JP2001176056A

JP2001176056A - 磁気ディスクおよび磁気記録装置

Info

Publication number: JP2001176056A
Application number: JP35717999A
Authority: JP
Inventors: Takashi Namekawa; 滑川　　孝; Yasutaka Suzuki; 康隆鈴木; Hirotaka Yamamoto; 浩貴山本; Takashi Naito; 内藤　　孝; Yuzo Kozono; 裕三小園; Akira Kato; 章加藤; Noriyuki Takeo; 典幸武尾
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1999-12-16
Filing date: 1999-12-16
Publication date: 2001-06-29

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気ヘッドの低浮上化と量産性に優れた磁気デ
ィスクの提供。【解決手段】ガラス基板と、該基板表面に直接または他
の層を介して形成された情報記録薄膜を有する磁気ディ
スクにおいて、前記ガラス基板はガラスマトリックス中
に導電材が分散され、該導電材はガラス基板の室温での
比抵抗が１０¹¹Ωｃｍ以下となる量分散されていること
を特徴とする磁気ディスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスクに係
り、特に、磁気ヘッドの低浮上化に有効で、かつ、量産
性に優れた磁気ディスクおよび磁気記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気記録装置は、それに搭載され
る磁気ディスクの基板としてＡｌ基板が使用されてい
た。近年、磁気記録装置の大容量化に伴ない該磁気ディ
スクは、その基板としてガラス基板が用いらるようにな
ってきた。

【０００３】上記のガラス基板は、Ａｌ基板に比較して
平滑性や平坦性に優れ、しかも硬いことから、磁気ヘッ
ドの低浮上化や耐衝撃の面から有利である。ノート型パ
ーソナルコンピュータに搭載されている小型の２.５イ
ンチ磁気記録装置には、全面的にガラス基板が適用され
ている。

【０００４】これらのガラス基板としては、特開平１−
２３９０３０号、特開平７−２２３８４５号、特開平９
−２４９４３１号、または、特開平９−２４９４３２号
公報に記載されるように、基板表面をイオン交換して高
強度化を図った化学強化ガラス基板が使用されている。

【０００５】また、特開平７−１８７７１１号、特開平
７−３００３４０号公報に記載されるように、熱処理に
よって高硬度結晶を析出し、高強度化を図った結晶化ガ
ラス基板が使用されている。

【０００６】２.５インチ磁気ディスクとしては、その
ガラス基板上にスパッタリング法等によって情報記録薄
膜が形成されている。実際には、情報記録薄膜とガラス
基板の間に下地層が介在し、また、情報記録薄膜面上に
は保護層が形成されている場合が多い。さらに磁気ディ
スク表面には潤滑液が塗布されている。

【０００７】一方、磁気ヘッドは磁気ディスクの回転時
に磁気ディスクの情報記録面上を浮上し、記録，再生動
作を繰り返し行うようになっている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】磁気記録装置は、その
記録容量が年率約８０％で増加し、今後もそれ以上の大
容量化が要求されている。大容量化のためには、磁気デ
ィスクや磁気ヘッドに使用される材料や、その構成によ
る高性能化の他に、磁気ディスクの情報記録面上での磁
気ヘッドの浮上量をさらに低下させ、情報記録面の微小
部に効率良く記録，再生できることが必要である。

【０００９】しかし、一方で磁気ヘッドの低浮上化は、
磁気ディスクの製造歩留りを低下させると云う問題があ
る。

【００１０】磁気ヘッドの低浮上化には、磁気ディスク
に使用されるガラス基板の平滑度や平坦性を著しく高め
ると共に、基板表面の清浄度も高める必要があった。最
近では高度なガラス加工技術および洗浄技術により対応
されているが、特に、清浄度においてはガラスの材質的
な面から限界が見えてきている。

【００１１】前記特開平１−２３９０３０号公報等に記
載されるような化学強化ガラス基板および前記特開平７
−１８７７１１号公報等に記載されるような結晶化ガラ
ス基板は、一般に絶縁性であり、高度な加工および洗浄
を施しても、一度洗浄により取り除かれた塵埃等が、静
電気により再付着すると云う問題があることが分かっ
た。

【００１２】実際には、磁気ディスクは塵埃等が非常に
少ないクリーンルームで製造されているが、それでも洗
浄時や取扱い時に極微細な塵埃が付くことがあり、磁気
ディスクの製造歩留りを低下させていた。また、磁気ヘ
ッドの低浮上化に伴ない、この製造歩留りを向上させる
上で、重要な課題となっていた。

【００１３】こうした塵埃が付着したガラス基板を用い
て製造された磁気ディスクは、磁気ヘッド摺動時にこれ
らの付着塵埃等が突起部分を構成し、これに磁気ヘッド
が衝突するなどして、磁性膜を傷付けることで記録した
重要な情報を失うことがあった。

【００１４】本発明の目的は、磁気ヘッドの低浮上化に
有効で、かつ、製造歩留まりの優れた磁気ディスク、並
びに、それを用いた磁気記録装置を提供することにあ
る。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の要旨は下記のとおりである。

【００１６】〔１〕ガラス基板と、該基板表面に直接
または他の層を介して形成された情報記録薄膜を有する
磁気ディスクにおいて、前記ガラス基板はガラスマトリ
ックス中に導電材が分散され、該導電材はガラス基板の
室温での比抵抗が１０¹¹Ω・ｃｍ以下となる量分散され
ていることを特徴とする磁気ディスクである。

【００１７】なお、前記ガラス基板の比抵抗としては、
１０⁹Ω・ｃｍ以下であることが特に好ましい。

【００１８】〔２〕前記導電材が導電性微粒子である
前記磁気ディスクである。該導電性微粒子としては金属
または貴金属の微粒子がある。また、導電材として金属
イオンが特に好ましく、該金属イオンとしては、Ｎｂ，
Ｔｉ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｖから選ばれる遷移金属イオ
ンが好ましい。

【００１９】〔３〕上記の磁気ディスクは、その情報
記録面の表面粗さＲａが０.６ｎｍ以下である。

【００２０】〔４〕磁気ディスクと、磁気ヘッドと、
磁気ディスクを回転させる回転手段、磁気ヘッドを磁気
ディスク表面に平行移動させる移動手段を備えた磁気記
録装置において、前記磁気ディスクは、ガラス基板と、
該基板表面に直接または他の層を介して形成された情報
記録薄膜を有し、この基板表面上に直接または他の層を
介して形成された情報記録薄膜を有し、前記ガラス基板
がガラスマトリックス中に導電材が分散されており、そ
の室温での比抵抗が１０¹¹Ω・ｃｍ以下であり、前記情
報記録面の表面粗さＲａが０.６ｎｍ以下で、該磁気デ
ィスクへの情報の記録，再生時の磁気ヘッドの磁気ディ
スク面に対する平均浮上量が２３ｎｍ以下であることを
特徴とする磁気記録装置にある。特に、前記ガラス基板
の室温での比抵抗が１０⁹Ω・ｃｍ以下が好ましい。

【００２１】〔５〕前記磁気記録装置が２枚以上の磁
気ディスクを搭載し、該磁気ディスク間に設けたスペー
サが前記ガラス基板と同一組成または構成成分が同じで
その成分比が異なるガラス製スペーサを備えた磁気記録
装置にある。

【００２２】

【発明の実施の形態】本発明を実施例に基づき具体的に
説明する。

【００２３】〔実施例１〜８〕表１に示すガラス基板
を用いて、２.５インチ磁気ディスクを作製した。

【００２４】

【表１】

【００２５】表１のガラス基板は、情報記録薄膜および
スペーサなどの他部材との熱膨張のマッチングをとるた
めに、１００〜３００℃の温度範囲で(７０〜１００)×
１０~⁷／℃の熱膨張係数とした。また、ガラス基板の情
報記録面の表面粗さＲａは０.６ｎｍ、ガラス基板の厚
みは０.６３５ｍｍとした。

【００２６】ガラス基板の清浄度に関しては、全基板と
も磁気ディスク製造のための専用クリーンルーム内で、
ポリビニールアルコール製ブラシを用いたスクラブル洗
浄を施し、洗浄後の乾燥は自然乾燥によった。

【００２７】乾燥後のガラス基板の比抵抗と、基板記録
面の平均異物数をＳＥＭ像および光学顕微鏡により測定
し、表１に示した。

【００２８】比抵抗（Ω・ｃｍ）は、ガラス基板の上下
の記録面にＡｇペーストにより電極を形成し、その電極
間の抵抗値を測定して、該抵抗値から換算し比抵抗を求
めた。なお、この比抵抗は室温での測定値である。

【００２９】また、平均異物数は基板記録面全体に付着
している０.３μｍ以上の異物数を測定し、単位面積当
たりに換算した。なお、異物数は基板５枚について測定
した。即ち、平均異物数は１０記録面を測定結果で、単
位面積当たりに換算し示した。

【００３０】表１の比較例ａは、ガラス基板表面のアル
カリイオン交換により基板を高強度化する化学強化処理
を施したアルミノシリケートガラス基板、比較例ｂは同
じく化学強化処理を施したソーダライムガラス基板、比
較例ｃは結晶化強化処理を施したリチウムシリケートガ
ラス基板、比較例ｄはａ〜ｃのような特別な強化処理を
施さないアルミノホウケイ酸ガラス基板である。

【００３１】比較例ａ〜ｄのガラス基板は、既に、２.
５インチ磁気ディスク等に適用されている従来基板、あ
るいは、今後も用いられる基板である。これらは、室温
での比抵抗が１０¹²Ω・ｃｍ以上と高く、電気絶縁性で
あった。また、平均異物数は６個／ｃｍ²以上と多く、
ヘッドの低浮上化と作製上の歩留まり向上との両立に
は、上記値の１／３未満にする必要があった。

【００３２】これに対し、実施例Ａ〜Ｃは、Ａｕ、Ｐ
ｔ、Ａｇの貴金属からなる導電性微粒子を体積で１２〜
６７％分散させたガラス基板である。ここで、該分散量
を１２〜６７％としたのは、１２％未満ではガラス導電
性が小さくなり、６７％を超えると基板の情報記録面の
表面粗さＲａが０.６ｎｍより大きくなってしまうから
である。

【００３３】また、実施例Ｃ〜ＨはＣｏＯ、Ｎｂ₂Ｏ₅、
ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｖ₂Ｏ₅から選ばれた金属
酸化物を、１８〜５８重量％含有させたガラス基板を用
いた。

【００３４】上記金属酸化物の含有量が１８重量％未満
ではガラス導電性が小さくなり、５８重量％を超えると
ガラス基板の機械的強度が低下してしまうからである。

【００３５】実施例Ａ〜Ｈのガラス基板では、導電性の
微粒子または金属イオンを分散させることで、室温での
比抵抗が１０¹¹Ω・ｃｍ以下と低い値を示した。

【００３６】なお、表１の実施例で示す微粒子または金
属イオン以外であっても、上記のような導電性が得られ
る物質がガラス基板中に適量存在しておれば、同様な効
果が得られるものと考えられる。

【００３７】また、実施例Ａ〜Ｈのガラス基板の平均異
物数は２個／ｃｍ²未満と大変少なかった。特に、比抵
抗が１０⁹Ω・ｃｍ以下の実施例Ｃ，Ｆ，Ｇ，Ｈのガラ
ス基板では、平均異物数は０.５個／ｃｍ²以下と著しく
少なかった。

【００３８】次に、図１にガラス基板の比抵抗と平均異
物数との関係を示す。図から分かるように、比抵抗が高
いガラス基板ほど平均異物数が多い。比抵抗が１０⁹Ω
・ｃｍ以下では平均異物数が著しく少なく、１０¹¹Ω・
ｃｍを超える領域で平均異物数が著しく増加し、１０¹³
Ω・ｃｍ以上では平均異物数が８個／ｃｍ²を超えるこ
とが分かる。

【００３９】表１のガラス基板を用いて作製した磁気デ
ィスクの模式断面図を図２に示す。ガラス基板１上にプ
リコート膜２、下地膜３、磁性膜４、保護膜５の順位形
成し、その上に潤滑剤６を塗布した。

【００４０】本実施例ではプリコート膜２としてＣｒ系
プリコート膜（膜厚：１５ｎｍ）、下地膜３にＣｒＴｉ
系下地膜、磁性膜４にＣｏＣｒＰｔ系磁性膜を、そし
て、保護膜５にはカーボン保護膜を用いた。

【００４１】次に、磁気ディスクの製法の概略を説明す
る。表１のガラス基板１の両面にスパッタリング法を用
いてＣｒ系プリコート膜２（膜厚：１５ｎｍ）、ＣｒＴ
ｉ系下地膜３（膜厚：２０ｎｍ）、ＣｏＣｒＰｔ系磁性
膜４（膜厚：２０ｎｍ）、カーボン保護膜５（膜厚：１
０ｎｍ）を順次形成した。この際、Ｃｒ系プリコート膜
２は室温で、それ以外の膜はガラス基板温度を２５０〜
３００℃で成膜した。各膜のスパッタリングレートは１
００〜３００ｎｍ／分の範囲とした。

【００４２】さらに、パーフルオロポリエーテル系潤滑
剤６をディッピングにより塗布し、図１の模式断面図に
示す磁気ディスクを作製した。なお、磁気ディスクの作
製枚数は表１に示す各ガラス基板について１００枚とし
た。

【００４３】次に、作製した磁気ディスク各１００枚を
用いて、磁気ヘッド浮上試験を行った。磁気ヘッド浮上
量は３３ｎｍ、２８ｎｍ、２３ｎｍ、１９ｎｍの４種類
とし、浮上量が高い順番に試験を行ない、各浮上量にお
ける歩留まり（良品数）を調べた。なお、上記の磁気ヘ
ッド浮上量は磁気ヘッドの下面からカーボン保護膜５の
上面までの距離とした。磁気ヘッド浮上試験は作製した
磁気ディスク両面に磁気ヘッドを上記浮上量で摺動さ
せ、磁気ヘッド衝突時の発熱によるエラーの有無により
不良品と良品に分けた。なお、磁気ディスクの回転速度
は５,０００ｒｐｍとした。これらの測定結果をまとめ
て表２に示す。

【００４４】

【表２】

【００４５】比較例１〜４はガラス基板ａ〜ｄを用い
た。磁気ヘッド浮上量の低下と共に磁気ディスクの歩留
まりが減少した。特に、その減少量は磁気ヘッド浮上量
が２３ｎｍ以下で顕著であった。また、比較例１〜４の
歩留まりは異物数が多い基板ほど低いと云う傾向が見ら
れる。

【００４６】これに対し、実施例１〜８は異物数が少な
いガラス基板Ａ〜Ｈを用いているため、上記の比較例に
比べ良好な歩留まりが得られた。磁気ヘッド浮上量が２
３ｎｍ以上では歩留まり９０％以上を達成していた。

【００４７】一方、比較例では磁気ヘッド浮上量が３３
ｎｍで歩留まり９０％以上を達成したが、２７ｎｍでは
約８４％、２３ｎｍではさらに４０〜５０％と減少し
た。また、１９ｎｍでは歩留まりが２０％前後と著しく
低下した。

【００４８】本実施例では磁気ヘッド浮上量１９ｎｍで
も７０％以上と高く、特に、実施例３、６、７、８では
いずれの浮上量でも９０％以上を達成していた。実施例
３、６、７、８はガラス基板Ｃ、Ｆ、Ｇ、Ｈを用いたも
ので、表１および図１に示すように、特に、比抵抗が低
く、平均異物数が大変少ないため優れた歩留まりを示し
た。

【００４９】上記から比抵抗が小さいガラス基板ほど付
着する異物数が少なく、異物数が少ないガラス基板ほど
磁気ディスクの歩留まりが高く、かつ、磁気ヘッドの低
浮上化に有効なことが分かった。具体的にはガラス基板
の比抵抗が１０¹¹Ω・ｃｍ以下が有効であり、特に、１
０⁹Ω・ｃｍ以下がさらに好ましいことが明らかであ
る。

【００５０】このようなガラス基板は、例えば、ガラス
マトリックス中に導電性微粒子を分散、あるいは、遷移
金属イオンを含有させることで得ることができる。ガラ
ス基板の情報記録面の表面粗さＲａが０.６ｎｍ以下で
は磁気ヘッド浮上量が２３ｎｍ以下における磁気ディス
クの歩留まりが従来に比べ非常に高い。

【００５１】〔実施例９〜１２〕表１のＥとＧ、およ
び、ａのガラス基板を用いて２.５インチ磁気ディスク
を作製し、磁気ヘッドの低浮上化の検討を行った。

【００５２】ガラス基板の厚みは０.６３５ｍｍとし、
ガラス基板の情報記録面の表面粗さＲａは０.６ｎｍと
０.３ｎｍの２種類とした。ガラス基板の清浄度に関し
ては、前記実施例と同様に磁気ディスク製造のための専
用クリーンルーム内でスクラブル洗浄を施した。

【００５３】ガラス基板の情報記録面の表面粗さＲａの
違いによる平均異物数は、Ｒａが小さい方が若干少ない
が、ほぼ同程度であった。なお、平均異物数の測定法は
実施例１に準じた。次に、これらのガラス基板を用いて
実施例１と同様に図２の磁気ディスクを各１００枚づつ
作製した。

【００５４】その際の膜厚は、Ｃｒ系プリコート膜２が
９ｎｍ、ＣｒＴｉ系下地膜３が１２ｎｍ、ＣｏＣｒＰｔ
系磁性膜４が１４ｎｍ、カーボン保護膜５が６ｎｍとし
た。潤滑剤６はスピンコーティングより塗布した。

【００５５】作製した磁気ディスク各１００枚を用い
て、磁気ヘッド浮上試験を行った。磁気ヘッドの下面か
ら磁気ディスクのカーボン保護膜５の上面までの磁気ヘ
ッド浮上量は１９ｎｍ、１６ｎｍ、１２ｎｍ、９ｎｍの
４種類とし、浮上量が高い順番に試験して、各浮上量に
おける歩留まり（良品数）を調べた。磁気ヘッド浮上試
験は実施例１と同様に作製した磁気ディスク両面に、磁
気ヘッドを上記浮上量で摺動させ、磁気ヘッド衝突時の
発熱によるエラーの有無により不良品と良品に分けた。
なお、磁気ディスクの回転速度は６,０００ｒｐｍとし
た。結果を表３に示す。

【００５６】

【表３】

【００５７】比較例５は記録面の表面粗さＲａが０.６
ｎｍのガラス基板ａを用いた磁気ディスクであり、磁気
ヘッド浮上量の低下と共に磁気ディスクの歩留まりが減
少した。

【００５８】また、各磁気ヘッド浮上量における歩留ま
りは２４％以下と大変低く、浮上量９ｎｍでは１００枚
中一つも良品が得られなかった。比較例６では記録面の
表面粗さＲａがさらに小さい０.３ｎｍのガラス基板ａ
を用いた磁気ディスクであったが、ガラス基板の平均異
物数がＲａ０.６ｎｍとほぼ同程度であり、各磁気ヘッ
ド浮上量における磁気ディスクの歩留まりは比較例５と
同様な結果となった。しかし、比較例５よりは若干でも
平均異物数が少ない分、各磁気ヘッド浮上量における歩
留まりも幾分良かった。

【００５９】これに対し、記録面の表面粗さＲａが０.
６ｎｍのガラス基板Ｅを用いた実施例９では、磁気ヘッ
ド浮上量１９ｎｍでの磁気ディスクの歩留まりが７４
％、１６ｎｍでの歩留まりが６０％、１２ｎｍでの歩留
まりが４６％、９ｎｍでの歩留まりが３０％である。磁
気ヘッド浮上量の低下と共に磁気ディスクの歩留まりは
減少するが、各磁気ヘッド浮上量における歩留まりは、
比較例５，６に比べ著しく高かった。

【００６０】これは比較例に用いたガラス基板ａより平
均異物数が大変少ないガラス基板Ｅを用いたためであ
る。

【００６１】ガラス基板Ｅの表面粗さＲａを０.６ｎｍ
から０.３ｎｍとした実施例１０では、ガラス基板の平
均異物数が僅かしか少なくなっていないが、各磁気ヘッ
ド浮上量における歩留まりは向上した。磁気ヘッド浮上
量の低下と共に歩留まりが低下する傾向は認められが、
表面粗さＲａを小さくした効果が得られた。

【００６２】表面粗さＲａは０.６ｎｍのままで、比抵
抗が小さいガラス基板Ｇを用いた場合の実施例１１で
は、上記実施例１０とほぼ同程度の歩留まりが得られ
た。ガラス基板Ｇの表面粗さＲａを０.３ｎｍと小さく
した実施例１２では、実施例１０や１１より各磁気ヘッ
ド浮上量における歩留まりはさらに良好であった。ま
た、他の実施例と同様に、磁気ヘッド浮上量の低下と共
に歩留まりは減少したが、その減少量は他と比べて非常
に少なかった。

【００６３】従って、磁気ヘッドの低浮上化による磁気
記録装置の大容量化には、磁気ディスク適用ガラス基板
としては比抵抗が小さいこと、次に、清浄度が高いこと
（異物数が少ないこと）、次いで情報記録面の表面粗さ
Ｒａが小さいことが挙げられる。

【００６４】本実施例から、比抵抗が１０⁹Ω・ｃｍ以
下、情報記録面の表面粗さＲａが０.６ｎｍ以下のガラ
ス基板が有効なことが分かる。

【００６５】清浄度に関しては、ガラス基板の洗浄法に
よって変わってくるが、比抵抗の小さいガラス基板ほど
清浄度を高めることが可能となり、かつ、塵埃等の再付
着が少ないことも特長である。

【００６６】〔実施例１３〕表３の実施例９と１１で
磁気ヘッド浮上量１９ｎｍに合格した磁気ディスクを
２.５インチ磁気記録装置に搭載した。

【００６７】図３に本実施例で作製した磁気記録装置の
概略図を示す。磁気ディスク７は回転軸８によって支持
され、同時にスピンドルモータ９が回転することによっ
て磁気ディスク７を回転させる。

【００６８】また、磁気ヘッド１０は、磁気ヘッド回転
軸１１によって支持されており、磁気ヘッド回転軸１１
が回転することによって、磁気ディスクの半径方向の位
置を決定している。なお、１２は電気系の出力端子、１
３はスペーサである。

【００６９】本実施例では、スペーサ１３を介して磁気
ディスク７を２枚搭載し、各ディスクの両面に計４個の
磁気ヘッドを配置した。スペーサ１３としては、従来か
らの金属製（ステンレス）のものを使用した。

【００７０】磁気ヘッド１０の浮上量は、磁気ヘッドス
ライダの形状と、磁気ヘッドを支えるアームのばね強度
を調節し、２３ｎｍと１９ｎｍの２種類に制御できるよ
うにした。磁気ディスクの回転速度は５,５００ｒｐｍ
とした。

【００７１】作製した磁気記録装置を１００時間連続運
転させ、エラーの有無を調べた。さらに磁気記録装置か
ら磁気ディスクを取り外し、磁気ディスクの表面を詳細
に観察することによって、膜剥離等の損傷の有無、およ
び、損傷箇所がある場合にはその状態を調べた。

【００７２】磁気ヘッドの浮上量を２３ｎｍとした本実
施例では、表３の実施例９と１１で磁気ヘッド浮上量１
９ｎｍに合格した磁気ディスクのいずれを使用しても、
エラーの発生や磁気ディスクの損傷は認められなかっ
た。

【００７３】また、磁気ヘッドの浮上量を１９ｎｍとし
た場合にも上記問題の発生は認められなかった。即ち、
本発明の磁気ディスクでは、２３ｎｍ以下の低浮上化に
対応した磁気記録装置を提供することができる。これは
磁気記録装置の大容量化への効果が高い。

【００７４】また、本発明の磁気ディスクは高歩留まり
で製造できることから、磁気記録装置の量産性も向上さ
せることができる。本発明では大容量化と高歩留まりを
両立した磁気記録装置が得られる。

【００７５】〔実施例１４〕表３の実施例１２でヘッ
ド浮上量１６ｎｍ、１２ｎｍ、９ｎｍにそれぞれ合格し
た磁気ディスク３種を用いて、前記実施例１３と同様に
図３で示した２.５インチ磁気記録装置を作製した。但
し、本実施例では、スペーサを介して磁気ディスクを５
枚搭載し、各ディスクの両面に計１０個の磁気ヘッドを
配置した。

【００７６】スペーサとしては、従来からの金属製（ス
テンレス）のものに変えて、実施例１２で使用したガラ
ス基板Ｇと同組成の材質のものを使用した。

【００７７】また、磁気ヘッドの浮上量は１６ｎｍ、１
２ｎｍおよび９ｎｍの３種類に制御できるようにした。
なお、磁気ディスクの回転速度は８,０００ｒｐｍとし
た。実施例１３と同様に作製した磁気記録装置を，１０
０時間連続運転させ、エラーの有無および磁気ディスク
の損傷を調べた。

【００７８】磁気記録装置のヘッド浮上量を低下させる
と、読み出し信号のＣ／Ｎが十分とれるようになり、磁
気特性が向上して、大容量化が可能となる。しかし、磁
気ヘッドの低浮上化は、磁気ディスクとの衝突を招き、
磁気ディスクの損傷につながる。この損傷は磁気記録装
置のエラーを招き、記録した情報が損失すると云う大き
な問題が発生する。

【００７９】本実施例では、ヘッド浮上量を著しく低下
させてもエラーの発生や磁気ディスクの損傷は認められ
ず、本発明の磁気ディスクの有効性を確認できた。

【００８０】また、スペーサとして磁気ディスクに搭載
したガラス基板と同組成の材質のものを使用したため、
回転時の発熱による熱膨張のマッチングに優れ、磁気ヘ
ッドの読み取りミスは全く生じなかった。

【００８１】通常、スペーサとしては金属等の導電性物
質が使用されるが、本発明によるガラス基板の材質は、
電気抵抗（比抵抗）が小さいためにスペーサとしても有
効に使用できることが分かった。

【００８２】また、スペーサは本発明によるガラス基板
と同組成の材質でなくとも、比抵抗がある程度小さく、
かつ、熱膨張のマッチングが良い同系の材質でも同様な
効果が得られることを確認した。ここで、同系の材質と
は、ガラス基板と成分の種類が同じで成分比が違うもの
を云う。また、比抵抗および熱膨張係数がガラス基板と
合致している材料でもよい。

【００８３】以上により、本発明の磁気ディスクでは、
前記実施例１３よりさらに低浮上化に適合し、大容量化
に対応できる磁気記録装置を提供することができる。ま
た、本発明の磁気ディスクは高歩留まりで製造できるこ
とから、磁気記録装置の量産性をも向上させることがで
きる。

【００８４】上記の本発明の実施例では、２.５インチ
サイズのガラス基板、磁気ディスク並びに磁気記録装置
について説明したが、１インチ、３インチ、３.５イン
チまたはそれ以外のサイズにも適用できる技術である。

【００８５】

【発明の効果】本発明によれば、比抵抗が１０¹¹Ω・ｃ
ｍ以下、好ましくは１０⁹Ω・ｃｍ以下で、情報記録面
の面粗さＲａが０.６ｎｍ以下であるガラス基板を磁気
ディスクに用いることによって、情報記録面への異物の
付着を著しく低減でき、その結果、磁気ヘッドの低浮上
化に対応できる磁気ディスクを高歩留まりで製造するこ
とができる。

【００８６】また、本発明の磁気ディスクにより大容量
化と高歩留まりとを両立した磁気記録装置を提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ガラス基板の比抵抗と平均異物数との関係を示
すグラフである。

【図２】本発明の磁気ディスクの模式断面図である。

【図３】本発明の磁気記録装置の概略図である。

【符号の説明】

１…ガラス基板、２…プリコート膜、３…下地膜、４…
磁性膜、５…保護膜、６…潤滑材、７…磁気ディスク、
８…磁気ディスク回転軸、９…スピンドルモータ、１０
…磁気ヘッド、１１…ヘッド回転軸、１２…電気信号出
力端子、１３…スペーサ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山本浩貴茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者内藤孝茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者小園裕三茨城県日立市大みか町七丁目１番１号株式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者加藤章神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者武尾典幸神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内Ｆターム(参考） 4G059 AA00 5D006 CB04 CB06 CB07 DA03 DA04 FA00 5G067 AA52 CA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板と、該基板表面に直接または
他の層を介して形成された情報記録薄膜を有する磁気デ
ィスクにおいて、前記ガラス基板はガラスマトリックス
中に導電材が分散され、該導電材はガラス基板の室温で
の比抵抗が１０¹¹Ω・ｃｍ以下となる量分散されている
ことを特徴とする磁気ディスク。
【請求項２】前記ガラス基板の比抵抗が１０⁹Ω・ｃ
ｍ以下である請求項１記載の磁気ディスク。
【請求項３】前記導電材が導電性微粒子である請求項
１または２に記載の磁気ディスク。
【請求項４】前記導電性微粒子が金属または貴金属で
ある請求項３に記載の磁気ディスク。
【請求項５】前記導電材が金属イオンである請求項１
または２に記載の磁気ディスク。
【請求項６】前記金属イオンが遷移金属イオンである
請求項５に記載の磁気ディスク。
【請求項７】前記金属イオンがＮｂ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｃ
ｏ，Ｆｅ，Ｖの少なくと一種である請求項５に記載の磁
気ディスク。
【請求項８】磁気ディスクの情報記録面の表面粗さＲ
ａが０.６ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜
７のいずれかに記載の磁気ディスク。
【請求項９】磁気ディスクと、磁気ヘッドと、磁気デ
ィスクを回転させる回転手段、磁気ヘッドを磁気ディス
ク表面に平行移動させる移動手段を備えた磁気記録装置
において、前記磁気ディスクは、ガラス基板と、該基板表面に直接
または他の層を介して形成された情報記録薄膜を有し、
この基板表面上に直接または他の層を介して形成された
情報記録薄膜を有し、ガラス基板はガラスマトリックス
中に導電材が分散されており、その室温での比抵抗が１
０¹¹Ω・ｃｍ以下であり、前記情報記録面の表面粗さＲ
ａが０.６ｎｍ以下であり、該磁気ディスクへの情報の
記録，再生時の磁気ヘッドの磁気ディスク面に対する平
均浮上量が２３ｎｍ以下であることを特徴とする磁気記
録装置。
【請求項１０】前記ガラス基板の室温での比抵抗が１
０⁹Ω・ｃｍ以下である請求項９に記載の磁気記録装
置。
【請求項１１】前記磁気記録装置が２枚以上の磁気デ
ィスクを搭載し、該磁気ディスク間に設けたスペーサが
前記ガラス基板と同一組成または構成成分が同じで成分
比が異なるガラス製スペーサである請求項９または１０
に記載の磁気記録装置。