JP2001217169A - データ変動監視方法と監視装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】自動的に管理値、検査手法，または検査間隔を
変更することができるデータ変動監視方法と監視装置を
提供する。 【解決手段】データ変動の監視を行うための管理値と検
査手法をマスタテーブル１００１に登録する監視手法設
定手段１００と、検査するデータを検査対象テーブル１
１０１から取得する検査データ取得手段３００と、マス
タテーブルから管理値と検査手法を取得する監視手法取
得手段２００と、取得した管理値と検査手法に基いて、
取得したデータの変動を検査するデータ変動監視手段４
００と、データ変動の検査結果に応じてマスタテーブル
の管理値または検査手法を変更する監視手法自動変更手
段５００を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、時刻と共に変化す
るデータの時間的変動を監視するデータ変動監視方法と
監視装置に関するものであり、特に、時刻と共に予測し
難い変動を繰り返し、しかも監視内容が頻繁に変更にな
るデータの監視に有効であり、例えば、半導体製造装置
の処理性能を示すデータ（エッチングレート、デポジシ
ョンレート、酸化レート、パーティクル数など）や、半
導体プロセス特性を示すデータ（不純物濃度、エッチン
グ深さ、デポジション膜厚など）に適応すれば格別の効
果をもたらす。

【０００２】

【従来の技術】従来のデータ変動監視方法を図１９に基
づいて説明する。図１９は従来のデータ変動監視装置の
ブロック図である。

【０００３】従来のデータ変動監視方法は監視手法設定
手段（１１００）、監視手法取得手段（１２００）、検
査データ取得手段（１３００）及びデータ変動監視手段
（１４００）によって構成され、予め登録された固定の
監視手法によってデータの変動を監視する。

【０００４】以下、従来のデータ変動監視方法を詳しく
説明する。監視手法設定手段（１１００）は、データ変
動を監視するために必要なデータの上下限値とデータの
検査手法などをＤＢＭＳ（データベースマネージメント
システム）に備わったデータ登録ツールなどを用いて、
監視する対象データ毎にマスタテーブル（１００１）に
登録する（図２参照）。

【０００５】監視手法取得手段（１２００）は、データ
の変動検査を行う際に、ＤＢＭＳに備わっているデータ
抽出ツールを用いて、マスタテーブル（１００１）から
該当する管理値と検査手法を抽出する。

【０００６】検査データ取得手段（１３００）は、デー
タの変動検査を行う際に、ＤＢＭＳに備わっているデー
タ抽出ツールを用いて、検査対象テーブル（１１０１）
から検査データを抽出する（図２参照）。

【０００７】データ変動監視手段（１４００）は、監視
手法取得手段（１２００）および検査データ取得手段
（１３００）によって抽出された管理値、検査手法およ
び検査データを用いてデータの変動検査を行う。

【０００８】以上のように構成された従来のデータ変動
監視方法においては、テーブルに登録された固定の管理
値および検査手法を用いてデータの変動を監視し、より
良い管理方法（管理値や検査手法）に変更する必要があ
る場合には、監視手法設定手段（１１００）のデータ登
録ツールから人手を介してテーブルに登録された管理方
法を変更する必要があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ように構成された従来のデータ変動監視方法では、デー
タ変動の監視結果によって、管理値や検査手法、検査間
隔などを変更する必要があるにもかかわらず、管理値や
検査手法、検査間隔を簡単に変更できず、ＬＳＩ製造に
不可欠な装置性能データ、ＬＳＩプロセス特性データな
どの変動監視が十分に行われていないという問題を有し
ていた。

【００１０】本発明はこのような現状に鑑みてなされた
ものであり、本発明は、監視対象データの監視結果に応
じて、人手を介することなく、自動的に管理値、検査手
法，または検査間隔を変更することができるデータ変動
監視方法と監視装置を提供することを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１記載のデータ変
動監視方法は、特定の検査条件に基づいて監視対象デー
タの変動を検査し、そのデータ変動の検査結果に応じて
自動的に特定の検査条件を適正な検査条件に変更するこ
とを特徴とするものである。

【００１２】請求項１記載のデータ変動監視方法によれ
ば、監視対象データの変動結果によって、特定の検査条
件例えば管理値や検査手法が不適切であるか否かを判定
し、不適切であると判定した場合には、自動的に適切な
管理値や検査手法に変更することができ、常に適切な監
視条件で、例えばＬＳＩ製造に不可欠な装置性能デー
タ、ＬＳＩプロセス特性データなどの変動監視を行うこ
とができるため、その実用的効果は大きい。

【００１３】請求項２記載のデータ変動監視方法は、半
導体製造装置の装置特性または半導体製造プロセスのプ
ロセス特性を表すデータの経時変動を監視するデータ変
動監視方法であって、装置特性またはプロセス特性に基
づき決定された管理範囲においてデータ変動を検査し、
データ変動がある一定期間において管理範囲の特定範囲
内に収まっている場合、特定範囲に応じて管理範囲を自
動的に狭めるかまたは変更するかのいずれかを行うこと
を特徴とするものである。

【００１４】請求項２記載のデータ変動監視方法によれ
ば、請求項１と同様な効果がある。

【００１５】請求項３記載のデータ変動監視方法は、半
導体製造装置の装置特性または半導体製造プロセスのプ
ロセス特性を表すデータの経時変動を監視するデータ変
動監視方法であって、装置特性またはプロセス特性に基
づき決定された管理範囲においてデータ変動を検査し、
データ変動がある一定期間において管理範囲の特定範囲
内に収まっており、かつ一定期間のデータ群が正規分布
に従う場合に、管理範囲を自動的に狭めるかまたは変更
するかのいずれかを行うことを特徴とするものである。

【００１６】請求項３記載のデータ変動監視方法によれ
ば、請求項１と同様な効果がある。

【００１７】請求項４記載のデータ変動監視方法は、半
導体製造装置の装置特性または半導体製造プロセスのプ
ロセス特性を表すデータの経時変動を監視するデータ変
動監視方法であって、今回のデータ値と前回のデータ値
との差が、前回のデータ値と前々回のデータ値との差の
既定倍数以上であるか以下であるかを検査することを特
徴とするものである。

【００１８】請求項４記載のデータ変動監視方法によれ
ば、請求項１と同様な効果がある。

【００１９】請求項５記載のデータ変動監視方法は、請
求項４において、検査の結果、既定倍数以下であれば既
定倍数を小さくすることを特徴とするものである。

【００２０】請求項５記載のデータ変動監視方法によれ
ば、請求項４と同様な効果がある。

【００２１】請求項６記載のデータ変動監視方法は、半
導体製造装置の装置特性または半導体製造プロセスのプ
ロセス特性を表すデータの経時変動を監視するデータ変
動監視方法であって、データ変動の監視を行うための、
装置特性またはプロセス特性の管理値および検査手法を
指定し、管理値と検査手法に基いてデータ変動を検査
し、データ変動がある一定期間において、管理値内また
は管理値の特定範囲内に収まっている場合には検査手法
による検査間隔を長くし、管理値内または管理値の特定
範囲内に収まっていない場合には検査間隔を短くするこ
とを特徴とするものである。

【００２２】請求項６記載のデータ変動監視方法によれ
ば、監視対象データの変動結果に基づいて、データの監
視間隔を自動的に変更する、例えばデータが一定期間に
管理値内で変動すれば監視間隔を広げ、データが管理値
外に変動すれば監視間隔を狭めることによって、製造装
置および検査システムの負荷を高めず、オペレータの負
担を大きくせずにデータの異常変動を検知することがで
きる。また、監視間隔を狭めることによって、より正確
にデータの変動異常を検出することができるため、例え
ばＬＳＩ製造の各工程の異常を少しでも早く多く検出で
き、ＬＳＩ歩留まりを向上させることができる。

【００２３】請求項７記載のデータ変動監視装置は、デ
ータ変動の監視を行うための管理値と検査手法をマスタ
テーブルに登録する監視手法設定手段と、検査するデー
タを検査対象テーブルから取得する検査データ取得手段
と、マスタテーブルから管理値と検査手法を取得する監
視手法取得手段と、取得した管理値と検査手法に基い
て、取得したデータの変動を検査するデータ変動監視手
段と、データ変動の検査結果に応じてマスタテーブルの
管理値または検査手法を変更する監視手法自動変更手段
を備えたものである。

【００２４】請求項７記載のデータ変動監視装置によれ
ば、請求項１と同様な効果がある。

【００２５】請求項８記載のデータ変動監視装置は、デ
ータ変動の監視を行うための管理値と検査間隔をマスタ
テーブルに登録する監視間隔設定手段と、マスタテーブ
ルの検査間隔に基づいて検査するデータを検査対象テー
ブルから取得する検査データ取得手段と、マスタテーブ
ルの管理値および検査間隔に基いて、取得したデータの
変動を検査するデータ変動監視手段と、データ変動の検
査結果に応じてマスタテーブルの監視間隔を変更する監
視間隔自動変更手段を備えたものである。

【００２６】請求項８記載のデータ変動監視装置によれ
ば、請求項６と同様な効果がある。

【００２７】

【発明の実施形態】（第１の実施形態）本発明の第１の
実施形態に係るデータ変動監視装置、およびデータ変動
監視方法を図１から図９を参照しながら説明する。

【００２８】図１は本発明の第１の実施形態に係るデー
タ変動監視装置のブロック図、図２は第１の実施形態に
係るデータ変動監視装置のシステム概要図、図３は第１
の実施形態に係るデータ変動監視装置のマスタテーブル
の一例、図４は第１の実施形態に係るデータ変動監視装
置の検査対象テーブルの一例、図５は第１の実施形態に
係るデータ変動監視方法の監視手法設定工程の処理の流
れを示す図、図６は第１の実施形態に係るデータ変動監
視方法の監視手法取得工程の処理の流れを示す図、図７
は第１の実施形態に係るデータ変動監視方法の検査デー
タ取得工程の処理の流れを示す図、図８は第１の実施形
態に係るデータ変動監視方法のデータ変動監視工程の処
理の流れを示す図、図９は第１の実施形態に係るデータ
変動監視方法の監視手法自動変更工程の処理の流れを示
す図である。

【００２９】データ変動監視装置は図１、図２に示すよ
うに、監視手法設定手段（１００）、監視手法取得手段
（２００）、検査データ取得手段（３００）、データ変
動監視手段（４００）および監視手法自動変更手段（５
００）によって構成され、登録された監視手法に基づい
てデータの変動検査を行い、検査結果に応じて監視手法
が適切か否かを判定し、適切な監視手法に自動的に変更
するものである。１０００はデータ変動監視サーバ、１
１００はデータベースサーバ、１２００はコンピュータ
ネットワークである。以下、ＬＳＩの製造過程で発生す
る半導体製造装置の処理性能を示すデータや、半導体プ
ロセス特性を示すデータの変動監視を行う場合を例にと
って、各手段を詳しく説明する。

【００３０】ＬＳＩの製造過程で発生する半導体製造装
置の処理性能を示すデータや半導体プロセス特性を示す
データなど、時刻と共に変化するデータの変動監視方法
においては、データの管理範囲を示す上下限値外にデー
タが変動した場合にデータの異常変動であると判定する
ことはもちろんであるが、今回のデータの変動量（前回
のデータ値と今回のデータ値との差）の大きさが、前回
のデータの変動量（前々回のデータ値と前回のデータ値
との差）の大きさの既定倍数以上であるか否か検査する
ことによって、今回のデータが異常であるか、または次
回のデータが異常になる可能性があるか否かを判定する
ことも大変重要である。

【００３１】さらに、データの異常判定に用いる上限値
や下限値、または検査手法が適切であるか否かを定期的
に検討することも大変重要である。例えば、一定期間に
データが上下限値内の一定範囲で変動を繰り返している
場合にはデータの変動範囲が狭いことを示しているた
め、上下限値が適切か否かを再検討することによって、
データの異常変動が適切に検出できるようにすることが
必要である。また、例えば、一定期間にデータが上下限
値内の一定範囲で変動を繰り返している場合には、デー
タの変動範囲が狭く、データの変動ばらつきが少ないこ
とを示しているため、データの異常変動を検知するため
には、既定倍数を減じることによって検出感度を上げる
必要がある。

【００３２】監視手法設定手段（１００）は、データ変
動の監視を行うための管理値や検査手法を、コンピュー
タが管理する記憶装置上のマスタテーブル（１００１）
に登録する工程に使用する。

【００３３】図１、図２、図３および図５に示すよう
に、データ名称、管理値（上限値）、管理値（下限
値）、検査手法（既定倍数）、検査期間および範囲を項
目として持つ、コンピュータ記憶装置上のマスタテーブ
ル（１００１）に、管理対象となるデータ毎に必要な管
理値や検査手法などを登録する。例えば、図３に示すよ
うにレコード（１００１Ａ）のデータは、検査対象とな
る「膜厚１」の上限値が「１０２０」、下限値が「９８
０」であり、前回と前々回のデータの大きさの差の、
「４」倍以上の変化量で、データの異常変動を検出する
ことを示しており、また、この監視を行う際に、「７」
日間連続して、中心値付近、即ち「（（上限値−下限
値）／２＋下限値）＋−３σ」の範囲でデータが変動し
ているか否かを注目することも意味している。σは標準
偏差である。また、レコード（１００１Ｂ）のデータ
は、検査対象となる「パーティクル１」の上限値が「３
０」、下限値が「０」であり、前回と前々回のデータの
大きさの差の、「５」倍以上の変化量で、データの異常
変動を検出することを示しており、また、この監視を行
う際に、「１４」日間連続して、下限値付近、即ち「上
限値／４以下」の範囲でデータが変動しているか否かを
注目することも意味している。

【００３４】なお、これらのデータの登録の手法は特に
問わないが、例えば、コンピュータシステムが提供して
いるユーザインターフェースツール（ＵＩツール）を用
いて作成したグラフィカルユーザーインターフェース
（ＧＵＩ）から、データを入力し、この入力情報を、デ
ータベースシステムが提供しているＳＱＬ（Ｓｔｒｕｃ
ｔｕｒｅｄ Ｑｕｅｒｙ Ｌａｎｇｕａｇｅ）などを用
いて、マスタテーブル（１００１）に登録すればよい。

【００３５】この登録は、データの変動監視を行う対象
データの数だけ繰り返し行う。また、マスタテーブル
（１００１）に登録した情報を変更または削除する場合
は、データベースシステムに備わったＳＱＬなどを用い
て対象データを抽出して、コンピュータシステムが提供
しているＵＩツールなどを用いて作成したＧＵＩ上に表
示し、ＧＵＩから管理値や検査手法の変更や削除を行
い、再びＳＱＬなどを用いて各テーブルに監視方法に関
する情報を登録すればよい。

【００３６】監視手法取得手段（２００）は、マスタテ
ーブル（１００１）からデータの変動検査に必要な管理
値と検査手法を抽出する工程に使用する。

【００３７】図１、図２、図３および図６に示すよう
に、コンピュータ記憶装置上のマスタテーブル（１００
１）から、管理対象となるデータの管理値（上限値）、
管理値（下限値）、検査手法（既定倍数）、検査期間お
よび範囲を抽出し、コンピュータのメモリ上に記憶す
る。

【００３８】なお、これらのデータの抽出の手法は特に
問わないが、例えば、データベースシステムが提供して
いるＳＱＬなどを用いて、マスタテーブル（１００１）
から抽出する。また、抽出のタイミングは特に問わない
が、検査データが検査対象テーブル（１１０１）から抽
出された後や、マスタデータがマスタテーブル（１００
１）に登録された後に、これらのデータを抽出すればよ
い。

【００３９】検査データ取得手段（３００）は、データ
名称、データ値および測定日時を項目として持つ、コン
ピュータが管理する記憶装置上の検査対象テーブル（１
１０１）から変動検査を行うデータを抽出する工程に使
用する。

【００４０】図１、図２、図３、図４および図７に示す
ように、コンピュータ記憶装置上の検査対象テーブル
（１１０１）から、監視対象となるデータ（データ値及
び測定日時）を抽出し、コンピュータのメモリ上に記憶
する。例えば、「膜厚１」を監視する場合は、監視手法
取得手段（２００）で、マスタテーブル（１００１）か
ら抽出した「膜厚１」の検査期間：７に該当する監視対
象データを検査対象テーブル（１１０１）から抽出す
る。即ち、「膜厚１」の測定日時が、現時刻から７日以
前までのデータを抽出する。現在時刻を１９９９年１月
１６日１４時４３分２５秒とすれば、１９９９年１月９
日１４時４３分２５秒から１９９９年１月１６日１４時
４３分２５秒までの測定日時を持つ「膜厚１」の５つの
レコード（１１０１Ａ、１１０１Ｂ、１１０１Ｃ、１１
０１Ｄ、１１０１Ｅ）から、５つの膜厚のデータ値：
「１００５」、「９９７」、「９９９」、「９９８」、
「１０００」）を抽出する。

【００４１】なお、これらのデータの抽出の手法は特に
問わないが、例えば、データベースシステムが提供して
いるＳＱＬなどを用いて、検査対象テーブル（１１０
１）から抽出する。また、検査対象テーブル（１１０
１）がＳＱＬなどのミドルウエアを通じてアクセスが不
可能なネットワーク上にある場合には、電子メールまた
はＦＴＰ（Ｆｉｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｐｒｏｔｏ
ｃｏｌ）などのファイル転送によってＳＱＬおよびＳＱ
Ｌの実行結果を送信することによって対象データを抽出
すればよい。また、抽出のタイミングは特に問わない
が、検査対象テーブル（１１０１）に対象データが登録
された後、定時刻または一定時間間隔のいずれかのタイ
ミングで、検査対象データを抽出すればよい。なお、検
査対象テーブル（１１０１）に対象データが登録された
ことを検知するには、データベースシステムが提供して
いるトリガ機能などを用いる。

【００４２】また、検査対象テーブル（１１０１）への
データの登録は、既存のコンピュータシステムによって
行われ、ＬＳＩ製造過程で発生するプロセス結果（膜厚
など）やプロセス装置の処理性能（パーティクルなど）
が、これらのデータを測定した日時と共に、データベー
スシステムが提供しているＳＱＬなどを用いて登録され
る。

【００４３】データ変動監視手段（４００）は、監視手
法取得手段（２００）および検査データ取得手段（３０
０）で取得した管理値、検査手法および検査データを基
に、データの変動検査を行う工程に使用する。

【００４４】図１、図２、図３、図４および図８に示す
ように、監視手法取得手段（２００）および検査データ
取得手段（３００）によってコンピュータのメモリ上に
記憶した、管理値（上限値）、管理値（下限値）、検査
手法（既定倍数）、検査期間、範囲、および監視対象デ
ータを用いて、データの変動検査を行う。

【００４５】ここでは、データの異常変動の判定手法と
して、データが上下限値外にあるか否か、および、今回
のデータの変動量の大きさが前回の変動量の大きさの既
定倍数以上であるか否か、の２つを例にとって説明す
る。まず、上下限値を用いた判定方法で、一例として、
「膜厚１」の監視を行う場合を説明する。

【００４６】監視手法取得手段（２００）で抽出した、
上限値：１０２０、下限値：９８０、範囲：（（上限値
−下限値）／２＋下限値）＋−３σと、検査データ取得
手段（３００）で抽出した、５つの膜厚：１００５、９
９７、９９９、９９８、１０００を用いて変動検査を行
う。

【００４７】最初に、５つの膜厚の内、最も日付の新し
いレコード（１１０１Ｅ）から抽出した膜厚「１００
０」を上限値「１０２０」、および下限値「９８０」と
比較する。「膜厚」＞「上限値」または「膜厚」＜「下
限値」であれば、膜厚データの変動異常として、電話な
どの通報機器を通じて担当者に警告を発する。「下限
値」≦「膜厚」≦「上限値」であれば、抽出した過去７
日間の、５つの膜厚が、抽出した範囲内（中心値＋−３
σ）で変動しているか否かを調べる。即ち、５つの膜厚
の値「１００５」、「９９７」、「９９９」、「９９
８」、「１０００」と、「１００９．３３」および「９
９０．６７」を比較する。なお、中心値＝（（１０２０
−９８０）／２＋９８０）＝１０００、標準偏差σ＝√
（（（１００５−９９９．８）²＋（９９７−９９９．
８）²＋（９９９−９９９．８）²＋（９９８−９９９．
８）²＋（１０００−９９９．８）²）／（５−１））＝
３．１１であるため、中心値＋３σ＝１００９．３３、
中心値−３σ＝９９０．６７となる。但し、平均値＝
（１００５＋９９７＋９９９＋９９８＋１０００）／５
＝９９９．８である。「９９０．６７」＜５つの膜厚の
値＜「１００９．３３」であれば、データの変動範囲に
対して、上下限値が示す管理範囲が広過ぎると判定し、
上下限値の設定が適切でないと判断する。

【００４８】なお、この判断を下す際に、「９９０．６
７」＜５つの膜厚の値＜「１００９．３３」だけでな
く、５つの膜厚の値が正規分布に従っているという条件
を加えてもよい。つまり、抽出した一定期間の膜厚が、
通常自然界でおこりえる変動（正規分布に従う）をして
いるという条件を加えてもよい。

【００４９】次に、既定倍数を用いた判定方法で、一例
として、「膜厚１」の監視を行う場合を説明する。

【００５０】監視手法取得手段（２００）で抽出した、
上限値：１０２０、下限値：９８０、既定倍数：４、範
囲：（（上限値−下限値）／２＋下限値）＋−３σと、
検査データ取得手段（３００）で抽出した、５つの膜
厚：１００５、９９７、９９９、９９８、１０００を用
いて変動検査を行う。

【００５１】最初に、今回の変動量「２」と前回の変動
量「１」を算出し、前回の変動量に既定倍数「４」を乗
じて比較する。なお、今回の変動量＝｜９９８−１００
０｜＝２、前回の変動量＝｜９９９−９９８｜＝１であ
る。「今回の変動量」≧「前回の変動量」ｘ「既定倍
数」であれば膜厚データの変動異常として、電話などの
通報機器を通じて担当者に警告を発する。

【００５２】「今回の変動量」＜「前回の変動量」ｘ
「既定倍数」であれば、抽出した過去７日間の、５つの
膜厚が、抽出した範囲内（中心値＋−３σ）で変動して
いるか否かを調べる。即ち、５つの膜厚の値「１００
５」、「９９７」、「９９９」、「９９８」、「１００
０」と、「１００９．３３」および「９９０．６７」を
比較する。なお、中心値＝（（１０２０−９８０）／２
＋９８０）＝１０００、標準偏差σ＝√（（（１００５
−９９９．８）²＋（９９７−９９９．８）²＋（９９９
−９９９．８）²＋（９９８−９９９．８）²＋（１００
０−９９９．８）²）／（５−１））＝３．１１である
ため、中心値＋３σ＝１００９．３３、中心値−３σ＝
９９０．６７となる。但し、平均値＝（１００５＋９９
７＋９９９＋９９８＋１０００）／５＝９９９．８であ
る。「９９０．６７」＜５つの膜厚の値＜「１００９．
３３」であれば、データの変動範囲が狭く、データの変
動ばらつきが少ないことを示しているため、データの異
常変動を検知するためには、既定倍数を減じる必要があ
ると判定し、既定倍数の設定が適切でないと判断する。

【００５３】なお、この判断を下す際に、「９９０．６
７」＜５つの膜厚の値＜「１００９．３３」だけでな
く、５つの膜厚の値が正規分布に従っているという条件
を加えてもよい。つまり、抽出した一定期間の膜厚が、
通常自然界でおこりえる変動（正規分布に従う）をして
いるという条件を加えてもよい。

【００５４】監視手法自動変更手段（５００）は、デー
タ変動監視手段（４００）の検査結果に応じて、マスタ
テーブル（１００１）の管理値または検査手法を変更す
る工程を使用する。

【００５５】図１、図２、図３、図４および図９に示す
ように、データ変動監視手段（４００）によって、上下
限値の設定、または既定倍数の設定が適切でないと判断
した場合に、上下限値、または既定倍数を変更し、該当
するマスタテーブル（１００１）の上下限値、または既
定倍数を更新する。

【００５６】まず、上下限値の設定が適切でない場合に
ついて説明する。前述したように、例えば、過去７日間
の、５つの膜厚が、特定の範囲内（中心値＋−３σ）で
変動している場合は、上下限値の設定が適切でないと判
断し、上限値を下げるか、または下限値を上げる。

【００５７】過去一定期間に測定された複数の測定値
（膜厚）が、特定範囲内（例えば、中心値＋３σ）で変
動している場合は、下限値を次の様に変更する。

【００５８】新下限値＝旧下限値＋旧下限値ｘ（測定値
の数に関する増加率＋測定値のばらつきに関する増加率
＋α） ここで、測定値の数に関する増加率は、例えば、測定値
の数が多いほど増加率を上げ、少ないほど増加率を下げ
る。この増加率は特に限定しないが、測定値の数が２０
個未満の場合は５％、２０個以上５０個未満の場合は１
０％、５０個以上の場合は２０％とすればよい。次に、
測定値のばらつきに関する増加率は、例えば、複数の測
定値のばらつきが小さいほど増加率を上げ、大きいほど
増加率を下げる。この増加率は特に限定しないが、ばら
つきの大きさ（測定値の最大値−最小値）が特定範囲
（中心値＋３σ）の１／３未満の場合は２０％、１／３
以上２／３未満の場合は１０％、２／３以上の場合は５
％とすればよい。最後に、αは、測定値の性質によっ
て、５〜５０％の範囲内で決定する。

【００５９】また、過去一定期間に測定された複数の測
定値（膜厚）が、特定範囲内（例えば、中心値−３σ）
で変動している場合は、上限値を次の様に変更する。

【００６０】新上限値＝旧上限値−旧上限値ｘ（測定値
の数に関する減少率＋測定値のばらつきに関する減少率
＋β） ここで、測定値の数に関する減少率は、例えば、測定値
の数が多いほど減少率を上げ、少ないほど減少率を下げ
る。この減少率は特に限定しないが、測定値の数が２０
個未満の場合は５％、２０個以上５０個未満の場合は１
０％、５０個以上の場合は２０％とすればよい。次に、
測定値のばらつきに関する減少率は、例えば、複数の測
定値のばらつき（測定値の最大値−最小値）が小さいほ
ど減少率を上げ、大きいほど減少率を下げる。この減少
率は特に限定しないが、ばらつきの大きさが特定範囲
（中心値−３σ）の１／３未満の場合は２０％、１／３
以上２／３未満の場合は１０％、２／３以上の場合は５
％とすればよい。最後に、βは、測定値の性質によっ
て、５〜５０％の範囲内で決定する。

【００６１】さらに、過去一定期間に測定された複数の
測定値（膜厚）が、特定範囲内（例えば、中心値＋−３
σ）で変動している場合は、上限値および下限値を次の
様に変更する。

【００６２】新下限値＝旧下限値＋旧下限値ｘ（測定値
の数に関する増加率＋測定値のばらつきに関する増加率
＋α）ｘ１／２ 新上限値＝旧上限値−旧上限値ｘ（測定値の数に関する
減少率＋測定値のばらつきに関する減少率＋β）ｘ１／
２ なお、増加率、減少率、α、βの決定方法は前述の場合
と同様である。

【００６３】また、監視手法設定手段（１００）で登録
した「パーティクル１」に関するレコード（１００１
Ｂ）のデータを用いてデータの変動監視を行い、上限値
が適切でないと判断した場合の上限値の変更方法を説明
する。

【００６４】過去一定期間に測定された複数の測定値
（膜厚）が、特定範囲内（例えば、上限値／４以下）で
変動している場合は、上限値を次の様に変更する。

【００６５】新上限値＝旧上限値−旧上限値ｘ（測定値
の数に関する減少率＋測定値のばらつきに関する減少率
＋β） ここで、測定値の数に関する減少率は、例えば、測定値
の数が多いほど減少率を上げ、少ないほど減少率を下げ
る。この減少率は特に限定しないが、測定値の数が２０
個未満の場合は５％、２０個以上５０個未満の場合は１
０％、５０個以上の場合は２０％とすればよい。次に、
測定値のばらつき（測定値の最大値−最小値）に関する
減少率は、例えば、複数の測定値のばらつきが小さいほ
ど減少率を上げ、大きいほど減少率を下げる。この減少
率は特に限定しないが、ばらつきの大きさが特定範囲
（０〜上限値／４）の１／３未満の場合は２０％、１／
３以上２／３未満の場合は１０％、２／３以上の場合は
５％とすればよい。最後に、βは、測定値の性質によっ
て、５〜５０％の範囲内で決定する。

【００６６】次に、既定倍数の設定が適切でない場合に
ついて説明する。

【００６７】前述したように、例えば、過去７日間の、
５つの膜厚が、特定の範囲内（中心値＋−３σ）で変動
している場合は、データの変動範囲が狭く、データの変
動ばらつきが少ないことを示しているため、データの異
常変動を検知するためには、既定倍数の設定が適切でな
いと判断し、既定倍数を減じる。

【００６８】過去一定期間に測定された複数の測定値
（膜厚）が、特定範囲内（例えば、中心値＋−３σ）で
変動している場合は、既定倍数を次の様に変更する。

【００６９】新既定倍数＝旧既定倍数−旧既定倍数ｘ
（測定値の数に関する減少率＋測定値のばらつきに関す
る減少率＋γ） ここで、測定値の数に関する減少率は、例えば、測定値
の数が多いほど減少率を上げ、少ないほど減少率を下げ
る。この減少率は特に限定しないが、測定値の数が２０
個未満の場合は５％、２０個以上５０個未満の場合は１
０％、５０個以上の場合は２０％とすればよい。次に、
測定値のばらつき（測定値の最大値−最小値）に関する
減少率は、例えば、複数の測定値のばらつきが小さいほ
ど減少率を上げ、大きいほど減少率を下げる。この減少
率は特に限定しないが、ばらつきの大きさが特定範囲
（中心値＋−３σ）の１／３未満の場合は２０％、１／
３以上２／３未満の場合は１０％、２／３以上の場合は
５％とすればよい。最後に、γは、測定値の性質によっ
て、５〜５０％の範囲内で決定する。

【００７０】以上のように変更した上下限値または既定
倍数をマスタテーブル（１００１）の該当するデータ名
称の上下限値、または既定倍数に登録し、上下限値、ま
たは既定倍数を変更する。これらのデータの変更の手法
は特に問わないが、例えば、コンピュータシステムが提
供しているユーザインターフェースツール（ＵＩツー
ル）を用いて作成したグラフィカルユーザーインターフ
ェース（ＧＵＩ）から、データを入力し、この入力情報
を、データベースシステムが提供しているＳＱＬなどを
用いて、マスタテーブル（１００１）に登録すればよ
い。

【００７１】以上のように第１の実施形態によれば、デ
ータ変動の監視結果によって、管理値や検査手法が不適
切であるか否かを判定し、不適切な場合は、自動的に、
適切な管理値や検査手法に変更することによって、人手
を介することなく、ＬＳＩ製造に不可欠な装置性能デー
タ、ＬＳＩプロセス特性データなどの変動監視を行うこ
とができる。

【００７２】（第２の実施の形態）本発明の第２の実施
形態に係る第２のデータ変動監視装置、およびデータ変
動監視方法を図１０から図１８を参照しながら説明す
る。

【００７３】図１０は本発明の第２の実施形態に係るデ
ータ変動監視装置のブロック図、図１１は第２の実施形
態に係るデータ変動監視装置のシステム概要図、図１２
は第２の実施形態に係るデータ変動監視装置のマスタテ
ーブルの一例、図１３は第２の実施形態に係るデータ変
動監視装置の検査対象テーブルの一例、図１４は第２の
実施形態に係るデータ変動監視方法の監視間隔設定工程
の処理の流れを示す図、図１５は第２の実施形態に係る
データ変動監視方法の監視間隔取得工程の処理の流れを
示す図、図１６は第２の実施形態に係るデータ変動監視
方法の検査データ収集工程の処理の流れを示す図、図１
７は第２の実施形態に係るデータ変動監視方法のデータ
変動監視工程の処理の流れを示す図、図１８は第２の実
施形態に係るデータ変動監視方法の監視間隔自動変更工
程の処理の流れを示す図である。

【００７４】データ変動監視装置は図１０、図１１に示
すように、監視間隔設定手段（６００）、監視間隔取得
手段（６５０）、検査データ収集手段（７００）、デー
タ変動監視手段（７５０）および監視間隔自動変更手段
（８００）によって構成され、登録された監視間隔に基
づいてデータの変動検査を行い、検査結果に応じてデー
タの監視間隔を自動的に変更するものである。１５００
はデータ変動監視サーバ、１６００はデータベースサー
バである。以下、ＬＳＩの製造過程で発生する半導体製
造装置の処理性能を示すデータや、半導体プロセス特性
を示すデータの変動監視に関して、上下限値を用いて変
動監視を行う場合を例にとって、各手段を詳しく説明す
る。

【００７５】ＬＳＩの製造過程で発生する半導体製造装
置の処理性能を示すデータや半導体プロセス特性を示す
データなど、時刻と共に変化するデータの変動監視方法
においては、例えば、データの管理範囲を示す上下限値
外にデータが変動した場合にデータの異常変動であると
判定している。しかし、この判定のためには半導体製造
装置からの膨大なデータ収集と検査を頻繁に行う必要が
あり、検査間隔を短くすればするほど異常変動を検知で
きる確率が高くなるものの、逆に、半導体製造装置の負
荷やオペレータの負担が大きくなるためＬＳＩ製造の効
率を落とす原因にもなり、また、検査システムや通信ネ
ットワークの負荷も高めている。従って、データの変動
を検査しながら、検査結果に応じて検査間隔を適切な間
隔に自動的に変更し、製造装置や検査システムの負荷を
高めず、オペレータの負担を大きくせずにデータの異常
変動を検知することが大変重要である。

【００７６】監視間隔設定手段（６００）は、データ変
動の監視を行うための管理値や監視間隔を、コンピュー
タが管理する記憶装置上のマスタテーブル（１５０１）
に登録する工程に使用する。

【００７７】図１０、図１１、図１２および図１４に示
すように、データ名称、管理値（上限値）、管理値（下
限値）、および監視間隔を項目として持つ、コンピュー
タ記憶装置上のマスタテーブル（１５０１）に、管理対
象となるデータ毎に必要な管理値や監視間隔を登録す
る。例えば、レコード（１５０１Ａ）のデータは、検査
対象となる「膜厚１」の上限値が「１０２０」、下限値
が「９８０」であり、２分毎にデータの異常変動を検査
することを示している。

【００７８】なお、これらのデータの登録の手法は特に
問わないが、例えば、コンピュータシステムが提供して
いるユーザインターフェースツール（ＵＩツール）を用
いて作成したグラフィカルユーザーインターフェース
（ＧＵＩ）から、データを入力し、この入力情報を、デ
ータベースシステムが提供しているＳＱＬなどを用い
て、マスタテーブル（１５０１）に登録すればよい。

【００７９】この登録は、データの変動監視を行う対象
データの数だけ繰り返し行う。また、マスタテーブル
（１５０１）に登録した情報を変更または削除する場合
は、データベースシステムに備わったＳＱＬなどを用い
て対象データを抽出して、コンピュータシステムが提供
しているＵＩツールなどを用いて作成したＧＵＩ上に表
示し、ＧＵＩから管理値や検査手法の変更や削除を行
い、再びＳＱＬなどを用いて各テーブルに監視方法に関
する情報を登録すればよい。

【００８０】監視間隔取得手段（６５０）は、マスタテ
ーブル（１５０１）からデータの変動検査に必要な管理
値と監視間隔を抽出する工程に使用する。

【００８１】図１０、図１１、図１２および図１５に示
すように、コンピュータ記憶装置上のマスタテーブル
（１５０１）から、管理対象となるデータの管理値（上
限値）、管理値（下限値）、および監視間隔を抽出し、
コンピュータのメモリ上に記憶する。

【００８２】なお、これらのデータの抽出の手法は特に
問わないが、例えば、データベースシステムが提供して
いるＳＱＬなどを用いて、マスタテーブル（１５０１）
から抽出する。また、抽出のタイミングは特に問わない
が、マスタデータがマスタテーブル（１５０１）に登録
または変更された後に、これらのデータを抽出すればよ
い。

【００８３】検査データ収集手段（７００）は、データ
名称、データ値、異常フラグ、測定日時および検査済み
フラグを項目として持つ、コンピュータが管理する記憶
装置上の検査対象テーブル（１６０１）に、監視間隔取
得手段（６５０）に登録された監視間隔に基づいて、製
造装置からデータを収集して、蓄積する工程に使用す
る。

【００８４】図１０、図１１、図１２、図１３および図
１６に示すように、コンピュータ記憶装置上の検査対象
テーブル（１６０１）に、監視間隔取得手段（６５０）
に登録された監視間隔で製造装置から管理対象となるデ
ータを通信ネット−ワーク等を通じて収集して蓄積す
る。

【００８５】例えば、「膜厚１」を監視する場合は、監
視間隔取得手段（６５０）によってマスタテーブル（１
５０１）から抽出した「膜厚１」の監視間隔（本例で
は、２分）に基づいて、製造装置から２分間隔でデータ
を収集し、データ名称、データ値、測定日時、検査済み
フラグを検査対象テーブル（１６０１）に登録する。こ
こで、検査済みフラグには、検査を未だ行っていないこ
とを示す「未」を登録する。

【００８６】なお、これらのデータの抽出、登録の手法
は特に問わないが、例えば、データベースシステムが提
供しているＳＱＬなどを用いて行う。

【００８７】データ変動監視手段（７５０）は、監視間
隔取得手段（６５０）で取得した管理値、および検査デ
ータ収集手段（７００）で収集した検査データを基に、
データの検査を行う工程に使用する。

【００８８】図１０、図１１、図１２、図１３および図
１７に示すように、監視間隔取得手段（６５０）によっ
てコンピュータのメモリ上に記憶した、管理値（上限
値）、管理値（下限値）に基づいて、検査対象テーブル
（１６０１）から検査を未だ行っていないデータを抽出
して、データの異常変動を検査する。

【００８９】ここでは、データの異常変動の判定手法と
して、データが上下限値外にあるか否かで判定してい
る。一例として、「膜厚１」の監視を行う場合を説明す
る。

【００９０】検査対象テーブル（１６０１）から、デー
タ名称が「膜厚１」、かつ検査済みフラグが「未」のレ
コードから、データ値（膜厚）：１０００を抽出し、監
視間隔取得手段（６５０）で抽出した、上限値：１０２
０、下限値：９８０を用いて検査を行う。「下限値」≦
「膜厚」≦「上限値」であれば「異常変動なし」と判断
し、「下限値」＞「膜厚」または「膜厚」＞「上限値」
であれば「異常変動あり」と判定する。本例の場合は、
９８０≦１０００≦１０２０であるため、「異常変動な
し」と判定する。

【００９１】なお、データの異常変動の判定手法とし
て、データが上下限値外にあるか否かで判定している
が、上下限値の内側に警戒上下限値（例えば、警戒上限
値は上限値より数％小さい、警戒下限値は下限値より数
％大きい）を設けて、この警戒上下限値を用いて判定し
てもよい。

【００９２】データの変動検査を行った後、検査対象テ
ーブル（１６０１）の該当するレコードの検査済みフラ
グを「済」に変更し、さらに、「異常変動あり」と判定
した場合には異常フラグを「異常」に変更する。

【００９３】なお、これらのデータの抽出や変更の手法
は特に問わないが、例えば、データベースシステムが提
供しているＳＱＬなどを用いて行えばよい。また、デー
タの検査タイミングは特に問わないが、監視対象データ
が検査対象テーブル（１６０１）に登録された後に、検
査すればよい。

【００９４】監視間隔自動変更手段（８００）は、デー
タ変動監視手段（７５０）の検査結果に応じて、マスタ
テーブル（１５０１）の監視間隔を変更する工程に使用
する。

【００９５】図１１、図１２、図１３、図１４および図
１９に示すように、データ変動監視手段（７５０）によ
って、「異常変動あり」と判定した場合には、マスタテ
ーブル（１５０１）の該当する監視間隔を１／２に狭め
る。また、「変動異常なし」と判定された場合には、
「異常変動なし」の期間を検査対象テーブル（１６０
１）から算出し、「変動異常なし」の期間が監視間隔の
既定倍（例えば５０倍）以上であれば、監視間隔を２倍
に広げる。本例では、膜厚：１０００を抽出して、変動
検査によって。「異常変動なし」と判定され、異常なし
の期間が１４分であり、監視間隔：２分の５０倍以上に
達していないため、マスタテーブル（１５０１）の監視
間隔は変更しない。

【００９６】なお、監視間隔を１／２倍および２倍に変
更しているが、これに限らず、１／３倍および３倍、３
／４倍および４／３倍などに変更してもよい。

【００９７】なお、これらのデータの抽出や変更の手法
は特に問わないが、例えば、データベースシステムが提
供しているＳＱＬなどを用いて行えばよい。また、本手
段の実施タイミングは特に限定しないが、データ変動監
視手段（７５０）が実施された後に実施すればよい。

【００９８】以上のように第２の実施形態によれば、デ
ータ変動の監視結果によって、データの監視間隔を適切
な間隔に自動的に変更することができ、人手を介するこ
となく、ＬＳＩ製造に不可欠な装置性能データ、ＬＳＩ
プロセス特性データなどの変動監視を行うことができ
る。

【００９９】

【発明の効果】請求項１記載のデータ変動監視方法によ
れば、監視対象データの変動結果によって、特定の検査
条件例えば管理値や検査手法が不適切であるか否かを判
定し、不適切であると判定した場合には、自動的に適切
な管理値や検査手法に変更することができ、常に適切な
監視条件で、例えばＬＳＩ製造に不可欠な装置性能デー
タ、ＬＳＩプロセス特性データなどの変動監視を行うこ
とができるため、その実用的効果は大きい。

【０１００】請求項２記載のデータ変動監視方法によれ
ば、請求項１と同様な効果がある。

【０１０１】請求項３記載のデータ変動監視方法によれ
ば、請求項１と同様な効果がある。

【０１０２】請求項４記載のデータ変動監視方法によれ
ば、請求項１と同様な効果がある。

【０１０３】請求項５記載のデータ変動監視方法によれ
ば、請求項４と同様な効果がある。

【０１０４】請求項６記載のデータ変動監視方法によれ
ば、監視対象データの変動結果に基づいて、データの監
視間隔を自動的に変更する、例えばデータが一定期間に
管理値内で変動すれば監視間隔を広げ、データが管理値
外に変動すれば監視間隔を狭めることによって、製造装
置および検査システムの負荷を高めず、オペレータの負
担を大きくせずにデータの異常変動を検知することがで
きる。また、監視間隔を狭めることによって、より正確
にデータの変動異常を検出することができるため、例え
ばＬＳＩ製造の各工程の異常を少しでも早く多く検出で
き、ＬＳＩ歩留まりを向上させることができる。

【０１０５】請求項７記載のデータ変動監視装置によれ
ば、請求項１と同様な効果がある。

【０１０６】請求項８記載のデータ変動監視装置によれ
ば、請求項６と同様な効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視装置のブロック図

【図２】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視装置のシステム概要図

【図３】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視装置のマスタテーブルの一例を示す図

【図４】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視装置の検査対象テーブルの一例を示す図

【図５】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視方法の監視手法設定工程の処理の流れを示す図

【図６】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視方法の監視手法取得工程の処理の流れを示す図

【図７】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視方法の検査データ取得工程の処理の流れを示す図

【図８】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視方法のデータ変動監視工程の処理の流れを示す図

【図９】本発明の第１の実施形態におけるデータ変動監
視方法の監視手法自動変更工程の処理の流れを示す図

【図１０】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視装置のブロック図

【図１１】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視装置のシステム概要図

【図１２】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視装置のマスタテーブルの一例を示す図

【図１３】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視装置の検査対象テーブルの一例を示す図

【図１４】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視方法の監視間隔設定工程の処理の流れを示す図

【図１５】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視方法の監視間隔取得工程の処理の流れを示す図

【図１６】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視方法の検査データ収集工程の処理の流れを示す図

【図１７】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視方法のデータ変動監視工程の処理の流れを示す図

【図１８】本発明の第２の実施形態におけるデータ変動
監視方法の監視間隔自動変更工程の処理の流れを示す図

【図１９】従来のデータ変動監視装置のブロック図であ
る。

【符号の説明】

１００ 監視手法設定手段 １００Ａ 監視手法設定工程 ２００ 監視手法取得手段 ２００Ａ 監視手法取得工程 ３００ 検査データ取得手段 ３００Ａ 検査データ取得工程 ４００ データ変動監視手段 ４００Ａ データ変動監視工程 ５００ 監視手法自動変更手段 ５００Ａ 監視手法自動変更工程 ６００ 監視間隔設定手段 ６００Ａ 監視間隔設定工程 ６５０ 監視間隔取得手段 ６５０Ａ 監視間隔取得工程 ７００ 検査データ収集手段 ７００Ａ 検査データ収集工程 ７５０ データ変動監視手段 ７５０Ａ データ変動監視工程 ８００ 監視間隔自動変更手段 ８００Ａ 監視間隔自動変更工程 １０００、１５００ データ変動監視サーバ １００１、１５０１ マスタテーブル １００１Ａ、１００１Ｂ、１５０１Ａ レコード １１００、１６００ データベースサーバ １１０１、１６０１ 検査対象テーブル １１０１Ａ，１１０１Ｂ，１１０１Ｃ，１１０１Ｄ，１
１０１Ｅレコード １２００ コンピュータネットワーク

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 特定の検査条件に基づいて監視対象デー
   タの変動を検査し、そのデータ変動の検査結果に応じて
   自動的に前記特定の検査条件を適正な検査条件に変更す
   ることを特徴とするデータ変動監視方法。
2. 【請求項２】 半導体製造装置の装置特性または半導体
   製造プロセスのプロセス特性を表すデータの経時変動を
   監視するデータ変動監視方法であって、前記装置特性ま
   たはプロセス特性に基づき決定された管理範囲において
   データ変動を検査し、前記データ変動がある一定期間に
   おいて前記管理範囲の特定範囲内に収まっている場合、
   前記特定範囲に応じて前記管理範囲を自動的に狭めるか
   または変更するかのいずれかを行うことを特徴とするデ
   ータ変動監視方法。
3. 【請求項３】 半導体製造装置の装置特性または半導体
   製造プロセスのプロセス特性を表すデータの経時変動を
   監視するデータ変動監視方法であって、前記装置特性ま
   たはプロセス特性に基づき決定された管理範囲において
   データ変動を検査し、前記データ変動がある一定期間に
   おいて前記管理範囲の特定範囲内に収まっており、かつ
   前記一定期間のデータ群が正規分布に従う場合に、前記
   管理範囲を自動的に狭めるかまたは変更するかのいずれ
   かを行うことを特徴とするデータ変動監視方法。
4. 【請求項４】 半導体製造装置の装置特性または半導体
   製造プロセスのプロセス特性を表すデータの経時変動を
   監視するデータ変動監視方法であって、今回のデータ値
   と前回のデータ値との差が、前回のデータ値と前々回の
   データ値との差の既定倍数以上であるか以下であるかを
   検査することを特徴とするデータ変動監視方法。
5. 【請求項５】 前記検査の結果、既定倍数以下であれば
   既定倍数を小さくすることを特徴とする請求項４に記載
   のデータ変動監視方法。
6. 【請求項６】 半導体製造装置の装置特性または半導体
   製造プロセスのプロセス特性を表すデータの経時変動を
   監視するデータ変動監視方法であって、データ変動の監
   視を行うための、前記装置特性またはプロセス特性の管
   理値および検査手法を指定し、前記管理値と前記検査手
   法に基いてデータ変動を検査し、前記データ変動がある
   一定期間において、前記管理値内または前記管理値の特
   定範囲内に収まっている場合には前記検査手法による検
   査間隔を長くし、前記管理値内または前記管理値の特定
   範囲内に収まっていない場合には検査間隔を短くするこ
   とを特徴とするデータ変動監視方法。
7. 【請求項７】 データ変動の監視を行うための管理値と
   検査手法をマスタテーブルに登録する監視手法設定手段
   と、検査するデータを検査対象テーブルから取得する検
   査データ取得手段と、前記マスタテーブルから前記管理
   値と前記検査手法を取得する監視手法取得手段と、取得
   した前記管理値と前記検査手法に基いて、取得した前記
   データの変動を検査するデータ変動監視手段と、データ
   変動の検査結果に応じて前記マスタテーブルの前記管理
   値または前記検査手法を変更する監視手法自動変更手段
   を備えたデータ変動監視装置。
8. 【請求項８】 データ変動の監視を行うための管理値と
   検査間隔をマスタテーブルに登録する監視間隔設定手段
   と、前記マスタテーブルの前記検査間隔に基づいて検査
   するデータを検査対象テーブルから取得する検査データ
   取得手段と、前記マスタテーブルの前記管理値および前
   記検査間隔に基いて、取得した前記データの変動を検査
   するデータ変動監視手段と、データ変動の検査結果に応
   じて前記マスタテーブルの前記監視間隔を変更する監視
   間隔自動変更手段を備えたデータ変動監視装置。