JP2001185360A - 有機ledディスプレイとその製造法 - Google Patents

有機ledディスプレイとその製造法

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JP2001185360A
JP2001185360A JP37052899A JP37052899A JP2001185360A JP 2001185360 A JP2001185360 A JP 2001185360A JP 37052899 A JP37052899 A JP 37052899A JP 37052899 A JP37052899 A JP 37052899A JP 2001185360 A JP2001185360 A JP 2001185360A
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layer
electrode
organic
partition
coating liquid
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Yoshimasa Fujita
悦昌 藤田
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Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示品位の優れた有機LEDディスプレイを
提供する。 【解決手段】 基板上に第1電極を形成し、基板上も
しくは第1電極上に配置される隔壁を形成し、各隔壁間
で第1電極上に少なくとも有機材料を含有する塗液を塗
布し、塗布した塗液を乾燥させて少なくとも1層の有機
層を形成し、有機層上に第2電極を形成する工程からな
り、前記隔壁が基板上もしくは第1電極上に順次積層さ
れた多層構造を有し、隔壁の各層は前記塗液の表面張力
と異なる臨界表面張力を有し、それによって隔壁の各層
に対する塗液の密着性を制御して膜厚の均一性を制御し
た有機層を得ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】この発明は、有機LEDディ
スプレイとその製造方法に関し、とくに平坦性に優れた
有機層をもつ表示品位の優れた有機LEDディスプレイ
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、湿式法による有機LED素子の製
造では、有機材料を含有する塗液をスピンコート法、デ
ィップ法、ドクターブレード法等により塗布する方法が
用いられてきた。しかし、これら方法では、有機発光層
のパターニングによるカラー化は非常に困難であった。
しかし、近年このひとつの解決法として、有機発光層
を、インクジェット法によりパターン化して製造する方
法が提案されている(例えば、特開平10−12377
号公報、Appl.Phys.Lett.72,519.1998参照)。
【0003】
【発明か解決しようとする課題】しかし、インクジェッ
ト法によるカラー化に際しては、有機発光層形成時に各
色の発光材料が、互いに混じり合ってしまい、混色、ま
たは、エネルギー移動に伴うエネルギーの高い発光色を
有する材料が発光しない現象が生じ、表示品位を著しく
悪化させる。この現象の防止策として、各画素を土手
(隔壁)で囲む方法が提案されている(例えば、特開平
11−74076号公報参照)。
【0004】この方法に従って、図2又は図3に示すよ
うに基板21に設けた電極22の上に土手(隔壁)24
を形成し、湿式法により有機層23を形成すると、用い
る塗液と土手24の表面張力の関係により、 (1)土手24との接触部分で形成された有機層23の
膜厚が図2のように中心部に比べて薄くなる、つまり、
画素部のエッジ部分で薄くなると、エッジ部が画素中心
部に比べて明るくなったり、また、エッジ部のみからの
発光になってしまい表示品位が低下する。また、電界集
中により有機層の劣化が促進されるという問題が生じ
る。 (2)図3のように有機層23の膜厚が厚くなる、つま
り、画素部のエッジ部分で厚くなると、エッジ部の抵抗
が中心部に比べて高くなり、中心部しか発光しなくなっ
て表示品位が低下してしまう。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
事情を考慮してなされたもので、隔壁の臨界表面張力と
有機層を形成する有機材料を含有する塗液の表面張力と
の関係に着目し、隔壁を、異なる臨界表面張力を持つ複
数の隔壁層の積層構造にすることにより、有機層と隔壁
が接する部分での有機層の膜厚を制御することが可能と
なり、その結果、有機層を均一な膜厚で形成することが
可能となることを見出し、この発明を完成するに至っ
た。
【0006】本発明は、基板上に少なくとも第1電極と
隔壁を形成し、各隔壁間で第1電極上に液体状の有機材
料を含有する塗液を塗布し、塗布した塗液を乾燥させて
少なくとも1層の有機層を形成し、有機層上に第2電極
を形成する工程からなり、前記隔壁が基板上に順次積層
された多層構造を有し、隔壁の各層は前記塗液の表面張
力と異なる臨界表面張力を有し、それによって隔壁の各
層に対する前記塗液の密着性を制御して膜厚の均一を制
御した有機発光層を得ることを特徴とする有機LEDデ
ィスプレイの製造方法を提供するものである。
【0007】
【発明の実施の形態】この発明の基板には、絶縁性基板
が用いられ、例えば、石英基板,ガラス基板,プラスチ
ック基板等が使用可能である。
【0008】次に、第1電極、第2電極としては、基板
及び第1電極が透明である場合は、有機発光層からの発
光が、基板側から放出されるので、その発光効率を高め
る為、第2電極が反射電極であること、もしくは、第2
電極上に反射膜を有することが好ましい。逆に、第2電
極を透明材料で構成して、有機発光層からの発光を第2
電極側から放出させることもできる。この場合には、第
1電極が反射電極であること、基板が反射基板であるこ
と、もしくは、第1電極と基板との間に反射膜を有する
ことが好ましい。
【0009】ここで、透明電極には、CuI、ITO、
SnO2 、ZnO、CuAlO2 等が使用可能で、反射
電極には、アルミニウム、カルシウム等の金属、マグネ
シウム−銀、リチウム−アルミニウム等の合金、マグネ
シウム/銀等の金属同士の積層膜、フッ化リチウム/ア
ルミニウム等の絶縁体と金属との積層膜等が使用可能で
ある。
【0010】隔壁としては、既知の材料を用いることが
できるが、その材料としては特に限定されるものではな
いが、少なくとも有機材料を含有する塗液、つまり有機
層形成用塗液に対して不溶もしくは難溶であることが好
ましく、ディスプレイとしての表示品位を上げる目的か
らブラックマトリックス用の材料を用いることがより好
ましい。
【0011】この発明における臨界表面張力とは、固体
の表面における液体の「ヌレ」の度合いを規定する「ジ
スマン(Zisman)の臨界表面張力」を意味する(Adv.Ch
em.Ser.,43,21(1963) 参照)。すなわち、低エネルギー
表面をもつ固体の表面上に、種々の表面張力をもつ有機
液体や飽和炭化水素、水等を滴下し、それらの接触角θ
を測定し、cosθをそれぞれの液体の表面張力〔dyne
/cm 〕に対してプロットし、得られた近似直線がcos
θ=1(θ=0°)の水平線と交わる点の表面張力の値
γC 〔dyne/cm 〕が、この発明における臨界表面張力と
なる。なお、この発明における少なくとも有機材料を含
有する塗液、つまり有機層形成用塗液の表面張力γL
は、液体が単位面積〔cm2 〕の表面をつくるための仕事
〔erg 〕として表示される表面張力の値〔dyne/cm 〕を
意味する。
【0012】隔壁材料としては、例えば、ポリ6フッ化
プロピレン(γc=16dyne/cm)、ポリ4フッ化エチ
レン(γc=18dyne/cm)、ポリ3フッ化エチレン
(γc=22dyne/cm)、ポリフッ化ビニリデン(γc
=25dyne/cm)、ポリエチレン(γc=31dyne/c
m)、ポリブタジエン(γc=31dyne/cm)、ポリス
チレン(γc=33dyne/cm)、ポリアクリル酸エチル
(γc=35dyne/cm)、ポリビニルアルコール(γc
=37dyne/cm)、ポリクロロプレン(γc=38dyne
/cm)、ポリ塩化ビニル(γc=39dyne/cm)、ポリ
アクリル酸メチル(γc=39dyne/cm)、ポリ塩化ビ
ニリデン(γc=40dyne/cm)、6ナイロン(γc=
42dyne/cm)、6−6ナイロン(γc=42dyne/c
m)、7−7ナイロン(γc=43dyne/cm)、ポリエ
チレンテレフタレート(γc=43dyne/cm)、ポリヘ
キサメチレンアジバミド(γc=46dyne/cm)、ガラ
ス(γc=55dyne/cm)等の有機材料や、サイロライ
ト、サイロホービック(富士シリシア化学社製)、など
の無機材料や、これら有機材料、無機材料をポジ型レジ
スト、ネガ型レジスト中に分散したもの等が挙げられ
る。また、これらの材料を用いて隔壁を形成した後、プ
ラズマ処理、UV処理、ガス処理を行うことにより臨界
表面張力の値を制御しても良い。
【0013】また、隔壁の形成方法は、例えば、スピン
コート法により前記隔壁材料を塗布し、または、蒸着法
で前記隔壁材料を蒸着し、フォトリソグラフィー法によ
り所望の形状にエッチングする方法、印刷法により形成
する方法、所望の隔壁の形状の溝の掘られた型を基板に
密着させて形成した空間に隔壁形成用の液状の原料を染
み込ませ、充填した後に固定化させる方法やマスク蒸着
法等が挙げられる。
【0014】また、隔壁の高さは、例えば、次のように
して制御できる。 (1)スピンコート法により形成する場合は、用いる塗
液の粘度、スピンコート時の回転数、スピン時間を適切
に調整する、(2)印刷法では用いる塗液の粘度を調整
する、(3)所望の隔壁の形状の溝に掘られた型を基板
に密着させ、形成された空間に隔壁形成用の液状の原料
を充填し、固定化させる方法では、最初に形成する溝の
深さを所望の値にする、(4)蒸着法においては膜厚モ
ニターで直接膜厚をモニターしながら蒸着する。
【0015】この発明の少なくとも有機材料を含有する
塗液の塗布方法は、塗液状態から薄膜を形成する方法で
ある湿式法であればよく、例えば、スピンコート法、デ
ィップ法、ドクターブレード法、インクジェット法、印
刷法、電着法等がある。
【0016】少なくとも有機材料を含有する塗液、つま
り有機層形成用塗液は、発光層形成用塗液と電荷輸送層
形成用塗液に分けることができる。発光層形成用塗液と
しては、有機LED用の公知の高分子発光材料、例え
ば、ポリ〔2−デシルオキシ−1,4−フェニレン〕
(DO−PPP)、ポリ〔2,5−ビス〔2−(N,
N,N−トリエチルアンモニウム)エトキシ〕−1,4
−フェニレン−アルト−1,4−フェニレン〕ジブロマ
イド(PPP−NEt3 +)、ポリ〔2−(2’−エチ
ルヘキシルオキシ)−5−メトキシ−1,4−フェニレ
ンビニレン〕(MEH−PPV)、ポリ〔5−メトキシ
−(2−プロパノキシサルフォニド)−1,4−フェニ
レンビニレン〕(MPS−PPV)、ポリ〔2,5−ビ
ス(ヘキシルオキシ)−1,4−フェニレン−(1−シ
アノビニレン)〕(CN−PPV)等を、溶解あるいは
分散させた塗液、もしくは、有機LED用の公知の低分
子発光材料、例えばテトラフェニルブタジエン(TP
B)、クマリン、ナイルレッド、オキサジアゾール誘導
体等と、公知の高分子材料、例えばポリカーボネート
(PC)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリ
ビニルカルバゾール(PVCz)等を溶解もしくは分散
さたせ塗液を用いることができる。
【0017】また、これらの塗液には、必要に応じてp
H調整用、粘度調整用、浸透促進用、レベリング用、表
面張力調整用等の添加剤、有機LED用及び有機光導電
体用の公知のホール輸送材料(例えば前記のN,N’−
ビス−(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス−(フ
ェニル)−ベンジジン(TPD)、N,N’−ジ(ナフ
タレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジ
ン(NPD)等)、電子輸送材料(例えば、3−(4−
ビフェニルイル−4−4−フェニレン−5−t−ブチル
フェニル−1,2,4−トリアゾール(TAZ)、トリ
ス(8−ヒドロキシキノリノナト)アルミニウム(Al
3 )等)等の電荷輸送材料、アクセプター、ドナー等
のドーパント等を添加してもよい。
【0018】電荷輸送層形成用塗液としては、有機LE
D用、有機光導電体用の公知の高分子電荷輸送材料(例
えば、ポリアニリン(PANI)、3,4−ポリエチレ
ンジオキシチオフェン(PEDT)、ポリ〔トリフェニ
ルアミン誘導体〕(Poly−TPD)、ポリ〔オキサ
ジアゾール誘導体〕(Poly−OXZ等)、前記PV
Czを溶解もしくは分散させた塗液、もしくは、有機L
ED用、有機光導電体用の公知の低分子電荷輸送材料
(例えば、前記のTPD、NPD、オキサジアゾール誘
導体等)と公知の高分子材料(例えば、前記のPC、P
MMA、PVCz等)を溶解もしくは分散させた塗液を
用いることができる。また、これらの液に、必要に応じ
てpH調整用、粘度調整用、浸透促進用、レベリング
用、表面張力調整用等の添加剤、アクセプター、ドナー
等のドーパント等を添加してもよい。
【0019】特にインクジェットヘッド、ディスペン
サ、凸版印刷法を用いる場合には、前記の高分子材料を
溶解もしくは分散させる溶媒として、従来の溶媒を用い
ることができるが、これらの溶媒中には、低蒸気圧の溶
剤、例えばエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン、
ホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘ
キサン、1−プロパノール、オクタン、ノナン、デカン
等が含まれることが好ましい。特に、インクジェット法
を用いる場合には、固形分と溶媒の混合比率は、塗液の
20℃における粘度が10mPa・s以下になるように
調整することが好ましく、また、表面張力γL を少なく
とも40dyne/cm以上になるように調整することが好ま
しい。特に、印刷法を用いる場合には、固形分と溶媒の
混合比率は、塗液の20℃における粘度が10mPa・
s以上になるように調整することが好ましい。
【0020】この発明において、有機層が1層、隔壁が
第1層と第1層の上に積層される第2層とからなり、有
機層を形成するときに用いる塗液が表面張力γO1を有
し、隔壁の第1層および第2層がそれぞれ臨界表面張力
γC1、γC2を有するとき、 γC2<γL1<γC1 を満たすことが好ましい。その場合には、有機層を形成
するために用いる塗液は、第1層の隔壁に対しては、ヌ
レ性が良く、つまり、塗液と隔壁は密着性が良く、第2
層の隔壁とはヌレ性悪く、つまり、塗液と隔壁は反撥し
合う。その結果、有機層と第1層の隔壁との界面での有
機層の膜厚を制御することが可能となる。つまり、画素
中心部分での有機層の膜厚と画素周辺部での有機層の膜
厚の分布を制御することが可能となり、画素内で膜厚の
均一な有機層を形成することが可能となる。なお、この
場合、有機層の膜厚と隔壁の第1層の膜厚とが、発光に
影響ない範囲内で等しくなるように形成される。
【0021】また、この発明は隔壁は基板上もしくは第
1電極上に第1層から第m層まで積層して形成され、各
層の臨界表面張力がそれぞれγC1、γC2、…γCk、…、
γCmであり、有機層は第1電極上に第1層から第n層
(n≦m)まで積層され、かつ、各層を形成する少なく
とも有機材料を含有する塗液の表面張力がそれぞれ
γL1、γL2、…、γLk、…、γLnであるときγLk+1<γ
Ck<γLkを満たすことが好ましい。
【0022】また、この発明は、具体的には図4に示す
ように、基板1上に設けた第1電極2上に隔壁W1 〜W
m を第1層から第m層まで積層し各層の厚さをそれぞれ
1、…、hk 、…、hm とし、有機層O1 〜On を第
1層から第n層まで積層し各層の中心部での膜厚をそれ
ぞれhO1、…、hOk、…、hOnとするとき、 hOk−20nm<hk <hOk+20nm を満たすことが好ましい。また、この発明は、基板1上
に隔壁Wl〜Wmを第1層から第m層まで積層し各層の
厚さをそれぞれh1 、…、hk 、…、hm とし、有機層
1 〜On を第1層から第n層まで積層し各層の中心部
での膜厚をhO1、hO2、…、hOk、…、h Onとすると
き、hO1+第1電極の膜厚−20nm<h1 <ho1+第
1電極の膜厚+20nm、かつ、hOk−20nm<hk
<hOk+20nmを満たすことが好ましい。それによ
り、画素中央部と画素周辺部での膜厚の不均一に起因す
る画素エッジ部が中心部より明るくなる現象やこのエッ
ジ発光に伴う劣化の急激な進行、また、画素の中央部し
か発光しない現象を防止することが可能となる。なお、
各層の隔壁の高さhk と対応する有機層の膜厚hOkの差
が20nmよりも大きくなると、画素中心部と画素エッ
ジ部での発光挙動が異なり始め、表示品位が悪化してい
く。
【0023】また、この発明において、隔壁の層数mは
有機層の層数nより1層多い、つまりm=n+1である
ことが好ましい。これにより第n層の有機層の画素周辺
部での膜厚をより正確に制御することが可能となる。つ
まり、n=mのときには、第n層の隔壁と第n層を形成
するのに用いた有機層形成用塗液の表面張力の関係か
ら、隣の画素に塗液が侵入しないようにする為、第n層
を形成する塗液として比較的高い表面張力を持たすこと
や、また、溶剤に溶かす有機材料の量を多くしてウエッ
ト状態と乾燥時の膜厚の差を小さくすることなどが必要
となるが、隔壁の層数を有機層の層数nより1層多くす
ることで表面張力の低い塗液を用いることや、溶剤に溶
かす有機材料の量を所望の量にすることが可能となる。
【0024】従って、図4においてm=n+1であると
きm番目の隔壁の高さhm を、10μm以上とすること
により、有機発光層形成用塗液が、隣の画素を濡らすこ
とを完全に防止できる。
【0025】この発明の有機LEDディスプレイの構成
としては、図1に示すように、基板1上に第1電極2、
有機LED媒体3と第2電極4、隔壁5から構成され
る。また、コントラストの観点から、基板の外側には、
偏向板7が設けられていることが好ましく、また、信頼
性の観点からは、第2電極4の上には、封止膜又は封止
基板6を設けることが好ましい。
【0026】また、有機LED媒体3は、少なくとも1
層の有機発光層を有する構造で、有機発光層の単層構
造、あるいは、電荷輸送層と有機発光層の多層構造であ
ってもよい。ここで、電荷輸送層、有機発光層はそれぞ
れ1層でもよいし、多層構造であってもよい。また、有
機LED媒体3としては、少なくとも1層が、有機層形
成用塗液を用いて湿式法により形成されていることが好
ましく、その他の層は真空蒸着法等のドライプロセスに
より形成することが可能である。
【0027】また、各画素を隔壁で囲むことにより、有
機発光層が混じり合う混色現象、または、有機発光層の
混じり合いにより発光材料間に起こるエネルギー移動に
伴ってエネルギーの高い発光色を持った材料が発光しな
くなる現象などによる表示品位の著しい悪化を防止でき
る。また、シャドウマスクを用いて第2電極を形成する
際には、隔壁がシャドウマスクの密着による有機層への
ダメージを防止する。さらに、隔壁の形状を適切な形
(例えば、逆テーパー状)にする事で、シャドウマスク
を用いなくても、第2電極のパターニングが可能とな
る。また、隔壁により第1および第2電極の内、少なく
とも一方の電極を覆うことにより、電極のエッジでの電
界集中を防止する事が可能となる。
【0028】また、画素の形状は、この発明で特に限定
されず、従来の長方形でも良いが、好ましくは、画素部
の角部にまで有機層形成用塗液が浸透する目的で、画素
部の角部を、斜め方向にカットした形状、もしくは、中
心に向かって凸状、あるいは、凹状をなす円弧状が良
く、さらに、角部の切り欠きを異なる大きさにしても良
いし、異なる形状にしても良い。
【0029】また、画素の形状は、隔壁作製時に隔壁を
所望の形に形成することで形成可能である。また、この
発明で画素とは、単色やゾーンカラーのディスプレイの
場合は、ピクセルを意味し、マルチカラーやフルカラー
ディスプレイの場合は、サブピクセルのことを意味す
る。
【0030】次に、この発明による有機LEDディスプ
レイの有機発光層の配置について説明する。この発明の
有機LEDディスプレイは、図7に示すように、有機発
光層が、隔壁5によってマトリックス状に配置された構
造をもっており、そのマトリックス状に配置された有機
発光層は、好ましくは、赤色(R)発光画素8、緑色
(G)発光画素9、青色(B)発光画素10から構成さ
れる。また、このマトリックス配列の代わりに、図8に
示すような配列でも良い。また、赤色(R)発光画素
8、緑色(G)発光画素9、青色(B)発光画素10の
配列方法は、図9に示すようにモザイク状であってもよ
く、また、その割合は、必ずしも、1:1:1の比でな
くともよく、各画素の面積は、同一であってもよいし、
各画素で異なっていてもよい。また、それぞれの色は、
同一色でもよく、その場合にはモノクロ表示となる。
【0031】この発明の有機LEDディスプレイは、図
10に示すように、有機LED媒体を挟持する第1電極
2と第2電極4が共通の基板1上で互いに直行するスト
ライプ状の電極に成るように構成されても良いし、ま
た、図11に示すように、第1電極2がデルタ状に配置
されている構造でも良いし、また、図12に示すよう
に、第1電極2もしくは第2電極4がソースバスライン
12およびゲートバスライン13で駆動する薄膜トラン
ジスタ(TFT)11を介して接続していても良い。ま
た、この発明は別の観点から、基板と、基板上に形成さ
れた第1電極と、基板上もしくは第1電極上に配置され
た隔壁と、各隔壁間に形成された有機層と有機層上に形
成された第2電極とを備え、隔壁が多層構造を有し、そ
の各層は臨界表面張力が互いに異なることを特徴とする
有機LEDディスプレイ装置を提供するものである。
【0032】
【実施例】以下、実施例を説明する。 (実施例1)図5の(a)に示すように、130nmの
膜厚を持つITO付きガラス基板1に、第1電極2とし
てフォトリソグラフィ法により120μmピッチで10
0μm幅のITO透明ストライプ電極を作製する。次
に、ガラス基板1を、例えばイソプロピルアルコール、
アセトン、純水を用いた従来のウエットプロセスによる
洗浄法とUVオゾン処理、プラズマ処理等の従来のドラ
イプロセスにより洗浄する。
【0033】次に、この基板1上に臨界表面張力γC1
60dyne/cmの合成二酸化珪素を含有したエポキシ系紫
外線硬化樹脂をスピンコート法により膜厚h1 =75n
mになるようにコートする。次にマスク露光し、レジス
トの残渣を洗い流し、ITOと平行の方向には300μ
mピッチ、ITOと直行する方向には120μmピッチ
で、40μm幅の第1隔壁W1 を作製する。
【0034】次に、臨界表面張力γC2=35dyne/cmの
ポリエチレンテレフタレートをスピンコート法により膜
厚h2 =0.11μmになるようにコートする。次に第
1隔壁W1と同じパターンのマスクを用いてマスク露光
し、レジストの残渣を洗い流し、ITOと平行の方向に
は300μmピッチ、ITOと直行する方向には120
μmピッチで、40μm幅の第2隔壁W2 を作製する。
【0035】次に、臨界表面張力γC3=10dyne/cmの
サイトップCTL(旭硝子社製)を含有するネガ型感光
性樹脂をスピンコート法により膜厚h3 =10μmにな
るようにコートする。次に第1隔壁W1と同じパターン
のマスクを用いマスク露光し、レジストの残渣を洗い流
し、ITOと平行の方向には300μmピッチ、ITO
と直行する方向には120μmピッチで、40μm幅の
第3隔壁W3 を作製する。以上のようにして図5の
(a)に示すような3層(W1〜W3)構造の複数の隔
壁Wを形成する。
【0036】次に、図5の(b)の示すように、ディス
ペンサー14により、表面張力γL1=40dyne/cmの
3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液の正孔
輸送層形成用塗液を各隔壁W間に吐出し、続いて真空中
で90℃、30分、加熱乾燥し、図5の(c)の示す厚
さhO1=75nmの正孔注入層O1 を形成する。ここ
で、第1隔壁W1 、第2隔壁W2 の臨界表面張力と前記
正孔輸送層形成用塗液の表面張力の関係から、前記正孔
輸送層形成用塗液は第1隔壁W1 とはヌレ性が良く、第
2隔壁W2 とはヌレ性が悪い。この為、正孔輸送層形成
用塗液の乾燥過程において、塗液は、第1隔壁W1 を濡
らし続けようとするが、第2隔壁W2 とは反撥し続け
る。このことにより乾燥過程において、正孔輸送層形成
用塗液は隔壁Wとの界面で第1隔壁W1 の高さを維持し
続けようとし、完全に溶剤が乾燥した後は、正孔輸送層
の中心部での膜厚と隔壁界面での膜厚がほぼ一致する。
【0037】次に、図5の(d)に示すようにディスペ
ンサー14により、赤、緑、青色に発光する発光材料を
溶解した発光層形成用塗液をパターニング塗布し、加熱
乾燥を行って図5の(e)の示す厚さhO2=110nm
の発光層O2 を形成する。ここで、各色塗液の表面張力
γL2=30dyne/cmであった。また、赤色発光材料とし
ては、シアノポリフェニレンビニレン前駆体、緑色発光
材料としては、ポリフェニレンビニレン前駆体、青色発
光材料として、ポリパラフェニレンを使用した。ただ
し、シアノポリフェニレンビニレン前駆体とポリフェニ
レンビニレン前駆体に関しては、膜を形成後、Ar雰囲
気下で150℃で6時間、加熱処理を行うことにより、
それぞれシアノポリフェニレンビニレンとポリフェニレ
ンビニレンに変換した。ここでも、第2隔壁W2 、第3
隔壁W3 の臨界表面張力と発光層形成用塗液の表面張力
の関係から、前述と同様の原理により、発光層O2 の中
心部での膜厚と隔壁界面での膜厚がほぼ一致する。次
に、図5の(f)に示すように、厚さ0.2μm、幅2
70μm、ピッチ300μmのシャドウマスク15を用
いマスク蒸着を行い、AlとLiを共蒸着することによ
り図5の(g)に示すように第2電極4として、AlL
i合金電極を形成する。最後にエポキシ樹脂を用いて封
止を行う。
【0038】ここでは、γC2<γL1<γC1 γC3<γL2<γC21 =hO1、h2 =hO2、h3 ≧10μm となっている。
【0039】以上のようにして作製した有機LEDディ
スプレイは、第1電極2と第2電極4間、各第1電極2
間、及び各第2電極4間でのショートは発生せず、隣接
発光層の混じり合いによる混色は観測されなかった。ま
た、発光層及び電荷輸送層の膜厚の不均一に伴う画素内
での発光の不均一は見られなかった。また、このディス
プレイに30Vのパルス電圧を印加することにより、す
べての画素から発光が得られた。
【0040】(実施例2)発光層を形成するときディス
ペンサーの代わりにインクジェットプリンターを使用し
たこと以外は実施例1と同様にして有機LEDディスプ
レイを作製した。以上のようにして作製した有機LED
ディスプレイは、第1電極と第2電極間、各第1電極
間、及び各第2電極間でのショートは発生せず、隣接発
光層の混じり合いによる混色は観測されなかった。ま
た、発光層及び電荷輸送層の膜厚の不均一に伴う画素内
での発光不均一はみられなかった。また、このディスプ
レイに30Vのパルス電圧を印加することにより、すべ
ての画素から、発光が得られた。
【0041】(実施例3)ガラス基板上に、薄膜トラン
ジスタを形成してから、第1電極2として、長辺が30
0μmで、短辺が120μmになるようにITO透明電
極を形成する。次に、ITO間に実施例1と同様にし
て、3層構造の隔壁を形成する。次に、実施例2と同様
にして有機LED媒体を形成する。次に、AlとLiを
共蒸着することにより第2電極4として、AiLi合金
電極を形成する。最後にエポキシ樹脂を用いて封止を行
う。
【0042】以上のようにして作製した有機LEDディ
スプレイは、第1電極と第2電極間、各第1電極間、及
び各第2電極間でのショートは発生せず、隣接発光層の
混じり合いによる混色は観測されなかった。また、発光
層及び電荷輸送層の膜厚の不均一に伴う各画素での発光
の不均一は見られなかった。また、このディスプレイに
電圧を印加する事で、すべての画素から、発光が得られ
た。
【0043】(実施例4)130nmの膜厚を持つIT
O付きガラス基板を、フォトリソグラフィ法により第1
電極2として120μmピッチで100μm幅のITO
透明ストライプ電極を作製する。次に、ガラス基板を、
例えばイソプロピルアルコール、アセトン、純水を用い
た従来のウエットプロセスによる洗浄法とUVオゾン処
理、プラズマ処理等の従来のドライプロセスにより洗浄
する。
【0044】次に、この基板上に臨界表面張力γC1=6
0dyne/cmの合成二酸化珪素を含有したエポキシ系紫外
線硬化樹脂をスピンコート法により膜厚h1 =0.2μ
mになるようにコートする。次にマスク露光し、レジス
トの残渣を洗い流し、ITOと平行の方向には300μ
mピッチ、ITOと直行する方向には120μmピッチ
で、40μm幅の第1隔壁W1 を作製する。
【0045】次に、臨界表面張力γC2=10dyne/cmの
サイトップCTL(旭硝子社製)を含有するネガ型感光
性樹脂をスピンコート法により膜厚h2 =10μmにな
るようにコートする。次に第1隔壁W1 と同じパターン
のマスクを用いマスク露光し、レジストの残渣を洗い流
し、ITOと平行の方向には300μmピッチ、ITO
と直行する方向には120μmピッチで、40μm幅の
第2隔壁W2 を作製する。
【0046】次に、市販のスピンコーターにより、表面
張力γL1=40dyne/cmのポリフェニレンビニレン前駆
体をメタノールの溶かした塗液を用い、厚さhO1=20
0nmの発光層を形成する。次に、厚さ0.2μm、幅
270μm、ピッチ300μmのシャドウマスクを用い
て、AlとLiを共蒸着する事により第2電極4とし
て、AiLi合金電極を形成する。最後にエポキシ樹脂
を用いて封止を行う。
【0047】ここでは、γC2<γL1<γC11 =hO1、h2 ≧10μm となっている。
【0048】以上のようにして作製した有機LEDディ
スプレイは、第1電極2と第2電極4間、各第1電極2
間及び各第2電極4間でのショートは発生せず、隣接発
光層の混じり合いによる混色は観測されなかった。ま
た、発光層の膜厚の不均一に伴う画素内での発光の不均
一は見られなかった。また、このディスプレイに30V
のパルス電圧を印加する事で、すべての画素から、発光
が得られた。
【0049】(実施例5)発光層を形成するときにスピ
ンコートの代わりに凸版印刷機を使用したこと以外は実
施例4と同様にして有機LEDディスプレイを作製し
た。なお、ここで凸版印刷機に使用した、樹脂凸版は、
80μm巾の凸部が120μmピッチで並んでいるもの
を用い、ITO透明電極上に樹脂凸版の凸部がくるよう
に位置調整を行った。以上のようにして作製した有機L
EDディスプレイは、第1電極と第2電極間、各第1電
極間、及び、各第2電極間でのショートは発生せず、隣
接発光層の混じり合いによる混色は観測されなかった。
また、発光層の膜厚の不均一に伴う画素内での発光不均
一はみられなかった。また、このディスプレイに30V
のパルス電圧を印加することにより、すべての画素か
ら、発光が得られた。
【0050】(比較例1)第1隔壁として、ポリエチレ
ンテレフタレートを用い、第1隔壁として用いた合成二
酸化珪素を含有したエポキシ系紫外線硬化樹脂を第2隔
壁として用いたこと以外は実施例4と同様にして有機L
EDディスプレイを作製した。ここでは、γL1<γC1
γC2となっている。以上のようにして作製した有機LE
Dディスプレイは、第1電極と第2電極間、各第1電極
間、及び、各第2電極間でのショートは発生せず、隣接
発光層の混じり合いによる混色は観測されなかった。し
かし、発光は画素の中心部からしか観測されなく、発光
層の膜厚の不均一に伴う画素内での発光不均一が観測さ
れた。また、このディスプレイに30Vのパルス電圧を
印加することにより、すべての画素から、発光が得られ
た。
【0051】(比較例2)第2隔壁として、臨界表面張
力γC2=16dyne/cmのポリ6フッ化プロピレン
ポリエチレンテレフタレートを用い所定の形状にドライ
エッチしたものを用い、第2隔壁として用いたサイトッ
プCTLを含有したネガ型感光性樹脂を第1隔壁として
用いたこと以外は実施例4と同様して有機LEDディス
プレイを作製した。ここでは、γC1<γC2<γL1となっ
ている。以上のようにして作製した有機LEDディスプ
レイは、一部で第1電極と第2電極間でのショートが観
測された。また、ショートしていない画素においても発
光は画素の周辺部からしか観測されなく、発光層の膜厚
の不均一に伴う画素内での発光不均一が観測された。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば、隔壁が異なる臨界表面
張力を持つ複数の隔壁層の積層構造を有し、少なくとも
有機材料を含有する塗液の表面張力を隔壁の臨界表面張
力に対応させて変化させることにより、画素内での有機
層の膜厚分布が発光に悪影響を及ぼさない程度に均一に
なり、特に画素中心部分と周辺部分との膜厚差が劇的に
低減されるので、表示品位の優れた有機LEDディスプ
レイを安価に容易に提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明による有機LEDディスプレイの概略
要部断面図である。
【図2】従来の有機LEDディプレイにおける有機発光
層と隔壁近傍の概略部分断面図である。
【図3】従来の有機LEDディプレイにおける有機発光
層と隔壁近傍の概略部分断面図である。
【図4】この発明による有機LEDディスプレイの概略
断面図である。
【図5】この発明の実施例による有機LEDディスプレ
イの製造工程の概略工程図である。
【図6】この発明の実施例による有機LEDディスプレ
イの製造工程の概略工程図である。
【図7】この発明による有機LEDディスプレイの発光
層の配置の一例を示す概略部分平面図である。
【図8】この発明による有機LEDディスプレイの発光
層の配置の他の例を示す概略部分平面図である。
【図9】この発明による有機LEDディスプレイの発光
層の配置の他の例を示す概略部分平面図である。
【図10】この発明の有機LEDディスプレイの概略部
分平面図である。
【図11】この発明の有機LEDディスプレイの概略部
分平面図である。
【図12】この発明の有機LEDディスプレイの概略部
分平面図である。
【符号の説明】
1 基板 2 第1電極 3 有機LED媒体 4 第2電極 5 隔壁 6 封止膜又は封止基板 7 偏光板 8 赤色発光画素 9 緑色発光画素 10 青色発光画素 11 薄膜トランジスタ(TFT) 12 ソースバスライン 13 ゲートバスライン

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に少なくとも第1電極と隔壁を形
    成し、各隔壁間で第1電極上に液体状の有機材料を含有
    する塗液を塗布し、塗布した塗液を乾燥させて少なくと
    も1層の有機層を形成し、有機層上に第2電極を形成す
    る工程からなり、前記隔壁が基板上に順次積層された多
    層構造を有し、隔壁の各層は前記塗液の表面張力と異な
    る臨界表面張力を有し、それによって隔壁の各層に対す
    る前記塗液の密着性を制御して膜厚の均一を制御した有
    機発光層を得ることを特徴とする有機LEDディスプレ
    イの製造方法。
  2. 【請求項2】 隔壁が基板もしくは第1電極上に第1層
    と第2層を順に積層して形成され、有機層が1層である
    とき、隔壁の第1層は前記有機層を形成する塗液の表面
    張力より大きい臨界表面張力を有し、第2層は前記塗液
    の表面張力より小さい臨界表面張力を有する請求項2記
    載の有機LEDディスプレイの製造方法。
  3. 【請求項3】 隔壁は基板もしくは第1電極上に第1層
    から第m層まで積層して形成され、各層の臨界表面張力
    がそれぞれγC1、γC2、…γCk、…、γCmであり、有機
    層は第1電極上に第1層から第n層(n≦m)まで順に
    積層され、かつ、各層を形成する塗液の表面張力がそれ
    ぞれγL1、…、γLk、…、γLnであるとき、γLk+1<γ
    Ck<γLkであることを特徴とする有機LEDディスプレ
    イの製造方法。
  4. 【請求項4】 m=n+1である請求項3記載の有機L
    EDディスプレイの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記塗液はインクジェットヘッド、ディ
    スペンサ、凸版印刷法のいずれか1つを用いて塗布され
    る請求項1〜5記載の有機LEDディスプレイの製造方
    法。
  6. 【請求項6】 基板と、少なくとも基板上に形成された
    第1電極と、基板もしくは第1電極上に配置された隔壁
    と、隔壁間に形成された有機層と、有機層上に形成され
    た第2電極とを備え、隔壁が多層構造を有し、その隔壁
    の各層は臨界表面張力が互いに異なることを特徴とする
    有機LEDディスプレイ装置。
  7. 【請求項7】 隔壁は基板上に第1層から第m層まで膜
    厚がそれぞれh1 、h2 、…、hk 、…、hm となるよ
    うに積層して形成され、有機層は第1電極上に第1層か
    ら第n層(n≦m)まで膜厚がそれぞれhO1、hO2
    …、hOk、…、honとなるように順に積層されるとき、
    o1+第1電極の膜厚−20nm<h1<hO1+第1電
    極の膜厚+20nm、かつ、hOk−20nm<hk <h
    ok+20nmである、または、隔壁は第1電極上に第1
    層から第m層まで膜厚がそれぞれ、h1 、h2 、…、h
    k 、…、hm となるように積層して形成され、有機層は
    第1電極上に第1層から第n層(n≦m)まで膜厚がそ
    れぞれhO1、hO2、…、h Ok、…、honとなるように順
    に積層されるとき、hOk−20nm<hk <hOk+20
    nmであることを特徴とする請求項6記載の有機LED
    ディスプレイ。
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