JP2001085967A - Surface acoustic wave filter element and its manufacture - Google Patents

Surface acoustic wave filter element and its manufacture

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JP2001085967A
JP2001085967A JP26028599A JP26028599A JP2001085967A JP 2001085967 A JP2001085967 A JP 2001085967A JP 26028599 A JP26028599 A JP 26028599A JP 26028599 A JP26028599 A JP 26028599A JP 2001085967 A JP2001085967 A JP 2001085967A
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JP
Japan
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filter
frequency signal
acoustic wave
film
surface acoustic
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JP26028599A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Tanaka
宏 田中
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a surface acoustic wave filter element that can be miniaturized, whose manufacturing process can be simplified and whose design can relatively easily be conducted. SOLUTION: This surface acoustic wave filter element 10 is configured such that two filter sections, that is, a 1st filter section 20 and a 2nd filter section 30 are formed on the same piezoelectric substrate 11. Each of the filter sections 20, 30 has IDTs(interdigital transducers) and reflectors in a pair. The sections 20, 30 extract high frequency signals with different frequency bands and provide outputs of different output signals. The film thickness of the filter sections 20, 30 with the different pass bands differs from each other. Thus, the degree of design freedom can be extended in comparison with the case that the same film thickness is adopted for the filter sections 20, 30. Since the filter sections 20, 30 with the different pass bands are formed on the same substrate, miniaturization and simplicity of the manufacturing process can be promoted more than the case employing different piezoelectric substrates.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、たとえば、携帯
電話機に代表される移動通信装置の高周波回路に適用さ
れる弾性表面波フィルタ素子およびその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface acoustic wave filter element applied to a high-frequency circuit of a mobile communication device represented by, for example, a portable telephone, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、地上携帯電話システムおよび
衛星携帯電話システムに代表される移動通信システム
は、予め定められた周波数帯を使用している。たとえば
日本の地上携帯電話システムであるPDC(Personal Di
gital Cellular)は、受信周波数帯として810〜830(MHz)
を使用し、送信周波数帯として940〜960(MHz)を使用し
ている。したがって、移動通信システムに適用される移
動通信装置は、通常、高周波信号を処理する高周波回路
内に、必要な周波数帯の高周波信号を抽出するフィルタ
を備えている。このフィルタとしては、一般に、弾性表
面波フィルタ(以下「SAWフィルタ」という)が用い
られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a mobile communication system represented by a terrestrial portable telephone system and a satellite portable telephone system uses a predetermined frequency band. For example, PDC (Personal Di
gital Cellular) is 810 to 830 (MHz) as the reception frequency band.
And 940 to 960 (MHz) as a transmission frequency band. Therefore, a mobile communication device applied to a mobile communication system usually includes a filter for extracting a high-frequency signal in a required frequency band in a high-frequency circuit that processes a high-frequency signal. Generally, a surface acoustic wave filter (hereinafter, referred to as a “SAW filter”) is used as this filter.

【0003】SAWフィルタの構成は、たとえば、特開
平10−145172号公報に開示されている。この公
開公報に開示されているSAWフィルタは、1つの周波
数帯の高周波信号を抽出するものである。より具体的に
は、このSAWフィルタは、1つの圧電基板上に形成さ
れ、互いに電気的に接続された2つのフィルタ部を備え
ている。各フィルタ部は、導電膜からなる電極を有して
おり、これら各電極の膜厚は互いに異なっている。電極
の膜厚が異なれば、共振特性も異なる。このSAWフィ
ルタはこの共振特性の違いを利用し、各共振特性を合成
することにより、1つの周波数帯の高周波信号を抽出す
るようにしている。
[0003] The configuration of a SAW filter is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-145172. The SAW filter disclosed in this publication extracts a high-frequency signal in one frequency band. More specifically, this SAW filter includes two filter units formed on one piezoelectric substrate and electrically connected to each other. Each filter unit has electrodes made of a conductive film, and the thicknesses of these electrodes are different from each other. Different electrode thicknesses result in different resonance characteristics. The SAW filter utilizes the difference in the resonance characteristics and combines the resonance characteristics to extract a high-frequency signal in one frequency band.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、最近、移動
通信システムの加入者容量の増大が顕著であり、このま
までは、予め割り当てられている周波数帯ではすべての
加入者を収容することができなくなるおそれがある。そ
こで、加入者容量を増大するために、同一の移動通信シ
ステム内において既存の周波数帯とは異なる周波数帯を
新たに追加使用することが考えられている。
By the way, recently, the subscriber capacity of the mobile communication system has been remarkably increased, and if it is left as it is, there is a possibility that all the subscribers cannot be accommodated in the frequency band allocated in advance. There is. In order to increase the subscriber capacity, it has been considered that a frequency band different from the existing frequency band is additionally used in the same mobile communication system.

【0005】また、より高度なサービスをユーザに提供
するために、既存の移動通信システムとは異なる新たな
移動通信システムの研究開発も活発化している。この新
たな移動通信システムは、既存装置の有効利用の観点か
ら既存の移動通信システムとの併存を考慮し、既存の使
用している周波数帯とは異なる周波数帯を使用する場合
がある。
[0005] In order to provide more advanced services to users, research and development of a new mobile communication system different from the existing mobile communication system has been activated. The new mobile communication system may use a frequency band different from the existing frequency band in consideration of coexistence with the existing mobile communication system from the viewpoint of effective use of the existing device.

【0006】つまり、加入者容量の増大を図るためにし
ろより高度なサービスなどをユーザに提供するためにし
ろ、1つの移動通信装置において少なくとも2つの周波
数帯の高周波信号を受信できるようにする必要がある。
すなわち、移動通信装置には、異なる周波数帯の高周波
信号を抽出できるフィルタが必要となる。
In other words, it is necessary to enable one mobile communication device to receive high-frequency signals in at least two frequency bands, in order to increase subscriber capacity or to provide more advanced services to users. There is.
That is, the mobile communication device requires a filter that can extract high-frequency signals in different frequency bands.

【0007】これに対処するためには、2つの独立した
電子部品として2つの異なる周波数帯の高周波信号を抽
出するSAWフィルタを用いることが考えられる。しか
しながら、この場合には、2つの電子部品をパッケージ
内に実装する必要があるから、小型化を図ることが困難
であるとの不具合がある。また、2つの電子部品を電極
に接続する必要があるから、作業工程が煩雑であるとの
不具合もある。
To cope with this, it is conceivable to use a SAW filter for extracting high-frequency signals in two different frequency bands as two independent electronic components. However, in this case, since it is necessary to mount two electronic components in the package, there is a problem that it is difficult to reduce the size. In addition, since it is necessary to connect two electronic components to the electrodes, there is a problem that the working process is complicated.

【0008】また、小型化を図るとの観点から、1つの
圧電基板上に異なる周波数に対応する2つのフィルタ部
を同一膜厚で形成することが考えられる。しかしなが
ら、この場合には、設計の自由度が制限されるとの不具
合がある。より具体的には、フィルタ特性は、使用環境
などに応じて異なるものが要求される場合がある。たと
えば、第1の通過帯域の挿入損失を第2の通過帯域の挿
入損失よりも小さくするというような要求があったり、
第1の遮断帯域の減衰量よりも第2の遮断帯域の減衰量
を大きくするというような要求があったりする。このよ
うな場合、膜厚が同一では、これらの要求を容易に満足
することが困難となる。
From the viewpoint of miniaturization, it is conceivable to form two filter portions corresponding to different frequencies on one piezoelectric substrate with the same film thickness. However, in this case, there is a problem that the degree of freedom of design is limited. More specifically, different filter characteristics may be required depending on the use environment and the like. For example, there is a demand that the insertion loss of the first pass band be smaller than the insertion loss of the second pass band,
There is a demand for making the attenuation of the second stop band larger than the attenuation of the first stop band. In such a case, if the film thickness is the same, it is difficult to easily satisfy these requirements.

【0009】そこで、この発明の目的は、上述の技術的
課題を解決し、小型化および作業工程の簡素化を図るこ
とができ、かつ、設計を相対的に容易に行うことができ
る弾性表面波フィルタ素子およびその製造方法を提供す
ることである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned technical problems, to reduce the size and simplify the working process, and to design a surface acoustic wave that can be designed relatively easily. An object of the present invention is to provide a filter element and a method for manufacturing the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
のこの発明は、第1表面部およびこの第1表面部とは異
なる表面領域である第2表面部を有する圧電基板と、上
記第1表面部に形成された第1膜厚の第1入力電極膜お
よび第1出力電極膜を有し、上記第1入力電極膜に入力
された高周波信号を上記第1表面部を伝播する弾性表面
波に変換し、この弾性表面波を上記第1出力電極膜によ
り高周波信号に変換することにより、第1周波数帯の高
周波信号を外部に出力する第1フィルタ部と、上記第2
表面部に形成された上記第1膜厚よりも厚い第2膜厚の
第2入力電極膜および第2出力電極膜を有し、上記第2
入力電極膜に入力された高周波信号を上記第2表面部を
伝播する弾性表面波に変換し、この弾性表面波を上記第
2出力電極膜により高周波信号に変換することにより、
上記第1周波数帯とは異なる第2周波数帯の高周波信号
を上記第1フィルタ部の出力とは別個に外部に出力する
第2フィルタ部とを含むものである。
In order to achieve the above object, the present invention provides a piezoelectric substrate having a first surface portion and a second surface portion which is a surface region different from the first surface portion; A surface acoustic wave having a first input electrode film and a first output electrode film having a first thickness formed on a surface portion, and transmitting a high-frequency signal input to the first input electrode film through the first surface portion; And a first filter unit that outputs a high-frequency signal in a first frequency band to the outside by converting the surface acoustic wave into a high-frequency signal by the first output electrode film.
A second input electrode film and a second output electrode film having a second thickness greater than the first thickness formed on the surface portion;
By converting a high-frequency signal input to the input electrode film into a surface acoustic wave propagating through the second surface portion, and converting the surface acoustic wave into a high-frequency signal by the second output electrode film,
A second filter unit that outputs a high-frequency signal of a second frequency band different from the first frequency band to the outside separately from the output of the first filter unit.

【0011】また、この発明は、圧電基板の表面上に第
1膜厚の第1導電膜を形成する工程と、この第1導電膜
のうち所定範囲をエッチングすることにより、第1膜厚
の電極膜を有する第1フィルタ部を作成する工程と、上
記所定範囲以外の第1導電膜上に導電膜をさらに形成す
ることにより、上記第1膜厚とは異なる第2膜厚の第2
導電膜を形成する工程と、この第2導電膜をエッチング
することにより、第2膜厚の電極膜を有する第2フィル
タ部を作成する工程とを含むものである。
Further, the present invention provides a step of forming a first conductive film having a first thickness on a surface of a piezoelectric substrate, and etching a predetermined range of the first conductive film to thereby form the first conductive film. Forming a first filter portion having an electrode film, and further forming a conductive film on the first conductive film outside the predetermined range, thereby forming a second film having a second film thickness different from the first film thickness.
The method includes a step of forming a conductive film, and a step of forming a second filter portion having an electrode film having a second thickness by etching the second conductive film.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下では、この発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0013】実施の形態1 図1は、この発明の実施の形態1に係るSAWフィルタ
の構成を示す断面図である。このSAWフィルタ1は、
たとえば、第1移動通信システムおよび第2移動通信シ
ステムからなる2つの異なる移動通信システムの両方で
使用可能な携帯電話機などの移動通信端末に設けられて
いる高周波回路に適用される。したがって、SAWフィ
ルタ1は、第1および第2移動通信システムに対応すべ
く、第1通過周波数帯Δf1およびこの第1通過周波数
帯Δf1とは異なる第2通過周波数帯Δf2を備えたフ
ィルタ特性を有している。
Embodiment 1 FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a SAW filter according to Embodiment 1 of the present invention. This SAW filter 1
For example, the present invention is applied to a high-frequency circuit provided in a mobile communication terminal such as a mobile phone that can be used in two different mobile communication systems including a first mobile communication system and a second mobile communication system. Therefore, the SAW filter 1 has a filter characteristic including a first pass frequency band Δf1 and a second pass frequency band Δf2 different from the first pass frequency band Δf1 in order to support the first and second mobile communication systems. are doing.

【0014】第1および第2移動通信システムは、互い
に異なる周波数帯を使用するものである。たとえば、第
1移動通信システムはGSM(Global System for Mobil
e communication)であり、第2移動通信システムはPC
N(Personal CommunicationNetwork)である。GSMお
よびPCNは、それぞれ、送信周波数として890〜915(M
Hz)および1710〜1785(MHz)を使用する。また、GSMお
よびPCNは、それぞれ、受信周波数として935〜960(M
Hz)および1805〜1880(MHz)を使用する。
The first and second mobile communication systems use different frequency bands. For example, the first mobile communication system is GSM (Global System for Mobile).
e communication), and the second mobile communication system is a PC
N (Personal Communication Network). GSM and PCN have transmission frequencies of 890 to 915 (M
Hz) and 1710-1785 (MHz). In addition, GSM and PCN respectively use 935 to 960 (M
Hz) and 1805-1880 (MHz).

【0015】SAWフィルタ1を受信用フィルタとして
使用する場合、たとえば、第1通過周波数帯Δf1は18
05〜1880(MHz)であり、第2通過周波数帯Δf2は935〜
960(MHz)である。また、SAWフィルタ1を送信用フィ
ルタとして使用する場合には、たとえば、第1通過周波
数帯Δf1は1710〜1785(MHz)であり、第2通過周波数
帯Δf2は890〜915(MHz)である。
When the SAW filter 1 is used as a receiving filter, for example, the first pass frequency band Δf1 is 18
05 to 1880 (MHz), and the second pass frequency band Δf2 is 935 to
960 (MHz). When the SAW filter 1 is used as a transmission filter, for example, the first pass frequency band Δf1 is 1710 to 1785 (MHz), and the second pass frequency band Δf2 is 890 to 915 (MHz).

【0016】SAWフィルタ1は、パッケージ2および
パッケージ2に封止されたSAWフィルタ素子10を含
む。パッケージ2は、樹脂などで構成され、内部空間3
を有する。SAWフィルタ素子10は、同一の圧電基板
11上に2つのフィルタ部20、30を形成した構成と
なっており、パッケージ2の内部空間3に実装される。
The SAW filter 1 includes a package 2 and a SAW filter element 10 sealed in the package 2. The package 2 is made of resin or the like, and has an internal space 3.
Having. The SAW filter element 10 has a configuration in which two filter units 20 and 30 are formed on the same piezoelectric substrate 11, and is mounted in the internal space 3 of the package 2.

【0017】より具体的には、パッケージ2は、内部空
間3を有する基部4と、内部空間3を封止する蓋部5と
を有する。内部空間3の底面であって基部4の内底面4
aには、電極6が設けられている。電極6は、基部4の
外底面4bに設けられている電極7に導通されている。
電極6、7は、入力用電極、出力用電極およびアース電
極を含む。
More specifically, the package 2 has a base 4 having an internal space 3 and a lid 5 for sealing the internal space 3. The bottom surface of the inner space 3 and the inner bottom surface 4 of the base 4
a is provided with an electrode 6. The electrode 6 is electrically connected to the electrode 7 provided on the outer bottom surface 4b of the base 4.
The electrodes 6, 7 include an input electrode, an output electrode, and a ground electrode.

【0018】SAWフィルタ素子10は、パッケージ2
に設けられている電極6に導通された状態で内部空間3
のほぼ中央に実装される。より具体的には、SAWフィ
ルタ素子10は、いわゆるフリップチップ方式によりパ
ッケージ2に実装される。さらに具体的には、SAWフ
ィルタ素子10は、圧電基板11の表面11aを有す
る。表面11aの所定位置には、電極パッド12が設け
られている。電極パッド12には、金属バンプ13が取
り付けられている。SAWフィルタ素子10は、表面1
1aを下向きにした状態で金属バンプ13を電極7に接
着させることによりパッケージ2に実装される。
The SAW filter element 10 includes a package 2
The internal space 3 is electrically connected to the electrode 6 provided in the internal space 3.
It is implemented almost in the center. More specifically, the SAW filter element 10 is mounted on the package 2 by a so-called flip-chip method. More specifically, SAW filter element 10 has surface 11 a of piezoelectric substrate 11. An electrode pad 12 is provided at a predetermined position on the front surface 11a. Metal bumps 13 are attached to the electrode pads 12. The SAW filter element 10 has a surface 1
The package is mounted on the package 2 by bonding the metal bumps 13 to the electrodes 7 with 1a facing downward.

【0019】このように、SAWフィルタ素子10をフ
リップチップ方式によりパッケージ2に実装することに
より、ワイヤを使ってSAWフィルタ素子をパッケージ
に実装する場合に比べて、SAWフィルタ素子10を実
装するのに必要な実装スペースを小さくできる。したが
って、パッケージ2のサイズを小型化できる。そのた
め、高周波回路のサイズを小さくできるから、移動通信
端末の小型化に寄与することができる。
As described above, by mounting the SAW filter element 10 on the package 2 by the flip chip method, it is possible to mount the SAW filter element 10 in comparison with the case where the SAW filter element is mounted on the package using wires. The required mounting space can be reduced. Therefore, the size of the package 2 can be reduced. Therefore, the size of the high-frequency circuit can be reduced, which can contribute to downsizing of the mobile communication terminal.

【0020】図2は、SAWフィルタ素子10の構成を
示す平面図である。SAWフィルタ素子10は、第1フ
ィルタ部20および第2フィルタ部30を有する。第1
および第2フィルタ部20、30は、いずれも2ポート
型共振子である。第1フィルタ部20は、第1通過周波
数帯Δf1を通過帯域とするものであり、第2フィルタ
部30は、第2通過周波数帯Δf2を通過帯域とするも
のである。
FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the SAW filter element 10. The SAW filter element 10 has a first filter section 20 and a second filter section 30. First
Each of the second filter sections 20 and 30 is a two-port resonator. The first filter section 20 has a first pass frequency band Δf1 as a pass band, and the second filter section 30 has a second pass frequency band Δf2 as a pass band.

【0021】すなわち、第1フィルタ部20は、入力端
子21から入力された高周波信号のうち第1通過周波数
帯Δf1の高周波信号を抽出し、この抽出された高周波
信号を出力端子22に出力する。また、第2フィルタ部
30は、入力端子31から入力された高周波信号のうち
第2通過周波数帯Δf2の高周波信号を抽出し、この抽
出された高周波信号を出力端子32に出力する。すなわ
ち、第1および第2フィルタ部20、30は、抽出され
た高周波信号をSAWフィルタ素子10の出力信号とし
てそれぞれ別個に出力端子22、32に出力する。言い
換えれば、このSAWフィルタ素子10は、第1および
第2フィルタ部20、30により抽出された各高周波信
号を合成することなく別々に出力する。
That is, the first filter section 20 extracts a high-frequency signal of the first pass frequency band Δf1 from the high-frequency signal input from the input terminal 21, and outputs the extracted high-frequency signal to the output terminal 22. In addition, the second filter unit 30 extracts a high-frequency signal in the second pass frequency band Δf2 from the high-frequency signal input from the input terminal 31, and outputs the extracted high-frequency signal to the output terminal 32. That is, the first and second filter units 20 and 30 separately output the extracted high-frequency signals to the output terminals 22 and 32 as output signals of the SAW filter element 10, respectively. In other words, the SAW filter element 10 separately outputs the high-frequency signals extracted by the first and second filter units 20 and 30 without combining them.

【0022】さらに具体的には、第1フィルタ部20
は、圧電基板11の表面11aの一部である第1表面部
23、第1表面部23に形成された3つの第1IDT
(interdigital transducer : すだれ状電極パターン)
24および第1表面部23に形成された第1反射器対2
5を含む構成となっている。第2フィルタ部30は、圧
電基板11の表面11aの一部であって上記第1表面部
23とは異なる領域である第2表面部33、第2表面部
33に形成された3つの第2IDT34および第2表面
部33に形成された第2反射器対35を含む構成となっ
ている。
More specifically, the first filter unit 20
Are a first surface portion 23 that is a part of the surface 11a of the piezoelectric substrate 11, and three first IDTs formed on the first surface portion 23.
(Interdigital transducer: interdigital transducer pattern)
24 and first reflector pair 2 formed on first surface portion 23
5 is included. The second filter unit 30 is a part of the surface 11 a of the piezoelectric substrate 11 and is a region different from the first surface unit 23, and three second IDTs 34 formed on the second surface unit 33. And a second reflector pair 35 formed on the second surface portion 33.

【0023】圧電基板11は、弾性表面波を伝播させる
ためのものである。第1IDT24は、1つの第1入力
IDT24aおよび2つの第1出力IDT24bからな
る。第1入力IDT24aは、入力端子21に接続され
ており、入力端子21から入力された入力高周波信号を
第1表面部23を伝播する弾性表面波に変換する。第1
出力IDT24bは、出力端子22に接続されており、
第1表面部23を伝播する弾性表面波を出力高周波信号
に変換し、この出力高周波信号を出力端子22に出力す
る。
The piezoelectric substrate 11 is for transmitting a surface acoustic wave. The first IDT 24 includes one first input IDT 24a and two first output IDTs 24b. The first input IDT 24 a is connected to the input terminal 21 and converts an input high-frequency signal input from the input terminal 21 into a surface acoustic wave propagating through the first surface portion 23. First
The output IDT 24b is connected to the output terminal 22,
The surface acoustic wave propagating through the first surface portion 23 is converted into an output high-frequency signal, and the output high-frequency signal is output to the output terminal 22.

【0024】第2IDT34は、1つの第2入力IDT
34aおよび2つの第2出力IDT34bからなる。第
2入力IDT34aは、入力端子31に接続されてお
り、入力端子31から入力された入力高周波信号を第2
表面部33を伝播する弾性表面波に変換する。第2出力
IDT34bは、出力端子32に接続されており、第2
表面部33を伝播する弾性表面波を出力高周波信号に変
換し、この出力高周波信号を出力端子32に出力する。
第1および第2反射器対25、35は、不要弾性表面波
の外部漏洩を防ぐために、発生された弾性表面波をフィ
ルタ部20、30内に向かって反射するものである。
The second IDT 34 has one second input IDT.
34a and two second output IDTs 34b. The second input IDT 34a is connected to the input terminal 31, and converts the input high-frequency signal input from the input terminal 31 to the second input IDT 34a.
It is converted into a surface acoustic wave propagating on the surface portion 33. The second output IDT 34b is connected to the output terminal 32,
The surface acoustic wave propagating on the surface portion 33 is converted into an output high-frequency signal, and the output high-frequency signal is output to the output terminal 32.
The first and second reflector pairs 25 and 35 reflect generated surface acoustic waves toward the inside of the filter units 20 and 30 in order to prevent external leakage of unnecessary surface acoustic waves.

【0025】各IDT24、34および反射器対25、
35は、いずれも同一組成の導電膜で構成されている。
たとえば各IDT24、34および反射器対25、35
は、アルミニウムから構成されている。
Each IDT 24, 34 and reflector pair 25,
Each of the reference numerals 35 is formed of a conductive film having the same composition.
For example, each IDT 24, 34 and reflector pair 25, 35
Is made of aluminum.

【0026】なお、この実施の形態1では、第1入力I
DT24aおよび第1出力IDT24bがそれぞれ第1
入力電極膜および第1出力電極膜に相当し、第2入力I
DT34aおよび第2出力IDT34bがそれぞれ第2
入力電極膜および第2出力電極膜に相当する。
In the first embodiment, the first input I
DT 24a and first output IDT 24b are the first
The second input I corresponds to the input electrode film and the first output electrode film.
DT34a and the second output IDT34b are the second
It corresponds to the input electrode film and the second output electrode film.

【0027】第1および第2IDT24、34は、いず
れも複数の電極指を有する。第1および第2IDT2
4、34は、配列方向Aに沿って所定間隔離れた圧電基
板11上の位置に形成されている。上述のように、第1
および第2IDT24、34は、それぞれ、第1通過周
波数帯Δf1および第2通過周波数帯Δf2に対応す
る。
Each of the first and second IDTs 24 and 34 has a plurality of electrode fingers. First and second IDT2
The reference numerals 4 and 34 are formed at positions on the piezoelectric substrate 11 separated by a predetermined distance in the arrangement direction A. As mentioned above, the first
And the second IDTs 24 and 34 correspond to the first pass frequency band Δf1 and the second pass frequency band Δf2, respectively.

【0028】第1および第2反射器対25、35は、そ
れぞれ、第1および第2IDT24、34の両側に配置
されている。より具体的には、第1反射器対25は、圧
電基板11上の第1IDT24の配列方向Aに沿った両
側に形成されている。第2反射器対35は、圧電基板1
1上の第2IDT34の配列方向Aに沿った両側に形成
されている。
The first and second reflector pairs 25 and 35 are disposed on both sides of the first and second IDTs 24 and 34, respectively. More specifically, the first reflector pair 25 is formed on both sides of the first IDT 24 on the piezoelectric substrate 11 along the arrangement direction A. The second reflector pair 35 includes the piezoelectric substrate 1
It is formed on both sides along the arrangement direction A of the second IDT 34 above the first IDT 34.

【0029】図3は、図2のIII-III断面図である。上
述のように、SAWフィルタ素子10は、第1フィルタ
部20および第2フィルタ部30を有している。第1フ
ィルタ部20を構成する第1IDT24および第1反射
器対25は、所定の第1膜厚h1(たとえばh1=0.2
μm)を有する。また、第2フィルタ部30を構成する
第2IDT34および第2反射器対35は、所定の第2
膜厚h2(たとえばh2=0.4μm)を有する。以下で
は、便宜上、第1IDT24および第1反射器対25の
第1膜厚h1を第1フィルタ部20の第1膜厚h1と呼
び、第2IDT34および第2反射器対35の第2膜厚
h2を第2フィルタ部30の第2膜厚h2と呼ぶ。
FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III of FIG. As described above, the SAW filter element 10 has the first filter unit 20 and the second filter unit 30. The first IDT 24 and the first reflector pair 25 that constitute the first filter unit 20 have a predetermined first film thickness h1 (for example, h1 = 0.2
μm). In addition, the second IDT 34 and the second reflector pair 35 constituting the second filter unit 30
It has a thickness h2 (for example, h2 = 0.4 μm). Hereinafter, for convenience, the first thickness h1 of the first IDT 24 and the first reflector pair 25 is referred to as the first thickness h1 of the first filter unit 20, and the second thickness h2 of the second IDT 34 and the second reflector pair 35. Is referred to as a second film thickness h2 of the second filter section 30.

【0030】第1フィルタ部20の第1膜厚h1と第2
フィルタ部30の第2膜厚h2とは、互いに異なる値に
設定されている(h1≠h2)。より具体的には、第1
フィルタ部20の第1膜厚h1よりも第2フィルタ部3
0の第2膜厚h2の方が厚くなるように(h1<h
2)、各フィルタ部20、30の膜厚が設定されてい
る。すなわち、高周波帯に対応する第1フィルタ部20
の第1膜厚h1を低周波帯に対応する第2フィルタ部3
0の第2膜厚h2よりも薄くしている。
The first film thickness h1 of the first filter section 20 and the second
The second film thickness h2 of the filter section 30 is set to a value different from each other (h1 ≠ h2). More specifically, the first
The second filter portion 3 is larger than the first thickness h1 of the filter portion 20.
0 so that the second film thickness h2 is larger (h1 <h
2) The film thickness of each of the filter sections 20 and 30 is set. That is, the first filter unit 20 corresponding to the high frequency band
The first filter thickness 3 corresponding to the low frequency band
0 is smaller than the second film thickness h2.

【0031】このように、2つのフィルタ部20、30
の第1膜厚h1、h2を異ならせることで、フィルタ設
計の自由度を格段に向上できる。すなわち、2つのフィ
ルタ部20、30の第1膜厚h1、h2を異ならせるこ
とにより、2つのフィルタ部20、30を同一の膜厚で
形成する場合に比べて、高周波信号の減衰量の設定を容
易に行えるからである。
As described above, the two filter units 20, 30
By making the first film thicknesses h1 and h2 different from each other, the degree of freedom in filter design can be remarkably improved. That is, by setting the first film thicknesses h1 and h2 of the two filter portions 20 and 30 to be different from each other, it is possible to set the attenuation amount of the high-frequency signal as compared with the case where the two filter portions 20 and 30 are formed with the same film thickness. Can be easily performed.

【0032】さらに具体的には、フィルタ部における減
衰量は、フィルタ部の膜厚、圧電基板の材料など複数の
要素にわたる。しかし、どれか一つの要素でも自由がき
かないということになると、設計の自由度の幅が狭くな
る。これに対して、すべての要素を自由に変更できれ
ば、設計の自由度の幅も広くなる。減衰量の調整に関す
る要求は、従来の技術の項でも説明したように、ユーザ
により多岐にわたる。そのため、フィルタ部20、30
の膜厚を異ならせれば、ユーザの要求に応じたフィルタ
設計を自由に行うことができる。
More specifically, the amount of attenuation in the filter section covers a plurality of factors such as the thickness of the filter section and the material of the piezoelectric substrate. However, if there is no freedom in any one element, the degree of freedom in design is reduced. On the other hand, if all the elements can be freely changed, the degree of freedom in design will be widened. As described in the section of the related art, the requirements for adjusting the amount of attenuation vary depending on the user. Therefore, the filter units 20 and 30
If the film thicknesses are different, the filter can be freely designed according to the user's requirements.

【0033】また、上述の例でも示したように、異なる
移動通信システムが使用する周波数帯は大きく離れた範
囲に設定されている場合がある。たとえば、一方の周波
数帯よりも倍以上高い周波数帯を通過帯域とする場合も
ある。高周波帯域の高周波信号を抽出するためには、I
DTの各電極指のピッチを狭くする必要がある。
Further, as shown in the above example, the frequency bands used by different mobile communication systems may be set in widely separated ranges. For example, a frequency band that is at least twice as high as one frequency band may be used as the pass band. In order to extract a high frequency signal in a high frequency band, I
It is necessary to narrow the pitch of each electrode finger of the DT.

【0034】この場合、電極指そのものの幅も狭くな
る。したがって、狭い幅の電極指の膜厚としては、厚く
するよりも薄くした方が電極指の形成が容易である。す
なわち、フィルタ部としての生産性を考慮すれば、相対
的に高周波帯域に対応するフィルタ部の膜厚を相対的に
低周波帯域に対応するフィルタ部の膜厚よりも薄くする
必要がある。
In this case, the width of the electrode finger itself also becomes narrow. Therefore, it is easier to form an electrode finger with a thinner electrode finger than with a thick electrode finger. That is, in consideration of the productivity of the filter unit, the film thickness of the filter unit corresponding to a relatively high frequency band needs to be smaller than the film thickness of the filter unit corresponding to a relatively low frequency band.

【0035】しかも、異なる移動通信システムにそれぞ
れ対応する第1および第2フィルタ部20、30が形成
された1つのSAWフィルタ素子10を1つのパッケー
ジ2に実装しているから、異なる移動通信システムにそ
れぞれ対応する別個のSAWフィルタ素子を1つのパッ
ケージ2に実装する場合に比べて、小型化を図ることが
できる。そのうえ、フリップチップ方式でSAWフィル
タ素子10をパッケージ2に実装しているから、ワイヤ
など面倒な作業を行う場合に比べて、実装工程の簡略化
を図ることができる。
Moreover, since one SAW filter element 10 having the first and second filter sections 20 and 30 respectively corresponding to different mobile communication systems is mounted in one package 2, different mobile communication systems can be used. The size can be reduced as compared with the case where the corresponding separate SAW filter elements are mounted on one package 2. In addition, since the SAW filter element 10 is mounted on the package 2 by the flip chip method, the mounting process can be simplified as compared with a case where a complicated operation such as a wire is performed.

【0036】実施の形態2 図4は、この発明の実施の形態2に係るSAWフィルタ
素子10の製造方法を説明するための工程図である。こ
の実施の形態2では、上記実施の形態1に係るSAWフ
ィルタ素子10を製造する方法を説明する。このSAW
フィルタ素子の製造は、フィルタ製造装置により自動的
に行われる。
Second Embodiment FIG. 4 is a process chart for explaining a method of manufacturing a SAW filter element 10 according to a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, a method for manufacturing the SAW filter element 10 according to the first embodiment will be described. This SAW
The manufacture of the filter element is performed automatically by a filter manufacturing apparatus.

【0037】フィルタ製造装置は、第1フィルタ部20
の第1膜厚h1に等しい厚さの導電膜である第1金属膜
(たとえばアルミニウム膜)40を圧電基板11の表面
11a全体に生成する(図4(a))。次いで、フィルタ
製造装置は、第1フィルタ部20を作成する(図4
(b))。より具体的には、フィルタ製造装置は、成膜さ
れた第1金属膜40のうち所定範囲をエッチングするこ
とにより第1フィルタ部20を作成する。所定範囲は、
第1金属膜40の表面のうち第1フィルタ部20が形成
される側の半分に相当する。この場合、第1IDT24
および第1反射器対25の形状に応じた部分が残るよう
にエッチングする。また、第2フィルタ部30を形成す
べき範囲、すなわち上記所定範囲以外の範囲に関しては
第1金属膜40がそのまま残る。こうすることにより、
第1膜厚h1の第1フィルタ部20を作成することがで
きる。
The filter manufacturing apparatus includes a first filter unit 20
A first metal film (for example, an aluminum film) 40, which is a conductive film having a thickness equal to the first film thickness h1, is formed on the entire surface 11a of the piezoelectric substrate 11 (FIG. 4A). Next, the filter manufacturing apparatus creates the first filter unit 20 (FIG. 4).
(b)). More specifically, the filter manufacturing apparatus creates the first filter unit 20 by etching a predetermined range of the formed first metal film 40. The predetermined range is
This corresponds to half of the surface of the first metal film 40 on the side where the first filter unit 20 is formed. In this case, the first IDT 24
Etching is performed so that a portion corresponding to the shape of the first reflector pair 25 remains. Further, the first metal film 40 remains as it is in a range where the second filter section 30 is to be formed, that is, in a range other than the above-described predetermined range. By doing this,
The first filter section 20 having the first thickness h1 can be formed.

【0038】次に、フィルタ製造装置は、上記所定範囲
以外の第1金属膜40上に金属膜41を追加生成するこ
とにより、第2金属膜42を形成する(図4(c))。こ
の場合、新たに成膜される金属膜41の膜厚は、第2フ
ィルタ部30の第2膜厚h2から第1フィルタ部20の
第1膜厚h1を差し引いた値(h2−h1)に等しい厚
さとする。その結果、第2金属膜42の膜厚は、図4
(b)においてエッチング対象とならなかった第1金属膜
40の第1膜厚h1と合わせると、第2フィルタ部30
の第2膜厚h2に等しい値となる。
Next, the filter manufacturing apparatus forms the second metal film 42 by additionally generating the metal film 41 on the first metal film 40 outside the above-mentioned predetermined range (FIG. 4C). In this case, the thickness of the newly formed metal film 41 is a value (h2-h1) obtained by subtracting the first thickness h1 of the first filter unit 20 from the second thickness h2 of the second filter unit 30. Equal thickness. As a result, the thickness of the second metal film 42 becomes
When combined with the first film thickness h1 of the first metal film 40 which was not to be etched in FIG.
Of the second film thickness h2.

【0039】その後、フィルタ製造装置は、第2フィル
タ部30を形成する(図4(d))。より具体的には、フ
ィルタ製造装置は、第2金属膜42のうち第2IDT3
4および第2反射器対35の形状に応じた部分が残るよ
うに他の部分をエッチングにより除去する。こうするこ
とにより、第2膜厚h2の第2フィルタ部30を作成す
ることができる。
Thereafter, the filter manufacturing apparatus forms the second filter section 30 (FIG. 4D). More specifically, the filter manufacturing apparatus includes a second IDT 3 of the second metal film 42.
Other portions are removed by etching so that portions corresponding to the shapes of the fourth and second reflector pairs 35 remain. In this manner, the second filter section 30 having the second thickness h2 can be formed.

【0040】以上のようにこの実施の形態2によれば、
薄い金属膜を2回に分けて成膜することにより第2フィ
ルタ部30を作成している。したがって、第2フィルタ
部30を作成するのに元々厚い金属膜を1回成膜する場
合に比べて、金属膜の成膜時間を短縮できる。通常、薄
い金属膜を2回成膜する方が厚い金属膜を1回成膜する
よりも時間が短くて済む。そのため、SAWフィルタ素
子10の製造時間を全体として短縮することができる。
As described above, according to the second embodiment,
The second filter unit 30 is formed by forming a thin metal film in two steps. Therefore, the time for forming the metal film can be reduced as compared with the case where the originally thick metal film is formed once to form the second filter unit 30. In general, forming a thin metal film twice requires less time than forming a thick metal film once. Therefore, the manufacturing time of the SAW filter element 10 can be shortened as a whole.

【0041】また、たとえばエッチングとしていわゆる
ドライエッチングを適用する場合、第2フィルタ部30
を作成する際にエッチングを1回しか行わないので、オ
ーバーエッチングによる圧電基板11へのダメージを軽
減することができる。すなわち、第1膜厚h1の第1金
属膜40を成膜した際に(図4(b))第1フィルタ部2
0とともに第2フィルタ部30もエッチングして作成す
ることとすれば、2回目の追加金属膜41を成膜した後
にもう1回エッチングすることとなるために、オーバー
エッチングにより圧電基板11に対して相対的に大きな
ダメージを与えるからである。
For example, when so-called dry etching is applied as the etching, the second filter 30
Since the etching is performed only once when forming the substrate, damage to the piezoelectric substrate 11 due to over-etching can be reduced. That is, when the first metal film 40 having the first thickness h1 is formed (FIG. 4B), the first filter unit 2
If the second filter unit 30 is also formed by etching together with 0, the second additional metal film 41 is formed and then another etching is performed. This is because it causes relatively large damage.

【0042】実施の形態3 図5は、この発明の実施の形態3に係るSAWフィルタ
素子10の構成を示す平面図である。図5において図2
と同じ機能部分については同一の参照符号を使用する。
Third Embodiment FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a SAW filter element 10 according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 5, FIG.
The same reference numerals are used for the same functional parts as described above.

【0043】上記実施の形態1では、第1フィルタ部2
0および第2フィルタ部30をいずれも2ポート型共振
子で構成する場合を例にとって説明している。これに対
して、この実施の形態2では、第1フィルタ部20を1
ポート型共振子と2ポート型共振子との組み合わせで構
成し、第2フィルタ部30を2つの2ポート型共振子で
構成する場合を例にとっている。
In the first embodiment, the first filter unit 2
The case where both the 0 and the second filter unit 30 are formed of a two-port resonator is described as an example. On the other hand, in the second embodiment, the first filter unit 20 is set to 1
An example is given in which the second filter unit 30 is configured by a combination of a port-type resonator and a two-port type resonator, and the second filter unit 30 is configured by two two-port-type resonators.

【0044】より詳述すれば、この実施の形態3に係る
第1フィルタ部20は、圧電基板11の表面11aの一
部である第1表面部50と1ポート型共振子51と2ポ
ート型共振子52とを備え、1ポート型共振子51と2
ポート型共振子52とを直列接続した構成となってい
る。第2フィルタ部30は、圧電基板11の表面11a
の一部であって第1表面部50とは異なる領域である第
2表面部60と2つの2ポート型共振子61、62とを
備え、2つの2ポート型共振子61、62は縦続接続さ
れている。
More specifically, the first filter portion 20 according to the third embodiment includes a first surface portion 50 that is a part of the surface 11a of the piezoelectric substrate 11, a one-port resonator 51, and a two-port resonator 51. A one-port resonator 51 and 2
The configuration is such that the port-type resonator 52 is connected in series. The second filter unit 30 includes a surface 11 a of the piezoelectric substrate 11.
And a two-port type resonator 61, 62 that is a part of the first surface portion 50 and is different from the first surface portion 50. The two two-port type resonators 61, 62 are cascaded. Have been.

【0045】第1フィルタ部20についてさらに詳述す
れば、1ポート型共振子51は、第1表面部50の一部
である第3表面部50aと、第3表面部50aに形成さ
れた1つのIDT53と、このIDT53を両側から挟
むように配置された反射器対54とを含む構成となって
いる。
The first filter section 20 will be described in more detail. The one-port resonator 51 includes a third surface section 50a which is a part of the first surface section 50, and a first surface section 50a formed on the third surface section 50a. The configuration includes one IDT 53 and a pair of reflectors 54 arranged to sandwich the IDT 53 from both sides.

【0046】IDT53は、入力IDT53aと出力I
DT53bとを有している。入力IDT53aは、この
SAWフィルタ素子10の入力端子55に接続されてい
る。出力IDT53bは、2ポート型共振子52の入力
IDT56に接続されている。入力端子55から入力さ
れた高周波信号は、入力IDT53aにおいて弾性表面
波に変換される。弾性表面波は、第3表面部50aを伝
播し、出力IDT53bにおいて高周波信号に変換され
る。出力IDT53bは、高周波信号を2ポート型共振
子52に出力する。
The IDT 53 has an input IDT 53a and an output I
DT53b. The input IDT 53a is connected to the input terminal 55 of the SAW filter element 10. The output IDT 53b is connected to the input IDT 56 of the two-port resonator 52. The high-frequency signal input from the input terminal 55 is converted into a surface acoustic wave in the input IDT 53a. The surface acoustic wave propagates through the third surface portion 50a and is converted into a high-frequency signal at the output IDT 53b. The output IDT 53b outputs a high-frequency signal to the two-port resonator 52.

【0047】2ポート型共振子52は、第1表面部50
の一部であって第3表面部50aとは異なる領域である
第4表面部50bと、第4表面部50bに配列方向Aに
沿って配列された2つの入力IDT56および1つの出
力IDT57と、3つのIDT56、57を両側から挟
むように配置された反射器対58とを含む構成となって
いる。
The two-port resonator 52 includes a first surface 50
A fourth surface portion 50b which is a region different from the third surface portion 50a, and two input IDTs 56 and one output IDT 57 arranged along the arrangement direction A on the fourth surface portion 50b; A reflector pair 58 is arranged so as to sandwich the three IDTs 56 and 57 from both sides.

【0048】入力IDT56は、1ポート型共振子51
の出力IDT53bに接続されており、1ポート型共振
子51から出力された高周波信号が入力される。入力I
DT56は、この入力された高周波信号を弾性表面波に
変換する。この弾性表面波は、第4表面部50bを伝播
し、出力IDT57において高周波信号に変換される。
この場合、出力IDT57において変換された高周波信
号は、第1周波数帯域Δf1の高周波信号である。出力
IDT57は、このSAWフィルタ素子10の出力端子
59に接続されている。出力IDT57は、第1周波数
帯域Δf1の高周波信号を出力端子59に出力する。
The input IDT 56 is a one-port resonator 51
And the high-frequency signal output from the one-port resonator 51 is input. Input I
The DT 56 converts the input high-frequency signal into a surface acoustic wave. This surface acoustic wave propagates through the fourth surface portion 50b and is converted into a high-frequency signal at the output IDT 57.
In this case, the high-frequency signal converted by the output IDT 57 is a high-frequency signal of the first frequency band Δf1. The output IDT 57 is connected to the output terminal 59 of the SAW filter element 10. The output IDT 57 outputs a high-frequency signal of the first frequency band Δf1 to the output terminal 59.

【0049】なお、この実施の形態3では、IDT53
が第1入力電極膜に相当し、出力IDT57が第1出力
電極膜に相当する。
In the third embodiment, the IDT 53
Corresponds to the first input electrode film, and the output IDT 57 corresponds to the first output electrode film.

【0050】次に、第2フィルタ部30についてさらに
詳述する。2ポート型共振子61は、第2表面部60の
一部である第5表面部60aと、第5表面部60aに配
列方向Aに沿って配列された1つの入力IDT63およ
び2つの出力IDT64と、3つのIDT63、64を
両側から挟むように配置された反射器対65とを含む構
成となっている。
Next, the second filter section 30 will be described in more detail. The two-port resonator 61 includes a fifth surface portion 60a which is a part of the second surface portion 60, one input IDT 63 and two output IDTs 64 arranged along the arrangement direction A on the fifth surface portion 60a. And a reflector pair 65 arranged so as to sandwich the three IDTs 63 and 64 from both sides.

【0051】入力IDT63は、このSAWフィルタ素
子10の入力端子66に接続されている。入力端子66
から入力された高周波信号は、入力IDT63において
弾性表面波に変換される。弾性表面波は、第5表面部6
0aを伝播し、出力IDT64において高周波信号に変
換される。出力IDT64は、この高周波信号を2ポー
ト型共振子62の入力IDT68に出力する。
The input IDT 63 is connected to the input terminal 66 of the SAW filter element 10. Input terminal 66
Is converted into a surface acoustic wave in the input IDT 63. The surface acoustic wave is applied to the fifth surface portion 6.
0a, and is converted into a high-frequency signal at the output IDT64. The output IDT 64 outputs this high-frequency signal to the input IDT 68 of the two-port resonator 62.

【0052】2ポート型共振子62は、第2表面部60
の一部であって第5表面部60aとは異なる領域である
第6表面部60bと、第6表面部60bに配列方向Aに
沿って配列された2つの入力IDT67および1つの出
力IDT68と、3つのIDT67、68を両側から挟
むように配置された反射器対69とを含む構成となって
いる。
The two-port resonator 62 includes a second surface 60
A sixth surface portion 60b that is a part of the second surface portion 60a and a region different from the fifth surface portion 60a, two input IDTs 67 and one output IDT 68 arranged along the arrangement direction A on the sixth surface portion 60b, A reflector pair 69 is arranged so as to sandwich the three IDTs 67 and 68 from both sides.

【0053】入力IDT67は、2ポート型共振子61
の出力IDT64から高周波信号が与えられるようにな
っている。入力IDT67は、この高周波信号を弾性表
面波に変換する。この弾性表面波は、第6表面部60b
を伝播し、出力IDT68において高周波信号に変換さ
れる。出力IDT68は、このSAWフィルタ素子10
の出力端子70に接続されている。出力IDT68は、
上記高周波信号を出力端子70に出力する。
The input IDT 67 is a two-port resonator 61
The output IDT 64 supplies a high frequency signal. The input IDT 67 converts this high-frequency signal into a surface acoustic wave. This surface acoustic wave is applied to the sixth surface portion 60b.
And converted into a high-frequency signal at the output IDT 68. The output IDT 68 is connected to the SAW filter element 10.
Are connected to the output terminal 70. The output IDT 68 is
The high frequency signal is output to the output terminal 70.

【0054】なお、この実施の形態3においては、入力
IDT63が第2入力電極膜に相当し、出力IDT68
が第2出力電極膜に相当する。
In the third embodiment, the input IDT 63 corresponds to the second input electrode film, and the output IDT 68
Corresponds to the second output electrode film.

【0055】このような構成のSAWフィルタ素子10
においても、第1フィルタ部20および第2フィルタ部
30の第1膜厚h1、h2は、互いに異なるように設定
されている。したがって、上記実施の形態1と同様に、
設計の自由度が広がるともに、異なる移動通信システム
に対しても良好に対応することができる。
The SAW filter element 10 having such a configuration
Also, the first film thicknesses h1 and h2 of the first filter unit 20 and the second filter unit 30 are set to be different from each other. Therefore, as in the first embodiment,
The degree of freedom in design is expanded, and it is possible to cope well with different mobile communication systems.

【0056】他の実施の形態 この発明の実施の形態の説明は以上のとおりであるが、
この発明は上述の実施の形態に限定されるものではな
い。たとえば、上記実施の形態では、この発明を2つの
異なる移動通信システムに適用する場合を例にとってい
る。しかし、この発明は、たとえば同一の移動通信シス
テムにおいて2つの周波数帯の高周波信号を抽出する場
合に対しても容易に適用することができる。
Other Embodiments Embodiments of the present invention have been described above.
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, a case where the present invention is applied to two different mobile communication systems is taken as an example. However, the present invention can be easily applied to, for example, a case where high-frequency signals of two frequency bands are extracted in the same mobile communication system.

【0057】また、上記実施の形態では、2つの異なる
周波数帯の高周波信号を抽出するために2つのフィルタ
部を有する場合を例にとっている。しかし、この発明
は、たとえば3以上の異なる周波数帯の高周波信号を抽
出する場合にも容易に適用可能である。この場合、3以
上の周波数帯に対応する各フィルタ部の膜厚をすべて異
ならせたり、膜厚の異なる複数のグループに分けたりす
ることが考えられる。
In the above-described embodiment, an example is shown in which two filter units are provided to extract high-frequency signals in two different frequency bands. However, the present invention is easily applicable to, for example, extracting high-frequency signals in three or more different frequency bands. In this case, it is conceivable that the thicknesses of the filter portions corresponding to three or more frequency bands are all different from each other, or divided into a plurality of groups having different thicknesses.

【0058】さらに、上記実施の形態のようなフィルタ
部の構成の他に、IDTを4以上配列したり、1ポート
型共振子の直列接続を並列接続にしたりするなど、種々
の構成を考えることができる。この場合であっても、複
数種類の周波数帯を各々通過帯域とする複数のフィルタ
部の膜厚を異ならせさえすれば、上述と同様に、設計自
由度を広げることができるとの効果を得ることができ
る。
Further, in addition to the configuration of the filter section as in the above-described embodiment, various configurations such as arranging four or more IDTs and connecting the serial connection of the one-port resonators in parallel are considered. Can be. Even in this case, as long as the film thicknesses of the plurality of filter sections each having a plurality of types of frequency bands as pass bands are made different, an effect is obtained that the degree of freedom in design can be increased in the same manner as described above. be able to.

【0059】さらにまた、上記実施の形態2では、実施
の形態1に係るSAWフィルタ素子10の製造方法につ
いて説明している。しかし、上記実施の形態2に係る製
造方法は、たとえば、特開平10−145172号公報
に開示されたSAWフィルタ素子に対しても容易に適用
可能である。要は、1つの圧電基板11の表面11a上
に膜厚の異なる2つのフィルタ部を形成するSAWフィ
ルタ素子であれば、実施の形態2に係る製造方法を容易
に適用できる。
Further, in the second embodiment, the method of manufacturing the SAW filter element 10 according to the first embodiment has been described. However, the manufacturing method according to the second embodiment can be easily applied to, for example, a SAW filter element disclosed in JP-A-10-145172. In short, the manufacturing method according to the second embodiment can be easily applied to a SAW filter element in which two filter portions having different film thicknesses are formed on the surface 11a of one piezoelectric substrate 11.

【0060】さらに、上記実施の形態1では、第1およ
び第2フィルタ部20、30の入力端子21、31をそ
れぞれ別個のものとしている。しかし、たとえば第1お
よび第2フィルタ部20、30の入力端子21、31を
共通のものとしてもよい。また、上記実施の形態3にお
いても同様に、入力端子55、66を共通のものとして
もよい。この場合、入力端子の数が減るから、金属バン
プ13の取付作業などを含む実装作業の簡略化を図るこ
とができる。
Further, in the first embodiment, the input terminals 21 and 31 of the first and second filter sections 20 and 30 are separate from each other. However, for example, the input terminals 21 and 31 of the first and second filter units 20 and 30 may be common. Similarly, in the third embodiment, the input terminals 55 and 66 may be common. In this case, since the number of input terminals is reduced, the mounting operation including the mounting operation of the metal bumps 13 can be simplified.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、第1お
よび第2の異なる周波数帯の高周波信号をそれぞれ別個
の出力信号として外部に出力する第1および第2フィル
タ部の各電極膜の膜厚を異ならせているから、フィルタ
を設計する際の自由度を格段に広げることができる。し
たがって、要求を満足する弾性表面波フィルタ素子を提
供することができる。しかも、同一の圧電基板上に複数
のフィルタ部を形成しているから、複数の弾性表面波フ
ィルタ素子で異なる周波数帯の高周波信号を抽出する場
合に比べて、小型化を図ることができる。
As described above, according to the present invention, each of the electrode films of the first and second filter portions for outputting the high-frequency signals of the first and second different frequency bands to the outside as separate output signals, respectively. Since the film thicknesses are made different, the degree of freedom in designing a filter can be greatly expanded. Therefore, a surface acoustic wave filter element that satisfies the requirements can be provided. In addition, since a plurality of filter portions are formed on the same piezoelectric substrate, the size can be reduced as compared with a case where a plurality of surface acoustic wave filter elements extract high frequency signals in different frequency bands.

【0062】また、第1および第2フィルタ部を互いに
異なる移動通信システムで使用される周波数帯の高周波
信号を抽出するものとする場合には、弾性表面波フィル
タ素子の製品としての安定性を向上できる。そのため、
信頼性の向上された弾性表面波フィルタ素子を提供する
ことができる。そのうえ、異なる移動通信システムにそ
れぞれ対応する2つのフィルタ部を1つのパッケージに
実装する場合には、ワイヤを使って弾性表面波フィルタ
素子をパッケージに実装する場合に比べて、小型化を図
ることができるともに作業を簡単化することができる。
In the case where the first and second filter units extract high frequency signals in a frequency band used in different mobile communication systems, the stability of the surface acoustic wave filter element as a product is improved. it can. for that reason,
A surface acoustic wave filter element with improved reliability can be provided. In addition, when two filter sections respectively corresponding to different mobile communication systems are mounted in one package, the size can be reduced as compared with the case where the surface acoustic wave filter element is mounted on the package using wires. Work can be simplified as well as possible.

【0063】さらに、第1膜厚の第1導電膜を形成した
後第1フィルタ部のみを作成し、第1導電膜の上に導電
膜をさらに形成して第2膜厚の第2導電膜を形成した後
第2フィルタ部を作成する場合には、製造時間の短縮を
図ることができるとともに、ドライエッチングを用いる
場合に圧電基板へのダメージを軽減することができる。
Further, after forming the first conductive film having the first thickness, only the first filter portion is formed, and the conductive film is further formed on the first conductive film to form the second conductive film having the second thickness. In the case where the second filter portion is formed after the formation, the manufacturing time can be shortened, and when dry etching is used, damage to the piezoelectric substrate can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1に係るSAWフィル
タの構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a SAW filter according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】 SAWフィルタ素子の構成を示す平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view illustrating a configuration of a SAW filter element.

【図3】 図2のIII-III断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III in FIG. 2;

【図4】 この発明の実施の形態2に係るSAWフィル
タ素子の製造方法を説明するための工程図である。
FIG. 4 is a process chart illustrating a method for manufacturing a SAW filter element according to Embodiment 2 of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態3に係るSAWフィル
タ素子の構成を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a configuration of a SAW filter element according to Embodiment 3 of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 SAWフィルタ、2 パッケージ、10 SAWフ
ィルタ素子、11 圧電基板、20 第1フィルタ部、
23 第1表面部、24第1IDT、25 第1反射器
対、30 第2フィルタ部、33 第2表面部、34
第2IDT、35 第2反射器対、40 第1金属膜、
41 金属膜、42 第2金属膜、50 第1表面部、
53 IDT、57 出力IDT、60第2表面部、6
3 入力IDT、68 出力IDT、h1 第1膜厚、
h2 第2膜厚。
1 SAW filter, 2 package, 10 SAW filter element, 11 piezoelectric substrate, 20 first filter section,
23 first surface part, 24 first IDT, 25 first reflector pair, 30 second filter part, 33 second surface part, 34
Second IDT, 35 second reflector pair, 40 first metal film,
41 metal film, 42 second metal film, 50 first surface portion,
53 IDT, 57 output IDT, 60 second surface part, 6
3 input IDT, 68 output IDT, h1 first film thickness,
h2 Second film thickness.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04B 7/26 H04B 7/26 M ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H04B 7/26 H04B 7/26 M

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1表面部およびこの第1表面部とは異
なる表面領域である第2表面部を有する圧電基板と、 上記第1表面部に形成された第1膜厚の第1入力電極膜
および第1出力電極膜を有し、上記第1入力電極膜に入
力された高周波信号を上記第1表面部を伝播する弾性表
面波に変換し、この弾性表面波を上記第1出力電極膜に
より高周波信号に変換することにより、第1周波数帯の
高周波信号を外部に出力する第1フィルタ部と、 上記第2表面部に形成された上記第1膜厚よりも厚い第
2膜厚の第2入力電極膜および第2出力電極膜を有し、
上記第2入力電極膜に入力された高周波信号を上記第2
表面部を伝播する弾性表面波に変換し、この弾性表面波
を上記第2出力電極膜により高周波信号に変換すること
により、上記第1周波数帯とは異なる第2周波数帯の高
周波信号を上記第1フィルタ部の出力とは別個に外部に
出力する第2フィルタ部とを含むことを特徴とする弾性
表面波フィルタ素子。
A piezoelectric substrate having a first surface portion and a second surface portion which is a surface region different from the first surface portion; and a first input electrode having a first thickness and formed on the first surface portion. A high-frequency signal input to the first input electrode film into a surface acoustic wave propagating through the first surface portion, and converting the surface acoustic wave to the first output electrode film A first filter unit that outputs a high-frequency signal in a first frequency band to the outside by converting the high-frequency signal into a high-frequency signal, and a second filter having a second film thickness greater than the first film thickness formed on the second surface unit. A two-input electrode film and a second output electrode film,
The high-frequency signal input to the second input electrode film is converted to the second input electrode film.
By converting the surface acoustic wave into a high-frequency signal by the second output electrode film, a high-frequency signal in a second frequency band different from the first frequency band is converted into the high-frequency signal by the second output electrode film. A surface acoustic wave filter element comprising: a second filter unit that outputs the output to the outside separately from the output of the one filter unit.
【請求項2】 請求項1において、上記第1フィルタ部
は、第1移動通信システムにおいて使用される第1周波
数帯の高周波信号を抽出するものであり、 上記第2フィルタ部は、上記第1移動通信システムとは
異なる第2移動通信システムにおいて使用される第2周
波数帯の高周波信号を抽出するものであり、 上記第1フィルタ部および第2フィルタ部は、同一のパ
ッケージに実装されていることを特徴とする弾性表面波
フィルタ素子。
2. The device according to claim 1, wherein the first filter unit extracts a high-frequency signal of a first frequency band used in a first mobile communication system, and wherein the second filter unit includes the first filter. It extracts a high-frequency signal in a second frequency band used in a second mobile communication system different from the mobile communication system, and the first filter unit and the second filter unit are mounted in the same package. A surface acoustic wave filter element.
【請求項3】 圧電基板の表面上に第1膜厚の第1導電
膜を形成する工程と、 この第1導電膜のうち所定範囲をエッチングすることに
より、第1膜厚の電極膜を有する第1フィルタ部を作成
する工程と、 上記所定範囲以外の第1導電膜上に導電膜をさらに形成
することにより、上記第1膜厚よりも厚い第2膜厚の第
2導電膜を形成する工程と、 この第2導電膜をエッチングすることにより、第2膜厚
の電極膜を有する第2フィルタ部を作成する工程とを含
むことを特徴とする弾性表面波フィルタ素子の製造方
法。
3. A step of forming a first conductive film having a first thickness on a surface of a piezoelectric substrate, and etching a predetermined range of the first conductive film to form an electrode film having a first thickness. Forming a first filter portion, and further forming a second conductive film on the first conductive film outside the predetermined range to form a second conductive film having a second thickness greater than the first thickness. A method for manufacturing a surface acoustic wave filter element, comprising: a step of forming a second filter portion having an electrode film having a second thickness by etching the second conductive film.
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