JP2001131174A - バソフェナントロリン化合物及びその製造方法 - Google Patents
バソフェナントロリン化合物及びその製造方法Info
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Abstract
クするキャリア輸送材料として好適な新規な有機材料
と、これを効率的に製造する方法を提供すること。 【解決手段】 下記一般式〔I〕又は〔II〕で表される
バソフェナントロリン化合物と、有機リチウムを用いた
求核置換反応による製造方法。 【化57】 (但し、前記一般式〔I〕において、R1 及びR2 は、
互いに同一の若しくは異なる基であって、直鎖、分岐又
は環状の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、或いは置
換又は未置換の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R
1 及びR2 の少なくとも一方の炭素数が2以上である。
また、前記一般式〔II〕において、Ar1及びAr
2 は、互いに同一の若しくは異なる置換又は未置換のア
リール基である。)
Description
(例えば、自発光の平面型ディスプレイであって、特
に、有機薄膜を電界発光層に用いる有機電界発光カラー
ディスプレイ等の表示素子又は発光性デバイスに好適な
有機電界発光素子)に用いるのに好適なバソフェナント
ロリン化合物及びその製造方法に関するものである。
として、人間と機械とのインターフェースの重要性が高
まってきている。人間がより快適に効率良く機械操作す
るためには、操作される機械からの情報を誤りなく、簡
潔に、瞬時に、充分な量で取り出す必要があり、そのた
めに、ディスプレイを初めとする様々な表示素子につい
て研究が行われている。
型化、薄型化に対する要求も日々、高まっているのが現
状である。
タ、ノート型ワードプロセッサなどの、表示素子一体型
であるラップトップ型情報処理機器の小型化には目を見
張る進歩があり、それに伴い、その表示素子である液晶
ディスプレイに関しての技術革新も素晴らしいものがあ
る。
インターフェースとして用いられており、ラップトップ
型情報処理機器はもちろんのこと、小型テレビや時計、
電卓を初めとして、我々の日常使用する製品に多く用い
られている。
駆動、低消費電力であるという特徴を生かし、小型から
大容量表示デバイスに至るまで、人間と機械のインター
フェースとして、表示素子の中心として研究されてき
た。
でないため、バックライトを必要とし、このバックライ
ト駆動に、液晶を駆動するよりも大きな電力を必要とす
るため、結果的に内蔵蓄電池等では使用時間が短くな
り、使用上の制限がある。
ため、大型ディスプレイ等の大型表示素子には適してい
ないことも問題である。
向状態による表示方法であるので、視野角の中において
も、角度によりコントラストが変化してしまうのも大き
な問題であると考えられる。
一つであるアクティブマトリクス方式は、動画を扱うに
十分な応答速度を示すが、TFT(薄膜トランジスタ)
駆動回路を用いるため、画素欠陥により画面サイズの大
型化が困難であり、コストダウンの点からみても不利で
ある。
である単純マトリクス方式は、低コストである上に画面
サイズの大型化が比較的容易であるが、動画を扱うに十
分な応答速度を有していないという問題がある。
マ表示素子、無機電界発光素子、有機電界発光素子等が
研究されている。
マ発光を表示に用いたもので、大型化、大容量化に適し
ているが、薄型化、コストの面での問題を抱えている。
また、駆動に高電圧の交流バイアスを必要とし、携帯用
デバイスには適していない。
イ等が商品化されたが、プラズマ表示素子と同様に、交
流バイアス駆動であり、駆動には数百V必要であり、実
用性に欠けている。
プレイ表示に必要なR(赤)、G(緑)、B(青)の三
原色の発光に成功はしているが、無機材料のために、分
子設計などによる発光波長等の制御は困難であり、フル
カラー化は困難であると思われる。
1960年代前半に、強く螢光を発生するアントラセン
単結晶へのキャリア注入による発光現象が発見されて以
来、長い期間、研究されてきたが、低輝度、単色で、し
かも単結晶であったため、有機材料へのキャリア注入と
いう基礎的研究として行われていた。
Tangらが低電圧駆動、高輝度発光が可能なアモルファス
発光層を有する積層構造の有機薄膜電界発光素子を発表
して以来、各方面で、R、G、Bの三原色の発光、安定
性、輝度上昇、積層構造、作製方法等の研究開発が盛ん
に行われている。
計等により様々な新規材料が発明され、直流低電圧駆
動、薄型、自発光性等の優れた特徴を有する、有機電界
発光表示素子のカラーディスプレイへの応用研究も盛ん
に行われ始めている。
称することがある。)は、1μm以下の膜厚であり、電
流を注入することにより電気エネルギーを光エネルギー
に変換して面状に発光するなど、自発光型の表示デバイ
スとして理想的な特徴を有している。
示す。この有機EL素子10は、透明基板(例えばガラ
ス基板)6上に、ITO(Indium tin oxide)透明電極
5、ホール輸送層4、発光層3、電子輸送層2、陰極
(例えばアルミニウム電極)1を例えば真空蒸着法で順
次成膜したものである。
の間に直流電圧7を選択的に印加することによって、透
明電極5から注入されたキャリアとしてのホールがホー
ル輸送層4を経て、また陰極1から注入された電子が電
子輸送層2を経て移動し、電子−ホールの再結合が生
じ、ここから所定波長の発光8が生じ、透明基板6の側
から観察できる。
タリン、フェナントレン、ピレン、クリセン、ペリレ
ン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン等
の発光物質を使用してよい。これは、電子輸送層2に含
有させることができる。
光層3を省略し、電子輸送層2に上記の如き発光物質を
含有させ、電子輸送層2とホール輸送層4との界面から
所定波長の発光18が生じるように構成した有機EL素
子20を示すものである。
す。即ち、各有機層(ホール輸送層4、発光層3又は電
子輸送層2)の積層体を陰極1と陽極5との間に配する
が、これらの電極をマトリクス状に交差させてストライ
プ状に設け、輝度信号回路34、シフトレジスタ内蔵の
制御回路35によって時系列に信号電圧を印加し、多数
の交差位置(画素)にてそれぞれ発光させるように構成
している。
レイとしては勿論、画像再生装置としても使用可能とな
る。なお、上記のストライプパターンをR、G、Bの各
色毎に配し、フルカラー又はマルチカラー用として構成
することができる。
素からなる表示デバイスにおいて、発光する有機薄膜層
2、3、4は一般に、透明電極5と金属電極1との間に
挟まれており、透明電極5側に発光する。
有機EL素子の構成材料として、有機発光材料、及び有
機発光材料に好適なキャリア輸送材料への関心が高まっ
ており、これらの有機材料の利点は分子設計によって光
学的および電気的性質をある程度コントロールできると
ころにある。そのため、所定の発光を有する有機発光材
料と、それに適したキャリア輸送材料とを組み合わせる
ことにより、効率良く発光を得ることができる。これに
よって、R、G、Bの三原色発光をすべて、それぞれの
発光材料で作成したフルカラー有機EL素子の実現が可
能となる。
(ホール)輸送層が発光素子を兼ねる素子構造を持つこ
とがある。これらの素子構造では、電子を効率良く輸送
し、かつホールをブロックするキャリア輸送層が必要で
ある。
機材料と、これを効率的に製造する方法は、未だ見出さ
れてはいない。
輸送し、かつホールをブロックするキャリア輸送材料と
して好適な新規な有機材料と、これを効率的に製造する
方法を提供することにある。
般式〔I〕又は〔II〕で表されるバソフェナントロリン
化合物に係るものである。
互いに同一の若しくは異なる基であって、直鎖、分岐又
は環状の飽和又は不飽和の炭化水素基、或いは置換又は
未置換の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R1 及び
R2 の少なくとも一方の炭素数が2以上である。)
は、互いに同一の若しくは異なる置換又は未置換のアリ
ール基である。)
その分子内に導入される置換基に依存して例えばキャリ
ア輸送性を制御できることから、様々な有機電界発光素
子のキャリア輸送材料として利用可能である。さらに、
これらの材料は、高いガラス転移点及び融点を有し、電
気的に、熱的又は化学的に安定である上に、昇華性であ
り、真空蒸着プロセスによって、均一なアモルファス膜
を容易に形成しうる利点がある。
いて、R1 及びR2 、Ar1 及びAr2 は同一であるの
が好ましい。なお、ここで、「アリール基」とは、例え
ばフェニル基、ナフチル基、アントリル基などの炭素環
式芳香族基、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル
基などの複素環式芳香族基を意味する。
〔V〕で表されるリチウム化合物と、下記一般式〔IV〕
で表されるバソフェナントロリンとを求核置換反応させ
ることによって、前記一般式〔I〕又は〔II〕で表され
るバソフェナントロリン化合物を得る、バソフェナント
ロリン化合物の製造方法も提供するものである。 一般式〔III 〕: R3 −Li 又は R4 −Li (但し、前記一般式〔III 〕において、R3 及びR
4 は、互いに同一の若しくは異なる基であって、直鎖、
分岐又は環状の飽和又は不飽和の炭化水素基、或いは置
換又は未置換の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R
3 及びR4 の少なくとも一方の炭素数が2以上であ
る。) 一般式〔V〕: Ar3 −Li 又は Ar4 −Li (但し、前記一般式〔V〕において、Ar3 及びAr4
は、互いに同一の若しくは異なる置換又は未置換のアリ
ール基である。)
ェナントロリン化合物を効率的に製造することができ
る。この場合、求核置換反応において、溶液中で前記リ
チウム化合物によりカルボアニオンを発生させ、このカ
ルボアニオンと前記バソフェナントロリンとを反応させ
るのがよい。
ち、一般式〔I〕で表される化合物のR1 及びR2 にお
いて、分岐又は環状の飽和又は不飽和の炭化水素基の具
体例としては、例えばエチル基、ブチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチ
ル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、シクロ
ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルブチル基、
3,3−ジメチルブチル基、シクロヘキシル基、n−ヘ
プチル基、シクロヘキシルメチル基、n−オクチル基、
tert−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノ
ニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−テトラデ
シル基、n−ヘキサデシル基などを挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。
和又は不飽和の炭化水素基の具体例として、例えばベン
ジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、α,α
−ジメチルベンジル基、1−ナフチルメチル基、2−ナ
フチルメチル基、フルフリル基、2−メチルベンジル
基、3−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、4
−エチルベンジル基、4−イソプロピルベンジル基、4
−tert−ブチルベンジル基、4−n−ヘキシルベン
ジル基、4−ノニルベンジル基、3,4−ジメチルベン
ジル基などの飽和又は不飽和の炭化水素基を挙げること
かできるが、これらに限定されるものではない。
r1 及びAr2 において、置換又は未置換のアリール基
の具体例として、例えばフェニル基、1−ナフチル基、
2−アントリル基、9−アントリル基、2−フルオレニ
ル基、4−キノリル基、4−ピリジル基、3−ピリジニ
ル基、2−ピリジニル基、3−フリル基、2−フリル
基、3−チエニル基、2−オキサゾリル基、2−チアゾ
リル基、2−ベンゾオキサゾル基、2−ベンゾチアゾリ
ル基、2−ベンゾイミダゾリル基、4−メチルフェニル
基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、
2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニ
ル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチル
フェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジ
メチルフェニル基、2,3,4−トリメチルフェニル
基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−
トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニ
ル基、4−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、
2−エチルフェニル基、2,3−ジエチルフェニル基、
2,4−ジエチルフェニル基、2,5−ジエチルフェニ
ル基、2,6−ジエチルフェニル基、3,4−ジエチル
フェニル基、3,5−ジエチルフェニル基、2,3,4
−トリエチルフェニル基、2,3,5−トリエチルフェ
ニル基、2,3,6−トリエチルフェニル基、3,4,
5−トリエチルフェニル基、4−n−プロピルフェニル
基、4−イソプロピルフェニル基、2−イソプロピルフ
ェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチル
フェニル基、4−sec−ブチルフェニル基、4−te
rt−ブチルフェニル基、3−tert−ブチルフェニ
ル基、2−tert−ブチルフェニル基などを挙げるこ
とができるが、これらに限定されるものではない。
ては、例えば以下の化合物(例示化合物1〜178)を
挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるも
のではない(但し、Meはメチル基、Etはエチル基、
Prはプロピル基、Buはブチル基を表す。)。
物を有機EL素子に適用した好ましい実施の形態を説明
する。
1の実施の形態による青色発光性の有機EL素子の要部
を示す概略断面図である。
O(Indium Tin Oxide)やZnをドープしたインジウム
酸化物等からなる透明電極5をスパッタリング又は真空
蒸着等の方法により形成し、その上に順次、ホール輸送
層4a、ホール輸送性発光層4b、ホールブロック性の
ある上記一般式のバソフェナントロリン化合物(誘導
体)含有層33、電子輸送層2、カソード電極1を真空
蒸着法により積層し、アモルファス有機薄膜からなる有
機電界発光素子(有機EL素子)21を作製したもので
ある。
が発光層としての性能を兼ね備えた構造として構成さ
れ、その基本構造は後述する他の実施の形態でも同様で
ある。
は、上記のバソフェナントロリン誘導体含有層33がホ
ールブロック層としてホール輸送層4と電子輸送層2と
の間に挿入されて積層されているので、ホール輸送層4
中での電子−ホールの再結合を促進させ、ホール輸送層
4での発光が得られ、並びに/或いは、バソフェナント
ロリン誘導体含有層33からの発光も得られることであ
る。
積層構造をバンドモデルで模式的に示したものである。
ミニウム−リチウム)からなるカソード1及びITO透
明電極5の層に示した太線(L1 、L2 )は、それぞれ
のメタルの凡その仕事関数であり、これらの両電極間の
各層においては上部の太線l1 、l2 、l3 、l4 及び
数値はそれぞれの最低非占有分子軌道(LUMO)のレ
ベルを示し、下方の太線l5 、l6 、l7 、l8 及び数
値はそれぞれの最高占有分子軌道(HOMO)のレベル
を示している。但し、図2中のエネルギーレベル値は一
例であって、材質によって種々に変化するものである。
ように、アノードとしての透明電極5から注入されたホ
ールhがホール輸送層4を経て移動し、一方、カソード
の金属電極1から注入された電子eが電子輸送層2を経
て移動し、この電子−ホールがホール輸送性発光層4に
おいて再結合して発光を生じる。
る電子eは、エネルギーレベルの低い方へ移動する性質
があるため、金属電極1、電子輸送層2、ホールブロッ
ク層33、ホール輸送性発光層4b、ホール輸送層4a
の順に各層の最低非占有分子軌道(LUMO)レベルl
1 〜l4 を経由してホール輸送性発光層4b、4aに到
達することができる。
から注入されるホールhは、エネルギーレベルの高い方
へ移動する性質があるため、ホール輸送層4a、ホール
輸送性発光層4b、ホールブロック層33の順に各層の
最高占有分子軌道(HOMO)レベルl5 〜l7 を経由
して電子輸送層2へ移動することができる。
層33の最高占有分子軌道(HOMO)レベルl7 より
も電子輸送層2の最高占有分子軌道(HOMO)レベル
l8の方がエネルギー的に低いため、注入されたホール
hはホールブロック層33から電子輸送層2へ移動し難
くなり、ホールブロック層33に充満するようになる。
たホールhがホール輸送層4での電子−ホールの再結合
を促進させ、ホール輸送層4を構成するホール輸送性発
光層4a、4bの発光材料を発光させることになる。
ることにより、ホール輸送層4において電子−ホールの
再結合を効率よく生じるようにホールブロック層33に
おいてホールhの輸送を効果的に制御している。そし
て、これにより発光するホール輸送性発光層4a、4b
のうち、主としてホールブロック層33に隣接するホー
ル輸送性発光層4bによる発光にホール輸送性発光層4
aの発光も加わり、特定波長(青色)の光を放出する。
アノード電極5からのホールの注入とにより、電子輸送
層2及びホール輸送層4はそれぞれの層において電子−
ホールの再結合が生じる。従って、上記の如ホールブロ
ック層33が存在しない場合には、電子輸送層2とホー
ル輸送層4との界面において電子−ホールの再結合が生
じ、長波長の発光しか得られない。しかし、本実施例の
如くホールブロック層33を設けることにより、発光性
物質が含有されているホール輸送層4を発光領域として
青色発光を促進させることが可能になる。
ールhの輸送を制御するためのものであり、このために
は、ホールブロック層33の最高占有分子軌道(HOM
O)が、ホール輸送性発光層4b及び電子輸送層2の最
高占有分子軌道(HOMO)レベルのエネルギー的に低
い方のレベルの最高占有分子軌道(HOMO)レベル以
下にあり、かつ、ホールブロック層33の最低非占有分
子軌道(LUMO)が、ホール輸送性発光層4b及び電
子輸送層2の最低非占有分子軌道(LUMO)レベル
の、エネルギー的に低い方の最低非占有分子軌道(LU
MO)レベル以上であり、エネルギー的に高い方の最低
非占有分子軌道(LUMO)レベル以下であればよく、
上記の構成に限定されるものではない。
記範囲に無く、バソフェナントロリン化合物含有層それ
自身が発光することを妨げるものではない。また、ホー
ルブロック層が複数層からなる積層構造であってもよ
い。
ソフェナントロリン誘導体及び/又はその他の材質で形
成できると共に、その厚みもその機能を保持することが
できる範囲で変化させてよい。その厚みは1Å〜100
0Å(0.1nm〜100nm)とするのがよいが、厚
みがあまり薄いと、ホールブロック能が不完全で再結合
領域がホール輸送層及び電子輸送層にまたがり易く、ま
たあまり厚いと、膜抵抗の増加から発光しないことがあ
る。
真空蒸着装置11を用いて作製される。この装置の内部
には、アーム12の下に固定された一対の支持手段13
が設けられ、この双方の固定手段13、13の間には、
透明ガラス基板6を下向きにし、マスク22をセットで
きるステージ機構(図示省略)が設けられている。そし
て、ガラス基板6及びマスク22の下方には、支軸14
aに支持されたシャッター14が配置され、その下方に
所定個数の各種蒸着源28を配置する。各蒸着源は、電
源29による抵抗加熱方式で加熱される。この加熱に
は、必要に応じてEB(電子線)加熱方式等も使用され
る。
であり、シャッター14は蒸着材料用である。そして、
シャッター14は支軸14aを中心に回動し、蒸着材料
の昇華温度に合わせて、材料の蒸気流を遮断するための
ものである。
た有機EL素子21の具体例を示す平面図である。即
ち、サイズLが30mm×30mmのガラス基板6上
に、サイズが2mm×2mmのITO透明電極5を上記
した真空蒸着装置により約100nmの厚さで蒸着後
に、全面にSiO2 30を蒸着し、これを所定の画素パ
ターンにエッチングして多数の開口31を形成し、ここ
に透明電極5をそれぞれ露出させる。従って、SiO2
によって2mm×2mmの発光領域(画素)PXに対し
蒸着マスク22を用いて各有機層4、33、2及び金属
電極1を順次形成する。
た図4のような多数の画素を有するもの以外に、サイズ
の大きい画素を単独に形成することもできる。
の再結合の効率を改善するための有機層33を積層する
ことによって、安定した、高輝度で低電圧駆動の、ホー
ル輸送性発光層4を有する有機EL素子を形成すること
ができる。特に、詳しくは後述するように、青色発光に
関しては直流駆動で10000cd/m2 以上、1/100
デューティ比でのパルス駆動でも、直流換算でピーク輝
度55000cd/m2 以上の輝度を得ることが可能とな
る。
輸送層、有機ホールブロック層、有機電子輸送層及び金
属電極は、それぞれが複数層からなる積層構造であって
もよい。
は、真空蒸着以外にも、昇華又は気化を伴う他の成膜方
法、或いはスピンコートやキャスト等の方法で形成して
もよい。
性発光層は、この素子の発光スペクトルの制御のために
微量分子の共蒸着を行ってもよく、例えば、ペリレン誘
導体、クマリン誘導体等の有機物質を微量含む有機薄膜
であってもよい。
料としては、ベンジジン又はその誘導体、スチリルアミ
ン又はその誘導体、トリフェニルメタン又はその誘導体
をはじめ、ポルフィリン又はその誘導体、トリアゾール
又はその誘導体、イミダゾール又はその誘導体、オキサ
ジアゾール又はその誘導体、ポリアリールアルカン又は
その誘導体、フェニレンジアミン又はその誘導体、アリ
ールアミン又はその誘導体、オキサゾール又はその誘導
体、アントラセン又はその誘導体、フルオレノン又はそ
の誘導体、ヒドラゾン又はその誘導体、スチルベン又は
その誘導体、またはポリシラン系化合物、ビニルカルバ
ゾール系化合物、チオフェン系化合物、アニリン系化合
物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマー、ポリマ
ー等が挙げられる。
ン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、
金属ナフタロシアニン、4,4’,4”−トリメチルト
リフェニルアミン、4,4’,4”−トリス(3−メチ
ルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン、N,
N,N’,N’−テトラキス(p−トリル)p−フェニ
レンジアミン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−
4,4’−ジアミノビフェニル、N−フェニルカルバゾ
ール、4−ジ−p−トリルアミノスチルベン、ポリ(パ
ラフェニレンビニレン)、ポリ(チオフェンビニレ
ン)、ポリ(2,2’−チエニルピロール)等が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。
料としては、キノリン又はその誘導体、ペリレン又はそ
の誘導体、ビススチリル又はその誘導体、ピラジン又は
その誘導体等が挙げられる。
ミニウム、アントラセン、ナフタリン、フェナントレ
ン、ピレン、クリセン、ペリレン、ブタジエン、クマリ
ン、アクリジン、スチルベン、又はこれらの誘導体等が
挙げられる。
カソード電極等の使用材料にも制限はない。
子を注入するために、電極材料の真空準位からの仕事関
数の小さい金属を用いるのが好ましく、アルミニウム−
リチウム合金以外にも、例えば、アルミニウム、インジ
ウム、マグネシウム、銀、カルシウム、バリウム、リチ
ウム等の低仕事関数金属を単体で、または他の金属との
合金として安定性を高めて使用してもよい。
取り出すため、後述する実施例はアノード電極には透明
電極であるITOを用いたが、効率良くホールを注入す
るために、アノード電極材料の真空準位からの仕事関数
が大きいもの、例えば金、二酸化スズ−アンチモン混合
物、酸化亜鉛−アルミニウム混合物の電極を用いてもよ
い。
ず、不透明な材質、例えばシリコン基板、Cr基板等を
用いてもよいし、ガラス上に金属を蒸着等によって形成
した基板を用いてもよい。基板に不透明な材質を用いた
場合には、発光を外部に取り出すために、有機ELデバ
イスの上面(カソード電極側)が透明若しくは半透明な
材質で形成されていることが好ましく、これらの材料に
は例えばITO等を使用することができる。
勿論、発光材料を選択することによって、R、G、Bの
三色を発光するフルカラー用、又はマルチカラー用の有
機電界発光素子を作製することができる。その他、本発
明はディスプレイ用としてだけでなく、光源用としても
使用可能な有機電界発光素子に適用できると共に、他の
光学的用途にも適用することができる。
性を高めるためにゲルマニウム酸化物等で封止を行って
大気中の酸素等の影響を排してもよく、また真空に引い
た状態で素子を駆動してもよい。
2の実施の形態による有機EL素子の要部を示す概略断
面図である。
は、図1の素子と比べて、ITO透明電極5上に、ホー
ル輸送性発光層4bを形成し、ホール輸送性発光層を単
層に形成していることが異なっている。
3の実施の形態による有機電界発光素子の要部を示す概
略断面図である。
は、図1の素子と比べて、ITO透明電極5上に、ホー
ル輸送層(ホール輸送性発光層を兼ねる)4aを形成
し、上記した第2の実施の形態と同様にホール輸送性発
光層を単層に形成している。
明する。
リンの合成>
4mmol)のn−ヘキサン溶液(40ml)に、n−
ブチルリチウム(1.6M n−ヘキサン溶液、17.
0ml、26.8mmol)を室温下、徐々に滴下し
た。滴下後、反応溶液を更に室温下、16時間攪拌した
後、生成物をろ別し、白色固体をn−ヘキサン(40m
l×3)で洗浄した。得られた白色固体の無水ジエチル
エーテル/トルエン(3/1)溶液(20ml)に、バ
ソフェナントロリン(2.03g、6.11mmol)
のトルエン溶液(50ml)を室温下、徐々に滴下した
後、室温下、16時間攪拌した。
加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで3回抽
出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混合し
た。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理品)6
0gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナトリウ
ム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=4/1→2/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(1.01
g、収率49.5%)を淡黄色結晶として得た。
媒:クロロホルム)及びFAB−MS測定により行っ
た。1 H−NMR:2.70(m,6H,CH3-Ar-)、7.25-7.75(s,18H,a
romatic) 、7.80(s,2H,aromatic) 、7.90(s,2H,aromati
c) 。 MS:m/s(relative intensity) 512 (M+ ,100) 。
(THF)溶液の可視吸収極大波長は297nm、蛍光
波長は390nmであった。
ントロリンの合成>
96.3mmol)のn−ヘキサン/無水ジエチルエー
テル(10/1)溶液(110ml)に、n−ブチルリ
チウム(1.6M n−ヘキサン溶液、60.2ml、
96.3mmol)を室温下、徐々に滴下した。滴下
後、2時間加熱還流し、反応溶液を更に室温下、16時
間攪拌した後、生成物をろ別し、白色固体をn−ヘキサ
ン(50ml×3)で洗浄した。得られた白色固体の無
水ジエチルエーテル溶液(40ml)に、バソフェナン
トロリン(5.09g、15.3mmol)のトルエン
溶液(80ml)を室温下、徐々に滴下した。滴下後、
2時間加熱還流し、反応溶液を室温下、16時間攪拌し
た。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(2.00
g、収率39.4%)を淡黄色結晶として得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:2.25(m,12H,CH3-Ar-) 、7.05-7.25(s,6H,
aromatic)、7.35-7.70(s,12H,aromatic) 、7.95(s,2H,a
romatic) 。 MS:m/s(relative intensity) 540 (M+ ,100) 。
極大波長は286nm、蛍光波長は380nmであっ
た。
4.4mmol)のn−ヘキサン/無水ジエチルエーテ
ル(1/1)溶液(60ml)に、n−ブチルリチウム
(1.6M n−ヘキサン溶液、15.3ml、24.
4mmol)を0℃で徐々に滴下した。滴下後、室温
下、16時間攪拌した後、生成物をろ別し、残渣をn−
ヘキサン(40ml×3)で洗浄した。得られた固体の
無水ジエチルエーテル溶液(40ml)に、バソフェナ
ントロリン(2.03g、6.11mmol)のトルエ
ン溶液(80ml)を室温下、徐々に滴下した。滴下
後、反応溶液を室温下、16時間攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(1.38
g、収率68.2%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:7.30-8.00(s,24H,aromatic) 、8.32(s,2
H,aromatic) 、8.68(s,2H,aromatic) 。 MS:m/s(relative intensity) 584 (M+ ,100) 。
成>
l)のTHF溶液(30ml)に、リチウムジイソプロ
ピルアミン(LDA)(1.89g、17.4mmo
l)を加え、室温下、16時間攪拌した。その後、TH
Fとジイソプロピルアミンを減圧留去した。得られた黄
色固体の無水ジエチルエーテル溶液(20ml)に、バ
ソフェナントロリン(2.03g、6.11mmol)
のトルエン溶液(60ml)を室温下、徐々に滴下し
た。滴下後、2時間加熱還流し、反応溶液を室温下、1
6時間攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(1.38
g、収率68.2%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:4.51(m,2H,Ar-CH2-Ar)、7.30-7.78(s,28
H,aromatic) 、7.81(s,2H,aromatic) 。 MS:m/s(relative intensity) 660 (M+ ,100) 。
ol)にn−ブチルリチウム(1.6M n−ヘキサン
溶液、4.45ml、7.13mmol)を室温下、徐
々に滴下した。滴下後、−22℃で、Me−THF
(0.627g、7.47mmol)を20分かけて加
え、その後THF(1.06g、14.7mmol)を
30分かけて加えた後、6〜10℃で16時間攪拌し
た。得られた反応溶液と、バソフェナントロリン(2.
03g、6.11mmol)のトルエン溶液(40m
l)を室温下、徐々に滴下した。滴下後、反応溶液を室
温下、16時間攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(0.88
g、収率43.3%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:4.68(m,4H,-CH2-Ar)、7.28-7.78(s,22H,a
romatic) 、7.81(s,2H,aromatic) 。 MS:m/s(relative intensity) 512 (M+ ,100) 。
合成>
5.0mmol)にn−ヘキサン/無水ジエチルエーテ
ル(10/1)溶液(50ml)に、n−ブチルリチウ
ム(1.6M n−ヘキサン溶液、36.3ml、5
8.0mmol)を室温下、徐々に滴下した。滴下後、
反応溶液を更に室温下、16時間攪拌した後、生成物を
ろ別し、白色固体をn−ヘキサン(50ml×3)で洗
浄した。得られた白色固体の無水ジエチルエーテル溶液
(10ml)に、バソフェナントロリン(2.03g、
6.11mmol)のトルエン溶液(40ml)を室温
下、徐々に滴下した。滴下後、反応溶液を室温下、16
時間攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(0.98
g、収率48.3%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:0.80-2.45(m,20H,-CH2-CH2-CH2-CH2-CH
2-)、3.20(m,2H,-CH-Ar) 、7.25-7.75(s,12H,aromatic)
、7.81(s,2H,aromatic) 。 MS:m/s(relative intensity) 496 (M+ ,100) 。
>
7.2mmol)にn−ヘキサン/無水ジエチルエーテ
ル(10/1)溶液(110ml)に、n−ブチルリチ
ウム(1.6M n−ヘキサン溶液、17.0ml、2
7.2mmol)を室温下、徐々に滴下した。滴下後、
反応溶液を室温下、16時間攪拌した後、生成物をろ別
し、白色固体をn−ヘキサン(50ml×3)で洗浄し
た。得られた白色固体の無水ジエチルエーテル溶液(2
0ml)に、バソフェナントロリン(2.03g、6.
11mmol)のトルエン溶液(40ml)を室温下、
徐々に滴下した。滴下後、反応溶液を室温下、16時間
攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(0.76
g、収率37.4%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:7.25-7.78(s,26H,aromatic) 、7.81(s,2
H,aromatic) 、8.32(s,4H,aromatic) 。 MS:m/s(relative intensity) 636 (M+ ,100) 。
ロリンの合成>
24.9mmol)にn−ブチルリチウム(1.6M
n−ヘキサン溶液、4.45ml、7.13mmol)
を室温下、徐々に滴下した。滴下後、−22℃で、Me
−THF(0.627g、7.47mmol)を20分
かけて加え、その後THF(1.06g、14.7mm
ol)を30分かけて加えた後、6〜10℃で16時間
攪拌した。得られた反応溶液と、バソフェナントロリン
(2.03g、6.11mmol)のトルエン溶液(4
0ml)を室温下、徐々に滴下した。滴下後、反応溶液
を室温下、16時間攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(0.72
g、収率35.4%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:2.35(m,6H,CH3-Ar-)、4.65(m,4H,CH2-Ar
-)、7.25-7.78(s,20H,aromatic) 、7.81(s,2H,aromati
c) 。 MS:m/s(relative intensity) 540 (M+ ,100) 。
ロリンの合成>
34g、24.4mmol)にn−ヘキサン/無水ジエ
チルエーテル(1/1)溶液(60ml)に、n−ブチ
ルリチウム(1.6M n−ヘキサン溶液、15.3m
l、24.4mmol)を0℃で徐々に滴下した。滴下
後、室温下、16時間攪拌した後、生成物をろ別し、残
渣をn−ヘキサン(40ml×3)で洗浄した。得られ
た固体の無水ジエチルエーテル溶液(40ml)に、バ
ソフェナントロリン(2.03g、6.11mmol)
のトルエン溶液(80ml)を室温下、徐々に滴下し
た。滴下後、反応溶液を室温下、16時間攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(1.30
g、収率64.0%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:2.60(m,6H,CH3-Ar-)、7.30-7.81(s,22H,a
romatic) 、7.81(s,2H,aromatic) 、8.25(s,2H,aromati
c) 。 MS:m/s(relative intensity) 612 (M+ ,100) 。
ロリンの合成>
34g、24.4mmol)のn−ヘキサン/無水ジエ
チルエーテル(1/1)溶液(60ml)に、n−ブチ
ルリチウム(1.6M n−ヘキサン溶液、15.3m
l、24.4mmol)を0℃で徐々に滴下した。滴下
後、室温下、16時間攪拌した後、生成物をろ別し、残
渣をn−ヘキサン(40ml×3)で洗浄した。得られ
た固体の無水ジエチルエーテル溶液(40ml)に、バ
ソフェナントロリン(2.03g、6.11mmol)
のトルエン溶液(80ml)を室温下、徐々に滴下し
た。滴下後、反応溶液を室温下、16時間攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(1.20
g、収率59.1%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:2.80(m,6H,CH3-Ar-)、7.25-7.78(s,24H,a
romatic) 、7.81(s,2H,aromatic) 。 MS:m/s(relative intensity) 612 (M+ ,100) 。
ロリンの合成>
1g、24.9mmol)にn−ブチルリチウム(1.
6M n−ヘキサン溶液、4.45ml、7.13mm
ol)を室温下、徐々に滴下した。滴下後、−22℃
で、Me−THF(0.627g、7.47mmol)
を20分かけて加え、その後THF(1.06g、1
4.7mmol)を30分かけて加えた後、6〜10℃
で16時間攪拌した。得られた反応溶液と、バソフェナ
ントロリン(2.03g、6.11mmol)のトルエ
ン溶液(40ml)を室温下、徐々に滴下した。滴下
後、反応溶液を室温下、16時間攪拌した。
徐々に加え、有機層を分離した。水層をクロロホルムで
3回抽出し、得られた有機層を先に分離した有機層と混
合した。混合した有機層に二酸化マンガン(化学処理
品)60gを加え、30分攪拌した後、さらに、硫酸ナ
トリウム100gを加え、30分攪拌した。
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、展開溶媒:n
−ヘキサン/クロロホルム=8/1→4/1)により精
製し、その後、再結晶(再結晶溶媒:クロロホルム/n
−ヘキサン=2/1)により、目的化合物(0.83
g、収率40.9%)を得た。
AB−MS測定により行った。1 H−NMR:2.40(m,6H,CH3-Ar-)、4.64(m,2H,-CH-Ar)
、7.25-7.78(s,22H,aromatic) 、7.81(s,2H,aromatic)
。 MS:m/s(relative intensity) 540 (M+ ,100) 。
物は、その分子内に導入される置換基に依存して、例え
ばキャリア輸送性を制御できることから、様々な有機電
界発光素子のキャリア輸送材料として利用可能である。
さらに、これらの材料は高いガラス転移点及び融点を有
し、電気的、熱的又は化学的に安定である上に、昇華性
であり、真空蒸着プロセスによって、均一なアモルファ
ス膜を容易に形成しうる利点がある。また、本発明のバ
ソフェナントロリン化合物は、有機リチウムを用いた求
核置換反応を用いて、効率的に製造することができる。
有機EL素子の要部の概略断面図である。
ンドモデル図である。
置の概略断面図である。
他の有機EL素子の要部の概略断面図である。
更に他の有機EL素子の要部の概略断面図である。
ある。
である。
ある。
ル輸送層、4a、4b…ホール輸送性発光層、5…IT
O透明電極(アノード)、6…ガラス基板、10、2
1、22、23…有機EL素子、33…ホールブロック
層、e…電子、h…ホール
Claims (6)
- 【請求項1】 下記一般式〔I〕で表されるバソフェナ
ントロリン化合物。 【化1】 (但し、前記一般式〔I〕において、R1 及びR2 は、
互いに同一の若しくは異なる基であって、直鎖、分岐又
は環状の飽和又は不飽和の炭化水素基、或いは置換又は
未置換の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R1 及び
R2 の少なくとも一方の炭素数が2以上である。) - 【請求項2】 下記一般式〔II〕で表されるバソフェナ
ントロリン化合物。 【化2】 (但し、前記一般式〔II〕において、Ar1 及びAr2
は、互いに同一の若しくは異なる置換又は未置換のアリ
ール基である。) - 【請求項3】 有機電解発光素子に用いる有機材料、例
えばキャリア輸送材料として利用可能な、請求項1又は
2に記載したバソフェナントロリン化合物。 - 【請求項4】 下記一般式〔III 〕で表されるリチウム
化合物と、下記一般式〔IV〕で表されるバソフェナント
ロリンとを求核置換反応させることによって、下記一般
式〔I〕で表されるバソフェナントロリン化合物を得
る、バソフェナントロリン化合物の製造方法。 一般式〔III 〕: R3 −Li 又は R4 −Li (但し、前記一般式〔III 〕において、R3 及びR
4 は、互いに同一の若しくは異なる基であって、直鎖、
分岐又は環状の飽和又は不飽和の炭化水素基、或いは置
換又は未置換の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R
3 及びR4 の少なくとも一方の炭素数が2以上であ
る。) 【化3】 【化4】 (但し、前記一般式〔I〕において、R1 及びR2 は、
互いに同一の若しくは異なる基であって、直鎖、分岐又
は環状の飽和又は不飽和の炭化水素基、或いは置換又は
未置換の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R1 及び
R2 の少なくとも一方の炭素数が2以上である。) - 【請求項5】 下記一般式〔V〕で表されるリチウム化
合物と、下記一般式〔IV〕で表されるバソフェナントロ
リンとを求核置換反応させることによって、下記一般式
〔II〕で表されるバソフェナントロリン化合物を得る、
バソフェナントロリン化合物の製造方法。 一般式〔V〕: Ar3 −Li 又は Ar4 −Li (但し、前記一般式〔V〕において、Ar3 及びAr4
は、互いに同一の若しくは異なる置換又は未置換のアリ
ール基である。) 【化5】 【化6】 (但し、前記一般式〔II〕において、Ar1 及びAr2
は、互いに同一の若しくは異なる置換又は未置換のアリ
ール基である。) - 【請求項6】 前記求核置換反応において、溶液中で前
記リチウム化合物によりカルボアニオンを発生させ、こ
のカルボアニオンと前記バソフェナントロリンとを反応
させる、請求項4又は5に記載した、バソフェナントロ
リン化合物の製造方法。
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