JP2001092371A - Manufacturing method of electrooptical device - Google Patents

Manufacturing method of electrooptical device

Info

Publication number
JP2001092371A
JP2001092371A JP26853099A JP26853099A JP2001092371A JP 2001092371 A JP2001092371 A JP 2001092371A JP 26853099 A JP26853099 A JP 26853099A JP 26853099 A JP26853099 A JP 26853099A JP 2001092371 A JP2001092371 A JP 2001092371A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
conductor pattern
electrode
wiring
static elimination
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP26853099A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3731405B2 (en
Inventor
Yoshifumi Kobayashi
由文 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP26853099A priority Critical patent/JP3731405B2/en
Publication of JP2001092371A publication Critical patent/JP2001092371A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3731405B2 publication Critical patent/JP3731405B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of electrooptical device in which a countermeasure against electrostatic charge capable of obtaining sufficient charge-removing effect even with respect to a liquid crystal device having a COG(chip-on-glass) construction is applied. SOLUTION: In electrode parts 31, extension pattern parts 31b extending from edge parts 31a being at a side opposite to a wiring parts 32 and an external connection part 33 to the outside of a panel planning area 30A are formed. These extension pattern parts 31b are formed so as to be opposed to destabilization branching parts 41 of a conductor pattern for removing charge 40 outside the panel planning area 30A.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電気光学装置の製造
方法に係り、特に、製造工程中における静電気に起因す
る障害を防止する技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device, and more particularly to a technique for preventing a failure caused by static electricity in a manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、液晶表示パネルを有する液晶装
置などの電気光学装置においては、電気光学物質に所定
の電界を印加するための電極パターンを基板の表面上に
備えている。例えば、液晶装置においては、液晶セルを
構成する2枚の透明基板の表面上に所定の電極パターン
が形成され、この電極パターン上に保護膜及び配向膜が
積層される。また、必要に応じてカラーフィルタなどが
形成される場合もある。
2. Description of the Related Art Generally, in an electro-optical device such as a liquid crystal device having a liquid crystal display panel, an electrode pattern for applying a predetermined electric field to an electro-optical material is provided on a surface of a substrate. For example, in a liquid crystal device, a predetermined electrode pattern is formed on the surfaces of two transparent substrates constituting a liquid crystal cell, and a protective film and an alignment film are laminated on this electrode pattern. Further, a color filter or the like may be formed as needed.

【0003】図5は、従来のパッシブマトリクス型の液
晶装置を構成する一方の透明基板上の電極パターン10
を模式的に示す概略平面図である。この電極パターン1
0は液晶セルを構成するパネル基板よりも大きな母基板
上のパネル予定領域10A内に形成される。電極パター
ン10は、ストライプ状に形成され、相互に並列した複
数の電極部11と、各電極部11の一端部から引き出さ
れる配線部12とを備えている。また、パネル予定領域
10Aの外部には、複数の配線部12のそれぞれにおけ
る先端部12aに対して僅かな間隔を隔てて対向する複
数の除電分岐部21を有する除電パターン20(静電保
護用パターン)が形成されている。配線部12の先端部
12aはパネル予定領域10Aの外側に配置され、その
結果、配線部12と除電分岐部21との対向部もまたパ
ネル予定領域10Aの外側に設定されている。
FIG. 5 shows an electrode pattern 10 on one transparent substrate constituting a conventional passive matrix type liquid crystal device.
It is a schematic plan view which shows typically. This electrode pattern 1
0 is formed in a panel scheduled region 10A on a mother substrate larger than the panel substrate constituting the liquid crystal cell. The electrode pattern 10 includes a plurality of electrode portions 11 formed in a stripe shape and arranged in parallel with each other, and a wiring portion 12 drawn from one end of each electrode portion 11. Further, outside the panel scheduled region 10A, a static elimination pattern 20 (electrostatic protection pattern) having a plurality of static elimination branch portions 21 opposed to the tip 12a of each of the plurality of wiring portions 12 at a slight distance from each other. ) Is formed. The distal end portion 12a of the wiring portion 12 is arranged outside the planned panel region 10A. As a result, the facing portion between the wiring portion 12 and the charge eliminating branch portion 21 is also set outside the planned panel region 10A.

【0004】除電パターン20は、電極パターン10が
帯電し、その帯電量が電極パターン10内において放電
(スパーク)を発生させるほどに高まる前に、配線部1
2の先端部12aと除電分岐部21との間において放電
を発生させることによって、製造工程中における静電気
により電極間や配線間にスパークが発生し、損傷を受け
ることを防止するために設けられているものである。
[0006] The charge removing pattern 20 forms the wiring portion 1 before the electrode pattern 10 is charged and the amount of charge increases so much as to generate a discharge (spark) in the electrode pattern 10.
2 is provided in order to prevent a spark from being generated between the electrodes and wiring due to static electricity during the manufacturing process and causing damage between the electrodes and the wiring by generating a discharge between the distal end portion 12a and the charge removing branch portion 21. Is what it is.

【0005】上記のように電極パターン10及び除電パ
ターン20が形成された母基板は、もう一方の母基板に
対して図示しないシール材を介して貼り合わせられ、そ
のシール材の内側には液晶が注入される。この製造工程
において、図示の母基板は途中段階にて図5に示すパネ
ル予定領域10Aに沿って分離される。したがって、最
終的には、上記除電パターン20は配線部12の先端部
12aとともに除去される。
The mother board on which the electrode pattern 10 and the charge eliminating pattern 20 are formed as described above is bonded to another mother board via a sealing material (not shown), and a liquid crystal is provided inside the sealing material. Injected. In this manufacturing process, the illustrated mother substrate is separated at an intermediate stage along the planned panel region 10A shown in FIG. Therefore, finally, the charge removing pattern 20 is removed together with the tip 12 a of the wiring portion 12.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記液晶装
置において、液晶パネル自体に駆動ドライバ回路を内蔵
したドライバICなどの集積回路チップを搭載するCO
G(Chip On Glass)構造を採用する場合がある。特に、
近年の携帯機器の小型化に伴って駆動回路を含めた液晶
装置の小型化が要求されるようになってきており、CO
G構造を採用する機会は増加している。しかしながら、
このCOG構造を有する液晶装置を製造する場合、電極
パターンの配線部の先端に設けられた接続端子を、集積
回路チップの狭ピッチの端子配列に合わせて配列させな
ければならないため、この配線部の先に上述のような除
電パターンを形成することは構造上困難であり、また、
チップ実装部の下に導体パターンを形成することは電気
的にも問題がある。
By the way, in the above-mentioned liquid crystal device, the liquid crystal panel mounts an integrated circuit chip such as a driver IC having a built-in drive driver circuit on the liquid crystal panel itself.
In some cases, a G (Chip On Glass) structure is adopted. In particular,
With the recent miniaturization of portable devices, miniaturization of liquid crystal devices including drive circuits has been required, and CO
Opportunities to adopt the G structure are increasing. However,
When manufacturing a liquid crystal device having this COG structure, the connection terminals provided at the tips of the wiring portions of the electrode pattern must be arranged in accordance with the narrow pitch terminal arrangement of the integrated circuit chip. It is structurally difficult to first form the above-described static elimination pattern,
Forming a conductor pattern under the chip mounting portion has an electrical problem.

【0007】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、COG構造を有する液晶装置に対
しても十分な除電効果を得ることのできる静電対策を施
した製造方法を提供することにある。
Accordingly, the present invention is to solve the above-mentioned problem, and an object of the present invention is to provide a manufacturing method in which a countermeasure against static electricity is provided which can obtain a sufficient static electricity removing effect even for a liquid crystal device having a COG structure. Is to do.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の電気光学装置の製造方法は、電気光学物質に
電解を印加するための電極部、及び該電極部の一端部か
ら引き出された配線部を有する第1の導体パターンを基
板上に形成する電気光学装置の製造方法であり、前導体
パターンの前記一端部以外の部分において前記導体パタ
ーンと接続するように、或いは前記導体パターンと所定
間隔離した位置に、除電用の第2の導体パターンを形成
することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
According to the present invention, there is provided a method for manufacturing an electro-optical device, comprising: an electrode portion for applying electrolysis to an electro-optical material; and an electrode portion drawn from one end of the electrode portion. Forming a first conductor pattern having a wiring portion on a substrate, wherein the first conductor pattern is connected to the conductor pattern at a portion other than the one end of the front conductor pattern, or A method for manufacturing an electro-optical device, comprising forming a second conductive pattern for static elimination at a position separated by a predetermined distance.

【0009】この発明によれば、前導体パターンの前記
一端部以外の部分において前記導体パターンと接続する
ように、或いは前記導体パターンと所定間隔離した位置
に、除電用の第2の導体パターンを形成することによ
り、配線部や実装部のパターン構造に支障を与えること
なく除電用のパターンを形成できるので、電極パターン
の設計の自由度を高めることができる。特に、半導体チ
ップを基板上に直接実装するCOG構造を有する電気光
学装置である場合には、半導体チップ実装部に除電用の
パターンを設けることができないが、本発明によれば支
障なく除電パターンを形成し、十分な静電気対策をとる
ことが可能になる。
According to the present invention, the second conductor pattern for static elimination is connected to the conductor pattern at a portion other than the one end of the front conductor pattern or at a position separated from the conductor pattern by a predetermined distance. By forming such a pattern, a pattern for static elimination can be formed without disturbing the pattern structure of the wiring portion and the mounting portion, so that the degree of freedom in designing the electrode pattern can be increased. In particular, in the case of an electro-optical device having a COG structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate, a pattern for static elimination cannot be provided in the semiconductor chip mounting portion. It is possible to take sufficient measures against static electricity.

【0010】本発明において、前記配線部の先端には前
記基板上に実装される半導体チップに接続される接続端
子部が形成されることが好ましい。
In the present invention, it is preferable that a connection terminal portion connected to a semiconductor chip mounted on the substrate is formed at an end of the wiring portion.

【0011】本発明において、前記第1の導体パターン
及び前記第2の導体パターンは各々が対向するように形
成され、その対向部分においては前記第1の導体パター
ン、又は前記第2の導体パターンの少なくとも一方が先
細となっていると好ましい。
In the present invention, the first conductor pattern and the second conductor pattern are formed so as to oppose each other, and at the opposing portion, the first conductor pattern or the second conductor pattern is formed. Preferably, at least one is tapered.

【0012】この発明によれば、第1の導体パターンと
除電用の第2の導体パターンとが所定間隔を以って対向
配置されている場合、両者の対向端部のうち少なくとも
一方が先細形状になっていることによって、この対向部
分において放電部位が限定され、放電が容易に発生する
ようになるので、電極パターンの他の部位において放電
が発生することを防止することができる。特に、本発明
の場合、第1の導体パターンの外縁部のうち、配線部が
引き出された一端部以外の外縁部に対向して除電用の第
2の導体パターンが設けられているので、対向部分にお
ける第1及び第2の導体パターンのパターン形状をより
自由に設計することができるので、上述の先細形状も容
易に形成することができる。
According to the present invention, when the first conductor pattern and the second conductor pattern for static elimination are opposed to each other at a predetermined interval, at least one of the opposing end portions has a tapered shape. In this case, the discharge portion is limited in the facing portion, and the discharge is easily generated. Therefore, it is possible to prevent the discharge from being generated in another portion of the electrode pattern. In particular, in the case of the present invention, the second conductor pattern for static elimination is provided facing the outer edge of the first conductor pattern other than the one end from which the wiring portion is drawn out. Since the pattern shapes of the first and second conductor patterns in the portion can be more freely designed, the above-mentioned tapered shape can be easily formed.

【0013】本発明において、第1の導体パターンは、
前記対向部分におけるパターン幅が前記電極部より細く
形成されると好ましい。
In the present invention, the first conductor pattern is
It is preferable that the pattern width in the facing portion is formed smaller than the electrode portion.

【0014】この発明によれば、第1の導体パターンに
おける除電用の第2の導体パターンに対向する部分のパ
ターン幅は電極パターンの構造によって定まるが、除電
用の第2の導体パターンに対向する部分を電極部よりも
細幅に形成することによって、第1の導体パターンのパ
ターン形状に影響されることなく放電を容易に発生させ
ることができる。特に、本発明の場合、第1の導体パタ
ーンの外縁部のうち、配線部が引き出された一端部以外
の外縁部に除電用の第2の導体パターンが設けられてい
るので、第1の導体パターン除電用の第2の導体パター
ンの対向部分におけるパターン形状をより自由に設計す
ることができる。そのため、上述の細幅形状も容易に形
成することができる。
According to the present invention, the pattern width of the portion of the first conductor pattern facing the second conductive pattern for static elimination is determined by the structure of the electrode pattern, but is opposed to the second conductor pattern for static elimination. By forming the portion to be narrower than the electrode portion, discharge can be easily generated without being affected by the pattern shape of the first conductor pattern. In particular, in the case of the present invention, since the second conductor pattern for static elimination is provided at the outer edge of the first conductor pattern other than the one end from which the wiring portion is drawn out, the first conductor pattern is provided. It is possible to more freely design a pattern shape in a portion facing the second conductor pattern for pattern static elimination. Therefore, the above-described narrow width shape can be easily formed.

【0015】本発明において、前記第2の導体パターン
を切り離す工程を有することを特徴とする。
In the present invention, the method further comprises a step of separating the second conductor pattern.

【0016】この発明によれば、前記第2の導体パター
ンを切り離す工程を有するため、電気光学装置には除電
用の第2の導体パターンが残存しないので、除電用パタ
ーンの残存による電気的影響を回避することができると
ともに、除電用パターンをより自由に、且つ、効果的な
パターン形状に構成することができる。
According to the present invention, since the step of separating the second conductor pattern is included, the second conductor pattern for static elimination does not remain in the electro-optical device. This can be avoided and the charge eliminating pattern can be configured more freely and in an effective pattern shape.

【0017】なお、上記各発明においては、上記の第1
の導体パターンにはストライプ状の電極部を複数並列形
成し、この電極部の一端部から前記配線部が引き出され
るように構成され、前記除電用の第2の導体パターン
は、前記電極部における前記一端部とは反対側の他端部
に導電接続し、或いは、対向配置されるように構成する
ことが望ましい。この手段によれば、ストライプ状の電
極部の一端部には配線部が引き出され、他端部には除電
パターンが配置されているので、電極パターンを大きく
変更することなく、除電用の導体パターンを機能させる
ことが可能になる。
In each of the above-mentioned inventions, the above-mentioned first aspect is used.
A plurality of stripe-shaped electrode portions are formed in parallel on the conductor pattern, and the wiring portion is drawn out from one end of the electrode portion, and the second conductor pattern for static elimination is provided in the electrode portion. It is desirable to be configured so as to be conductively connected to the other end opposite to the one end, or to be arranged to face the other end. According to this means, the wiring portion is drawn out at one end of the stripe-shaped electrode portion, and the static elimination pattern is arranged at the other end, so that the conductor pattern for static elimination can be used without largely changing the electrode pattern. Can function.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る電気光学装置の実施形態について詳細に説明す
る。以下に示す実施形態は、いずれもパッシブマトリク
ス型の液晶パネルを有する液晶装置に関するものである
が、本発明はその他の種々の形式の液晶装置にも適用可
能であり、また、プラズマディスプレイやエレクトロル
ミネッセンスディスプレイ装置などの種々の電気光学装
置にも適用可能なものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of an electro-optical device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Each of the embodiments described below relates to a liquid crystal device having a passive matrix type liquid crystal panel. However, the present invention can be applied to other various types of liquid crystal devices, and further includes a plasma display and an electroluminescence. The present invention is also applicable to various electro-optical devices such as a display device.

【0019】図1は本実施形態の液晶装置における母基
板上の電極パターンを示す模式的な平面図である。ま
た、図2は、複数のパネル予定領域を含む母基板100
の全体の平面構造の例を示す平面図である。母基板10
0は通常、縦横に3以上のパネル予定領域30Aを配列
させたものであるが、図2においては図示の便宜上、4
つのパネル予定領域30Aを含む母基板として描いてあ
る。また、母基板としては、単一のパネル予定領域のみ
を有し、当該パネル予定領域の外側に若干の周囲領域を
備えたものであっても構わない。
FIG. 1 is a schematic plan view showing an electrode pattern on a mother substrate in the liquid crystal device of the present embodiment. FIG. 2 shows a mother substrate 100 including a plurality of panel scheduled regions.
FIG. 4 is a plan view showing an example of the entire planar structure of FIG. Mother board 10
0 indicates that three or more planned panel areas 30A are arranged vertically and horizontally, but in FIG.
It is drawn as a mother substrate including one panel scheduled region 30A. Further, the mother board may have only a single panel scheduled area, and may have a slight peripheral area outside the panel scheduled area.

【0020】各パネル予定領域30Aにおいては、スト
ライプ状に並列形成された複数の電極部31と、これら
の電極部31のそれぞれから引き出された複数の配線部
32とを有する導体パターン30が形成されている。導
体パターン30において、配線部32の先端部は接続端
子32aとなっており、パネル予定領域30Aの端部に
設定された図示一点鎖線で示す外部接続部33内に所定
の配列態様で形成されている。外部接続部33内に配列
された複数の接続端子32aには、公知の異方性導電フ
ィルム(ACF)を介して、駆動ドライバICなどの集
積回路チップが実装される。また、外部接続部33内に
は上記配線部32には導電接続されていない外部端子3
4も形成されている。この外部端子34は、上記の集積
回路チップと、パネル端部に接続されるフレキシブル配
線基板などの配線部材とを導通させるためのものであ
る。
In each panel scheduled region 30A, a conductor pattern 30 having a plurality of electrode portions 31 formed in parallel in a stripe shape and a plurality of wiring portions 32 drawn from each of these electrode portions 31 is formed. ing. In the conductor pattern 30, the distal end of the wiring portion 32 is a connection terminal 32a, and is formed in a predetermined arrangement in an external connection portion 33 indicated by an alternate long and short dash line in the end of the panel scheduled region 30A. I have. An integrated circuit chip such as a driver IC is mounted on the plurality of connection terminals 32a arranged in the external connection portion 33 via a known anisotropic conductive film (ACF). In the external connection part 33, the external terminal 3 not conductively connected to the wiring part 32 is provided.
4 are also formed. The external terminals 34 are for electrically connecting the integrated circuit chip with a wiring member such as a flexible wiring board connected to an end of the panel.

【0021】上述のように、本実施形態の導体パターン
30は、電極部31、配線部32及び外部接続部33か
ら概略構成されている。ここで、電極部31には、配線
部32や外部接続部33とは反対側の端部31aからパ
ネル予定領域30Aの外部まで伸びる延長パターン部3
1bが形成されている。この延長パターン部31bはパ
ネル予定領域30Aの外側において除電パターン40の
除電分岐部41と対向するように形成されている。除電
パターン40は従来例と同様に母基板100の表面上に
導体パターン30と同時に同材質にて形成される。
As described above, the conductor pattern 30 of the present embodiment is roughly constituted by the electrode section 31, the wiring section 32, and the external connection section 33. Here, the electrode portion 31 has an extension pattern portion 3 extending from the end 31a on the opposite side to the wiring portion 32 and the external connection portion 33 to the outside of the panel scheduled area 30A.
1b is formed. The extension pattern portion 31b is formed so as to face the charge eliminating branch portion 41 of the charge eliminating pattern 40 outside the panel scheduled region 30A. The static elimination pattern 40 is formed on the surface of the mother substrate 100 with the same material at the same time as the conductor pattern 30 as in the conventional example.

【0022】上記導体パターン30及び除電パターン4
0は、例えばITO(インジウムスズ酸化物)などの透
明導電体や、アルミニウムなどの金属薄膜などによって
構成される。なお、本実施形態ではパッシブマトリクス
型の液晶装置を構成する液晶パネル用の母基板であるの
で、ストライプ状の電極部31が形成されているが、本
実施形態とは異なる導体パターンを有する場合もあり、
例えば、液晶パネルの形式によってマトリクス状に配列
された画素電極と、該画素電極に接続された走査線やデ
ータ線などの配線と、画素電極と配線とに導電接続され
たアクティブ素子(TFTやTFDなど)とからなる導
体パターンが構成されていてもよい。
The conductor pattern 30 and the charge removal pattern 4
0 is constituted by a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) or a metal thin film such as aluminum. In the present embodiment, since the substrate is a mother substrate for a liquid crystal panel constituting a passive matrix type liquid crystal device, the stripe-shaped electrode portions 31 are formed. Yes,
For example, pixel electrodes arranged in a matrix according to the type of liquid crystal panel, wiring such as scanning lines and data lines connected to the pixel electrodes, and active elements (TFTs or TFDs) conductively connected to the pixel electrodes and the wirings Etc.) may be formed.

【0023】本実施形態では、各パネル予定領域30A
において形成された導体パターン30における配線部3
2及び外部接続部33とは反対側の電極部31の端部3
1aに対して対向する除電パターン40を有し、この除
電パターン40は、図2に示すように、複数のパネル予
定領域30A中の導体パターン30に対向する部分が相
互に一体に連結されるようにして構成されている。この
除電パターン40には、通常、製造工程中において接地
電位などの一定電位が供給される。
In the present embodiment, each panel scheduled area 30A
Wiring portion 3 in conductor pattern 30 formed in
2 and the end 3 of the electrode portion 31 opposite to the external connection portion 33
1a, the static elimination pattern 40 is opposed to the conductor pattern 30 in the plurality of panel scheduled areas 30A as shown in FIG. It is configured. Usually, a constant potential such as a ground potential is supplied to the charge removing pattern 40 during the manufacturing process.

【0024】本実施形態においては、何らかの理由によ
って導体パターン30の各電極部31が帯電した場合、
他の部位(例えば電極部31間や配線部32間、或い
は、接続端子32a間など)において放電が生ずる前
に、各電極部31の端部31aから伸びる延長パターン
部31bの先端と除電用の導体パターン除電パターン4
0の除電分岐部41との対向部分において放電が発生
し、静電気が除電用の導体パターン40に逃げるように
設計されている。したがって、電極部31や配線部32
が帯電しても電極部31間、配線部32間、或いは接続
端子32a間に放電が発生し、電極、配線、端子等の損
傷が防止される。この場合、延長パターン部31bと除
電分岐部41との間隔は、上記目的を達成できるように
するために、電極部31間の間隔や狭ピッチに形成され
た配線部32間或いは接続端子32a間の間隔よりも狭
く形成されることが望ましい。
In this embodiment, when each electrode portion 31 of the conductor pattern 30 is charged for some reason,
Before a discharge is generated in another portion (for example, between the electrode portions 31 or between the wiring portions 32 or between the connection terminals 32 a), the tip of the extension pattern portion 31 b extending from the end portion 31 a of each electrode portion 31 and the tip for discharging are formed. Conductor pattern static elimination pattern 4
A discharge is generated in a portion opposing the zero discharge branch 41, and static electricity is designed to escape to the conductor pattern 40 for discharge. Therefore, the electrode part 31 and the wiring part 32
Is charged, a discharge is generated between the electrode portions 31, between the wiring portions 32, or between the connection terminals 32a, thereby preventing damage to the electrodes, wiring, terminals, and the like. In this case, the interval between the extension pattern portion 31b and the charge eliminating branch portion 41 is set between the electrode portions 31 or between the wiring portions 32 formed at a narrow pitch or between the connection terminals 32a in order to achieve the above object. It is desirable that the gap be formed smaller than the interval.

【0025】また、本実施形態では、延長パターン部3
1bは電極部31よりも細幅に形成されている。これ
は、同様の細幅に形成された除電分岐部41と対向させ
ることによって、当該対向部分の狭い領域に電荷を集中
させ、放電しやすいようにするためである。
In this embodiment, the extension pattern portion 3
1b is formed to be narrower than the electrode portion 31. This is because the charge is concentrated in a narrow region of the opposed portion by facing the charge removing branch portion 41 formed in the same narrow width to facilitate discharge.

【0026】図3は上記実施形態の変形例を示すもので
ある。この変形例においては、その端部31aから延長
パターン部31bが伸びて除電用の導体パターン40の
除電分岐部41に対向する電極部31と、その端部31
aが導通パターン部42を通して除電用の導体パターン
40に導電接続されている電極部31とが交互に形成さ
れている。この場合には、導通パターン42を通して除
電用の導体パターン40に導電接続されている電極31
は放電することなく静電気が除電用の導体パターン40
を通して逃げるようになっているが、延長パターン部3
1bが除電分岐部41に対向している電極部31は上記
と同様に除電分岐部41に対する放電によって静電気が
除電用の導体パターン40へと逃げるようになってい
る。
FIG. 3 shows a modification of the above embodiment. In this modified example, an extension pattern portion 31b extends from an end portion 31a, and an electrode portion 31 facing a charge eliminating branch portion 41 of a conductor pattern 40 for static electricity removal;
The electrode portions 31 that are electrically connected to the conductive patterns 40 for static elimination through the conductive pattern portions 42 are alternately formed. In this case, the electrode 31 conductively connected to the conductive pattern 40 for static elimination through the conductive pattern 42 is used.
Is a conductor pattern 40 for discharging static electricity without discharging.
Through the extension pattern part 3
In the electrode portion 31 whose 1b faces the charge eliminating branch portion 41, the static electricity escapes to the charge eliminating conductor pattern 40 by the discharge to the charge eliminating branch portion 41 in the same manner as described above.

【0027】この変形例において、例えば電極部31に
プローブ等(例えばロール状の測定電極)を当てて図示
左側から右側へ向けて複数の電極部31の電位を連続し
て測定すると、図3の上部に示すように、導通パターン
部42によって除電用の導体パターン40と導電接続さ
れている電極部31の電位は0(除電用の導体パターン
40の電位と同じ)となり、これに隣接する電極部31
の電位はV(延長パターン部31bと除電分岐部41と
の間の放電発生電圧よりも低い電位)となる。このよう
にして電極部31の電位分布を測定することによって、
導体パターン30及び除電用の導体パターン40のパタ
ーン検査を行うことができる。
In this modification, for example, when a probe or the like (for example, a roll-shaped measurement electrode) is applied to the electrode portion 31 and the potentials of the plurality of electrode portions 31 are continuously measured from the left side to the right side in FIG. As shown in the upper part, the potential of the electrode portion 31 conductively connected to the conductor pattern 40 for static elimination by the conductive pattern portion 42 becomes 0 (the same as the potential of the conductor pattern 40 for static elimination), and the electrode portion adjacent thereto 31
Is V (potential lower than the discharge generation voltage between the extension pattern portion 31b and the charge eliminating branch portion 41). By measuring the potential distribution of the electrode unit 31 in this way,
A pattern inspection of the conductor pattern 30 and the conductor pattern 40 for static elimination can be performed.

【0028】図4は、上記実施形態或いは変形例におけ
る導電パターン30と導電パターン40の対向部分の細
部構造を示す拡大部分平面図である。図4(a)には上
記実施形態における導体パターン30と除電用の導体パ
ターン40の対向部分の平面パターンとして好適な構造
を示す。このパターンにおいては、電極部31はそのま
まパネル予定領域30Aの外側に延長し、その先端部3
1cは先細形状となっている。一方、除電用の導体パタ
ーン40の除電分岐部41の先端部41aもまた先細形
状となっており、上記の先端部31cと対向している。
このように形成することによって、先端部31cと先端
部41aとの間で放電が発生しやすくなるため、電極部
31や配線部32などの損傷を防止することができる。
FIG. 4 is an enlarged partial plan view showing a detailed structure of a portion where the conductive pattern 30 and the conductive pattern 40 are opposed to each other in the above embodiment or modification. FIG. 4A shows a structure suitable as a plane pattern of a portion where the conductor pattern 30 and the conductor pattern 40 for static elimination in the above embodiment are opposed. In this pattern, the electrode portion 31 extends as it is outside the panel scheduled area 30A, and its tip 3
1c has a tapered shape. On the other hand, the leading end 41a of the charge removing branch portion 41 of the conductive pattern 40 for charge removal also has a tapered shape, and faces the above described leading end 31c.
By forming in this manner, a discharge easily occurs between the distal end portion 31c and the distal end portion 41a, so that damage to the electrode portion 31, the wiring portion 32, and the like can be prevented.

【0029】図4(b)には上記変形例における導体パ
ターン30と除電用の導体パターン40の対向部分の平
面パターンとして好適な構造を示す。このパターンにお
いては、広幅の電極部31から細幅の延長パターン部3
1bがパネル予定領域30Aの外側へ伸び、その延長パ
ターン部31bの先端部31dは先細形状となってい
る。一方、除電用の導体パターン40の除電分岐部41
は当初比較的広幅に形成されているが、途中から細幅の
突出部41bとなり、この突出部41bの先端部41c
は先細形状となっている。このパターン構造によれば、
延長パターン部31bと突出部41bとが共に細幅に形
成されており、相互に対向する先端部31dと先端部4
1cとが共に先細形状となっていることによって、これ
らの対向部分における放電が発生しやすくなるので、他
の部分で放電が発生することによるパターン破壊などを
防止することができる。
FIG. 4B shows a structure suitable as a plane pattern of a portion where the conductor pattern 30 and the conductor pattern 40 for static elimination in the above-mentioned modification are opposed. In this pattern, the wide electrode portion 31 is extended to the narrow extended pattern portion 3.
1b extends outside the panel expected area 30A, and the leading end 31d of the extended pattern portion 31b is tapered. On the other hand, the charge removing branch portion 41 of the conductive pattern 40 for charge removal.
Is formed to be relatively wide at first, but becomes a narrow protrusion 41b in the middle, and the tip 41c of this protrusion 41b is formed.
Has a tapered shape. According to this pattern structure,
The extension pattern portion 31b and the protruding portion 41b are both formed to have a narrow width, and the distal end portion 31d and the distal end portion 4 facing each other are formed.
Since both 1c and 1c are tapered, discharge is likely to occur in these opposing portions, so that pattern destruction or the like due to discharge occurring in other portions can be prevented.

【0030】上記実施形態では、導体パターンにおいて
配線部が引き出される側の端部とは反対側の端部を除電
用の導体パターンに対して導電接続させたり、対向配置
させたりしているが、導体パターンの構成上可能でさえ
あれば、上記のような反対側、すなわち図1における上
側外縁部の代わりに、配線部が引き出される側とは異な
る外縁部である、例えば、図1における右側外縁部や左
側外縁部において除電用の導体パターンに対して導電接
続させたり、対向配置させたりしても構わない。このよ
うな構造は画素毎に画素電極が配列され、各画素電極間
に走査線やデータ線等の配線が形成されている場合には
十分可能である。ただし、上述のようにパッシブマトリ
クス型のパネルにおいては、配線部32が引き出されて
いる電極部31の一端部とは反対側の電極部31の端部
31aを除電用の導体パターン40に導電接続させた
り、対向配置させたりすることが簡易なパターン構成を
維持できる点で好ましい。
In the above embodiment, the end of the conductor pattern opposite to the end from which the wiring portion is drawn out is conductively connected to the conductor pattern for static elimination or is opposed to the conductor pattern. If it is possible due to the configuration of the conductor pattern, the opposite side as described above, that is, an outer edge different from the side from which the wiring portion is drawn out instead of the upper outer edge in FIG. 1, for example, the right outer edge in FIG. The portion or the left outer edge portion may be conductively connected to the conductive pattern for static elimination, or may be disposed to face. Such a structure is sufficiently possible when pixel electrodes are arranged for each pixel and wiring such as a scanning line or a data line is formed between the pixel electrodes. However, as described above, in the passive matrix type panel, the end 31a of the electrode portion 31 opposite to the one end of the electrode portion 31 from which the wiring portion 32 is drawn is electrically connected to the conductive pattern 40 for static elimination. It is preferable that they are arranged opposite to each other because a simple pattern configuration can be maintained.

【0031】尚、本発明の電気光学装置の製造方法は、
上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得るこ
とは勿論である。例えばアクティブマトリクス型の液晶
装置においても、電極や配線の保護はもちろんのこと、
アクティブ素子の静電破壊を防止するために保護用の除
電用の導体パターンを設ける場合があり、このような場
合においても、COG構造を採用した場合には、上記実
施形態と同様にCOG実装を行うための外部接続部の反
対側から配線を引き出して除電用の導体パターンに導電
接続させたり、除電用の導体パターンに対して所定の間
隙を持って対向させたりすることによって、有効な静電
対策を講じることが可能になる。
The method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention includes:
It is needless to say that the present invention is not limited to the illustrated example described above, and various changes can be made without departing from the scope of the present invention. For example, even in an active matrix type liquid crystal device, not only protection of electrodes and wiring, but also
In some cases, a conductor pattern for static elimination for protection is provided in order to prevent electrostatic breakdown of the active element. In such a case, when the COG structure is adopted, COG mounting is performed in the same manner as in the above embodiment. By pulling out the wiring from the opposite side of the external connection part to perform conductive connection to the conductor pattern for static elimination or facing the conductor pattern for static elimination with a predetermined gap, effective electrostatic Measures can be taken.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
導体パターンにおける、配線部が引き出された電極部の
一端部以外の外縁部に対して、導電接続されるか、或い
は、所定間隔を以って対向するように構成された除電用
の導体パターンを形成することにより、配線部や実装部
のパターン構造に支障を与えることなく除電用の導体パ
ターンを形成できるので、導体パターンの設計の自由度
を高めることができる。特に、集積回路チップなどを実
装するためのCOG構造を有する電気光学装置である場
合には、チップ実装部に除電用の導体パターンを設ける
ことができないが、本発明によれば支障なく除電用の導
体パターンを形成し、十分な静電気対策をとることが可
能になる。
As described above, according to the present invention,
In the conductor pattern, the wiring portion is connected to the outer edge portion other than the one end portion of the extracted electrode portion, or a conductive pattern for static elimination configured to be opposed at a predetermined interval. By forming the conductive pattern, the conductor pattern for static elimination can be formed without disturbing the pattern structure of the wiring portion and the mounting portion, so that the degree of freedom in designing the conductor pattern can be increased. In particular, in the case of an electro-optical device having a COG structure for mounting an integrated circuit chip or the like, a conductor pattern for static elimination cannot be provided in the chip mounting portion. By forming a conductor pattern, it is possible to take sufficient measures against static electricity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電気光学装置の製造方法の実施形
態を示す一つのパネル領域に対応するパターン構造を模
式的に示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically showing a pattern structure corresponding to one panel region showing an embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention.

【図2】同実施形態において使用する母基板の平面構造
を模式的に示す全体平面図である。
FIG. 2 is an overall plan view schematically showing a planar structure of a mother substrate used in the embodiment.

【図3】同実施形態の変形例を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a modification of the embodiment.

【図4】同実施形態における導体パターンと除電用の導
体パターンとの対向部分の好適なパターン構造を示す拡
大部分平面図(a)及び上記変形例における導体パター
ンと除電用の導体パターンとの対向部分の好適なパター
ン構造を示す拡大部分平面図(b)である。
FIG. 4A is an enlarged partial plan view showing a preferred pattern structure of a portion where a conductor pattern and a conductor pattern for static elimination according to the embodiment are opposed to each other, and FIG. It is an enlarged partial plan view (b) which shows the suitable pattern structure of a part.

【図5】従来の導体パターン及び除電用の導体パターン
を模式的に示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view schematically showing a conventional conductor pattern and a conductor pattern for static elimination.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

30 導体パターン 30A パネル予定領域 31 電極部 31a 端部 31b 延長パターン部 32 配線部 32a 接続端子 33 外部接続部 40 除電用の導体パターン 41 除電分岐部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 Conductive pattern 30A Planned panel area 31 Electrode part 31a End part 31b Extension pattern part 32 Wiring part 32a Connection terminal 33 External connection part 40 Conductive pattern for static elimination 41 Static elimination branch part

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気光学物質に電解を印加するための電
極部、及び該電極部の一端部から引き出された配線部を
有する第1の導体パターンを基板上に形成する電気光学
装置の製造方法であり、 前導体パターンの前記一端部以外の部分において前記導
体パターンと接続するように、或いは前記導体パターン
と所定間隔離した位置に、除電用の第2の導体パターン
を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
1. A method of manufacturing an electro-optical device in which a first conductor pattern having an electrode portion for applying electrolysis to an electro-optical material and a wiring portion extending from one end of the electrode portion is formed on a substrate. A second conductor pattern for static elimination is formed so as to be connected to the conductor pattern at a portion other than the one end of the front conductor pattern, or at a position separated from the conductor pattern by a predetermined distance. Of manufacturing an electro-optical device.
【請求項2】 請求項1において、前記配線部の先端に
は前記基板上に実装される半導体チップに接続される接
続端子部が形成されることを特徴とする電気光学装置の
製造方法。
2. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein a connection terminal portion connected to a semiconductor chip mounted on the substrate is formed at an end of the wiring portion.
【請求項3】 請求項1又は請求項2において、前記第
1の導体パターン及び前記第2の導体パターンは各々が
対向するように形成され、その対向部分においては前記
第1の導体パターン、又は前記第2の導体パターンの少
なくとも一方が先細となっていることを特徴とする電気
光学装置の製造方法。
3. The first conductor pattern and the second conductor pattern according to claim 1 or 2, wherein the first conductor pattern and the second conductor pattern are formed so as to face each other, and the first conductor pattern or A method of manufacturing an electro-optical device, wherein at least one of the second conductor patterns is tapered.
【請求項4】 請求項3において、前記第1の導体パタ
ーンは、前記対向部分におけるパターン幅が前記電極部
より細いことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
4. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 3, wherein a pattern width of the first conductor pattern in the facing portion is smaller than that of the electrode portion.
【請求項5】 請求項1から請求項4までのいずれか1
項において、前記第2の導体パターンを切り離す工程を
有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein:
14. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 12, further comprising a step of separating the second conductive pattern.
JP26853099A 1999-09-22 1999-09-22 Manufacturing method of electro-optical device Expired - Fee Related JP3731405B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26853099A JP3731405B2 (en) 1999-09-22 1999-09-22 Manufacturing method of electro-optical device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26853099A JP3731405B2 (en) 1999-09-22 1999-09-22 Manufacturing method of electro-optical device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001092371A true JP2001092371A (en) 2001-04-06
JP3731405B2 JP3731405B2 (en) 2006-01-05

Family

ID=17459804

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26853099A Expired - Fee Related JP3731405B2 (en) 1999-09-22 1999-09-22 Manufacturing method of electro-optical device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3731405B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004233842A (en) * 2003-01-31 2004-08-19 Optrex Corp Liquid crystal display panel
JP2006071778A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Optrex Corp Liquid crystal display panel
US7839459B2 (en) 2004-11-15 2010-11-23 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Flat panel display device including electrostatic discharge prevention units
WO2014090626A3 (en) * 2012-12-14 2014-09-12 Osram Opto Semiconductors Gmbh Organic optoelectronic component device and method for producing an organic optoelectronic component device
KR20160066095A (en) * 2014-12-01 2016-06-10 삼성디스플레이 주식회사 Display device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004233842A (en) * 2003-01-31 2004-08-19 Optrex Corp Liquid crystal display panel
JP2006071778A (en) * 2004-08-31 2006-03-16 Optrex Corp Liquid crystal display panel
US7839459B2 (en) 2004-11-15 2010-11-23 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Flat panel display device including electrostatic discharge prevention units
WO2014090626A3 (en) * 2012-12-14 2014-09-12 Osram Opto Semiconductors Gmbh Organic optoelectronic component device and method for producing an organic optoelectronic component device
KR20160066095A (en) * 2014-12-01 2016-06-10 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR102252974B1 (en) * 2014-12-01 2021-05-20 삼성디스플레이 주식회사 Display device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3731405B2 (en) 2006-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0160062B1 (en) Array substrate for flat display device
EP0772073B1 (en) Liquid crystal display
KR101945866B1 (en) Liquid crystal display having shielding conductor
US10168591B2 (en) Liquid crystal display device
JP5315747B2 (en) Display device
KR20060134263A (en) Thin film transistor substrate and liquid crystal display including the same
KR101842537B1 (en) A liquid crystal display apparatus and an array substrate thereof
JP4054861B2 (en) Display device and manufacturing method of display device
JPH086056A (en) Liquid crystal display device and its manufacture
JP2001166324A (en) Liquid crystal display device and manufacturing method therefor
KR100610994B1 (en) Liquid crystal display unit
JP3731405B2 (en) Manufacturing method of electro-optical device
JP2003195785A (en) Matrix array substrate and manufacturing method therefor
KR101182302B1 (en) Liquid Crystal Display Device and method of manufacturing the same
JPH0345934A (en) Liquid crystal display device
CN108508662B (en) Liquid crystal display device having a plurality of pixel electrodes
KR101308445B1 (en) Liquid Crystal Display Device
JP3648950B2 (en) Liquid crystal display
JP2006301407A (en) Display panel
JP2004219706A (en) Display element and driving voltage detecting method of display element
JP4087151B2 (en) Liquid crystal display
KR20080034315A (en) Array substrate of liquid crystal display device
JP2002116701A (en) Image display device
KR101358256B1 (en) Array substrate for liquid crystal display device
JP2875645B2 (en) Liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050401

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050510

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050704

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050920

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051003

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091021

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101021

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101021

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111021

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121021

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121021

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131021

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees