JP2001085216A - 酸化物磁性材料とチップ部品と酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法 - Google Patents
酸化物磁性材料とチップ部品と酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法Info
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- H01F1/344—Ferrites, e.g. having a cubic spinel structure (X2+O)(Y23+O3), e.g. magnetite Fe3O4
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Abstract
(57)【要約】
【課題】内部導体としてのＡｇとの同時焼成が可能であ
って、焼結性や透磁率と保持し、粉砕時間が短縮できる
酸化物磁性材料とこれを用いたチップ部品と前記酸化物
磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法を提供す
る。 【解決手段】Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣｕＯおよびＮｉＯ
を主成分とし、この主成分に、全体量に対する含有量が
０．００１〜０．０１１重量％となるＹ２Ｏ３を含み、
かつ０．０３１〜０．１９４重量％となるＺｒＯ２を含
み、かつ０．０１０〜０．０５６重量％となるＳｉを含
む。
って、焼結性や透磁率と保持し、粉砕時間が短縮できる
酸化物磁性材料とこれを用いたチップ部品と前記酸化物
磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法を提供す
る。 【解決手段】Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣｕＯおよびＮｉＯ
を主成分とし、この主成分に、全体量に対する含有量が
０．００１〜０．０１１重量％となるＹ２Ｏ３を含み、
かつ０．０３１〜０．１９４重量％となるＺｒＯ２を含
み、かつ０．０１０〜０．０５６重量％となるＳｉを含
む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種電子部品に使
用される酸化物磁性材料と、その酸化物磁性材料を用い
て構成され、高周波領域で使用されるバルク型コイル部
品や内部導体を含むインダクタ用チップ部品と、前記酸
化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法に関す
る。
用される酸化物磁性材料と、その酸化物磁性材料を用い
て構成され、高周波領域で使用されるバルク型コイル部
品や内部導体を含むインダクタ用チップ部品と、前記酸
化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】高周波領域で使用されるコイル部品等の
酸化物磁性材料として、Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系のフェライ
トが一般に用いられる。その製造方法としては、粉末冶
金法が一般的である。この方法は、出発材料となるＦｅ
2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｕＯ、ＺｎＯ等の酸化物を所定の比率
となるように秤量し、その後乾式もしくは湿式にて混合
粉砕し、この混合粉末を仮焼成する。次いで、この仮焼
成物を粗粉砕し、さらに微粉砕する。湿式で粉砕を行っ
た場合は乾燥が必要となる。ここでフェライトの特性は
その組成に負うところが大きく、製造の管理の面から、
組成のずれを極めて小さくすることが必要である。ま
た、積層型コイル用の材料としては、Ａｇの融点以下の
低温で焼成する必要があり、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｕ
Ｏ、ＺｎＯの０．１ｍｏｌ％レベルでの組成管理が求め
られる。特にＦｅ2Ｏ3については、フェライトの化学量
論組成（ストイキオ組成）に近づくにつれて反応性が向
上するが、これを越えると反応性が急激に劣化するた
め、フェライトの主成分の中で最も慎重な組成管理が必
要となる。
酸化物磁性材料として、Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系のフェライ
トが一般に用いられる。その製造方法としては、粉末冶
金法が一般的である。この方法は、出発材料となるＦｅ
2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｕＯ、ＺｎＯ等の酸化物を所定の比率
となるように秤量し、その後乾式もしくは湿式にて混合
粉砕し、この混合粉末を仮焼成する。次いで、この仮焼
成物を粗粉砕し、さらに微粉砕する。湿式で粉砕を行っ
た場合は乾燥が必要となる。ここでフェライトの特性は
その組成に負うところが大きく、製造の管理の面から、
組成のずれを極めて小さくすることが必要である。ま
た、積層型コイル用の材料としては、Ａｇの融点以下の
低温で焼成する必要があり、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｕ
Ｏ、ＺｎＯの０．１ｍｏｌ％レベルでの組成管理が求め
られる。特にＦｅ2Ｏ3については、フェライトの化学量
論組成（ストイキオ組成）に近づくにつれて反応性が向
上するが、これを越えると反応性が急激に劣化するた
め、フェライトの主成分の中で最も慎重な組成管理が必
要となる。
【０００３】従来のＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトは、そ
の製造工程において、ステンレス鋼ボール、アルミナボ
ール、ジルコニアボール等を媒体ビーズとして用い、混
合粉砕、仮焼成を経た材料の粗粉砕および微粉砕を行っ
てきた。バルク型コイル用材料は、通常、比表面積が
１．０〜６．０ｍ2／ｇ程度となるように仮焼成物を粉
砕しているが、積層型コイル材料はＡｇの融点以下の低
温で焼成する必要があるため、長時間の粉砕を行い、比
表面積を３．０〜１５．０ｍ2／ｇ程度まで上げること
によって粉末の低温での反応性を向上させている。
の製造工程において、ステンレス鋼ボール、アルミナボ
ール、ジルコニアボール等を媒体ビーズとして用い、混
合粉砕、仮焼成を経た材料の粗粉砕および微粉砕を行っ
てきた。バルク型コイル用材料は、通常、比表面積が
１．０〜６．０ｍ2／ｇ程度となるように仮焼成物を粉
砕しているが、積層型コイル材料はＡｇの融点以下の低
温で焼成する必要があるため、長時間の粉砕を行い、比
表面積を３．０〜１５．０ｍ2／ｇ程度まで上げること
によって粉末の低温での反応性を向上させている。
【０００４】ここで、ステンレス鋼ボールはＦｅを主成
分としており、粉砕時のメカノケミカル反応により、Ｎ
ｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトの主成分であるＦｅ2Ｏ3を増
加させる。そして、Ｆｅ2Ｏ3の増加はＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎ
フェライトの組成を変化させると共に、安定した組成管
理が困難となる。すなわち秤量値で管理することができ
ない。また、その他の媒体ビーズにおいても耐摩耗性に
難点があり、これらの媒体ビーズの摩耗粉が不純物とし
て混入する虞があるという難点があった。
分としており、粉砕時のメカノケミカル反応により、Ｎ
ｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトの主成分であるＦｅ2Ｏ3を増
加させる。そして、Ｆｅ2Ｏ3の増加はＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎ
フェライトの組成を変化させると共に、安定した組成管
理が困難となる。すなわち秤量値で管理することができ
ない。また、その他の媒体ビーズにおいても耐摩耗性に
難点があり、これらの媒体ビーズの摩耗粉が不純物とし
て混入する虞があるという難点があった。
【０００５】また、一般の媒体ビーズは、外側の耐摩耗
性に比較し、内部のそれは低く、製造を重ねていく上で
摩耗により生じた粉体の混入量の違いによる組成のずれ
が発生し、安定した組成が得られない。そして長時間に
わたる粉砕は混入量の増加を招き、焼成物の特性劣化を
招くことになる。すなわち、不純物として混入した摩耗
粉はＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトの焼結性を劣化させ、
理論密度近傍の焼結体密度および透磁率を得るための焼
成温度が高温となり、製造コストの増加、製品の安定性
の低下を招き、さらにＡｇの融点以下での焼成が困難に
なる。
性に比較し、内部のそれは低く、製造を重ねていく上で
摩耗により生じた粉体の混入量の違いによる組成のずれ
が発生し、安定した組成が得られない。そして長時間に
わたる粉砕は混入量の増加を招き、焼成物の特性劣化を
招くことになる。すなわち、不純物として混入した摩耗
粉はＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトの焼結性を劣化させ、
理論密度近傍の焼結体密度および透磁率を得るための焼
成温度が高温となり、製造コストの増加、製品の安定性
の低下を招き、さらにＡｇの融点以下での焼成が困難に
なる。
【０００６】粉砕時の摩耗粉の混入を低減することを目
的として、特許第２７０８１６０号公報においては、媒
体ビーズとして、耐摩耗性の大きな安定化ジルコニア
（ＦＳＺ）や部分安定化ジルコニア（ＰＳＺ）からなる
ボールを媒体ビーズとしてＭｎ−Ｚｎ系フェライトの粉
砕に用いることが記載されている。該公報記載の方法
は、直径が０．５〜３．０ｍｍのジルコニアボールを媒
体ビーズとして微粉砕工程に使用することにより、不純
物の混入を極力防止し、主成分に対して０．０２重量％
程度以下に混入量の抑制する方法である。また、この方
法により、従来の１２００℃以上という仮焼温度に対
し、約１００℃から２００℃低温（すなわち１０００℃
程度）で焼結させても理論密度近傍の焼結体が得られ、
工業的には焼成温度が下がり、製造コストの低減が可能
であるとしている。
的として、特許第２７０８１６０号公報においては、媒
体ビーズとして、耐摩耗性の大きな安定化ジルコニア
（ＦＳＺ）や部分安定化ジルコニア（ＰＳＺ）からなる
ボールを媒体ビーズとしてＭｎ−Ｚｎ系フェライトの粉
砕に用いることが記載されている。該公報記載の方法
は、直径が０．５〜３．０ｍｍのジルコニアボールを媒
体ビーズとして微粉砕工程に使用することにより、不純
物の混入を極力防止し、主成分に対して０．０２重量％
程度以下に混入量の抑制する方法である。また、この方
法により、従来の１２００℃以上という仮焼温度に対
し、約１００℃から２００℃低温（すなわち１０００℃
程度）で焼結させても理論密度近傍の焼結体が得られ、
工業的には焼成温度が下がり、製造コストの低減が可能
であるとしている。
【０００７】また、特開平７−１３３１５０号公報に
は、機械的強度が高い磁性材料の提供を目的として、Ｎ
ｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトの材料の主成分に対し、０．
０１〜３．０重量％のＺｒＯ2を混入して１１００℃で
１．５時間焼成した例が開示されている。
は、機械的強度が高い磁性材料の提供を目的として、Ｎ
ｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトの材料の主成分に対し、０．
０１〜３．０重量％のＺｒＯ2を混入して１１００℃で
１．５時間焼成した例が開示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記特許第２
７０８１６０号公報記載の製造方法に記載された１００
０℃程度の焼成温度は焼成コストを低減できる温度では
なく、また融点が約９６０℃であるＡｇとの同時焼成は
不可能である。また、特開平７−１３３１５０号公報記
載のように、１１００℃ではさらにＡｇとの同時焼成は
不可能である。
７０８１６０号公報記載の製造方法に記載された１００
０℃程度の焼成温度は焼成コストを低減できる温度では
なく、また融点が約９６０℃であるＡｇとの同時焼成は
不可能である。また、特開平７−１３３１５０号公報記
載のように、１１００℃ではさらにＡｇとの同時焼成は
不可能である。
【０００９】また、特許第２７０８１６０号公報記載の
製造方法では、媒体ビーズの摩耗による不純物の材料へ
の混入を低く抑えるため、媒体ビーズに直径の小さいも
のを使用し、例えば１９６時間という長い時間をかけて
仮焼成物を粉砕しているので、ボール効率（材料処理量
／ボール重量）、すなわち粉砕効率が悪いという問題点
もある。
製造方法では、媒体ビーズの摩耗による不純物の材料へ
の混入を低く抑えるため、媒体ビーズに直径の小さいも
のを使用し、例えば１９６時間という長い時間をかけて
仮焼成物を粉砕しているので、ボール効率（材料処理量
／ボール重量）、すなわち粉砕効率が悪いという問題点
もある。
【００１０】本発明は、上記問題点に鑑み、低温焼成が
可能であって、焼結性や透磁率と保持し、粉砕時間が短
縮できる酸化物磁性材料とこれを用いたチップ部品と前
記酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法を
提供することを目的とする。
可能であって、焼結性や透磁率と保持し、粉砕時間が短
縮できる酸化物磁性材料とこれを用いたチップ部品と前
記酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法を
提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の酸化物磁性材
料は、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣｕＯおよびＮｉＯを主成
分とし、この主成分に、全体量に対する含有量が０．０
０１〜０．０１１重量％となるＹ２Ｏ３を含み、かつ
０．０３〜０．１９４重量％となるＺｒＯ２を含み、か
つ０．０１０〜０．０５６重量％となるＳｉ（Ｓｉの酸
化物である場合を含む）を含むことを特徴とする。
料は、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＣｕＯおよびＮｉＯを主成
分とし、この主成分に、全体量に対する含有量が０．０
０１〜０．０１１重量％となるＹ２Ｏ３を含み、かつ
０．０３〜０．１９４重量％となるＺｒＯ２を含み、か
つ０．０１０〜０．０５６重量％となるＳｉ（Ｓｉの酸
化物である場合を含む）を含むことを特徴とする。
【００１２】なお、透磁率、焼結体密度等の特性に影響
を与えない程度であれば、不純物としてＰ、Ａｌ、Ｂ、
Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｂｉ、Ｐｂ、Ｗ、Ｖ、
Ｍｏ等を含有してもよい。また、主成分の組成は、所定
値以上の透磁率を得る上で、好ましくは、Ｆｅ２Ｏ３
４０〜５１ｍｏｌ％、ＺｎＯ １〜３４ｍｏｌ％、Ｃｕ
Ｏ １〜３０ｍｏｌ％、残部ＮｉＯである。さらに好ま
しくはＦｅ２Ｏ３ ４６〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯ ３２
〜３４ｍｏｌ％、ＣｕＯ ９〜１１ｍｏｌ％、ＮｉＯ
８〜１１ｍｏｌ％である。
を与えない程度であれば、不純物としてＰ、Ａｌ、Ｂ、
Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｂｉ、Ｐｂ、Ｗ、Ｖ、
Ｍｏ等を含有してもよい。また、主成分の組成は、所定
値以上の透磁率を得る上で、好ましくは、Ｆｅ２Ｏ３
４０〜５１ｍｏｌ％、ＺｎＯ １〜３４ｍｏｌ％、Ｃｕ
Ｏ １〜３０ｍｏｌ％、残部ＮｉＯである。さらに好ま
しくはＦｅ２Ｏ３ ４６〜５０ｍｏｌ％、ＺｎＯ ３２
〜３４ｍｏｌ％、ＣｕＯ ９〜１１ｍｏｌ％、ＮｉＯ
８〜１１ｍｏｌ％である。
【００１３】Ｙ2Ｏ3を含む部分安定化ジルコニアボール
（ＰＳＺ）を用い、仮焼成後の粉体を粉砕する場合、部
分安定化ジルコニアボールはＹ2Ｏ3を約３ｍｏｌ％含む
ものが硬度、破壊強靱値が最も優れていることが分かっ
ており（内田老鶴園発行、強靱ジルコニア−タフなセラ
ミックス、著者堀三郎）、粉砕された粉体の平均粒径が
０．１〜１．０μｍ程度の粒度のものを得ようとする
と、Ｙ2Ｏ3が０．００１重量％未満、ＺｒＯ2が０．０
３１重量％未満、Ｓｉが０．０１０重量％未満の組成の
ものであれば、攪拌速度を遅くし、長い時間をかけて粉
砕する必要が生じるが、これらの重量％以上になれば、
ボール直径や攪拌速度にもよるが、粉砕効率が上り、よ
り短時間で粉砕可能である。一方、Ｙ2Ｏ3が０．０１１
重量％、ＺｒＯ2が０．１９４重量％、Ｓｉが０．０５
６重量％を越えると、Ａｇとの同時焼成が可能な９２０
℃において、物理的強度において問題が生じないと言わ
れている５．０ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度が得にくく
なり、見かけ密度を確保するため、焼成温度を高くせざ
るを得なくなる。また、Ｙ２Ｏ３が０．０１１重量％、
ＺｒＯ２が０．１９４重量％、Ｓｉが０．０５６重量％
を越えると、透磁率の劣化も見られる。
（ＰＳＺ）を用い、仮焼成後の粉体を粉砕する場合、部
分安定化ジルコニアボールはＹ2Ｏ3を約３ｍｏｌ％含む
ものが硬度、破壊強靱値が最も優れていることが分かっ
ており（内田老鶴園発行、強靱ジルコニア−タフなセラ
ミックス、著者堀三郎）、粉砕された粉体の平均粒径が
０．１〜１．０μｍ程度の粒度のものを得ようとする
と、Ｙ2Ｏ3が０．００１重量％未満、ＺｒＯ2が０．０
３１重量％未満、Ｓｉが０．０１０重量％未満の組成の
ものであれば、攪拌速度を遅くし、長い時間をかけて粉
砕する必要が生じるが、これらの重量％以上になれば、
ボール直径や攪拌速度にもよるが、粉砕効率が上り、よ
り短時間で粉砕可能である。一方、Ｙ2Ｏ3が０．０１１
重量％、ＺｒＯ2が０．１９４重量％、Ｓｉが０．０５
６重量％を越えると、Ａｇとの同時焼成が可能な９２０
℃において、物理的強度において問題が生じないと言わ
れている５．０ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度が得にくく
なり、見かけ密度を確保するため、焼成温度を高くせざ
るを得なくなる。また、Ｙ２Ｏ３が０．０１１重量％、
ＺｒＯ２が０．１９４重量％、Ｓｉが０．０５６重量％
を越えると、透磁率の劣化も見られる。
【００１４】請求項２のチップ部品は、請求項１の酸化
物磁性材料の焼結体を用い、バルク型コイル部品として
構成されていることを特徴とする。
物磁性材料の焼結体を用い、バルク型コイル部品として
構成されていることを特徴とする。
【００１５】請求項２のチップ部品は、請求項１の酸化
物磁性材料を用いて構成されるため、焼成温度が低く、
廉価に提供でき、強度や透磁率の面においても高温焼成
のものとそれほど遜色がない。
物磁性材料を用いて構成されるため、焼成温度が低く、
廉価に提供でき、強度や透磁率の面においても高温焼成
のものとそれほど遜色がない。
【００１６】請求項３のチップ部品は、請求項１の酸化
物磁性材料の焼結体を用い、かつ焼結体内に導電体層を
有して積層型コイル部品または積層型コイル部品を一部
に含んで構成されていることを特徴とする。
物磁性材料の焼結体を用い、かつ焼結体内に導電体層を
有して積層型コイル部品または積層型コイル部品を一部
に含んで構成されていることを特徴とする。
【００１７】請求項４のチップ部品は、請求項３におい
て、内部導体がＡｇまたはＡｇとＰｄの合金を主成分と
することを特徴とする。
て、内部導体がＡｇまたはＡｇとＰｄの合金を主成分と
することを特徴とする。
【００１８】請求項３、４のチップ部品においては、請
求項１の酸化物磁性材料を用いて構成されるため、請求
項２のチップ部品と同様の強度、透磁率が得られ、Ａｇ
やＡｇ−Ｐｄの合金との同時焼成が可能である。
求項１の酸化物磁性材料を用いて構成されるため、請求
項２のチップ部品と同様の強度、透磁率が得られ、Ａｇ
やＡｇ−Ｐｄの合金との同時焼成が可能である。
【００１９】請求項５は、請求項１の酸化物磁性材料を
製造する方法であって、原料の混合粉砕時および仮焼成
を経た材料の粉砕時に湿式内部循環式のメディア撹拌型
ミルを用い、媒体ビーズとして部分安定化ジルコニアと
窒化珪素を使用し、媒体ビースの摩滅により、酸化物磁
性材料内に、全体量に対する含有量が０．００１〜０．
０１１重量％となるＹ２Ｏ３を含み、かつ０．０３〜
０．１９４重量％となるＺｒＯ２を含み、かつ０．０１
０〜０．０５６重量％となるＳｉを含有させることを特
徴とする。
製造する方法であって、原料の混合粉砕時および仮焼成
を経た材料の粉砕時に湿式内部循環式のメディア撹拌型
ミルを用い、媒体ビーズとして部分安定化ジルコニアと
窒化珪素を使用し、媒体ビースの摩滅により、酸化物磁
性材料内に、全体量に対する含有量が０．００１〜０．
０１１重量％となるＹ２Ｏ３を含み、かつ０．０３〜
０．１９４重量％となるＺｒＯ２を含み、かつ０．０１
０〜０．０５６重量％となるＳｉを含有させることを特
徴とする。
【００２０】このように、部分安定化ジルコニアボール
と窒化珪素ボールを利用して仮焼成後の材料の粉砕を行
うことにより、従来のステンレス鋼ボール等を用いる場
合のような組成管理の困難の問題を解消することができ
る。また、粉砕工程を利用してＹ2Ｏ3、ＺｒＯ2および
Ｓｉの混入を行うので、材料混入のための秤量や混合の
工程が不要になる。
と窒化珪素ボールを利用して仮焼成後の材料の粉砕を行
うことにより、従来のステンレス鋼ボール等を用いる場
合のような組成管理の困難の問題を解消することができ
る。また、粉砕工程を利用してＹ2Ｏ3、ＺｒＯ2および
Ｓｉの混入を行うので、材料混入のための秤量や混合の
工程が不要になる。
【００２１】請求項６の酸化物磁性材料を製造する方法
は、請求項５において、部分安定化ジルコニアビーズお
よび窒化珪素ビーズの全体量に対し、窒化珪素ビーズ
が、体積比で２０％〜９９％であることを特徴とする。
は、請求項５において、部分安定化ジルコニアビーズお
よび窒化珪素ビーズの全体量に対し、窒化珪素ビーズ
が、体積比で２０％〜９９％であることを特徴とする。
【００２２】部分安定化ジルコニアビーズと窒化珪素ビ
ーズの比率をこの比率に設定することにより、部分安定
化ジルコニアビーズのみを用いて粉砕した場合と比較し
ても、部分安定化ジルコニアビーズの主成分であるＺｒ
Ｏ2とＹ2Ｏ3の摩耗による混入量の制御が一層容易とな
る。
ーズの比率をこの比率に設定することにより、部分安定
化ジルコニアビーズのみを用いて粉砕した場合と比較し
ても、部分安定化ジルコニアビーズの主成分であるＺｒ
Ｏ2とＹ2Ｏ3の摩耗による混入量の制御が一層容易とな
る。
【００２３】請求項７は、請求項５または６の酸化物磁
性材料の製造方法であって、媒体ビーズとしてその直径
が０．２〜５ｍｍのものを使用することを特徴とする。
性材料の製造方法であって、媒体ビーズとしてその直径
が０．２〜５ｍｍのものを使用することを特徴とする。
【００２４】媒体ビーズの直径が０．２ｍｍ未満である
と、粉砕効率が低下し、５ｍｍを越えると得られる粉末
の微細化を十分行うことができず、理論密度近傍の焼結
体密度を得るための焼成温度が高くなり、また、透磁率
の劣化を招くことになる。
と、粉砕効率が低下し、５ｍｍを越えると得られる粉末
の微細化を十分行うことができず、理論密度近傍の焼結
体密度を得るための焼成温度が高くなり、また、透磁率
の劣化を招くことになる。
【００２５】請求項８は、請求項５から７までの酸化物
磁性材料の製造方法であって、媒体ビーズの撹拌速度を
２．０〜８．０ｍ／ｓとすることを特徴とする。
磁性材料の製造方法であって、媒体ビーズの撹拌速度を
２．０〜８．０ｍ／ｓとすることを特徴とする。
【００２６】媒体ビーズの攪拌速度が２．０ｍ／ｓに満
たない速度では、所望の比表面積まで粉砕処理を行うた
めの時間が長時間となり、材料の製造に係るリードタイ
ムを考慮すると適正とはいえない。一方、８．０ｍ／ｓ
を越えると媒体ビーズの摩耗量が増大し、理論密度近傍
の焼結体密度および所望の透磁率を得るための焼成温度
が高温となり、製造コストの増加、製品の安定性の低減
を招き、さらにＡｇの融点以下での焼成は困難となる。
たない速度では、所望の比表面積まで粉砕処理を行うた
めの時間が長時間となり、材料の製造に係るリードタイ
ムを考慮すると適正とはいえない。一方、８．０ｍ／ｓ
を越えると媒体ビーズの摩耗量が増大し、理論密度近傍
の焼結体密度および所望の透磁率を得るための焼成温度
が高温となり、製造コストの増加、製品の安定性の低減
を招き、さらにＡｇの融点以下での焼成は困難となる。
【００２７】請求項９は、請求項５から８までのいずれ
かの酸化物磁性材料の製造方法であって、仮焼成を経た
材料から粉砕により比表面積が６．０〜１５．０ｍ2／
ｇのものを粉体を得ることを特徴とする。
かの酸化物磁性材料の製造方法であって、仮焼成を経た
材料から粉砕により比表面積が６．０〜１５．０ｍ2／
ｇのものを粉体を得ることを特徴とする。
【００２８】比表面積が６．０ｍ／ｇ未満であると、理
論密度近傍の焼結体密度を得るための焼成温度が高温に
なり、また、透磁率の劣化を招くこととなる。また、１
５．０ｍ2／ｇ以上とするには粉砕時間が長くなる。
論密度近傍の焼結体密度を得るための焼成温度が高温に
なり、また、透磁率の劣化を招くこととなる。また、１
５．０ｍ2／ｇ以上とするには粉砕時間が長くなる。
【００２９】請求項１０は、請求項３または４のチップ
部品の製造方法であって、媒体ビーズにより粉砕した酸
化物磁性材料と内部導体とを成形して９１０〜９２０℃
で焼成することを特徴とする。
部品の製造方法であって、媒体ビーズにより粉砕した酸
化物磁性材料と内部導体とを成形して９１０〜９２０℃
で焼成することを特徴とする。
【００３０】焼成温度が９１０℃未満であると、焼結不
足になり、９２０℃を越えるとフェライト中に電極材料
が拡散してチップの電磁気的特性を著しく悪化させる。
なお、焼成時間は５分から３時間程度である。
足になり、９２０℃を越えるとフェライト中に電極材料
が拡散してチップの電磁気的特性を著しく悪化させる。
なお、焼成時間は５分から３時間程度である。
【００３１】
【発明の実施の形態】本発明によるバルク型コイル部品
または積層型コイル部品あるいはその他の電子部品用酸
化物磁性材料は、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯを
主成分とするフェライト材料であり、必要な場合には前
記したＰ、Ａｌ、Ｂ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ、Ｓｒ、
Ｂｉ、Ｐｂ、Ｗ、Ｖ、Ｍｏ等の微量添加物を秤量して加
え、さらに副成分として、媒体ビーズである部分安定化
ジルコニアボールおよび窒化珪素ビーズの摩耗により混
入したＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3およびＳｉを含有するものであ
る。そして、原料の混合粉砕時および仮焼成後の材料の
粉砕時における媒体ビーズの粒度、攪拌速度、攪拌時間
を調整することにより、媒体ビーズの混入の量を調整
し、焼成温度の高温化を必要とせず、Ａｇの融点以下で
の焼成を可能とするものである。
または積層型コイル部品あるいはその他の電子部品用酸
化物磁性材料は、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯを
主成分とするフェライト材料であり、必要な場合には前
記したＰ、Ａｌ、Ｂ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｂａ、Ｓｒ、
Ｂｉ、Ｐｂ、Ｗ、Ｖ、Ｍｏ等の微量添加物を秤量して加
え、さらに副成分として、媒体ビーズである部分安定化
ジルコニアボールおよび窒化珪素ビーズの摩耗により混
入したＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3およびＳｉを含有するものであ
る。そして、原料の混合粉砕時および仮焼成後の材料の
粉砕時における媒体ビーズの粒度、攪拌速度、攪拌時間
を調整することにより、媒体ビーズの混入の量を調整
し、焼成温度の高温化を必要とせず、Ａｇの融点以下で
の焼成を可能とするものである。
【００３２】前記のように秤量された材料は、湿式内部
循環式のメディア攪拌型ミルを用い、媒体ビーズとし
て、部分安定化ジルコニアボールと窒化珪素ボールを用
い、混合粉砕する。その後、仮焼成し、湿式内部循環式
のメディア攪拌型ミルを用い、媒体ビーズとして、部分
安定化ジルコニアボールを用い、粉砕することにより、
酸化物磁性材料を得る。
循環式のメディア攪拌型ミルを用い、媒体ビーズとし
て、部分安定化ジルコニアボールと窒化珪素ボールを用
い、混合粉砕する。その後、仮焼成し、湿式内部循環式
のメディア攪拌型ミルを用い、媒体ビーズとして、部分
安定化ジルコニアボールを用い、粉砕することにより、
酸化物磁性材料を得る。
【００３３】バルク型コイル用のコアは、上記のように
して製造した酸化物磁性材料にバインダーを加え、造粒
した後に所定の形状に成形、加工し、空気中で９００〜
１３００℃程度で焼成して作る。なお、このコアは、焼
成後に加工してもよい。そして、このコアに、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ａｌ、Ｃｏ
またはこれらの合金からなるワイヤを巻いて作製する。
して製造した酸化物磁性材料にバインダーを加え、造粒
した後に所定の形状に成形、加工し、空気中で９００〜
１３００℃程度で焼成して作る。なお、このコアは、焼
成後に加工してもよい。そして、このコアに、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ａｌ、Ｃｏ
またはこれらの合金からなるワイヤを巻いて作製する。
【００３４】一方、積層型コイルは、通常、酸化物磁性
材料からなる磁性体層ペーストと内部導電体層とを厚膜
技術（印刷法やドクターブレード法）により積層し一体
化した後、焼成し、得られた焼結体表面に外部電極用ペ
ーストを印刷し、焼き付けすることにより製造される。
内部導電体用ペーストは、通常、導電性素子とバインダ
ーと溶剤とを含有する。導電性素子の材質は、インダク
タの品質係数Ｑが向上するという理由から、Ａｇまたは
Ａｇ−Ｐｄ合金が好適である。焼成条件や焼成雰囲気は
磁性体や導電性素子の材質等に応じて適宜決定すればよ
いが、焼成温度は好ましくは８００〜９５０℃、より好
ましくは９１０〜９２０℃程度である。
材料からなる磁性体層ペーストと内部導電体層とを厚膜
技術（印刷法やドクターブレード法）により積層し一体
化した後、焼成し、得られた焼結体表面に外部電極用ペ
ーストを印刷し、焼き付けすることにより製造される。
内部導電体用ペーストは、通常、導電性素子とバインダ
ーと溶剤とを含有する。導電性素子の材質は、インダク
タの品質係数Ｑが向上するという理由から、Ａｇまたは
Ａｇ−Ｐｄ合金が好適である。焼成条件や焼成雰囲気は
磁性体や導電性素子の材質等に応じて適宜決定すればよ
いが、焼成温度は好ましくは８００〜９５０℃、より好
ましくは９１０〜９２０℃程度である。
【００３５】
【実施例】（秤量および粉砕）Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェラ
イトの主成分として、ＮｉＯ ８．７ｍｏｌ％、ＣｕＯ
１０．０ｍｏｌ％、ＺｎＯ ３２．０ｍｏｌ％、Ｆｅ
2Ｏ3 ４９．３ｍｏｌ％なる組成のものを媒体ビーズと
して直径３ｍｍの部分安定化ジルコニア（ＰＳＺ）と窒
化珪素ビーズを用い、湿式内部循環方式のメディア撹拌
型ミルにより、表１に示す媒体ビーズの比率により湿式
で混合し、乾燥した後８００℃にて仮焼成した。次にこ
の仮焼成物を媒体ビーズであるＰＳＺを用い、表１に示
すように、再び湿式内部循環方式のメデイア撹拌型ミル
により湿式で仮焼成物の濃度を３３％とし、表１の左端
の欄に示すように、撹拌速度、粉砕時間、ボール直径を
パラメータとして変化させ、微粉砕した。
イトの主成分として、ＮｉＯ ８．７ｍｏｌ％、ＣｕＯ
１０．０ｍｏｌ％、ＺｎＯ ３２．０ｍｏｌ％、Ｆｅ
2Ｏ3 ４９．３ｍｏｌ％なる組成のものを媒体ビーズと
して直径３ｍｍの部分安定化ジルコニア（ＰＳＺ）と窒
化珪素ビーズを用い、湿式内部循環方式のメディア撹拌
型ミルにより、表１に示す媒体ビーズの比率により湿式
で混合し、乾燥した後８００℃にて仮焼成した。次にこ
の仮焼成物を媒体ビーズであるＰＳＺを用い、表１に示
すように、再び湿式内部循環方式のメデイア撹拌型ミル
により湿式で仮焼成物の濃度を３３％とし、表１の左端
の欄に示すように、撹拌速度、粉砕時間、ボール直径を
パラメータとして変化させ、微粉砕した。
【００３６】すなわちサンプル１〜９は媒体ビーズの比
率を体積比としてＰＳＺ：５０％、窒化珪素：５０％、
また、媒体ビーズの直径を３ｍｍとし、材料の平均粒径
が０．５μｍ、すなわち比表面積が８ｍ2／ｇとなるよ
うに、撹拌速度を１ｍ／ｓ、２．０ｍ／ｓ、４．０ｍ／
ｓ、４．３ｍ／ｓ、５．０ｍ／ｓ、６．０ｍ／ｓ、７．
０ｍ／ｓ、８．０ｍ／ｓ、１０ｍ／ｓと変化させ、各撹
拌速度に対し、粉砕時間を９３時間、８２時間、５５時
間、４５時間、４０時間、２８時間、２０時間、１２時
間、２。５時間と変化させた。そしてこれらをサンプル
１〜９として、いずれも、平均粒径が０．５μｍ、比表
面積が８ｍ2／ｇの粉体を得た。
率を体積比としてＰＳＺ：５０％、窒化珪素：５０％、
また、媒体ビーズの直径を３ｍｍとし、材料の平均粒径
が０．５μｍ、すなわち比表面積が８ｍ2／ｇとなるよ
うに、撹拌速度を１ｍ／ｓ、２．０ｍ／ｓ、４．０ｍ／
ｓ、４．３ｍ／ｓ、５．０ｍ／ｓ、６．０ｍ／ｓ、７．
０ｍ／ｓ、８．０ｍ／ｓ、１０ｍ／ｓと変化させ、各撹
拌速度に対し、粉砕時間を９３時間、８２時間、５５時
間、４５時間、４０時間、２８時間、２０時間、１２時
間、２。５時間と変化させた。そしてこれらをサンプル
１〜９として、いずれも、平均粒径が０．５μｍ、比表
面積が８ｍ2／ｇの粉体を得た。
【００３７】また、サンプル１０〜１３は、ボール直径
を３ｍｍ、撹拌速度を４ｍ／ｓとし、粉砕時間を１時
間、１．５時間、１１５時間、１３４時間に変化させ、
平均粒径が２．２μｍ、１．８μｍ、０．３μｍ、０．
２μｍ、比表面積が１．８ｍ2／ｇ、２．２ｍ2／ｇ、１
５ｍ2／ｇ、１７ｍ2／ｇの粉体を得たものである。
を３ｍｍ、撹拌速度を４ｍ／ｓとし、粉砕時間を１時
間、１．５時間、１１５時間、１３４時間に変化させ、
平均粒径が２．２μｍ、１．８μｍ、０．３μｍ、０．
２μｍ、比表面積が１．８ｍ2／ｇ、２．２ｍ2／ｇ、１
５ｍ2／ｇ、１７ｍ2／ｇの粉体を得たものである。
【００３８】また、サンプル１４〜１６は、撹拌速度を
４ｍ／ｓ、粉砕時間を５５時間と一定にし、ボール直径
を０．２ｍｍ、５ｍｍ、１２ｍｍに変化させて、それぞ
れ平均粒径が０．６μｍ、０．７μｍ、１．５μｍ、比
表面積がそれぞれ７ｍ2／ｇ、６ｍ2／ｇ、３ｍ2／ｇの
粉体を得たものである。
４ｍ／ｓ、粉砕時間を５５時間と一定にし、ボール直径
を０．２ｍｍ、５ｍｍ、１２ｍｍに変化させて、それぞ
れ平均粒径が０．６μｍ、０．７μｍ、１．５μｍ、比
表面積がそれぞれ７ｍ2／ｇ、６ｍ2／ｇ、３ｍ2／ｇの
粉体を得たものである。
【００３９】また、サンプル１７〜１９は、撹拌速度を
４ｍ／ｓ、粉砕時間を５５時間、ボール直径を３ｍｍと
一定にし、媒体ビーズとして用いたＰＳＺと窒化珪素の
比率を体積比でＰＳＺ：窒化珪素＝２０：８０、ＰＳ
Ｚ：窒化珪素＝８０：２０、ＰＳＺ：窒化珪素＝９９：
１と変化させ、それぞれ平均粒径が０．７μｍ、０．４
５μｍ、０．４５μｍ、比表面積がそれぞれ６ｍ２／
ｇ、９ｍ２／ｇ、９ｍ２／ｇの粉体を得たものである。
４ｍ／ｓ、粉砕時間を５５時間、ボール直径を３ｍｍと
一定にし、媒体ビーズとして用いたＰＳＺと窒化珪素の
比率を体積比でＰＳＺ：窒化珪素＝２０：８０、ＰＳ
Ｚ：窒化珪素＝８０：２０、ＰＳＺ：窒化珪素＝９９：
１と変化させ、それぞれ平均粒径が０．７μｍ、０．４
５μｍ、０．４５μｍ、比表面積がそれぞれ６ｍ２／
ｇ、９ｍ２／ｇ、９ｍ２／ｇの粉体を得たものである。
【００４０】また、比較のため、従来例として、サンプ
ル２０〜２２について試験を行った。サンプル２０は、
主成分が、ＮｉＯ ９．５ｍｏｌ％、ＣｕＯ １０．５
ｍｏｌ％、ＺｎＯ ３４．０ｍｏｌ％、Ｆｅ2Ｏ3 ４
６．０ｍｏｌ％のものを用い、粉砕機として前記湿式内
部循環式メディア撹拌型ミルを用い、ボールとして直径
が３ｍｍ、材質がステンレス鋼のものを用い、前記サン
プル１〜９と同じ平均粒径０．５μｍ、比表面積８ｍ2
／ｇが得られるように、撹拌速度、粉砕時間を設定した
ものである。
ル２０〜２２について試験を行った。サンプル２０は、
主成分が、ＮｉＯ ９．５ｍｏｌ％、ＣｕＯ １０．５
ｍｏｌ％、ＺｎＯ ３４．０ｍｏｌ％、Ｆｅ2Ｏ3 ４
６．０ｍｏｌ％のものを用い、粉砕機として前記湿式内
部循環式メディア撹拌型ミルを用い、ボールとして直径
が３ｍｍ、材質がステンレス鋼のものを用い、前記サン
プル１〜９と同じ平均粒径０．５μｍ、比表面積８ｍ2
／ｇが得られるように、撹拌速度、粉砕時間を設定した
ものである。
【００４１】サンプル２１は、サンプル１〜１８で使用
した主成分の材料を用い、粉砕機として前記湿式内部循
環式メディア撹拌型ミルを用い、ボールとして直径が３
ｍｍ、材質がチタニアのものを用い、前記サンプル１〜
９と同じ平均粒径０．５μｍ、比表面積８ｍ2／ｇが得
られるように、撹拌速度、粉砕時間を設定したものであ
る。
した主成分の材料を用い、粉砕機として前記湿式内部循
環式メディア撹拌型ミルを用い、ボールとして直径が３
ｍｍ、材質がチタニアのものを用い、前記サンプル１〜
９と同じ平均粒径０．５μｍ、比表面積８ｍ2／ｇが得
られるように、撹拌速度、粉砕時間を設定したものであ
る。
【００４２】サンプル２２は、主成分が、ＮｉＯ ９．
５ｍｏｌ％、ＣｕＯ １０．５ｍｏｌ％、ＺｎＯ ３
４．０ｍｏｌ％、Ｆｅ2Ｏ3 ４６．０ｍｏｌ％のものを
用い、粉砕機としてボールミルを用い、ボールとして直
径が３ｍｍ、材質がステンレス鋼のものを用い、平均粒
径０．３μｍ、比表面積１２ｍ2／ｇのものを得たもの
である。
５ｍｏｌ％、ＣｕＯ １０．５ｍｏｌ％、ＺｎＯ ３
４．０ｍｏｌ％、Ｆｅ2Ｏ3 ４６．０ｍｏｌ％のものを
用い、粉砕機としてボールミルを用い、ボールとして直
径が３ｍｍ、材質がステンレス鋼のものを用い、平均粒
径０．３μｍ、比表面積１２ｍ2／ｇのものを得たもの
である。
【００４３】なお、表２に示した材料中の不純物とその
混入量および表３に示す製造後の主成分の定量分析は蛍
光Ｘ線分析法により測定した。また、比表面積は（株）
島津製作所製流動式比表面積自動測定装置、フローソー
プ２３００型でＢＥＴ一点法により測定した。また、平
均粒径は、ハネウェル（ＨＯＮＥＷＥＬＬ）社製マイク
ロトラックＨＲＡ９３２０−Ｘ１００型でレーザー回折
・散乱法により測定した。
混入量および表３に示す製造後の主成分の定量分析は蛍
光Ｘ線分析法により測定した。また、比表面積は（株）
島津製作所製流動式比表面積自動測定装置、フローソー
プ２３００型でＢＥＴ一点法により測定した。また、平
均粒径は、ハネウェル（ＨＯＮＥＷＥＬＬ）社製マイク
ロトラックＨＲＡ９３２０−Ｘ１００型でレーザー回折
・散乱法により測定した。
【００４４】（透磁率および焼結体密度測定のための試
料作製）前記サンプル１〜２２に示した材料にバインダ
ーとしてＰＶＡ１２４の３％水溶液を１０重量部加えて
造粒し、後述の測定条件により所定の形状に成形し、空
気中で８７０℃、８８０℃、９１０℃、９２０℃、９４
０℃、１０００℃、１１００℃で２時間焼成して作製し
た。
料作製）前記サンプル１〜２２に示した材料にバインダ
ーとしてＰＶＡ１２４の３％水溶液を１０重量部加えて
造粒し、後述の測定条件により所定の形状に成形し、空
気中で８７０℃、８８０℃、９１０℃、９２０℃、９４
０℃、１０００℃、１１００℃で２時間焼成して作製し
た。
【００４５】（評価）コアの材料としての評価は、所望
の比表面積とするまでの粉砕時間と、媒体ビーズの摩耗
による混入と思われる不純物の確認と、主成分であるＦ
ｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＣｕＯ、ＮｉＯの組成のずれと、表４
に示す初透磁率と、表５に示す見かけ密度とを評価する
ことにより行った。初透磁率の測定は、外径１８ｍｍ、
内径１０ｍｍ、高さ３．１ｍｍのトロイダル型となるよ
うに成形し、空気中で所定温度にて焼成し、ワイヤーを
２０回巻いて実際にコイルを作製し、インピーダンスア
ナライザ（ヒューレットパッカード社製４２９１Ａ）に
より、磁界を０．４Ａ／ｍ印加し、１００ｋＨｚのイン
ダクタンスを測定し、形状から得られた定数から算出し
てこれを求めた。
の比表面積とするまでの粉砕時間と、媒体ビーズの摩耗
による混入と思われる不純物の確認と、主成分であるＦ
ｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＣｕＯ、ＮｉＯの組成のずれと、表４
に示す初透磁率と、表５に示す見かけ密度とを評価する
ことにより行った。初透磁率の測定は、外径１８ｍｍ、
内径１０ｍｍ、高さ３．１ｍｍのトロイダル型となるよ
うに成形し、空気中で所定温度にて焼成し、ワイヤーを
２０回巻いて実際にコイルを作製し、インピーダンスア
ナライザ（ヒューレットパッカード社製４２９１Ａ）に
より、磁界を０．４Ａ／ｍ印加し、１００ｋＨｚのイン
ダクタンスを測定し、形状から得られた定数から算出し
てこれを求めた。
【００４６】見かけ密度は、焼結体の寸法から体積を求
め、その質量を体積で除算して求めた。ここで、見かけ
密度は、焼結体の焼結性の良し悪しを見るためのもので
ある。見かけ密度が低いことにより、焼結体内部の空孔
が多くなり、素子化した場合において、高い温湿度での
使用により、この空孔が原因となり、ショート不良等の
信頼性に影響を及ぼしたり、物理的強度が脆弱となると
いう問題が生じる。このような問題が生じない見かけ密
度は、一般にＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトの理論密度
（５．３〜５．５ｇ／ｃｍ3）の９５％以上となる５．
０ｇ／ｃｍ3以上である。
め、その質量を体積で除算して求めた。ここで、見かけ
密度は、焼結体の焼結性の良し悪しを見るためのもので
ある。見かけ密度が低いことにより、焼結体内部の空孔
が多くなり、素子化した場合において、高い温湿度での
使用により、この空孔が原因となり、ショート不良等の
信頼性に影響を及ぼしたり、物理的強度が脆弱となると
いう問題が生じる。このような問題が生じない見かけ密
度は、一般にＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライトの理論密度
（５．３〜５．５ｇ／ｃｍ3）の９５％以上となる５．
０ｇ／ｃｍ3以上である。
【００４７】
【表１】
【００４８】
【表２】
【００４９】（評価結果） ［不純物の混入］表１において、サンプル１〜９のよう
に、所望の比表面積を８ｍ2／ｇとしたとき、撹拌速度
が増加するにつれ、粉砕時間が短時間になることから、
撹拌速度の増加が粉砕効率を向上させることが分かる。
ただし、この撹拌速度の増加は媒体ビーズの摩耗量を増
加させる。表２に示すように、ＰＳＺおよび窒化珪素に
ついては、その主成分であるＺｒＯ2とＹ2Ｏ3とＳｉが
混入するが、他の成分の混入は認められない。
に、所望の比表面積を８ｍ2／ｇとしたとき、撹拌速度
が増加するにつれ、粉砕時間が短時間になることから、
撹拌速度の増加が粉砕効率を向上させることが分かる。
ただし、この撹拌速度の増加は媒体ビーズの摩耗量を増
加させる。表２に示すように、ＰＳＺおよび窒化珪素に
ついては、その主成分であるＺｒＯ2とＹ2Ｏ3とＳｉが
混入するが、他の成分の混入は認められない。
【００５０】一方、従来例であるサンプル２０、２１に
おいては、ボール直径と撹拌速度が同じであるサンプル
５の場合と粉砕時間とボールの摩耗量を比較すると、サ
ンプル２０、すなわちステンレス鋼の場合、ＰＳＺ：窒
化珪素＝５０：５０の場合より粉砕時間が短縮され、粉
砕効率は非常に高いが、摩耗量はＰＳＺ：窒化珪素＝５
０：５０の場合に比較して約２０倍と非常に多量であ
る。また、サンプル２１、すなわちチタニアの場合もＰ
ＳＺ：窒化珪素＝５０：５０に比較して約８．２倍の摩
耗量がある。
おいては、ボール直径と撹拌速度が同じであるサンプル
５の場合と粉砕時間とボールの摩耗量を比較すると、サ
ンプル２０、すなわちステンレス鋼の場合、ＰＳＺ：窒
化珪素＝５０：５０の場合より粉砕時間が短縮され、粉
砕効率は非常に高いが、摩耗量はＰＳＺ：窒化珪素＝５
０：５０の場合に比較して約２０倍と非常に多量であ
る。また、サンプル２１、すなわちチタニアの場合もＰ
ＳＺ：窒化珪素＝５０：５０に比較して約８．２倍の摩
耗量がある。
【００５１】［不純物の混入による材料組成のずれ］表
３は主成分であるＦｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＣｕＯ、ＮｉＯの
秤量から混合粉砕、仮焼成、微粉砕を経た材料の組成の
ずれを示す。これは主成分である前記各酸化物の定量分
析の結果である。表３から分かるように、サンプル２
０、２２のようにステンレス鋼を媒体ビーズに用いた場
合、秤量から完成までのＦｅ2Ｏ3のずれが大きく、Ｎｉ
−Ｃｕ−Ｚｎフェライトにおいて、最も慎重な管理が要
求されるＦｅ2Ｏ3の組成が秤量から完成までに３ｍｏｌ
％以上増加する。また、ステンレス鋼は内部と外部の硬
度に違いがあるため、媒体ビーズの使用が長期にわたる
と、Ｆｅ2Ｏ3の混入量にも違いが生じるため、組成管理
が困難になることが分かる。
３は主成分であるＦｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＣｕＯ、ＮｉＯの
秤量から混合粉砕、仮焼成、微粉砕を経た材料の組成の
ずれを示す。これは主成分である前記各酸化物の定量分
析の結果である。表３から分かるように、サンプル２
０、２２のようにステンレス鋼を媒体ビーズに用いた場
合、秤量から完成までのＦｅ2Ｏ3のずれが大きく、Ｎｉ
−Ｃｕ−Ｚｎフェライトにおいて、最も慎重な管理が要
求されるＦｅ2Ｏ3の組成が秤量から完成までに３ｍｏｌ
％以上増加する。また、ステンレス鋼は内部と外部の硬
度に違いがあるため、媒体ビーズの使用が長期にわたる
と、Ｆｅ2Ｏ3の混入量にも違いが生じるため、組成管理
が困難になることが分かる。
【００５２】［粉砕時間と比表面積との関係］また、サ
ンプル１０〜１３から分かるように、粉砕時間を長時間
とすることにより、比表面積を増加させることができる
ことが分かる。
ンプル１０〜１３から分かるように、粉砕時間を長時間
とすることにより、比表面積を増加させることができる
ことが分かる。
【００５３】
【表３】
【００５４】［ボール直径と比表面積との関係］また、
撹拌速度と粉砕時間を一定としたサンプル３、１４、１
５、１６に示すように、同じ撹拌速度で同じ粉砕時間粉
砕した場合、ボール直径が３ｍｍの場合が得られる粉体
の比表面積が最も大きく、粉砕効率が高いことが分か
る。一般にボール直径が小さくなるにつれて、粉砕効率
が大きくなることが知られているが、ただしそれは、粗
粉砕工程を経た場合であって、十分粗粉砕を行わない実
施例においては、ボール直径が３ｍｍの場合が最も粉砕
効率が高いことが分かる。なお、サンプル２２のように
ボールミルを使用した場合、１９２時間の長時間の粉砕
により、比表面積を１２ｍ2／ｇとすることが可能とな
る。しかしこれは、湿式内部循環式のメディア撹拌型ミ
ルで撹拌速度を４ｍ／ｓとしたときのサンプル１２と比
較しても、倍以上の粉砕時間を要する。しかも、サンプ
ル２２の場合、比表面積も小さく、ボールミルの粉砕効
率が低いことが分かる。
撹拌速度と粉砕時間を一定としたサンプル３、１４、１
５、１６に示すように、同じ撹拌速度で同じ粉砕時間粉
砕した場合、ボール直径が３ｍｍの場合が得られる粉体
の比表面積が最も大きく、粉砕効率が高いことが分か
る。一般にボール直径が小さくなるにつれて、粉砕効率
が大きくなることが知られているが、ただしそれは、粗
粉砕工程を経た場合であって、十分粗粉砕を行わない実
施例においては、ボール直径が３ｍｍの場合が最も粉砕
効率が高いことが分かる。なお、サンプル２２のように
ボールミルを使用した場合、１９２時間の長時間の粉砕
により、比表面積を１２ｍ2／ｇとすることが可能とな
る。しかしこれは、湿式内部循環式のメディア撹拌型ミ
ルで撹拌速度を４ｍ／ｓとしたときのサンプル１２と比
較しても、倍以上の粉砕時間を要する。しかも、サンプ
ル２２の場合、比表面積も小さく、ボールミルの粉砕効
率が低いことが分かる。
【００５５】［初透磁率、見かけ密度について］表４に
示す初透磁率は、表５に示す見かけ密度と関連のあるこ
とが分かる。すなわち比較的低い透磁率しか得られない
サンプル９〜１１、１６、２１においては、見かけ密度
も低くなる。サンプル１〜９において、ボール直径３ｍ
ｍのＰＳＺと窒化珪素を媒体ビーズとして、湿式内部循
環式のメディア撹拌型ミルを用い、比表面積が８ｍ2／
ｇとなるように撹拌速度を変化させたが、撹拌速度を大
きくすると透磁率と焼結体密度は双方とも劣化した。こ
れはＰＳＺの成分であるＺｒＯ2とＹ2Ｏ3の混合量およ
び窒化珪素によるＳｉの混入量の増加が、特性の劣化に
寄与しているものである。ただし焼成温度が１１００℃
とするとその差は小さく、ほぼ同等と考えられるが、９
４０℃以下では大きくなる。
示す初透磁率は、表５に示す見かけ密度と関連のあるこ
とが分かる。すなわち比較的低い透磁率しか得られない
サンプル９〜１１、１６、２１においては、見かけ密度
も低くなる。サンプル１〜９において、ボール直径３ｍ
ｍのＰＳＺと窒化珪素を媒体ビーズとして、湿式内部循
環式のメディア撹拌型ミルを用い、比表面積が８ｍ2／
ｇとなるように撹拌速度を変化させたが、撹拌速度を大
きくすると透磁率と焼結体密度は双方とも劣化した。こ
れはＰＳＺの成分であるＺｒＯ2とＹ2Ｏ3の混合量およ
び窒化珪素によるＳｉの混入量の増加が、特性の劣化に
寄与しているものである。ただし焼成温度が１１００℃
とするとその差は小さく、ほぼ同等と考えられるが、９
４０℃以下では大きくなる。
【００５６】また、この特性は従来の条件であるサンプ
ル２２と比較すると、撹拌速度が６ｍ／ｓ、ＺｒＯ2の
混入量が０．１１１重量％、Ｙ2Ｏ3が０．００６重量
％、Ｓｉが０．０２７重量％を越えると劣化することが
分かる。これを越えない範囲では従来と比較して極めて
良好な特性が得られる。また、９２０℃での焼成、すな
わちＡｇの融点以下での焼成が可能となる。ただし、こ
の値を越えても、ＺｒＯ2の混入量が０．１９４重量
％、Ｙ2Ｏ3が０．０１１重量％、Ｓｉが０。０５６重量
％を越えない範囲であれば、サンプル８に示すように、
９２０℃において、５ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度が得
られた。
ル２２と比較すると、撹拌速度が６ｍ／ｓ、ＺｒＯ2の
混入量が０．１１１重量％、Ｙ2Ｏ3が０．００６重量
％、Ｓｉが０．０２７重量％を越えると劣化することが
分かる。これを越えない範囲では従来と比較して極めて
良好な特性が得られる。また、９２０℃での焼成、すな
わちＡｇの融点以下での焼成が可能となる。ただし、こ
の値を越えても、ＺｒＯ2の混入量が０．１９４重量
％、Ｙ2Ｏ3が０．０１１重量％、Ｓｉが０。０５６重量
％を越えない範囲であれば、サンプル８に示すように、
９２０℃において、５ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度が得
られた。
【００５７】［撹拌速度について］見かけ密度５．０ｇ
／ｃｍ3以上が、Ａｇとの同時焼成に好適な９２０℃以
下の焼結により得られるサンプルは、サンプル１〜８、
サンプル１２〜１５、サンプル１７〜１９、サンプル２
０、２２である。サンプル９の場合、撹拌速度が１０ｍ
／ｓであり、この場合は、平均粒径、比表面積がサンプ
ル１〜８と同じであっても、ＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ｓｉの
混入量が多過ぎるため、９４０℃であっても５．０ｇ／
ｃｍ3以上の見かけ密度を得ることができない。また、
サンプル１の場合、撹拌速度が１ｍ／ｓであり、比表面
積が８．０ｍ2／ｇとなるまでに９３時間の長時間を要
するので好ましくない。このようなことから、好適な撹
拌速度は２．０〜８．０ｍ／ｓである。
／ｃｍ3以上が、Ａｇとの同時焼成に好適な９２０℃以
下の焼結により得られるサンプルは、サンプル１〜８、
サンプル１２〜１５、サンプル１７〜１９、サンプル２
０、２２である。サンプル９の場合、撹拌速度が１０ｍ
／ｓであり、この場合は、平均粒径、比表面積がサンプ
ル１〜８と同じであっても、ＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ｓｉの
混入量が多過ぎるため、９４０℃であっても５．０ｇ／
ｃｍ3以上の見かけ密度を得ることができない。また、
サンプル１の場合、撹拌速度が１ｍ／ｓであり、比表面
積が８．０ｍ2／ｇとなるまでに９３時間の長時間を要
するので好ましくない。このようなことから、好適な撹
拌速度は２．０〜８．０ｍ／ｓである。
【００５８】
【表４】
【００５９】［比表面積について］得られる粉体の比表
面積が２．５ｍ2／ｇであるサンプル１１や３ｍ2／ｇで
あるサンプル１６の場合には、９２０℃において、５ｇ
／ｃｍ3以上の見かけ密度が得られない。比表面積が６
ｍ2／ｇとなるサンプル１５においては、５．０ｇ／ｃ
ｍ3以上の見かけ密度が得られる。
面積が２．５ｍ2／ｇであるサンプル１１や３ｍ2／ｇで
あるサンプル１６の場合には、９２０℃において、５ｇ
／ｃｍ3以上の見かけ密度が得られない。比表面積が６
ｍ2／ｇとなるサンプル１５においては、５．０ｇ／ｃ
ｍ3以上の見かけ密度が得られる。
【００６０】一方、サンプル１２のように、比表面積が
１５ｍ2／ｇであれば、見かけ密度として５．０ｇ／ｃ
ｍ3以上の値が得られる。サンプル１２の場合、粉砕時
間が１１５時間と長くなっているが、これは撹拌速度を
大とすることにより、短縮することができる。
１５ｍ2／ｇであれば、見かけ密度として５．０ｇ／ｃ
ｍ3以上の値が得られる。サンプル１２の場合、粉砕時
間が１１５時間と長くなっているが、これは撹拌速度を
大とすることにより、短縮することができる。
【００６１】
【表５】
【００６２】［ボール直径について］サンプル３、１４
〜１６は撹拌速度、粉砕時間を一定にし、媒体ビーズと
して使用したボール直径を変更し、湿式内部循環式のメ
ディア撹拌型ミルを用いて粉砕を行ったものであるが、
サンプル３、１４、１５のように、直径が０．２〜５ｍ
ｍの範囲では５ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度が９２０℃
以上での焼成で得られる。
〜１６は撹拌速度、粉砕時間を一定にし、媒体ビーズと
して使用したボール直径を変更し、湿式内部循環式のメ
ディア撹拌型ミルを用いて粉砕を行ったものであるが、
サンプル３、１４、１５のように、直径が０．２〜５ｍ
ｍの範囲では５ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度が９２０℃
以上での焼成で得られる。
【００６３】［ＰＳＺビーズと窒化珪素ビーズの比率に
ついて］サンプル３、１７〜１９は、ボール直径、撹拌
速度、粉砕時間を一定にし、媒体ビーズとして使用した
ＰＳＺと窒化珪素の体積比率を変更し、湿式内部循環式
のメディア撹拌型ミルを用いて粉砕を行ったものである
が、ＰＳＺ：窒化珪素＝２０：８０〜９９：１の範囲に
おいて、５ｇ／ｃｍ３以上の見かけ密度が９２０℃以上
の焼成温度で得られる。
ついて］サンプル３、１７〜１９は、ボール直径、撹拌
速度、粉砕時間を一定にし、媒体ビーズとして使用した
ＰＳＺと窒化珪素の体積比率を変更し、湿式内部循環式
のメディア撹拌型ミルを用いて粉砕を行ったものである
が、ＰＳＺ：窒化珪素＝２０：８０〜９９：１の範囲に
おいて、５ｇ／ｃｍ３以上の見かけ密度が９２０℃以上
の焼成温度で得られる。
【００６４】［焼成温度について］Ａｇの融点９６０℃
より低い９４０℃以下であれば、Ａｇとの同時焼成が可
能である。従って焼成温度は８０〜９４０℃であり、さ
らに好ましくは９１０〜９２０℃である。
より低い９４０℃以下であれば、Ａｇとの同時焼成が可
能である。従って焼成温度は８０〜９４０℃であり、さ
らに好ましくは９１０〜９２０℃である。
【００６５】なお、サンプル２１のチタニアボール使用
の場合、５ｇ／ｃｍ3の焼結体密度を得るには１１００
℃以上の焼成温度が必要である。
の場合、５ｇ／ｃｍ3の焼結体密度を得るには１１００
℃以上の焼成温度が必要である。
【００６６】［特許第２７０８１６０号公報記載の方法
との比較］該公報に記載の方法では、媒体ビーズ摩耗に
よるＺｒＯ2の混入量を０．０２重量％程度に抑えるた
め、１９６時間という長時間をかけてゆっくりと粉砕し
ている。本発明は、Ａｇとの同時焼成を目標として、９
２０℃程度の焼成でも５ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度が
得られる範囲でＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3の混入量をサンプル７
のようにそれぞれ０．０３重量％、０．００１重量％以
上に、また、窒化珪素ビーズも併用してそのＳｉの混入
量をサンプル１８のように０．００１重量％以上に上
げ、これにより撹拌速度を上げて粉砕効率を上げること
を可能としているのである。
との比較］該公報に記載の方法では、媒体ビーズ摩耗に
よるＺｒＯ2の混入量を０．０２重量％程度に抑えるた
め、１９６時間という長時間をかけてゆっくりと粉砕し
ている。本発明は、Ａｇとの同時焼成を目標として、９
２０℃程度の焼成でも５ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度が
得られる範囲でＺｒＯ2、Ｙ2Ｏ3の混入量をサンプル７
のようにそれぞれ０．０３重量％、０．００１重量％以
上に、また、窒化珪素ビーズも併用してそのＳｉの混入
量をサンプル１８のように０．００１重量％以上に上
げ、これにより撹拌速度を上げて粉砕効率を上げること
を可能としているのである。
【００６７】
【発明の効果】請求項１の酸化物磁性材料によれば、Ｐ
ＳＺと窒化珪素を用いてＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎに前記混入量
のＹ2Ｏ3、ＺｒＯ2およびＳｉを含ませることにより、
Ａｇとの同時焼成が可能な温度において焼成可能で、焼
成により５．０ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度で透磁率の
面においても需要に応じることのできる焼結体を得るこ
とができる。また、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2およびＳｉの量を
前記範囲に設定することにより、短い粉砕時間で酸化物
磁性材料を得ることができ、製造コストを低減できる。
ＳＺと窒化珪素を用いてＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎに前記混入量
のＹ2Ｏ3、ＺｒＯ2およびＳｉを含ませることにより、
Ａｇとの同時焼成が可能な温度において焼成可能で、焼
成により５．０ｇ／ｃｍ3以上の見かけ密度で透磁率の
面においても需要に応じることのできる焼結体を得るこ
とができる。また、Ｙ2Ｏ3、ＺｒＯ2およびＳｉの量を
前記範囲に設定することにより、短い粉砕時間で酸化物
磁性材料を得ることができ、製造コストを低減できる。
【００６８】請求項２、３のチップ部品は、請求項１の
酸化物磁性材料の焼結体を用い、バルク型コイル部品、
あるいは積層型コイル部品が構成されるので、強度や透
磁率の面においても高温焼成のものとそれほど遜色がな
いコイル部品が得られる。
酸化物磁性材料の焼結体を用い、バルク型コイル部品、
あるいは積層型コイル部品が構成されるので、強度や透
磁率の面においても高温焼成のものとそれほど遜色がな
いコイル部品が得られる。
【００６９】請求項４のチップ部品は、請求項３におい
て、内部導体がＡｇまたはＡｇとＰｄの合金を主成分と
するので、Ｑの高いコイル部品が得られる。
て、内部導体がＡｇまたはＡｇとＰｄの合金を主成分と
するので、Ｑの高いコイル部品が得られる。
【００７０】請求項５、６の酸化物磁性材料を製造する
方法によれば、ＰＳＺボール、窒化珪素ボールを利用し
て仮焼成後の材料の粉砕を行うことにより、従来のステ
ンレス、鋼ボール等を用いる場合のような組成管理の困
難の問題を解消することができる。また、粉砕工程を利
用してＹ2Ｏ3、、ＺｒＯ2およびＳｉの混入を行うので、
材料混入のための秤量や混合の工程が不要になる。ま
た、特許第２７０８１６０号公報に記載のように、粉砕
時の媒体ビーズからの混入量を低く抑える場合に比較
し、撹拌速度を上げ、粉砕時間を短縮して製造コストを
安価にすることができる。
方法によれば、ＰＳＺボール、窒化珪素ボールを利用し
て仮焼成後の材料の粉砕を行うことにより、従来のステ
ンレス、鋼ボール等を用いる場合のような組成管理の困
難の問題を解消することができる。また、粉砕工程を利
用してＹ2Ｏ3、、ＺｒＯ2およびＳｉの混入を行うので、
材料混入のための秤量や混合の工程が不要になる。ま
た、特許第２７０８１６０号公報に記載のように、粉砕
時の媒体ビーズからの混入量を低く抑える場合に比較
し、撹拌速度を上げ、粉砕時間を短縮して製造コストを
安価にすることができる。
【００７１】請求項７ないし９の酸化物磁性材料の製造
方法によれば、媒体ビーズ直径、媒体ビーズの撹拌速
度、仮焼成を経た粉砕物の比面積をそれぞれ前記各範囲
に設定するため、粉砕効率が低下や、焼結体密度および
透磁率の劣化をきたすことなく、酸化物磁性材料を得る
ことができる。
方法によれば、媒体ビーズ直径、媒体ビーズの撹拌速
度、仮焼成を経た粉砕物の比面積をそれぞれ前記各範囲
に設定するため、粉砕効率が低下や、焼結体密度および
透磁率の劣化をきたすことなく、酸化物磁性材料を得る
ことができる。
【００７２】請求項１０のチップ部品の製造方法によれ
ば、媒体ビーズにより粉砕した酸化物磁性材料と内部導
体とを成形して９１０〜９２０℃で焼成するため、焼結
不足になったり、フェライト中に電極材料が拡散するこ
とを防ぎ、電磁気的特性の劣化を防止することができ
る。
ば、媒体ビーズにより粉砕した酸化物磁性材料と内部導
体とを成形して９１０〜９２０℃で焼成するため、焼結
不足になったり、フェライト中に電極材料が拡散するこ
とを防ぎ、電磁気的特性の劣化を防止することができ
る。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１１月８日（１９９９．１１．
８）
８）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４８】
【表２】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５０】一方、従来例であるサンプル２０、２１に
おいては、ボール直径と撹拌速度が同じであるサンプル
５の場合と粉砕時間とボールの摩耗量を比較すると、サ
ンプル２０、すなわちステンレス鋼の場合、ＰＳＺ：窒
化珪素＝５０：５０の場合より粉砕時間が短縮され、粉
砕効率は非常に高いが、摩耗量はＰＳＺ：窒化珪素＝５
０：５０の場合に比較して約７３倍と非常に多量であ
る。また、サンプル２１、すなわちチタニアの場合もＰ
ＳＺ：窒化珪素＝５０：５０に比較して約８．２倍の摩
耗量がある。
おいては、ボール直径と撹拌速度が同じであるサンプル
５の場合と粉砕時間とボールの摩耗量を比較すると、サ
ンプル２０、すなわちステンレス鋼の場合、ＰＳＺ：窒
化珪素＝５０：５０の場合より粉砕時間が短縮され、粉
砕効率は非常に高いが、摩耗量はＰＳＺ：窒化珪素＝５
０：５０の場合に比較して約７３倍と非常に多量であ
る。また、サンプル２１、すなわちチタニアの場合もＰ
ＳＺ：窒化珪素＝５０：５０に比較して約８．２倍の摩
耗量がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５３】
【表３】
Claims (10)
- 【請求項１】Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＣｕＯおよびＮｉＯを
主成分とし、この主成分に、全体量に対する含有量が
０．００１〜０．０１１重量％となるＹ2Ｏ3を含み、か
つ０．０３１〜０．１９４重量％となるＺｒＯ2を含
み、かつ０．０１０〜０．０５６重量％となるＳｉを含
むことを特徴とする酸化物磁性材料。 - 【請求項２】請求項１の酸化物磁性材料の焼結体を用
い、バルク型コイル部品として構成されていることを特
徴とするチップ部品。 - 【請求項３】請求項１の酸化物磁性材料の焼結体を用
い、かつ焼結体内に導電体層を有して積層型コイル部品
または積層型コイル部品を一部に含んで構成されている
ことを特徴とするチップ部品。 - 【請求項４】請求項３において、内部導体がＡｇまたは
ＡｇとＰｄの合金を主成分とすることを特徴とするチッ
プ部品。 - 【請求項５】請求項１の酸化物磁性材料を製造する方法
であって、 原料の混合粉砕時および仮焼成を経た材料の粉砕時に湿
式内部循環式のメディア撹拌型ミルを用い、媒体ビーズ
として部分安定化ジルコニアと窒化珪素を使用し、 媒体ビースの摩滅により、酸化物磁性材料内に、全体量
に対する含有量が０．００１〜０．０１１重量％となる
Ｙ2Ｏ3を含み、かつ０．０３〜０．１９４重量％となる
ＺｒＯ2を含み、かつ０．０１０〜０．０５６重量％と
なるＳｉを含有させることを特徴とする酸化物磁性材料
の製造方法。 - 【請求項６】請求項５において、 部分安定化ジルコニアビーズおよび窒化珪素ビーズの全
体量に対し、窒化珪素ビーズが、体積比で２０％〜９９
％であることを特徴とする酸化物磁性材料の製造方法。 - 【請求項７】請求項５または６の酸化物磁性材料の製造
方法であって、 媒体ビーズとしてその直径が０．２〜５ｍｍのものを使
用することを特徴とする酸化物磁性材料の製造方法。 - 【請求項８】請求項５から７までのいずれかの酸化物磁
性材料の製造方法であって、 媒体ビーズの撹拌速度を２．０〜８．０ｍ／ｓとするこ
とを特徴とする酸化物磁性材料の製造方法。 - 【請求項９】請求項５から８までのいずれかの酸化物磁
性材料の製造方法であって、 仮焼成を経た材料から粉砕により比表面積が６．０〜１
５．０ｍ2／ｇの粉体を得ることを特徴とする酸化物磁
性材料の製造方法。 - 【請求項１０】請求項３または４のチップ部品の製造方
法であって、 媒体ビーズにより粉砕した酸化物磁性材料と内部導体と
を成形して９１０〜９２０℃で焼成することを特徴とす
るチップ部品の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26293599A JP2001085216A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 酸化物磁性材料とチップ部品と酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法 |
| KR1020000047346A KR100550684B1 (ko) | 1999-08-19 | 2000-08-17 | 산화물 자성재료 및 칩부품 |
| TW089116732A TW475184B (en) | 1999-08-19 | 2000-08-18 | Oxide magnetic material and chip part |
| CNB001288679A CN1192399C (zh) | 1999-08-19 | 2000-08-18 | 氧化物磁性材料和芯片 |
| US09/641,333 US6485840B1 (en) | 1999-08-19 | 2000-08-18 | Oxide magnetic material and chip part |
| CNB2004100485884A CN1287395C (zh) | 1999-08-19 | 2000-08-18 | 氧化物磁性材料和芯片 |
| US10/238,727 US7070732B2 (en) | 1999-08-19 | 2002-09-11 | Method for producing an oxide magnetic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26293599A JP2001085216A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 酸化物磁性材料とチップ部品と酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001085216A true JP2001085216A (ja) | 2001-03-30 |
Family
ID=17382630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26293599A Pending JP2001085216A (ja) | 1999-08-19 | 1999-09-17 | 酸化物磁性材料とチップ部品と酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001085216A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6852245B2 (en) | 2001-04-27 | 2005-02-08 | Tdk Corporation | Process for producing granules for being molded into ferrite, granules for being molded into ferrite, green body and sintered body |
| JP2011096977A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Tdk Corp | フェライト組成物、フェライトコアおよび電子部品 |
| JP2012099662A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Tdk Corp | フェライト組成物、フェライトコアおよび電子部品 |
| JP2012124216A (ja) * | 2010-12-06 | 2012-06-28 | Tdk Corp | フェライト組成物、フェライトコアおよび電子部品 |
-
1999
- 1999-09-17 JP JP26293599A patent/JP2001085216A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6852245B2 (en) | 2001-04-27 | 2005-02-08 | Tdk Corporation | Process for producing granules for being molded into ferrite, granules for being molded into ferrite, green body and sintered body |
| JP2011096977A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Tdk Corp | フェライト組成物、フェライトコアおよび電子部品 |
| JP2012099662A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-24 | Tdk Corp | フェライト組成物、フェライトコアおよび電子部品 |
| JP2012124216A (ja) * | 2010-12-06 | 2012-06-28 | Tdk Corp | フェライト組成物、フェライトコアおよび電子部品 |
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