JP2001154209A - Manufacturing method for liquid crystal display element - Google Patents
Manufacturing method for liquid crystal display elementInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】液晶プロジェクタ等に用いら
れる液晶表示素子の作製方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element used for a liquid crystal projector or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶プロジェクタ等に用いられる従来の
液晶表示素子の作製方法について図７〜図１０を用いて
説明する。図７は、従来の液晶表示素子の作製方法の露
光工程を示す断面図である。図８は、従来の液晶表示素
子の作製方法のホログラムフィルタ作製工程を示す断面
図である。図９は、従来の液晶表示素子の作製方法の一
体化工程を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は
（Ａ）のＭＭ断面図である。図１０は、従来の方法で作
製された液晶表示素子を示す断面図である。2. Description of the Related Art A conventional method of manufacturing a liquid crystal display device used for a liquid crystal projector or the like will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a cross-sectional view showing an exposure step of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display element. FIG. 8 is a cross-sectional view showing a hologram filter manufacturing process of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display element. 9A and 9B are views showing an integration step of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display element, wherein FIG. 9A is a plan view, and FIG. 9B is a cross-sectional view of the MM in FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device manufactured by a conventional method.
【０００３】（露光工程）図７に示すように、ガラス板
６に塗布されたホログラム感光材７上に光学カップリン
グオイル８を介してマスタホログラム１８を載置し、こ
のマスタホログラム１８上に台形プリズム９を配置す
る。ホログラム感光材７としては、例えば、デュポン
（株）製のｏｍｉｎｉｄｅｘが用いられる。マスタホロ
グラム１８は、ガラス基板２と、このガラス基板２上に
形成されたＣｒ膜３が形成され、略中央部にＣｒ膜３を
加工して作製されたホログラムレンズパターン４とを有
する。この後、Ａｒレーザ光を台形プリズム９の傾斜部
から入射させて、ホログラムレンズパターン４に応じた
所定回折角で回折される１次回折光とそのまま透過直進
する０次回折光により、ホログラム感光材７を露光す
る。(Exposure Step) As shown in FIG. 7, a master hologram 18 is placed on a hologram photosensitive material 7 applied to a glass plate 6 via an optical coupling oil 8, and a trapezoid is formed on the master hologram 18. The prism 9 is arranged. As the hologram photosensitive material 7, for example, ominidex manufactured by DuPont is used. The master hologram 18 has a glass substrate 2 and a hologram lens pattern 4 in which a Cr film 3 formed on the glass substrate 2 is formed. Thereafter, an Ar laser beam is incident from the inclined portion of the trapezoidal prism 9, and the hologram photosensitive material 7 is formed by the first-order diffracted light diffracted at a predetermined diffraction angle according to the hologram lens pattern 4 and the 0th-order diffracted light that passes straight through as it is. Expose.
【０００４】（ホログラムフィルタ作製工程）次に、図
８に示すように、ホログラム感光材７の現像を行った
後、ホログラム感光材７中に残留する色素を除去する紫
外線処理及び熱処理を行なって、ガラス板６の略中央部
に所定の回折傾斜角（スラント角）を有するホログラム
レンズ１０を形成する。この後、カッターナイフ等を用
いて、ホログラムレンズ１０の周囲に沿い、かつこの端
部から所定幅Ｌのホログラム感光材７だけを残すように
してトリミングを行い、ホログラムレンズ１０に隣接し
た保護領域７ａを形成して、ホログラムフィルタ１９を
作製する。このように、ホログラムレンズ１０の外周部
から所定幅Ｌの保護領域７ａを形成するのは、ホログラ
ムレンズ１０の端部に形成された部分のスラント角を歪
ませないためである。(Hologram filter production step) Next, as shown in FIG. 8, after the hologram photosensitive material 7 is developed, ultraviolet treatment and heat treatment for removing the dye remaining in the hologram photosensitive material 7 are performed. A hologram lens 10 having a predetermined diffraction inclination angle (slant angle) is formed substantially at the center of the glass plate 6. Thereafter, trimming is performed using a cutter knife or the like so as to leave only the hologram photosensitive material 7 having a predetermined width L along the periphery of the hologram lens 10 and from the end thereof. Is formed to produce the hologram filter 19. The reason why the protection region 7a having the predetermined width L is formed from the outer peripheral portion of the hologram lens 10 is to prevent the slant angle of the portion formed at the end of the hologram lens 10 from being distorted.
【０００５】（一体化工程）次に、図９に示すように、
ホログラムレンズ１０及び保護領域７ａ側を薄板ガラス
１３に対向させて、ホログラムフィルタ１９を熱硬化型
接着剤１４を介して薄板ガラス１３に接着して、一体化
したホログラムフィルタ１９と薄板ガラス１３とを得
る。この際、熱硬化型接着剤１４は、保護領域７ａの周
囲にも形成され、ホログラムフィルタ１９と薄板ガラス
１３との接着強度を補強している。(Integration step) Next, as shown in FIG.
The hologram filter 19 and the thin glass 13 are bonded together by bonding the hologram filter 19 to the thin glass 13 via a thermosetting adhesive 14 with the hologram lens 10 and the protection area 7 a facing the thin glass 13. obtain. At this time, the thermosetting adhesive 14 is also formed around the protection area 7a to reinforce the adhesive strength between the hologram filter 19 and the thin glass 13.
【０００６】（液晶表示素子作製工程）更に、図１０に
示すように、ＩＣ基板１６の外周部に沿って液晶注入口
を有したパターンを有する紫外線硬化型接着剤１５を形
成した後、薄板ガラス１３側をＩＣ基板１６に対向さ
せ、一体化したホログラムフィルタ１９と薄板ガラス１
３を紫外線硬化型接着剤１５を介してＩＣ基板１６上に
載置し、引き続いて、ホログラムフィルタ１９のガラス
板６側から紫外線を照射し、紫外線硬化型接着剤１５を
硬化させて、一体化したホログラムフィルタ１９及び薄
板ガラス１３とＩＣ基板１６とを貼り合わせる。更に、
紫外線硬化型接着剤１５の液晶注入口から液晶を注入し
た後、封止して液晶表示素子２０を作製する。なお、通
常、薄板ガラス１３とＩＣ基板１６との間には、図示し
ないスペーサボールが散布されているので、このスペー
サボールによって薄板ガラス１３とＩＣ基板１６との間
隙が形成される。(Step of Manufacturing Liquid Crystal Display Element) Further, as shown in FIG. 10, after forming an ultraviolet curable adhesive 15 having a pattern having a liquid crystal injection port along an outer peripheral portion of an IC substrate 16, a thin glass sheet is formed. The hologram filter 19 and the thin glass 1 integrated with the 13 side facing the IC substrate 16
3 is placed on the IC substrate 16 via the ultraviolet-curable adhesive 15, and subsequently, ultraviolet rays are irradiated from the glass plate 6 side of the hologram filter 19, and the ultraviolet-curable adhesive 15 is cured and integrated. The hologram filter 19 and the thin glass 13 thus formed are bonded to the IC substrate 16. Furthermore,
After injecting liquid crystal from the liquid crystal injection port of the ultraviolet curing adhesive 15, the liquid crystal display element 20 is manufactured by sealing. Usually, spacer balls (not shown) are scattered between the thin glass 13 and the IC substrate 16, so that a gap between the thin glass 13 and the IC substrate 16 is formed by the spacer balls.
【０００７】[0007]
【発明の解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶表示素子の作製方法には以下の問題を生じていた。
この問題について、図１１を用いて説明する。図１１
は、保護領域が紫外線硬化型接着剤上に対応する位置に
配置された様子を示す図である。（ホログラムフィルタ
作製工程）において、トリミング位置は目検討で行われ
ていたので、ホログラムレンズ１０に隣接する保護領域
７ａの形状にバラツキを生じていた。このため、図１１
に示すように、（液晶表示素子作製工程）において、一
体化したホログラムフィルタ１９及び薄板ガラス１３と
ＩＣ基板１６とを貼り合わせる際、紫外線硬化型接着剤
１５と保護領域７ａとの位置あわせが正確に行うことが
できず、保護領域７ａが紫外線硬化型接着剤１５上に対
応する位置に配置されてしまうことがある。However, the conventional method for manufacturing a liquid crystal display element has the following problems.
This problem will be described with reference to FIG. FIG.
FIG. 4 is a view showing a state where a protection region is arranged at a position corresponding to an ultraviolet curable adhesive. In the (hologram filter manufacturing process), the trimming position was determined by eye examination, and thus the shape of the protection area 7a adjacent to the hologram lens 10 varied. Therefore, FIG.
As shown in (2), when the integrated hologram filter 19 and the thin glass plate 13 and the IC substrate 16 are bonded to each other in the (liquid crystal display element manufacturing process), the positioning of the ultraviolet curable adhesive 15 and the protection region 7a is accurately performed. And the protection region 7a may be disposed at a position corresponding to the ultraviolet-curable adhesive 15.
【０００８】このような状態で、ホログラムフィルタ１
９のガラス板６側から紫外線を照射すると、保護領域７
ａの蔭に隠れた紫外線硬化型接着剤１５部分には、紫外
線が照射されないため、紫外線硬化型接着剤１５が硬化
しない。この結果、薄板ガラス１９とＩＣ基板１６との
間から剥離が生じ、液晶表示素子２０の製造歩留まりを
低下させるといった問題を生じていた。In such a state, the hologram filter 1
9 is irradiated with ultraviolet light from the glass plate 6 side.
The ultraviolet-curable adhesive 15 hidden behind a is not irradiated with ultraviolet rays, so that the ultraviolet-curable adhesive 15 is not cured. As a result, peeling occurs between the thin glass 19 and the IC substrate 16, causing a problem that the production yield of the liquid crystal display element 20 is reduced.
【０００９】そこで、本発明は、かかる問題点を解消す
るためになされたもので、製造歩留まりの良好な液晶表
示素子の作製方法を提供することを目的とする。The present invention has been made in order to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device having a good production yield.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子の
作製方法は、マスタホログラムをマスクとして用いて、
透明な第１の基板上に形成されたホログラム感光材を露
光した後、現像を行って、ホログラムレンズとこの周囲
に沿い、かつこの端部から所定幅を有したトリミングマ
ークとを形成し、次に、前記トリミングマークの外側の
前記ホログラム感光材を除去して、ホログラムフィルタ
を作製し、更に、第２の基板上に紫外線硬化型接着剤を
形成した後、前記第１の基板側を前記第２の基板に対向
配置させ、かつ前記紫外線硬化型接着剤が前記トリミン
グマークの外側に配置されるようにして、前記ホログラ
ムフィルタを前記紫外線硬化型接着剤上に載置し、引き
続き、前記ホログラムフィルタの第１基板側から紫外線
を照射して、前記ホログラムフィルタと前記第２基板と
を貼り合わせることを特徴とする。According to a method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a master hologram is used as a mask.
After exposing the hologram photosensitive material formed on the transparent first substrate, development is performed to form a hologram lens and a trimming mark along the periphery thereof and having a predetermined width from this end, and Then, the hologram photosensitive material outside the trimming mark is removed to produce a hologram filter, and further, an ultraviolet curable adhesive is formed on a second substrate, and then the first substrate side is placed on the second substrate. The hologram filter is placed on the ultraviolet-curable adhesive such that the ultraviolet-curable adhesive is disposed outside the trimming mark and opposed to the second substrate. The hologram filter and the second substrate are bonded by irradiating ultraviolet rays from the first substrate side.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】本発明の実施形態の液晶表示素子
の作製方法について図１乃至図６を参照しながら説明す
る。図１は、本発明の実施形態のマスタホログラム準備
工程を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）
のＭＭ断面図である。図２は、本発明の実施形態の露光
工程を示す断面図である。図３は、本発明の実施形態の
ホログラムレンズ及びトリミングマーク形成工程を示す
図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ断面
図である。図４は、本発明の実施形態のホログラムフィ
ルタ作製工程を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）
は（Ａ）のＭＭ断面図である。図５は、本発明の実施形
態の一体化工程を示す断面図である。図６は、本発明の
実施形態の方法で作製された液晶表示素子を示す断面図
である。従来例と同一構成には同一符号を付し、その説
明を省略する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method for manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A and 1B are diagrams showing a master hologram preparation process according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a plan view, and FIG.
It is MM sectional drawing of. FIG. 2 is a cross-sectional view showing an exposure step according to the embodiment of the present invention. 3A and 3B are diagrams illustrating a hologram lens and a trimming mark forming process according to the embodiment of the present invention, wherein FIG. 3A is a plan view and FIG. 3B is a cross-sectional view of the MM in FIG. 4A and 4B are diagrams showing a hologram filter manufacturing process according to the embodiment of the present invention, wherein FIG. 4A is a plan view, and FIG.
FIG. 3A is a cross-sectional view of the MM of FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an integration step according to the embodiment of the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device manufactured by the method of the embodiment of the present invention. The same components as those of the conventional example are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【００１２】（マスタホログラム準備工程）図１に示す
ようなマスタホログラム１を用意する。マスタホログラ
ム１は、ガラス基板２と、このガラス基板２上にＣｒ膜
３が形成され、この略中央にＣｒ膜３を加工して作製さ
れたホログラムレンズパターン４と、この周囲に沿い、
かつこの端部から幅Ｌを有したトリミングパターン５と
が形成されている。このトリミングパターン５は、例え
ば１００μｍ幅のリニアグレーティングからなる。(Master Hologram Preparation Step) A master hologram 1 as shown in FIG. 1 is prepared. The master hologram 1 includes a glass substrate 2, a hologram lens pattern 4 formed by forming a Cr film 3 on the glass substrate 2, and processing the Cr film 3 at substantially the center thereof,
A trimming pattern 5 having a width L is formed from this end. The trimming pattern 5 is made of, for example, a linear grating having a width of 100 μm.
【００１３】（露光工程）この後、図２に示すように、
ガラス板６に塗布されたホログラム感光材７上に光学カ
ップリングオイル８を介してマスタホログラム１、台形
プリズム９を順次配置する。次に、台形プリズム９の傾
斜部側からＡｒレーザ光を入射させて、ホログラムレン
ズパターン４及びトリミングパターン５に応じた所定回
折角で回折される１次回折光とそのまま透過直進する０
次回折光により、ホログラム感光材７を露光する。(Exposure Step) Thereafter, as shown in FIG.
A master hologram 1 and a trapezoidal prism 9 are sequentially arranged on a hologram photosensitive material 7 applied to a glass plate 6 via an optical coupling oil 8. Next, an Ar laser beam is made incident from the inclined portion side of the trapezoidal prism 9, and the first-order diffracted light diffracted at a predetermined diffraction angle according to the hologram lens pattern 4 and the trimming pattern 5 passes straight through as it is.
The hologram photosensitive material 7 is exposed by the next diffraction light.
【００１４】（ホログラムレンズ及びトリミングマーク
形成工程）次に、図３に示すように、ホログラム感光材
７の現像を行った後、ホログラム感光材７中に残留する
色素を除去する紫外線処理及び熱処理を行なって、ホロ
グラムレンズ１０と、この周囲に沿い、かつこの端部か
ら幅Ｌを有したトリミングマーク１１を形成する。ホロ
グラムレンズ１０とトリミングマーク１１との中間部
は、スラント角の歪を防止する保護領域７ａとなる。(Hologram Lens and Trimming Mark Forming Step) Next, as shown in FIG. 3, after the hologram photosensitive material 7 is developed, ultraviolet treatment and heat treatment for removing the dye remaining in the hologram photosensitive material 7 are performed. Then, a hologram lens 10 and a trimming mark 11 having a width L along the periphery and from the end are formed. An intermediate portion between the hologram lens 10 and the trimming mark 11 serves as a protection area 7a for preventing a slant angle distortion.
【００１５】（ホログラムフィルタ作製工程）次に、図
４に示すように、従来例の（ホログラムフィルタ作製工
程）と同様にして、カッターナイフ等を用いて、トリミ
ングマーク１１より外側のホログラム感光材７をこの周
囲に沿ってトリミングを行って、ホログラムフィルタ１
２を作製する。このように、トリミングマーク１１が形
成されているので、精度良くトリミングを行うことがで
きる。(Hologram Filter Manufacturing Step) Next, as shown in FIG. 4, in the same manner as in the conventional example (hologram filter manufacturing step), using a cutter knife or the like, the hologram photosensitive material 7 outside the trimming mark 11 is used. Is trimmed along this periphery, and the hologram filter 1 is trimmed.
2 is produced. Since the trimming marks 11 are thus formed, trimming can be performed with high accuracy.
【００１６】（一体化工程）更に、図５に示すように、
従来例の（一体化工程）と同様にして、薄板ガラス１３
を熱硬化型接着剤１４を介してホログラムフィルタ１２
に接着して、一体化したホログラムフィルタ１２と薄板
ガラス１３とを得る。なお、従来例で説明したように、
熱硬化型接着剤１４は、トリミングマーク１１の周囲に
も形成され、ホログラムフィルタ１２と薄板ガラス１３
の接着強度を補強している。(Integration step) Further, as shown in FIG.
In the same manner as in the conventional example (integration step),
To the hologram filter 12 via a thermosetting adhesive 14.
To obtain an integrated hologram filter 12 and thin glass 13. In addition, as explained in the conventional example,
The thermosetting adhesive 14 is also formed around the trimming mark 11, and the hologram filter 12 and the thin glass 13
Reinforced adhesive strength.
【００１７】（液晶表示素子の作製工程）この後、図６
に示すように、従来例の（液晶表示素子の作製工程）と
同様にして、ＩＣ基板１６の外周部に沿って液晶注入口
を有したパターンの紫外線硬化型接着剤１５を形成した
後、薄板ガラス１３側をＩＣ基板１６に対向させ、かつ
紫外線硬化型接着剤１５がトリミングマーク１１の外側
に配置されるように位置決めして、一体化したホログラ
ムフィルタ１２と薄板ガラス１３を紫外線硬化型接着剤
１５を介してＩＣ基板１６上に載置し、引き続いて、ホ
ログラムフィルタ１２のガラス板６側から紫外線を照射
し、紫外線硬化型接着剤１５を硬化させて貼り合わせ
る。更に、紫外線硬化型接着剤１５の液晶注入口から液
晶を注入した後、封止して液晶表示素子１７を作製す
る。(Process of Manufacturing Liquid Crystal Display Element)
As shown in (1), a UV-curable adhesive 15 having a pattern having a liquid crystal injection port is formed along the outer peripheral portion of the IC substrate 16 in the same manner as in the conventional example (the manufacturing process of the liquid crystal display element). The glass 13 side is opposed to the IC substrate 16 and the ultraviolet curable adhesive 15 is positioned so as to be disposed outside the trimming mark 11 so that the integrated hologram filter 12 and the thin glass 13 are bonded together with the ultraviolet curable adhesive. Then, the hologram filter 12 is placed on the IC substrate 16 through the glass plate 6, and ultraviolet rays are irradiated from the glass plate 6 side of the hologram filter 12 to cure and bond the ultraviolet curable adhesive 15. Further, a liquid crystal is injected from a liquid crystal injection port of the ultraviolet-curable adhesive 15 and then sealed to produce a liquid crystal display element 17.
【００１８】以上のように、ホログラムフィルタ１２の
ホログラムレンズ１０及びトリミングマーク１１は、予
めホログラムレンズパターン４及びトリミングパターン
５が形成されたマスタホログラム１を用いて形成される
ので、精度良く形成することができる。このため、紫外
線硬化型接着剤１５とトリミングマーク１１との位置決
めが正確に行えるので、紫外線硬化型接着剤１５をトリ
ミングマーク１１の外側に配置して、紫外線硬化型接着
剤１５をホログラムフィルタ１２のガラス板６部分だけ
に接着させることができる。この結果、ホログラムフィ
ルタ１２とＩＣ基板１６とを十分な強度で貼り合わせる
ことができ、剥離のない液晶表示素子１７を作製するこ
とができ、この液晶表示素子１７の製造歩留まりを向上
させることができる。As described above, since the hologram lens 10 and the trimming mark 11 of the hologram filter 12 are formed using the master hologram 1 on which the hologram lens pattern 4 and the trimming pattern 5 have been formed in advance, they must be formed with high precision. Can be. For this reason, since the positioning of the ultraviolet curing adhesive 15 and the trimming mark 11 can be performed accurately, the ultraviolet curing adhesive 15 is disposed outside the trimming mark 11 and the ultraviolet curing adhesive 15 is It can be bonded only to the glass plate 6. As a result, the hologram filter 12 and the IC substrate 16 can be bonded together with sufficient strength, a liquid crystal display element 17 without peeling can be manufactured, and the production yield of the liquid crystal display element 17 can be improved. .
【００１９】[0019]
【発明の効果】本発明の液晶表示素子の作製方法によれ
ば、マスタホログラムをマスクとして用いて、透明な第
１の基板上に形成されたホログラム感光材を露光した
後、現像を行って、ホログラムレンズとこの周囲に沿
い、かつこの端部から所定幅を有したトリミングマーク
とを形成し、次に、前記トリミングマークの外側の前記
ホログラム感光材を除去して、ホログラムフィルタを作
製し、更に、第２の基板上に紫外線硬化型接着剤を形成
した後、前記第１の基板側を前記第２の基板に対向配置
させ、かつ前記紫外線硬化型接着剤が前記トリミングマ
ークの外側に配置されるようにして、前記ホログラムフ
ィルタを前記紫外線硬化型接着剤上に載置し、引き続
き、前記ホログラムフィルタの第１基板側から紫外線を
照射して、前記ホログラムフィルタと前記第２基板とを
貼り合わせるので、前記ホログラムフィルタと第２の基
板とを十分な強度で貼り合わせることができ、剥離のな
い液晶表示素子を作製することができ、この液晶表示素
子の製造歩留まりを向上させることができる。According to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a hologram photosensitive material formed on a transparent first substrate is exposed using a master hologram as a mask, and then developed. A hologram lens and a trimming mark along the periphery thereof and having a predetermined width from this end are formed, and then the hologram photosensitive material outside the trimming mark is removed to produce a hologram filter. Forming an ultraviolet-curable adhesive on a second substrate, disposing the first substrate side to face the second substrate, and disposing the ultraviolet-curable adhesive outside the trimming mark. Thus, the hologram filter is placed on the ultraviolet-curable adhesive, and then the hologram filter is irradiated with ultraviolet rays from the first substrate side of the hologram filter. Since the filter and the second substrate are attached to each other, the hologram filter and the second substrate can be attached with sufficient strength, and a liquid crystal display element without peeling can be manufactured. The manufacturing yield can be improved.
【図１】本発明の実施形態のマスタホログラム準備工程
を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＭ
Ｍ断面図である。FIG. 1 is a view showing a master hologram preparation step of an embodiment of the present invention, wherein (A) is a plan view and (B) is M in (A).
It is M sectional drawing.
【図２】本発明の実施形態の露光工程を示す断面図であ
る。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an exposure step according to the embodiment of the present invention.
【図３】本発明の実施形態のホログラムレンズ及びトリ
ミングマーク形成工程を示す図であり、（Ａ）は平面
図、（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ断面図である。3A and 3B are diagrams illustrating a hologram lens and a trimming mark forming step according to the embodiment of the present invention, wherein FIG. 3A is a plan view and FIG.
【図４】本発明の実施形態のホログラムフィルタ作製工
程を示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）の
ＭＭ断面図である。4A and 4B are diagrams illustrating a hologram filter manufacturing process according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 4A is a plan view and FIG. 4B is a cross-sectional view of the MM in FIG.
【図５】本発明の実施形態の一体化工程を示す断面図で
ある。FIG. 5 is a cross-sectional view showing an integration step according to the embodiment of the present invention.
【図６】本発明の実施形態の方法で作製された液晶表示
素子を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device manufactured by the method of the embodiment of the present invention.
【図７】従来の液晶表示素子の作製方法の露光工程を示
す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing an exposure step of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display element.
【図８】従来の液晶表示素子の作製方法のホログラムフ
ィルタ作製工程を示す図であり、（Ａ）は平面図、
（Ｂ）は（Ａ）のＭＭ断面図である。8A and 8B are diagrams illustrating a hologram filter manufacturing process of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display element, in which FIG.
(B) is an MM sectional view of (A).
【図９】従来の液晶表示素子の作製方法の一体化工程を
示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing an integration step of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display element.
【図１０】従来の方法で作製された液晶表示素子を示す
断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device manufactured by a conventional method.
【図１１】保護領域が紫外線硬化型接着剤上に対応する
位置に配置された様子を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a state in which a protection region is arranged at a position corresponding to an ultraviolet curable adhesive.
１…マスタホログラム、２…ガラス基板、３…Ｃｒ膜、
４…ホログラムレンズパターン、５…トリミングパター
ン、６…ガラス板（第１の基板）、７…ホログラム感光
材、７ａ…保護領域、８…光学カップリングオイル、９
…台形プリズム、１０…ホログラムレンズ、１１…トリ
ミングマーク、１２…ホログラムフィルタ、１３…薄板
ガラス、１４…熱硬化型接着剤、１５…紫外線硬化型接
着剤、１６…ＩＣ基板（第２の基板）、１７…液晶表示
素子1: Master hologram, 2: Glass substrate, 3: Cr film,
4 Hologram lens pattern, 5 Trimming pattern, 6 Glass plate (first substrate), 7 Hologram photosensitive material, 7a Protected area, 8 Optical coupling oil, 9
... trapezoidal prism, 10 ... hologram lens, 11 ... trimming mark, 12 ... hologram filter, 13 ... thin glass, 14 ... thermosetting adhesive, 15 ... ultraviolet curing adhesive, 16 ... IC substrate (second substrate) , 17 ... Liquid crystal display element
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Claims (1)
透明な第１の基板上に形成されたホログラム感光材を露
光した後、現像を行って、ホログラムレンズとこの周囲
に沿い、かつこの端部から所定幅を有したトリミングマ
ークとを形成し、次に、前記トリミングマークの外側の
前記ホログラム感光材を除去して、ホログラムフィルタ
を作製し、更に、第２の基板上に紫外線硬化型接着剤を
形成した後、前記第１の基板側を前記第２の基板に対向
配置させ、かつ前記紫外線硬化型接着剤が前記トリミン
グマークの外側に配置されるようにして、前記ホログラ
ムフィルタを前記紫外線硬化型接着剤上に載置し、引き
続き、前記ホログラムフィルタの第１基板側から紫外線
を照射して、前記ホログラムフィルタと前記第２基板と
を貼り合わせることを特徴とする液晶表示素子の作製方
法。1. Using a master hologram as a mask,
After exposing the hologram photosensitive material formed on the transparent first substrate, development is performed to form a hologram lens and a trimming mark along the periphery thereof and having a predetermined width from this end, and Then, the hologram photosensitive material outside the trimming mark is removed to produce a hologram filter, and further, an ultraviolet curable adhesive is formed on a second substrate, and then the first substrate side is placed on the second substrate. The hologram filter is placed on the ultraviolet-curable adhesive such that the ultraviolet-curable adhesive is disposed outside the trimming mark and opposed to the second substrate. Irradiating ultraviolet rays from the first substrate side to bond the hologram filter and the second substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33746499A JP2001154209A (en) | 1999-11-29 | 1999-11-29 | Manufacturing method for liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33746499A JP2001154209A (en) | 1999-11-29 | 1999-11-29 | Manufacturing method for liquid crystal display element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001154209A true JP2001154209A (en) | 2001-06-08 |
Family
ID=18308898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33746499A Pending JP2001154209A (en) | 1999-11-29 | 1999-11-29 | Manufacturing method for liquid crystal display element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001154209A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6715797B2 (en) * | 1998-02-05 | 2004-04-06 | Yoram Curiel | Methods of creating a tamper resistant informational article |
| JP2009192792A (en) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | Liquid crystal display device |
-
1999
- 1999-11-29 JP JP33746499A patent/JP2001154209A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6715797B2 (en) * | 1998-02-05 | 2004-04-06 | Yoram Curiel | Methods of creating a tamper resistant informational article |
| JP2009192792A (en) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Seiko Instruments Inc | Liquid crystal display device |
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