JP2001188127A - マイクロリターダ - Google Patents
マイクロリターダInfo
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N13/00—Stereoscopic video systems; Multi-view video systems; Details thereof
- H04N13/30—Image reproducers
- H04N13/302—Image reproducers for viewing without the aid of special glasses, i.e. using autostereoscopic displays
- H04N13/305—Image reproducers for viewing without the aid of special glasses, i.e. using autostereoscopic displays using lenticular lenses, e.g. arrangements of cylindrical lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N13/00—Stereoscopic video systems; Multi-view video systems; Details thereof
- H04N13/30—Image reproducers
- H04N13/302—Image reproducers for viewing without the aid of special glasses, i.e. using autostereoscopic displays
- H04N13/31—Image reproducers for viewing without the aid of special glasses, i.e. using autostereoscopic displays using parallax barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N13/00—Stereoscopic video systems; Multi-view video systems; Details thereof
- H04N13/30—Image reproducers
- H04N13/332—Displays for viewing with the aid of special glasses or head-mounted displays [HMD]
- H04N13/337—Displays for viewing with the aid of special glasses or head-mounted displays [HMD] using polarisation multiplexing
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- Signal Processing (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 影の発生を減少させて立体ディスプレイの輝
度を維持して、輝度を半分まで減少させないマイクロリ
ターダおよびその製作方法を提供する。 【解決手段】 この発明のマイクロリターダが、第1,
2表面および複数個の第1,2領域を有して、第1領域
と第2領域の偏光方向がお互いに垂直であるマイクロフ
ェーズリターダと、第1表面により覆われた第1屈折率
を有する接着膜を含む。そして第1屈折率を有する接着
膜により覆われ、第1屈折率を有する接着膜がマイクロ
フェーズリターダと第1保護膜間に位置する第1保護膜
と、マイクロフェーズリターダの第2表面により覆われ
た第2屈折率を有する接着膜、および第2保護膜が第2
屈折率を有する接着膜に覆われ、第2屈折率接着膜が第
2保護膜とマイクロフェーズリターダ間に位置する。
度を維持して、輝度を半分まで減少させないマイクロリ
ターダおよびその製作方法を提供する。 【解決手段】 この発明のマイクロリターダが、第1,
2表面および複数個の第1,2領域を有して、第1領域
と第2領域の偏光方向がお互いに垂直であるマイクロフ
ェーズリターダと、第1表面により覆われた第1屈折率
を有する接着膜を含む。そして第1屈折率を有する接着
膜により覆われ、第1屈折率を有する接着膜がマイクロ
フェーズリターダと第1保護膜間に位置する第1保護膜
と、マイクロフェーズリターダの第2表面により覆われ
た第2屈折率を有する接着膜、および第2保護膜が第2
屈折率を有する接着膜に覆われ、第2屈折率接着膜が第
2保護膜とマイクロフェーズリターダ間に位置する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はマイクロリターダ
(micro retarder)およびその製作方法に関する。特に
本発明は、二重の屈折特性を有するプラスチック面板の
マイクロリターダおよびその制作方法に関する。
(micro retarder)およびその製作方法に関する。特に
本発明は、二重の屈折特性を有するプラスチック面板の
マイクロリターダおよびその制作方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、偏光メガネをかけた使用者に3D
立体図形を見せるためには、偏光子(Polarizer)上あ
るいは位相リターダ(Phase retarder)上にパターンを
加工製作して、液晶表示スクリーンを使用していた。例
えばアメリカ特許第5,327,285号に開示の偏光子上にマ
イクロ偏光板を製作する方法は、透明印刷インクによる
印刷、あるいはフォトレジスト・エッチング法で行って
いた。アメリカ特許第5,844,717号では上記の発明と同
一の発明者が、フォトレジスト・エッチング法などの方
法によりマイクロ偏光板を製作する方法を開示した。
立体図形を見せるためには、偏光子(Polarizer)上あ
るいは位相リターダ(Phase retarder)上にパターンを
加工製作して、液晶表示スクリーンを使用していた。例
えばアメリカ特許第5,327,285号に開示の偏光子上にマ
イクロ偏光板を製作する方法は、透明印刷インクによる
印刷、あるいはフォトレジスト・エッチング法で行って
いた。アメリカ特許第5,844,717号では上記の発明と同
一の発明者が、フォトレジスト・エッチング法などの方
法によりマイクロ偏光板を製作する方法を開示した。
【0003】上記2つの従来技術の異なる点は、それぞ
れ異なる偏光子上にマイクロ偏光板を加工して製作する
ことにある。加工後の偏光方向相互垂直の2つの偏光子
を交互に重ねて(図1Aと図1Bを参照)、マイクロ偏
光板を形成する。図1Cに示すように、このマイクロ偏
光板と液晶表示面板を適当に結合、使用者は偏光メガネ
を使用して立体影像を見ることができる。ただし一般の
マイクロ偏光板の各小領域は非常に小さいため、精確に
交互に重ねるのは簡単ではなく、ずれた箇所には影が発
生して、立体効果に悪い影響が生じる。この他、この交
互に重ねるマイクロ偏光板を利用すると光の輝度が半分
に減少する欠点もあった。
れ異なる偏光子上にマイクロ偏光板を加工して製作する
ことにある。加工後の偏光方向相互垂直の2つの偏光子
を交互に重ねて(図1Aと図1Bを参照)、マイクロ偏
光板を形成する。図1Cに示すように、このマイクロ偏
光板と液晶表示面板を適当に結合、使用者は偏光メガネ
を使用して立体影像を見ることができる。ただし一般の
マイクロ偏光板の各小領域は非常に小さいため、精確に
交互に重ねるのは簡単ではなく、ずれた箇所には影が発
生して、立体効果に悪い影響が生じる。この他、この交
互に重ねるマイクロ偏光板を利用すると光の輝度が半分
に減少する欠点もあった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、構
造がシンプルなため製作が簡単となり、影の発生を減少
させて立体ディスプレイの輝度を維持して、輝度が半分
まで減少することがないマイクロリターダおよびその製
作方法を提供することである。
造がシンプルなため製作が簡単となり、影の発生を減少
させて立体ディスプレイの輝度を維持して、輝度が半分
まで減少することがないマイクロリターダおよびその製
作方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明のマイクロリタ
ーダが、第1,2表面および複数個の第1,2領域を有
して、第1領域と第2領域の偏光方向がお互いに垂直で
あるマイクロフェーズリターダと、第1表面により覆わ
れた第1屈折率を有する接着膜を含む。そして第1屈折
率を有する接着膜により覆われ、第1屈折率を有する接
着膜がマイクロフェーズリターダと第1保護膜間に位置
する第1保護膜と、マイクロフェーズリターダの第2表
面により覆われた第2屈折率を有する接着膜、および第
2保護膜が第2屈折率を有する接着膜に覆われ、第2屈
折率接着膜が第2保護膜とマイクロフェーズリターダ間
に位置する。
ーダが、第1,2表面および複数個の第1,2領域を有
して、第1領域と第2領域の偏光方向がお互いに垂直で
あるマイクロフェーズリターダと、第1表面により覆わ
れた第1屈折率を有する接着膜を含む。そして第1屈折
率を有する接着膜により覆われ、第1屈折率を有する接
着膜がマイクロフェーズリターダと第1保護膜間に位置
する第1保護膜と、マイクロフェーズリターダの第2表
面により覆われた第2屈折率を有する接着膜、および第
2保護膜が第2屈折率を有する接着膜に覆われ、第2屈
折率接着膜が第2保護膜とマイクロフェーズリターダ間
に位置する。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる好適な実
施例を図面に基づいて説明する。 <第1実施例>図2に示すように、この発明のマイクロ
リターダは、マイクロフェーズリターダ202、第1屈
折率を有する接着膜210、第1保護膜208、第2屈
折率を有する接着膜212、および第2保護膜214を
含む。マイクロフェーズリターダ202が第1表面20
6と第2表面204を有して、そして数個の第1区域A
と数個の第2区域Bを有する。各第1区域Aと各第2区
域Bを通過する光の偏光方向はお互いに垂直である。第
1屈折率を有する接着膜210は第1表面206で覆わ
れ、第1保護膜208は第1屈折率を有する接着膜21
0で覆われ、第1屈折率を有する接着膜210はマイク
ロフェーズリターダ202と第1保護膜208の間に位
置する。第2屈折率を有する接着膜212はマイクロフ
ェーズリターダ202の第2表面204で覆われ、第2
保護膜214は第2屈折率を有する接着膜212で覆わ
れ、第2屈折率を有する接着膜212は第2保護膜21
4とマイクロフェーズリターダ202間に位置する。
施例を図面に基づいて説明する。 <第1実施例>図2に示すように、この発明のマイクロ
リターダは、マイクロフェーズリターダ202、第1屈
折率を有する接着膜210、第1保護膜208、第2屈
折率を有する接着膜212、および第2保護膜214を
含む。マイクロフェーズリターダ202が第1表面20
6と第2表面204を有して、そして数個の第1区域A
と数個の第2区域Bを有する。各第1区域Aと各第2区
域Bを通過する光の偏光方向はお互いに垂直である。第
1屈折率を有する接着膜210は第1表面206で覆わ
れ、第1保護膜208は第1屈折率を有する接着膜21
0で覆われ、第1屈折率を有する接着膜210はマイク
ロフェーズリターダ202と第1保護膜208の間に位
置する。第2屈折率を有する接着膜212はマイクロフ
ェーズリターダ202の第2表面204で覆われ、第2
保護膜214は第2屈折率を有する接着膜212で覆わ
れ、第2屈折率を有する接着膜212は第2保護膜21
4とマイクロフェーズリターダ202間に位置する。
【0007】上記の第1屈折率を有する接着膜210と
第2屈折率を有する接着膜212の材質はエポキシ樹脂
である。第1保護膜208と第2保護膜214の材質は
ガラス、射出成形アクリルを組み合わせたグループの材
料から選択する。
第2屈折率を有する接着膜212の材質はエポキシ樹脂
である。第1保護膜208と第2保護膜214の材質は
ガラス、射出成形アクリルを組み合わせたグループの材
料から選択する。
【0008】マイクロフェーズリターダ202の材料は
均一なプラスチック材質で、例えば商用液晶ディスプレ
イ採用の補償器、JSR会社製造のArtonプラスチック
膜、日東電工のポリカーボネート膜(Polycarbonate=
PC)、およびその他のポリビニール・アルコール(Po
ly(vinyl alcohol)=PVA)等のプラスチック膜であ
る。プラスチック膜上のパターンは、プラスチック膜を
加熱する時の分子配列方式のx方向とy方向の屈折率を
変化させるのと同じ原理で、このプラスチック膜にプロ
グラム制御の赤外線レーザーを照射して非接触式熱処理
を行う。またレーザー露光量を適当に制御することによ
り、熱処理された透射光のx偏光方向とy偏光方向の位
相差を零にして、熱処理されていない透射光のx偏光方
向とy偏光方向の位相差は零でなく、2つを交互に配列
してマイクロリターダ板を組成する。
均一なプラスチック材質で、例えば商用液晶ディスプレ
イ採用の補償器、JSR会社製造のArtonプラスチック
膜、日東電工のポリカーボネート膜(Polycarbonate=
PC)、およびその他のポリビニール・アルコール(Po
ly(vinyl alcohol)=PVA)等のプラスチック膜であ
る。プラスチック膜上のパターンは、プラスチック膜を
加熱する時の分子配列方式のx方向とy方向の屈折率を
変化させるのと同じ原理で、このプラスチック膜にプロ
グラム制御の赤外線レーザーを照射して非接触式熱処理
を行う。またレーザー露光量を適当に制御することによ
り、熱処理された透射光のx偏光方向とy偏光方向の位
相差を零にして、熱処理されていない透射光のx偏光方
向とy偏光方向の位相差は零でなく、2つを交互に配列
してマイクロリターダ板を組成する。
【0009】上記の均一なプラスチック材質を、全面熱
処理とローラー使用によりある一方向の単軸を伸ばすこ
とにより、上面にパターンのない高分子薄膜あるいは薄
板材料を作成する。単軸を伸ばして透過材料のx方向と
y方向の偏光が位相差ΔΦ(ΔΦ=2πd・ΔN/λ、
ΔN=Nx−Ny)を発生して、x方向偏光とy方向偏
光に対する光の屈折率が値の差を発生して、温度、引っ
張り応力などの各種パラメータを適当に制御、上記位相
差をある波長の半分にする。すなわち一般的にいわれる
半波長補償器(half-wavelength compensator)あるい
は半波長フェーズリターダ(half-wavelength phase re
tarder)の装置で、その引っ張り方向と挟む角度が45
度の入射光の線性偏光方向を90度回転させる。
処理とローラー使用によりある一方向の単軸を伸ばすこ
とにより、上面にパターンのない高分子薄膜あるいは薄
板材料を作成する。単軸を伸ばして透過材料のx方向と
y方向の偏光が位相差ΔΦ(ΔΦ=2πd・ΔN/λ、
ΔN=Nx−Ny)を発生して、x方向偏光とy方向偏
光に対する光の屈折率が値の差を発生して、温度、引っ
張り応力などの各種パラメータを適当に制御、上記位相
差をある波長の半分にする。すなわち一般的にいわれる
半波長補償器(half-wavelength compensator)あるい
は半波長フェーズリターダ(half-wavelength phase re
tarder)の装置で、その引っ張り方向と挟む角度が45
度の入射光の線性偏光方向を90度回転させる。
【0010】この種の均一のプラスチック材質を赤外線
レーザー(例えばCO2レーザー)により選択性熱処理
を行った後、熱処理後の領域のx方向とy方向、又は、
x方向あるいはy方向の屈折率を変える。例えば適当に
感光量を制御するなどして、x方向とy方向の屈折率の
差を零まで下げて、赤外線レーザー熱処理を行わない部
分と合わせてマイクロフェーズリターダ202を組成す
る。
レーザー(例えばCO2レーザー)により選択性熱処理
を行った後、熱処理後の領域のx方向とy方向、又は、
x方向あるいはy方向の屈折率を変える。例えば適当に
感光量を制御するなどして、x方向とy方向の屈折率の
差を零まで下げて、赤外線レーザー熱処理を行わない部
分と合わせてマイクロフェーズリターダ202を組成す
る。
【0011】直接にレーザーにより行う加工は非接触ド
ライ式熱処理プロセス以外に、接触ドライ式熱処理プロ
セスの方法でも良い。このプロセスは電気回路板上に必
要な特殊図案を形成する。電気回路板の材質は銅箔で、
熱電気抵抗とすることができ、平圧機により、それと前
述した均一のプラスチック材料を強く圧縮、プラスチッ
ク材料を均一に過熱して、均一なプラスチック材料上に
パターンを設ける。この方法は、レーザーではなく電気
抵抗のパターンを有する回路板により発生させた熱エネ
ルギーを利用してプラスチック材用の屈折率を変える。
ライ式熱処理プロセス以外に、接触ドライ式熱処理プロ
セスの方法でも良い。このプロセスは電気回路板上に必
要な特殊図案を形成する。電気回路板の材質は銅箔で、
熱電気抵抗とすることができ、平圧機により、それと前
述した均一のプラスチック材料を強く圧縮、プラスチッ
ク材料を均一に過熱して、均一なプラスチック材料上に
パターンを設ける。この方法は、レーザーではなく電気
抵抗のパターンを有する回路板により発生させた熱エネ
ルギーを利用してプラスチック材用の屈折率を変える。
【0012】プラスチック材質を上記の方法により熱処
理を行った後、プラスチック材料の屈折率の差が変化を
発生する以外に、その表面を熱で変形させて、散乱が起
こりやすい表面を形成する。この時、屈折率を有する接
着膜210,212(indexmatching glue)上をカバー
してそれを凝固、全体を透き通った透明とする。よく使
用される屈折率を有する接着剤の材質は、AB接着剤、
エポキシ樹脂を含み、屈折率を有する接着膜210,2
12表面を平坦にするために、屈折率を有する接着膜2
10,212上にそれぞれ1層の保護膜208,214
を貼着、透き通った透明と保護の二重効果を達成する。
当然、この保護膜208,214は二重屈折効果が無い
か、あるいは二重屈折効果がとても小さくなければなら
ない。この保護膜208,214の材料はガラス板、射
出成形アクリル板あるいはArtonプラスチック膜、TA
C、およびCABなどを含む。
理を行った後、プラスチック材料の屈折率の差が変化を
発生する以外に、その表面を熱で変形させて、散乱が起
こりやすい表面を形成する。この時、屈折率を有する接
着膜210,212(indexmatching glue)上をカバー
してそれを凝固、全体を透き通った透明とする。よく使
用される屈折率を有する接着剤の材質は、AB接着剤、
エポキシ樹脂を含み、屈折率を有する接着膜210,2
12表面を平坦にするために、屈折率を有する接着膜2
10,212上にそれぞれ1層の保護膜208,214
を貼着、透き通った透明と保護の二重効果を達成する。
当然、この保護膜208,214は二重屈折効果が無い
か、あるいは二重屈折効果がとても小さくなければなら
ない。この保護膜208,214の材料はガラス板、射
出成形アクリル板あるいはArtonプラスチック膜、TA
C、およびCABなどを含む。
【0013】マイクロフェーズリターダ202を熱処理
した後、その表面をレーザーで焼いて凸凹にして、散乱
現象を減少するために第1表面206と第2表面204
上を、それぞれ第1屈折率を有する接着膜210と第2
屈折率を有する接着膜212でカバーする。接着膜21
0,212の屈折率が一様で、その材質がマイクロフェ
ーズリターダ202と同じであるため、マイクロフェー
ズリターダ202を通過した偏光の光は、位相遅延と屈
折の現象が発生しない。最後に、屈折率を有する接着膜
210,212の表面を平坦にして保護、その上を保護
膜208,214でカバーして、この発明のマイクロリ
ターダを完成する。
した後、その表面をレーザーで焼いて凸凹にして、散乱
現象を減少するために第1表面206と第2表面204
上を、それぞれ第1屈折率を有する接着膜210と第2
屈折率を有する接着膜212でカバーする。接着膜21
0,212の屈折率が一様で、その材質がマイクロフェ
ーズリターダ202と同じであるため、マイクロフェー
ズリターダ202を通過した偏光の光は、位相遅延と屈
折の現象が発生しない。最後に、屈折率を有する接着膜
210,212の表面を平坦にして保護、その上を保護
膜208,214でカバーして、この発明のマイクロリ
ターダを完成する。
【0014】以上から分かるように、この発明のマイク
ロリターダの非接触式熱処理製作プロセスは以下の通り
である。まず先に図5のステップ502を行い、透光材
料を提供してマイクロフェーズリターダ202を製作す
る。その次に、図5のステップ504を行い、第1屈折
率を有する接着膜210により、第1保護膜208をマ
イクロフェーズリターダ202の第1表面206に貼り
合わせる。この時、第1屈折率を有する接着膜210は
マイクロフェーズリターダ202と第1保護膜208間
を介する。続いて、図5のステップ506を進めて、赤
外線レーザーを使用して加熱装置にして非接触式熱処理
を行い、マイクロフェーズリターダ202の第2表面2
04上にパターンを設ける。最後に、図5のステップ5
08を行い、第2屈折率を有する接着膜212を通し
て、第2保護膜214をマイクロフェーズリターダ20
2の第2表面204に貼り合わせる。この時、第2屈折
率を有する接着膜212が第2保護膜214とマイクロ
フェーズリターダ202間を介して、この発明のマイク
ロリターダを完成する。
ロリターダの非接触式熱処理製作プロセスは以下の通り
である。まず先に図5のステップ502を行い、透光材
料を提供してマイクロフェーズリターダ202を製作す
る。その次に、図5のステップ504を行い、第1屈折
率を有する接着膜210により、第1保護膜208をマ
イクロフェーズリターダ202の第1表面206に貼り
合わせる。この時、第1屈折率を有する接着膜210は
マイクロフェーズリターダ202と第1保護膜208間
を介する。続いて、図5のステップ506を進めて、赤
外線レーザーを使用して加熱装置にして非接触式熱処理
を行い、マイクロフェーズリターダ202の第2表面2
04上にパターンを設ける。最後に、図5のステップ5
08を行い、第2屈折率を有する接着膜212を通し
て、第2保護膜214をマイクロフェーズリターダ20
2の第2表面204に貼り合わせる。この時、第2屈折
率を有する接着膜212が第2保護膜214とマイクロ
フェーズリターダ202間を介して、この発明のマイク
ロリターダを完成する。
【0015】この発明のマイクロリターダの接触式熱処
理製作プロセスは以下の通りである。まず先に図6のス
テップ602を行い、透光材料を提供してマイクロフェ
ーズリターダ202を製作する。そして、図6のステッ
プ604を行い、第1屈折率を有する接着膜210を通
過して、第1保護膜208をマイクロフェーズリターダ
202の第1表面206に貼り合せる。この時、第1屈
折率を有する接着膜210はマイクロフェーズリターダ
202と第1保護膜208間を介す。続いて、図6のス
テップ606を行い、電気回路板を使用して熱電気抵抗
加熱装置にして接触式熱処理を行い、マイクロフェーズ
リターダ202の第2表面204と電気回路板を緊密に
貼り合わせてパターンを焼き付ける。最後に図6のステ
ップ608を行い、第2屈折率を有する接着膜212を
通して、第2保護膜214をマイクロフェーズリターダ
202の第2表面204に貼り合せる。この時、第2屈
折率を有する接着膜212は第2保護膜214とマイク
ロフェーズリターダ202間を介して、この発明のマイ
クロリターダを完成する。
理製作プロセスは以下の通りである。まず先に図6のス
テップ602を行い、透光材料を提供してマイクロフェ
ーズリターダ202を製作する。そして、図6のステッ
プ604を行い、第1屈折率を有する接着膜210を通
過して、第1保護膜208をマイクロフェーズリターダ
202の第1表面206に貼り合せる。この時、第1屈
折率を有する接着膜210はマイクロフェーズリターダ
202と第1保護膜208間を介す。続いて、図6のス
テップ606を行い、電気回路板を使用して熱電気抵抗
加熱装置にして接触式熱処理を行い、マイクロフェーズ
リターダ202の第2表面204と電気回路板を緊密に
貼り合わせてパターンを焼き付ける。最後に図6のステ
ップ608を行い、第2屈折率を有する接着膜212を
通して、第2保護膜214をマイクロフェーズリターダ
202の第2表面204に貼り合せる。この時、第2屈
折率を有する接着膜212は第2保護膜214とマイク
ロフェーズリターダ202間を介して、この発明のマイ
クロリターダを完成する。
【0016】この発明のマイクロリターダの技術は、偽
ラベル製作防止にも応用することができる。偽ラベルを
防止したい所にパターンをドライ式熱処理プロセスによ
り設けて、偏光レンズをかけるだけで本物かどうかを識
別できる。またそれが利用する波長は不可視光線も含
む。
ラベル製作防止にも応用することができる。偽ラベルを
防止したい所にパターンをドライ式熱処理プロセスによ
り設けて、偏光レンズをかけるだけで本物かどうかを識
別できる。またそれが利用する波長は不可視光線も含
む。
【0017】<第2実施例>図3に示すように、この種
の偏光メガネをかけて見る立体ディスプレイシステム
は、光源32、液晶面板34およびマイクロフェーズリ
ターダ36を有す。液晶面板34を光源32の前に設け
て、マイクロフェーズリターダ36を液晶面板34の前
に配置して、液晶面板34でマイクロフェーズリターダ
36と光源32間を介す。光源32は投射式点光源アレ
イあるいは細長い電灯で、光源32が発する光は影像を
表示する液晶面板34を経過した後、マイクロフェーズ
リターダ36を通過して、例えばP−偏光とS−偏光の
光などの、2種類の偏光方向が異なる偏光の光に分かれ
る。左右の眼が見ている画面は、交互して液晶面板34
の異なる横縞あるいは縦縞の領域上に表示され、マイク
ロフェーズリターダ36の横縞あるいは縦縞の領域に対
応する。例えば左眼の影像は熱処理された領域に対応、
右眼の影像は熱処理されていない領域に対応する。そし
て、このような構造により、使用者38は偏光メガネを
かけて立体影像を見ることができる。
の偏光メガネをかけて見る立体ディスプレイシステム
は、光源32、液晶面板34およびマイクロフェーズリ
ターダ36を有す。液晶面板34を光源32の前に設け
て、マイクロフェーズリターダ36を液晶面板34の前
に配置して、液晶面板34でマイクロフェーズリターダ
36と光源32間を介す。光源32は投射式点光源アレ
イあるいは細長い電灯で、光源32が発する光は影像を
表示する液晶面板34を経過した後、マイクロフェーズ
リターダ36を通過して、例えばP−偏光とS−偏光の
光などの、2種類の偏光方向が異なる偏光の光に分かれ
る。左右の眼が見ている画面は、交互して液晶面板34
の異なる横縞あるいは縦縞の領域上に表示され、マイク
ロフェーズリターダ36の横縞あるいは縦縞の領域に対
応する。例えば左眼の影像は熱処理された領域に対応、
右眼の影像は熱処理されていない領域に対応する。そし
て、このような構造により、使用者38は偏光メガネを
かけて立体影像を見ることができる。
【0018】図4に示すように、裸眼式立体影像ディス
プレイ投光式システムは、光源402と、光源402前
に設けられたディスプレイ装置412を有する。また光
源402とディスプレイ装置412間に使用者追跡モジ
ュールと偏光装置406を設けて、ディスプレイ装置4
12との距離がディスプレイ装置412の焦点より大き
い。影像板410がディスプレイ装置412と使用者追
跡モジュールと偏光装置406の間に設けられ、ディス
プレイ装置412との距離がディスプレイ装置412の
焦点距離より小さい。光拡散板404を光源と使用者追
跡モジュールと偏光装置406間に設け、そして偏光装
置406と影像板410間にマイクロフェーズリターダ
408が配置される。光源402には投射式点光源アレ
イあるいは細長い電灯が使用され、光源402が発する
光は光拡散板404を通過して平均化される。平均化さ
れた光はさらに偏光装置406を通過して、例えばP−
偏光とS−偏光の光などの、偏光方向が異なる2種類の
偏光の光に分けられる。影像板410は液晶ディスプレ
イ(LCD panel)で、左右の眼が見る画面は液晶ディス
プレイの異なる横縞あるいは縦縞上に交互に表示され、
マイクロフェーズリターダ408の横縞あるいは縦縞の
領域に対応する。例えば左眼の影像は熱処理をした領域
に対応、右眼の影像は熱処理をしていない領域に対応す
る。ディスプレイ装置412は、例えばフレネル(Fres
nel)平面透視鏡などで、上記影像板410とマイクロ
フェーズリターダ408を結合して表示する画面はディ
スプレイ装置412の後ろに虚像を表示して、偏光装置
406は使用者414の左右眼の位置に実像を表示し
て、使用者は視差により立体表示された影像を見ること
ができる。
プレイ投光式システムは、光源402と、光源402前
に設けられたディスプレイ装置412を有する。また光
源402とディスプレイ装置412間に使用者追跡モジ
ュールと偏光装置406を設けて、ディスプレイ装置4
12との距離がディスプレイ装置412の焦点より大き
い。影像板410がディスプレイ装置412と使用者追
跡モジュールと偏光装置406の間に設けられ、ディス
プレイ装置412との距離がディスプレイ装置412の
焦点距離より小さい。光拡散板404を光源と使用者追
跡モジュールと偏光装置406間に設け、そして偏光装
置406と影像板410間にマイクロフェーズリターダ
408が配置される。光源402には投射式点光源アレ
イあるいは細長い電灯が使用され、光源402が発する
光は光拡散板404を通過して平均化される。平均化さ
れた光はさらに偏光装置406を通過して、例えばP−
偏光とS−偏光の光などの、偏光方向が異なる2種類の
偏光の光に分けられる。影像板410は液晶ディスプレ
イ(LCD panel)で、左右の眼が見る画面は液晶ディス
プレイの異なる横縞あるいは縦縞上に交互に表示され、
マイクロフェーズリターダ408の横縞あるいは縦縞の
領域に対応する。例えば左眼の影像は熱処理をした領域
に対応、右眼の影像は熱処理をしていない領域に対応す
る。ディスプレイ装置412は、例えばフレネル(Fres
nel)平面透視鏡などで、上記影像板410とマイクロ
フェーズリターダ408を結合して表示する画面はディ
スプレイ装置412の後ろに虚像を表示して、偏光装置
406は使用者414の左右眼の位置に実像を表示し
て、使用者は視差により立体表示された影像を見ること
ができる。
【0019】以上のごとく、この発明を好適な実施例に
より開示したが、もとより、この発明を限定するための
ものではなく、同業者であれば容易に理解できるよう
に、この発明の技術思想の範囲において、適当な変更な
らびに修正が当然なされうるものであるから、その特許
権保護の範囲は、特許請求の範囲および、それと均等な
領域を基準として定めなければならない。
より開示したが、もとより、この発明を限定するための
ものではなく、同業者であれば容易に理解できるよう
に、この発明の技術思想の範囲において、適当な変更な
らびに修正が当然なされうるものであるから、その特許
権保護の範囲は、特許請求の範囲および、それと均等な
領域を基準として定めなければならない。
【0020】
【発明の効果】上記構成により、この発明は下記の優れ
た点を有す。この発明はマイクロリターダの簡単な構造
により、マイクロフェーズリターダ板だけで立体影像の
目的を達成することができる。この発明はマイクロリタ
ーダの輝度を維持して、従来の技術のマイクロ偏光板の
輝度が半分にまで減少する欠点を解決する。この発明の
マイクロリターダがレーザー加工などの簡単な方法によ
りドライ式加熱処理を行い汚染を発生させない。そのた
め、従来の透明印刷インクによるパターン印刷ならびに
化学加工方式により製造しないため汚染発生の問題は発
生しない。従って、産業上の利用価値が高い。
た点を有す。この発明はマイクロリターダの簡単な構造
により、マイクロフェーズリターダ板だけで立体影像の
目的を達成することができる。この発明はマイクロリタ
ーダの輝度を維持して、従来の技術のマイクロ偏光板の
輝度が半分にまで減少する欠点を解決する。この発明の
マイクロリターダがレーザー加工などの簡単な方法によ
りドライ式加熱処理を行い汚染を発生させない。そのた
め、従来の透明印刷インクによるパターン印刷ならびに
化学加工方式により製造しないため汚染発生の問題は発
生しない。従って、産業上の利用価値が高い。
【図1】(A)は、従来技術にかかる2つの偏光方向相
互垂直の偏光子を示す図である。(B)は、従来技術に
かかる2つの偏光方向相互垂直の偏光子を交互に貼り合
わせてマイクロ偏光子を作った図である。(C)は、使
用者が偏光メガネを使用して立体図形を見た時の図であ
る。
互垂直の偏光子を示す図である。(B)は、従来技術に
かかる2つの偏光方向相互垂直の偏光子を交互に貼り合
わせてマイクロ偏光子を作った図である。(C)は、使
用者が偏光メガネを使用して立体図形を見た時の図であ
る。
【図2】 この発明にかかるマイクロリターダの構造図
である。
である。
【図3】 この発明にかかる偏光メガネをかけて見る立
体ディスプレイシステムの構造図である。
体ディスプレイシステムの構造図である。
【図4】 この発明にかかる裸眼式立体影像ディスプレ
イ投光式システムの構造図である。
イ投光式システムの構造図である。
【図5】 この発明にかかるマイクロリターダの非接触
式熱処理製作のプロセスである。
式熱処理製作のプロセスである。
【図6】 この発明にかかるマイクロリターダの接触式
熱処理製作のプロセスである。
熱処理製作のプロセスである。
102 マイクロ偏光板 104 マイクロ偏光板 106 重ねマイクロ偏光子 108 液晶ディスプレイ面板 34 液晶ディスプレイ面板 110 使用者 38 使用者 414 使用者 112 偏極方向 202 マイクロフェーズリターダ 36 マイクロフェーズリターダ 408 マイクロフェーズリターダ 204 第2表面 206 第1表面 208 第1保護膜 214 第2保護膜 210 第1屈折率を有する接着膜 212 第2屈折率を有する接着膜 32 光源 402 光源 404 光拡散板 406 使用者追跡モジュールと偏光装置 410 影像板 412 ディスプレイ装置
Claims (20)
- 【請求項1】 第1表面と第2表面、および複数個の第
1領域と複数個の第2領域を有し、前記第1領域と前記
第2領域の偏光方向がお互いに垂直であるマイクロフェ
ーズリターダと、 前記第1表面を保護するための第1保護膜と、 前記第1保護膜と前記第1表面を接着する、第1屈折率
を有する接着膜と、 前記第2表面を保護するための第2保護膜と、 前記第2保護膜と前記第2表面を接着する、第2屈折率
を有する接着膜と、を備えることを特徴とするマイクロ
リターダ。 - 【請求項2】 上記マイクロフェーズリターダの材質が
プラスチック材料を含むことを特徴とする請求項1に記
載のマイクロリターダの構造。 - 【請求項3】 上記プラスチック材料を、ポリカーボネ
ートおよびポリビニール・アルコールが組成のグループ
中の材料から選択することを特徴とする請求項2に記載
のマイクロリターダの構造。 - 【請求項4】 上記第1屈折率を有する接着膜と上記第
2屈折率を有する接着膜の材質がエポキシ樹脂を含むこ
とを特徴とする請求項1に記載のマイクロリターダの構
造。 - 【請求項5】 上記第1保護膜と上記第2保護膜の材質
をガラス、射出成形アクリルが組成のグループ中の材料
から選択することを特徴とする請求項1に記載のマイク
ロリターダの構造。 - 【請求項6】 少なくとも、透光材料を提供して、前記
透光材料が第1表面と第2表面を有して、第1貼り合わ
せステップを行い、第1屈折率を有する接着膜を使用し
て、第1保護膜を前記第1表面に張り合わせ、前記第1
屈折率を有する接着膜が前記第1表面と前記第1保護膜
間を介して、レーザー加熱装置を使用して、透光材料を
照射して熱処理を行い、前記透光材料上に複数の第1領
域と複数の第2領域を形成して、前記第1領域と前記第
2領域をお互いに交互配列させて、線性偏光の光透射後
にお互いに垂直の偏光方向を持たせて、そして、第2貼
り合わせステップを行い、第2屈折率を有する接着膜を
使用して、第2保護膜を前記第2表面に貼り合わせ、前
記第2屈折率を有する接着膜が前記第2保護膜と前記第
2表面の間を介することを製作方法のステップが含むこ
とを特徴とするマイクロリターダの製作方法。 - 【請求項7】 上記透光材料の材質がプラスチック材料
を含むことを特徴とする請求項6に記載のマイクロリタ
ーダの製作方法。 - 【請求項8】 上記プラスチック材料を、ポリカーボネ
ートおよびポリビニール・アルコールが組成のグループ
中の材料から選択することを特徴とする請求項7に記載
のプラスチック材料。 - 【請求項9】 上記第1屈折率を有する接着膜と上記第
2屈折率を有する接着膜の材質がエポキシ樹脂であるこ
とを特徴とする請求項6に記載のマイクロリターダの構
造。 - 【請求項10】 上記第1保護膜と上記第2保護膜の材
質をガラス、射出成形アクリルが組成のグループ中の材
料から選択することを特徴とする請求項6に記載のマイ
クロリターダの構造。 - 【請求項11】 少なくとも、 透光材料を提供して、前記透光材料が第1表面と第2表
面を有して、 第1貼り合わせステップを行い、第1屈折率を有する接
着膜を使用して、第1保護膜を前記第1表面に張り合わ
せ、前記第1屈折率を有する接着膜が前記第1表面と前
記第1保護膜間を介して、 電気回路板を使用して熱電気抵抗の加熱装置として、前
記透光材料と貼り合わせて熱処理を進めて、前記透光材
料上に複数個の第1領域と複数個の第2領域を形成し
て、前記第1領域と前記第2領域を交互に配列して、線
性偏光の光透射後にお互いに垂直の偏光方向を持たせ
て、そして、 第2貼り合わせステップを行い、第2屈折率を有する接
着膜を使用して、第2保護膜を前記第2表面に貼り合わ
せ、前記第2屈折率を有する接着膜が前記第2保護膜と
前記第2表面の間を介することを製作方法のステップが
含むことを特徴とするマイクロリターダの製作方法。 - 【請求項12】 上記透光材料の材質がプラスチック材
料を含むことを特徴とする請求項11に記載のマイクロ
リターダの製作方法。 - 【請求項13】 上記プラスチック材料をポリカーボネ
ートおよびポリビニール・アルコールが組成のグループ
中の材料から選択することを特徴とする請求項12に記
載のプラスチック材料。 - 【請求項14】 上記第1屈折率を有する接着膜と上記
第2屈折率を有する接着膜の材質がエポキシ樹脂を含む
ことを特徴とする請求項11に記載のマイクロリターダ
の構造。 - 【請求項15】 上記第1保護膜と上記第2保護膜の材
質をガラス、射出成形アクリルが組成のグループ中の材
料から選択することを特徴とする請求項11に記載のマ
イクロリターダの構造。 - 【請求項16】 光源と、 前記光源前に位置するディスプレイ装置、 2個の偏極方向がお互いに垂直の偏光器を有して、前記
光源と前記ディスプレイ装置間に配置され、前記ディス
プレイ装置との距離が前記ディスプレイ装置の焦点距離
より大きく、前記光源が発する光を2つの偏極方向がお
互いに垂直な偏光の光へ分ける偏光装置、 前記ディスプレイ装置の焦点距離より小さい位置に配置
して、前記ディスプレイ装置と前記偏光装置間に位置す
る影像板、 前記光源と前記偏光装置間に配置され、光源の均一性を
増加する光拡散板、および前記偏光装置と前記影像板の
間に配置されたマイクロリターダを含むことを特徴とす
る裸眼式立体影像ディスプレイ投光式システム。 - 【請求項17】 使用者追跡モジュールと上記偏光装置
が接続されるのを含むことを特徴とする請求項16に記
載の裸眼式立体影像ディスプレイ投光式システム。 - 【請求項18】 上記光源が投射式点光源アレイである
ことを特徴とする請求項16に記載の裸眼式立体影像デ
ィスプレイ投光式システム。 - 【請求項19】 上記光源が細長い電灯であることを特
徴とする請求項16に記載の裸眼式立体影像ディスプレ
イ投光式システム。 - 【請求項20】 上記ディスプレイ装置がフレネル平面
透視鏡であることを特徴とする請求項16に記載の裸眼
式立体影像ディスプレイ投光式システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW88122875 | 1999-12-24 | ||
TW088122875A TW473654B (en) | 1999-12-24 | 1999-12-24 | Micro-retarder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001188127A true JP2001188127A (ja) | 2001-07-10 |
Family
ID=21643536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000284396A Pending JP2001188127A (ja) | 1999-12-24 | 2000-09-19 | マイクロリターダ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6498679B2 (ja) |
JP (1) | JP2001188127A (ja) |
TW (1) | TW473654B (ja) |
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2000
- 2000-09-19 JP JP2000284396A patent/JP2001188127A/ja active Pending
- 2000-12-21 US US09/745,885 patent/US6498679B2/en not_active Expired - Lifetime
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