JP2001221279A - 能動制振装置 - Google Patents

能動制振装置

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JP2001221279A JP2000032046A JP2000032046A JP2001221279A JP 2001221279 A JP2001221279 A JP 2001221279A JP 2000032046 A JP2000032046 A JP 2000032046A JP 2000032046 A JP2000032046 A JP 2000032046A JP 2001221279 A JP2001221279 A JP 2001221279A
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vibration damping
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Michio Yanagisawa
通雄 柳澤
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型かつ広帯域に微振動の制振が可能であ
り、鉛直方向の制振においても発熱の少ない能動制振装
置を提供する。 【解決手段】 振動を検出する振動検出手段112を固
定部および/または可動部に有し、前記可動部を駆動す
る手段であるリニアモータ100は永久磁石磁気回路1
11とコイル110を有し、前記永久磁石磁気回路11
1または前記コイル110のいずれか一方を前記固定部
とし、他方を前記可動部とし、前記可動部を前記固定部
に対して空圧により支持する空圧支持手段101を有
し、前記振動検出手段112の出力をリニアモータ10
0の駆動信号源とし、前記リニアモータ100を制御す
るために該駆動信号源からの信号を制御する制御手段1
13,114,115を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種機械装置およ
び構造体等の構造部材の振動を抑制するための能動制振
装置に関する。特に、加速度計等の振動検出手段、リニ
アモータ、空圧支持機構等の空圧支持手段、そして電空
アクチュエータ等を用いて、構造部材の振動を低減する
能動制振装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、制振装置としては機械的なものと
して、バネと可動質量を用いた構成、ダンパと可動質量
を用いた構成、バネとダンパおよび可動質量を用いた構
成等が知られていた。
【0003】いずれも構造部材の振動を制振するための
ものである。これら機械的な制振装置のバネやダンパを
各種アクチュエータによって実現するのが能動制振装置
であり、動吸振器またはアクティブマスダンパ等と呼ば
れることもある。たとえば、高層ビルの上部に設置され
た大型の能動制振装置では、回転モータと送りネジを用
いたアクチュエータ等で比較的低周波の振動制振を実現
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前述のような従来の機
械的な制振装置は、バネおよびダンパの特性を振動に適
するように微妙な機構調整を必要とする場合が多く、し
かもメカニカルなダンパは経時特性変化が大きく、定期
的なメンテナンスを必要とした。また、能動制振装置で
鉛直方向の振動を制振する場合には、可動部の自重支持
を必要とし、比較的高い周波数の制振を実現するために
リニアモータ等の高速アクチュエータを用いた場合は、
自重を支持するための電流が常時流れ、発熱が多くな
り、発熱量から可動部質量が制限されてしまうことがあ
った。
【0005】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、振動検出手段、リニアモータ、空圧支
持手段、そして制御手段等によって、小型かつ広帯域に
微振動の制振が可能であり、鉛直方向の制振においても
発熱の少ない能動制振装置を低価格で実現することを課
題とする。なお、本発明の能動制振装置は、精密機械の
各種振動問題を解決するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の能動制振装置は、固定部と可動部を備え、
前記可動部の駆動反力によって構造部材の振動を抑制す
る能動制振装置において、駆動手段であるリニアモータ
は永久磁石磁気回路とコイルを有し、前記永久磁石磁気
回路または前記コイルのいずれか一方を前記固定部と
し、他方を前記可動部とし、振動を検出する振動検出手
段を前記固定部および/または前記可動部に有し、前記
可動部を前記固定部に対して空圧により支持する空圧支
持手段を有し、前記振動検出手段の出力を前記リニアモ
ータの駆動信号源とし、前記リニアモータを制御するた
めに該駆動信号源からの信号を制御する制御手段を有す
ることを特徴とする。
【0007】本発明においては、前記可動部と前記固定
部の相対位置を検出する相対位置検出手段を有し、前記
相対位置検出手段の出力を前記空圧支持手段の駆動信号
源とし、該駆動信号源からの信号を制御する空圧制御手
段を有することができる。
【0008】また、前記空圧支持手段は前記固定部に対
する前記可動部の支持剛性を得るために前記可動部の駆
動方向の片側または両側から前記可動部を支持すること
が好ましい。また、前記空圧支持手段は電空アクチュエ
ータによって支持圧が制御されるものであることが好ま
しい。また、前記能動制振装置を備えたことを特徴とす
る露光装置であることが好ましい。さらに、前記露光装
置を用いてデバイスを製造することが好ましい。
【0009】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。 [実施例1]図1は、本実施例の能動制振装置の要部概
略図である。リニアモータ100は、コイル110と永
久磁石磁気回路111等から構成される。このリニアモ
ータ100は、永久磁石磁気回路111が可動部となっ
ており、エアシリンダ101によって自重が支持されて
いる。振動検出手段である固定部加速度計112からの
信号は、制御手段をそれぞれ構成する増幅回路113、
積分回路114、リニアモータドライバ115と順に処
理されリニアモータ100を制御する。
【0010】制振用アクチュエータとしてリニアモータ
100を用いているため、加速度信号を積分処理して可
動部の速度信号とし、速度比例のダンピングとしてい
る。このような構成により制振を要する機械や構造等の
構造部材に固定部を堅固に一体化させ、可動部の駆動反
力を利用して制振が実現される。そして、増幅回路11
3のゲインK1を調整して最良の効果を得る。
【0011】なお、積分回路114はオフセットドリフ
トの影響を考慮して、通常はカットオフ周波数の充分低
い一次ローパスフィルタを用いることが一般的であり、
以下の説明の積分回路も同様である。
【0012】図1において、空圧支持手段は、エアシリ
ンダ101等で、固定部に対して可動部である永久磁石
磁気回路111を支持している。必要に応じてタンク1
02とエア絞り103を設けると空気バネ特性を調整で
きる。電空アクチュエータには電磁弁を用いており、1
04は吸気用電磁弁、105は排気用電磁弁である。相
対位置検出手段である位置検出器106によって可動部
である永久磁石磁気回路111の位置を検出し、目標位
置よりも高すぎるときは排気用電磁弁105を駆動す
る。また、低すぎるときは吸気用電磁弁104を駆動す
る。これらの駆動制御を空圧制御手段である電磁弁制御
回路107で実現している。
【0013】通常、本実施例のような、いわゆるON/
OFF制御の位置決めの場合は、目標位置近傍に適切な
制御不感帯を設けた制御回路とすることで、電磁弁の頻
繁なON/OFFを避ける。本実施例の場合は、制振を
必要とする装置に本能動制振装置を搭載し、制振動作時
の可動ストロークにあわせ適切に不感帯を設ける。エア
絞り108および109は、電磁弁104および105
駆動時の空気の急激な流れによる振動発生を避けるため
に使用しており、不要な場合もある。
【0014】本実施例では、電磁弁104および105
のON/OFFによって可動部の位置決めを実現してい
る。そのため、電磁弁104および105の駆動時に可
動部は制振効果に対応できない位置補正動作をする可能
性がある。そこで、電磁弁制御回路107は電磁弁10
4および105の駆動禁止入力端子116を備えてい
る。電磁弁駆動禁止時は、 電磁弁制御回路107に信号
を入力することにより、可動部の位置が目標位置(不感
帯)から離れていても電磁弁104および105を駆動
しない。たとえば、半導体露光装置に本能動制振装置を
適用する場合は、露光時や各種マーク計測時等、制振を
必要とする時には電磁弁104および105を駆動禁止
して適正な制振動作を確保する。レチクルやウエハの交
換時等、制振を必要としない時には電磁弁駆動禁止を解
除して可動部の位置補正動作を可能にする。
【0015】123は吸気エア配管でエア供給源から適
切な圧力の供給を受け、124が排気エア配管で排気路
へ接続する。117〜122はエア配管である。なお、
可動部(永久磁石磁気回路111)の可動方向以外への
拘束がエアシリンダ101では不充分な場合は、一般的
なころがり直動案内機構等(不図示)を用いれば良い。
【0016】[実施例2]次に、第2の実施例を説明す
る。図2は、本実施例の能動制振装置の要部概略図であ
る。図2において、図1と同一の符号は図1と同一の要
素を示す。本実施例において、可動部の位置制御系の特
性を広範囲に調整するために、電空アクチュエータとし
て連続制御型のサーボバルブ201を用いている。永久
磁石磁気回路111には、可動部加速度計202を設
け、増幅回路203で増幅後、加算回路204を介し
て、サーボバルブドライバ205の駆動信号とする。加
算回路204には、位置検出器106からの信号を、増
幅回路206で増幅した信号が加算されている。
【0017】この構成は、位置サーボ系のダンピングを
増幅回路203のゲインK2で調整可能であるため、た
とえば、制振を必要とする振動よりも低い周波数の振動
が外乱として加わる場合に有効である。すなわち、増幅
回路206のゲインK3の調整で位置サーボ系の帯域を
外乱振動の周波数よりも若干低めに設定し、この位置サ
ーボ系が充分安定するように増幅回路203のゲインK
2を調整することで、外乱に対する可動部の反応を抑え
ることができる。
【0018】このような設定で、固定部加速度計112
の信号を増幅回路113と積分回路114で処理後リニ
アモータドライバ115に加えることで、固定部と堅固
に一体化している構造部材の制振が可能となる。このよ
うに本実施例は、可動部と固定部の両方に振動検出手段
を設ける例である。なお、前記実施例1と同様に、エア
シリンダ101に絞りとタンク(共に不図示)を付加す
ることが有効な場合がある。
【0019】[実施例3]さらに、第3の実施例につい
て説明する。図3は、本実施例の能動制振装置の要部概
略図である。本実施例では、振動検出手段は可動部に設
けた可動部加速度計202のみとしている。
【0020】ここで、図5は本実施例の能動制振装置を
構造部材に対して適用した場合を示す。図5に示すよう
な比較的単純な構造部材501において、位置またはそ
の位置の振動a1の示す矢印方向の振動を制振する場
合、図5に示す能動制振装置300(図3全体) を、そ
の可動部の可動方向をa1の矢印方向にあわせて固定す
る。
【0021】図3において、可動部加速度計202から
の信号は増幅回路203と積分回路301と加算回路3
02とで処理後、リニアモータドライバ115へ加えら
れる。位置検出器106からの信号は増幅回路206と
ハイパスフィルタ303で処理後、加算回路302に入
力される。このように可動部111のサーボ系が構成さ
れ、増幅回路206のゲインK3でサーボ系の共振周波
数をa1(図5)の振動にあわせる。そして、ダンピン
グを増幅回路203のゲインK2で適切に調整すること
で効果的な制振が可能となる。位置検出器106からの
信号が増幅回路206とローパスフィルタ304で処理
後サーボバルブドライバ205にフィードバックされる
ことで、可動部111の自重支持(位置決め)が実現さ
れる。
【0022】サーボバルブドライバ205の前段に可変
ゲインアンプ(不図示)を挿入するとさらに調整範囲が
広がり、有効な場合がある。可動部加速度計202の信
号をサーボバルブ201にも併せてフィードバックする
(不図示)構成が有効な場合もある。本実施例は、固定
部に振動検出手段を使用しない例である。制振を必要と
する振動の周波数が安定している場合に有効である。
【0023】[実施例4]さらに、第4の実施例とし
て、水平方向の制振にも実施例の構成が有効な例を示
す。図4は、本実施例の能動制振装置の要部概略図であ
る。図4において、401と402はエアシリンダで、
可動部であるリニアモータの永久磁石磁気回路403を
両側から支持している。エアレギュレータ408によっ
てエア圧を調整し、所要の可動部支持剛性を実現する。
404と405のエア絞りでエア流路を絞ることで、2
個のエアシリンダ401,402のバネ特性を確保す
る。一般に、電気アクチュエータを用いた位置サーボ系
で可動部の支持剛性を上げるためには、電気アクチュエ
ータの位置フィードバックゲインを上げる必要がある。
しかし、可動部質量が大きい場合等は、位置フィードバ
ックゲインを上げてゆくと不安定(発振状態)になりや
すく、所要の可動部支持剛性を得られない場合もある。
【0024】本実施例では、このような問題がなく、可
動部403の位置決めに高精度を要求しない場合に有効
である。通常、能動制振装置の可動部の位置精度が問題
になることは少なく、本実施例は広範囲に適用できる。
本実施例において、振動検出手段として固定部加速度計
406のみを用いれば前記実施例1と同様の能動制振装
置となる。また、可動部加速度計407も併せて用いれ
ば前記実施例2に近くなる。さらに、可動部加速度計4
07のみを用いれば前記実施例3に近い。
【0025】また、エアレギュレータ408を差圧制御
バルブに置き換えて、前記実施例1〜3のように位置検
出器106(図1〜3)を用いる構成(不図示)も考え
られる。なお、実施例1〜3においても実施例4と同様
に、可動部111(図1〜3)の上下に2つの空圧支持
機構を設け、可動部質量分の圧力差を与えて支持する構
成(不図示)も実施例4と同様に有効な場合がある。
【0026】以上の実施例1〜4の説明において、通常
エア配管系に用いるゴミ除去フィルタや監視用の圧力ゲ
ージ等は省略しているが、当然それらの使用を否定する
ものではない。また、リニアモータのコイル110(図
1〜4)を固定部とする例のみを示した理由は、コイル
110を固定部とすると可動部への給電線の接続が不要
等、有利な場合が多いからである。しかし、可動部質量
や構造上の都合によりコイル110を可動部とする場合
も充分な効果が期待できることは明らかで、詳細な説明
は省略する。
【0027】上記した実施例1〜4において、位置検出
器106(図1〜3)には詳しく言及していないが、静
電容量センサ、渦電流センサ、差動トランス、レーザ変
位計、または光学/磁気エンコーダ等が使用可能と考え
られる。位置検出器106は、特定の形式に限定するも
のではない。また、振動検出器に関しても詳しく言及し
てないが、抵抗変化型、容量変化型、圧電型、サーボ型
または電磁発電型等の加速度計が使用可能であり、速度
計を用いて積分回路を省略する構成も考えられる。速度
計を用いる場合は発電型が好適であろう。
【0028】[デバイス生産方法の実施例]次に、上記
説明した能動制振装置を備えた露光装置を用いたデバイ
スの生産方法の実施例を説明する。図6は、微小デバイ
ス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CC
D、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造の流れ
を示す。ステップ1(回路設計)ではデバイスのパター
ン設計を行う。ステップ2(マスク製作)では設計した
パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ
3(ウエハ製造)ではシリコンやガラス等の材料を用い
てウエハを製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は
前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用い
て、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を
形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と呼ば
れ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導
体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシ
ング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封
入)等の工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ
5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久
性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デ
バイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
【0029】図7は、上記ウエハプロセスの詳細な流れ
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では上記説明した能動制振装置を備え
た露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼
付露光する。ステップ17(現像)では露光したウエハ
を現像する。ステップ18(エッチング)では現像した
レジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジ
スト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジス
トを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことに
よって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【0030】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
【0031】
【発明の効果】本発明の効果は以下の通りである。 (1)リニアモータ、空圧支持手段および制御手段によ
り、水平方向だけでなく、鉛直方向の振動に対しても、
広範囲な振動(周波数、振幅)の制振を、低発熱で実現
できる小型の制振手段を得る。 (2)固定部もしくは可動部またはこれらの両方に備え
られる振動検出手段、リニアモータ、空圧支持手段およ
び制御手段により、半導体露光装置等精密機械の制振用
に適した能動制振装置が提供でき、機械全体の設計に大
幅な変更を必要としない振動対策が可能となる。 (3)広範囲な振動(周波数、振幅)の制振が、複雑な
機構調整なしに、増幅回路のゲインを調整することで容
易に実現可能となる。 (4)メカニカルダンパを使用せず、長期間にわたって
メンテナンスの不要な制振装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例に係る実施例1の能動制振
装置の要部概略図である。
【図2】 本発明の一実施例に係る実施例2の能動制振
装置の要部概略図である。
【図3】 本発明の一実施例に係る実施例3の能動制振
装置の要部概略図である。
【図4】 本発明の一実施例に係る実施例4の能動制振
装置の要部概略図である。
【図5】 実施例3に係る能動制振装置の適用例を示す
図である。
【図6】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図7】 図6におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。
【符号の説明】
100:リニアモータ、101:エアシリンダ、10
2:タンク、103:エア絞り、104:吸気用電磁
弁、105:排気用電磁弁、106:位置検出器、10
7:電磁弁制御回路、108,109:エア絞り、11
0: (リニアモータ100の) コイル、111: (リニ
アモータ100の) 永久磁石磁気回路、112:固定部
加速度計、113:増幅回路、114:積分回路、11
5:リニアモータドライバ、116:駆動禁止入力端
子、117〜122:エア配管、123:吸気エア配
管、124:排気エア配管、K1:増幅回路113のゲ
イン、201:サーボバルブ、202:可動部加速度
計、203:増幅回路、204:加算回路、205:サ
ーボバルブドライバ、206:増幅回路、207:エア
配管、K2:増幅回路203のゲイン、K3:増幅回路
206のゲイン、300:図3に示す実施例3の能動制
振装置、301:積分回路、302:加算回路、30
3:ハイパスフィルタ、304:ローパスフィルタ、4
01,402:エアシリンダ、403: (リニアモータ
の) 永久磁石磁気回路、404,405:エア絞り、4
06:固定部加速度計、407:可動部加速度計、40
8:エアレギュレータ、409〜411:エア配管、5
01:構造部材、a1:位置またはその位置の振動。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 固定部と可動部を備え、前記可動部の駆
    動反力によって構造部材の振動を抑制する能動制振装置
    において、 駆動手段であるリニアモータは永久磁石磁気回路とコイ
    ルを有し、前記永久磁石磁気回路または前記コイルのい
    ずれか一方を前記固定部とし、他方を前記可動部とし、 振動を検出する振動検出手段を前記固定部および/また
    は前記可動部に有し、 前記可動部を前記固定部に対して空圧により支持する空
    圧支持手段を有し、 前記振動検出手段の出力を前記リニアモータの駆動信号
    源とし、前記リニアモータを制御するために該駆動信号
    源からの信号を制御する制御手段を有することを特徴と
    する能動制振装置。
  2. 【請求項2】 前記可動部と前記固定部の相対位置を検
    出する相対位置検出手段を有し、前記相対位置検出手段
    の出力を前記空圧支持手段の駆動信号源とし、該駆動信
    号源からの信号を制御する空圧制御手段を有することを
    特徴とする請求項1に記載の能動制振装置。
  3. 【請求項3】 前記空圧支持手段は前記可動部の可動方
    向の片側または両側から前記可動部を支持することを特
    徴とする請求項1または2に記載の能動制振装置。
  4. 【請求項4】 前記空圧支持手段は電空アクチュエータ
    によって支持圧が制御されるものであることを特徴とす
    る請求項1〜3のいずれかに記載の能動制振装置。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の能動制
    振装置を備えたことを特徴とする露光装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の露光装置を用いてデバ
    イスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
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