JP2001192234A - ガラスの表面改質方法及び表面改質ガラス - Google Patents
ガラスの表面改質方法及び表面改質ガラスInfo
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- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラスの連続製造工程において、ガラスの表
面に抗菌性、耐ウェザーリング性又は撥水性等の機能を
容易かつ効率的に付与する。 【解決手段】 ガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び
加工して製品ガラスを製造するガラスの連続製造工程の
うちの徐冷工程において、連続ガラス体に割れを発生さ
せることなく該ガラス体の表面に表面改質用の液体をス
プレーするガラスの表面改質方法。この方法で製造され
た表面改質ガラス。
面に抗菌性、耐ウェザーリング性又は撥水性等の機能を
容易かつ効率的に付与する。 【解決手段】 ガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び
加工して製品ガラスを製造するガラスの連続製造工程の
うちの徐冷工程において、連続ガラス体に割れを発生さ
せることなく該ガラス体の表面に表面改質用の液体をス
プレーするガラスの表面改質方法。この方法で製造され
た表面改質ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガラスの表面改質方
法及び表面改質ガラスに係り、詳しくは、ガラスの連続
製造工程において、ガラスの表面に抗菌性、耐ウェザー
リング性又は撥水性等の機能を容易かつ効率的に付与す
る化学的表面改質方法とこの方法により表面改質された
ガラスに関する。
法及び表面改質ガラスに係り、詳しくは、ガラスの連続
製造工程において、ガラスの表面に抗菌性、耐ウェザー
リング性又は撥水性等の機能を容易かつ効率的に付与す
る化学的表面改質方法とこの方法により表面改質された
ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラスの表面加工法として、意匠
性や機能性の向上のために、コーティングやエッチング
等が実施されているが、この方法は、ガラス表面に異質
の膜を付加する或いは物理的に表面を荒らす処理である
ため、加工面の耐久性等において問題がある。
性や機能性の向上のために、コーティングやエッチング
等が実施されているが、この方法は、ガラス表面に異質
の膜を付加する或いは物理的に表面を荒らす処理である
ため、加工面の耐久性等において問題がある。
【０００３】その他の表面改質法として、次のような方
法が知られている。 ガラス表面に銀を含む液を塗布し、その後加熱して
抗菌性を付与する方法。 イオン交換等により、ガラス表面の組成を変える化
学的処理法。この方法は、例えば、溶融塩中にガラスを
浸漬して、ガラス表面のアルカリイオンをイオン交換す
ることで実施され、屈折率分布型レンズ等の分野で主に
採用されている。また、銀イオンとイオン交換して抗菌
性を付与する場合もある。 高温のガラスの表面にＳＯ２ガス（又はＳＯ３ガ
ス）を吹き付けて、耐ウェザーリング性を向上させる方
法（例えば特表平９−５０１６４７号公報）。 ガラス表面に硝酸亜鉛水溶液を塗布して耐ウェザー
リング性を向上させる方法。 ガラス表面にフッ素を含むシリコーン系溶液を塗布
して加熱することにより、ガラス表面に撥水性を付与す
る方法。
法が知られている。 ガラス表面に銀を含む液を塗布し、その後加熱して
抗菌性を付与する方法。 イオン交換等により、ガラス表面の組成を変える化
学的処理法。この方法は、例えば、溶融塩中にガラスを
浸漬して、ガラス表面のアルカリイオンをイオン交換す
ることで実施され、屈折率分布型レンズ等の分野で主に
採用されている。また、銀イオンとイオン交換して抗菌
性を付与する場合もある。 高温のガラスの表面にＳＯ２ガス（又はＳＯ３ガ
ス）を吹き付けて、耐ウェザーリング性を向上させる方
法（例えば特表平９−５０１６４７号公報）。 ガラス表面に硝酸亜鉛水溶液を塗布して耐ウェザー
リング性を向上させる方法。 ガラス表面にフッ素を含むシリコーン系溶液を塗布
して加熱することにより、ガラス表面に撥水性を付与す
る方法。
【０００４】なお、工業的なガラスの製造方法として
は、ガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び加工して製
品ガラスを得る方法が一般的である。
は、ガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び加工して製
品ガラスを得る方法が一般的である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のガラスの表
面改質方法のうち、銀を含む液やフッ素を含むシリコー
ン系溶液を塗布、加熱する方法では、ガラスの製造工程
とは別の表面改質のための工程が必要であり、また、イ
オン交換による表面改質法でも、溶融塩を保持するため
の設備が必要である上に、ガラスの製造工程とは別工程
において、ガラスの洗浄、浸漬、後処理といった煩雑な
工程を要し、工業的、経済的に不利である。
面改質方法のうち、銀を含む液やフッ素を含むシリコー
ン系溶液を塗布、加熱する方法では、ガラスの製造工程
とは別の表面改質のための工程が必要であり、また、イ
オン交換による表面改質法でも、溶融塩を保持するため
の設備が必要である上に、ガラスの製造工程とは別工程
において、ガラスの洗浄、浸漬、後処理といった煩雑な
工程を要し、工業的、経済的に不利である。
【０００６】また、硝酸亜鉛水溶液を塗布する方法で
は、良好な耐ウェザーリング性を得るためには、別工程
で塗布、加熱する必要があり、やはり工業的、経済的に
不利である。ガラス製造工程において硝酸亜鉛水溶液を
ガラス表面にスプレーすることも考えられるが、ガラス
の表面温度が高いときに（例えば３００℃程度）、単に
硝酸亜鉛水溶液をスプレーした場合には、ガラスの熱衝
撃割れを生じる。このため、従来においては、ガラス表
面温度を常温付近にまで低下させて処理を行っているこ
とから、表面改質による耐ウェザーリング特性の向上効
果は充分ではなかった。
は、良好な耐ウェザーリング性を得るためには、別工程
で塗布、加熱する必要があり、やはり工業的、経済的に
不利である。ガラス製造工程において硝酸亜鉛水溶液を
ガラス表面にスプレーすることも考えられるが、ガラス
の表面温度が高いときに（例えば３００℃程度）、単に
硝酸亜鉛水溶液をスプレーした場合には、ガラスの熱衝
撃割れを生じる。このため、従来においては、ガラス表
面温度を常温付近にまで低下させて処理を行っているこ
とから、表面改質による耐ウェザーリング特性の向上効
果は充分ではなかった。
【０００７】ところで、前述の如く、工業的なガラスの
製造は、一般に、溶融→成型→徐冷→加工の工程を連続
的に経ることで行われている。このガラスの連続製造工
程の徐冷工程において、表面改質のための液をガラスと
接触させるならば、ガラスの保有する熱量を利用して簡
便かつ効率的に大面積のガラスの表面改質を行うことが
できる。しかしながら、ガラスの連続製造工程における
連続ガラス体は温度分布を持つために、このような外的
因子により熱衝撃割れを生じやすい。一方で、従来にお
いてガラスの連続製造工程における熱衝撃割れの防止の
ための必要条件についての解明はなされておらず、熱衝
撃割れを生じることなくガラスの連続製造工程におい
て、工業的に安定して表面改質ガラスの生産を行うこと
ができる技術は確立されていないのが実情である。
製造は、一般に、溶融→成型→徐冷→加工の工程を連続
的に経ることで行われている。このガラスの連続製造工
程の徐冷工程において、表面改質のための液をガラスと
接触させるならば、ガラスの保有する熱量を利用して簡
便かつ効率的に大面積のガラスの表面改質を行うことが
できる。しかしながら、ガラスの連続製造工程における
連続ガラス体は温度分布を持つために、このような外的
因子により熱衝撃割れを生じやすい。一方で、従来にお
いてガラスの連続製造工程における熱衝撃割れの防止の
ための必要条件についての解明はなされておらず、熱衝
撃割れを生じることなくガラスの連続製造工程におい
て、工業的に安定して表面改質ガラスの生産を行うこと
ができる技術は確立されていないのが実情である。
【０００８】本発明は上記従来の実情に鑑みてなされた
ものであって、ガラスの連続製造工程において、ガラス
の表面に抗菌性、耐ウェザーリング性又は撥水性等の機
能を容易かつ効率的に付与する表面改質方法とこの方法
により表面改質されたガラスを提供することを目的とす
る。
ものであって、ガラスの連続製造工程において、ガラス
の表面に抗菌性、耐ウェザーリング性又は撥水性等の機
能を容易かつ効率的に付与する表面改質方法とこの方法
により表面改質されたガラスを提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のガラスの表面改
質方法は、加熱されたガラスの表面に該ガラスの表面改
質用の液体をスプレーして該ガラスの表面を改質する方
法であって、ガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び加
工して製品ガラスを製造するガラスの連続製造工程のう
ちの徐冷工程において、連続ガラス体に割れを発生させ
ることなく該ガラス体の表面に前記表面改質用の液体を
スプレーすることを特徴とする。
質方法は、加熱されたガラスの表面に該ガラスの表面改
質用の液体をスプレーして該ガラスの表面を改質する方
法であって、ガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び加
工して製品ガラスを製造するガラスの連続製造工程のう
ちの徐冷工程において、連続ガラス体に割れを発生させ
ることなく該ガラス体の表面に前記表面改質用の液体を
スプレーすることを特徴とする。
【００１０】本発明によれば、熱衝撃割れを引き起こす
ことなく、ガラスの連続製造工程において、容易かつ効
率的にガラスの表面改質を行える。
ことなく、ガラスの連続製造工程において、容易かつ効
率的にガラスの表面改質を行える。
【００１１】なお、表面改質用の液体（以下「表面改質
液」と称す。）をガラス表面に塗布する方法としては、
ロールコーター等による方法もあるが、ガラスの連続製
造工程を移動する連続ガラス体に対してスプレーノズル
等を容易に設置することができ、メンテナンスも容易な
スプレーによる方法が最も有利である。
液」と称す。）をガラス表面に塗布する方法としては、
ロールコーター等による方法もあるが、ガラスの連続製
造工程を移動する連続ガラス体に対してスプレーノズル
等を容易に設置することができ、メンテナンスも容易な
スプレーによる方法が最も有利である。
【００１２】本発明において、表面改質としては、具体
的には、抗菌性、耐ウェザーリング性又は撥水性の付与
が挙げられる。
的には、抗菌性、耐ウェザーリング性又は撥水性の付与
が挙げられる。
【００１３】また、熱衝撃割れを生じることなく、徐冷
工程において表面改質液をスプレーするための具体的な
条件としては、次の及び／又は、特に及びを採
用することが好ましい。 表面改質液をスプレーするときの連続ガラス体の温
度が、１００℃以上（Ｔｓ−１００℃）以下（ただし、
Ｔｓは当該ガラスの歪み点）であること。 表面改質液を連続ガラス体にスプレーしたときのス
プレー気体によるガラス体からの放熱量とスプレー液体
によるガラス体からの放熱量との合計の放熱量（以下
「合計放熱量」と称す。）が１６．８×１０４ｋＪ／ｍ
２・ｈｒ（４００００ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）以下であ
ること。
工程において表面改質液をスプレーするための具体的な
条件としては、次の及び／又は、特に及びを採
用することが好ましい。 表面改質液をスプレーするときの連続ガラス体の温
度が、１００℃以上（Ｔｓ−１００℃）以下（ただし、
Ｔｓは当該ガラスの歪み点）であること。 表面改質液を連続ガラス体にスプレーしたときのス
プレー気体によるガラス体からの放熱量とスプレー液体
によるガラス体からの放熱量との合計の放熱量（以下
「合計放熱量」と称す。）が１６．８×１０４ｋＪ／ｍ
２・ｈｒ（４００００ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）以下であ
ること。
【００１４】本発明の表面改質ガラスは、このような本
発明のガラスの表面改質方法により表面改質されたもの
であり、高い生産性にて歩留り良く製造可能であるた
め、製品のコストダウンが可能である。
発明のガラスの表面改質方法により表面改質されたもの
であり、高い生産性にて歩留り良く製造可能であるた
め、製品のコストダウンが可能である。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１６】図１は本発明のガラスの表面改質方法の実
施の形態を示す模式図である。図１のガラスの連続製造
工程は、ガラスを窯１で溶融し、次いでフロートバス２
で成型した後、シールドレヤー３（第１徐冷工程）及び
レヤーのないライン上（第２徐冷工程）で徐冷し、その
後カッター５で切断加工するものである。
施の形態を示す模式図である。図１のガラスの連続製造
工程は、ガラスを窯１で溶融し、次いでフロートバス２
で成型した後、シールドレヤー３（第１徐冷工程）及び
レヤーのないライン上（第２徐冷工程）で徐冷し、その
後カッター５で切断加工するものである。
【００１７】本発明のガラスの表面改質方法は、このよ
うにガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び加工して製
品ガラスを製造するガラスの連続製造工程のうちの徐冷
工程の適当な箇所にスプレーノズル４を設け、連続ガラ
ス体に熱衝撃割れを発生させることなく該ガラス体の表
面に表面改質液をスプレーすることによりガラスの表面
を改質する方法である。
うにガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び加工して製
品ガラスを製造するガラスの連続製造工程のうちの徐冷
工程の適当な箇所にスプレーノズル４を設け、連続ガラ
ス体に熱衝撃割れを発生させることなく該ガラス体の表
面に表面改質液をスプレーすることによりガラスの表面
を改質する方法である。
【００１８】この徐冷工程において、熱衝撃割れを発生
させることなく表面改質液をスプレーするためのスプレ
ー条件としては、前述の及び／又は、好ましくは下
記[１]及び[２]が挙げられる。
させることなく表面改質液をスプレーするためのスプレ
ー条件としては、前述の及び／又は、好ましくは下
記[１]及び[２]が挙げられる。
【００１９】以下に、このスプレー条件について説明す
る。
る。
【００２０】[１] 表面改質液をスプレーするときの連
続ガラス体の温度について 図１に示すようなガラスの連続製造工程の徐冷工程で
は、徐冷点（粘度が１０ １２Ｐａ・ｓ（１０１３ｐｏｉ
ｓｅ）の点）及び歪み点Ｔｓ（粘度が４×１０１ ３Ｐａ
・ｓ（４×１０１４ｐｏｉｓｅ）の点）を中心とした温
度域ではシールドレヤー３で徐冷ラインを囲み、ガラス
の歪み変形を防ぐために精密な温度管理を実施している
（第１徐冷工程）。このシールドレヤー３で囲まれた第
１徐冷工程の後段の第２徐冷工程では、切断加工に到る
まで、連続ガラス体はオープンスペースを移動して徐冷
される。
続ガラス体の温度について 図１に示すようなガラスの連続製造工程の徐冷工程で
は、徐冷点（粘度が１０ １２Ｐａ・ｓ（１０１３ｐｏｉ
ｓｅ）の点）及び歪み点Ｔｓ（粘度が４×１０１ ３Ｐａ
・ｓ（４×１０１４ｐｏｉｓｅ）の点）を中心とした温
度域ではシールドレヤー３で徐冷ラインを囲み、ガラス
の歪み変形を防ぐために精密な温度管理を実施している
（第１徐冷工程）。このシールドレヤー３で囲まれた第
１徐冷工程の後段の第２徐冷工程では、切断加工に到る
まで、連続ガラス体はオープンスペースを移動して徐冷
される。
【００２１】本発明に従って表面改質を行うためには、
他のガラス製造条件に悪影響を及ぼさないように、歪み
点Ｔｓよりも低い温度で、かつ表面改質が可能な温度域
で表面改質液をスプレーする必要がある。この場合、ガ
ラスの歪み点付近でスプレーすると、ガラスの精密徐冷
温度制御に悪影響を及ぼす上に、ガラスに反りや歪み等
の欠陥を引き起こすこととなる。
他のガラス製造条件に悪影響を及ぼさないように、歪み
点Ｔｓよりも低い温度で、かつ表面改質が可能な温度域
で表面改質液をスプレーする必要がある。この場合、ガ
ラスの歪み点付近でスプレーすると、ガラスの精密徐冷
温度制御に悪影響を及ぼす上に、ガラスに反りや歪み等
の欠陥を引き起こすこととなる。
【００２２】表面改質はそれぞれ目的に応じた最適な温
度域で実施する必要があるが、このような不具合を防止
するために、表面改質液のスプレーは、連続ガラス体の
温度が（Ｔｓ−１００）℃〜１００℃の温度域となる徐
冷工程で行うことが望ましい。なお、通常の板ガラスの
歪み点Ｔｓは５００℃程度であることから、この温度域
は、１００〜４００℃、特に１５０〜３００℃とするの
が好ましい。
度域で実施する必要があるが、このような不具合を防止
するために、表面改質液のスプレーは、連続ガラス体の
温度が（Ｔｓ−１００）℃〜１００℃の温度域となる徐
冷工程で行うことが望ましい。なお、通常の板ガラスの
歪み点Ｔｓは５００℃程度であることから、この温度域
は、１００〜４００℃、特に１５０〜３００℃とするの
が好ましい。
【００２３】[２] 表面改質液をスプレーしたときの放
熱量について ガラスに不均質な熱分布を与えるとガラス体の表裏或い
は局所的な温度差に起因する熱応力（熱衝撃）でガラス
が割れることが知られている（例えば「日本機械学会
誌」第６５巻 第５２５号、Ｐ１４５４−１４６４、１
９６４）。しかしながら、連続ガラス体の熱衝撃による
割れの発生は、その時の溶融条件（異物等の有無）や成
型条件ないし徐冷状態に大きく左右され、上記文献に示
されるような式は単純には当てはまらない。特に、ガラ
スの連続製造工程のように、大面積の連続ガラス体が高
速で移動する場合には、理論式の適用は難しい。
熱量について ガラスに不均質な熱分布を与えるとガラス体の表裏或い
は局所的な温度差に起因する熱応力（熱衝撃）でガラス
が割れることが知られている（例えば「日本機械学会
誌」第６５巻 第５２５号、Ｐ１４５４−１４６４、１
９６４）。しかしながら、連続ガラス体の熱衝撃による
割れの発生は、その時の溶融条件（異物等の有無）や成
型条件ないし徐冷状態に大きく左右され、上記文献に示
されるような式は単純には当てはまらない。特に、ガラ
スの連続製造工程のように、大面積の連続ガラス体が高
速で移動する場合には、理論式の適用は難しい。
【００２４】本発明者らは、連続ガラス体に均一に表面
改質液をスプレーできるように、その幅方向にスプレー
ノズルを配列し、熱衝撃割れを起こすことなく連続ガラ
ス体に表面改質液をスプレーして表面改質可能な条件を
見出すべく鋭意研究した結果、ガラスの表面に放熱を与
える因子としてスプレー気体（因子としてガラス表面に
到着する際の平均気流速度）及び表面改質液による放熱
効果の２つの因子に基くガラス表面からの放熱量が重要
であり、これらの放熱量を下記の方法で近似して計算し
た結果、この合計放熱量が１６．８×１０４ｋＪ／ｍ２
・ｈｒ（４００００ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）以下であれ
ば、連続ガラス体に熱衝撃割れを生じることなく表面改
質可能であることを見出した。 [近似計算法] (ｉ) ガラス表面の単位面積当たりの冷却を、自然放冷
を別として単位面積当たりの空気（スプレー気体）放熱
量と水（表面改質液）放熱量の合計で近似する。 (ｉｉ) 熱衝撃割れを発生するときのしきい値を求め
る。 (ｉｉｉ) しきい値以下のプロセス及び条件で連続ガラ
ス体に適応する。
改質液をスプレーできるように、その幅方向にスプレー
ノズルを配列し、熱衝撃割れを起こすことなく連続ガラ
ス体に表面改質液をスプレーして表面改質可能な条件を
見出すべく鋭意研究した結果、ガラスの表面に放熱を与
える因子としてスプレー気体（因子としてガラス表面に
到着する際の平均気流速度）及び表面改質液による放熱
効果の２つの因子に基くガラス表面からの放熱量が重要
であり、これらの放熱量を下記の方法で近似して計算し
た結果、この合計放熱量が１６．８×１０４ｋＪ／ｍ２
・ｈｒ（４００００ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）以下であれ
ば、連続ガラス体に熱衝撃割れを生じることなく表面改
質可能であることを見出した。 [近似計算法] (ｉ) ガラス表面の単位面積当たりの冷却を、自然放冷
を別として単位面積当たりの空気（スプレー気体）放熱
量と水（表面改質液）放熱量の合計で近似する。 (ｉｉ) 熱衝撃割れを発生するときのしきい値を求め
る。 (ｉｉｉ) しきい値以下のプロセス及び条件で連続ガラ
ス体に適応する。
【００２５】近似値は以下の通りである。
【００２６】空気の放熱量としての噴流群による平板
（連続ガラス体）の平均熱伝達率ｈｍは、Gardon and
Cobonpueの式（R.Gardon and J.Cabonpue：ｉnt.De
velop.Heat Transfer,454(1962),ASME）を基本に用
い、変形して以下で示される。 ｈｍ＝０．２８６λ／ｘ（Ｕａｘ／ν）^０．６２５ Ｕａ：平板を取り去った時、その位置での噴流中心が示
す速度 ν ：空気動粘性係数 λ ：空気熱伝導率 ｘ ：ノズル間距離 なお、スプレーノズルと平板間距離の因子が出てこない
が、Ｕａという因子にノズル物性値及びノズル条件が含
まれている。従って、単位面積当たりの空気放熱量Ａは
以下の式で近似できる。 Ａ＝ｈｍ（ガラス温度−空気温度）
（連続ガラス体）の平均熱伝達率ｈｍは、Gardon and
Cobonpueの式（R.Gardon and J.Cabonpue：ｉnt.De
velop.Heat Transfer,454(1962),ASME）を基本に用
い、変形して以下で示される。 ｈｍ＝０．２８６λ／ｘ（Ｕａｘ／ν）^０．６２５ Ｕａ：平板を取り去った時、その位置での噴流中心が示
す速度 ν ：空気動粘性係数 λ ：空気熱伝導率 ｘ ：ノズル間距離 なお、スプレーノズルと平板間距離の因子が出てこない
が、Ｕａという因子にノズル物性値及びノズル条件が含
まれている。従って、単位面積当たりの空気放熱量Ａは
以下の式で近似できる。 Ａ＝ｈｍ（ガラス温度−空気温度）
【００２７】一方、水放熱量Ｂは、噴霧した表面改質液
が実際に連続ガラス体までに到達した到達割合ηを仮定
して、以下の粗い近似で代表できる。 Ｂ＝単位面積当たりの表面改質液量×η（表面改質液温
度と沸騰温度との温度差に基く熱量＋単位蒸発熱） ここでηがノズル物性及びノズル条件に関与する量であ
り、スプレーのミスト径及びミスト密度と速度及び雰囲
気温度と密接な関連がある。
が実際に連続ガラス体までに到達した到達割合ηを仮定
して、以下の粗い近似で代表できる。 Ｂ＝単位面積当たりの表面改質液量×η（表面改質液温
度と沸騰温度との温度差に基く熱量＋単位蒸発熱） ここでηがノズル物性及びノズル条件に関与する量であ
り、スプレーのミスト径及びミスト密度と速度及び雰囲
気温度と密接な関連がある。
【００２８】自然冷却以外の単位面積当たり合計放熱量
Ｗは以下の通りである。 Ｗ＝Ａ＋Ｂ 上記近似値において、Ｕａは比較的簡単に実験的に求め
ることができ、実際のスプレーノズル−連続ガラス体間
距離でスプレーして、その位置での中心の風速を風速計
で求めることによって容易に求めることができる。ま
た、ηは比較的低温領域では雰囲気温度を調整して、実
際の位置に容器を用意して到達する表面改質液量を測定
することにより容易に求めることができる。
Ｗは以下の通りである。 Ｗ＝Ａ＋Ｂ 上記近似値において、Ｕａは比較的簡単に実験的に求め
ることができ、実際のスプレーノズル−連続ガラス体間
距離でスプレーして、その位置での中心の風速を風速計
で求めることによって容易に求めることができる。ま
た、ηは比較的低温領域では雰囲気温度を調整して、実
際の位置に容器を用意して到達する表面改質液量を測定
することにより容易に求めることができる。
【００２９】このようにして算出される合計放熱量Ｗが
１６．８×１０４ｋＪ／ｍ２・ｈｒ（４００００ｋｃａ
ｌ／ｍ２・ｈｒ）以下となるようにするには、スプレー
する表面改質液量やスプレー気体量、その他吹付時の風
速等を適宜調整すれば良く、また、場合によっては、ス
プレーノズルを揺動させる、霧状のミストとする等も有
効な手段である。
１６．８×１０４ｋＪ／ｍ２・ｈｒ（４００００ｋｃａ
ｌ／ｍ２・ｈｒ）以下となるようにするには、スプレー
する表面改質液量やスプレー気体量、その他吹付時の風
速等を適宜調整すれば良く、また、場合によっては、ス
プレーノズルを揺動させる、霧状のミストとする等も有
効な手段である。
【００３０】本発明の方法を実施するには、ガラスの連
続製造工程の徐冷工程（図１においては第２徐冷工程）
にスプレーノズルを配置し、好ましくは、前記，の
条件を採用して、熱衝撃割れを発生させることなく連続
ガラス体表面に表面改質液をスプレーすれば良く、表面
改質するガラスの組成や用いる表面改質液の種類、その
他の条件に特に制限はない。
続製造工程の徐冷工程（図１においては第２徐冷工程）
にスプレーノズルを配置し、好ましくは、前記，の
条件を採用して、熱衝撃割れを発生させることなく連続
ガラス体表面に表面改質液をスプレーすれば良く、表面
改質するガラスの組成や用いる表面改質液の種類、その
他の条件に特に制限はない。
【００３１】なお、表面改質液としては、次のようなも
のを用いることができるが、これらに限定されるもので
はない。
のを用いることができるが、これらに限定されるもので
はない。
【００３２】[１] 抗菌性の付与のための表面改質液 銀、銀・銅合金等の銀合金、クエン酸銀等の有機銀化合
物、塩化銀、硫化銀、酸化銀、硫酸銀等の無機銀化合物
等（以下、これらを「銀系材料」と称す。）の１種又は
２種以上を含む液。具体的には、銀コロイドや、銀合
金、上記有機銀化合物又は無機銀化合物等の銀系材料の
水分散液、アルコール水溶液分散液、アルコール分散
液、他の有機溶媒分散液等を用いることができる。この
ような分散液中の銀系材料の粒子径は１０ミクロン以
下、特に０．１ミクロン以下の微粒子であることがガラ
ス表面上への拡散固定化の面で好ましい。また、これら
の分散液中の銀系材料の濃度は０．０１〜３重量％であ
ることが好ましい。
物、塩化銀、硫化銀、酸化銀、硫酸銀等の無機銀化合物
等（以下、これらを「銀系材料」と称す。）の１種又は
２種以上を含む液。具体的には、銀コロイドや、銀合
金、上記有機銀化合物又は無機銀化合物等の銀系材料の
水分散液、アルコール水溶液分散液、アルコール分散
液、他の有機溶媒分散液等を用いることができる。この
ような分散液中の銀系材料の粒子径は１０ミクロン以
下、特に０．１ミクロン以下の微粒子であることがガラ
ス表面上への拡散固定化の面で好ましい。また、これら
の分散液中の銀系材料の濃度は０．０１〜３重量％であ
ることが好ましい。
【００３３】[２] 耐ウェザーリング性付与のための表
面改質液 ０．１〜２０重量％程度の硝酸亜鉛水溶液を用いること
ができる。
面改質液 ０．１〜２０重量％程度の硝酸亜鉛水溶液を用いること
ができる。
【００３４】[３] 撥水性付与のための表面改質液 例えば、撥水性付与のための表面改質液としては、特に
限定されないが、撥水性官能基としてのフロオロアルキ
ル基、および加水分解可能な基を含有するオルガノシラ
ンが好ましい。
限定されないが、撥水性官能基としてのフロオロアルキ
ル基、および加水分解可能な基を含有するオルガノシラ
ンが好ましい。
【００３５】フロオロアルキル基を含有するオルガノシ
ランとしては、ＣＦ３（ＣＦ２）１ １（ＣＨ２）２Ｓｉ
Ｃｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｃ
ｌ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２） ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ
３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ
２） ６（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）
５（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ ３（ＣＦ２）４（ＣＨ
２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓ
ｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２ＳｉＣ
ｌ３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２） ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ
３（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３のようなパーフロオロアルキ
ル基含有トリクロロシラン；ＣＦ３（ＣＦ２）１１（Ｃ
Ｈ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）
１０（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）２（ＣＨ２） ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３ＣＦ
２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）
２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１１（Ｃ
Ｈ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０
（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ ３（ＣＦ２）
９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）８（ＣＨ ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ
３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ ５）３、Ｃ
Ｆ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、
ＣＦ３（ＣＦ ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ
２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｏ
Ｃ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓ
ｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ
５）３のようなパーフロオロアルキル基含有トリアルコ
キシシラン；ＣＦ３（ＣＦ２）１１（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）
２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ
２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）
８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ
２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ
３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）
３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ
３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯ
ＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｏ
ＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ
ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ３）３のようなパーフロオロアルキル基含有トリアシ
ロキシシラン；ＣＦ３（ＣＦ２）１１（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２） ２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２） ２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２） ２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣＯ）３のような
パーフロオロアルキル基含有トリイソシアネートシラン
を例示することができる。
ランとしては、ＣＦ３（ＣＦ２）１ １（ＣＨ２）２Ｓｉ
Ｃｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｃ
ｌ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、
ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２） ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ
３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ
２） ６（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）
５（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ ３（ＣＦ２）４（ＣＨ
２）２ＳｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓ
ｉＣｌ３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２ＳｉＣ
ｌ３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２） ２ＳｉＣｌ３、ＣＦ
３（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３のようなパーフロオロアルキ
ル基含有トリクロロシラン；ＣＦ３（ＣＦ２）１１（Ｃ
Ｈ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）
１０（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）２（ＣＨ２） ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３ＣＦ
２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）
２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１１（Ｃ
Ｈ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０
（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ ３（ＣＦ２）
９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）８（ＣＨ ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ
３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ ５）３、Ｃ
Ｆ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、
ＣＦ３（ＣＦ ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ
２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｏ
Ｃ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓ
ｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ
５）３のようなパーフロオロアルキル基含有トリアルコ
キシシラン；ＣＦ３（ＣＦ２）１１（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）
２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ
２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）
８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ
２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＦ
３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、
ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）
３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ
３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯ
ＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（Ｏ
ＣＯＣＨ３）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ
ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ３）３のようなパーフロオロアルキル基含有トリアシ
ロキシシラン；ＣＦ３（ＣＦ２）１１（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）１０（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２） ２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２） ２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２） ２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＦ ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣＯ）３のような
パーフロオロアルキル基含有トリイソシアネートシラン
を例示することができる。
【００３６】また、アルキル基を含有するオルガノシラ
ンとしては、特に限定されるものではないが、炭素数１
〜３０の直鎖状のアルキル基、および加水分解可能な基
を含有するオルガノシランが好ましく利用できる。
ンとしては、特に限定されるものではないが、炭素数１
〜３０の直鎖状のアルキル基、および加水分解可能な基
を含有するオルガノシランが好ましく利用できる。
【００３７】アルキル基を含有するオルガノシランとし
ては、ＣＨ３（ＣＨ２）３０ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ
２）２０ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１８ＳｉＣ
ｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１６ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ
２）１４ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１２ＳｉＣ
ｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１０ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ
２）９ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）８ＳｉＣｌ３、Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）７ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）６Ｓｉ
Ｃｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）５ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ
２）４ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３、Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＨ３ＣＨ２ＳｉＣ
ｌ３、（ＣＨ３ＣＨ２）２ＳｉＣｌ２、（ＣＨ３Ｃ
Ｈ ２）３ＳｉＣｌ、ＣＨ３ＳｉＣｌ３、（ＣＨ３）２Ｓ
ｉＣｌ２、（ＣＨ３）３ＳｉＣｌのようなアルキル基含
有クロロシラン；ＣＨ３（ＣＨ２）３０Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２０Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＨ３（ＣＨ２）１８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）１６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１４
Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１２Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１０Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＨ３（ＣＨ２）９Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ
２）８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓｉ
（ＯＣＨ３） ３、ＣＨ３（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣＨ３）
３、ＣＨ３（ＣＨ２）５Ｓｉ（ＯＣＨ ３）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）
３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ３）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、（ＣＨ３
ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２、（ＣＨ３ＣＨ２）３Ｓ
ｉＯＣＨ３、ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、（ＣＨ３）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３）２、（ＣＨ ３）３ＳｉＯＣＨ３、ＣＨ
３（ＣＨ２）３０Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ
２）２０Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１８
Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１６Ｓｉ（Ｏ
Ｃ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１４Ｓｉ（ＯＣ
２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）
３、ＣＨ３（ＣＨ２） １０Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）９Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）８Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓ
ｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣ２
Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）５Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、
ＣＨ３（ＣＨ２）４Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２Ｓ
ｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）
３、（ＣＨ３ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）２、（ＣＨ
３ＣＨ ２）３ＳｉＯＣ２Ｈ５、ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣ
２Ｈ５）３、（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＣ ２Ｈ５）２、（Ｃ
Ｈ３）３ＳｉＯＣ２Ｈ５のようなアルキル基含有アルコ
キシシラン；ＣＨ３（ＣＨ２）３０Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２０Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）
３、ＣＨ３（ＣＨ２）１８Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）１６Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）１４Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）１２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）
１ ０Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）９Ｓｉ
（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ ３（ＣＨ２）８Ｓｉ（ＯＣＯ
ＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ ３）
３、ＣＨ３（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）５Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ
２）４Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）３Ｓ
ｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ
ＯＣＨ３）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、
（ＣＨ３ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ ３）２、（ＣＨ３
ＣＨ２）３ＳｉＯＣＯＣＨ３、ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ
３）３、（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）２、（ＣＨ
３）３ＳｉＯＣＯＣＨ３のようなアルキル基含有アシロ
キシシラン；ＣＨ３（ＣＨ２）３０Ｓｉ（ＮＣＯ）３、
ＣＨ３（ＣＨ２）２０Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ
２）１８Ｓｉ（ＮＣＯ） ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１６Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１４Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１２Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）１０Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）
９Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）８Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３
（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）５Ｓ
ｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）４Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３
（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（Ｎ
ＣＯ）３、（ＣＨ３ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣＯ）２、（Ｃ
Ｈ３ＣＨ２）３ＳｉＮＣＯ、ＣＨ３Ｓｉ（ＮＣＯ）３、
（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＮＣＯ）２、（ＣＨ３）３ＳｉＮＣ
Ｏのようなアルキル基含有イソシアネートシランを例示
することができる。
ては、ＣＨ３（ＣＨ２）３０ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ
２）２０ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１８ＳｉＣ
ｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１６ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ
２）１４ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１２ＳｉＣ
ｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１０ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ
２）９ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）８ＳｉＣｌ３、Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）７ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）６Ｓｉ
Ｃｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）５ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ
２）４ＳｉＣｌ３、ＣＨ３（ＣＨ２）３ＳｉＣｌ３、Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、ＣＨ３ＣＨ２ＳｉＣ
ｌ３、（ＣＨ３ＣＨ２）２ＳｉＣｌ２、（ＣＨ３Ｃ
Ｈ ２）３ＳｉＣｌ、ＣＨ３ＳｉＣｌ３、（ＣＨ３）２Ｓ
ｉＣｌ２、（ＣＨ３）３ＳｉＣｌのようなアルキル基含
有クロロシラン；ＣＨ３（ＣＨ２）３０Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２０Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＨ３（ＣＨ２）１８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）１６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１４
Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１２Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１０Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
ＣＨ３（ＣＨ２）９Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ
２）８Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓｉ
（ＯＣＨ３） ３、ＣＨ３（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣＨ３）
３、ＣＨ３（ＣＨ２）５Ｓｉ（ＯＣＨ ３）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）
３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ３）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、（ＣＨ３
ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２、（ＣＨ３ＣＨ２）３Ｓ
ｉＯＣＨ３、ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、（ＣＨ３）２
Ｓｉ（ＯＣＨ３）２、（ＣＨ ３）３ＳｉＯＣＨ３、ＣＨ
３（ＣＨ２）３０Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ
２）２０Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１８
Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１６Ｓｉ（Ｏ
Ｃ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１４Ｓｉ（ＯＣ
２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）
３、ＣＨ３（ＣＨ２） １０Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）９Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）８Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓ
ｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣ２
Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）５Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、
ＣＨ３（ＣＨ２）４Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）３Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２Ｓ
ｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）
３、（ＣＨ３ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）２、（ＣＨ
３ＣＨ ２）３ＳｉＯＣ２Ｈ５、ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣ
２Ｈ５）３、（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＣ ２Ｈ５）２、（Ｃ
Ｈ３）３ＳｉＯＣ２Ｈ５のようなアルキル基含有アルコ
キシシラン；ＣＨ３（ＣＨ２）３０Ｓｉ（ＯＣＯＣ
Ｈ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２０Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）
３、ＣＨ３（ＣＨ２）１８Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）１６Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）１４Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）１２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）
１ ０Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）９Ｓｉ
（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ ３（ＣＨ２）８Ｓｉ（ＯＣＯ
ＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ ３）
３、ＣＨ３（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）５Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ
２）４Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）３Ｓ
ｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、ＣＨ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ
ＯＣＨ３）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、
（ＣＨ３ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ ３）２、（ＣＨ３
ＣＨ２）３ＳｉＯＣＯＣＨ３、ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ
３）３、（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）２、（ＣＨ
３）３ＳｉＯＣＯＣＨ３のようなアルキル基含有アシロ
キシシラン；ＣＨ３（ＣＨ２）３０Ｓｉ（ＮＣＯ）３、
ＣＨ３（ＣＨ２）２０Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ
２）１８Ｓｉ（ＮＣＯ） ３、ＣＨ３（ＣＨ２）１６Ｓｉ
（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１４Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）１２Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ
３（ＣＨ２）１０Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）
９Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）８Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）７Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３
（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）５Ｓ
ｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）４Ｓｉ（ＮＣ
Ｏ）３、ＣＨ３（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３
（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣＯ）３、ＣＨ３ＣＨ２Ｓｉ（Ｎ
ＣＯ）３、（ＣＨ３ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣＯ）２、（Ｃ
Ｈ３ＣＨ２）３ＳｉＮＣＯ、ＣＨ３Ｓｉ（ＮＣＯ）３、
（ＣＨ３）２Ｓｉ（ＮＣＯ）２、（ＣＨ３）３ＳｉＮＣ
Ｏのようなアルキル基含有イソシアネートシランを例示
することができる。
【００３８】さらに、ポリアルキレンオキシド基、およ
び加水分解可能な基を分子内に有するオルガノシランを
用いて処理することによって、水滴の転がり始める臨界
傾斜角が低く、かつ、汚れが吸着あるいは付着しにくい
撥水性膜を得ることができる。
び加水分解可能な基を分子内に有するオルガノシランを
用いて処理することによって、水滴の転がり始める臨界
傾斜角が低く、かつ、汚れが吸着あるいは付着しにくい
撥水性膜を得ることができる。
【００３９】上記ポリアルキレンオキシド基としては、
ポリエチレンオキシド基、ポリプロピレンオキシド基な
どが主に使用される。これらの基を有するオルガノシラ
ンとして、例えば、［アルコキシ（ポリアルキレンオキ
シ）アルキル］トリアルコキシシラン、Ｎ−（トリエト
キシシリルプロピル）−Ｏ−ポリエチレンオキシドウレ
タン、［アルコキシ（ポリアルキレンオキシ）アルキ
ル］トリクロロシラン、Ｎ−（トリクロロシリルプロピ
ル）−Ｏ−ポリエチレンオキシドウレタンのようなオル
ガノシランが上げられるが、より具体的には［メトキシ
（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラ
ン、［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリ
エトキシシラン、［ブトキシ（ポリプロピレンオキシ）
プロピル］トリメトキシシラン等が好ましく用いられ
る。
ポリエチレンオキシド基、ポリプロピレンオキシド基な
どが主に使用される。これらの基を有するオルガノシラ
ンとして、例えば、［アルコキシ（ポリアルキレンオキ
シ）アルキル］トリアルコキシシラン、Ｎ−（トリエト
キシシリルプロピル）−Ｏ−ポリエチレンオキシドウレ
タン、［アルコキシ（ポリアルキレンオキシ）アルキ
ル］トリクロロシラン、Ｎ−（トリクロロシリルプロピ
ル）−Ｏ−ポリエチレンオキシドウレタンのようなオル
ガノシランが上げられるが、より具体的には［メトキシ
（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリメトキシシラ
ン、［メトキシ（ポリエチレンオキシ）プロピル］トリ
エトキシシラン、［ブトキシ（ポリプロピレンオキシ）
プロピル］トリメトキシシラン等が好ましく用いられ
る。
【００４０】これらのオルガノシランをアルコール溶媒
に溶解し、酸触媒を用いて加水分解した溶液をスプレー
できる。また、上記オルガノシランの加水分解性官能基
の反応性が高い場合、例えば、上記オルガノシランがク
ロル基、イソシアネート基、アシロキシ基等を有する場
合は、上記オルガノシランを、希釈しないでそのままで
スプレーしたり、またはパーフロオロカーボン、塩化メ
チレン、炭化水素、シリコーンのような非水系溶媒で希
釈しただけの液をスプレーしてもよい。
に溶解し、酸触媒を用いて加水分解した溶液をスプレー
できる。また、上記オルガノシランの加水分解性官能基
の反応性が高い場合、例えば、上記オルガノシランがク
ロル基、イソシアネート基、アシロキシ基等を有する場
合は、上記オルガノシランを、希釈しないでそのままで
スプレーしたり、またはパーフロオロカーボン、塩化メ
チレン、炭化水素、シリコーンのような非水系溶媒で希
釈しただけの液をスプレーしてもよい。
【００４１】上記表面改質液のガラス表面へのスプレー
量には特に制限はなく、要求特性等に応じて適宜決定さ
れる。
量には特に制限はなく、要求特性等に応じて適宜決定さ
れる。
【００４２】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００４３】実施例１ 図１に示す板ガラスの実製造ライン（フロート法）にお
いて、第２徐冷工程のソーダライムガラスの温度が２５
０℃の位置にスプレーノズルをセットし、銀コロイドの
水分散液（濃度０．１重量％、平均粒径０．０８ミクロ
ン）を、合計放熱量１０．５×１０４ｋＪ／ｍ２・ｈｒ
（２５０００ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）の条件で板ガラス
表面にスプレーしてサンプルを得た。この表面改質に当
たり、ガラスの熱衝撃割れは発生しなかった。
いて、第２徐冷工程のソーダライムガラスの温度が２５
０℃の位置にスプレーノズルをセットし、銀コロイドの
水分散液（濃度０．１重量％、平均粒径０．０８ミクロ
ン）を、合計放熱量１０．５×１０４ｋＪ／ｍ２・ｈｒ
（２５０００ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）の条件で板ガラス
表面にスプレーしてサンプルを得た。この表面改質に当
たり、ガラスの熱衝撃割れは発生しなかった。
【００４４】このサンプルについて、抗菌製品技術協議
会提唱の抗菌力試験法Ｉ（１９９８年度版）のフィルム
密着法をガラス向けに変更して実施（フィルム無し、菌
滴下量０．１ｍＬに変更）した結果、抗菌性が認められ
た。
会提唱の抗菌力試験法Ｉ（１９９８年度版）のフィルム
密着法をガラス向けに変更して実施（フィルム無し、菌
滴下量０．１ｍＬに変更）した結果、抗菌性が認められ
た。
【００４５】実施例２ 図１に示す板ガラスの実製造ライン（フロート法）にお
いて、徐冷工程のソーダライムガラスの温度が１５０℃
の位置にスプレーノズルをセットし、撥水性付与のため
の表面改質液を、合計放熱量８．４×１０４ｋＪ／ｍ２
・ｈｒ（２００００ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）の条件で板
ガラス表面にスプレーしてサンプルを得た。この表面改
質に当たり、ガラスの熱衝撃割れは発生しなかった。
いて、徐冷工程のソーダライムガラスの温度が１５０℃
の位置にスプレーノズルをセットし、撥水性付与のため
の表面改質液を、合計放熱量８．４×１０４ｋＪ／ｍ２
・ｈｒ（２００００ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）の条件で板
ガラス表面にスプレーしてサンプルを得た。この表面改
質に当たり、ガラスの熱衝撃割れは発生しなかった。
【００４６】なお、この表面改質液は、ＣＦ３（Ｃ
Ｆ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３） ３（ヘプタデカ
フルオロデシルトリメトキシシラン、信越化学工業
（株）製）１ｇをエタノール９８ｇに溶解し、さらに
０．１規定塩酸を１．０ｇ添加し、１時間撹拌して得ら
れた液である。
Ｆ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３） ３（ヘプタデカ
フルオロデシルトリメトキシシラン、信越化学工業
（株）製）１ｇをエタノール９８ｇに溶解し、さらに
０．１規定塩酸を１．０ｇ添加し、１時間撹拌して得ら
れた液である。
【００４７】このサンプルについて、洗浄後、水をかけ
たところ、良好な撥水性が認められた。
たところ、良好な撥水性が認められた。
【００４８】実施例３ 図１に示す板ガラスの実製造ライン（フロート法）にお
いて、徐冷工程のソーダライムガラスの温度が２５０℃
の位置にスプレーノズルをセットし、熱衝撃割れを防ぐ
ためにこのスプレーノズルを揺動させながら、１０重量
％硝酸亜鉛水溶液を、合計放熱量１０．５×１０４ｋＪ
／ｍ２・ｈｒ（２５０００ｋｃａｌ／ｍ ２・ｈｒ）で板
ガラス表面にスプレーしてサンプルを得た。この表面改
質に当たり、ガラスの熱衝撃割れは発生しなかった。
いて、徐冷工程のソーダライムガラスの温度が２５０℃
の位置にスプレーノズルをセットし、熱衝撃割れを防ぐ
ためにこのスプレーノズルを揺動させながら、１０重量
％硝酸亜鉛水溶液を、合計放熱量１０．５×１０４ｋＪ
／ｍ２・ｈｒ（２５０００ｋｃａｌ／ｍ ２・ｈｒ）で板
ガラス表面にスプレーしてサンプルを得た。この表面改
質に当たり、ガラスの熱衝撃割れは発生しなかった。
【００４９】このサンプルについて、耐ウェザーリング
性を調べたところ、良好な特性が認められた。
性を調べたところ、良好な特性が認められた。
【００５０】比較例１〜３ 実施例１〜３において、各々、表面改質液を合計放熱量
１８．２×１０４ｋＪ／ｍ２・ｈｒ（４５０００ｋｃａ
ｌ／ｍ２・ｈｒ）の条件でスプレーしたこと以外は同様
にして表面改質を試みたところ、いずれもガラスの熱衝
撃割れで製品を得ることができなかった。
１８．２×１０４ｋＪ／ｍ２・ｈｒ（４５０００ｋｃａ
ｌ／ｍ２・ｈｒ）の条件でスプレーしたこと以外は同様
にして表面改質を試みたところ、いずれもガラスの熱衝
撃割れで製品を得ることができなかった。
【００５１】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、ガ
ラスの連続製造工程において、簡便かつ効率的にガラス
を表面改質し、ガラスの表面に抗菌性、耐ウェザーリン
グ性、撥水性等の機能を付与して、高特性表面改質ガラ
スを高い生産性のもとに歩留り良く製造することができ
る。
ラスの連続製造工程において、簡便かつ効率的にガラス
を表面改質し、ガラスの表面に抗菌性、耐ウェザーリン
グ性、撥水性等の機能を付与して、高特性表面改質ガラ
スを高い生産性のもとに歩留り良く製造することができ
る。
【図１】本発明のガラスの表面改質方法の実施の形態を
示す模式図である。
示す模式図である。
１ 窯 ２ フロートバス ３ シールドレヤー ４ スプレーノズル ５ カッター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｆ 7/12 Ｃ０７Ｆ 7/12 Ｄ (72)発明者 丹羽 努 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 岩瀬 世彦 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 4G059 AA01 AB14 AC18 AC22 AC30 DA01 DB04 EB06 FA01 FB03 4H011 AA02 BB18 DB05 DD07 4H049 VN01 VP01 VQ10 VQ20 VR21 VR31 VR43 VU21
Claims (5)
- 【請求項１】 加熱されたガラスの表面に該ガラスの表
面改質用の液体をスプレーして該ガラスの表面を改質す
る方法であって、 ガラスを連続的に溶融、成型、徐冷及び加工して製品ガ
ラスを製造するガラスの連続製造工程のうちの徐冷工程
において、連続ガラス体に割れを発生させることなく該
ガラス体の表面に前記表面改質用の液体をスプレーする
ことを特徴とするガラスの表面改質方法。 - 【請求項２】 請求項１において、前記表面改質が、抗
菌性、耐ウェザーリング性又は撥水性の付与であること
を特徴とするガラスの表面改質方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、前記表面改質
用の液体をスプレーする連続ガラス体の温度が、１００
℃以上（Ｔｓ−１００℃）以下（ただし、Ｔｓは当該ガ
ラスの歪み点）であることを特徴とするガラスの表面改
質方法。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項におい
て、前記表面改質用の液体を連続ガラス体にスプレーし
たときのスプレー気体による該ガラス体からの放熱量と
スプレー液体による該ガラス体からの放熱量との合計の
放熱量が１６．８×１０４ｋＪ／ｍ２・ｈｒ（４０００
０ｋｃａｌ／ｍ２・ｈｒ）以下であることを特徴とする
ガラスの表面改質方法。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項に記載
のガラスの表面改質方法により表面改質されたことを特
徴とする表面改質ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000001727A JP2001192234A (ja) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | ガラスの表面改質方法及び表面改質ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000001727A JP2001192234A (ja) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | ガラスの表面改質方法及び表面改質ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001192234A true JP2001192234A (ja) | 2001-07-17 |
Family
ID=18530922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000001727A Pending JP2001192234A (ja) | 2000-01-07 | 2000-01-07 | ガラスの表面改質方法及び表面改質ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001192234A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012511494A (ja) * | 2008-12-12 | 2012-05-24 | ピルキントン グループ リミテッド | 汚染抵抗性を改善したガラス |
| WO2013008896A1 (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-17 | 旭硝子株式会社 | 積層膜付きガラス基板の製造方法 |
| WO2013008897A1 (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-17 | 旭硝子株式会社 | 積層膜付きガラス基板の製造方法 |
-
2000
- 2000-01-07 JP JP2000001727A patent/JP2001192234A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012511494A (ja) * | 2008-12-12 | 2012-05-24 | ピルキントン グループ リミテッド | 汚染抵抗性を改善したガラス |
| WO2013008896A1 (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-17 | 旭硝子株式会社 | 積層膜付きガラス基板の製造方法 |
| WO2013008897A1 (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-17 | 旭硝子株式会社 | 積層膜付きガラス基板の製造方法 |
| US9309148B2 (en) | 2011-07-12 | 2016-04-12 | Asahi Glass Company, Limited | Method for manufacturing glass substrate with layered film |
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