JP2001170636A - 水浄化装置 - Google Patents

水浄化装置

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JP2001170636A
JP2001170636A JP35428899A JP35428899A JP2001170636A JP 2001170636 A JP2001170636 A JP 2001170636A JP 35428899 A JP35428899 A JP 35428899A JP 35428899 A JP35428899 A JP 35428899A JP 2001170636 A JP2001170636 A JP 2001170636A
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chlorine compound
chlorine
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electrolytic
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Takemi Oketa
岳見 桶田
Keijiro Kunimoto
啓次郎 国本
Tomohide Matsumoto
朋秀 松本
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Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は電気分解で電解水を生成し、水の殺
菌・浄化を行う水浄化装置において、入浴中の残留塩素
濃度を制御することを課題とするものである。 【解決手段】 循環流路19には、水の流入出口を有す
るアダプター20と、水を送り込むポンプ21と、水中
の懸濁物質を除去可能なフィルター22を有する電解手
段23と、電解手段への水の流入出を制御する弁24、
25、26と、塩素化合物除去手段27を有している。
従って、弁24、25、26を切り換えることにより水
が電解手段23を通過せず、塩素化合物除去手段27を
通過させる水回路を形成可能となるので、電解水での殺
菌性能を維持しながら、水中の残留塩素濃度を制御でき
るという効果がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、家庭用水道水、浴
槽水などの浄化、特に電気分解で生成した電解水による
水の殺菌に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の水浄化装置は特開平11
−77055号公報に記載されているようなものが一般
的であった。この水浄化装置は図7に示すように、浴槽
1と、浴槽1に入口2と出口3を有する水の循環流路4
に、水を送り込むポンプ5と、フィルター6と、電解槽
7と、殺菌成分除去手段として脱塩素剤8(亜硫酸カル
シウム)が配置されており、電解槽7の上下流側に位置
するバルブ9、10と脱塩素剤8の上下流側にあるバル
ブ11、12と、脱塩素剤と並列に循環路に設けられた
バルブ13を備えている。また、電解槽7に食塩水14
を供給するバルブ15及び16が配管17に備えられて
おり、配管17から電解槽7に水道水及び食塩水を供給
可能としている。
【0003】そして、水浄化の際は、ポンプ5を動か
し、浴槽1内の水が、入口2から入り、フィルター6を
通過し、浴槽に戻素ことで湯垢などの除去を行う。そし
て、水の殺菌を行う場合は、電解槽7の上流及び下流側
のバルブ9、10を開き、電解槽7に水を充満させ、そ
の後、バルブ9、10を閉じ、配管17上のバルブ1
5、16を開き、食塩水14を電解槽7に送り込んで電
気分解により次亜塩素酸を生成する。ここで生成した次
亜塩素酸を出口から浴槽1に送り込み、浴槽1内の水の
殺菌を行っていた。さらに、殺菌終了後は、脱塩素剤8
の上流と下流側のバルブ11、12を開き、浴槽1内の
水を循環し、脱塩素剤と接触させることで、浴槽水の次
亜塩素酸を除去し、入浴に用いていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の水浄化装置では以下のような課題があった。
【0005】(1)浴槽水を連続して使用する場合、殺
菌後毎に殺菌成分を除去すると、生残した細菌が直ちに
増殖を開始し、浴槽内の水に濁りが生じる。
【0006】(2)殺菌後に殺菌成分を除去すること
で、殺菌後の水の塩素臭が減少する反面、水中の細菌等
の微生物が殺菌成分と接触する時間が短くなるので、殺
菌効果が減少する。
【0007】(3)浴槽水中の殺菌成分を除去した後、
再び殺菌成分を注入し、浴槽水の殺菌を行う場合、殺菌
力が十分に得られるレベルに殺菌成分濃度を維持するに
は、毎回一定量の殺菌成分を注入する必要があるので、
殺菌成分の消費量が増加する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、循環流路に浴槽内の水を循環手段と、内部に
少なくとも一対の電極を有し、電気分解により塩素化合
物を含む電解水を生成可能な電解手段と、水の塩素化合
物を除去可能な塩素化合物除去手段とを備え、前記電解
水を水に添加することで連続的に浴槽内の水の殺菌・浄
化を行う構成において、制御手段により循環手段、電解
手段、塩素化合物除去手段のうち少なくとも一つの動作
を制御することで殺菌中一定時間だけ水中の塩素化合物
の濃度を低下させる動作制御を行う。
【0009】上記発明によれば、入浴時以外の浴槽水に
は殺菌効果を有する電解水を常に一定レベル以上の濃度
で維持できるので、水中の細菌などの微生物に常に酸性
物質でダメージを与えることができるので、少量の電解
水で最大の殺菌(または増殖抑制)効果を得ることがで
きると同時に、一日に複数回の電解水の添加を行う制御
では、電解水を注入し、殺菌終了後から次の殺菌までに
入浴をしないと判断される場合には、水中の塩素化合物
を除去せず放置することで、次の殺菌までの間、水中の
細菌などの微生物に長時間ダメージを与えることができ
るので、効果的な殺菌ができると同時に、水中への塩素
化合物の残留が期待できるので、次の殺菌時の電解水の
添加量を減少しても同等の効果を期待することができ
る。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1にかかる水浄化
装置は、循環流路に浴槽内の水を循環手段と、内部に少
なくとも一対の電極を有し、電気分解により塩素化合物
を含む電解水を生成可能な電解手段と、水の塩素化合物
を除去可能な塩素化合物除去手段とを備え、前記電解水
を水に添加することで連続的に浴槽内の水の殺菌・浄化
を行う構成において、制御手段により循環手段、電解手
段、塩素化合物除去手段のうち少なくとも一つの動作を
制御することで殺菌中一定時間だけ水中の塩素化合物の
濃度を低下させる動作制御を行うものである。
【0011】そして、入浴時以外の浴槽水には殺菌効果
を有する電解水を常に一定レベル以上の濃度で維持でき
るので、水中の細菌などの微生物に常に酸性物質でダメ
ージを与えることができるので、少量の電解水で最大の
殺菌(または増殖抑制)効果を得ることができる。
【0012】本発明の請求項2にかかる水浄化装置は、
塩素供給手段への水の流入出を制御可能な流路切換手段
を有している。
【0013】本発明の請求項3にかかる水浄化装置は、
前記電解手段と塩素化合物除去手段を並列に設置したこ
とを特徴としている。
【0014】そして、電解水を浴槽内に注入する際、電
解水を塩素化合物除去手段に通過させずに、浴槽に供給
できるので、電解手段で生成した電解水を有効に使用で
きる。
【0015】本発明の請求項4にかかる水浄化装置は、
制御手段により、浴槽内への注水中または注水後のいず
れかの時点で塩素化合物除去手段により水中の塩素化合
物を除去する制御を行うものである。
【0016】そして、注水直後(注湯も含む)に存在す
る水道水中の塩素化合物の除去も可能となり、注水直後
から快適な入浴ができる。
【0017】本発明の請求項5にかかる水浄化装置は、
塩素化合物除去手段は、内部に還元剤を貯溜し、電解水
または被処理水に接触可能な構成としている。
【0018】そして、還元剤を使用することにより安価
かつ効果的な塩素化合物の除去が可能となる。
【0019】本発明の請求項6にかかる水浄化装置は、
塩素化合物除去手段が、電解水中の塩素化合物を分解可
能な触媒で有ることを特徴としている。
【0020】そして、特定の触媒を使用することで、長
期間塩素化合物の除去性能を維持できるので、安定した
塩素化合物除去性能を得ることができる。
【0021】本発明の請求項7にかかる水浄化装置は、
塩素化合物除去手段は、電解水中の塩素化合物を吸着可
能な吸着材であることを特徴としている。
【0022】そして、塩素化合物だけでなく、塩素化合
物と同時の水中の有機物も除去可能なのでこれら由来の
臭気を減少させることができる。
【0023】本発明の請求項8にかかる水浄化装置は、
塩素化合物除去手段は、超音波を発生可能な超音波発生
手段であり、超音波により塩素化合物を分解することを
特徴としている。
【0024】そして、超音波発生装置で超音波を発生さ
せて水中の塩素化合物を除去することで、塩素化合物除
去手段の構成の簡素化が図れるだけでなく、水のクラス
ターを小さくすることができるので、肌に優しい水での
入浴をかのうとする。
【0025】本発明の請求項9にかかる水浄化装置は、
塩素化合物除去手段は、紫外線を照射する紫外線照射手
段であり、紫外線によって塩素化合物を分解することを
特徴としている。
【0026】そして、紫外線で塩素化合物を分解できる
と同時に水中の細菌を紫外線で殺菌できるので効果的な
殺菌ができる。
【0027】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
説明する。
【0028】(実施例1)図1は本発明の実施例1の水
浄化装置を示す構成図である。
【0029】図1において、18は浴槽で、循環流路1
9には、水の流入および流出口を有するアダプター20
と、水を循環流路19に送り込むポンプ21と、水中の
懸濁物質を除去可能なフィルター22を有する電解手段
23と、電解手段23および塩素化合物除去手段への水
の流入出を制御する流路切換手段の弁24、25、26
と、塩素化合物除去手段27を有している。また、弁2
4は流路28で弁26に接続された排水路29と接続さ
れると同時に、流路30で電解手段23に接続されてい
る。ここで、電解手段23と塩素化合物除去手段37は
循環流路19上で並列に配置されている。
【0030】電解手段23は、内部にフィルター22を
有し、フィルター22の下流側にバイパス路31を設
け、ここに電極32、33を備えている。そして、食塩
タンク34と電解手段23とを結ぶ食塩流路35と食塩
タンク34と循環流路19を結ぶ給水路36には食塩タ
ンク34に循環流路19の水を送り込むポンプ37が備
えられている。弁24、25、26、ポンプ21、37
の動作制御および電極32、33への通電制御は制御装
置38で行っている。この制御装置38で、入浴したい
時間帯、入浴人数を設定することで、入浴したい時間帯
に濁りのないきれいな水に入浴可能としている。
【0031】また、フィルター22はプリーツ状フィル
ターを用いており、外側から入った水が濾過され、内部
の中空部39に入る構成となっており、電極32、33
の間には隔膜40を配置している。
【0032】図2A〜Cは、塩素化合物除去手段27の
構成図であり、本実施例では同図Aの構成の塩素化合物
除去手段を用いた。タンク41内には還元剤のアスコル
ビン酸水溶液44が充填されており、アスコルビン酸水
溶液44はポンプ42により流路43を通って循環流路
19に送り込まれる。また、アスコルビン酸水溶液44
の供給制御は弁24、25、26及びポンプ42を制御
装置38で制御して行っている。本実施例においては、
このアスコルビン酸水溶液に酸(クエン酸、塩酸など)
を加え、水溶液中の細菌の繁殖によるアスコルビン酸の
分解を防いでいる。
【0033】なお、この流路42に循環流路19からの
水の逆流を防ぐ逆止弁を備えることで、循環流路19中
の水のタンク41への流入を抑えることができるので、
必要に応じ設置することが望ましい。
【0034】次に動作、作用について説明する。浴槽1
8内の水はポンプ21によりアダプタ20から循環流路
19に送り込まれる。その後循環流路19の水は、電解
手段23に入り、内部のフィルター22で水中に含まれ
る懸濁物質が濾過除去される。そして、水は循環流路1
9からアダプター20に戻り、浴槽18内に排出される
ことで、水の濁度一定レベル以下に保っている。しか
し、この動作だけだと、水中の細菌の増殖を抑えること
ができないので、水が濁る場合が有る。このようなケー
スを想定して、定期的に電気分解を行い電解水(次亜塩
素酸、次亜塩素酸イオン、活性塩素などの塩素化合物を
含む水)を生成し、水の殺菌を行っている。つまり、ポ
ンプ21が停止した状態で、ポンプ37を動かし、食塩
タンク34内の食塩水を食塩流路35から電解手段23
の電極32、33間に送り込む。その後、電極32、3
3に直流電流を引加し、電気分解を行う。電気分解では
電解水だけでなく酸素及び水素の気泡も発生する。ここ
で発生した気泡は、電極32より上側のバイパス路31
に排出され、バイパス路31には上方向への水の流れが
発生する。この流れにより、フィルター22の下流側の
中空部39とバイパス路31との間に循環流が発生さ
せ、この中空部39とバイパス路31でl構成される空
間で循環を行いながら電気分解を行うことで、電解水の
生成効率が向上する。電解水を生成した後、弁25、2
6を切換え、ポンプ21を始動することで、バイパス路
31及び中空部39に溜まっている電解水は浴槽18へ
送り込まれ、殺菌が行われる。この時、電解水は塩素化
合物除去手段27を通過しない水回路としているので、
電気分解で生成した電解水中の次亜塩素酸等の殺菌性を
有する塩素化合物が除去されずに浴槽18に供給可能と
なるので、電解水を有効に使用し、殺菌性能を向上させ
ることができる。
【0035】このようにして、浴槽18内の水の殺菌を
行っているが、水中の細菌は水の電解水濃度、(特に残
留塩素濃度)が低下すると直ちに増殖を開始し、浴槽1
8内の水が濁りを生じる。従って、浴槽水中の細菌数が
目標レベル以下に低下しても水中の残留塩素濃度を一定
レベル(具体的には、全残留塩素濃度を0.2ppm以
上、好ましくは0.3ppm以上に保つ)に制御する必要
がある。しかし、浴槽水(入浴水)に電解水を添加し、
添加直後の残留塩素濃度が1.0〜2.0ppmになるよ
うに調整しても、添加後数時間で0.2ppm以下にまで
低下してしまう。従って、1日に2回以上(好ましくは
3回程度)電解水の添加が必要となる。しかし、残留塩
素濃度が常に0.2ppm以上になるように電解水を添加
した場合、水質の違いまたは入浴負荷の違いによって入
浴時間帯の浴槽水中の残留塩素濃度が1.0ppm近くに
なる場合が有る。1.0ppmの残留塩素濃度では、入浴
者は容易に塩素臭を感じ、塩素臭を嫌がる入浴者は不快
に感じたり、皮膚に「チクチク」とした刺激を感じる入
浴者が出てくる場合が有る。電解水で殺菌しているの
で、衛生的な問題は無いにせよ、ニオイや刺激感を好ま
ない入浴者のことを考慮すれば、制御手段で入浴時間帯
が設定されている時間帯は水中の残留塩素濃度を除去す
ることが好ましい。そこで、設定されている入浴時間帯
以前に浴槽18内の水の残留塩素濃度を低下させるため
以下の動作を行うようにプログラムしておく。すなわ
ち、入浴時間帯開始前に弁25、26を切換え、ポンプ
21で循環流路19に送り込まれた水が、塩素化合物除
去手段27を通り、弁25を通ってアダプター20から
再び浴槽18内に戻る構成とする。塩素化合物除去手段
27の詳細な構成は図2Aに示したように、ポンプ42
の働きにより、タンク41内のアスコルビン酸の一定量
(2mg/L以上、20mg/L以下)を循環流路19に注
入する。この動作により、浴槽18内の水の残留塩素濃
度は0.2ppm以下(場合によっては0.1ppm以下)ま
で低下させることができ、入浴中の塩素臭やチクチクと
した皮膚刺激を低減または無くすことができる。
【0036】また、湯はり直後の水には水道水中に含ま
れる残留塩素のため、塩素臭や皮膚刺激が有る。従っ
て、湯はり中、また湯はり直後に弁25、26及びポン
プ21、42の動作を制御し、浴槽18内の水にアスコ
ルビン酸を添加することで、湯はり直後でもの塩素臭や
チクチクとした皮膚刺激を低減または無くすことができ
る。
【0037】なお、本実施例では、電極32、33間に
隔膜40を配置し、電極33の上流に弁24を設置して
いるので、浴槽18内の水のpH(水素イオン濃度)を低
下させ、酸性水を生成可能である。すなわち、制御手段
38で、弁24を切換え、ポンプ21で送り込まれた水
が、弁24、流路30を通過し、電解手段23から循環
流路19を介して浴槽18に戻る水回路を形成し、水を
循環させながら、電極33を陽極とし、電気分解を行
う。電気分解により陽極側ではpHが低下し、酸性水が得
られるので、浴槽18内の水のpHが低下し、酸性水で入
浴可能となる。一方、陰極32側では、pHが高いアルカ
リ水ができるので、フィルター22に堆積した有機物の
汚れを分解することができるので、フィルター22の寿
命を延長することができる。そして、電解終了後は、弁
24、25、26を切換え、ポンプ21を始動し、排水
路28からフィルター22の下流側の空間39及びバイ
パス路31に溜まったアルカリ水を排出し、再び弁2
4、25、26を切換え、通常の濾過運転に戻る。
【0038】また、この操作で得られたアルカリ水を用
いてフィルター22の逆流洗浄を行うとフィルター22
の寿命の更なる延長が可能となる。
【0039】また、電気分解で得られる酸性水には残留
塩素が含まれるので、電解後は、弁24、25、26を
切換え、再び水を塩素化合物除去手段27に通過させる
ことで、アスコルビン酸で水中の残留塩素を除去するこ
とで、酸性水によるアストリンゼン効果とアスコルビン
酸による残留塩素除去効果により快適かつ美容に良い入
浴が可能になる。
【0040】また、塩素化合物除去手段で還元剤として
アスコルビン酸を浴槽水に添加することで、次亜塩素酸
を還元(または分解)できると同時に、アスコルビン酸
は太陽光線(紫外線)によってダメージをうけ、皮膚表
面に形成された酸化脂質を還元できるので、美容にもよ
いという特有の効果を持っている。そして、アスコルビ
ン酸は天然植物(果物、野菜など)に含まれる物質であ
り、安全性がきわめて高い。同様にして、ビタミン類で
還元作用を有する物質(例えば、ビタミンA、B、D、
Eなど)や、植物抽出物(カテキンエキス、クロロフィ
ルのようなお茶の抽出物など)をアスコルビン酸の代用
に用いることでも同様の効果を得ることができる。ま
た、天然物質以外であれば、亜硫酸カルシウム、チオ硫
酸ナトリウムなどを用いてもよい。これらを用いる場合
は、図2のBのように、亜硫酸カルシウムまたはチオ硫
酸ナトリウムを粒状体45に成型し、これを流失防止体
46を有するケーシング47内に充填し、循環流路19
に配置し、矢印の様に水を流すことで水がケーシング内
の粒状体45と接触し、残留塩素が除去できる。
【0041】また、アスコルビン酸等のビタミン類や亜
硫酸カルシウム、チオ硫酸ナトリウム等の物質を粉末状
で使用したい場合は、図2のCのように、上流及び下流
側(少なくとも下流側は必須)に不織布48を装着した
薬品収納部49に粉末薬品50を入れ、これをケーシン
グ51内に収める。循環してきた水は、この塩素化合物
除去手段内で矢印に示したように通過する。すなわち、
循環水の一部が不織布を通過し、粉末薬品50の一部と
接触(物質によっては溶解)することで、水中の残留塩
素を除去可能となる。この方法は不織布48の材質、開
孔径、不織布48の面積、や、ケーシング51と薬品収
納部50との隙間(距離)を任意に変えることで薬品と
の接触、または溶解条件を容易に変えることができる。
なお、一方向だけに不織布を用いる場合は、上流または
下流に逆止弁設置することで、粉末薬品49の漏出を防
止できる。
【0042】なお、本実施例において、電極32、33
の間に隔膜40を配置し、電気分解で電解水をつくると
同時に酸性水をつくることができる構成としたが、浴槽
18に酸性水を供給したい場合以外は、隔膜40は必要
なく、従って、酸性水を造るための流路29、30及び
弁24を省くことができる。
【0043】(実施例2)図3A、Bは本発明の実施例
2の水浄化装置の塩素化合物除去手段を示す構成図であ
る。
【0044】本実施例2において、実施例1と異なる点
は触媒で残留塩素を分解除去する構成としている点に有
り、触媒52を含有する粒状体53をケーシング54に
充填、流出防止体55でケーシング54内に保持する、
または、触媒52を担持したハニカム状担体56を内蔵
している点にある。
【0045】なお、実施例1と同一符号のものは同一構
造を有し、説明は省略する。
【0046】次に動作、作用を説明すると、浴槽18内
の水の残留塩素を除去する場合、実施例1と同様にして
弁25、26を切換え、ポンプ21を動かし、水が塩素
化合物除去手段27に入り、再び浴槽18へ戻る水回路
を形成する。図3のAの構成では、塩素化合物除去手段
27に入った水は、粒状体53の触媒52と接触するこ
とで、溶存している残留塩素が分解除去される。また、
図3のBの様にハニカム状担体56表面(両側)に触媒
52を担持することで、効果を維持しながら塩素化合物
除去手段27の圧力損失を低下することができる。
【0047】なお、触媒52としては金属系のものが望
ましく、Au、Ag、Pd、Pt、Fe、Mn、W、T
i、Mo系が望ましい。
【0048】(実施例3)図4A、Bは本発明の実施例
3の塩素化合物除去手段27を示す構成図である。本実
施例3において、実施例1または2と異なる点は、ケー
シング57内に吸着手段の粒状活性炭58と流出防止板
59または、吸着手段の繊維状活性炭60を備えている
ところである。
【0049】なお、実施例1と同一符号のものは同一構
造を有し、説明は省略する。
【0050】次に動作、作用を説明すると、浴槽18の
水の残留塩素を除去する場合、実施例1と同様にして、
弁25、26を切換え、塩素化合物除去手段27を通過
する水回路を形成する。その後、ポンプ21を始動し、
塩素化合物除去手段27に水を通水する。図4のAにお
いては、塩素化合物除去手段27に入った水は、粒状活
性炭58と接触することで、溶解している残留塩素は吸
着除去されるので、ポンプ21の循環を続けることで浴
槽18内の残留塩素濃度を低下させることができる。ま
た、図4のBの様にケーシング57内に繊維状活性炭6
0を装着することで、圧損は上昇するものの、残留塩素
除去率は向上する。
【0051】なお、吸着剤として粒状活性炭58または
繊維状活性炭60を用いることで、水中の残留塩素だけ
でなく入浴によって混入する臭気を発する有機物の除去
も可能となるので、入浴人数が増えた場合でも臭気の少
ない快適な入浴を実現できるという特有の効果を有す
る。
【0052】また、本実施例では、吸着手段として粒状
活性炭58または繊維状活性炭60を用いたが、粒状ま
たは膜状のイオン交換樹脂を用いても同等の効果を得る
ことができる。
【0053】(実施例4)図5は本発明の実施例4の塩
素化合物除去手段27の構成図である。本実施例4にお
いて、実施例1、2または3と異なる点は、循環流路1
9に超音波発生手段として超音波発信素子61を備えて
いるところである。
【0054】なお、実施例1と同一符号のものは同一構
造を有し、説明は省略する。
【0055】次に動作、作用を説明すると、浴槽18の
水の残留塩素を除去する場合、実施例1と同様にして、
弁25、26を切換え、塩素化合物除去手段27を通過
する水回路を形成する。その後、ポンプ21を始動し、
塩素化合物除去手段27に水を通水する。その後、制御
手段38で超音波発信素子61の動作を制御し、循環し
てきた水に超音波を照射する。超音波により水中の残留
塩素は分解されるので、ポンプ21で水の循環を続ける
ことで浴槽18内の水の残留塩素濃度を低下させること
ができる。
【0056】なお、本実施例のように塩素化合物除去手
段27として超音波発信素子61を用いることで、超音
波発信素子61に通電しているとき以外は残留塩素を分
解しないので、電解手段23と直列につなぐことが可能
になるので、装置の簡素化、流路切換えのための弁を減
らすことができるという効果も有している。
【0057】(実施例5)図6に本発明の実施例5の塩
素化合物除去手段27の構成図を示した。実施例1から
4と異なる点は、塩素化合物除去手段27としてケーシ
ング62内に紫外線照射手段の紫外線ランプを備えてい
るところにある。矢印は水の流れを示す。
【0058】なお、実施例1と同一符号のものは同一構
造を有し、説明は省略する。
【0059】次に動作、作用を説明すると、浴槽18の
水の残留塩素を除去する場合、実施例1と同様にして、
弁25、26を切換え、塩素化合物除去手段27を通過
する水回路を形成する。その後、ポンプ21を始動し、
塩素化合物除去手段27に水を通水する。その後、制御
手段38で紫外線ランプ63に通電し、ケーシング62
内の水に紫外線を照射させる。この動作により、水中の
残留塩素が光化学的に分解され、ポンプ21で水の循環
を続けることにより浴槽18内の残留塩素濃度を低下さ
せる粉tができる。
【0060】なお、本実施例では、塩素化合物除去手段
として紫外線照射手段の紫外線ランプ62を用い、紫外
線を水に照射しているので、水中の残留塩素の分解除去
ができると同時に紫外線で水中の細菌を殺菌できるの
で、殺菌性能を維持したまま水中の残留塩素除去ができ
るという特有の効果を有している。
【0061】
【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項1に
係る水浄化装置は、電気分解により電解水を生成可能な
電解手段と、水中の塩素化合物を除去可能な塩素化合物
除去手段とを有し、制御手段の制御により殺菌中一定時
間だけ水中の塩素化合物の濃度を低下させることで、入
浴時以外の浴槽水には殺菌効果を有する電解水を常に一
定レベル以上の濃度で維持できるので、水中の細菌など
の微生物に常に酸性物質でダメージを与えることができ
るので、少量の電解水で最大の殺菌(または増殖抑制)
効果を得ることができるという効果がある。
【0062】また、請求項3に係る水浄化装置は、前記
電解手段と塩素化合物除去手段を並列に設置したことを
特徴としているので、電解水を浴槽内に注入する際、電
解水を塩素化合物除去手段に通過させず電解水を有効に
使用できる。
【0063】また、請求項4にかかる水浄化装置は、浴
槽内への注水中または注水後のいずれかの時点で塩素化
合物除去手段により水中の塩素化合物を除去する制御を
行うので、注水直後(注湯も含む)に存在する水道水中
の塩素化合物の除去も可能となり、注水直後から快適な
入浴ができる。
【0064】また、請求項5にかかる水浄化装置は、還
元剤を貯溜し、電解水または被処理水に接触可能な構成
としているので、安価かつ効果的な塩素化合物の除去が
可能となる。
【0065】また、請求項6にかかる水浄化装置は、電
解水中の塩素化合物を分解可能な触媒をしようしている
ので、長期間塩素化合物の除去性能を維持できるので、
安定した塩素化合物除去性能を得ることができる。
【0066】また、請求項7にかかる水浄化装置は、塩
素化合物除去手段は、電解水中の塩素化合物を吸着可能
な吸着材であることを特徴としているので、塩素化合物
だけでなく、塩素化合物と同時の水中の有機物も除去可
能なのでこれら由来の臭気を減少させることができる。
【0067】また、請求項8にかかる水浄化装置は、塩
素化合物除去手段は、超音波を発生可能な超音波発生手
段であり、超音波により塩素化合物を分解することを特
徴としているので、塩素化合物除去手段の構成の簡素化
が図れるだけでなく、水のクラスターを小さくすること
ができるので、肌に優しい水での入浴を可能となる。
【0068】また、請求項9にかかる水浄化装置は、紫
外線によって塩素化合物を分解しているので、紫外線で
塩素化合物を分解できると同時に水中の細菌を紫外線で
殺菌できるので効果的な殺菌ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1における水浄化装置の構成図
【図2】A、B、Cは同水浄化装置の塩素化合物除去手
段の構成図
【図3】A、Bは本発明の実施例2における塩素化合物
除去手段の構成図
【図4】A、Bは本発明の実施例3における塩素化合物
除去手段の構成図
【図5】本発明の実施例4における塩素化合物除去手段
の構成図
【図6】本発明の実施例5における塩素化合物除去手段
の構成図
【図7】従来の水浄化装置の構成図
【符号の説明】
18 浴槽 19 循環流路 21 ポンプ 23 電解手段 24、25、26 弁 27 塩素化合物除去手段 30 流路 32、33 電極 38 制御手段 44 アスコルビン酸水溶液 45 粒状体 50 薬品粉末 52 触媒 58 粒状活性炭 60 繊維状活性炭 61 超音波発信素子 63 紫外線ランプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 1/50 520 C02F 1/50 520L 531 531M 1/70 1/70 Z (72)発明者 松本 朋秀 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 4D024 AA06 AB11 BA02 BB01 BB02 BC01 DA03 DB03 DB09 DB10 DB22 4D037 AA09 AB14 BA18 BA26 BB01 CA02 CA04 CA09 4D050 AA10 AB45 AB46 BA06 BA07 BA12 BD02 BD03 BD06 BD08 CA06 CA07 CA10 CA15 4D061 DA03 DA07 DB01 DB10 EA03 EB39 ED13 FA06 FA07 FA13 FA17 FA20 GC01 GC02 GC12 GC18

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】循環流路に浴槽水の循環手段と、内部に少
    なくとも一対の電極を有し、電気分解により塩素化合物
    を含む電解水を生成可能な電解手段と、水の塩素化合物
    を除去可能な塩素化合物除去手段とを備え、前記電解水
    を水に添加することで連続的に浴槽内の水の殺菌・浄化
    を行う構成において、制御手段により循環手段、電解手
    段、塩素化合物除去手段のうち少なくとも一つの動作を
    制御することで殺菌中一定時間だけ水中の塩素化合物の
    濃度を低下させる動作制御を行う水浄化装置。
  2. 【請求項2】塩素供給手段への水の流入出を制御可能な
    流路切換手段を有する請求項1記載の水浄化装置。
  3. 【請求項3】電解手段と塩素化合物除去手段を並列にし
    た請求項2記載の水浄化装置。
  4. 【請求項4】制御手段により、浴槽内への注水中または
    注水後のいずれかの時点で塩素化合物除去手段により水
    中の塩素化合物を除去する制御を行う請求項1ないし3
    のいずれか1項記載の水浄化装置。
  5. 【請求項5】塩素化合物除去手段は、内部に還元剤を貯
    溜し、電解水または被処理水に接触可能な構成とした請
    求項2ないし4のいずれか1項記載の水浄化装置。
  6. 【請求項6】塩素化合物除去手段が、電解水中の塩素化
    合物を分解可能な触媒であることを特徴とした請求項2
    ないし4のいずれか1項記載の水浄化装置。
  7. 【請求項7】塩素化合物除去手段が、電解水中の塩素化
    合物を吸着可能な吸着材であることを特徴とする請求項
    2ないし4のいずれか1項記載の水浄化装置。
  8. 【請求項8】塩素化合物除去手段が、超音波を発生可能
    な超音波発生手段であり、超音波により塩素化合物を分
    解することを特徴とした請求項1または4記載の水浄化
    装置。
  9. 【請求項9】塩素化合物除去手段が、紫外線を照射する
    紫外線照射手段であり、紫外線によって塩素化合物を分
    解することを特徴とした請求項1または4項記載の水浄
    化装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008012497A (ja) * 2006-07-10 2008-01-24 Japan Organo Co Ltd 水処理装置及び水処理方法
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JP2012210556A (ja) * 2011-03-30 2012-11-01 Panasonic Corp 浄水器
JP2015112554A (ja) * 2013-12-12 2015-06-22 株式会社ウェルシィ 水処理方法及び水処理システム
CN106854025A (zh) * 2016-12-14 2017-06-16 安徽华塑股份有限公司 一种氯碱工业废水的处理方法
CN115607722A (zh) * 2022-10-31 2023-01-17 广东美的制冷设备有限公司 消毒机及其控制方法、控制装置及存储介质

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