ使
用できる版を提供する。しかしながら、これらの版はそ
れらの製造において高価な銀中間体を使用しそして、そ
の結果として、使用するのに費用がかかる。実際には、
先行技術のシステムの全てにおいて、像形成システムを
与えるためには製造される基質に高価な感放射性層を適
用することが必要である。
研磨されそしてアノード処理されたアルミニウム基質に
適用する像形成システムが提案され、生ずる平版印刷版
は放射線衝突領域で銀層の融除をもたらす熱放射線への
露出により像形成される。PCT特許出願WO98/5
5307−WO98/55311およびWO98/55
330−WO98/55332に記載されている、生ず
るシステムは、高い像品質、良好な印刷器機械性質およ
び高い印刷機械上の耐性を示し高価な中間フィルムおよ
び現像剤化学物質の使用の必要性並びにこれらの材料の
使用から生ずる付随する不便さのない印刷機械ですぐ使
用できる版を提供する。しかしながら、これらの版はそ
れらの製造において高価な銀中間体を使用しそして、そ
の結果として、使用するのに費用がかかる。実際には、
先行技術のシステムの全てにおいて、像形成システムを
与えるためには製造される基質に高価な感放射性層を適
用することが必要である。
【0018】従って、本発明の目的は、高価な感放射線
像形成層の使用の必要性を取り除く像形成システムを提
供することである。
像形成層の使用の必要性を取り除く像形成システムを提
供することである。
【0019】本発明の別の目的は、優れた印刷性質を有
する平版印刷版および露出後の処理現像剤の使用の必要
性を取り除く該版の製造方法を提供することである。
する平版印刷版および露出後の処理現像剤の使用の必要
性を取り除く該版の製造方法を提供することである。
【0020】本発明のさらに別の目的は、高価な中間フ
ィルムの使用を必要とせず且つダイレクト−ツー−プレ
ート(direct-to-plate)露出技術による平版印刷版の製
造方法を提供することである。
ィルムの使用を必要とせず且つダイレクト−ツー−プレ
ート(direct-to-plate)露出技術による平版印刷版の製
造方法を提供することである。
【0021】本発明の目的はまた、親水性支持体からの
層の融除で高品質な像を生じ、親水性および親油性領域
の間で高度の差を与えるような平版印刷版の製造方法を
提供することである。
層の融除で高品質な像を生じ、親水性および親油性領域
の間で高度の差を与えるような平版印刷版の製造方法を
提供することである。
【0022】本発明の第一の面によれば、電気化学的に
研磨されたアルミニウム基質を含んでなる平版印刷版前
駆体であって、その基質の研磨された表面が金属アルミ
ニウムおよび金属間アルミニウム合金を導入するゲル様
非晶質コロイド状のアルミニウムの酸化物および水酸化
物並びにそれらの水和物の層でコーテイングされ、該層
が電気化学的研磨工程中に製造される平版印刷版前駆が
提供される。
研磨されたアルミニウム基質を含んでなる平版印刷版前
駆体であって、その基質の研磨された表面が金属アルミ
ニウムおよび金属間アルミニウム合金を導入するゲル様
非晶質コロイド状のアルミニウムの酸化物および水酸化
物並びにそれらの水和物の層でコーテイングされ、該層
が電気化学的研磨工程中に製造される平版印刷版前駆が
提供される。
【0023】金属アルミニウムおよび金属間アルミニウ
ム合金を導入するゲル様非晶質コロイド状のアルミニウ
ムの酸化物および水酸化物並びにそれらの水和物の該層
は、一般的には「スマット」層(“smut" layer)と称
され、そして該金属アルミニウム合金はアルミニウムと
平版等級アルミニウム中に一般的に存在する他の金属と
の合金を含んでなる。該金属は主として、0.5〜1.0
%の間の量で存在しうるマンガンおよび鉄を、それより
少ない量の例えばマグネシウム、銅、亜鉛およびチタン
の如き他の金属と一緒に含む。いずれの場合にも、非晶
質コロイド状のアルミニウムの酸化物および水酸化物並
びにそれらの水和物の層の中に存在する金属アルミニウ
ムおよび金属間アルミニウム合金の合計水準はめったに
5%を越えることはなくそして、一般的には、これらの
物質は1%より低い水準で存在するであろう。
ム合金を導入するゲル様非晶質コロイド状のアルミニウ
ムの酸化物および水酸化物並びにそれらの水和物の該層
は、一般的には「スマット」層(“smut" layer)と称
され、そして該金属アルミニウム合金はアルミニウムと
平版等級アルミニウム中に一般的に存在する他の金属と
の合金を含んでなる。該金属は主として、0.5〜1.0
%の間の量で存在しうるマンガンおよび鉄を、それより
少ない量の例えばマグネシウム、銅、亜鉛およびチタン
の如き他の金属と一緒に含む。いずれの場合にも、非晶
質コロイド状のアルミニウムの酸化物および水酸化物並
びにそれらの水和物の層の中に存在する金属アルミニウ
ムおよび金属間アルミニウム合金の合計水準はめったに
5%を越えることはなくそして、一般的には、これらの
物質は1%より低い水準で存在するであろう。
【0024】化学的な研磨工程は好ましくは電気化学的
研磨工程であり、それはアルミニウム基質を少なくとも
鉱酸を含有する浴中に電流の影響下で通すことにより行
われる。
研磨工程であり、それはアルミニウム基質を少なくとも
鉱酸を含有する浴中に電流の影響下で通すことにより行
われる。
【0025】好ましくは、該鉱酸は塩酸または硝酸であ
り、それはアルミニウム表面に単独でまたは他の酸、好
ましくは有機酸、例えば酢酸と組み合わせて適用され
る。該有機酸は有利には0〜80%、好ましくは0〜1
0%、最も好ましくは0〜5%の水準で存在する。2:
1〜1:4、好ましくは1:2の比の塩酸および酢酸の
混合物を用いると特に有効な結果が得られる。場合によ
り、該鉱酸は0〜80%、好ましくは0〜20%の水準
の量の塩を含有してもよく、該塩の適当な例は塩化アル
ミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、塩化
アンモニウムおよびヘキサフルオロジルコニウム酸カリ
ウムを包含する。
り、それはアルミニウム表面に単独でまたは他の酸、好
ましくは有機酸、例えば酢酸と組み合わせて適用され
る。該有機酸は有利には0〜80%、好ましくは0〜1
0%、最も好ましくは0〜5%の水準で存在する。2:
1〜1:4、好ましくは1:2の比の塩酸および酢酸の
混合物を用いると特に有効な結果が得られる。場合によ
り、該鉱酸は0〜80%、好ましくは0〜20%の水準
の量の塩を含有してもよく、該塩の適当な例は塩化アル
ミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、塩化
アンモニウムおよびヘキサフルオロジルコニウム酸カリ
ウムを包含する。
【0026】電流は直流であってもまたは交流であって
もよいが、最も好ましくは500〜5000A/m2、
最も特に2000〜3000A/m2の電流密度を有す
る交流である。電流はAC、サインまたは1〜6相を有
する方形波形で、正または負のバイアスをかけて、±1
0Vで適用することができる。電荷密度は1〜1000
C/dm2、好ましくは200〜1000C/dm2であ
る。研磨工程は0〜100℃、好ましくは20〜50℃
の温度において、2秒間〜3分間、好ましくは2秒間〜
20秒間の滞留時間にわたり行われる。
もよいが、最も好ましくは500〜5000A/m2、
最も特に2000〜3000A/m2の電流密度を有す
る交流である。電流はAC、サインまたは1〜6相を有
する方形波形で、正または負のバイアスをかけて、±1
0Vで適用することができる。電荷密度は1〜1000
C/dm2、好ましくは200〜1000C/dm2であ
る。研磨工程は0〜100℃、好ましくは20〜50℃
の温度において、2秒間〜3分間、好ましくは2秒間〜
20秒間の滞留時間にわたり行われる。
【0027】スマットの層は好ましくは0.1〜20g
/m2の量で存在し、0.1〜4.0μmの層厚さを与え
る。該層中の粒子寸法は典型的には直径で10〜200
0nm、好ましくは50〜500nmの範囲である。
/m2の量で存在し、0.1〜4.0μmの層厚さを与え
る。該層中の粒子寸法は典型的には直径で10〜200
0nm、好ましくは50〜500nmの範囲である。
【0028】本発明で使用される基質はその平版性質を
強化するために少なくとも1つの表面上で化学的に研磨
されているアルミニウム基質である。しかしながら、場
合により、アルミニウムに伴う良好な寸法安定性を保有
しながらその柔軟性を強化するために、アルミニウムを
他の材料、例えば紙または種々のプラスチック材料に積
層することができる。
強化するために少なくとも1つの表面上で化学的に研磨
されているアルミニウム基質である。しかしながら、場
合により、アルミニウムに伴う良好な寸法安定性を保有
しながらその柔軟性を強化するために、アルミニウムを
他の材料、例えば紙または種々のプラスチック材料に積
層することができる。
【0029】好ましくは、本発明の第一の面に従う版前
駆体はアノード層をさらに包含し、該層はアルミニウム
の酸化物を含んでなりそして電気化学的アノード処理方
法により製造される。該方法は、好ましくは少なくとも
鉱酸を含んでなる酸浴中での、電流の存在下における、
スマット層を包含する研磨された基質の処理を包含す
る。典型的には鉱酸は硫酸もしくは燐酸、または好まし
くは1:10〜1:1の比の、最も好ましくは約1:7
の比の2種の酸類の混合物を含んでなる。この方法は適
切には、例えば、8〜15%の合計酸濃度を用いて、2
秒間〜2分間の滞留時間で、10°〜50℃の温度を有
する浴の中で実施できるであろう。この方法に適する電
流密度は1000A/m2の範囲内であろう。
駆体はアノード層をさらに包含し、該層はアルミニウム
の酸化物を含んでなりそして電気化学的アノード処理方
法により製造される。該方法は、好ましくは少なくとも
鉱酸を含んでなる酸浴中での、電流の存在下における、
スマット層を包含する研磨された基質の処理を包含す
る。典型的には鉱酸は硫酸もしくは燐酸、または好まし
くは1:10〜1:1の比の、最も好ましくは約1:7
の比の2種の酸類の混合物を含んでなる。この方法は適
切には、例えば、8〜15%の合計酸濃度を用いて、2
秒間〜2分間の滞留時間で、10°〜50℃の温度を有
する浴の中で実施できるであろう。この方法に適する電
流密度は1000A/m2の範囲内であろう。
【0030】親油性および親水性に関する高度の差を像
および非−像領域の間で得なければならないためには、
スマットの層全体を基質から融除しなければならないこ
とが必要であり、そして平版印刷版が親油性材料、例え
ば結合剤樹脂、有機化合物−例えばオクチルメルカプト
テトラゾール−または金属、例えば銀もしくは銅を含ん
でなる頂部層を含むべきことが好ましい。好ましくは、
該親油性材料は重合体状材料、例えばポリウレタン、ナ
イロン、(メタ)アクリレート、スチレン、アクリロニ
トリルもしくはノボラック樹脂または共重合体を含んで
なるが、最も好ましくはポリ(ビニルアセタール)樹
脂、例えばポリ(ビニルブチラール)中の残存ヒドロキ
シ基の一部を、酸無水物、例えば無水トリメリト酸、無
水マレイン酸または、好ましくは、無水フタル酸と反応
させることにより得られるカルボキシル化された重合体
である。
および非−像領域の間で得なければならないためには、
スマットの層全体を基質から融除しなければならないこ
とが必要であり、そして平版印刷版が親油性材料、例え
ば結合剤樹脂、有機化合物−例えばオクチルメルカプト
テトラゾール−または金属、例えば銀もしくは銅を含ん
でなる頂部層を含むべきことが好ましい。好ましくは、
該親油性材料は重合体状材料、例えばポリウレタン、ナ
イロン、(メタ)アクリレート、スチレン、アクリロニ
トリルもしくはノボラック樹脂または共重合体を含んで
なるが、最も好ましくはポリ(ビニルアセタール)樹
脂、例えばポリ(ビニルブチラール)中の残存ヒドロキ
シ基の一部を、酸無水物、例えば無水トリメリト酸、無
水マレイン酸または、好ましくは、無水フタル酸と反応
させることにより得られるカルボキシル化された重合体
である。
【0031】代替法として、スマット層より大きい親水
度を有する材料を含んでなる頂部層を含むことが可能で
あり、これが材料の露出後に異なるインキ受容性の領域
を与え、それより低い層の部分的な融除が生ずる。二酸
化チタン、二酸化珪素およびポリ(ビニルアルコール)
を含んでなる親水性層を用いると特に好ましい結果が得
られ、そしてその効果はその疎水度を高めうる試薬を用
いるアノード処理された基質の処理によりさらに高める
ことができ、これに関する適切な結果は例えばヘキサフ
ルオロジルコニウム酸カリウムの如き錯塩の使用により
得られる。
度を有する材料を含んでなる頂部層を含むことが可能で
あり、これが材料の露出後に異なるインキ受容性の領域
を与え、それより低い層の部分的な融除が生ずる。二酸
化チタン、二酸化珪素およびポリ(ビニルアルコール)
を含んでなる親水性層を用いると特に好ましい結果が得
られ、そしてその効果はその疎水度を高めうる試薬を用
いるアノード処理された基質の処理によりさらに高める
ことができ、これに関する適切な結果は例えばヘキサフ
ルオロジルコニウム酸カリウムの如き錯塩の使用により
得られる。
【0032】さらに別の代替法として、疎油性材料、典
型的には疎油性の重合体状樹脂、好ましくはポリシロキ
サンを含んでなる頂部層を適用することによりいわゆる
ドリオグラフィー版が得られる。そのようなドリオグラ
フィー版は、印刷を印刷機械上で湿し溶液を使用する必
要なしに行える点で有利である。
型的には疎油性の重合体状樹脂、好ましくはポリシロキ
サンを含んでなる頂部層を適用することによりいわゆる
ドリオグラフィー版が得られる。そのようなドリオグラ
フィー版は、印刷を印刷機械上で湿し溶液を使用する必
要なしに行える点で有利である。
【0033】場合により、中間層が該スマット層と該頂
部との間に存在してもよい。該中間層は、印刷版前駆体
の露出中の頂部層の材料の融除速度を高める動的放出促
進剤(dynamic release accelerator)を含んでもよく、
それにより前駆体の露出感度を高める。適する動的放出
促進剤は、例えば、銀金属の非常に薄い層を含んでなる
こともできるが、より一般的には熱分解を受ける重合体
状材料を包含し、典型的な例はアジドまたはセルロース
系重合体、ポリスルホン類、ポリカーボネート類および
メタクリレート重合体、例えばターシャリーブチルメタ
クリレート重合体であるが、最も好ましくは動的放出促
進剤はニトロセルロースを含んでなる。
部との間に存在してもよい。該中間層は、印刷版前駆体
の露出中の頂部層の材料の融除速度を高める動的放出促
進剤(dynamic release accelerator)を含んでもよく、
それにより前駆体の露出感度を高める。適する動的放出
促進剤は、例えば、銀金属の非常に薄い層を含んでなる
こともできるが、より一般的には熱分解を受ける重合体
状材料を包含し、典型的な例はアジドまたはセルロース
系重合体、ポリスルホン類、ポリカーボネート類および
メタクリレート重合体、例えばターシャリーブチルメタ
クリレート重合体であるが、最も好ましくは動的放出促
進剤はニトロセルロースを含んでなる。
【0034】本発明の第二の面は、本発明の第一の面に
従い意図されるような平版およびドリオグラフィー印刷
版前駆体の製造方法に関し、該方法はアルミニウム基質
を上記の方法で電気化学的に研磨することを含んでな
る。
従い意図されるような平版およびドリオグラフィー印刷
版前駆体の製造方法に関し、該方法はアルミニウム基質
を上記の方法で電気化学的に研磨することを含んでな
る。
【0035】さらに、本発明の第三の面によれば、平版
印刷版の製造方法が提供され、該方法は a)上記の通りの平版印刷版前駆体を準備し、 b)該前駆体を高強度レーザービームにより像通りに露
出し、 そして c)余分な材料を像形成された領域から除去する ことを含んでなる。
印刷版の製造方法が提供され、該方法は a)上記の通りの平版印刷版前駆体を準備し、 b)該前駆体を高強度レーザービームにより像通りに露
出し、 そして c)余分な材料を像形成された領域から除去する ことを含んでなる。
【0036】平版印刷版を製造するためには、前駆体は
好ましくは赤外スペクトル領域で操作されるレーザーか
らの放射線のビームにより像形成される。適する赤外レ
ーザーの例は半導体例およびYAGレーザー、例えば1
064nmでアウトプットする12 W YAGレーザー
を備えたアグファ・ガリレオ・2・プレートセッター(A
gfa Galileo 2 Platesetter)である。放射線ビームへの
露呈が放射線−衝突領域中でスマット層の融除を引き起
こす。
好ましくは赤外スペクトル領域で操作されるレーザーか
らの放射線のビームにより像形成される。適する赤外レ
ーザーの例は半導体例およびYAGレーザー、例えば1
064nmでアウトプットする12 W YAGレーザー
を備えたアグファ・ガリレオ・2・プレートセッター(A
gfa Galileo 2 Platesetter)である。放射線ビームへの
露呈が放射線−衝突領域中でスマット層の融除を引き起
こす。
【0037】前駆体が親油性材料を含んでなる頂部層を
包含する場合には、該層は一般的には版から露出時に、
スマット層の大部分と一緒に、融除されることが見いだ
された。該スマット層の残りの部分はその後の乾燥もし
くは湿潤布を用いる簡単な物理的なこすりによりまたは
例えばノルマクリーン(Normakleen)TM、フォルタクリー
ン(Fortakleen)TMまたはクリーンガム(Kleengum)TMの如
き適当な版掃除溶液を用いる処理により除去することが
できる。
包含する場合には、該層は一般的には版から露出時に、
スマット層の大部分と一緒に、融除されることが見いだ
された。該スマット層の残りの部分はその後の乾燥もし
くは湿潤布を用いる簡単な物理的なこすりによりまたは
例えばノルマクリーン(Normakleen)TM、フォルタクリー
ン(Fortakleen)TMまたはクリーンガム(Kleengum)TMの如
き適当な版掃除溶液を用いる処理により除去することが
できる。
【0038】しかしながら、前駆体が疎水性頂部層を導
入するドリオグラフィー印刷版前駆体である時には、こ
の層は露出時に融除されず、物理的なこすりによっても
融除されない。従って、印刷の準備がなされた版(press
-ready plate)を与えるためには処理溶液を用いる処理
が必要である。適する処理溶液は典型的にはPP1およ
びPA1を包含する。
入するドリオグラフィー印刷版前駆体である時には、こ
の層は露出時に融除されず、物理的なこすりによっても
融除されない。従って、印刷の準備がなされた版(press
-ready plate)を与えるためには処理溶液を用いる処理
が必要である。適する処理溶液は典型的にはPP1およ
びPA1を包含する。
【0039】本発明の第二の面に従う方法により得られ
る平版印刷版は印刷機械上で使用して良好な解像度を示
し且つ背景汚染のない50,000枚を越える高品質コ
ピーを得ることができる。
る平版印刷版は印刷機械上で使用して良好な解像度を示
し且つ背景汚染のない50,000枚を越える高品質コ
ピーを得ることができる。
【0040】下記の実施例は本発明に従う平版印刷版前
駆体の製造で使用される条件を示すものであり、その範
囲を限定するものではない。
駆体の製造で使用される条件を示すものであり、その範
囲を限定するものではない。
【0041】
【実施例】酸化アルミニウムのアノード層を有するおよ
び有していない、スマット層を含む研磨されたアルミニ
ウム基質の数個の試験サンプルを表1に詳細に記載され
た試験条件に従い製造した。色および光学濃度値を各サ
ンプルの露出されたおよび露出されなかった標本に関し
て測定した。結果も表1にまとめられている。
び有していない、スマット層を含む研磨されたアルミニ
ウム基質の数個の試験サンプルを表1に詳細に記載され
た試験条件に従い製造した。色および光学濃度値を各サ
ンプルの露出されたおよび露出されなかった標本に関し
て測定した。結果も表1にまとめられている。
【0042】予測通り、特定の酸組成を有する研磨浴に
関しては、電流密度が増加するにつれてスマット層の水
準は減少することが観察された。この効果はコロイド除
去度と関連すると信じられており、それはより厳密な条
件により誘発することができる。
関しては、電流密度が増加するにつれてスマット層の水
準は減少することが観察された。この効果はコロイド除
去度と関連すると信じられており、それはより厳密な条
件により誘発することができる。
【0043】ある種の基質サンプルが印刷機械上で試験
された時には、それらが急速な巻き上げおよび掃除を包
含する優れた平版性質を、非常に良好なインキ/水均衡
および湿し度と一緒に有することが見いだされた。表1中の記号に対する略語解 CLA=中心線平均 Exp=放射線に露出された Unexp=露出されなかった Lexp=露出された版のCIR比色測定 Lunexp=露出されなかった版のCIR比色測定 CIE測定は黒色=0および白色=100である目盛り
で示される。
された時には、それらが急速な巻き上げおよび掃除を包
含する優れた平版性質を、非常に良好なインキ/水均衡
および湿し度と一緒に有することが見いだされた。表1中の記号に対する略語解 CLA=中心線平均 Exp=放射線に露出された Unexp=露出されなかった Lexp=露出された版のCIR比色測定 Lunexp=露出されなかった版のCIR比色測定 CIE測定は黒色=0および白色=100である目盛り
で示される。
【0044】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/09 501 G03F 7/09 501 7/11 7/11
Claims (10)
- 【請求項1】 電気化学的に研磨されたアルミニウム基
質を含んでなる平版印刷版前駆体であって、その基質の
研磨された表面が金属アルミニウムおよび金属間アルミ
ニウム合金を導入するゲル様非晶質コロイド状のアルミ
ニウムの酸化物および水酸化物並びにそれらの水和物の
層でコーテイングされ、該層が電気化学的研磨工程中に
製造されることを特徴とする平版印刷版前駆体。 - 【請求項2】 該金属間アルミニウム合金がアルミニウ
ムとマンガン、鉄、マグネシウム、銅、亜鉛またはチタ
ンの少なくとも1種との合金を含んでなる請求項1で定
義された平版印刷版前駆体。 - 【請求項3】 非晶質コロイド状のアルミニウムの酸化
物および水酸化物並びにそれらの水和物の層の中に存在
する金属アルミニウムおよび金属間アルミニウム合金の
水準が5%を越えない請求項1または2で定義された平
版印刷版前駆体。 - 【請求項4】 金属アルミニウムおよび金属間アルミニ
ウム合金を導入するゲル様非晶質コロイド状のアルミニ
ウムの酸化物および水酸化物並びにそれらの水和物の該
層が0.1〜20g/m2の量でそして0.1〜4.0μm
の層厚さで存在する請求項1〜3のいずれかで定義され
た平版印刷版前駆体。 - 【請求項5】 金属アルミニウムおよび金属間アルミニ
ウム合金を導入するゲル様非晶質コロイド状のアルミニ
ウムの酸化物および水酸化物並びにそれらの水和物の該
層中の粒子寸法が典型的には直径で10〜2000nm
の範囲である請求項1〜4のいずれかで定義された平版
印刷版前駆体。 - 【請求項6】 該研磨されたアルミニウム基質がアノー
ド層をさらに含んでなる請求項1〜5のいずれかで定義
された平版印刷版前駆体。 - 【請求項7】 親油性材料を含んでなる頂部層をさらに
含んでなる請求項1〜6のいずれかで定義された平版印
刷版前駆体。 - 【請求項8】 親水性材料を含んでなる頂部層をさらに
含んでなる請求項1〜6のいずれかで定義された平版印
刷版前駆体。 - 【請求項9】 (i)電気化学的に研磨されたアルミニ
ウム基質を含んでなる平版印刷版前駆体であって、その
基質の研磨された表面が金属アルミニウムおよび金属間
アルミニウム合金を導入するゲル様非晶質コロイド状の
アルミニウムの酸化物および水酸化物並びにそれらの水
和物の層でコーテイングされ、該層が電気化学的研磨工
程中に製造される平版印刷版前駆体、並びに(ii)疎油
性重合体状樹脂を含んでなる頂部層を含んでなるドリオ
グラフィー(driographic)印刷版前駆体。 - 【請求項10】 該頂部層の下に中間層をさらに含んで
なり、該中間層が動的放出促進剤(dynamic release acc
elerator)を含んでなる請求項7〜9のいずれかで定義
された印刷版前駆体。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9928896.1 | 1999-12-07 | ||
GBGB9928896.1A GB9928896D0 (en) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | Heat sensitive printing plate precursors |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001225568A true JP2001225568A (ja) | 2001-08-21 |
Family
ID=10865854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000369788A Pending JP2001225568A (ja) | 1999-12-07 | 2000-12-05 | 感熱性印刷版前駆体 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6487969B2 (ja) |
EP (1) | EP1106382B1 (ja) |
JP (1) | JP2001225568A (ja) |
DE (1) | DE60012459T2 (ja) |
GB (1) | GB9928896D0 (ja) |
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---|---|---|---|---|
GB0117683D0 (en) * | 2001-07-20 | 2001-09-12 | Alcan Int Ltd | Aluminium alloy sheet with roughened surface |
US7270058B2 (en) | 2003-09-17 | 2007-09-18 | Fujifilm Corporation | Photosensitive planographic printing plate and method of producing the same |
US20080003411A1 (en) * | 2006-06-29 | 2008-01-03 | Joseph Hunter | Aluminum lithographic substrate and method of making |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR7506524A (pt) * | 1974-10-10 | 1976-08-17 | Hoechst Ag | Processo para a producao de impressao plana com raios laser |
JPS5319205A (en) * | 1976-08-04 | 1978-02-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Ps plate for lithographic printing |
JPH07119151B2 (ja) * | 1987-12-07 | 1995-12-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体 |
EP0471351B1 (en) * | 1990-08-16 | 1995-01-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing substrate for lithographic printing plates, substrate for lithographic printing plates prepared by the method and presensitized plate comprising the substrate |
GB9326150D0 (en) * | 1993-12-22 | 1994-02-23 | Alcan Int Ltd | Electrochemical roughening method |
JPH07199454A (ja) * | 1994-01-10 | 1995-08-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
US5728503A (en) * | 1995-12-04 | 1998-03-17 | Bayer Corporation | Lithographic printing plates having specific grained and anodized aluminum substrate |
-
1999
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