JP2001165772A - Secondary light source creating device and reflection characteristics measuring device - Google Patents

Secondary light source creating device and reflection characteristics measuring device

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JP2001165772A
JP2001165772A JP34717299A JP34717299A JP2001165772A JP 2001165772 A JP2001165772 A JP 2001165772A JP 34717299 A JP34717299 A JP 34717299A JP 34717299 A JP34717299 A JP 34717299A JP 2001165772 A JP2001165772 A JP 2001165772A
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JP
Japan
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light
light source
sample
opening
openings
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JP34717299A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Imura
健二 井村
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the uniformity of the luminance distribution of a secondary light source formed at a diffusion wall with no association of reduction in light quantity. SOLUTION: By arranging a straight-pipe-shaped light source 21 is inclined and arranged to the openings 23a and 23b of a mask plate 23, luminance distributions at the openings 23a and 23b are offset distributions different from each other. By constituting a second illuminating means 20 in such a way as to superimpose the images of the openings 23a and 23b on each other in a direct illumination region in an integrating sphere 1 by image-forming optical systems 24a and 24b to form images, it is possible to obtain a uniform distribution as a luminance distribution in the direct illumination region.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、積分球などを用い
た分光測色計を含む反射特性測定装置に適用される２次
光源作成装置およびこの２次光源作成装置を備えた反射
特性測定装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a secondary light source producing apparatus applied to a reflection characteristic measuring apparatus including a spectrophotometer using an integrating sphere and the like, and a reflection characteristic measuring apparatus provided with the secondary light source producing apparatus. It is about.

【０００２】[0002]

【従来の技術】一般に、試料の反射特性の測定は、照明
系と受光系の光学的条件（ジオメトリ）によって大きな
影響を受ける。従って、分光測色計等の反射特性測定装
置の多くは、ＣＩＥ（国際照明委員会）が推奨する45／
0（45°照明、垂直受光）、0／45（垂直照明、45°受
光）や、d／0（拡散照明、垂直受光）、0／d（垂直照
明、拡散受光）のいずれかのジオメトリを採用してい
る。2. Description of the Related Art Generally, the measurement of the reflection characteristics of a sample is greatly affected by the optical conditions (geometry) of an illumination system and a light receiving system. Therefore, many reflection characteristic measuring devices such as spectrophotometers are recommended by the CIE (International Commission on Illumination).
Either 0 (45 ° illumination, vertical reception), 0/45 (vertical illumination, 45 ° reception), d / 0 (diffuse illumination, vertical reception), or 0 / d (vertical illumination, diffusion reception) Has adopted.

【０００３】従来、それらのうちでもd／0の一種である
d／8（拡散照明、8°受光）ジオメトリは、試料表面の
構造に影響されず安定性が高いという特徴を有する鏡面
反射成分を含む（Specular Component Included，ＳＣ
Ｉ）反射特性と、目視に近いという特徴を有する鏡面反
射成分を含まない（Specular Component Excluded，Ｓ
ＣＥ）反射特性の双方の測定が可能であることから、広
く用いられている。Conventionally, among them, it is a kind of d / 0
The d / 8 (diffuse illumination, 8 ° light receiving) geometry includes a specular component that is characterized by high stability without being affected by the structure of the sample surface (Specular Component Included, SC
I) Specular Component Excluded, S
CE) Since it is possible to measure both reflection characteristics, it is widely used.

【０００４】従来、d／8ジオメトリでのＳＣＩ反射特性
及びＳＣＥ反射特性の測定には、図１２に示すような反
射特性測定装置を用いるのが主流であった。図１２の装
置では、積分球１０１の試料用開口１０２の法線１０２
ａ（平滑な試料１０３の法線に一致する）に対して８°
方向の受光光学系１３２の光軸１３２ａと対称な方向、
すなわち−８°方向に対応する積分球１０１の内壁１０
１ａの部分領域１０４が、機械的に開閉可能なトラップ
１０４ａとして形成されている。この部分領域１０４
は、試料１０３の表面が平滑なとき、受光光学系１３２
に対する試料１０３の鏡面反射光の光源となる。そし
て、図１２に示すようにトラップ１０４ａが開いた状態
で発光回路１１２により光源１１１を発光させてＳＣＥ
反射特性を測定し、トラップ１０４ａを部分領域１０４
に配置した状態（すなわち、部分領域１０４を閉じた状
態）で発光回路１１２により光源１１１を発光させてＳ
ＣＩ反射特性を測定するようにしていた。Conventionally, in measuring the SCI reflection characteristic and the SCE reflection characteristic in the d / 8 geometry, a reflection characteristic measuring device as shown in FIG. 12 has been mainly used. In the apparatus shown in FIG. 12, the normal 102 of the sample opening 102 of the integrating sphere 101
8 ° with respect to a (corresponding to the normal of the smooth sample 103)
Direction symmetrical to the optical axis 132a of the light receiving optical system 132,
That is, the inner wall 10 of the integrating sphere 101 corresponding to the −8 ° direction
1a is formed as a mechanically openable and closable trap 104a. This partial area 104
When the surface of the sample 103 is smooth, the light receiving optical system 132
Becomes the light source of the specularly reflected light of the sample 103 with respect to. Then, as shown in FIG. 12, when the trap 104a is open, the light source 111 is caused to emit light by the light emitting circuit 112, and the SCE is released.
The reflection characteristics are measured, and the trap 104a is
The light source 111 emits light by the light emitting circuit 112 in a state where the
The CI reflection characteristics were measured.

【０００５】このように、図１２の装置では、試料１０
３を入れ替える毎にトラップ１０４ａを開閉する必要が
あるために、測定に時間と手間を要するだけでなく、機
械的可動部分を有するので測定結果の信頼性が低下する
ことが避けられないという問題点があった。As described above, in the apparatus shown in FIG.
It is necessary to open and close the trap 104a every time the 3 is replaced, so that not only the measurement requires time and effort, but also that the mechanically movable parts are used, so that the reliability of the measurement result is unavoidably reduced. was there.

【０００６】そこで、図１３に示すように、２つの異な
る配向の照明光で試料を照明する積分球を用いることに
よって、機械的な可動部分を除くようにした方式が提案
されている（例えば特開平９−６１２４３号公報参
照）。Therefore, as shown in FIG. 13, a method has been proposed in which a mechanically movable part is removed by using an integrating sphere that illuminates a sample with illumination light of two different orientations (for example, FIG. See JP-A-9-61243).

【０００７】図１３の装置において、積分球１０１は、
試料用開口１０２、第１、第２の照明用開口１１６，１
２６および受光用開口１３１を有し、その内壁１０１ａ
には硫酸バリウムなどの高拡散性、高反射率の材料が塗
布されている。In the apparatus of FIG. 13, the integrating sphere 101 is
Sample opening 102, first and second illumination openings 116, 1
26 and a light-receiving opening 131, and an inner wall 101a thereof.
Is coated with a material having high diffusivity and high reflectance such as barium sulfate.

【０００８】そして、第１の照明手段１１０において、
発光回路１１２により光源１１１が発光すると、積分球
１０１の内壁１０１ａの広い部分領域１０５に向けて光
が導かれ、部分領域１０５で反射した後、内壁１０１ａ
で多重反射して、試料１０３がほぼ一様に拡散照明され
る。Then, in the first lighting means 110,
When the light source 111 emits light by the light emitting circuit 112, the light is guided toward the wide partial area 105 of the inner wall 101a of the integrating sphere 101, and after being reflected by the partial area 105, the inner wall 101a.
And the sample 103 is diffusely illuminated almost uniformly.

【０００９】一方、第２の照明手段１２０において、発
光回路１２２により光源１２１が発光すると、試料用開
口１０２の法線１０２ａ（平滑な試料１０３の法線に一
致する）に関して受光光学系１３２の光軸１３２ａと対
称な方向の部分領域１０４に光が導かれ、部分領域１０
４で反射した後、やはり内壁１０１ａで多重反射する
が、一定部分の反射光は試料１０３を直接照明する。す
なわち、この第２の照明手段１２０において、拡散板１
２７を介して光源１２１によりマスク板１２３が照明さ
れると、結像光学系１２４により、開口１２３ａの像が
反射鏡１２５を介して積分球１０１の内壁１０１ａの部
分領域１０４に投影される。この開口１２３ａの像は、
拡散板１２７を透過して開口１２３ａで制限された光源
１２１からの光で形成され、部分領域１０４を２次光源
として試料用開口１０２に配置された試料１０３が照明
されることとなる。このように、第２の照明手段１２０
は、２次光源作成装置としての機能を有する。この２次
光源に相当する部分領域１０４は、試料１０３の表面が
平滑なとき、受光光学系１３２に対する試料１０３の鏡
面反射光の光源となる。On the other hand, in the second illuminating means 120, when the light source 121 emits light by the light emitting circuit 122, the light of the light receiving optical system 132 with respect to the normal line 102a of the sample opening 102 (corresponding to the normal line of the smooth sample 103). Light is guided to the partial region 104 in a direction symmetric with the axis 132a, and the partial region 10
After being reflected at 4, the light is also multiple-reflected at the inner wall 101 a, but a certain portion of the reflected light directly illuminates the sample 103. That is, in the second illumination means 120, the diffusion plate 1
When the mask plate 123 is illuminated by the light source 121 via 27, the image of the opening 123 a is projected by the imaging optical system 124 onto the partial region 104 of the inner wall 101 a of the integrating sphere 101 via the reflecting mirror 125. The image of the opening 123a is
The sample 103 formed by the light from the light source 121 transmitted through the diffusion plate 127 and restricted by the opening 123a is illuminated by the partial region 104 as a secondary light source and arranged in the sample opening 102. Thus, the second lighting means 120
Has a function as a secondary light source creation device. When the surface of the sample 103 is smooth, the partial region 104 corresponding to the secondary light source serves as a light source of the specular reflected light of the sample 103 with respect to the light receiving optical system 132.

【００１０】このように、図１３の装置では、第１、第
２の照明手段１１０，１２０によって、それぞれ互いに
異なる配光で試料用開口１０２に配置された試料１０３
が照明される。そして、試料１０３は、第１の照明手段
１１０からの拡散照明光によって照明されたときに、試
料用分光手段１３０により第１の反射特性ｒ1が求めら
れ、第２の照明手段１２０からの鏡面反射光の入射光と
なる照明光が強調された照明によって照明されたとき
に、試料用分光手段１３０により第２の反射特性ｒ2が
求められる。さらに、演算制御手段１５０により、第
１、第２の反射特性ｒ1，ｒ2を適切な重み係数で線形結
合して、ＳＣＩ反射特性ｒi及びＳＣＥ反射特性ｒeが求
められる。As described above, in the apparatus shown in FIG. 13, the first and second illuminating means 110 and 120 use the sample 103 arranged in the sample opening 102 with different light distributions from each other.
Is illuminated. Then, when the sample 103 is illuminated by the diffuse illumination light from the first illuminating unit 110, the first reflection characteristic r 1 is obtained by the sample dispersing unit 130, and the mirror surface from the second illuminating unit 120 is obtained. When the illumination light serving as the incident light of the reflected light is illuminated by the emphasized illumination, the second reflection characteristic r 2 is obtained by the sample dispersing means 130. Further, the arithmetic control unit 150, first, the second reflection characteristic r 1, r 2 and linearly combined with the appropriate weighting factor, SCI reflection characteristic r i and SCE reflection characteristic r e is obtained.

【００１１】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、図１
３の装置では、試料用開口１０２の法線１０２ａに関し
て受光光学系１３２の光軸１３２ａと対称な方向の部分
領域１０４は、平滑な試料１０３の受光光学系１３２
（試料用分光手段１３０）に対する鏡面反射光の光源と
なる。As described above, FIG.
In the apparatus 3, the partial region 104 of the light receiving optical system 132 in a direction symmetrical to the optical axis 132 a with respect to the normal line 102 a of the sample opening 102 is the light receiving optical system 132 of the smooth sample 103.
It becomes a light source of the specularly reflected light to the (spectroscopic means for sample 130).

【００１２】試料１０３の表面が平滑な場合には、図１
４（ａ）にラインＩａで示すように、この部分領域１０
４内の各点は、試料用分光手段１３０で観察される鏡面
反射光に対して、一様に寄与することとなる。ところ
が、試料１０３の表面は必ずしも平滑ではなく、実際に
は若干の拡散性を伴うことが多い。その場合には、試料
用分光手段１３０で観察される鏡面反射光に対する部分
領域１０４内の各点の寄与は一様ではなく、通常、図１
４（ｂ）にラインＩｂで示すように、法線１０２ａに関
して受光光学系１３２（図１３）の中心と対称な位置に
ピークを持つ山形の分布になる。この分布Ｉｂの中心
は、試料１０３の試料面が傾斜するとずれてしまう。When the surface of the sample 103 is smooth, FIG.
As shown by line Ia in FIG.
Each point in 4 uniformly contributes to the specular reflection light observed by the sample spectroscopy means 130. However, the surface of the sample 103 is not always smooth, and often has some diffusibility. In this case, the contribution of each point in the partial region 104 to the specular reflection light observed by the sample spectroscopic means 130 is not uniform, and usually, the contribution of FIG.
As shown by the line Ib in FIG. 4B, the distribution has a mountain shape having a peak at a position symmetrical to the center of the light receiving optical system 132 (FIG. 13) with respect to the normal line 102a. The center of the distribution Ib shifts when the sample surface of the sample 103 is inclined.

【００１３】上記従来の図１２に示す機械的に開閉可能
なトラップ１０４ａを有する積分球照明の反射特性測定
装置では、トラップ１０４ａを開いた状態では当該部分
領域１０４は一様に輝度ゼロであり、光沢を有する試料
１０３の表面に多少の拡散性や傾斜があっても、トラッ
プ１０４ａが寄与の分布をカバーするだけの大きさであ
れば、依存度の不均一性の影響を受けずに鏡面反射光を
除去することができ、ＳＣＥ反射特性の測定を安定して
行うことが可能である。In the conventional reflection characteristic measuring device for integrating sphere illumination having a mechanically openable and closable trap 104a shown in FIG. 12, when the trap 104a is opened, the partial area 104 has a uniform luminance of zero. Even if the surface of the glossy sample 103 has some diffusion or inclination, if the trap 104a is large enough to cover the distribution of the contribution, the specular reflection is not affected by the nonuniformity of the dependence. Light can be removed, and the measurement of SCE reflection characteristics can be performed stably.

【００１４】これに対して、上記従来の図１３に示す機
械的に開閉可能なトラップを排した反射特性測定装置に
おいて、これと同程度の安定したＳＣＥ反射特性測定を
可能にするためには、第２の照明手段１２０により部分
領域１０４に形成される２次光源の輝度分布を均一にす
る必要がある。On the other hand, in the conventional reflection characteristic measuring apparatus shown in FIG. 13 which excludes a mechanically openable and closable trap, in order to enable the same stable measurement of the SCE reflection characteristic, It is necessary to make uniform the luminance distribution of the secondary light source formed in the partial area 104 by the second illumination means 120.

【００１５】図１３のような第２の照明手段１２０の構
成としては、図１５に示すように、マスク板１２３の開
口１２３ａの中心に対向する位置に光源１２１として１
個の直管状キセノンフラッシュランプを配置するように
したものが一般的であるが、このような構成では、部分
領域１０４における光源１２１の中心軸１２１ｎと平行
な方向に沿った開口１２３ａの像の輝度分布は、光源１
２１が開口１２３ａの直径より十分に長く、管内がほぼ
一様な強度で発光する場合、に示すように、ほぼ一様
な分布を示す。ところが、開口１２３ａにおける光源１
２１の中心軸１２１ｎに直交する方向１２１ｍに沿った
輝度分布は、中心部に比べて周辺部の輝度が低いものと
なり、これによって、部分領域１０４に形成される２次
光源の同方向の輝度分布も、に示すように、周辺部で
低いものになり、一様な分布にはならない。[0015] As shown in FIG. 15, the configuration of the second illuminating means 120 as shown in FIG. 13 includes a light source 121 as a light source 121 at a position opposed to the center of the opening 123a of the mask plate 123.
In general, a single tube xenon flash lamp is arranged. In such a configuration, the brightness of the image of the aperture 123a along the direction parallel to the central axis 121n of the light source 121 in the partial region 104 is provided. Distribution is light source 1
In the case where 21 is sufficiently longer than the diameter of the opening 123a and the inside of the tube emits light with almost uniform intensity, as shown in FIG. However, the light source 1 in the opening 123a
The luminance distribution along the direction 121m orthogonal to the central axis 121n of the 21 is lower in the peripheral part than in the central part, and accordingly, the luminance distribution in the same direction of the secondary light source formed in the partial region 104 is obtained. Also, as shown in FIG. 6, the distribution becomes low in the peripheral portion, and the distribution is not uniform.

【００１６】光沢を有する試料の表面に汚れや傷、凹凸
などが存在して完全な平滑でないと、観察される鏡面反
射光への開口の像の各点の寄与が変化することから、２
次光源の輝度分布が一様でない場合には、観察される鏡
面反射光の強度の変化につながり、反射特性を安定して
得ることができなくなる。If the surface of a glossy sample is not completely smooth due to the presence of dirt, scratches, irregularities, etc., the contribution of each point of the aperture image to the observed specular reflection light changes.
If the luminance distribution of the secondary light source is not uniform, the intensity of the specular reflected light to be observed will change, and it will be impossible to obtain a stable reflection characteristic.

【００１７】特に、ＳＣＥ反射特性について、従来の機
械的なトラップを有する測定装置との互換性を保持する
とともに、測定の安定性を得るためには、積分球の内壁
に形成される２次光源が、従来のトラップに対応する大
きさを有するとともに、十分に一様な輝度分布を持つ必
要がある。In particular, the secondary light source formed on the inner wall of the integrating sphere is required to maintain the compatibility of the SCE reflection characteristics with a conventional measuring device having a mechanical trap and to obtain the stability of the measurement. However, it is necessary to have a size corresponding to a conventional trap and a sufficiently uniform luminance distribution.

【００１８】２次光源の輝度分布の一様性を改善するた
めには、例えば図１６に示すように、積分球１２８で光
源１２１からの光を混合したり、図１７に示すように、
光源１２１とマスク板１２３の開口１２３ａとの距離を
十分に大きくするなどの手段が考えられるが、いずれも
光量の著しい低下を伴うため、測定精度や測定の再現性
の低下につながることとなる。そこで、図１３の第２の
照明手段１２０に代えて、光量の低下を伴うことなく部
分領域１０４における輝度分布を均一にすることが可能
な構成を備えることが望まれている。In order to improve the uniformity of the luminance distribution of the secondary light source, for example, as shown in FIG. 16, light from the light source 121 is mixed by an integrating sphere 128, or as shown in FIG.
Means such as sufficiently increasing the distance between the light source 121 and the opening 123a of the mask plate 123 are conceivable. However, any of these measures involves a remarkable decrease in the amount of light, leading to a decrease in measurement accuracy and measurement reproducibility. Therefore, it is desired to provide a configuration capable of making the luminance distribution in the partial region 104 uniform without reducing the light amount, instead of the second illumination means 120 in FIG.

【００１９】本発明は、上記問題を解決するもので、光
量の低下を伴うことなく、拡散壁に形成される２次光源
の輝度分布の一様性を改善する２次光源作成装置を提供
することを目的とする。The present invention solves the above-mentioned problem, and provides a secondary light source producing device that improves the uniformity of the luminance distribution of the secondary light source formed on the diffusion wall without reducing the light amount. The purpose is to:

【００２０】また、本発明は、上記２次光源作成装置を
備え、機械的に開閉可能なトラップを有することなく、
試料の光沢面に多少の汚れや傷、凹凸などが存在して平
滑性が低下しても、その影響を受けることなく同トラッ
プを有する装置のように測定を安定して行うことができ
る反射特性測定装置を提供することを目的とする。Further, the present invention comprises the above-mentioned secondary light source producing device, and has no mechanically openable / closable trap.
Even if there is some dirt, scratches, irregularities, etc. on the glossy surface of the sample, even if the smoothness is reduced, the reflection characteristics can be measured stably without being affected by the same effect as the device with the same trap It is an object to provide a measuring device.

【００２１】[0021]

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、１次
光源から出力される光を集光手段により所定の拡散壁に
集光し、この拡散壁からの反射光を２次光源として試料
の照明に用いる２次光源作成装置において、上記１次光
源は、輝度分布が互いに異なる光を出力する複数の光出
力部を備えたもので、上記集光手段は、上記複数の光出
力部からの光が上記拡散壁上で互いに重なり合うよう
に、上記複数の光出力部からの光を上記拡散壁上に集光
するものであることを特徴としている。According to a first aspect of the present invention, light output from a primary light source is condensed on a predetermined diffusion wall by a light condensing means, and light reflected from the diffusion wall is used as a secondary light source. In the secondary light source creating apparatus used for illuminating a sample, the primary light source includes a plurality of light output units that output lights having different luminance distributions, and the light condensing unit includes the plurality of light output units. Light from the plurality of light output units is condensed on the diffusion wall such that light from the light sources overlaps on the diffusion wall.

【００２２】この構成によれば、１次光源の複数の光出
力部から輝度分布が互いに異なる光が出力され、複数の
光出力部からの光が拡散壁上で互いに重なり合うよう
に、複数の光出力部からの光が拡散壁上に集光されるこ
とにより、個々の光出力部からの輝度分布の異なる光が
互いに補完し合うこととなって、均一な輝度分布を持つ
２次光源が得られる。According to this configuration, the plurality of light output sections of the primary light source output lights having different luminance distributions from each other, and the plurality of light outputs are arranged such that the lights from the plurality of light output sections overlap each other on the diffusion wall. The light from the output section is condensed on the diffusion wall, so that the lights having different luminance distributions from the individual light output sections complement each other, and a secondary light source having a uniform luminance distribution is obtained. Can be

【００２３】また、請求項２の発明は、請求項１記載の
２次光源作成装置において、上記１次光源は、複数の開
口が穿設されたマスク板と、この複数の開口に対する相
対位置が互いに異なるように配置された単一の光源とを
備え、上記単一の光源からの光を上記複数の開口にそれ
ぞれ透過させることによって、輝度分布が互いに異なる
光を出力するものであることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, in the secondary light source forming apparatus according to the first aspect, the primary light source has a mask plate having a plurality of openings formed therein and a relative position with respect to the plurality of openings. A single light source arranged so as to be different from each other, and transmitting light from the single light source to the plurality of openings to output light having different luminance distributions from each other. And

【００２４】この構成によれば、単一の光源は、複数の
開口に対する相対位置が互いに異なるように配置されて
いることから、各開口における輝度分布は互いに異なる
ものとなり、各開口を透過した光が拡散壁上に集光され
ることにより、輝度分布の異なる光が互いに補完し合う
こととなって、均一な輝度分布を持つ２次光源が得られ
る。According to this configuration, since the single light source is arranged so that the relative positions with respect to the plurality of openings are different from each other, the brightness distribution in each opening is different from each other, and the light transmitted through each opening is different. Is condensed on the diffusion wall, light having different luminance distributions complement each other, and a secondary light source having a uniform luminance distribution can be obtained.

【００２５】また、請求項３の発明は、請求項２記載の
２次光源作成装置において、上記複数の開口は、各々の
中心を結ぶ開口中心線が直線になるように一列に並んで
上記マスク板に設けられており、上記光源は、中心軸に
沿う直管状の発光部を有するもので、この光源は、上記
中心軸が上記マスク板にほぼ平行に、かつ、上記開口中
心線に非平行に配置されていることを特徴としている。According to a third aspect of the present invention, in the secondary light source forming apparatus according to the second aspect, the plurality of openings are arranged in a line so that an opening center line connecting the centers of the openings is linear. The light source has a straight tubular light emitting portion along a central axis, and the light source has the central axis substantially parallel to the mask plate, and non-parallel to the opening center line. It is characterized by being arranged in.

【００２６】この構成によれば、複数の開口は、各々の
中心を結ぶ開口中心線が直線になるように一列に並んで
マスク板に設けられており、光源は、中心軸に沿う直管
状の発光部を有するもので、中心軸がマスク板にほぼ平
行に、かつ、開口中心線に非平行に、すなわち開口中心
線に対して傾斜して配置されている。これによって、中
心軸に直交する方向における各開口に対する光源の発光
部の相対位置が互いに異なるものとなるので、各開口に
おける同方向に沿った輝度分布がそれぞれ偏った互いに
異なる分布となる。その結果、拡散壁上における同方向
に沿った輝度分布は、複数の光による輝度が互いに補完
し合うこととなる一方、中心軸に沿った輝度分布はほぼ
均一であるので、２次元的に均一な輝度分布を持つ２次
光源が得られる。According to this structure, the plurality of openings are provided on the mask plate in a line so that the center lines of the openings connecting the centers thereof are linear, and the light source is a straight tube along the central axis. It has a light emitting portion, and is arranged so that the central axis is substantially parallel to the mask plate and non-parallel to the opening center line, that is, inclined with respect to the opening center line. Accordingly, since the relative positions of the light emitting portions of the light source with respect to the respective openings in the direction orthogonal to the central axis are different from each other, the luminance distribution in each of the openings along the same direction is different from each other. As a result, the luminance distribution along the same direction on the diffusion wall is such that the luminances due to a plurality of lights complement each other, while the luminance distribution along the central axis is almost uniform, so that it is two-dimensionally uniform. A secondary light source having an excellent luminance distribution can be obtained.

【００２７】また、請求項４の発明は、請求項３記載の
２次光源作成装置において、上記マスク板は、上記複数
の開口を含む平面に上記中心軸を垂下して得られる直線
と上記開口中心線との交点に関して上記複数の開口が対
称になるように、上記光源に対して配置されていること
を特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, in the secondary light source producing apparatus according to the third aspect, the mask plate includes a straight line obtained by hanging the central axis on a plane including the plurality of openings and the opening. The plurality of apertures are arranged symmetrically with respect to the intersection with the center line with respect to the light source.

【００２８】この構成によれば、マスク板は、複数の開
口を含む平面に光源の中心軸を垂下して得られる直線と
開口中心線との交点に関して、複数の開口が対称になる
ように光源に対して配置されていることから、光源の中
心軸に直交する方向における発光部の各開口に対する相
対位置が互いに対称的に異なるものとなるので、各開口
における同方向に沿った輝度分布がそれぞれ対称的に偏
った分布となる。その結果、拡散壁上において、同方向
に沿った輝度分布は、各開口を透過した光により均一に
なるように互いに補完し合ったものとなり、２次元的に
一層均一な輝度分布を持つ２次光源が得られる。According to this structure, the mask plate is provided so that the plurality of openings are symmetric with respect to the intersection of a straight line obtained by hanging the central axis of the light source on a plane including the plurality of openings and the center line of the openings. , The relative positions of the light emitting portions with respect to the respective openings in the direction orthogonal to the central axis of the light source are symmetrically different from each other. The distribution is symmetrically biased. As a result, on the diffusion wall, the luminance distribution along the same direction complements each other so as to be more uniform by the light transmitted through each opening, and the secondary distribution having a more uniform two-dimensional luminance distribution. A light source is obtained.

【００２９】また、請求項５の発明は、請求項１記載の
２次光源作成装置において、上記１次光源は、複数の開
口が穿設されたマスク板と、この複数の開口に対応して
それぞれ配設され、各開口に対する相対位置が互いに異
なるように配置された複数の光源とを備え、上記複数の
光源からの光を対応する上記開口にそれぞれ透過させる
ことによって、輝度分布が互いに異なる光を出力するも
のであることを特徴としている。According to a fifth aspect of the present invention, in the secondary light source producing apparatus according to the first aspect, the primary light source includes a mask plate having a plurality of openings formed therein and a plurality of openings corresponding to the plurality of openings. A plurality of light sources disposed respectively so that relative positions with respect to the respective openings are different from each other, and by transmitting light from the plurality of light sources to the corresponding openings, light having different luminance distributions from each other is provided. Is output.

【００３０】この構成によれば、マスク板に穿設された
複数の開口に対応して、それぞれ個別に光源が配設され
ており、各光源は、対応する開口に対して互いに異なる
相対位置にそれぞれ配置されていることから、各開口に
おける輝度分布がそれぞれ互いに異なる分布となり、そ
の結果、拡散壁上において、輝度分布の異なる光が互い
に補完し合うこととなり、均一な輝度分布を持つ２次光
源が得られる。According to this configuration, the light sources are individually arranged corresponding to the plurality of openings formed in the mask plate, and the light sources are located at different relative positions with respect to the corresponding openings. Since they are arranged respectively, the luminance distributions at the respective apertures are different from each other. As a result, light having different luminance distributions complement each other on the diffusion wall, and the secondary light source having a uniform luminance distribution Is obtained.

【００３１】また、請求項６の発明は、請求項５記載の
２次光源作成装置において、さらに、上記拡散壁上の輝
度分布が一様になるように、上記複数の光源の発光強度
をそれぞれ制御する発光制御手段を備えたことを特徴と
している。According to a sixth aspect of the present invention, in the secondary light source creating apparatus according to the fifth aspect, the emission intensity of each of the plurality of light sources is further adjusted so that the luminance distribution on the diffusion wall becomes uniform. It is characterized by having light emission control means for controlling.

【００３２】この構成によれば、拡散壁上の輝度分布が
一様になるように、複数の光源の発光強度がそれぞれ制
御されることにより、各光源の発光強度にばらつきが存
在する場合や、開口に対する相対位置が対称的でない場
合でも、均一な輝度分布を持つ２次光源が確実に得られ
ることとなる。According to this configuration, the luminous intensity of each of the plurality of light sources is controlled so that the luminance distribution on the diffusion wall becomes uniform. Even when the relative position with respect to the aperture is not symmetric, a secondary light source having a uniform luminance distribution can be reliably obtained.

【００３３】また、請求項７の発明は、請求項１記載の
２次光源作成装置において、上記１次光源は、単一の開
口が穿設されたマスク板と、この開口に対する相対位置
が互いに異なるように配置された複数の光源とを備え、
上記複数の光源からの光をそれぞれ上記単一の開口に透
過させることによって、輝度分布が互いに異なる光を出
力するものであることを特徴としている。According to a seventh aspect of the present invention, in the secondary light source producing apparatus according to the first aspect, the primary light source is arranged such that a mask plate having a single opening formed therein and a relative position with respect to this opening are mutually different. A plurality of light sources arranged differently,
By transmitting the light from the plurality of light sources through the single aperture, light having different luminance distributions is output.

【００３４】この構成によれば、マスク板に穿設された
単一の開口に対して複数の光源が互いに異なる相対位置
に配置されていることから、この開口における各光源に
よる輝度分布が互いに異なるものとなり、その結果、拡
散壁上において、各光源からの光の輝度分布が互いに異
なることから輝度を互いに補完し合うこととなり、均一
な輝度分布を持つ２次光源が得られる。According to this configuration, since a plurality of light sources are arranged at different relative positions with respect to a single opening formed in the mask plate, the brightness distributions of the light sources in this opening are different from each other. As a result, the luminance distribution of the light from each light source on the diffusion wall is different from each other, so that the luminances complement each other, and a secondary light source having a uniform luminance distribution can be obtained.

【００３５】また、請求項８の発明は、請求項７記載の
２次光源作成装置において、上記複数の光源は、上記開
口の中心を通り、上記マスク板に直交する平面に関して
対称になるように配置されていることを特徴としてい
る。In a second aspect of the present invention, the plurality of light sources are symmetrical with respect to a plane passing through the center of the opening and orthogonal to the mask plate. It is characterized by being arranged.

【００３６】この構成によれば、複数の光源は、マスク
板に穿設された単一の開口の中心を通り、マスク板に直
交する平面に関して対称になるように配置されているこ
とから、この開口における各光源による輝度分布が互い
に対称的に異なるものとなり、その結果、拡散壁上にお
ける輝度分布は、各光源による光で互いにより良く補完
し合ったものとなり、より均一な輝度分布を持つ２次光
源が得られる。According to this configuration, the plurality of light sources are arranged so as to be symmetrical with respect to a plane passing through the center of a single opening formed in the mask plate and orthogonal to the mask plate. The brightness distribution by each light source in the aperture is symmetrically different from each other, and as a result, the brightness distribution on the diffusion wall is better complemented by the light from each light source and has a more uniform brightness distribution. The next light source is obtained.

【００３７】また、請求項９の発明は、請求項８記載の
２次光源作成装置において、上記複数の光源は、それぞ
れ中心軸に沿う直管状の発光部を有するもので、これら
の光源は、それぞれの中心軸が上記マスク板に平行、か
つ、互いにほぼ平行になるように配置されていることを
特徴としている。According to a ninth aspect of the present invention, in the secondary light source creating apparatus according to the eighth aspect, each of the plurality of light sources has a straight tubular light emitting portion along a central axis. It is characterized in that the respective central axes are arranged so as to be parallel to the mask plate and substantially parallel to each other.

【００３８】この構成によれば、複数の光源は、それぞ
れ中心軸に沿う直管状の発光部を有するもので、これら
の光源は、それぞれの中心軸がマスク板に平行、かつ、
互いにほぼ平行になるように配置されており、しかも、
開口の中心を通り、マスク板に直交する平面に関して対
称になるように配置されていることから、光源の中心軸
に直交する方向における光源の開口に対する相対位置が
互いに対称的に異なるものとなるので、開口における同
方向に沿った輝度分布が対称的に偏った互いに異なる分
布となる。その結果、拡散壁上における同方向に沿った
輝度分布は、各光源からの光による輝度が均一になるよ
うに互いに補完し合ったものとなる一方、中心軸に沿っ
た輝度分布はほぼ均一であるので、２次元的に均一な輝
度分布を持つ２次光源が得られる。According to this configuration, each of the plurality of light sources has a straight tubular light emitting portion along the central axis, and these light sources have their central axes parallel to the mask plate, and
Are arranged almost parallel to each other, and
Since it is arranged so as to be symmetrical with respect to a plane perpendicular to the mask plate passing through the center of the opening, relative positions with respect to the opening of the light source in a direction orthogonal to the central axis of the light source are symmetrically different from each other. , The luminance distribution in the opening in the same direction becomes a different distribution symmetrically biased. As a result, the luminance distribution along the same direction on the diffusion wall complements each other so that the luminance from the light from each light source becomes uniform, while the luminance distribution along the central axis is almost uniform. Therefore, a secondary light source having a two-dimensionally uniform luminance distribution can be obtained.

【００３９】また、請求項１０の発明は、請求項７記載
の２次光源作成装置において、さらに、上記拡散壁上の
輝度分布が一様になるように、上記複数の光源の発光強
度をそれぞれ制御する発光制御手段を備えたことを特徴
としている。According to a tenth aspect of the present invention, in the secondary light source creating apparatus according to the seventh aspect, the light emission intensity of each of the plurality of light sources is further adjusted so that the luminance distribution on the diffusion wall becomes uniform. It is characterized by having light emission control means for controlling.

【００４０】この構成によれば、拡散壁上の輝度分布が
一様になるように、複数の光源の発光強度がそれぞれ制
御されることにより、各光源の発光強度にばらつきが存
在する場合や、開口に対する相対位置が対称的でない場
合でも、均一な輝度分布を持つ２次光源が確実に得られ
ることとなる。According to this configuration, the luminous intensity of each of the plurality of light sources is controlled so that the luminance distribution on the diffusion wall becomes uniform. Even when the relative position with respect to the aperture is not symmetric, a secondary light source having a uniform luminance distribution can be reliably obtained.

【００４１】また、請求項１１の発明は、第１の光源用
開口、第２の光源用開口、試料用開口及び試料反射光受
光用開口を有し、上記試料用開口に配置された試料を照
明する積分球と、上記試料反射光受光用開口に配設さ
れ、上記試料からの反射光を受光してその光強度に対応
する受光データを出力する試料反射光受光手段と、上記
第１の光源用開口に配設され、上記積分球の内壁の所定
の領域に向けて光を導く第１の照明手段と、上記第２の
光源用開口に配設され、上記試料用開口の法線に関し
て、上記積分球内の上記試料反射光受光用開口の方向と
対称な方向の拡散壁に向けて光を導く請求項１〜１０の
いずれかに記載の２次光源作成装置からなる第２の照明
手段と、上記第１、第２の照明手段をそれぞれ個別に発
光させ、上記試料反射光受光手段から上記受光データと
して上記第１の照明手段に対応する第１の受光データ及
び上記第２の照明手段に対応する第２の受光データをそ
れぞれ個別に出力させる測定制御手段と、上記第１の受
光データから上記試料の第１の反射特性を算出するとと
もに、上記第２の受光データから上記試料の第２の反射
特性を算出する第１演算処理手段と、反射特性が既知の
標準試料を用いて得られる第１、第２の補正係数を記憶
する係数記憶手段と、上記第１、第２の補正係数を用い
て上記第１、第２の反射特性を補正する第２演算処理手
段とを備えたことを特徴としている。The eleventh aspect of the present invention has a first light source opening, a second light source opening, a sample opening, and a sample reflected light receiving opening. An integrating sphere to be illuminated; a sample reflected light receiving means disposed in the sample reflected light receiving opening for receiving reflected light from the sample and outputting received light data corresponding to the light intensity; A first illuminating means disposed at the light source opening for guiding light toward a predetermined region of the inner wall of the integrating sphere; and a first illuminating means disposed at the second light source opening and having a normal to the sample opening. 11. A second illumination comprising a secondary light source creating apparatus according to claim 1, wherein the light is guided toward a diffusion wall in a direction symmetrical to a direction of the sample reflected light receiving opening in the integrating sphere. Means and the first and second lighting means are individually lit, and the sample reflection is performed. Measurement control means for individually outputting first light reception data corresponding to the first illumination means and second light reception data corresponding to the second illumination means as the light reception data from the light reception means; Calculating a first reflection characteristic of the sample from the received light data, calculating a second reflection characteristic of the sample from the second received light data, and a standard sample having a known reflection characteristic. Coefficient storage means for storing first and second correction coefficients obtained by using the first and second correction coefficients, and second arithmetic processing means for correcting the first and second reflection characteristics using the first and second correction coefficients. It is characterized by having.

【００４２】この構成によれば、積分球の試料用開口に
試料が配置された状態で第１、第２の照明手段が個別に
発光する。第１の照明手段が発光すると、積分球内の所
定の領域に向けて光が導かれ、試料はほぼ均一な拡散照
明光によって照明され、試料からの反射光の光強度に対
応する第１の受光データが出力され、この第１の受光デ
ータから試料の第１の反射特性が算出される。According to this configuration, the first and second illumination means individually emit light in a state where the sample is placed in the sample opening of the integrating sphere. When the first illuminating means emits light, the light is guided toward a predetermined area in the integrating sphere, the sample is illuminated with substantially uniform diffused illumination light, and the first light corresponding to the light intensity of the reflected light from the sample is emitted. Light reception data is output, and a first reflection characteristic of the sample is calculated from the first light reception data.

【００４３】また、第２の照明手段が発光すると、試料
用開口の法線に関して、積分球内の試料反射光受光用開
口の方向と対称な方向の拡散壁に向けて光が導かれ、試
料は鏡面反射を強調するような配光を有する拡散照明光
によって照明され、試料からの反射光の光強度に対応す
る第２の受光データが出力され、この第２の受光データ
から試料の第２の反射特性が算出される。そして、係数
記憶手段に記憶されている補正係数を用いて第１、第２
の反射特性が補正される。When the second illumination means emits light, light is guided toward the diffusion wall in a direction symmetric to the direction of the sample reflected light receiving opening in the integrating sphere with respect to the normal of the sample opening. Is illuminated by diffused illumination light having a light distribution that emphasizes specular reflection, and second light reception data corresponding to the light intensity of the reflected light from the sample is output. From the second light reception data, the second light reception of the sample is performed. Is calculated. Then, using the correction coefficient stored in the coefficient storage means, the first and second correction coefficients are used.
Is corrected.

【００４４】ここで、第２の照明手段により照明される
積分球内の拡散壁の輝度分布が均一なものとされている
ことから、反射特性の測定が高精度で、しかも試料の表
面の平滑性に関係なく機械的に開閉可能なトラップを有
する装置のように安定して行われることとなる。Here, since the luminance distribution of the diffusion wall in the integrating sphere illuminated by the second illuminating means is made uniform, the reflection characteristics can be measured with high accuracy and the surface of the sample can be smoothed. Irrespective of the nature, the operation can be stably performed like a device having a trap which can be opened and closed mechanically.

【００４５】また、請求項１２の発明は、第１の光源用
開口、第２の光源用開口、試料用開口、試料反射光受光
用開口及び参照光受光用開口を有し、上記試料用開口に
配置された試料を照明する積分球と、上記試料反射光受
光用開口に配設され、上記試料からの反射光を受光して
その光強度に対応する試料反射光受光データを出力する
試料反射光受光手段と、上記参照光受光用開口に配設さ
れ、上記試料を照明する照明光を受光してその光強度に
対応する参照光受光データを出力する参照光受光手段
と、上記第１の光源用開口に配設され、上記積分球の内
壁の所定の領域に向けて光を導く第１の照明手段と、上
記第２の光源用開口に配設され、上記試料用開口の法線
に関して、上記積分球内の上記試料反射光受光用開口の
方向と対称な方向の拡散壁に向けて光を導く請求項５ま
たは７記載の２次光源作成装置からなる第２の照明手段
と、上記第２の照明手段を構成する複数の光源および上
記第１の照明手段をそれぞれ個別に発光させ、上記試料
反射光受光手段から上記試料反射光受光データとして上
記第１の照明手段に対応する第１の試料反射光受光デー
タ及び上記第２の照明手段を構成する複数の光源に対応
する第２の複数の試料反射光受光データをそれぞれ個別
に出力させるとともに、上記参照光受光手段から上記参
照光受光データとして上記第１の照明手段に対応する第
１の参照光受光データ及び上記第２の照明手段を構成す
る複数の光源に対応する第２の複数の参照光受光データ
をそれぞれ個別に出力させる測定制御手段と、上記拡散
壁において均一な輝度分布が得られるように予め設定さ
れた、上記第２の照明手段を構成する複数の光源の各々
の発光量に関するデータを記憶する発光量記憶手段と、
上記第１の試料反射光受光データ及び上記第１の参照光
受光データから上記試料の第１の反射特性を算出すると
ともに、上記第２の複数の試料反射光受光データ、上記
第２の複数の参照光受光データ及び上記発光量に関する
データから上記試料の第２の反射特性を算出する第１演
算処理手段と、反射特性が既知の標準試料を用いて得ら
れる第１、第２の補正係数を記憶する係数記憶手段と、
上記第１、第２の補正係数を用いて上記第１、第２の反
射特性を補正する第２演算処理手段とを備えたことを特
徴としている。Further, the invention according to claim 12 has a first light source opening, a second light source opening, a sample opening, a sample reflected light receiving opening and a reference light receiving opening, wherein the sample opening is provided. An integrating sphere that illuminates the sample placed in the sample and a sample reflection that is provided in the sample reflected light receiving aperture, receives reflected light from the sample, and outputs sample reflected light reception data corresponding to the light intensity A light receiving unit disposed in the reference light receiving opening, receiving illumination light for illuminating the sample, and outputting reference light reception data corresponding to the light intensity; and the first light receiving unit; A first illuminating means disposed at the light source opening for guiding light toward a predetermined region of the inner wall of the integrating sphere; and a first illuminating means disposed at the second light source opening and having a normal to the sample opening. In a direction symmetrical to the direction of the sample reflected light receiving aperture in the integrating sphere. 8. A second illumination unit comprising the secondary light source creation device according to claim 5 for guiding light toward a scattering wall, a plurality of light sources constituting the second illumination unit, and the first illumination unit. Each of the plurality of light sources constituting the second illuminating means and the first illuminating light receiving data corresponding to the first illuminating means as the sample reflected light receiving data from the sample reflected light receiving means. The corresponding second plurality of sample reflected light reception data are individually output, and the first reference light reception data corresponding to the first illuminating means and the first reference light reception data are transmitted from the reference light reception means as the reference light reception data. Measurement control means for individually outputting the second plurality of reference light reception data corresponding to the plurality of light sources constituting the second illumination means, and a uniform luminance distribution can be obtained on the diffusion wall. Preset in cormorants, a light emitting amount storage means for storing data relating to light emission amount of each of the plurality of light sources constituting the second illumination means,
A first reflection characteristic of the sample is calculated from the first sample reflected light reception data and the first reference light reception data, and the second plurality of sample reflection light reception data and the second plurality of samples are reflected. A first arithmetic processing unit for calculating a second reflection characteristic of the sample from the reference light reception data and the data on the light emission amount; and a first and a second correction coefficient obtained by using a standard sample having a known reflection characteristic. Coefficient storage means for storing;
A second arithmetic processing unit for correcting the first and second reflection characteristics using the first and second correction coefficients.

【００４６】この構成によれば、積分球の試料用開口に
試料が配置された状態で、第２の照明手段を構成する複
数の光源および第１の照明手段が個別に発光する。第１
の照明手段が発光すると、積分球内の所定の領域に向け
て光が導かれ、試料はほぼ均一な拡散照明光によって照
明され、試料からの反射光の光強度に対応する第１の試
料反射光受光データが出力されるとともに、照明光の光
強度に対応する第１の参照光受光データが出力され、こ
の第１の試料反射光受光データ及び第１の参照光受光デ
ータから試料の第１の反射特性が算出される。According to this configuration, the plurality of light sources constituting the second illumination means and the first illumination means individually emit light in a state where the sample is placed in the sample opening of the integrating sphere. First
When the illumination means emits light, the light is guided toward a predetermined area in the integrating sphere, the sample is illuminated by the substantially uniform diffused illumination light, and the first sample reflection corresponding to the light intensity of the reflected light from the sample is performed. The light receiving data is output, and the first reference light receiving data corresponding to the light intensity of the illumination light is output, and the first sample reflected light receiving data and the first reference light receiving data are used to output the first sample light. Is calculated.

【００４７】また、第２の照明手段を構成する複数の光
源が個別に発光すると、それぞれ、試料用開口の法線に
関して、積分球内の試料反射光受光用開口の方向と対称
な方向の拡散壁に向けて光が導かれ、試料は鏡面反射を
強調するような配光を有する拡散照明光によって照明さ
れ、試料からの反射光の光強度に対応する第２の複数の
試料反射光受光データが出力されるとともに、照明光の
光強度に対応する第２の複数の参照光受光データが出力
され、この第２の複数の試料反射光受光データ、第２の
複数の参照光受光データ及び発光量記憶手段に記憶され
ている発光量に関するデータから試料の第２の反射特性
が算出される。そして、係数記憶手段に記憶されている
補正係数を用いて第１、第２の反射特性が補正される。When the plurality of light sources constituting the second illuminating means emit light individually, the light diffuses in a direction symmetric to the direction of the sample reflected light receiving opening in the integrating sphere with respect to the normal of the sample opening. The light is guided toward the wall, the sample is illuminated by diffuse illumination light having a light distribution that emphasizes specular reflection, and a second plurality of sample reflected light reception data corresponding to the light intensity of the reflected light from the sample. Is output, and the second plurality of reference light reception data corresponding to the light intensity of the illumination light is output. The second plurality of sample reflection light reception data, the second plurality of reference light reception data, and the light emission The second reflection characteristic of the sample is calculated from the data on the light emission amount stored in the amount storage means. Then, the first and second reflection characteristics are corrected using the correction coefficients stored in the coefficient storage means.

【００４８】ここで、第２の照明手段を構成する複数の
光源の発光強度に変化が生じたり、経時変化により相対
発光強度に変化が生じた場合でも、上記参照光受光デー
タと発光量に関するデータとを用いて拡散壁の合成輝度
分布を計算上仮想的に均一なものにできることから、反
射特性の測定が高精度で、しかも試料の表面の平滑性に
関係なく機械的に開閉可能なトラップを有する装置のよ
うに安定して行われることとなる。Here, even when the light emission intensity of the plurality of light sources constituting the second illumination means changes or the relative light emission intensity changes due to aging, the reference light reception data and the data relating to the light emission amount are obtained. By using this method, it is possible to virtually calculate the uniform luminance distribution of the diffused wall using calculation, so that the reflection characteristics can be measured with high accuracy and a trap that can be mechanically opened and closed regardless of the smoothness of the sample surface. It can be performed stably like a device having the same.

【００４９】[0049]

【発明の実施の形態】図１は本発明に係る反射特性測定
装置の一実施形態の構成図である。積分球１は、その内
壁１ａに高拡散、高反射率の例えばMgOやBaSO4等の白色
拡散反射塗料が塗布された中空の球で、底部に形成さ
れ、測定対象である試料３を照明するための試料用開口
２と、側面のほぼ中央に形成され、第１の照明手段１０
からの光を入射させるための光源用開口１６と、試料用
開口２の側方に形成され、第２の照明手段２０からの光
を入射させるための光源用開口２６と、試料用開口２の
法線（試料３が平滑な場合にはその法線に一致する）２
ａに対して8°だけ傾斜した方向に形成され、試料３か
らの反射光を受光光学系３２に入射させるための受光用
開口（試料反射光受光用開口）３１とを備えている。FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of a reflection characteristic measuring apparatus according to the present invention. Integrating sphere 1 is high diffuse on the inner wall 1a, a hollow sphere white diffuse reflecting coating has been applied such as, for example, MgO or BaSO 4 of high reflectivity, is formed at the bottom to illuminate the sample 3 to be measured Opening 2 for the sample and a first illumination means 10 formed substantially at the center of the side surface.
The light source opening 16 for receiving light from the light source, the light source opening 26 formed on the side of the sample opening 2 for receiving light from the second illumination means 20, and the sample opening 2. Normal line (when sample 3 is smooth, it matches the normal line) 2
A light-receiving opening (sample-reflected-light-receiving opening) 31 is formed in a direction inclined by 8 ° with respect to a and allows the reflected light from the sample 3 to enter the light-receiving optical system 32.

【００５０】第１の照明手段１０は、光源１１、発光回
路１２等から構成され、光源用開口１６の近傍に配設さ
れている。光源１１は、例えば直管状のキセノンフラッ
シュランプが用いられ、積分球１内に光を供給して、内
壁１ａの広い直接照明域５を最初に照明するものであ
る。発光回路１２は、光源１１を発光させるもので、後
述する測定制御手段５２により動作が制御される。な
お、本実施形態では、光源１１は、その長手方向が紙面
に直交する向きに配置されているが、これに限られず、
例えば紙面に平行な向きに配置するようにしてもよい。The first illuminating means 10 comprises a light source 11, a light emitting circuit 12, and the like, and is arranged near the light source opening 16. The light source 11 is, for example, a straight tube xenon flash lamp, and supplies light into the integrating sphere 1 to illuminate the wide direct illumination area 5 of the inner wall 1a first. The light emitting circuit 12 causes the light source 11 to emit light, and its operation is controlled by a measurement control unit 52 described later. In the present embodiment, the light source 11 is arranged so that its longitudinal direction is orthogonal to the paper surface. However, the present invention is not limited to this.
For example, they may be arranged in a direction parallel to the paper surface.

【００５１】第２の照明手段（２次光源作成装置）２０
は、光源２１、発光回路２２、マスク板２３、結像光学
系２４ａ，２４ｂ、反射鏡２５及び拡散板２７等から構
成され、光源用開口２６の近傍に配設されている。光源
２１は、積分球１内に光を供給するものである。発光回
路２２は、光源２１を発光させるもので、測定制御手段
５２により動作が制御される。Second illuminating means (secondary light source creating device) 20
Is composed of a light source 21, a light emitting circuit 22, a mask plate 23, imaging optical systems 24a and 24b, a reflecting mirror 25, a diffusing plate 27, and the like, and is disposed near a light source opening 26. The light source 21 supplies light into the integrating sphere 1. The light emitting circuit 22 causes the light source 21 to emit light, and its operation is controlled by the measurement control means 52.

【００５２】拡散板２７は、光源２１に近接して配置さ
れ、光源２１から入射する光を拡散する半透明板であ
る。マスク板２３は、２つの開口２３ａ，２３ｂを有
し、光源２１からの光による照射域を制限するものであ
る。結像光学系２４ａ，２４ｂは、レンズ等からなり、
反射鏡２５を介して積分球１の内壁１ａの限定された直
接照明域（拡散壁）４に開口２３ａ，２３ｂの像が重な
り合うように結像するものである。この直接照明域４
は、試料用開口２の法線２ａに対して−8°の方向に位
置しており、受光用開口３１とは法線２ａに関して対称
な位置になるように、第２の照明手段２０の各構成要素
が配設されている。The diffusion plate 27 is a semi-transparent plate that is arranged close to the light source 21 and diffuses light incident from the light source 21. The mask plate 23 has two openings 23a and 23b, and limits an irradiation area by light from the light source 21. The imaging optical systems 24a and 24b are composed of lenses and the like,
The images of the openings 23a and 23b are formed so as to overlap the limited direct illumination area (diffusion wall) 4 of the inner wall 1a of the integrating sphere 1 via the reflecting mirror 25. This direct lighting area 4
Are positioned in a direction of −8 ° with respect to a normal 2 a of the sample opening 2, and each of the second illumination means 20 is positioned symmetrically with respect to the normal 2 a with respect to the light receiving opening 31. Components are provided.

【００５３】なお、図１の第２の照明手段２０は、本発
明に係る２次光源作成装置の第１実施形態に相当するも
ので、その詳細については後述する。The second illuminating means 20 in FIG. 1 corresponds to the first embodiment of the secondary light source creating apparatus according to the present invention, and details thereof will be described later.

【００５４】受光光学系３２は、レンズ等からなり、そ
の光軸３２ａが試料用開口２の法線２ａに対して8°だ
け傾斜した方向に設定されて拡散照明、8°受光のd／8
光学系を形成しており、試料３からの反射光のうちで8
°方向の成分を試料用分光手段３０の入射部に集束する
ものである。試料用分光手段（試料反射光受光手段）３
０は、試料３からの反射光を受光して、その分光強度に
対応する受光データを出力するもので、受光データは後
述する制御手段５０に送られる。The light receiving optical system 32 is composed of a lens or the like.
An optical system is formed, and 8 of the reflected light from sample 3
The component in the ° direction is focused on the incident part of the sample spectroscopic means 30. Sample spectral means (sample reflected light receiving means) 3
Numeral 0 is for receiving the reflected light from the sample 3 and outputting received light data corresponding to the spectral intensity thereof. The received light data is sent to the control means 50 described later.

【００５５】このような構成により、第１の照明手段１
０の光源１１が発光すると、積分球１の内壁１ａの広い
直接照明域５に向けて光が導かれた後、内壁１ａで多重
反射する。従って、第１の照明手段１０により、試料３
はあらゆる方向からほぼ一様に拡散照明されることとな
る。With such a configuration, the first lighting means 1
When the 0 light source 11 emits light, the light is guided toward the wide direct illumination area 5 of the inner wall 1a of the integrating sphere 1, and is then reflected multiple times on the inner wall 1a. Therefore, the first illumination means 10 allows the sample 3
Will be diffusely illuminated almost uniformly from all directions.

【００５６】また、第２の照明手段２０の光源２１が発
光すると、積分球１の内壁１ａの直接照明域４に向けて
光が導かれ、この直接照明域４が限定的に照明される。
直接照明域４で反射した後、やはり多重反射されるが、
一定部分の反射光は試料３を直接照明する。このよう
に、第２の照明手段２０は、２次光源作成装置としての
機能を有する。そして、試料面で鏡面反射された光は、
受光用開口３１を通って受光光学系３２に入射する。従
って、第２の照明手段２０により、試料３は拡散照明に
加えて鏡面反射を強調するような配光を有する照明光に
よって照明されることとなる。When the light source 21 of the second illuminating means 20 emits light, the light is guided toward the direct illumination area 4 on the inner wall 1a of the integrating sphere 1, and the direct illumination area 4 is limitedly illuminated.
After being reflected directly in the illumination area 4, it is also multiple reflected,
The reflected light of a certain portion directly illuminates the sample 3. Thus, the second illumination means 20 has a function as a secondary light source creation device. And the light specularly reflected on the sample surface is
The light enters the light receiving optical system 32 through the light receiving opening 31. Therefore, the sample 3 is illuminated by the second illumination means 20 with illumination light having a light distribution that emphasizes specular reflection in addition to diffuse illumination.

【００５７】積分球１には、更に、参照用光ファイバ４
１が取り付けられている。この参照用光ファイバ４１
は、入射端に入射する積分球１内の照明光の一部をモニ
タ用分光手段４０に導くもので、参照光受光用開口を構
成している。モニタ用分光手段（参照光受光手段）４０
は、照明光を参照光として受光して、その分光強度に対
応する受光データを出力するもので、受光データは制御
手段５０に送られる。The integrating sphere 1 further includes a reference optical fiber 4
1 is attached. This reference optical fiber 41
Is for guiding a part of the illumination light in the integrating sphere 1 incident on the incident end to the monitoring spectroscopic means 40, and constitutes a reference light receiving aperture. Monitor spectral unit (reference light receiving unit) 40
Receives illumination light as reference light and outputs received light data corresponding to the spectral intensity. The received light data is sent to the control means 50.

【００５８】制御手段５０は、ＣＰＵなどからなり、こ
の反射特性測定装置の動作を制御するもので、機能ブロ
ックとして、記憶手段５１と、測定制御手段５２と、演
算処理手段５３とを備えている。The control means 50 comprises a CPU or the like, and controls the operation of the reflection characteristic measuring device. The control means 50 comprises a storage means 51, a measurement control means 52, and an arithmetic processing means 53 as functional blocks. .

【００５９】記憶手段５１は、測定のための制御プログ
ラム、予め設定された補正係数などを記憶するととも
に、試料用分光手段３０及びモニタ用分光手段４０から
送られる受光データなどを一時的に記憶するものであ
る。The storage means 51 stores a control program for measurement, a preset correction coefficient, and the like, and temporarily stores light reception data transmitted from the sample spectral means 30 and the monitor spectral means 40. Things.

【００６０】測定制御手段５２は、発光回路１２，２２
を介して光源１１，２１を個別に発光させて、試料用分
光手段３０及びモニタ用分光手段４０から各光源１１，
２１に対応する第１、第２の受光データをそれぞれ出力
させるものである。The measurement control means 52 includes light emitting circuits 12 and 22
The light sources 11 and 21 are individually caused to emit light via the light source 11 and the light sources 11 and
The first and second light reception data corresponding to 21 are output.

【００６１】演算処理手段５３は、以下の，の機能
を有する。試料用分光手段３０及びモニタ用分光手段
４０から送られる光源１１，２１に対応する第１、第２
の受光データから試料３の第１、第２の反射特性を求め
る第１演算処理手段としての機能。記憶手段５１に記
憶されている補正係数を用いて、公知の手順にしたがっ
て第１、第２の反射特性を補正する第２演算処理手段と
しての機能。The arithmetic processing means 53 has the following functions. First and second light sources 11 and 21 transmitted from the sample spectral unit 30 and the monitor spectral unit 40, respectively.
Function as first arithmetic processing means for obtaining the first and second reflection characteristics of the sample 3 from the received light data. A function as a second arithmetic processing unit for correcting the first and second reflection characteristics according to a known procedure using the correction coefficient stored in the storage unit 51.

【００６２】この公知の手順として、例えば特開平９−
６１２４３号公報記載の手順を採用することができる。
この場合には、同公報に記載された手順によって求めら
れる第１の鏡面反射込み重み係数Ａ1(λ)、第２の鏡面
反射込み重み係数Ａ2(λ)を補正係数として記憶手段５
１に格納しておき、第１、第２の反射特性をこれらの補
正係数で重み付けして線形結合することにより、ＳＣＩ
反射特性が得られる。As this known procedure, for example, Japanese Patent Application Laid-Open
The procedure described in JP-A-61243 can be adopted.
In this case, the first mirror reflection weighting coefficient A 1 (λ) and the second mirror reflection weighting coefficient A 2 (λ) obtained by the procedure described in the publication are used as correction coefficients as storage means 5.
1 and the first and second reflection characteristics are weighted with these correction coefficients and linearly combined to obtain the SCI.
Reflection characteristics are obtained.

【００６３】さらに、第１の鏡面反射除去重み係数Ｂ
1(λ)、第２の鏡面反射除去重み係数Ｂ2(λ)を補正係数
として記憶手段５１に格納しておき、第１、第２の反射
特性をこれらの補正係数で重み付けして線形結合するこ
とにより、ＳＣＥ反射特性が得られる。Further, a first specular reflection removal weighting coefficient B
1 (λ) and the second specular reflection removal weighting coefficient B 2 (λ) are stored in the storage means 51 as correction coefficients, and the first and second reflection characteristics are weighted with these correction coefficients to form a linear combination. By doing so, SCE reflection characteristics can be obtained.

【００６４】また、上記公知の手順として、特開平１１
−７２３８８号公報記載の手順を採用してもよい。この
場合には、同公報に記載された手順によって求められる
所望の照明条件における第１の照明手段１０に対する第
１の重み係数ｇ1(λ)，ｈ1(λ)、第２の照明手段２０に
対する第２の重み係数ｇ2(λ)，ｈ2(λ)および校正係数
ｋを補正係数として記憶手段５１に格納しておき、第
１、第２の反射特性および各々の２乗をこれらの補正係
数を用いて補正することにより、試料３の反射特性とし
て、機種間における互換性の高い測定データが得られ
る。As the above-mentioned known procedure, Japanese Patent Application Laid-Open
-72388 may be adopted. In this case, the first weighting factors g 1 (λ) and h 1 (λ) for the first lighting means 10 under the desired lighting conditions obtained by the procedure described in the publication, and the second lighting means 20 second weighting factor g 2 for (λ), h 2 (λ ) and calibration coefficients k may be stored in the storage unit 51 as the correction coefficients, first, the square of the second reflection characteristic and each of these By performing correction using the correction coefficient, measurement data having high compatibility between models can be obtained as the reflection characteristic of the sample 3.

【００６５】また、上記公知の手順として、特開平１１
−２４１９４９号公報記載の手順を採用してもよい。こ
の場合には、同公報に記載された手順によって求められ
る比例係数Ｃ1，Ｃ2、すなわち積分球が経時劣化する前
の積分球での試料用分光手段３０とモニタ用分光手段４
０に入射する光の比と第１、第２の反射特性とを結び付
ける比例係数Ｃ1，Ｃ2の比Ｃ＝Ｃ2／Ｃ1および第１、第
２の補正係数Ａ1(λ)，Ａ2(λ)を補正係数として記憶手
段５１に格納しておき、第１、第２の反射特性をこれら
の補正係数を用いて補正することにより、積分球劣化に
よる影響を除去した値に補正することができる。そし
て、上記特開平９−６１２４３号公報記載の手順と同様
に、鏡面反射込み重み係数ｐ1(λ)，ｐ2(λ)および鏡面
反射除去重み係数ｑ1(λ)，ｑ2(λ)を補正係数として記
憶手段５１に格納しておき、補正された第１、第２の反
射特性をこれらの補正係数で重み付けして線形結合する
ことにより、積分球劣化による影響を除去したＳＣＩ反
射特性およびＳＣＥ反射特性が得られる。As the above-mentioned known procedure, Japanese Patent Application Laid-Open
The procedure described in JP-A-241949 may be adopted. In this case, the proportional coefficients C 1 and C 2 obtained by the procedure described in the publication, that is, the sample spectral unit 30 and the monitor spectral unit 4 in the integrating sphere before the integrating sphere deteriorates with time.
The ratio C = C 2 / C 1 of the proportional coefficients C 1 and C 2 linking the ratio of light incident on 0 with the first and second reflection characteristics and the first and second correction coefficients A 1 (λ), A 2 (λ) is stored in the storage unit 51 as a correction coefficient, and the first and second reflection characteristics are corrected using these correction coefficients, thereby correcting the first and second reflection characteristics to a value from which the influence of the integrating sphere deterioration has been removed. can do. Then, similarly to the procedure described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-61243, the weight coefficients p 1 (λ) and p 2 (λ) including specular reflection and the weight coefficients q 1 (λ) and q 2 (λ) for removing specular reflection are used. Is stored in the storage means 51 as a correction coefficient, and the corrected first and second reflection characteristics are weighted with these correction coefficients and linearly combined, thereby removing the influence of the integrating sphere deterioration, And SCE reflection characteristics.

【００６６】次に、図１〜図４を用いて、本発明に係る
２次光源作成装置の第１実施形態について説明する。図
２は第１実施形態の第２の照明手段２０の斜視図、図３
は光源２１からマスク板２３を見た平面図、図４は直接
照明域４（図１）における輝度分布を説明する図であ
る。なお、図２では、説明の便宜上、拡散板２７の図示
を省略している。Next, a first embodiment of a secondary light source forming apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a perspective view of the second illumination means 20 of the first embodiment, and FIG.
FIG. 4 is a plan view of the mask plate 23 viewed from the light source 21, and FIG. 4 is a diagram illustrating a luminance distribution in the direct illumination area 4 (FIG. 1). In FIG. 2, the illustration of the diffusion plate 27 is omitted for convenience of explanation.

【００６７】この第１実施形態では、第２の照明手段２
０のマスク板２３は、図３に示すように、サイズおよび
形状（本実施形態では、例えば円形）が同一の２つの開
口２３ａ，２３ｂを有し、これら２つの開口２３ａ，２
３ｂは、一列に並んでマスク板２３に設けられている。
なお、各々の中心２３ｘ，２３ｙを結ぶ直線を開口中心
線２３ｍとする。In the first embodiment, the second illumination means 2
As shown in FIG. 3, the 0 mask plate 23 has two openings 23a and 23b having the same size and shape (in the present embodiment, for example, a circle), and the two openings 23a and 23b.
3b are provided on the mask plate 23 in a line.
A straight line connecting the centers 23x and 23y is defined as an opening center line 23m.

【００６８】第２の照明手段２０は、単一の光源２１を
有し、この光源２１は、図２に示すように、中心軸２１
ｎに沿う直管状の発光部を有するキセノンフラッシュラ
ンプからなる。光源２１およびマスク板２３により１次
光源が構成され、光源２１および開口２３ａ，２３ｂに
より２つの光出力部が構成され、結像光学系２４ａ，２
４ｂにより集光手段が構成されている。The second illuminating means 20 has a single light source 21 which, as shown in FIG.
and a xenon flash lamp having a straight tubular light emitting portion along n. The light source 21 and the mask plate 23 form a primary light source, the light source 21 and the openings 23a and 23b form two light output units, and the imaging optical systems 24a and 24
The light condensing means is constituted by 4b.

【００６９】そして、光源２１の中心軸２１ｎが、マス
ク板２３にほぼ平行、かつ開口中心線２３ｍに非平行に
配置されている。すなわち、図３に示すように、光源２
１は、開口２３ａ，２３ｂの中心２３ｘ，２３ｙを含む
平面に中心軸２１ｎ（図２）を垂下して得られる直線２
３ｎと開口中心線２３ｍとの交点２３ｗに関して、開口
２３ａの中心２３ｘと開口２３ｂの中心２３ｙとが対称
になるように配置されている。The central axis 21n of the light source 21 is arranged substantially parallel to the mask plate 23 and non-parallel to the opening center line 23m. That is, as shown in FIG.
1 is a straight line 2 obtained by suspending the center axis 21n (FIG. 2) on a plane including the centers 23x and 23y of the openings 23a and 23b.
The center 23x of the opening 23a and the center 23y of the opening 23b are arranged so as to be symmetrical with respect to an intersection 23w between 3n and the center line 23m of the opening.

【００７０】このような配置により、開口２３ａの中心
２３ｘと開口２３ｂの中心２３ｙとは、光源２１の中心
軸２１ｎから逆向きに同一距離だけずれることとなる。
その結果、開口２３ａにおける中心軸２１ｎ（直線２３
ｎ）に直交する方向２３ｓに沿った輝度分布Ｌａは、図
４（ａ）に示すように偏った分布になり、直接照明域４
における同方向に沿った輝度分布も同様に偏った分布に
なる。また、開口２３ｂにおける中心軸２１ｎ（直線２
３ｎ）に直交する方向２３ｔに沿った輝度分布Ｌｂは、
図４（ｂ）に示すように偏った分布になり、直接照明域
４における同方向に沿った輝度分布も同様に偏った分布
になる。すなわち、輝度分布Ｌａ，Ｌｂは、開口２３
ａ，２３ｂの中心軸２１ｎ（直線２３ｎ）に対するずれ
に応じて、互いに対称に偏った分布になっている。With this arrangement, the center 23x of the opening 23a and the center 23y of the opening 23b are shifted by the same distance in the opposite direction from the center axis 21n of the light source 21.
As a result, the center axis 21n (the straight line 23
The luminance distribution La along the direction 23s orthogonal to n) is a biased distribution as shown in FIG.
Similarly, the luminance distribution along the same direction in FIG. Also, the center axis 21n (straight line 2) in the opening 23b
3n) is a luminance distribution Lb along a direction 23t orthogonal to
As shown in FIG. 4B, the distribution is biased, and the luminance distribution in the same direction in the direct illumination area 4 is also biased. That is, the luminance distributions La and Lb are
The distributions are symmetrically biased relative to each other in accordance with the deviation of a and 23b from the central axis 21n (straight line 23n).

【００７１】ここで、結像光学系２４ａ，２４ｂは、積
分球１の内壁１ａの直接照明域４に開口２３ａ，２３ｂ
の像が重なり合った状態で結像するように配置されてい
ることから、直接照明域４における中心軸２１ｎに直交
する方向に沿った輝度分布Ｌｃは、図４（ａ），（ｂ）
に示す対称に偏った分布Ｌａ，Ｌｂが合成されて互いを
補完し合うこととなって、図４（ｃ）に示すように一様
な分布になる。Here, the imaging optical systems 24a and 24b are provided with openings 23a and 23b in the direct illumination area 4 of the inner wall 1a of the integrating sphere 1.
Are arranged so as to form an image in a superimposed state, the luminance distribution Lc along the direction orthogonal to the central axis 21n in the direct illumination area 4 is shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b).
The distributions La and Lb which are symmetrically biased as shown in FIG. 4 are synthesized and complement each other, resulting in a uniform distribution as shown in FIG.

【００７２】一方、光源２１の中心軸２１ｎに平行な方
向２３ｎに沿った輝度分布Ｌｄは、図４（ｄ）に示すよ
うに、従来と同様に一様な分布になっている。従って、
直接照明域４における輝度分布は、２次元的に均一な分
布となる。On the other hand, the luminance distribution Ld along the direction 23n parallel to the central axis 21n of the light source 21 is uniform as in the prior art, as shown in FIG. Therefore,
The luminance distribution in the direct illumination area 4 is a two-dimensionally uniform distribution.

【００７３】このように、本発明に係る２次光源作成装
置の第１実施形態によれば、開口中心線２３ｍに対して
直管状の光源２１を傾斜して配置することにより、光源
２１および開口２３ａ，２３ｂで構成される２つの光出
力部の輝度分布を互いに対称に偏った異なる分布とし、
結像光学系２４ａ，２４ｂにより直接照明域４において
開口２３ａ，２３ｂの像を互いに重ね合わせて結像する
ようにしたので、直接照明域４における輝度分布を２次
元的に一様なものとすることができ、これによって、均
一な輝度分布を有する２次光源を得ることができる。As described above, according to the first embodiment of the secondary light source producing apparatus according to the present invention, the light source 21 and the opening are formed by arranging the straight tubular light source 21 at an inclination with respect to the opening center line 23m. The luminance distributions of the two light output units composed of 23a and 23b are different distributions symmetrically biased to each other,
Since the images of the openings 23a and 23b are superimposed on each other in the direct illumination area 4 and formed by the imaging optical systems 24a and 24b, the luminance distribution in the direct illumination area 4 is made two-dimensionally uniform. As a result, a secondary light source having a uniform luminance distribution can be obtained.

【００７４】従って、上記特開平９−６１２４３号公
報、特開平１１−７２３８８号公報や特開平１１−２４
１９４９号公報に記載されているような機械的トラップ
を備えていない反射特性測定装置における試料３の上記
反射特性を精度良く求めることができ、特に、ＳＣＥ反
射特性の測定安定性を向上することができる。Accordingly, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 9-61243, Hei 11-72388 and Hei 11-24 describe above.
The reflection characteristics of the sample 3 in the reflection characteristics measuring apparatus having no mechanical trap as described in Japanese Patent No. 1949 can be accurately obtained, and in particular, the measurement stability of the SCE reflection characteristics can be improved. it can.

【００７５】また、第２の照明手段２０は、単一の直管
状光源２１の異なる部位からの光束を利用しているの
で、光源２１の発光光の利用効率を向上することでエネ
ルギー効率を向上することができるとともに、コスト上
昇を抑制することができる。The second illuminating means 20 uses the luminous flux from different portions of the single straight tubular light source 21, so that the energy efficiency can be improved by improving the efficiency of using the light emitted from the light source 21. And increase in cost can be suppressed.

【００７６】なお、図３において、直線２３ｎと開口中
心線２３ｍとがなす角度θの最適値は、２つの開口２３
ａ，２３ｂの大きさ及びその間隔や光源２１の管径など
に依存するものであり、直接照明域４において一様な輝
度分布が得られるような角度θに設定すればよい。In FIG. 3, the optimum value of the angle θ formed by the straight line 23n and the center line 23m of the opening is
The angle θ depends on the sizes and intervals of a and 23b and the tube diameter of the light source 21, and may be set to the angle θ such that a uniform luminance distribution can be obtained in the direct illumination area 4.

【００７７】この角度θを設定する手順の一例について
説明する。まず、連続的に角度θを変更し、その変更ご
とに光源２１を発光させ、瞬間的に直接照明域４に形成
される２次光源を、各画素の感度が校正されたＣＣＤカ
メラなどの撮像手段によって試料用開口２から撮像す
る。そして、得られた複数の輝度分布において、光源２
１の中心軸２１ｎに直交する方向に沿った輝度分布が最
も一様な分布が得られる角度θを選択する。An example of a procedure for setting the angle θ will be described. First, the angle θ is continuously changed, and the light source 21 is caused to emit light each time the change is made, and the secondary light source formed in the illumination area 4 is instantaneously captured by a CCD camera or the like in which the sensitivity of each pixel is calibrated. An image is taken from the sample opening 2 by means. Then, in the obtained plurality of luminance distributions, the light source 2
An angle θ at which the luminance distribution along the direction orthogonal to the central axis 21n of the first set is the most uniform is obtained.

【００７８】なお、本発明は、上記第１実施形態に限ら
れず、以下に示す変形形態を採用することができる。The present invention is not limited to the above-described first embodiment, but can adopt the following modified embodiments.

【００７９】（１）上記第１実施形態では、図１に示す
ように、光源２１は、その中心軸２１ｎが紙面に平行な
向きに配置されているが、これに限られず、例えば紙面
に直交する向き等、他の向きに配置してもよい。(1) In the first embodiment, as shown in FIG. 1, the light source 21 has the central axis 21n arranged in a direction parallel to the plane of the paper. However, the present invention is not limited to this. For example, the light source 21 is orthogonal to the plane of the paper. It may be arranged in other directions, such as the direction in which it is performed.

【００８０】（２）上記第１実施形態では、マスク板２
３に設ける開口を２つとしているが、これに限られず、
３つ以上でもよい。この場合には、各開口に対応してそ
れぞれ結像光学系を設けるようにすればよい。図５は開
口が３つ設けられたマスク板２３を光源２１から見た平
面図である。図５に示すように、マスク板２３には、サ
イズおよび形状が同一の開口２３ａ，２３ｂ，２３ｃ
が、等間隔で、かつ開口２３ａ，２３ｂ，２３ｃの中心
２３ｘ，２３ｙ，２３ｚを結ぶ線が直線になるように一
列に並んで設けられている。(2) In the first embodiment, the mask plate 2
3 has two openings, but is not limited to this.
There may be three or more. In this case, an imaging optical system may be provided corresponding to each aperture. FIG. 5 is a plan view of the mask plate 23 having three openings as viewed from the light source 21. As shown in FIG. 5, the mask plate 23 has openings 23a, 23b, and 23c having the same size and shape.
Are provided at regular intervals and in a line so that lines connecting the centers 23x, 23y, and 23z of the openings 23a, 23b, and 23c are straight lines.

【００８１】光源２１は、上記第１実施形態と同様に、
開口２３ａ，２３ｂ，２３ｃの中心２３ｘ，２３ｙ，２
３ｚを含む平面に光源２１の中心軸を垂下して得られる
直線２３ｎと開口中心線２３ｍとの交点２３ｗに関し
て、開口２３ａ，２３ｂ，２３ｃの中心２３ｘ，２３
ｙ，２３ｚが対称になるように配置されている。なお、
開口が３つの場合には、図５に示すように、中央の開口
２３ｂの中心２３ｙと交点２３ｗとが一致している。The light source 21 is provided in the same manner as in the first embodiment.
Centers 23x, 23y, 2 of openings 23a, 23b, 23c
The center 23x, 23 of the openings 23a, 23b, 23c with respect to the intersection 23w of the straight line 23n obtained by hanging the central axis of the light source 21 on a plane including 3z and the center line 23m of the opening.
They are arranged so that y and 23z are symmetric. In addition,
When there are three openings, as shown in FIG. 5, the center 23y of the central opening 23b and the intersection 23w coincide.

【００８２】この形態によれば、開口２３ａ，２３ｃに
おける光源２１の中心軸（直線２３ｎ）に直交する方向
２３ｓ，２３ｔに沿った輝度分布は、それぞれ、図４
（ａ），（ｂ）に示すように偏った分布となり、開口２
３ｂにおける光源２１の中心軸（直線２３ｎ）に直交す
る方向２３ｕに沿った輝度分布は、上記図１５のに示
すような山形の分布となる。従って、直接照明域４（図
１）において、開口２３ｂの像を中心として、互いに対
称に偏った分布が合成されることから、互いに補完し合
うこととなり、これによって、上記第１実施形態と同様
に、一様な輝度分布を得ることができる。According to this embodiment, the luminance distribution along the directions 23s, 23t orthogonal to the central axis (straight line 23n) of the light source 21 at the openings 23a, 23c is shown in FIG.
As shown in (a) and (b), the distribution becomes uneven, and the aperture 2
The luminance distribution along the direction 23u orthogonal to the central axis (straight line 23n) of the light source 21 in 3b is a mountain-shaped distribution as shown in FIG. Therefore, in the direct illumination area 4 (FIG. 1), distributions symmetrically biased with respect to each other with the image of the opening 23b as the center are combined, and thus complement each other, thereby providing the same as in the first embodiment. In addition, a uniform luminance distribution can be obtained.

【００８３】（３）上記第１実施形態では、第２の照明
手段２０は単一の光源２１を備えているが、これに限ら
れず、複数の光源を備え、開口２３ａ，２３ｂに対して
それぞれ別の光源を配設するようにしてもよい。図６は
開口２３ａ，２３ｂに対してそれぞれ光源２１ａ，２１
ｂを配設した形態を示す構成図である。(3) In the first embodiment, the second illuminating means 20 has a single light source 21. However, the present invention is not limited to this. Another light source may be provided. FIG. 6 shows light sources 21a and 21b for openings 23a and 23b, respectively.
FIG. 4 is a configuration diagram showing a mode in which b is provided.

【００８４】この形態では、上記第１実施形態において
単一の光源２１を傾斜して配置するのに代えて、図６に
示すように、光源２１ａ，２１ｂをほぼ平行、かつ開口
２３ａ，２３ｂに対して互いに異なる相対位置に配置し
ている。また、光源２１ａ，２１ｂをそれぞれ発光させ
る発光回路２２ａ，２２ｂを備えている。光源２１ａお
よび開口２３ａにより光出力部を構成し、光源２１ｂお
よび開口２３ｂにより光出力部を構成している。In this embodiment, instead of arranging the single light source 21 in the first embodiment in an inclined manner, as shown in FIG. 6, the light sources 21a and 21b are substantially parallel and open to the openings 23a and 23b. Are disposed at different relative positions to each other. Further, light emitting circuits 22a and 22b for emitting light from the light sources 21a and 21b are provided. The light source 21a and the opening 23a form a light output unit, and the light source 21b and the opening 23b form a light output unit.

【００８５】この形態によれば、開口２３ａ，２３ｂに
おける輝度分布はそれぞれ偏った互いに異なるものとな
り、直接照明域４（図１）において開口２３ａ，２３ｂ
の像が重なり合って合成されるとその輝度分布は互いに
補完し合うこととなり、上記第１実施形態と同様に、一
様な分布を得ることができる。According to this embodiment, the brightness distributions in the openings 23a and 23b are biased and different from each other, and the openings 23a and 23b in the direct illumination area 4 (FIG. 1).
When the images are superimposed and synthesized, their luminance distributions complement each other, and a uniform distribution can be obtained as in the first embodiment.

【００８６】また、図６の形態では、光源２１ａ，２１
ｂの開口２３ａ，２３ｂに対する相対位置が互いに対称
になるように配置することが好ましい。この場合、開口
２３ａ，２３ｂにおける輝度分布が互いに対称に偏るこ
ととなり、より均一な分布を得ることができる。In the embodiment of FIG. 6, the light sources 21a, 21a
It is preferable that the positions b are arranged so as to be symmetrical with respect to the openings 23a and 23b. In this case, the luminance distribution in the openings 23a and 23b is symmetrically biased to each other, and a more uniform distribution can be obtained.

【００８７】また、図６の形態において、同図に破線で
示すように、測定制御手段５２の機能ブロックとして、
発光制御手段２８をさらに備えるようにしてもよい。こ
の発光制御手段２８は、発光回路２２ａ，２２ｂの動作
を制御して光源２１ａ，２１ｂの発光時間を制御するこ
とで、各光源２１ａ，２１ｂの発光強度を調整するもの
で、各々の発光時間は、直接照明域４における輝度分布
が一様になるような値に設定される。これによって、光
源２１ａ，２１ｂの発光強度にばらつきがある場合で
も、直接照明域４における輝度分布を均一にすることが
できる。In the embodiment of FIG. 6, as shown by the broken line in FIG.
The light emission control means 28 may be further provided. The light emission control means 28 adjusts the light emission intensity of each of the light sources 21a and 21b by controlling the operation of the light emitting circuits 22a and 22b to control the light emission time of the light sources 21a and 21b. Is set to a value such that the luminance distribution in the direct illumination area 4 becomes uniform. Thereby, even when the light emission intensity of the light sources 21a and 21b varies, the luminance distribution in the direct illumination area 4 can be made uniform.

【００８８】次に、図７〜図９を用いて、本発明に係る
２次光源作成装置の第２実施形態について説明する。図
７は第２実施形態の第２の照明手段２０の構成図、図８
は光源２１からマスク板２３を見た平面図、図９は直接
照明域４（図１）における輝度分布を説明する図であ
る。Next, a second embodiment of the secondary light source forming apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a configuration diagram of the second illumination means 20 of the second embodiment, and FIG.
FIG. 9 is a plan view of the mask plate 23 viewed from the light source 21, and FIG. 9 is a diagram illustrating a luminance distribution in the direct illumination area 4 (FIG. 1).

【００８９】第２実施形態では、第２の照明手段２０
は、図７に示すように、３つの光源２１ａ，２１ｂ，２
１ｃを備えるとともに、各光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃ
をそれぞれ発光させる発光回路２２ａ，２２ｂ，２２ｃ
と、単一の開口２３ａを有するマスク板２３と、この開
口２３ａの像を積分球の直接照明域４（図１）に結像す
る単一の結像光学系２４とを備えている。光源２１ａお
よび開口２３ａにより光出力部を構成し、光源２１ｂお
よび開口２３ａにより光出力部を構成し、光源２１ｃお
よび開口２３ａにより光出力部を構成している。In the second embodiment, the second illumination means 20
Are three light sources 21a, 21b, 2 as shown in FIG.
1c, and each light source 21a, 21b, 21c
Light emitting circuits 22a, 22b, 22c for emitting light respectively
And a mask plate 23 having a single opening 23a, and a single imaging optical system 24 for forming an image of the opening 23a in the direct illumination area 4 (FIG. 1) of the integrating sphere. The light source 21a and the opening 23a form a light output unit, the light source 21b and the opening 23a form a light output unit, and the light source 21c and the opening 23a form a light output unit.

【００９０】光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃは、同一タイ
プの光源、すなわち本実施形態では例えば直管状のキセ
ノンフラッシュランプが用いられている。そして、図８
に示すように、光源２１ｂを開口２３ａの中心２３ｘに
対向して中央に配置し、この光源２１ｂを挾んで互いに
対称な位置に光源２１ａ，２１ｃが配置されている。As the light sources 21a, 21b and 21c, the same type of light sources, that is, for example, straight tube xenon flash lamps in the present embodiment are used. And FIG.
As shown in FIG. 5, a light source 21b is arranged at the center opposite to the center 23x of the opening 23a, and the light sources 21a and 21c are arranged at symmetrical positions with respect to the light source 21b.

【００９１】結像光学系２４は、光源２１ａ，２１ｂ，
２１ｃの光束がつくる開口２３ａの像を直接照明域４
（図１）に重ね合わせて結像するものである。The imaging optical system 24 includes light sources 21a, 21b,
The image of the aperture 23a created by the light beam 21c is directly illuminated by the illumination area 4.
(FIG. 1).

【００９２】このような構成により、光源２１ａ，２１
ｂ，２１ｃがそれぞれ単独で発光したときの中心軸に直
交する方向ｄ（図８）に沿った開口２３ａにおける輝度
分布Ｌａ，Ｌｂ，Ｌｃは、それぞれ図９（ａ），
（ｂ），（ｃ）に示すように、各光源２１ａ，２１ｂ，
２１ｃの開口２３ａに対する相対位置に応じて、互いに
異なる分布になる。すなわち、光源２１ａ，２１ｃによ
る輝度分布Ｌａ，Ｌｃは、互いに対称に偏った分布にな
り、光源２１ｂによる輝度分布Ｌｂは、上記図１５の
とほぼ同様の中央にピークを持つ山形の分布になる。With such a configuration, the light sources 21a, 21a
The luminance distributions La, Lb, and Lc in the opening 23a along the direction d (FIG. 8) orthogonal to the central axis when the light emission of each of the light emitting elements b and 21c is independent are shown in FIGS.
As shown in (b) and (c), each light source 21a, 21b,
The distributions are different from each other in accordance with the relative position of the opening 21c to the opening 23a. That is, the luminance distributions La and Lc of the light sources 21a and 21c are symmetrically biased to each other, and the luminance distribution Lb of the light source 21b is a mountain-shaped distribution having a peak at the center substantially similar to that in FIG.

【００９３】従って、光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃを同
時に発光させると、各光源による開口２３ａの像が互い
に重なり合うことによって輝度が互いに補完されること
となり、中心軸に直交する方向ｄに沿った直接照明域４
（図１）における開口２３ａの像の輝度分布Ｌｄを、図
９（ｄ）に示すような一様な分布にすることができる。
これによって、直接照明域４（図１）における開口２３
ａの像の輝度分布を、第１実施形態と同様に、２次元的
に均一な分布にすることができる。Therefore, when the light sources 21a, 21b, and 21c emit light at the same time, the brightness is complemented by overlapping the images of the apertures 23a of the respective light sources, and direct illumination along the direction d perpendicular to the central axis. Area 4
The luminance distribution Ld of the image of the opening 23a in FIG. 1 can be made uniform as shown in FIG. 9D.
Thereby, the opening 23 in the direct illumination area 4 (FIG. 1)
The luminance distribution of the image a can be made two-dimensionally uniform as in the first embodiment.

【００９４】なお、上記第２実施形態において、図１０
（ａ）に示すように、測定制御手段５２の機能ブロック
として発光制御手段２９を備えるようにしてもよい。こ
の発光制御手段２９は、発光回路２２ａ，２２ｂ，２２
ｃの動作を制御して各光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃの発
光時間を制御することによりそれぞれの発光強度を制御
するもので、本実施形態では、各光源２１ａ，２１ｂ，
２１ｃを予め設定された発光時間Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃだけ
発光させる。発光回路２２ａ，２２ｂ，２２ｃは、図１
０（ｂ）に示すように、光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃに
対して同時にトリガ信号を印加して、それぞれ発光時間
Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃが経過した後に発光を停止させる。各
発光時間Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃは、直接照明域４（図１）に
おける輝度分布が均一になるような最適な値に予め設定
され、記憶手段５１に格納されている。In the second embodiment, FIG.
As shown in (a), the emission control means 29 may be provided as a functional block of the measurement control means 52. The light emission control means 29 includes light emission circuits 22a, 22b, 22
The light emission intensity of each of the light sources 21a, 21b, and 21c is controlled by controlling the operation of the light source 21a, 21b, and 21c.
21c is caused to emit light for a preset light emission time period Ta, Tb, Tc. The light emitting circuits 22a, 22b and 22c are shown in FIG.
As shown at 0 (b), a trigger signal is simultaneously applied to the light sources 21a, 21b, and 21c, and the light emission is stopped after the light emission times Ta, Tb, and Tc have elapsed. Each of the light emission times Ta, Tb, and Tc is set in advance to an optimum value such that the luminance distribution in the direct illumination area 4 (FIG. 1) becomes uniform, and is stored in the storage unit 51.

【００９５】ここで、各発光時間Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃを設
定する手順の第１の例について説明する。まず、各光源
２１ａ，２１ｂ，２１ｃの発光時間をそれぞれ変更して
発光させ、直接照明域４（図１）に形成される２次光源
を、各画素の感度が校正されたＣＣＤカメラなどの撮像
手段によって試料用開口２（図１）から撮像する。そし
て、得られた複数の輝度分布において、最も一様な輝度
分布が得られる値を発光時間Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃに設定す
る。Here, a first example of a procedure for setting the light emission times Ta, Tb, Tc will be described. First, the light sources 21a, 21b, 21c are respectively changed in light emission time to emit light, and the secondary light source formed in the direct illumination area 4 (FIG. 1) is imaged by a CCD camera or the like in which the sensitivity of each pixel is calibrated. An image is taken from the sample opening 2 (FIG. 1) by means. Then, a value at which the most uniform luminance distribution is obtained among the obtained luminance distributions is set as the light emission times Ta, Tb, and Tc.

【００９６】次に、各発光時間Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃを設定
する手順の第２の例について説明する。まず、各光源２
１ａ，２１ｂ，２１ｃを個別に発光させ、直接照明域４
（図１）に形成される２次光源を、各画素の感度が校正
されたＣＣＤカメラなどの撮像手段によって試料用開口
２（図１）から撮像して、その撮像結果に基づき光源２
１ａ，２１ｂ，２１ｃの中心軸に直交する方向ｄ（図
８）に沿った個々の輝度分布Ｉａ(ｄ)，Ｉｂ(ｄ)，Ｉｃ
(ｄ)を求めるとともに、そのときの参照光の受光データ
Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃをモニタ用分光手段４０（図１）から
のデータにより求める。Next, a second example of the procedure for setting the respective light emission times Ta, Tb, Tc will be described. First, each light source 2
1a, 21b and 21c are individually illuminated, and the direct illumination area 4
The secondary light source formed in FIG. 1 is imaged from the sample opening 2 (FIG. 1) by an imaging means such as a CCD camera in which the sensitivity of each pixel is calibrated, and the light source 2 is formed based on the imaging result.
Individual luminance distributions Ia (d), Ib (d), Ic along a direction d (FIG. 8) orthogonal to the central axes of 1a, 21b, 21c
(d) is obtained, and the received light data Ra, Rb, and Rc of the reference light at that time are obtained from the data from the monitoring spectral unit 40 (FIG. 1).

【００９７】次いで、上記個々の輝度分布Ｉａ(ｄ)，Ｉ
ｂ(ｄ)，Ｉｃ(ｄ)を線形結合した合成輝度分布 Ｉｔ(ｄ) ＝Ａ・Ｉａ(ｄ)＋Ｂ・Ｉｂ(ｄ)＋Ｃ・Ｉｃ(ｄ) …(１) が、最も一様になるように重み係数Ａ，Ｂ，Ｃを求め
る。Next, the individual luminance distributions Ia (d) and Ia (d)
b (d) and Ic (d) are linearly combined and the resultant luminance distribution It (d) = AＡIa (d) + B ・ Ib (d) + C ・ Ic (d) (1) Weight coefficients A, B, and C are obtained as described above.

【００９８】次いで、発光時間を変化させて光源２１
ａ，２１ｂ，２１ｃを個別に発光させ、その発光時間で
の各光源の参照光の受光データＲ'ａ，Ｒ'ｂ，Ｒ'ｃ
が、 Ｒ'ａ＝Ａ・Ｒａ Ｒ'ｂ＝Ｂ・Ｒｂ Ｒ'ｃ＝Ｃ・Ｒｃ となるような時間を発光時間Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃに設定す
る。Next, the light emission time is changed to change the light source 21.
a, 21b, and 21c are individually emitted, and the received light data R'a, R'b, and R'c of the reference light of each light source during the emission time.
Are set as emission times Ta, Tb, and Tc such that R'a = A.Ra R'b = B.Rb R'c = C.Rc.

【００９９】この第２の例によれば、３つの光源２１
ａ，２１ｂ，２１ｃを種々の発光時間の組み合わせで発
光させる上記第１の例に比べて、試行回数を大幅に低減
することができる。According to the second example, three light sources 21
The number of trials can be significantly reduced as compared with the first example in which a, 21b, and 21c emit light in various combinations of light emission times.

【０１００】このように、本形態によれば、光源２１
ａ，２１ｂ，２１ｃに同時にトリガ信号を印加してそれ
ぞれ予め設定された発光時間Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃだけ発光
させることにより、均一な輝度分布の２次光源を直接照
明域４（図１）に形成することができる。この輝度分布
は、光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃの相対的な発光強度に
変化がない限り、高い均一性を維持することができる。As described above, according to the present embodiment, the light source 21
A secondary light source having a uniform luminance distribution is formed directly in the illumination area 4 (FIG. 1) by simultaneously applying a trigger signal to a, 21b, and 21c to emit light for a predetermined light emission time period Ta, Tb, Tc. can do. This luminance distribution can maintain high uniformity as long as the relative light emission intensity of the light sources 21a, 21b, 21c does not change.

【０１０１】次に、図１、図７、図８、図１１を用い
て、本発明に係る２次光源作成装置の第３実施形態が適
用される反射特性測定装置の変形形態について説明す
る。図１１はこの変形形態における光源２１ａ，２１
ｂ，２１ｃの発光タイミングを示す図である。Next, a modification of the reflection characteristic measuring apparatus to which the third embodiment of the secondary light source producing apparatus according to the present invention is applied will be described with reference to FIGS. 1, 7, 8 and 11. FIG. 11 shows light sources 21a and 21 in this modification.
It is a figure which shows the light emission timing of b, 21c.

【０１０２】第３実施形態では、第２の照明手段２０
は、図７、図８に示す第２実施形態と同様の構成であ
り、図１の反射特性測定装置には、第２の照明手段２０
として図７に示すものが配設される。In the third embodiment, the second illumination means 20
Has the same configuration as that of the second embodiment shown in FIGS. 7 and 8, and the reflection characteristic measuring device of FIG.
As shown in FIG.

【０１０３】この形態では、予め撮像手段を用いて上記
式(１)の手順に従い、重み係数Ａ，Ｂ，Ｃを求めて、直
接照明域４において均一な輝度分布が得られる参照光の
発光量Ａ・Ｒａ，Ｂ・Ｒｂ，Ｃ・Ｒｃを記憶手段５１に格
納しておく。In this embodiment, the weighting factors A, B, and C are obtained in advance according to the procedure of the above equation (1) using the imaging means, and the light emission amount of the reference light in which a uniform luminance distribution can be obtained in the direct illumination area 4 is obtained. A · Ra, B · Rb, and C · Rc are stored in the storage unit 51.

【０１０４】そして、試料３の反射特性の測定において
は、測定制御手段５２により、図１１に示すように、光
源２１ａ，２１ｂ，２１ｃを順次、個別に一定の発光時
間Ｔで発光させる。Then, in the measurement of the reflection characteristics of the sample 3, the light sources 21a, 21b and 21c are sequentially illuminated by the measurement control means 52 for a constant luminous time T as shown in FIG.

【０１０５】次いで、演算処理手段５３により、各光源
２１ａ，２１ｂ，２１ｃによる反射特性ｒ2ａ，ｒ2ｂ，
ｒ2ｃと、そのときの参照光の受光データＲ''ａ，Ｒ''
ｂ，Ｒ''ｃとを求める。さらに、 Ａ''＝Ａ・Ｒａ／Ｒ''ａ Ｂ''＝Ｂ・Ｒｂ／Ｒ''ｂ Ｃ''＝Ｃ・Ｒｃ／Ｒ''ｃ を求める。Next, the arithmetic processing means 53 causes the reflection characteristics r 2 a, r 2 b,
r 2 c and the received light data R ″ a, R ″ of the reference light at that time
b, R ″ c. Further, A ″ = A · Ra / R ″ a B ″ = B · Rb / R ″ b C ″ = C · Rc / R ″ c is obtained.

【０１０６】そして、第２の反射特性ｒ2を、 ｒ2＝(Ａ''・ｒ2ａ＋Ｂ''・ｒ2ｂ＋Ｃ''・ｒ2ｃ)／(Ａ''＋
Ｂ''＋Ｃ'') によって求める。Then, the second reflection characteristic r 2 is calculated as follows: r 2 = (A ″ · r 2 a + B ″ · r 2 b + C ″ · r 2 c) / (A ″ +
B "+ C").

【０１０７】この変形形態によれば、光源２１ａ，２１
ｂ，２１ｃの個々の発光量を測定ごとに参照光の受光デ
ータによって求め、発光量の変化に対する補正を加味し
た重み係数Ａ''／(Ａ''＋Ｂ''＋Ｃ'')，Ｂ''／(Ａ''＋
Ｂ''＋Ｃ'')，Ｃ''／(Ａ''＋Ｂ''＋Ｃ'')により重み付
けした反射特性ｒ2ａ，ｒ2ｂ，ｒ2ｃの線形結合によっ
て第２の反射特性ｒ2を求めるようにしているので、発
光ごとに光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃの発光強度が変化
したり、経時変化により光源２１ａ，２１ｂ，２１ｃの
相対発光強度が変化した場合でも、その影響を受けるこ
となく均一な合成輝度分布での第２の反射特性ｒ2を求
めることができ、測定精度を向上することができる。According to this modification, the light sources 21a, 21a
The respective light emission amounts of b and 21c are obtained from the received light data of the reference light for each measurement, and weighting factors A ″ / (A ″ + B ″ + C ″), B ″ taking into account the correction for the change in the light emission amount / (A "+
B ″ + C ″), C ″ / (A ″ + B ″ + C ″) The second reflection characteristic r 2 is obtained by linear combination of the reflection characteristics r 2 a, r 2 b, and r 2 c. Therefore, even if the light emission intensity of the light sources 21a, 21b, and 21c changes with each light emission, or the relative light emission intensity of the light sources 21a, 21b, and 21c changes due to aging, there is no effect. it is possible to obtain the second reflection characteristic r 2 of a uniform composite luminance distribution, it is possible to improve the measurement accuracy.

【０１０８】なお、上記いずれの実施形態および変形形
態においても、同一モデルの反射特性測定装置において
は、積分球１や第２の照明手段２０を含む光学系は共通
であるので、直接照明域４における均一な輝度分布を得
るための最適な上記角度θや上記発光量Ａ・Ｒａ，Ｂ・Ｒ
ｂ，Ｃ・Ｒｃが、個々の装置間で大きく変化することは
ない。In any of the above-described embodiments and modifications, in the reflection characteristic measuring apparatus of the same model, the optical system including the integrating sphere 1 and the second illuminating means 20 is common. For obtaining a uniform luminance distribution at the angle θ and the light emission amounts A · Ra and BR
The values of b, C and Rc do not change significantly between individual devices.

【０１０９】従って、適当なｎ数の装置について上述し
た調整作業を行って最適な上記角度θや上記発光量Ａ・
Ｒａ，Ｂ・Ｒｂ，Ｃ・Ｒｃの平均値を求めておき、その平
均値を全ての測定装置に適用するようにしても、測定精
度が低下することのない適正な値にそれぞれ設定するこ
とができる。Therefore, the above-mentioned adjustment work is carried out for an appropriate number n of devices to determine the optimum angle θ and the amount of light emission A ·
Even if an average value of Ra, B · Rb, and C · Rc is determined, and the average value is applied to all the measuring devices, it is possible to set the average value to an appropriate value without lowering the measurement accuracy. it can.

【０１１０】また、記憶手段５１に格納しておく発光量
に関するデータとして、発光量Ａ・Ｒａ，Ｂ・Ｒｂ，Ｃ・
Ｒｃに代えて、直接照明域４において均一な輝度分布が
得られる参照光の発光量Ａ・Ｒａ，Ｂ・Ｒｂ，Ｃ・Ｒｃの
比を求めて、記憶手段５１に格納するようにしてもよ
い。The data relating to the light emission amounts stored in the storage means 51 include the light emission amounts A · Ra, B · Rb, C ·
Instead of Rc, the ratio of the light emission amounts A, Ra, B, Rb, and C, Rc of the reference light that can provide a uniform luminance distribution in the direct illumination area 4 may be obtained and stored in the storage unit 51. .

【０１１１】また、上記各実施形態及び変形形態では、
第２の照明手段２０が積分球１の内壁１ａを照明する形
態について説明しているが、これに限られず、拡散壁を
照明し、この照明された拡散壁からの反射光により試料
を照明する２次光源作成装置に適用することができる。In each of the above embodiments and modifications,
The mode in which the second illuminating means 20 illuminates the inner wall 1a of the integrating sphere 1 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the sample is illuminated by illuminating the diffusion wall and reflected light from the illuminated diffusion wall. It can be applied to a secondary light source creation device.

【０１１２】また、上記各実施形態及び変形形態では、
直管状の発光部を有する光源としているが、これに限ら
れず、球状の発光部を有する光源を並べて構成するよう
にしてもよい。また、光源をキセノンフラッシュランプ
としているが、これに限られず、例えばハロゲンランプ
を用いてもよい。In each of the above embodiments and modifications,
Although the light source has a straight tubular light emitting portion, the present invention is not limited to this, and a light source having a spherical light emitting portion may be arranged side by side. Further, the light source is a xenon flash lamp, but the light source is not limited to this, and for example, a halogen lamp may be used.

【０１１３】[0113]

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、輝度分布が互いに異なる光を複数の光出力部か
ら出力し、複数の光出力部からの光が拡散壁上で互いに
重なり合うように、複数の光出力部からの光を拡散壁上
に集光するようにしたので、均一な輝度分布を持つ２次
光源を得ることができる。As described above, according to the first aspect of the present invention, light having different luminance distributions is output from the plurality of light output units, and the light from the plurality of light output units is mutually transmitted on the diffusion wall. Since the light from the plurality of light output units is condensed on the diffusion wall so as to overlap, a secondary light source having a uniform luminance distribution can be obtained.

【０１１４】また、請求項２の発明によれば、単一の光
源を、複数の開口に対する相対位置が互いに異なるよう
に配置し、各開口を透過した光を拡散壁上に集光するよ
うにしたので、均一な輝度分布を持つ２次光源を得るこ
とができる。According to the second aspect of the present invention, a single light source is arranged so that its relative position with respect to a plurality of openings is different from each other, and light transmitted through each of the openings is collected on a diffusion wall. Accordingly, a secondary light source having a uniform luminance distribution can be obtained.

【０１１５】また、請求項３の発明によれば、複数の開
口を、各々の中心を結ぶ開口中心線が直線になるように
一列に並んでマスク板に設け、中心軸に沿う直管状の発
光部を有する光源を、中心軸がマスク板にほぼ平行に、
かつ、開口中心線に非平行に配置するようにしたので、
中心軸に直交する方向における各開口に対する光源の発
光部の相対位置が互いに異なるものとなるので、各開口
における同方向に沿った輝度分布がそれぞれ偏った互い
に異なる分布となり、拡散壁上における同方向に沿った
輝度分布は、複数の光による輝度が互いに補完し合うこ
ととなる一方、中心軸に沿った輝度分布はほぼ均一であ
るので、２次元的に均一な輝度分布を持つ２次光源を得
ることができる。According to the third aspect of the present invention, a plurality of openings are provided on the mask plate in a line so that the center lines of the openings connecting the centers of the openings are straight, and a straight tubular light emitting device along the central axis is provided. The light source having the part, the central axis is almost parallel to the mask plate,
In addition, because it is arranged non-parallel to the opening center line,
Since the relative positions of the light emitting portions of the light source with respect to the respective apertures in the direction orthogonal to the central axis are different from each other, the luminance distributions in the respective apertures in the same direction are different from each other, and are different from each other in the same direction on the diffusion wall. In the luminance distribution along, the luminances of a plurality of lights complement each other, while the luminance distribution along the central axis is almost uniform, so that a secondary light source having a two-dimensionally uniform luminance distribution is used. Obtainable.

【０１１６】また、請求項４の発明によれば、マスク板
を、複数の開口を含む平面に光源の中心軸を垂下して得
られる直線と開口中心線との交点に関して、複数の開口
が対称になるように光源に対して配置したので、光源の
中心軸に直交する方向における発光部の各開口に対する
相対位置が互いに対称的に異なるものとなり、各開口に
おける同方向に沿った輝度分布がそれぞれ対称的に偏っ
た分布となることから、拡散壁上において、同方向に沿
った輝度分布は、各開口を透過した光により均一になる
ように互いに補完し合ったものとなり、２次元的に一層
均一な輝度分布を持つ２次光源を得ることができる。According to the fourth aspect of the present invention, the plurality of openings are symmetric with respect to the intersection of a straight line obtained by suspending the center axis of the light source on a plane including the plurality of openings and the center line of the opening. Relative to each opening in the direction orthogonal to the central axis of the light source, the positions relative to the respective openings are symmetrically different from each other, and the brightness distribution along the same direction in each opening is Since the distribution is symmetrically biased, the luminance distribution along the same direction on the diffusion wall complements each other so as to be more uniform by the light transmitted through each aperture, and is two-dimensionally more enhanced. A secondary light source having a uniform luminance distribution can be obtained.

【０１１７】また、請求項５の発明によれば、マスク板
に穿設された複数の開口に対応して、それぞれ個別に光
源を配設し、各光源は、対応する開口に対して互いに異
なる相対位置にそれぞれ配置したので、拡散壁上におい
て、輝度分布の異なる光が互いに補完し合うこととな
り、均一な輝度分布を持つ２次光源を得ることができ
る。According to the fifth aspect of the present invention, light sources are individually arranged corresponding to the plurality of openings formed in the mask plate, and the light sources are different from each other with respect to the corresponding openings. Since they are arranged at the relative positions, light having different luminance distributions complement each other on the diffusion wall, and a secondary light source having a uniform luminance distribution can be obtained.

【０１１８】また、請求項６の発明によれば、拡散壁上
の輝度分布が一様になるように、複数の光源の発光強度
がそれぞれ制御されることにより、各光源の発光強度に
ばらつきが存在する場合や、開口に対する相対位置が対
称的でない場合でも、均一な輝度分布を持つ２次光源を
確実に得ることができる。According to the sixth aspect of the present invention, the light emission intensity of each of the plurality of light sources is controlled so that the luminance distribution on the diffusion wall becomes uniform. A secondary light source having a uniform luminance distribution can be reliably obtained even when it exists or when the relative position to the opening is not symmetric.

【０１１９】また、請求項７の発明によれば、マスク板
に穿設された単一の開口に対して複数の光源を互いに異
なる相対位置に配置したので、この開口における各光源
による輝度分布が互いに異なるものとなり、その結果、
拡散壁上において、各光源からの光の輝度分布が互いに
異なることから輝度を互いに補完し合うこととなり、均
一な輝度分布を持つ２次光源を得ることができる。According to the seventh aspect of the present invention, since a plurality of light sources are arranged at different relative positions to a single opening formed in the mask plate, the luminance distribution of each light source in this opening is reduced. Different from each other,
Since the luminance distributions of the light from the respective light sources are different from each other on the diffusion wall, the luminances complement each other, and a secondary light source having a uniform luminance distribution can be obtained.

【０１２０】また、請求項８の発明によれば、複数の光
源を、マスク板に穿設された単一の開口の中心を通り、
マスク板に直交する平面に関して対称になるように配置
したので、この開口における各光源による輝度分布が互
いに対称的に異なるものとなり、その結果、拡散壁上に
おける輝度分布は、各光源による光で互いにより良く補
完し合ったものとなり、より均一な輝度分布を持つ２次
光源を得ることができる。Further, according to the invention of claim 8, a plurality of light sources pass through the center of a single opening formed in the mask plate,
Since they are arranged so as to be symmetrical with respect to a plane perpendicular to the mask plate, the luminance distribution by each light source in this opening is symmetrically different from each other. As a result, the luminance distribution on the diffusion wall is mutually different by the light from each light source. It is possible to obtain a secondary light source that complements each other better and has a more uniform luminance distribution.

【０１２１】また、請求項９の発明によれば、それぞれ
中心軸に沿う直管状の発光部を有する複数の光源を、そ
れぞれの中心軸がマスク板に平行、かつ、互いにほぼ平
行になるように配置し、しかも、開口の中心を通り、マ
スク板に直交する平面に関して対称になるように配置し
ているので、光源の中心軸に直交する方向における光源
の開口に対する相対位置が互いに対称的に異なるものと
なることから、開口における同方向に沿った輝度分布が
対称的に偏った互いに異なる分布となり、その結果、拡
散壁上における同方向に沿った輝度分布は、各光源から
の光による輝度が均一になるように互いに補完し合った
ものとなる一方、中心軸に沿った輝度分布はほぼ均一で
あるので、２次元的に均一な輝度分布を持つ２次光源を
得ることができる。According to the ninth aspect of the present invention, a plurality of light sources each having a straight tubular light emitting portion along the central axis are arranged so that each central axis is parallel to the mask plate and substantially parallel to each other. The light source is arranged symmetrically with respect to a plane passing through the center of the opening and orthogonal to the mask plate. Therefore, relative positions to the opening of the light source in the direction orthogonal to the central axis of the light source are symmetrically different from each other. Therefore, the luminance distribution along the same direction at the aperture is symmetrically biased and different from each other. As a result, the luminance distribution along the same direction on the diffusion wall is such that the luminance due to the light from each light source is While the two light sources complement each other so as to be uniform, the luminance distribution along the central axis is substantially uniform, so that a secondary light source having a two-dimensionally uniform luminance distribution can be obtained.

【０１２２】また、請求項１０の発明によれば、さら
に、拡散壁上の輝度分布が一様になるように、複数の光
源の発光強度をそれぞれ制御するようにしたので、各光
源の発光強度にばらつきが存在する場合や、開口に対す
る相対位置が対称的でない場合でも、均一な輝度分布を
持つ２次光源を確実に得ることができる。According to the tenth aspect of the present invention, the luminous intensity of each of the plurality of light sources is controlled so that the luminance distribution on the diffusion wall becomes uniform. , And even when the position relative to the aperture is not symmetrical, a secondary light source having a uniform luminance distribution can be reliably obtained.

【０１２３】また、請求項１１の発明によれば、第２の
照明手段により照明される積分球内の拡散壁の輝度分布
が均一なものとされていることから、反射特性の測定を
高精度で、しかも試料の表面の平滑性に関係なく機械的
に開閉可能なトラップを有する装置のように安定して行
うことができる。According to the eleventh aspect, since the luminance distribution of the diffusion wall in the integrating sphere illuminated by the second illuminating means is made uniform, the reflection characteristic can be measured with high accuracy. In addition, the operation can be performed stably like a device having a trap that can be mechanically opened and closed regardless of the smoothness of the surface of the sample.

【０１２４】また、請求項１２の発明によれば、第２の
照明手段を構成する複数の光源の発光強度に変化が生じ
たり経時変化により相対発光強度に変化が生じた場合で
も、参照光受光データおよび記憶されている発光量に関
するデータを用いて拡散壁の合成輝度分布を計算上仮想
的に均一なものにできることから、反射特性の測定を高
精度で、しかも試料の表面の平滑性に関係なく機械的に
開閉可能なトラップを有する装置のように安定して行う
ことができる。According to the twelfth aspect of the present invention, even when the light emission intensity of the plurality of light sources constituting the second illumination means changes or the relative light emission intensity changes due to aging, the reference light reception is performed. The combined luminance distribution of the diffusion wall can be calculated virtually uniform using the data and the stored data on the amount of emitted light, so that the reflection characteristics can be measured with high accuracy and also related to the smoothness of the sample surface. It can be performed stably like a device having a mechanically openable and closable trap.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明に係る反射特性測定装置の一実施形態の
構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of a reflection characteristic measuring device according to the present invention.

【図２】第１実施形態の第２の照明手段の斜視図であ
る。FIG. 2 is a perspective view of a second illumination unit of the first embodiment.

【図３】光源からマスク板を見た平面図である。FIG. 3 is a plan view of a mask plate viewed from a light source.

【図４】（ａ）〜（ｄ）は直接照明域における輝度分布
を説明する図である。FIGS. 4A to 4D are diagrams illustrating a luminance distribution in a direct illumination area.

【図５】開口が３つ設けられたマスク板を光源から見た
平面図である。FIG. 5 is a plan view of a mask plate provided with three openings as viewed from a light source.

【図６】複数の開口に対してそれぞれ個別に光源を配設
した形態を示す構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram showing a mode in which light sources are individually provided for a plurality of openings.

【図７】第２実施形態の第２の照明手段の構成図であ
る。FIG. 7 is a configuration diagram of a second illumination unit of the second embodiment.

【図８】光源からマスク板を見た平面図である。FIG. 8 is a plan view of a mask plate viewed from a light source.

【図９】直接照明域における輝度分布を説明する図であ
る。FIG. 9 is a diagram illustrating a luminance distribution in a direct illumination area.

【図１０】（ａ）は第２実施形態の変形形態の構成図、
（ｂ）は光源の発光タイミングを示す図である。FIG. 10A is a configuration diagram of a modification of the second embodiment,
(B) is a diagram showing the light emission timing of the light source.

【図１１】反射特性測定装置の変形形態における光源の
発光タイミングを示す図である。FIG. 11 is a diagram showing light emission timing of a light source in a modification of the reflection characteristic measuring device.

【図１２】従来の反射特性測定装置の構成図である。FIG. 12 is a configuration diagram of a conventional reflection characteristic measuring device.

【図１３】従来の別の反射特性測定装置の構成図であ
る。FIG. 13 is a configuration diagram of another conventional reflection characteristic measuring device.

【図１４】（ａ）（ｂ）は従来の輝度分布を説明する図
である。14A and 14B are diagrams illustrating a conventional luminance distribution.

【図１５】従来の開口に対する光源の配置およびその開
口における輝度分布を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a conventional arrangement of a light source with respect to an opening and a luminance distribution in the opening.

【図１６】輝度分布の一様性の改善手段を示す図であ
る。FIG. 16 is a diagram showing a means for improving the uniformity of luminance distribution.

【図１７】輝度分布の一様性の改善手段を示す図であ
る。FIG. 17 is a diagram showing a means for improving the uniformity of luminance distribution.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 積分球 １ａ 内壁 ２ 試料用開口 ３ 試料 ４ 第２の照明手段の直接照明域 ５ 第１の照明手段の直接照明域 １０ 第１の照明手段 １１，２１ 光源 １２，２２ 発光回路 １６，２６ 光源用開口 ２０ 第２の照明手段 ２３ マスク板 ２４ 照明光学系 ２５ 反射鏡 ２７ 拡散板 ２８，２９ 発光制御手段 ３０ 試料用分光手段（試料反射光受光手段） ３１ 受光用開口（試料反射光受光用開口） ３２ 受光光学系 ４０ モニタ用分光手段（参照光受光手段） ４１ 参照用光ファイバ（参照光受光用開口） ５０ 制御手段 ５１ 記憶手段（係数記憶手段、発光量記憶手段） ５２ 測定制御手段 ５３ 演算処理手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Integrating sphere 1a Inner wall 2 Sample opening 3 Sample 4 Direct illumination area of 2nd illumination means 5 Direct illumination area of 1st illumination means 10 1st illumination means 11 and 21 Light source 12,22 Light emitting circuit 16,26 Light source Aperture 20 second illumination means 23 mask plate 24 illumination optical system 25 reflecting mirror 27 diffusing plate 28, 29 emission control means 30 sample spectral means (sample reflected light receiving means) 31 light receiving aperture (sample reflected light receiving aperture) 32) light receiving optical system 40 monitoring spectroscopic means (reference light receiving means) 41 reference optical fiber (reference light receiving opening) 50 control means 51 storage means (coefficient storage means, light emission amount storage means) 52 measurement control means 53 arithmetic Processing means

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 １次光源から出力される光を集光手段に
より所定の拡散壁に集光し、この拡散壁からの反射光を
２次光源として試料の照明に用いる２次光源作成装置に
おいて、 上記１次光源は、輝度分布が互いに異なる光を出力する
複数の光出力部を備えたもので、 上記集光手段は、上記複数の光出力部からの光が上記拡
散壁上で互いに重なり合うように、上記複数の光出力部
からの光を上記拡散壁上に集光するものであることを特
徴とする２次光源作成装置。1. A secondary light source producing apparatus for condensing light output from a primary light source on a predetermined diffusion wall by a light condensing means and using reflected light from the diffusion wall as a secondary light source for illuminating a sample. The primary light source includes a plurality of light output units that output lights having different luminance distributions from each other, and the light condensing unit causes the lights from the plurality of light output units to overlap each other on the diffusion wall. As described above, the secondary light source creating device is configured to collect the light from the plurality of light output units on the diffusion wall. 【請求項２】 請求項１記載の２次光源作成装置におい
て、上記１次光源は、複数の開口が穿設されたマスク板
と、この複数の開口に対する相対位置が互いに異なるよ
うに配置された単一の光源とを備え、上記単一の光源か
らの光を上記複数の開口にそれぞれ透過させることによ
って、輝度分布が互いに異なる光を出力するものである
ことを特徴とする２次光源作成装置。2. The secondary light source creating device according to claim 1, wherein the primary light source is arranged such that a mask plate having a plurality of openings formed therein and a relative position with respect to the plurality of openings are different from each other. A light source having a single light source, and transmitting light from the single light source through the plurality of openings to output light having different luminance distributions from each other. . 【請求項３】 請求項２記載の２次光源作成装置におい
て、 上記複数の開口は、各々の中心を結ぶ開口中心線が直線
になるように一列に並んで上記マスク板に設けられてお
り、 上記光源は、中心軸に沿う直管状の発光部を有するもの
で、この光源は、上記中心軸が上記マスク板にほぼ平行
に、かつ、上記開口中心線に非平行に配置されているこ
とを特徴とする２次光源作成装置。3. The secondary light source creation device according to claim 2, wherein the plurality of openings are provided in the mask plate in a line so that an opening center line connecting the centers of the openings is linear. The light source has a straight tube light-emitting portion along a central axis, and the light source is arranged so that the central axis is substantially parallel to the mask plate and non-parallel to the opening center line. Characteristic secondary light source creation device. 【請求項４】 請求項３記載の２次光源作成装置におい
て、上記マスク板は、上記複数の開口を含む平面に上記
中心軸を垂下して得られる直線と上記開口中心線との交
点に関して上記複数の開口が対称になるように、上記光
源に対して配置されていることを特徴とする２次光源作
成装置。4. The secondary light source creation device according to claim 3, wherein the mask plate is provided with respect to an intersection of a straight line obtained by hanging the center axis on a plane including the plurality of openings and the center line of the openings. A secondary light source creating device, wherein a plurality of openings are arranged symmetrically with respect to the light source. 【請求項５】 請求項１記載の２次光源作成装置におい
て、上記１次光源は、複数の開口が穿設されたマスク板
と、この複数の開口に対応してそれぞれ配設され、各開
口に対する相対位置が互いに異なるように配置された複
数の光源とを備え、上記複数の光源からの光を対応する
上記開口にそれぞれ透過させることによって、輝度分布
が互いに異なる光を出力するものであることを特徴とす
る２次光源作成装置。5. The secondary light source creation device according to claim 1, wherein the primary light source is provided with a mask plate having a plurality of openings formed therein, and each of the primary light sources is provided corresponding to the plurality of openings. A plurality of light sources arranged so that their relative positions to each other are different, and by transmitting light from the plurality of light sources to the corresponding openings, respectively, light having different luminance distributions is output. A secondary light source creation device characterized by the above-mentioned. 【請求項６】 請求項５記載の２次光源作成装置におい
て、さらに、上記拡散壁上の輝度分布が一様になるよう
に、上記複数の光源の発光強度をそれぞれ制御する発光
制御手段を備えたことを特徴とする２次光源作成装置。6. The secondary light source creation device according to claim 5, further comprising light emission control means for controlling the light emission intensity of each of said plurality of light sources so that the luminance distribution on said diffusion wall becomes uniform. A secondary light source producing apparatus characterized in that: 【請求項７】 請求項１記載の２次光源作成装置におい
て、上記１次光源は、単一の開口が穿設されたマスク板
と、この開口に対する相対位置が互いに異なるように配
置された複数の光源とを備え、上記複数の光源からの光
をそれぞれ上記単一の開口に透過させることによって、
輝度分布が互いに異なる光を出力するものであることを
特徴とする２次光源作成装置。7. The secondary light source creating apparatus according to claim 1, wherein the primary light source is a mask plate having a single opening, and a plurality of primary light sources are arranged such that their relative positions to the opening are different from each other. By providing light from the plurality of light sources to the single aperture,
A secondary light source creation device that outputs light having different luminance distributions. 【請求項８】 請求項７記載の２次光源作成装置におい
て、上記複数の光源は、上記開口の中心を通り、上記マ
スク板に直交する平面に関して対称になるように配置さ
れていることを特徴とする２次光源作成装置。8. The secondary light source creating device according to claim 7, wherein the plurality of light sources are arranged symmetrically with respect to a plane passing through the center of the opening and orthogonal to the mask plate. Secondary light source creation device. 【請求項９】 請求項８記載の２次光源作成装置におい
て、上記複数の光源は、それぞれ中心軸に沿う直管状の
発光部を有するもので、これらの光源は、それぞれの中
心軸が上記マスク板に平行、かつ、互いにほぼ平行にな
るように配置されていることを特徴とする２次光源作成
装置。9. The secondary light source creation device according to claim 8, wherein each of the plurality of light sources has a straight tubular light emitting portion along a central axis, and each of the light sources has the central axis of the mask. A secondary light source creation device, which is arranged so as to be parallel to a plate and substantially parallel to each other. 【請求項１０】 請求項７記載の２次光源作成装置にお
いて、さらに、上記拡散壁上の輝度分布が一様になるよ
うに、上記複数の光源の発光強度をそれぞれ制御する発
光制御手段を備えたことを特徴とする２次光源作成装
置。10. The secondary light source creation device according to claim 7, further comprising light emission control means for controlling the light emission intensity of each of said plurality of light sources so that the luminance distribution on said diffusion wall becomes uniform. A secondary light source producing apparatus characterized in that: 【請求項１１】 第１の光源用開口、第２の光源用開
口、試料用開口及び試料反射光受光用開口を有し、上記
試料用開口に配置された試料を照明する積分球と、 上記試料反射光受光用開口に配設され、上記試料からの
反射光を受光してその光強度に対応する受光データを出
力する試料反射光受光手段と、 上記第１の光源用開口に配設され、上記積分球の内壁の
所定の領域に向けて光を導く第１の照明手段と、 上記第２の光源用開口に配設され、上記試料用開口の法
線に関して、上記積分球内の上記試料反射光受光用開口
の方向と対称な方向の拡散壁に向けて光を導く請求項１
〜１０のいずれかに記載の２次光源作成装置からなる第
２の照明手段と、 上記第１、第２の照明手段をそれぞれ個別に発光させ、
上記試料反射光受光手段から上記受光データとして上記
第１の照明手段に対応する第１の受光データ及び上記第
２の照明手段に対応する第２の受光データをそれぞれ個
別に出力させる測定制御手段と、 上記第１の受光データから上記試料の第１の反射特性を
算出するとともに、上記第２の受光データから上記試料
の第２の反射特性を算出する第１演算処理手段と、 反射特性が既知の標準試料を用いて得られる第１、第２
の補正係数を記憶する係数記憶手段と、 上記第１、第２の補正係数を用いて上記第１、第２の反
射特性を補正する第２演算処理手段とを備えたことを特
徴とする反射特性測定装置。11. An integrating sphere having a first light source opening, a second light source opening, a sample opening, and a sample reflected light receiving opening, and illuminating a sample arranged in the sample opening, A sample reflected light receiving means disposed in the sample reflected light receiving opening for receiving reflected light from the sample and outputting received light data corresponding to the light intensity; and being disposed in the first light source opening. A first illuminating means for guiding light toward a predetermined region of the inner wall of the integrating sphere, the first illuminating means being provided in the second light source opening, and with respect to a normal line of the sample opening, The light is guided toward a diffusion wall in a direction symmetric to the direction of the sample reflected light receiving aperture.
A second lighting means comprising the secondary light source creating device according to any one of claims 10 to 10, and the first and second lighting means are individually lit,
Measurement control means for individually outputting, as the light reception data, the first light reception data corresponding to the first illumination means and the second light reception data corresponding to the second illumination means from the sample reflected light reception means, respectively; First arithmetic processing means for calculating a first reflection characteristic of the sample from the first received light data, and calculating a second reflection characteristic of the sample from the second received light data; 1st and 2nd obtained using standard samples
A coefficient storing means for storing the correction coefficient of the first and second, and a second arithmetic processing means for correcting the first and second reflection characteristics using the first and the second correction coefficients. Characteristic measuring device. 【請求項１２】 第１の光源用開口、第２の光源用開
口、試料用開口、試料反射光受光用開口及び参照光受光
用開口を有し、上記試料用開口に配置された試料を照明
する積分球と、 上記試料反射光受光用開口に配設され、上記試料からの
反射光を受光してその光強度に対応する試料反射光受光
データを出力する試料反射光受光手段と、 上記参照光受光用開口に配設され、上記試料を照明する
照明光を受光してその光強度に対応する参照光受光デー
タを出力する参照光受光手段と、 上記第１の光源用開口に配設され、上記積分球の内壁の
所定の領域に向けて光を導く第１の照明手段と、 上記第２の光源用開口に配設され、上記試料用開口の法
線に関して、上記積分球内の上記試料反射光受光用開口
の方向と対称な方向の拡散壁に向けて光を導く請求項５
または７記載の２次光源作成装置からなる第２の照明手
段と、 上記第２の照明手段を構成する複数の光源および上記第
１の照明手段をそれぞれ個別に発光させ、上記試料反射
光受光手段から上記試料反射光受光データとして上記第
１の照明手段に対応する第１の試料反射光受光データ及
び上記第２の照明手段を構成する複数の光源に対応する
第２の複数の試料反射光受光データをそれぞれ個別に出
力させるとともに、上記参照光受光手段から上記参照光
受光データとして上記第１の照明手段に対応する第１の
参照光受光データ及び上記第２の照明手段を構成する複
数の光源に対応する第２の複数の参照光受光データをそ
れぞれ個別に出力させる測定制御手段と、 上記拡散壁において均一な輝度分布が得られるように予
め設定された、上記第２の照明手段を構成する複数の光
源の各々の発光量に関するデータを記憶する発光量記憶
手段と、 上記第１の試料反射光受光データ及び上記第１の参照光
受光データから上記試料の第１の反射特性を算出すると
ともに、上記第２の複数の試料反射光受光データ、上記
第２の複数の参照光受光データ及び上記発光量に関する
データから上記試料の第２の反射特性を算出する第１演
算処理手段と、 反射特性が既知の標準試料を用いて得られる第１、第２
の補正係数を記憶する係数記憶手段と、 上記第１、第２の補正係数を用いて上記第１、第２の反
射特性を補正する第２演算処理手段とを備えたことを特
徴とする反射特性測定装置。12. An opening for a first light source, an opening for a second light source, an opening for a sample, an opening for receiving a sample reflected light and an opening for receiving a reference light, and illuminating the sample arranged in the sample opening. An integrating sphere that is disposed in the sample reflected light receiving opening, receives sample reflected light from the sample, and outputs sample reflected light reception data corresponding to the light intensity of the sample reflected light receiving means; A reference light receiving unit disposed in the light receiving opening for receiving illumination light for illuminating the sample and outputting reference light reception data corresponding to the light intensity; and a reference light receiving unit disposed in the first light source opening. First illumination means for guiding light toward a predetermined region of the inner wall of the integrating sphere, and provided at the second light source opening, with respect to a normal line of the sample opening, Light is directed toward the diffusion wall in a direction symmetrical to the direction of the sample reflected light receiving aperture. According to claim 5
Or a second illuminating means comprising the secondary light source creating apparatus according to claim 7, and a plurality of light sources constituting the second illuminating means and the first illuminating means individually emitting light, and the sample reflected light receiving means From the first sample reflected light reception data corresponding to the first illumination means and the second plurality of sample reflection light receptions corresponding to the plurality of light sources constituting the second illumination means. A plurality of light sources constituting the second illumination means and first reference light reception data corresponding to the first illumination means as the reference light reception data from the reference light reception means; Measurement control means for individually outputting the second plurality of reference light reception data corresponding to the first and second reference light reception data, and the first and second reference light reception data, which are preset so as to obtain a uniform luminance distribution on the diffusion wall. A light-emission amount storage means for storing data relating to the light-emission amounts of a plurality of light sources constituting the illuminating means, and a first sample light of the sample from the first sample reflected light reception data and the first reference light reception data. A first calculation for calculating a reflection characteristic and calculating a second reflection characteristic of the sample from the second plurality of sample reflected light reception data, the second plurality of reference light reception data, and the data on the light emission amount; Processing means, and first and second obtained by using a standard sample having a known reflection characteristic.
A coefficient storing means for storing the correction coefficient of the first and second, and a second arithmetic processing means for correcting the first and second reflection characteristics using the first and the second correction coefficients. Characteristic measuring device.
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Cited By (7)

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