JP2001117010A - 光学装置 - Google Patents
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Abstract
ニング像を観測する際、空間変調パターンの相対的な移
動に伴う機械的な振動等の影響を考慮する必要がなく高
速で効率的な観察を行うことができる。 【解決手段】 時間的に発光強度が変化する光源装置1
と、空間変調パターン2と、空間変調パターン2を試料
4に投影する投影光学系3と、空間変調パターン2によ
り変調を受けた試料4の像を変調像として結像するため
の結像光学系5と、試料4に対する空間変調パターン2
の相対的な空間位相を制御するための位相制御手段8
と、空間位相がそれぞれ異なる複数の変調像を、光源装
置1の発光強度の時間的変化に同期して撮像する撮像手
段6と、撮像手段6により撮像された複数の変調像から
試料4の像を形成する画像処理手段7とを有する。
Description
特に、空間変調パターンを投影して試料のセクショニン
グ像を観測する光学装置に関するものである。
法として、共焦点観察法が知られている。図7は、共焦
点観察法を行うための光学系を示している。共焦点観察
法では、照明光学系33における試料4の観察面38と
共役な位置にピンホール32を配置し、結像光学系35
の同じく観察面38と共役な位置にもピンホール36を
配置する。観察面38から外れた位置からの光は、結像
光学系35のピンホール36を通過しないため、ほとん
ど検出されない。したがって、観察面38のみの像を選
択的に観察することができる。
及び結像となるため、照明光及び検出光の光量が少な
く、明るい観察像を得ることは困難であった。
/45745に開示された手法があげられる。
示すように、照明光学系43における試料4の観察面4
8と共役な位置に、移動可能な周期的な空間変調パター
ン42を配置し、このパターンの空間位相を変化させて
3枚以上の画像を撮像し、この複数の画像間の演算によ
り試料内部の断層像を得るというものである。観察面4
8の像においては空間変調パターンの像が重なって観測
されるが、観察面48から外れた位置では空間変調パタ
ーンの像はぼける。したがって、空間変調パターンの像
が含まれていない面からの情報を取り除き、残りの情報
から空間変調パターンの像の情報を取り除くような画像
演算を行うことにより、目的とする深さ位置の観察面の
みの情報、すなわち、セクショニング像を得ることがで
きる。
を例えばスリット状とすることにより、ピンホールを用
いた共焦点観察法よりも明るい観察像を得ることができ
る。
空間変調パターンを投影し、この空間変調パターンの空
間位相を変化させるには、試料に対して空間変調パター
ンを相対的に移動させる必要がある。最も簡易的にこれ
を実現するには、平板状の基板等に作成された空間変調
パターンを、ピエゾ素子等により機械的に駆動させるこ
とが考えられる。
アルタイムでの画像計測等の要求にも応えるためには、
空間変調パターンの移動を非常に高速に行う必要があ
る。したがって、具体的には、空間変調パターンの移動
と静止を高速に繰り返す必要がある。空間変調パターン
を静止させる際、空間変調パターンに急激に静止するた
めの加速度が加わり、それにより空間変調パターン自体
がわずかに振動してしまう等、ただちに静止させること
はできず、完全な静止までにある程度の時間を要するこ
とになる。したがって、空間変調パターンを移動した
後、変調像を撮像するまでの間に待ち時間が発生してし
まう。このため、空間変調パターンの移動と静止を繰り
返す方法では高速化に限界がある。
みてなされたものであり、その目的は、空間変調パター
ンを投影して試料のセクショニング像を観測する光学装
置において、空間変調パターンの相対的な移動に伴う機
械的な振動等の影響を考慮する必要がなく、高速、か
つ、効率的な観察を行うことができる手法を提供するこ
とである。
め、本発明の光学装置は、(1) 時間的に発光強度が
変化する光源装置と、空間変調パターンと、前記空間変
調パターンを試料に投影する投影光学系と、前記空間変
調パターンにより変調を受けた前記試料の像を変調像と
して結像するための結像光学系と、前記試料に対する前
記空間変調パターンの相対的な空間位相を制御するため
の位相制御手段と、前記空間位相がそれぞれ異なる複数
の前記変調像を、前記光源装置の発光強度の時間的変化
に同期して撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮
像された複数の前記変調像から前記試料の像を形成する
画像処理手段と、を有することを特徴とするものであ
る。
し、本発明の手段と作用を説明する。本発明の光学装置
は、光源装置1、空間変調パターン2、投影光学系3、
結像光学系5、位相制御手段8、撮像手段6、画像処理
手段7、から構成されている。光源装置1からの光は、
まず、空間変調パターン2に照射される。空間変調パタ
ーン2は、投影光学系3により試料4に投影される。空
間変調パターン2が投影された試料4の像は結像光学系
5により結像され、撮像手段6により撮像される。撮像
された変調像は画像処理手段7によって画像処理され
る。
的な空間位相は位相制御手段8によって制御される。あ
る空間位相の空間変調パターンにより試料4の変調像を
撮像した後、位相制御手段8により空間変調パターン2
の空間位相を変化させて再び試料4の変調像を撮像す
る。この動作を複数回繰り返し、得られた複数の変調像
を画像処理することにより、試料4の像が形成される。
複数の変調像から試料4の像を求める復調方法について
は、WO98/45745や、本出願人による特願平1
0−111644号に記述された方法を用いることがで
きる。それらの手法を用いることにより、試料4内の目
的とする深さ位置のセクショニング像を得ることができ
る。
4に対して相対的に変位させられればよいため、空間変
調パターン2自身を固定し、その他の光学系、例えば投
影光学系3の一部を変位させる等によっても、空間位相
を変位させることは可能である。
その発光強度が時間的に変化する。例えば、非常に短時
間の間に発光強度の上昇と低下を繰り返すような光源を
用いた場合、空間変調パターン2に光が照射されている
時間は短時間であり、この短時間における変調像が撮像
されるため、発光時間が十分短ければ空間変調パターン
2の移動・静止に伴う機械的振動等による観測像への影
響をなくすことができる。
位相制御手段は、前記光源装置の時間的な発光強度の変
化に同期して動作するように構成することができる。
グに合わせて、空間変調パターン2の空間位相を変位さ
せることができる。これにより、複数の変調像をより効
率良く取得することができる。
前記位相制御手段は、前記空間位相を時間的に連続に変
化させるように構成することができる。
る機構は必要ないという利点がある。光源装置1の発光
強度の変化に要する時間が、空間変調パターン2の空間
位相の変化に要する時間に対して十分短いように構成す
ることで、実現可能である。なお、前述のWO98/4
5745にも、空間変調パターンの空間位相を連続的に
変化させる構成についての記述があるが、光源について
は全く言及されていない。本発明のように、光源装置1
からの発光強度が時間的に変化し、これに同期して、変
調像を撮像する構成と、空間位相を時間的に連続して変
化させる構成とを組み合わせることにより、高速で簡便
なセクショニング像の観測を行うことができる。
において、前記光源装置からの光が周期的に明滅を繰り
返すようにすることができる。
状に発光する光源を用いることができる。これにより、
光源装置1、位相制御手段8、撮像手段6のそれぞれを
同一の周波数で同期させ、高速、かつ、効率良く観測を
行うことができる。
おいて、時間的に制御可能なシャッターを有することが
できる。
も、周期的に高速動作するシャッターを光源装置1の射
出部等に設けることで、1回の発光時間が短く周期的な
光源装置を実現することができる。
試料に対する前記空間位相の相対速度が一定であり、前
記位相制御手段により前記空間位相が2π変化する時間
内に前記光源装置の明滅がm回繰り返され(ただし、m
は2以上の整数)、これに伴い撮像されたm枚の変調像
から試料の像を形成するように構成することができる。
つまり、空間変調パターン2の空間位相が一定の速度
で変位するようにし、空間変調パターン2の丁度1周期
の時間で画像処理に必要な数の変調像を撮像するように
構成することができる。これにより、位相制御手段8の
構成が簡素化され、光源装置1の明滅のタイミングを適
切に設定することで、効率良く観察像を得ることができ
る。
おいて、前記空間変調パターンが縞状の透過率分布を有
するパターンとするのが最も簡易的で好ましい。これら
により、画像処理手段7による画像演算が比較的簡単な
ものになることが予想される。
の像を形成するために必要な画像の枚数が3枚であり、
前記空間変調パターンが等間隔の平行な縞状の透過率分
布を有するパターンであって、前記光源装置の1回の発
光時間をt、前記空間変調パターンの縞間隔をd、前記
空間変調パターンの縞に垂直な方向の相対的な移動速度
をvとしたとき、以下の式が成り立つように構成するこ
とができる。
おける空間変調パターン2のそれぞれの空間位相は、お
およそ0°、120°、240°となるように設定する
ことができる。ただし、空間変調パターン2の縞が試料
4に対して相対的に一定速度で移動している場合、光源
装置1の発光時間内も縞は移動しているため、各変調像
における空間位相はある程度の広がりを持つ。つまり、
変調像に投影されている縞の幅が実質上広がることにな
る。この空間位相の広がりによる影響を少なくするため
の条件として式(1)が成り立つように構成すると、こ
の場合の各変調像における空間位相の広がりを±6°未
満に抑えることができる。
移動速度vが調整可能であるように構成することができ
る。
周期に合わせて空間変調パターン2の相対的な移動速度
を変更したり、観測の時間分解や信号強度の程度に応じ
て移動速度を調整することができる。
おいて、前記光源装置の1回の発光時間又は発光の周期
が調整可能であるように構成することができる。
の広がりを可能な限り抑えたい場合には、1回の発光の
発光時間を短くしたり、一方で1枚の変調像に対する照
明光量を多くしたい場合には、発光時間を長くしたりす
ることができる。また、観測の時間分解の程度に応じ
て、発光周期を調整することも可能である。したがっ
て、様々な観測条件に最も適した発光時間及び発光周期
を選択することができる。
について説明する。
て、落射型光学顕微鏡装置が示されている。以下に、こ
の光学装置の構成と作用について述べる。
レクタレンズ13により空間変調パターン12を照射
し、このパターンが投影レンズ14を通過し、ビームス
プリッター16により反射され、対物レンズ15により
試料4に照射される。変調を受けた試料4の像は、対物
レンズ15を通過し、ビームスプリッター16を透過し
て、結像レンズ17によりCCDカメラ18に達する。
CCDカメラ18で撮像された複数の変調像は、一時的
にコンピュータ22で記憶される。
では図3に示すように等間隔dで並んだ縞模様が用いら
れる。この縞模様はガラスや樹脂等の透明な部材上に形
成されている。そして、縞の透過率分布は、図4で示さ
れるような正弦波関数で与えることができる。具体的に
は、透過率をTr、縞と垂直のな方向の座標をxとした
とき、 Tr={1+cos(2πx/d)}/2 ・・・(2) で表されるように構成できる。この空間変調パターン1
2は、コンピュータ22で制御されるピエゾ素子19に
よって、その空間位相が制御される。ここで、空間位相
とは、試料4と試料4上に投影される空間変調パターン
12の像の相対的な位置関係のことである。また、空間
位相が制御されるとは、試料4と空間変調パターン12
の像が予め決められた関係を持って相対的に移動するこ
とをいう。
をその縞と垂直な方向(図3のx方向)に等速度で移動
させる。そして、後述する方法に従い、パターンが距離
dだけ移動する間に3枚の変調像が撮像される。撮像さ
れた3枚の変調像を用いて、コンピュータ22で復調の
ための画像処理が行われる。復調の方法としては、WO
98/45745や、本出願人による特願平10−11
1644号に開示された方法を用いることができる。画
像処理の結果形成された像は、表示装置21において表
示される。
シュランプ11が組み込まれている。図5(a)には、
このフラッシュランプ11の発光タイミングが示されて
いる。図5(a)の縦軸は発光強度、横軸は時刻を表し
ている。
光時間tは、発光ピークにおける半値全幅で定義するこ
とにする。図5(a)においては、例えば時刻t3から
t4までの間が1回の発光時間、 t=t4−t3 ・・・(3) となる。また、発光周期Tは、 T=t3−t1=t6−t3=t7−t6 ・・・(4) で表される。本実施例では、 t=5μs T=0.01s と設定されている。
8の電子シャッターの動作タイミングが示されている。
電子シャッターの開閉は、フラッシュランプ11と同一
の周期Tで動作する。CCDカメラ18の電子シャッタ
ーは、フラッシュランプ11の1回の発光時間よりやや
長い時間開けておくことができる。例えば、時刻t3か
らt4までの発光に対する撮像においては、電子シャッ
ターはt3よりも早い時刻t2に開く動作を行い、t4
よりも遅い時刻t5に閉じる動作を行う構成にすること
ができる。
な方向に等速度で移動し、3枚の変調像が等しい時間間
隔で撮像される。すなわち、それぞれの変調像における
空間位相はそれぞれ約0°、120°、240°と表す
ことができる。つまり、各変調像において、空間変調パ
ターン12の縞の位置はd/3ずつ変化している。した
がって、空間変調パターン12の空間位相の移動速度を
vとすると、 v=d/3T となる。フラッシュの1回の発光時間内に空間変調パタ
ーン12はvtだけ移動することになる。このとき、 vt=dt/3T≒1.67×10-4d したがって、式(1)を満たしている。また、この式は
1回の発光時間の間に動く縞の量が、縞間隔の0.01
67%程度であることを示している。空間位相で表す
と、0.06°程度である。これは、1枚の変調像を撮
像している間の縞の移動が十分無視できる程度であるこ
とを示している。
間変調パターン12は全てコンピュータ22により制御
され、それぞれを最適なタイミングで動作させることが
可能である。例えば、試料4からの信号が微弱な場合
に、光源装置1の発光時間を長くし、これに伴い空間変
調パターン12の移動速度を抑えてS/Nを向上させる
ようなことが可能である。
11には1回の発光で放射されるエネルギが連続光光源
よりも大きく、高周波で動作するものを用いることがで
きる。本実施例で用いたフラッシュランプ11の周期
も、0.01秒、つまり周波数が100Hzであるの
で、変調像3枚一組で1枚の復調像を得るとしたとき
に、およそ33Hzという略リアルタイムでの観察が可
能である。
された透明な部材を光路中に配置して、投影レンズ14
を介して空間変調パターン12を試料4に投影している
が、図6に示すように、干渉計100で干渉縞104を
形成し、この干渉縞104を空間変調パターン12とし
て用いることもできる。この場合、空間変調パターン
は、直接試料4に形成されるので、図2に示すような投
影レンズ14は不要となる。また、試料4に対して空間
変調パターンを移動させる場合は、干渉計の参照ミラー
103を移動させればよい。なお、図6中、101は光
源、102はハーフミラー、105はシャッター、10
6はミラーである。
に構成することができる。
装置と、空間変調パターンと、前記空間変調パターンを
試料に投影する投影光学系と、前記空間変調パターンに
より変調を受けた前記試料の像を変調像として結像する
ための結像光学系と、前記試料に対する前記空間変調パ
ターンの相対的な空間位相を制御するための位相制御手
段と、前記空間位相がそれぞれ異なる複数の前記変調像
を、前記光源装置の発光強度の時間的変化に同期して撮
像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された複数
の前記変調像から前記試料の像を形成する画像処理手段
と、を有することを特徴とする光学装置。
置の時間的な発光強度の変化に同期して動作することを
特徴とする上記1記載の光学装置。
相を時間的に連続して変化させることを特徴とする上記
1又は2記載の光学装置。
明滅を繰り返すことを特徴とする上記1〜3の何れか1
項記載の光学装置。
能なシャッターを有することを特徴とする1〜3の何れ
か1項記載の光学装置。
相対速度が一定であり、前記位相制御手段により前記空
間位相が2π変化する時間内に前記光源装置の明滅がm
回繰り返され(ただし、mは2以上の整数)、これに伴
い撮像されたm枚の変調像から試料の像を形成すること
を特徴とする上記4又は5記載の光学装置。
過率分布を有するパターンであることを特徴とする上記
1〜6の何れか1項記載の光学装置。
要な画像の枚数が3枚であり、前記空間変調パターンが
等間隔の平行な縞状の透過率分布を有するパターンであ
って、前記光源装置の1回の発光時間をt、前記空間変
調パターンの縞間隔をd、前記空間変調パターンの縞に
垂直な方向の相対的な移動速度をvとしたとき、以下の
式が成り立つことを特徴とする上記6記載の光学装置。
する上記8記載の光学装置。
又は発光の周期が調整可能であることを特徴とする上記
4〜9の何れか1項記載の光学装置。
源装置と、空間変調パターンを直接試料に形成する光学
系と、前記空間変調パターンにより変調を受けた前記試
料の像を変調像として結像するための結像光学系と、前
記試料に対する前記空間変調パターンの相対的な空間位
相を制御するための位相制御手段と、前記空間位相がそ
れぞれ異なる複数の前記変調像を、前記光源装置の発光
強度の時間的変化に同期して撮像する撮像手段と、前記
撮像手段により撮像された複数の前記変調像から前記試
料の像を形成する画像処理手段と、を有することを特徴
とする光学装置。
の光学装置によれば、空間変調パターンを投影して試料
のセクショニング像を観測する光学装置において、時間
的に発光強度が変化する光源装置を用い、その発光強度
の時間的変化に同期して試料の変調像を撮像することに
より、空間変調パターンの相対的な移動に伴う機械的な
振動等の影響を考慮する必要がなく、高速、かつ、効率
的な観察を行うことができる。
の構成を示す図である。
である。
Dカメラのシャッターの動作タイミングを示す図であ
る。
を示す図である。
ョニング像を観察する光学装置の構成を示す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 時間的に発光強度が変化する光源装置
と、 空間変調パターンと、 前記空間変調パターンを試料に投影する投影光学系と、 前記空間変調パターンにより変調を受けた前記試料の像
を変調像として結像するための結像光学系と、 前記試料に対する前記空間変調パターンの相対的な空間
位相を制御するための位相制御手段と、 前記空間位相がそれぞれ異なる複数の前記変調像を、前
記光源装置の発光強度の時間的変化に同期して撮像する
撮像手段と、 前記撮像手段により撮像された複数の前記変調像から前
記試料の像を形成する画像処理手段と、を有することを
特徴とする光学装置。 - 【請求項2】 前記位相制御手段は、前記光源装置の時
間的な発光強度の変化に同期して動作することを特徴と
する請求項1記載の光学装置。 - 【請求項3】 前記位相制御手段は、前記空間位相を時
間的に連続して変化させることを特徴とする請求項1又
は2記載の光学装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7385709B2 (en) | 2002-01-15 | 2008-06-10 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne | Microscopy imaging apparatus and method for generating an image |
WO2008125605A2 (de) * | 2007-04-13 | 2008-10-23 | Michael Schwertner | Verfahren und anordnung zur optischen abbildung mit tiefendiskriminierung |
JP2008268599A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Nikon Corp | 観察装置 |
WO2011162186A1 (ja) | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像生成装置 |
WO2011162187A1 (ja) | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像生成装置 |
JP2015084057A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 株式会社キーエンス | 顕微鏡撮像装置、顕微鏡撮像方法および顕微鏡撮像プログラム |
JP2015084055A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | 株式会社キーエンス | 顕微鏡撮像装置、顕微鏡撮像方法および顕微鏡撮像プログラム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH086113A (ja) * | 1994-06-23 | 1996-01-12 | Nikon Corp | カメラ |
JPH11211439A (ja) * | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Takaoka Electric Mfg Co Ltd | 表面形状計測装置 |
JPH11242189A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-09-07 | Olympus Optical Co Ltd | 像形成法、像形成装置 |
JP2000506634A (ja) * | 1997-04-04 | 2000-05-30 | イシス イノヴェーション リミテッド | 顕微鏡撮像装置および方法 |
-
1999
- 1999-10-21 JP JP29977199A patent/JP4429431B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH086113A (ja) * | 1994-06-23 | 1996-01-12 | Nikon Corp | カメラ |
JP2000506634A (ja) * | 1997-04-04 | 2000-05-30 | イシス イノヴェーション リミテッド | 顕微鏡撮像装置および方法 |
JPH11242189A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-09-07 | Olympus Optical Co Ltd | 像形成法、像形成装置 |
JPH11211439A (ja) * | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Takaoka Electric Mfg Co Ltd | 表面形状計測装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7385709B2 (en) | 2002-01-15 | 2008-06-10 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne | Microscopy imaging apparatus and method for generating an image |
WO2008125605A2 (de) * | 2007-04-13 | 2008-10-23 | Michael Schwertner | Verfahren und anordnung zur optischen abbildung mit tiefendiskriminierung |
WO2008125605A3 (de) * | 2007-04-13 | 2009-02-26 | Michael Schwertner | Verfahren und anordnung zur optischen abbildung mit tiefendiskriminierung |
US7977625B2 (en) | 2007-04-13 | 2011-07-12 | Michael Schwertner | Method and assembly for optical reproduction with depth discrimination |
JP2008268599A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Nikon Corp | 観察装置 |
WO2011162186A1 (ja) | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像生成装置 |
WO2011162187A1 (ja) | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像生成装置 |
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