JP2001084570A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP2001084570A JP2001084570A JP26108299A JP26108299A JP2001084570A JP 2001084570 A JP2001084570 A JP 2001084570A JP 26108299 A JP26108299 A JP 26108299A JP 26108299 A JP26108299 A JP 26108299A JP 2001084570 A JP2001084570 A JP 2001084570A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】カーボンブラックを含む下層の分散性にすぐ
れ、表面性にすぐれ、電磁変換特性が良好で、耐久性に
優れた磁気記録媒体を得る。 【解決手段】磁性支持体上に顔料として少なくともカー
ボンブラックを含む非磁性層を介し磁性層を有する磁気
記録媒体において、非磁性層に使用されるバインダーは
放射線硬化型バインダーであり、リン含有極性基を有す
るポリウレタン樹脂を含んでいることを特徴とする磁気
記録媒体。
れ、表面性にすぐれ、電磁変換特性が良好で、耐久性に
優れた磁気記録媒体を得る。 【解決手段】磁性支持体上に顔料として少なくともカー
ボンブラックを含む非磁性層を介し磁性層を有する磁気
記録媒体において、非磁性層に使用されるバインダーは
放射線硬化型バインダーであり、リン含有極性基を有す
るポリウレタン樹脂を含んでいることを特徴とする磁気
記録媒体。
Description
【0001】
【産業上の技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関する
ものであり、特に電磁変換特性及び耐久性等が改良され
た磁気記録媒体に関するものである。
ものであり、特に電磁変換特性及び耐久性等が改良され
た磁気記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、繰り返しコピーによる信号の劣化
改善の目的で磁気記録媒体のデジタル化が進んできてい
る。またその記録密度に関しても、記録データー量の増
加により高密度化が求められ、より微細な高飽和磁束密
度の金属磁性粉や六角板状のバリウムフェライト粉など
の磁性粉を使用することが実用化されている。
改善の目的で磁気記録媒体のデジタル化が進んできてい
る。またその記録密度に関しても、記録データー量の増
加により高密度化が求められ、より微細な高飽和磁束密
度の金属磁性粉や六角板状のバリウムフェライト粉など
の磁性粉を使用することが実用化されている。
【0003】一方、高記録密度化の為には、媒体の厚み損
失、自己減磁損失を考慮する必要があり、このような観
点から磁性層の薄膜化が望まれている。
失、自己減磁損失を考慮する必要があり、このような観
点から磁性層の薄膜化が望まれている。
【0004】しかし磁性層が薄膜化すると、磁性層表面に支
持体の表面性が反映されて電磁変換特性が悪化するた
め、従来、支持体表面に熱硬化性樹脂を用いた非磁性層
を設け、これを介して磁性層を設けること等が提案され
ているが、このような非磁性層では耐久性が十分ではな
いなどの問題がある。
持体の表面性が反映されて電磁変換特性が悪化するた
め、従来、支持体表面に熱硬化性樹脂を用いた非磁性層
を設け、これを介して磁性層を設けること等が提案され
ているが、このような非磁性層では耐久性が十分ではな
いなどの問題がある。
【0005】また、非磁性層と磁性層とを塗設する場合、一
旦非磁性層を塗布、乾燥して形成した後に磁性層を形成
する方法がとられるため、用いる樹脂によっては非磁性
層の表面性が悪化してしまうという問題が起こる。
旦非磁性層を塗布、乾燥して形成した後に磁性層を形成
する方法がとられるため、用いる樹脂によっては非磁性
層の表面性が悪化してしまうという問題が起こる。
【0006】このようなことから、特開昭６３−１９１３１
５号公報、特開昭６３−１９１３１８号公報には、非磁
性粉末を、例えば熱可塑性樹脂バインダー中に分散させ
た非磁性層を塗布し、この非磁性層と磁性層とを各層用
塗布液を湿潤状態で重層して塗布する方法により、電磁
変換特性、耐久性及びヘッド摩耗が改善されることが開
示されている。
５号公報、特開昭６３−１９１３１８号公報には、非磁
性粉末を、例えば熱可塑性樹脂バインダー中に分散させ
た非磁性層を塗布し、この非磁性層と磁性層とを各層用
塗布液を湿潤状態で重層して塗布する方法により、電磁
変換特性、耐久性及びヘッド摩耗が改善されることが開
示されている。
【0007】一方、非磁性層塗料を作成するバインダーに着
目すると、特開平０６−２５９７５１号公報ではスルホ
ン酸基を含有する樹脂を使用した例が、特開平０８−０
１７０３５号公報ではアミン系極性基のみを持つ塩化ビ
ニル系樹脂とスルホン酸系極性基を持つウレタン樹脂を
使用した例が、特開平０９−２６５６２３号公報ではス
ルファミン酸金属塩を極性基とするウレタン樹脂の例が
実施例及び特許請求項に開示されている。
目すると、特開平０６−２５９７５１号公報ではスルホ
ン酸基を含有する樹脂を使用した例が、特開平０８−０
１７０３５号公報ではアミン系極性基のみを持つ塩化ビ
ニル系樹脂とスルホン酸系極性基を持つウレタン樹脂を
使用した例が、特開平０９−２６５６２３号公報ではス
ルファミン酸金属塩を極性基とするウレタン樹脂の例が
実施例及び特許請求項に開示されている。
【0008】以上の例は非磁性塗料中のバインダーとして熱
硬化型バインダーを用いた例であるが、特公平６−５２
５６６号公報、特公平１−３０２２１号公報では、放射
線硬化型バインダーを用い非磁性層を設ける例が示され
ており、放射線硬化型バインダーを用いることで熱硬化
型バインダーにくらべ強靭な塗膜を得ることができる。
硬化型バインダーを用いた例であるが、特公平６−５２
５６６号公報、特公平１−３０２２１号公報では、放射
線硬化型バインダーを用い非磁性層を設ける例が示され
ており、放射線硬化型バインダーを用いることで熱硬化
型バインダーにくらべ強靭な塗膜を得ることができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、デジタル記録
方式のビデオテープやフロッピーディスク等の磁気記録
媒体では高記録密度化に伴い磁性層の薄膜化がますます
要求されることから、特開平０６−２５９７５１号公
報、特開平０８−０１７０３５号公報、特開平０９−２
６５６２３号公報に開示されるような顔料・バインダー
のみでは分散・塗膜強度が十分で。塗膜強度をあげるた
めに特公平６−５２５６６号公報、特公平１−３０２２
１号公報で示される様な放射線硬化型バインダーを用い
ても、分散性が十分でなく、満足できる表面性が得られ
ない。
方式のビデオテープやフロッピーディスク等の磁気記録
媒体では高記録密度化に伴い磁性層の薄膜化がますます
要求されることから、特開平０６−２５９７５１号公
報、特開平０８−０１７０３５号公報、特開平０９−２
６５６２３号公報に開示されるような顔料・バインダー
のみでは分散・塗膜強度が十分で。塗膜強度をあげるた
めに特公平６−５２５６６号公報、特公平１−３０２２
１号公報で示される様な放射線硬化型バインダーを用い
ても、分散性が十分でなく、満足できる表面性が得られ
ない。
【0010】一般に非磁性層中にはカーボンブラックを主体
に使用してきたが、近年になり特開平０６−２５９７５
１号公報、特開平０８−０１７０３５号公報、特開平０
９−２６５６２３号公報で示されるようにカーボンブラ
ックと他の無機顔料を混合して用いることが多くなって
きた。そこで要求される表面性を得るためにさらなる分
散レベルの向上が必要とされている。
に使用してきたが、近年になり特開平０６−２５９７５
１号公報、特開平０８−０１７０３５号公報、特開平０
９−２６５６２３号公報で示されるようにカーボンブラ
ックと他の無機顔料を混合して用いることが多くなって
きた。そこで要求される表面性を得るためにさらなる分
散レベルの向上が必要とされている。
【0011】すなわち本発明の目的は、カーボンブラックを
含む非磁性層の分散性、塗膜の強度をあげ、表面性に優
れた電磁変換特性が良好で、耐久性に優れる磁気記録媒
体を得ることにある。
含む非磁性層の分散性、塗膜の強度をあげ、表面性に優
れた電磁変換特性が良好で、耐久性に優れる磁気記録媒
体を得ることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
すべく研究を重ねた結果、カーボンブラックを含む非磁
性層にリン含有極性基を有するポリウレタン樹脂を含む
放射線硬化型バインダーを使用することにより、従来達
成することが極めて困難であった平滑な表面性と優れた
耐久性及び電磁変換特性を有する磁気記録媒体を得るこ
とができることを見出し、本発明に到達した。
すべく研究を重ねた結果、カーボンブラックを含む非磁
性層にリン含有極性基を有するポリウレタン樹脂を含む
放射線硬化型バインダーを使用することにより、従来達
成することが極めて困難であった平滑な表面性と優れた
耐久性及び電磁変換特性を有する磁気記録媒体を得るこ
とができることを見出し、本発明に到達した。
【0013】すなわち、本発明は、 （１）非磁性支持体上に顔料として少なくともカーボン
ブラックを含む非磁性層を介し磁性層を有する磁気記録
媒体において、非磁性層に使用されるバインダーは放射
線硬化型バインダーであり、リン含有極性基を有するポ
リウレタン樹脂を含んでいることを特徴とする磁気記録
媒体。 （２）リン含有極性基が、ホスホン酸基、ホスフィン酸
基、及び亜ホスフィン酸基の１種以上である（１）記載
の磁気記録媒体。 （３）リン含有極性基が、亜ホスフィン酸基のである
（１）記載の磁気記録媒体。 （４）非磁性層中の顔料に占めるカーボンブラックの割
合が５〜１００重量％であることを特徴とする（１）〜
（３）記載の磁気記録媒体。 （５）磁性層の平均厚みが０．５μm以下であり、非磁
性層の平均厚みが０．５〜３μmである（１）〜（４）
記載の磁気記録媒体。 （６）磁性層は非磁性層を塗布し、乾燥、硬化された後
塗布されたものである（１）〜（５）記載の磁気記録媒
体。
ブラックを含む非磁性層を介し磁性層を有する磁気記録
媒体において、非磁性層に使用されるバインダーは放射
線硬化型バインダーであり、リン含有極性基を有するポ
リウレタン樹脂を含んでいることを特徴とする磁気記録
媒体。 （２）リン含有極性基が、ホスホン酸基、ホスフィン酸
基、及び亜ホスフィン酸基の１種以上である（１）記載
の磁気記録媒体。 （３）リン含有極性基が、亜ホスフィン酸基のである
（１）記載の磁気記録媒体。 （４）非磁性層中の顔料に占めるカーボンブラックの割
合が５〜１００重量％であることを特徴とする（１）〜
（３）記載の磁気記録媒体。 （５）磁性層の平均厚みが０．５μm以下であり、非磁
性層の平均厚みが０．５〜３μmである（１）〜（４）
記載の磁気記録媒体。 （６）磁性層は非磁性層を塗布し、乾燥、硬化された後
塗布されたものである（１）〜（５）記載の磁気記録媒
体。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。本発明のバインダーのリン含有極性
基を含有する放射線硬化型ポリウレタンは、リン含有極
性基として、ホスホン酸基＝PO3Y、オスフィン酸基＝PO
2Y、亜ホスフィン酸基＝POY（ＹはＨ又はアルカリ金
属）の１種以上から選択されるものであり、このうちＹ
としてはＮａが好ましく、さらに、これらの極性基のう
ち＝PONaが特に好ましい。これらのリン含有極性基は、
リン原子（Ｐ）として分子中に０．０１〜１０重量％、
特に０．０２〜３重量％含まれていることが好ましい。
０．０１重量％未満であると分散が悪く、また１０重量
％以上であると、バインダーの溶解性が落ちてくるため
ふさわしくない。またこれらの極性基は、骨格樹脂の主
鎖中に存在しても、分枝中に存在していても良い。
て詳細に説明する。本発明のバインダーのリン含有極性
基を含有する放射線硬化型ポリウレタンは、リン含有極
性基として、ホスホン酸基＝PO3Y、オスフィン酸基＝PO
2Y、亜ホスフィン酸基＝POY（ＹはＨ又はアルカリ金
属）の１種以上から選択されるものであり、このうちＹ
としてはＮａが好ましく、さらに、これらの極性基のう
ち＝PONaが特に好ましい。これらのリン含有極性基は、
リン原子（Ｐ）として分子中に０．０１〜１０重量％、
特に０．０２〜３重量％含まれていることが好ましい。
０．０１重量％未満であると分散が悪く、また１０重量
％以上であると、バインダーの溶解性が落ちてくるため
ふさわしくない。またこれらの極性基は、骨格樹脂の主
鎖中に存在しても、分枝中に存在していても良い。
【0015】これらのリン含有極性基を結合する樹脂骨格
は、放射線硬化性のポリウレタン樹脂である。すなわ
ち、分子内にアクリル二重結合を少なくとも１個有し、
後述のリン化合物の少なくとも1種を反応させたリン含
有放射線硬化型樹脂であり、アクリル系二重結合化合物
とウレタン結合を介して結合しているポリウレタンアク
リレート樹脂である。
は、放射線硬化性のポリウレタン樹脂である。すなわ
ち、分子内にアクリル二重結合を少なくとも１個有し、
後述のリン化合物の少なくとも1種を反応させたリン含
有放射線硬化型樹脂であり、アクリル系二重結合化合物
とウレタン結合を介して結合しているポリウレタンアク
リレート樹脂である。
【0016】使用されるポリウレタンアクリレート樹脂に用
いるリン化合物としては、下記化１〜化５で示されるＰ
化合物であることが好ましい。
いるリン化合物としては、下記化１〜化５で示されるＰ
化合物であることが好ましい。
【0017】
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【化5】 上記においてＸ１、Ｘ２はエステル形成性官能基を表
す。Ｒ１は好ましくは単素原子数１〜１０の炭化水素
基、Ｒ２は好ましくは炭素原子数１〜１２のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、炭素原子数１〜１
２のアルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール
オキシ基を示す。アリール基及びアリールオキシ基はハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＭ（Ｍはアルカリ金
属）またはアミノ基が結合したものでもよい。Ｒ３及び
Ｒ４は、好ましくは炭素原子数１〜１２のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基、次式：-(CH3O
R5）mで表される基（Ｒ５は炭素数１〜１２のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基を示す。ｍは
１〜４の任意の数値をとることができる。）を表す。Ｙ
はアルカリ金属原子、水素、１価の炭化水素基、または
アミノ基を示すが、特にＮａが好ましい。これらリン化
合物は種々の過程で反応させることができる。たとえ
ば、ポリエステルポリオール、ポリアルキレングリコー
ルなどの原料樹脂を製造する際に、その１成分として用
いることができる。特に、ポリエステルポリオールを製
造する際、上記のリン化合物をポリエステルポリオール
の重合完結前の任意の段階で添加して反応させることが
できる。また、これらのリン化合物はポリウレタンアク
リレート樹脂の原料の１成分として用いられることがで
きる。たとえば、ヒドロキシ基を含有するリン化合物は
直接イソシアネート化合物、ポリエステルポリオールや
アクリレート化合物と反応させることにより、ポリウレ
タンアクリレート樹脂を製造することができる。
す。Ｒ１は好ましくは単素原子数１〜１０の炭化水素
基、Ｒ２は好ましくは炭素原子数１〜１２のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、炭素原子数１〜１
２のアルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール
オキシ基を示す。アリール基及びアリールオキシ基はハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＯＭ（Ｍはアルカリ金
属）またはアミノ基が結合したものでもよい。Ｒ３及び
Ｒ４は、好ましくは炭素原子数１〜１２のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基、次式：-(CH3O
R5）mで表される基（Ｒ５は炭素数１〜１２のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基を示す。ｍは
１〜４の任意の数値をとることができる。）を表す。Ｙ
はアルカリ金属原子、水素、１価の炭化水素基、または
アミノ基を示すが、特にＮａが好ましい。これらリン化
合物は種々の過程で反応させることができる。たとえ
ば、ポリエステルポリオール、ポリアルキレングリコー
ルなどの原料樹脂を製造する際に、その１成分として用
いることができる。特に、ポリエステルポリオールを製
造する際、上記のリン化合物をポリエステルポリオール
の重合完結前の任意の段階で添加して反応させることが
できる。また、これらのリン化合物はポリウレタンアク
リレート樹脂の原料の１成分として用いられることがで
きる。たとえば、ヒドロキシ基を含有するリン化合物は
直接イソシアネート化合物、ポリエステルポリオールや
アクリレート化合物と反応させることにより、ポリウレ
タンアクリレート樹脂を製造することができる。
【0018】本発明における放射線硬化型樹脂とは、アクリ
ル系二重結合を有するものであり、ここにいうアクリル
系二重結合とは、アクリル酸、アクリル酸エステル、ア
クリル酸アミド、メタクリル酸、メタクリル酸エステ
ル、メタクリル酸アミド等の残基（アクリロイル基また
はメタクリロイル基）をいう。アクリル系二重結合含有
化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコールのモ
ノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン、グ
リセリン、トリメチロールエタン等のトリオール化合物
のモノ（メタ）アクリレート及びジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等
の４価以上のポリオールのモノ（メタ）アクリレート及
びジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレー
ト、グリセリンモノアリルエーテル、グリセリンジアリ
ルエーテル等のヒドロキシ基含有アクリル系化合物など
が好適である。これらのアクリル系二重結合は結合剤の
分子内に少なくとも１個以上、好ましくは２〜２０個存
在する必要がある。そしてこのポリウレタンアクリレー
ト樹脂とは、一般に、ヒドロキシ基含有樹脂とヒドロキ
シル基含有アクリル系化合物とポリイソシアネート含有
化合物と前記のリン含有極性基を有する化合物とを、公
知の方法であるアクリル系二重結合含有化合物と特定の
リン化合物および／または特定のリン化合物と反応させ
た原料樹脂などを含む原料とを溶剤中、または無溶剤中
で反応させることにより得られる。得られる樹脂の分子
量は５００〜２０００００であることが好ましく、より
好ましくは２０００〜１０００００である。ヒドロキシ
基含有樹脂としては、ポリエチレングリコール、ポリブ
チレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポ
リアルキレングリコール、ビスフェノールＡのアルキレ
ンオキサイド付加物、各種のグリコール及びヒドロキシ
ル基を分子鎖末端に有するポリエステルポリオールなど
が上げられる。これらのなかでもポリエステルポリオー
ルを１成分として得られるポリウレタンアクリレート樹
脂が好ましい。
ル系二重結合を有するものであり、ここにいうアクリル
系二重結合とは、アクリル酸、アクリル酸エステル、ア
クリル酸アミド、メタクリル酸、メタクリル酸エステ
ル、メタクリル酸アミド等の残基（アクリロイル基また
はメタクリロイル基）をいう。アクリル系二重結合含有
化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコールのモ
ノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン、グ
リセリン、トリメチロールエタン等のトリオール化合物
のモノ（メタ）アクリレート及びジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等
の４価以上のポリオールのモノ（メタ）アクリレート及
びジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリレー
ト、グリセリンモノアリルエーテル、グリセリンジアリ
ルエーテル等のヒドロキシ基含有アクリル系化合物など
が好適である。これらのアクリル系二重結合は結合剤の
分子内に少なくとも１個以上、好ましくは２〜２０個存
在する必要がある。そしてこのポリウレタンアクリレー
ト樹脂とは、一般に、ヒドロキシ基含有樹脂とヒドロキ
シル基含有アクリル系化合物とポリイソシアネート含有
化合物と前記のリン含有極性基を有する化合物とを、公
知の方法であるアクリル系二重結合含有化合物と特定の
リン化合物および／または特定のリン化合物と反応させ
た原料樹脂などを含む原料とを溶剤中、または無溶剤中
で反応させることにより得られる。得られる樹脂の分子
量は５００〜２０００００であることが好ましく、より
好ましくは２０００〜１０００００である。ヒドロキシ
基含有樹脂としては、ポリエチレングリコール、ポリブ
チレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポ
リアルキレングリコール、ビスフェノールＡのアルキレ
ンオキサイド付加物、各種のグリコール及びヒドロキシ
ル基を分子鎖末端に有するポリエステルポリオールなど
が上げられる。これらのなかでもポリエステルポリオー
ルを１成分として得られるポリウレタンアクリレート樹
脂が好ましい。
【0019】前記ポリエステルポリオールのカルボン酸成分
としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル
酸、1,5-ナフタル酸などの芳香族ジカルボン酸、p-オキ
シ安息香酸、p-（ヒドロキシエトキシ）安息香酸などの
芳香族オキシカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸などの脂
肪族ジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン
酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等の
不飽和脂肪酸及び脂環族ジカルボン酸、トリメリット
酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などのトリ及びテト
ラカルボン酸などをあげることができる。
としては、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル
酸、1,5-ナフタル酸などの芳香族ジカルボン酸、p-オキ
シ安息香酸、p-（ヒドロキシエトキシ）安息香酸などの
芳香族オキシカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸などの脂
肪族ジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン
酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸等の
不飽和脂肪酸及び脂環族ジカルボン酸、トリメリット
酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などのトリ及びテト
ラカルボン酸などをあげることができる。
【0020】また、ポリエステルポリオールのグリコール成
分としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-
ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレング
リコール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、
1,4-シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡな
どのエチレンオキサイド付加物及びポロピレンオキサイ
ド付加物、水素化ビスフェノールＡのエチレンオキサイ
ド及びプロピレンオキサイド付加物、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコールなどがある。また、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリ
スリトールなどのトリおよびテトラオールを併用しても
よい。ポリエステルポリオールとしては、他にカプロラ
クトン等のラクトン類を開環重合して得られるラクトン
系ポリエステルジオール鎖が上げられる。
分としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-
ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレング
リコール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、
1,4-シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡな
どのエチレンオキサイド付加物及びポロピレンオキサイ
ド付加物、水素化ビスフェノールＡのエチレンオキサイ
ド及びプロピレンオキサイド付加物、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコールなどがある。また、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリ
スリトールなどのトリおよびテトラオールを併用しても
よい。ポリエステルポリオールとしては、他にカプロラ
クトン等のラクトン類を開環重合して得られるラクトン
系ポリエステルジオール鎖が上げられる。
【0021】使用されるポリイソシアネートとしては、2,4-
トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネ
ート、p-フェニレンジイソシアネート、ビフェニルメタ
ンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレン
ジイソシアネート、3,3`-ジメトキシ-4,4`-ビフェニレ
ンジイソシアネート、2,4-ナフタレンジイソシアネー
ト、3,3`-ジメチル-4,4`-ビフェニレンジイソシアネー
ト、4,4`-ジフェニレンジイソシアネート、4,4`-ジイソ
シアネート-ジフェニルエーテル、1,5-ナフタレンジイ
ソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、m-キシ
リレンジイソシアネート、1,3-ジイソシアネートメチル
シクロヘキサン、1,4-ジイソシアネートメチルシクロヘ
キサン、4,4`-ジイソシアネートジシクロヘキサン、4,4
`-ジイソシアネートシクロヘキシルメタン、イソホロン
ジイソシアネート等のジイソシアネート化合物、あるい
は全イソシアネート基のうち７モル％以下の2,4-トリレ
ンジイソシアネートの３量体、ヘキサメチレンジイソシ
アネートの３量体等のトリイソシアネート化合物があげ
られる。
トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネ
ート、p-フェニレンジイソシアネート、ビフェニルメタ
ンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレン
ジイソシアネート、3,3`-ジメトキシ-4,4`-ビフェニレ
ンジイソシアネート、2,4-ナフタレンジイソシアネー
ト、3,3`-ジメチル-4,4`-ビフェニレンジイソシアネー
ト、4,4`-ジフェニレンジイソシアネート、4,4`-ジイソ
シアネート-ジフェニルエーテル、1,5-ナフタレンジイ
ソシアネート、p-キシリレンジイソシアネート、m-キシ
リレンジイソシアネート、1,3-ジイソシアネートメチル
シクロヘキサン、1,4-ジイソシアネートメチルシクロヘ
キサン、4,4`-ジイソシアネートジシクロヘキサン、4,4
`-ジイソシアネートシクロヘキシルメタン、イソホロン
ジイソシアネート等のジイソシアネート化合物、あるい
は全イソシアネート基のうち７モル％以下の2,4-トリレ
ンジイソシアネートの３量体、ヘキサメチレンジイソシ
アネートの３量体等のトリイソシアネート化合物があげ
られる。
【0022】このウレタン樹脂のほかに他の樹脂を組み合わ
せて使用しても構わない。組み合わせる樹脂としては、
（メタ）アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル
系共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、スチレン−ブタジエン系共重合体、ポリビニ
ルアルコール樹脂、アセタール樹脂、エポキシ系樹脂、
フェノキシ系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカプロラク
トン等の多官能性ポリエーテル類、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエンエラス
トマーなどを放射線硬化型に変性した樹脂があげられる
が、この中で塩化ビニル系共重合体が好ましい。
せて使用しても構わない。組み合わせる樹脂としては、
（メタ）アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル
系共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、スチレン−ブタジエン系共重合体、ポリビニ
ルアルコール樹脂、アセタール樹脂、エポキシ系樹脂、
フェノキシ系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカプロラク
トン等の多官能性ポリエーテル類、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエンエラス
トマーなどを放射線硬化型に変性した樹脂があげられる
が、この中で塩化ビニル系共重合体が好ましい。
【0023】このなかでも、放射線硬化性塩化ビニル系樹脂
は原料となる塩化ビニル系樹脂を感放射線変性して合成
される。原料の塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニル
含有量６０〜１００重量％、特に６０〜９５重量％のも
のが好ましい。このような塩化ビニル系樹脂としては、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレ
イン酸共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレート−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアルコール−グリシジル（メタ）ア
クリレート共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレート−グリシジル（メタ）アクリレー
ト共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）
アクリレート−アリルグリシジルエーテル共重合体、塩
化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−アリルグリ
シジルエーテル共重合体等があるが、とくに塩化ビニル
とエポキシ（グリシジル）基を含有する単量体との共重
合体が好ましい。そしてその平均重合度は１００〜９０
０が好ましく、より好ましくは１００〜６００である。
は原料となる塩化ビニル系樹脂を感放射線変性して合成
される。原料の塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニル
含有量６０〜１００重量％、特に６０〜９５重量％のも
のが好ましい。このような塩化ビニル系樹脂としては、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合
体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−マレ
イン酸共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレート−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアルコール−グリシジル（メタ）ア
クリレート共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレート−グリシジル（メタ）アクリレー
ト共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）
アクリレート−アリルグリシジルエーテル共重合体、塩
化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール−アリルグリ
シジルエーテル共重合体等があるが、とくに塩化ビニル
とエポキシ（グリシジル）基を含有する単量体との共重
合体が好ましい。そしてその平均重合度は１００〜９０
０が好ましく、より好ましくは１００〜６００である。
【0024】さらに、分散性を高めるために、必要に応じ−
SO4Y、-SO3Y、-POY、-PO2Y、-PO3Y、-COOY（Ｙは水素ま
たはアルカリ金属）、-SR 、-NR2、NR3Cl（Ｒは水素ま
たは炭化水素）、ホスホベタイン、スルホベタイン、ホ
スファミン、スルファミン等の極性基を任意の方法で導
入することも好ましい。また熱安定性を高めるために、
エポキシ基の導入も好ましい。
SO4Y、-SO3Y、-POY、-PO2Y、-PO3Y、-COOY（Ｙは水素ま
たはアルカリ金属）、-SR 、-NR2、NR3Cl（Ｒは水素ま
たは炭化水素）、ホスホベタイン、スルホベタイン、ホ
スファミン、スルファミン等の極性基を任意の方法で導
入することも好ましい。また熱安定性を高めるために、
エポキシ基の導入も好ましい。
【0025】上記の塩化ビニル系樹脂を感放射線変性する方
法としては、水酸基やカルボン酸基を有する樹脂に対
し、（メタ）アクリル基とカルボン酸無水物あるいはジ
カルボン酸を有する化合物を反応させて変性する方法
と、トリレンジイソシアナートと２−ヒドロキシエチル
メタクリレートとの反応物（アダクト体）とを反応させ
変性する方法と、エチレン性不飽和二重結合を１個以上
及びイソシアネート基1個を１分子中に有し、かつウレ
タン結合を分子中に持たないモノマーを反応させる方法
が代表的であるが、この中で３番目の方法が、変性させ
やすさ及び変性後の分散性・物性ですぐれており、３番
目の方法で変性するのが好ましい。このようなモノマー
としては、２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレ
ートなどがあげられる。分子内のアクリル基またはメタ
クリル基の含有量は、分子中に平均で１〜２０個より好
ましくは２〜１５個存在することが好ましい。これら塩
化ビニル系樹脂とポリウレタン樹脂を混合して用いる場
合、その比率は塩化ビニル樹脂／ポリウレタン樹脂＝９
／１〜５／５、好ましくは８／２〜６／４である。この
比率が９／１より大きいと塗膜がもろくなる傾向があ
る。この比率が５／５より小さいと、塗膜が柔らかくな
り、耐久性が劣化する傾向がある。また必要に応じて、
他の極性基をもつポリウレタンと併用しても良い。その
場合のリン化合物を極性基として含有するポリウレタン
の含有量は全樹脂成分の１０％〜５０％が望ましい。こ
れらの樹脂を用いることにより、分散が良好になり表面
性の良い塗膜が得られる。また必要に応じて放射線硬化
型モノマー又はオリゴマーを使用してもよく、使用する
ことで塗膜の架橋度をアップさせることができる。放射
線硬化型モノマーまたはオリゴマーを添加する時期は、
塗料作成後、分散時どちらでもかまわない。
法としては、水酸基やカルボン酸基を有する樹脂に対
し、（メタ）アクリル基とカルボン酸無水物あるいはジ
カルボン酸を有する化合物を反応させて変性する方法
と、トリレンジイソシアナートと２−ヒドロキシエチル
メタクリレートとの反応物（アダクト体）とを反応させ
変性する方法と、エチレン性不飽和二重結合を１個以上
及びイソシアネート基1個を１分子中に有し、かつウレ
タン結合を分子中に持たないモノマーを反応させる方法
が代表的であるが、この中で３番目の方法が、変性させ
やすさ及び変性後の分散性・物性ですぐれており、３番
目の方法で変性するのが好ましい。このようなモノマー
としては、２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレ
ートなどがあげられる。分子内のアクリル基またはメタ
クリル基の含有量は、分子中に平均で１〜２０個より好
ましくは２〜１５個存在することが好ましい。これら塩
化ビニル系樹脂とポリウレタン樹脂を混合して用いる場
合、その比率は塩化ビニル樹脂／ポリウレタン樹脂＝９
／１〜５／５、好ましくは８／２〜６／４である。この
比率が９／１より大きいと塗膜がもろくなる傾向があ
る。この比率が５／５より小さいと、塗膜が柔らかくな
り、耐久性が劣化する傾向がある。また必要に応じて、
他の極性基をもつポリウレタンと併用しても良い。その
場合のリン化合物を極性基として含有するポリウレタン
の含有量は全樹脂成分の１０％〜５０％が望ましい。こ
れらの樹脂を用いることにより、分散が良好になり表面
性の良い塗膜が得られる。また必要に応じて放射線硬化
型モノマー又はオリゴマーを使用してもよく、使用する
ことで塗膜の架橋度をアップさせることができる。放射
線硬化型モノマーまたはオリゴマーを添加する時期は、
塗料作成後、分散時どちらでもかまわない。
【0026】本発明で使用する放射線としては、電子線、γ
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。またその照射量は、１〜１０Mradがよく、３
〜７Mradが好ましいく、またその照射エネルギー（加速
電圧）は１００Kv以上とするのが良い。また放射線の照
射は塗布・乾燥後に巻き取る以前に行うのが望ましい
が、巻き取り後に行ってもよい。また非磁性層には少な
くともカーボンブラックが含まれることが必要である。
このカーボンブラックには磁性層の表面電気抵抗を下げ
る役目や塗膜中に添加された潤滑剤を保持する役目をも
っており、磁性層への潤滑剤の供給元としての役目や、
ベースの突起を埋め磁性層の表面性改善する役目があ
る。このカーボンの他にさらに他の非磁性粉末を併用す
ることもでき、そのようなものとしてはこれに限定され
ないが、α-Fe2O3、Al2O3、Cr2O3、SiO2、ZnO、TiO 2、Z
rO2、SnO2などがあげられる。この中で、平均長軸径が
２００ｎｍ以下の針状αα-Fe2O3または２０〜１００ｎ
ｍの粒状α-Fe2O3を併用すると、カーボンブラックのみ
の塗料のチキソ性を和らげることができ、また塗膜を固
くすることができる。さらに、研磨材として、平均粒径
０．１〜１．０μｍのα-Al2O3またはCr2O3を併用する
と、非磁性層の強度アップにつながる。これら顔料中で
カーボンブラックが占める割合は５重量％〜１００重量
ｗｔ％、好ましくは１０〜１００重量％である。５重量
％より少ないと、添加される潤滑剤の保持力が落ち、耐
久性が悪化する。また磁性層の表面電気抵抗が高くなっ
たり、光透過率が高くなってしまう。使用されるカーボ
ンブラックは特別限定されるものではないが、平均粒径
が１０ｎｍ〜８０ｎｍのカーボンブラックが好ましい。
このようなカーボンブラックとしては、ファーネスカー
ボンブラック、サーマルカーボンブラック、アセチレン
ブラック等公知のものから選択して用いることができ
る。また単一系でも混合系でも良い。これらカーボンブ
ラックのＢＥＴ比表面積は５０〜５００ｍ2／ｇ、好ま
しくは６０〜２５０ｍ2／ｇである。本発明で使用でき
るカーボンブラックは、例えば「カーボンブラック便
覧」、カーボンブラック協会編を参考にすることができ
る。
線、β線、紫外線などを使用できるが、好ましくは電子
線である。またその照射量は、１〜１０Mradがよく、３
〜７Mradが好ましいく、またその照射エネルギー（加速
電圧）は１００Kv以上とするのが良い。また放射線の照
射は塗布・乾燥後に巻き取る以前に行うのが望ましい
が、巻き取り後に行ってもよい。また非磁性層には少な
くともカーボンブラックが含まれることが必要である。
このカーボンブラックには磁性層の表面電気抵抗を下げ
る役目や塗膜中に添加された潤滑剤を保持する役目をも
っており、磁性層への潤滑剤の供給元としての役目や、
ベースの突起を埋め磁性層の表面性改善する役目があ
る。このカーボンの他にさらに他の非磁性粉末を併用す
ることもでき、そのようなものとしてはこれに限定され
ないが、α-Fe2O3、Al2O3、Cr2O3、SiO2、ZnO、TiO 2、Z
rO2、SnO2などがあげられる。この中で、平均長軸径が
２００ｎｍ以下の針状αα-Fe2O3または２０〜１００ｎ
ｍの粒状α-Fe2O3を併用すると、カーボンブラックのみ
の塗料のチキソ性を和らげることができ、また塗膜を固
くすることができる。さらに、研磨材として、平均粒径
０．１〜１．０μｍのα-Al2O3またはCr2O3を併用する
と、非磁性層の強度アップにつながる。これら顔料中で
カーボンブラックが占める割合は５重量％〜１００重量
ｗｔ％、好ましくは１０〜１００重量％である。５重量
％より少ないと、添加される潤滑剤の保持力が落ち、耐
久性が悪化する。また磁性層の表面電気抵抗が高くなっ
たり、光透過率が高くなってしまう。使用されるカーボ
ンブラックは特別限定されるものではないが、平均粒径
が１０ｎｍ〜８０ｎｍのカーボンブラックが好ましい。
このようなカーボンブラックとしては、ファーネスカー
ボンブラック、サーマルカーボンブラック、アセチレン
ブラック等公知のものから選択して用いることができ
る。また単一系でも混合系でも良い。これらカーボンブ
ラックのＢＥＴ比表面積は５０〜５００ｍ2／ｇ、好ま
しくは６０〜２５０ｍ2／ｇである。本発明で使用でき
るカーボンブラックは、例えば「カーボンブラック便
覧」、カーボンブラック協会編を参考にすることができ
る。
【0027】本発明の非磁性層には上記材料の他に潤滑剤を
含ませることが好ましい。使用される潤滑剤としては、
高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィン、脂肪酸
アミド等、公知の物が使用できる。
含ませることが好ましい。使用される潤滑剤としては、
高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィン、脂肪酸
アミド等、公知の物が使用できる。
【0028】本発明の磁性層に用いる強磁性粉末は、従来公
知の材料を使用でき、例えばγ-Fe2O3、Co含有γ-Fe
2O3、Fe3O4、Co含有γ-Fe3O4、CrO2、バリウムフェライ
ト、ストロンチウムフェライト等の酸化物微粉末や、F
e、Co、Ni等の金属あるいはこれらの合金などの金属微
粉末があげられる。これらの磁性粉末は適用する媒体種
等に応じて選択すればよい。また、形状が磁気テープの
場合、前記非磁性層、磁性層の他にバックコートを設け
ることも好ましい。バックコート層は，走行安定性の改
善や磁性層の帯電防止等のために設けられている。
知の材料を使用でき、例えばγ-Fe2O3、Co含有γ-Fe
2O3、Fe3O4、Co含有γ-Fe3O4、CrO2、バリウムフェライ
ト、ストロンチウムフェライト等の酸化物微粉末や、F
e、Co、Ni等の金属あるいはこれらの合金などの金属微
粉末があげられる。これらの磁性粉末は適用する媒体種
等に応じて選択すればよい。また、形状が磁気テープの
場合、前記非磁性層、磁性層の他にバックコートを設け
ることも好ましい。バックコート層は，走行安定性の改
善や磁性層の帯電防止等のために設けられている。
【0029】この他、磁性層、バックコート層には必要に応
じ、カーボンブラック、研磨材、分散剤、高級脂肪酸，
脂肪酸エステル、シリコンオイル等の潤滑剤、その他の
各種添加物を添加してもよい。
じ、カーボンブラック、研磨材、分散剤、高級脂肪酸，
脂肪酸エステル、シリコンオイル等の潤滑剤、その他の
各種添加物を添加してもよい。
【0030】本発明の磁性層、バックコート層に使用される
結合剤としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型
樹脂、電子線感応型変性樹脂等が用いられ、その組み合
わせは媒体の特性、工程条件に合わせて適宜選択使用さ
れるがバックコート層を本発明の樹脂とすると特性の向
上を図ることが可能である。
結合剤としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型
樹脂、電子線感応型変性樹脂等が用いられ、その組み合
わせは媒体の特性、工程条件に合わせて適宜選択使用さ
れるがバックコート層を本発明の樹脂とすると特性の向
上を図ることが可能である。
【0031】本発明の塗膜の構成は非磁性支持体の上に非磁
性層、その上に磁性層を積層する。この時非磁性層の厚
みは0.5〜3.0μｍが好まく特に好ましくは1.0〜3.0μｍ
である。0.5μmより薄くなると、ベース表面性の影響を
受け易く、磁気記録媒体の表面性を悪化させ、ひいては
電磁変換特性に影響を及ぼし、さらに非磁性層が薄いた
め、潤滑剤量が不足し耐久性が悪化する。また３μm以
上になると、特性に影響はないが、厚くしたことによる
メリットもとくに得られない。
性層、その上に磁性層を積層する。この時非磁性層の厚
みは0.5〜3.0μｍが好まく特に好ましくは1.0〜3.0μｍ
である。0.5μmより薄くなると、ベース表面性の影響を
受け易く、磁気記録媒体の表面性を悪化させ、ひいては
電磁変換特性に影響を及ぼし、さらに非磁性層が薄いた
め、潤滑剤量が不足し耐久性が悪化する。また３μm以
上になると、特性に影響はないが、厚くしたことによる
メリットもとくに得られない。
【0032】一方、磁性層の厚みは、磁気記録システムによ
り任意であるが、高密度記録を考えた場合、1.0μｍ以
下であることが望ましい。
り任意であるが、高密度記録を考えた場合、1.0μｍ以
下であることが望ましい。
【0033】バックコート層の厚さ（カレンダー加工後）
は，１．０μｍ以下，好ましくは０．１〜１．０μｍ，
より好ましくは０．２〜０．８μｍである。バックコー
ト層が厚すぎると，媒体摺接経路との間の摩擦が大きく
なりすぎて，走行安定性が低下する傾向にある。一方，
薄すぎると，非磁性支持体の表面性の影響でバックコー
ト層の表面性が低下する。このため，バックコートを熱
硬化する際にバックコート層表面の粗さが磁性層表面に
転写され，高域出力，Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎの低下を招く。ま
た，バックコート層が薄すぎると、媒体の走行時にバッ
クコート層の削れが発生する。これら磁性層、非磁性
層、必要に応じてバックコートは非磁性支持体上に設け
られる。非磁性支持体として用いる材料には特に制限は
なく、目的に応じて各種可撓性材料、，各種剛性材料か
ら選択し、各種規格に応じてテープ状などの所定形状お
よび寸法とすればよい。
は，１．０μｍ以下，好ましくは０．１〜１．０μｍ，
より好ましくは０．２〜０．８μｍである。バックコー
ト層が厚すぎると，媒体摺接経路との間の摩擦が大きく
なりすぎて，走行安定性が低下する傾向にある。一方，
薄すぎると，非磁性支持体の表面性の影響でバックコー
ト層の表面性が低下する。このため，バックコートを熱
硬化する際にバックコート層表面の粗さが磁性層表面に
転写され，高域出力，Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎの低下を招く。ま
た，バックコート層が薄すぎると、媒体の走行時にバッ
クコート層の削れが発生する。これら磁性層、非磁性
層、必要に応じてバックコートは非磁性支持体上に設け
られる。非磁性支持体として用いる材料には特に制限は
なく、目的に応じて各種可撓性材料、，各種剛性材料か
ら選択し、各種規格に応じてテープ状などの所定形状お
よび寸法とすればよい。
【0034】上記、非磁性層と磁性層の塗布方法であるが、
非磁性層が湿潤状態のうちに磁性層を塗布するウェット
オンウェット塗布でも、非磁性層が塗布され、それが乾
燥された後に磁性層を塗布するウェットオンドライ塗布
でもかまわないが、記録密度向上の観点から非磁性層と
磁性層の双方の表面性を高度にコントロールするために
も磁性層は、ウェットオンドライ、とくに硬化後に塗布
することが好ましい。
非磁性層が湿潤状態のうちに磁性層を塗布するウェット
オンウェット塗布でも、非磁性層が塗布され、それが乾
燥された後に磁性層を塗布するウェットオンドライ塗布
でもかまわないが、記録密度向上の観点から非磁性層と
磁性層の双方の表面性を高度にコントロールするために
も磁性層は、ウェットオンドライ、とくに硬化後に塗布
することが好ましい。
【実施例・比較例】 実施例１ ＜非磁性層塗料１＞ 粒状α-Fe2O3（堺化学工業(株)製： FRO-3） 55重量部 （平均粒径＝30nm,BET=45ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （三菱化学(株)製：#45B） 30重量部 （平均粒径=24nm,BET=125ｍ2/g,DBP吸油量＝47ml/100g） α-Al2O3(住友化学工業(株)製：AKP50) 15重量部 （平均粒径＝0.20μm,BET=8ｍ2/g） EB硬化性塩化ヒ゛ニル系共重合体 12重量部 （重合度＝300,極性基：-OSO3K=1.5個／分子） EB硬化性ポリウレタン樹脂 4重量部 （Mn=25000,極性基：亜ホスフィン酸ナトリウム＝1個／１分子） 3官能アクリルモノマー（三洋化成工業(株)製：TA505） ２重量部 イソセチルステアレート 10重量部 ブチルステアレート ４重量部 MEK 126重量部トルエン 38重量部シクロヘキサノン 38重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料１を作成した。 ＜磁性塗料１＞ 金属磁性粉 100重量部 （Hc＝1650Oe,σs＝126emu,BET=58m2/g,PH=10,平均長軸長=0.32μm Fe/Co/Ni=100/5/5（重量比）、添加元素としてＡｌとＳｉを含む） 塩化ヒ゛ニル系共重合体 （日本セ゛オン(株)製：MR110） 14重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） -SO3Na含有ポリウレタン樹脂 ６重量部 （Mn=25000, 極性基濃度＝1個／１分子） α−Al2O3 (住友化学工業(株)製：AKP30) 10重量部 （平均粒径＝0.33μm,BET=8ｍ2/g） Cr2O3 (日本化学工業(株)製：S-1) 5重量部 （平均粒径＝0.40μm,BET=3ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （コロンヒ゛アン(株)製：セハ゛カーフ゛ＭＴ） 3重量部 （平均粒径＝350nm,BET=7ｍ2/g,DBP吸油量＝41ml/100g） ソルビタンモノステアレート 3重量部 イソセチルステアレート 3重量部 ブチルステアレート 2重量部 MEK 250重量部 トルエン 80重量部 シクロヘキサノン 80重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い磁性塗料１を作成した。
を行い非磁性層塗料１を作成した。 ＜磁性塗料１＞ 金属磁性粉 100重量部 （Hc＝1650Oe,σs＝126emu,BET=58m2/g,PH=10,平均長軸長=0.32μm Fe/Co/Ni=100/5/5（重量比）、添加元素としてＡｌとＳｉを含む） 塩化ヒ゛ニル系共重合体 （日本セ゛オン(株)製：MR110） 14重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） -SO3Na含有ポリウレタン樹脂 ６重量部 （Mn=25000, 極性基濃度＝1個／１分子） α−Al2O3 (住友化学工業(株)製：AKP30) 10重量部 （平均粒径＝0.33μm,BET=8ｍ2/g） Cr2O3 (日本化学工業(株)製：S-1) 5重量部 （平均粒径＝0.40μm,BET=3ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （コロンヒ゛アン(株)製：セハ゛カーフ゛ＭＴ） 3重量部 （平均粒径＝350nm,BET=7ｍ2/g,DBP吸油量＝41ml/100g） ソルビタンモノステアレート 3重量部 イソセチルステアレート 3重量部 ブチルステアレート 2重量部 MEK 250重量部 トルエン 80重量部 シクロヘキサノン 80重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い磁性塗料１を作成した。
【0035】まず非磁性層塗料１を表面粗さ(Ra)=８nm、６
２μm厚のＰＥＴフィルムに押し出しダイノズル方式で
乾燥厚み1.5μmとなるように塗布し、乾燥温度１００℃
で乾燥後、EB照射（５Mrad）を行った。次に同じような
手順でもう一方の面も形成し両面非磁性層のロールを作
成した。
２μm厚のＰＥＴフィルムに押し出しダイノズル方式で
乾燥厚み1.5μmとなるように塗布し、乾燥温度１００℃
で乾燥後、EB照射（５Mrad）を行った。次に同じような
手順でもう一方の面も形成し両面非磁性層のロールを作
成した。
【0036】次に、磁性塗料１にコロネートL（日本ポリウ
レタン工業(株)製）を４重量部添加し、この塗料を超音
波分散機で再分散しながらこの非磁性層塗布済みのロー
ルに押し出しダイノズル方式で乾燥膜厚０．３μｍの厚
みとなるように塗布し、無配向磁石にて無配向化を行
い、乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧300kg/cm、温度
９０℃にてカレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げ
た。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面磁
性層の原反ロールを作成した。最後にこの原反ロールを
ディスク状に打ち抜いてその後70℃24hrの条件で熱硬化
を行いディスクを作成した。 実施例２ ＜非磁性層塗料２＞カーホ゛ンフ゛ラック （コロンヒ゛アンカーホ゛ン社製：Raven760B） 100重量部 （平均粒径=30nm,BET=70ｍ2/g,DBP吸油量＝48ml/100g） EB硬化性塩化ヒ゛ニル系共重合体 12重量部 （重合度＝300,極性基：-OSO3K=1.5個／分子） EB硬化性ポリウレタン樹脂 ６重量部 （Mn=25000, 極性基：亜ホスフィン酸ナトリウム＝1個／１分子） 3官能アクリルモノマー（三洋化成工業(株)製：TA505） ２重量部 イソセチルステアレート 10重量部 ブチルステアレート ４重量部 MEK 150重量部 トルエン 50重量部 シクロヘキサノン 50重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料２を作成した。
レタン工業(株)製）を４重量部添加し、この塗料を超音
波分散機で再分散しながらこの非磁性層塗布済みのロー
ルに押し出しダイノズル方式で乾燥膜厚０．３μｍの厚
みとなるように塗布し、無配向磁石にて無配向化を行
い、乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧300kg/cm、温度
９０℃にてカレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げ
た。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面磁
性層の原反ロールを作成した。最後にこの原反ロールを
ディスク状に打ち抜いてその後70℃24hrの条件で熱硬化
を行いディスクを作成した。 実施例２ ＜非磁性層塗料２＞カーホ゛ンフ゛ラック （コロンヒ゛アンカーホ゛ン社製：Raven760B） 100重量部 （平均粒径=30nm,BET=70ｍ2/g,DBP吸油量＝48ml/100g） EB硬化性塩化ヒ゛ニル系共重合体 12重量部 （重合度＝300,極性基：-OSO3K=1.5個／分子） EB硬化性ポリウレタン樹脂 ６重量部 （Mn=25000, 極性基：亜ホスフィン酸ナトリウム＝1個／１分子） 3官能アクリルモノマー（三洋化成工業(株)製：TA505） ２重量部 イソセチルステアレート 10重量部 ブチルステアレート ４重量部 MEK 150重量部 トルエン 50重量部 シクロヘキサノン 50重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料２を作成した。
【0037】まず非磁性層塗料２を表面粗さ(Ra)=８nm、６
２μm厚のＰＥＴフィルムに押し出しダイノズル方式で
乾燥厚み1.5μmとなるように塗布し、乾燥温度１００℃
で乾燥後、EB照射（５Mrad）を行った。次に同じような
手順でもう一方の面も形成し両面非磁性層のロールを作
成した。
２μm厚のＰＥＴフィルムに押し出しダイノズル方式で
乾燥厚み1.5μmとなるように塗布し、乾燥温度１００℃
で乾燥後、EB照射（５Mrad）を行った。次に同じような
手順でもう一方の面も形成し両面非磁性層のロールを作
成した。
【0038】次に、磁性塗料１にコロネートL（日本ポリウ
レタン工業(株)製）を４重量部添加し、この塗料を超音
波分散機で再分散しながらこの非磁性層塗布済みのロー
ルに押し出しダイノズル方式で乾燥膜厚０．３μｍの厚
みになるように塗布し、無配向磁石にて無配向化を行
い、乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧300kg/cm、温度
９０℃にてカレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げ
た。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面磁
性層の原反ロールを作成した。最後にこの原反ロールを
ディスク状に打ち抜いてその後70℃24hrの条件で熱硬化
を行いディスクを作成した。 実施例３ 実施例１で非磁性層のポリウレタンの極性基をホスフィ
ン酸ナトリウムに変更して実施例１と同様にディスクを
作製した。 実施例４ 実施例１で非磁性層のポリウレタンの極性基をホスホン
酸ナトリウムに変更して実施例１と同様にディスクを作
製した。 実施例５ 実施例１で非磁性層の厚みを３μｍに変更して実施例１
と同様にディスクを作製した。 実施例６ 実施例１で非磁性層の厚みを０．５μｍに変更して実施
例１と同様にディスクを作製した。 比較例１ 実施例１で非磁性層のポリウレタンの極性基をスルホン
酸ナトリウムに変更して実施例１と同様にディスクを作
製した。 比較例２ 実施例１で非磁性層のポリウレタンの極性基をカルボン
酸に変更して実施例１と同様にディスクを作製した。 比較例３ 実施例１でで非磁性層のポリウレタンとして極性基の無
いポリウレタンを用い、実施例１と同様にディスクを作
製した。 比較例４ ＜非磁性層塗料３＞ 粒状α-Fe2O3 （堺化学工業(株)製： FRO-3） 55重量部 （平均粒径＝30nm,BET=45 ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （三菱化学(株)製：#45B） 30重量部 （平均粒径=24nm,BET=125ｍ2/g,DBP吸油量＝47ml/100g） α-Al2O3 (住友化学工業(株)製：AKP50) 15重量部 （平均粒径＝0.20μm,BET=8ｍ2/g） 塩化ヒ゛ニル系共重合体 （日本セ゛オン(株)製：MR110） 12重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） 亜ホスフィン酸ナトリウム含有ポリウレタン樹脂 ５重量部 （Mn=25000, 極性基濃度＝1個／１分子） イソセチルステアレート 10重量部 ブチルステアレート ４重量部 MEK 126重量部トルエン 38重量部シクロヘキサノン 38重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料３を作成した。非磁性層塗料３を表
面粗さ(Ra)=８nm,62μm厚のＰＥＴフィルムに押し出し
ダイノズル方式で乾燥厚み1.5μmとなるように塗布し、
それがまだ湿潤状態のうちに磁性塗料１にコロネートL
（日本ポリウレタン工業(株)製）を４重量部添加した塗
料を、超音波分散機で再分散しながらこの上に押し出し
ダイノズル方式で乾燥膜厚が０．３μｍになるように塗
布した。その後無配向磁石にて無配向化を行い、乾燥温
度１００℃で乾燥後、線圧300kg/cm、温度 ９０℃にて
カレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げた。次に同じ
ような手順でもう一方の面も形成し両面磁性層の原反ロ
ールを作成した。最後にこの原反ロールをディスク状に
打ち抜いてその後70℃24hrの条件で熱硬化を行いディス
クを作成した。実施例、比較例で作成したディスクにつ
いて、以下の項目を測定した。 非磁性層の分散光沢 磁性層の表面粗さ(Ra) 電磁変換特性 耐久性
レタン工業(株)製）を４重量部添加し、この塗料を超音
波分散機で再分散しながらこの非磁性層塗布済みのロー
ルに押し出しダイノズル方式で乾燥膜厚０．３μｍの厚
みになるように塗布し、無配向磁石にて無配向化を行
い、乾燥温度１００℃で乾燥後、線圧300kg/cm、温度
９０℃にてカレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げ
た。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面磁
性層の原反ロールを作成した。最後にこの原反ロールを
ディスク状に打ち抜いてその後70℃24hrの条件で熱硬化
を行いディスクを作成した。 実施例３ 実施例１で非磁性層のポリウレタンの極性基をホスフィ
ン酸ナトリウムに変更して実施例１と同様にディスクを
作製した。 実施例４ 実施例１で非磁性層のポリウレタンの極性基をホスホン
酸ナトリウムに変更して実施例１と同様にディスクを作
製した。 実施例５ 実施例１で非磁性層の厚みを３μｍに変更して実施例１
と同様にディスクを作製した。 実施例６ 実施例１で非磁性層の厚みを０．５μｍに変更して実施
例１と同様にディスクを作製した。 比較例１ 実施例１で非磁性層のポリウレタンの極性基をスルホン
酸ナトリウムに変更して実施例１と同様にディスクを作
製した。 比較例２ 実施例１で非磁性層のポリウレタンの極性基をカルボン
酸に変更して実施例１と同様にディスクを作製した。 比較例３ 実施例１でで非磁性層のポリウレタンとして極性基の無
いポリウレタンを用い、実施例１と同様にディスクを作
製した。 比較例４ ＜非磁性層塗料３＞ 粒状α-Fe2O3 （堺化学工業(株)製： FRO-3） 55重量部 （平均粒径＝30nm,BET=45 ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （三菱化学(株)製：#45B） 30重量部 （平均粒径=24nm,BET=125ｍ2/g,DBP吸油量＝47ml/100g） α-Al2O3 (住友化学工業(株)製：AKP50) 15重量部 （平均粒径＝0.20μm,BET=8ｍ2/g） 塩化ヒ゛ニル系共重合体 （日本セ゛オン(株)製：MR110） 12重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） 亜ホスフィン酸ナトリウム含有ポリウレタン樹脂 ５重量部 （Mn=25000, 極性基濃度＝1個／１分子） イソセチルステアレート 10重量部 ブチルステアレート ４重量部 MEK 126重量部トルエン 38重量部シクロヘキサノン 38重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料３を作成した。非磁性層塗料３を表
面粗さ(Ra)=８nm,62μm厚のＰＥＴフィルムに押し出し
ダイノズル方式で乾燥厚み1.5μmとなるように塗布し、
それがまだ湿潤状態のうちに磁性塗料１にコロネートL
（日本ポリウレタン工業(株)製）を４重量部添加した塗
料を、超音波分散機で再分散しながらこの上に押し出し
ダイノズル方式で乾燥膜厚が０．３μｍになるように塗
布した。その後無配向磁石にて無配向化を行い、乾燥温
度１００℃で乾燥後、線圧300kg/cm、温度 ９０℃にて
カレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げた。次に同じ
ような手順でもう一方の面も形成し両面磁性層の原反ロ
ールを作成した。最後にこの原反ロールをディスク状に
打ち抜いてその後70℃24hrの条件で熱硬化を行いディス
クを作成した。実施例、比較例で作成したディスクにつ
いて、以下の項目を測定した。 非磁性層の分散光沢 磁性層の表面粗さ(Ra) 電磁変換特性 耐久性
【0039】
【表1】
【表2】
【表3】 ＜測定方法＞・電磁変換特性 GUZIK電磁変換特性測定器を使用し、2940rpmのディスク
回転速度にて測定。
回転速度にて測定。
【0040】測定値は実施例１の出力を１００％とした。 ・耐久性 3000rpmの回転速度のZIPト゛ライフ゛にテ゛ィスクを挿入し、表７
のサイクル環境にてヘット゛をランタ゛ムシークさせ、目視にてキス゛の有
無を確認。キズが入ったところで終了。
のサイクル環境にてヘット゛をランタ゛ムシークさせ、目視にてキス゛の有
無を確認。キズが入ったところで終了。
【表７】
【0041】 ＜表面粗さの測定法＞ 測定器：テーラーホブソン社製タリステップシステム 測定条件：フィルター条件 0.18〜９Hz 触針 0.1×2.5μm特殊スタイラス 触針圧 2mg 測定スピード 0.03mm/sec 測定長 500μm ＜光沢測定法＞ 測定器：MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY社製 GLOSS METER GM-3D （入射角−反射角：６０°−６０°） ８）実施例７ ＜磁性塗料２＞ メタル磁性粉 100重量部 （Hc＝2400 Oe,σs＝143emu,BET=50m2/g,平均長軸長=0.10μm） 塩化ヒ゛ニル系共重合体 （日本セ゛オン(株)製：MR110） １０重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） -SO3Na含有ポリウレタン樹脂 ７重量部 （Mn=25000, 極性基濃度＝1個／１分子） α−Al2O3 (住友化学工業(株)製：HIT82) 12重量部 （平均粒径＝0.12μm,BET=20ｍ2/g） ミリスチン酸 ２重量部 MEK 250重量部 トルエン 80重量部 シクロヘキサノン 80重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い磁性塗料2を作成した。 ＜非磁性層塗料４＞ α-Fe2O3（戸田工業(株)製：DPN-250BW） 75重量部 （平均長軸径＝150nm,BET=55 ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （三菱化学(株)製：#950B） 20重量部 （平均粒径=16nm,BET=250ｍ2/g,DBP吸油量＝80ml/100g） α-Al2O3 (住友化学工業(株)製：HIT60A) 5重量部 （平均粒径＝0.18μm,BET=12ｍ2/g） EB硬化性塩化ヒ゛ニル系共重合体 12重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） EB硬化性ポリウレタン樹脂 6重量部 （Mn=25000, 極性基：亜ホスフィン酸ナトリウム＝1個／１分子） ブチルステアレート １重量部 ステアリン酸 １重量部 MEK 150重量部 トルエン 50重量部 シクロヘキサノン 50重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料４を作成した。 ＜バックコート層用塗料＞ カーボンブラック ８０重量部 （コロンヒ゛アンカーホ゛ン社製:Conductex SC 平均粒径= 20nm,BET=220m2/g） カーボンブラック １重量部 （コロンヒ゛アンカーホ゛ン社製:SevacarbMT平均粒径=350nm,BET=8m2/g） α−Ｆｅ2Ｏ3（戸田工業社製:TF100 平均粒径=0.1μｍ） １重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 ６５重量部 （モノマー重量比=92:3:5,平均重合度＝４２０） ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡績社製：UR-8300） ３５重量部 ＭＥＫ ２６０重量部 トルエン ２６０重量部 シクロヘキサノン ２６０重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行った。次に下記添加剤・溶剤を加え粘度調整を行っ
た。
を行い磁性塗料2を作成した。 ＜非磁性層塗料４＞ α-Fe2O3（戸田工業(株)製：DPN-250BW） 75重量部 （平均長軸径＝150nm,BET=55 ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （三菱化学(株)製：#950B） 20重量部 （平均粒径=16nm,BET=250ｍ2/g,DBP吸油量＝80ml/100g） α-Al2O3 (住友化学工業(株)製：HIT60A) 5重量部 （平均粒径＝0.18μm,BET=12ｍ2/g） EB硬化性塩化ヒ゛ニル系共重合体 12重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） EB硬化性ポリウレタン樹脂 6重量部 （Mn=25000, 極性基：亜ホスフィン酸ナトリウム＝1個／１分子） ブチルステアレート １重量部 ステアリン酸 １重量部 MEK 150重量部 トルエン 50重量部 シクロヘキサノン 50重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料４を作成した。 ＜バックコート層用塗料＞ カーボンブラック ８０重量部 （コロンヒ゛アンカーホ゛ン社製:Conductex SC 平均粒径= 20nm,BET=220m2/g） カーボンブラック １重量部 （コロンヒ゛アンカーホ゛ン社製:SevacarbMT平均粒径=350nm,BET=8m2/g） α−Ｆｅ2Ｏ3（戸田工業社製:TF100 平均粒径=0.1μｍ） １重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 ６５重量部 （モノマー重量比=92:3:5,平均重合度＝４２０） ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡績社製：UR-8300） ３５重量部 ＭＥＫ ２６０重量部 トルエン ２６０重量部 シクロヘキサノン ２６０重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行った。次に下記添加剤・溶剤を加え粘度調整を行っ
た。
【0042】 ステアリン酸 １重量部 ミリスチン酸 １重量部 ステアリン酸ブチル ２重量部 ＭＥＫ ２１０重量部 トルエン ２１０重量部 シクロヘキサノン ２１０重量部 次に６．５μm厚のＰＥＴフィルムに最初に非磁性層塗
料４を押し出しダイノズル方式にて2.0μmの乾燥膜厚と
なるように塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後EB照射
（５Mrad）を行い、非磁性層原反を作製した。次に磁性
塗料２にコロネートL（日本ポリウレタン工業(株)製）
を４重量部添加し、バックコート塗料１００重量部に１
重量部を加え、非磁性層原反の上に磁性塗料を押し出し
ダイノズル方式にて０．２μmの乾燥膜厚となるように
塗布し、配向を行い、乾燥温度１００℃で塗膜を乾燥さ
せ、温度１００℃線圧300kg/cmにてカレンダー処理を行
った。次に磁性層と反対のベース面にバックコート塗料
を押し出しダイノズル方式にて乾燥膜厚が０．５μmと
なるように塗布し、原反ロールを作成した。このロール
を２４時間常温にて放置後、６０℃の加熱オーブン中に
て２４時間硬化した後，６．３５ｍｍ幅に切断してテー
プサンプルとした。 実施例８ ＜非磁性層塗料５＞カーホ゛ンフ゛ラック （コロンヒ゛アンカーホ゛ン社製：Raven760B） 100重量部 （平均粒径=30nm,BET=70ｍ2/g,DBP吸油量＝48ml/100g） EB硬化性塩化ヒ゛ニル系共重合体 12重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） EB硬化性ポリウレタン樹脂 ６重量部 （Mn=25000, 極性基：亜ホスフィン酸ナトリウム＝1個／１分子） 3官能アクリルモノマー（三洋化成工業(株)製：TA505） ２重量部 ステアリン酸 １重量部 ブチルステアレート １重量部 MEK 150重量部 トルエン 50重量部 シクロヘキサノン 50重量部 次に６．５μm厚のＰＥＴフィルムに最初に非磁性層塗
料５を押し出しダイノズル方式にて2.0μmの乾燥膜厚と
なるように塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後EB照射
（５Mrad）を行い、非磁性層原反を作製した。次に磁性
塗料２にコロネートL（日本ポリウレタン工業(株)製）
を４重量部添加し、バックコート塗料１００重量部に１
重量部を加え、非磁性層原反の上に磁性塗料を押し出し
ダイノズル方式にて０．２μmの乾燥膜厚となるように
塗布し、配向を行い、乾燥温度１００℃で塗膜を乾燥さ
せ、温度１００℃線圧300kg/cmにてカレンダー処理を行
った。次に磁性層と反対のベース面にバックコート塗料
を押し出しダイノズル方式にて乾燥膜厚が０．５μmと
なるように塗布し、原反ロールを作成した。
料４を押し出しダイノズル方式にて2.0μmの乾燥膜厚と
なるように塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後EB照射
（５Mrad）を行い、非磁性層原反を作製した。次に磁性
塗料２にコロネートL（日本ポリウレタン工業(株)製）
を４重量部添加し、バックコート塗料１００重量部に１
重量部を加え、非磁性層原反の上に磁性塗料を押し出し
ダイノズル方式にて０．２μmの乾燥膜厚となるように
塗布し、配向を行い、乾燥温度１００℃で塗膜を乾燥さ
せ、温度１００℃線圧300kg/cmにてカレンダー処理を行
った。次に磁性層と反対のベース面にバックコート塗料
を押し出しダイノズル方式にて乾燥膜厚が０．５μmと
なるように塗布し、原反ロールを作成した。このロール
を２４時間常温にて放置後、６０℃の加熱オーブン中に
て２４時間硬化した後，６．３５ｍｍ幅に切断してテー
プサンプルとした。 実施例８ ＜非磁性層塗料５＞カーホ゛ンフ゛ラック （コロンヒ゛アンカーホ゛ン社製：Raven760B） 100重量部 （平均粒径=30nm,BET=70ｍ2/g,DBP吸油量＝48ml/100g） EB硬化性塩化ヒ゛ニル系共重合体 12重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） EB硬化性ポリウレタン樹脂 ６重量部 （Mn=25000, 極性基：亜ホスフィン酸ナトリウム＝1個／１分子） 3官能アクリルモノマー（三洋化成工業(株)製：TA505） ２重量部 ステアリン酸 １重量部 ブチルステアレート １重量部 MEK 150重量部 トルエン 50重量部 シクロヘキサノン 50重量部 次に６．５μm厚のＰＥＴフィルムに最初に非磁性層塗
料５を押し出しダイノズル方式にて2.0μmの乾燥膜厚と
なるように塗布し、乾燥温度１００℃で乾燥後EB照射
（５Mrad）を行い、非磁性層原反を作製した。次に磁性
塗料２にコロネートL（日本ポリウレタン工業(株)製）
を４重量部添加し、バックコート塗料１００重量部に１
重量部を加え、非磁性層原反の上に磁性塗料を押し出し
ダイノズル方式にて０．２μmの乾燥膜厚となるように
塗布し、配向を行い、乾燥温度１００℃で塗膜を乾燥さ
せ、温度１００℃線圧300kg/cmにてカレンダー処理を行
った。次に磁性層と反対のベース面にバックコート塗料
を押し出しダイノズル方式にて乾燥膜厚が０．５μmと
なるように塗布し、原反ロールを作成した。
【0043】このロールを２４時間常温にて放置後、６０℃
の加熱オーブン中にて２４時間硬化した後，６．３５ｍ
ｍ幅に切断してテープサンプルとした。 実施例９ 実施例７で非磁性層のポリウレタンの極性基をホスフィ
ン酸ナトリウムに変更して実施例７と同様にテープサン
プルを作製した。 実施例１０ 実施例７で非磁性層のポリウレタンの極性基をホスホン
酸ナトリウムに変更して実施例７と同様にテープサンプ
ルを作製した。 実施例１１ 実施例７で非磁性層の厚みを３μｍに変更して実施例７
と同様にテープサンプルを作製した。 実施例１２ 実施例７で非磁性層の厚みを０．５μｍに変更して実施
例７と同様にテープサンプルを作製した。 比較例５ 実施例７で非磁性層のポリウレタンの極性基をスルホン
酸ナトリウムに変更して実施例７と同様にテープサンプ
ルを作製した。 比較例６ 実施例７で非磁性層のポリウレタンの極性基をカルボン
酸に変更して実施例７と同様にテープサンプルを作製し
た。 比較例７ 実施例７で非磁性層のポリウレタンとして極性基の無い
ポリウレタンを用い、実施例７と同様にテープサンプル
を作製した。 比較例８ ＜非磁性層塗料６＞ α-Fe2O3（戸田工業(株)製：DPN-250BW） 75重量部 （平均長軸径＝150nm,BET=55 ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （三菱化学(株)製：#950B） 20重量部 （平均粒径=16nm,BET=250ｍ2/g,DBP吸油量＝80ml/100g） α-Al2O3 (住友化学工業(株)製：HIT60A) 5重量部 （平均粒径＝0.18μm,BET=12ｍ2/g） 塩化ヒ゛ニル系共重合体 （日本セ゛オン(株)製：MR110） １０重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） -SO3Na含有ポリウレタン樹脂 ６重量部 （Mn=25000, 極性基濃度＝1個／１分子） エチレングリコールジオレート ３重量部 ブチルステアレート １重量部 ステアリン酸 １重量部 MEK 150重量部 トルエン 50重量部 シクロヘキサノン 50重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料６を作成した。次に非磁性層塗料６
にコロネートL（日本ポリウレタン工業(株)製）を４重
量部、磁性塗料１に４重量部添加しバックコート塗料１
００重量部に１重量部を加え、６．５μm厚のＰＥＴフ
ィルムに最初に非磁性層塗料６を押し出しダイノズル方
式にて１．５μmの乾燥膜厚になるように塗布し、続い
て非磁性層塗料が湿潤状態の内に磁性塗料を押し出しダ
イノズル方式にて０．２μmの乾燥膜厚となるように塗
布し配向を行い、乾燥温度１００℃で塗膜を乾燥させ、
温度１００℃線圧300kg/cmにてカレンダー処理を行っ
た。次に磁性層と反対のベース面にバックコート塗料を
押し出しダイノズル方式にて乾燥膜厚が0.5μmとなるよ
うに塗布し、原反ロールを作成した。このロールを２４
時間常温にて放置後、６０℃の加熱オーブン中にて２４
時間硬化した後，６．３５ｍｍ幅に切断してテープサン
プルとした。実施例、比較例で作成したテープサンプル
について、以下の項目を測定した。 非磁性層の分散光沢 磁性層の表面粗さ(Ra) 電磁変換特性 スチル
の加熱オーブン中にて２４時間硬化した後，６．３５ｍ
ｍ幅に切断してテープサンプルとした。 実施例９ 実施例７で非磁性層のポリウレタンの極性基をホスフィ
ン酸ナトリウムに変更して実施例７と同様にテープサン
プルを作製した。 実施例１０ 実施例７で非磁性層のポリウレタンの極性基をホスホン
酸ナトリウムに変更して実施例７と同様にテープサンプ
ルを作製した。 実施例１１ 実施例７で非磁性層の厚みを３μｍに変更して実施例７
と同様にテープサンプルを作製した。 実施例１２ 実施例７で非磁性層の厚みを０．５μｍに変更して実施
例７と同様にテープサンプルを作製した。 比較例５ 実施例７で非磁性層のポリウレタンの極性基をスルホン
酸ナトリウムに変更して実施例７と同様にテープサンプ
ルを作製した。 比較例６ 実施例７で非磁性層のポリウレタンの極性基をカルボン
酸に変更して実施例７と同様にテープサンプルを作製し
た。 比較例７ 実施例７で非磁性層のポリウレタンとして極性基の無い
ポリウレタンを用い、実施例７と同様にテープサンプル
を作製した。 比較例８ ＜非磁性層塗料６＞ α-Fe2O3（戸田工業(株)製：DPN-250BW） 75重量部 （平均長軸径＝150nm,BET=55 ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （三菱化学(株)製：#950B） 20重量部 （平均粒径=16nm,BET=250ｍ2/g,DBP吸油量＝80ml/100g） α-Al2O3 (住友化学工業(株)製：HIT60A) 5重量部 （平均粒径＝0.18μm,BET=12ｍ2/g） 塩化ヒ゛ニル系共重合体 （日本セ゛オン(株)製：MR110） １０重量部 （重合度＝300,極性基： -OSO3K=1.5個／分子） -SO3Na含有ポリウレタン樹脂 ６重量部 （Mn=25000, 極性基濃度＝1個／１分子） エチレングリコールジオレート ３重量部 ブチルステアレート １重量部 ステアリン酸 １重量部 MEK 150重量部 トルエン 50重量部 シクロヘキサノン 50重量部 上記組成物を混練処理した後、サント゛ク゛ラインタ゛ーミルにて分散
を行い非磁性層塗料６を作成した。次に非磁性層塗料６
にコロネートL（日本ポリウレタン工業(株)製）を４重
量部、磁性塗料１に４重量部添加しバックコート塗料１
００重量部に１重量部を加え、６．５μm厚のＰＥＴフ
ィルムに最初に非磁性層塗料６を押し出しダイノズル方
式にて１．５μmの乾燥膜厚になるように塗布し、続い
て非磁性層塗料が湿潤状態の内に磁性塗料を押し出しダ
イノズル方式にて０．２μmの乾燥膜厚となるように塗
布し配向を行い、乾燥温度１００℃で塗膜を乾燥させ、
温度１００℃線圧300kg/cmにてカレンダー処理を行っ
た。次に磁性層と反対のベース面にバックコート塗料を
押し出しダイノズル方式にて乾燥膜厚が0.5μmとなるよ
うに塗布し、原反ロールを作成した。このロールを２４
時間常温にて放置後、６０℃の加熱オーブン中にて２４
時間硬化した後，６．３５ｍｍ幅に切断してテープサン
プルとした。実施例、比較例で作成したテープサンプル
について、以下の項目を測定した。 非磁性層の分散光沢 磁性層の表面粗さ(Ra) 電磁変換特性 スチル
【0044】
【表4】
【表5】
【表6】 ＜測定方法＞ ・表面粗さ ディスクでの実施例・比較例の測定法と同じ様に測定し
た。 ・電磁変換特性 測定デッキ：Ｐａｎａｓｏｎｉｃ製 ＡＪ−Ｄ７５０ 実施例８の値を０とし、ｄＢで表現した。出力、Ｃ／Ｎ
とも−１ｄＢ以内をＯＫとした。 ・スチル 改造した実機を０℃の環境に入れ、予め信号を記録し、
その再生時にスチルさせ、信号強度がスチル初期の８０
％以下となる時間を計った。１０時間以上であればＯＫ
とした。
た。 ・電磁変換特性 測定デッキ：Ｐａｎａｓｏｎｉｃ製 ＡＪ−Ｄ７５０ 実施例８の値を０とし、ｄＢで表現した。出力、Ｃ／Ｎ
とも−１ｄＢ以内をＯＫとした。 ・スチル 改造した実機を０℃の環境に入れ、予め信号を記録し、
その再生時にスチルさせ、信号強度がスチル初期の８０
％以下となる時間を計った。１０時間以上であればＯＫ
とした。
【0045】
【発明の効果】本発明によれば非磁性層に少なくともリ
ン含有極性基を有するバインダーを用いることにより、
カーボンブラックを含む非磁性層の分散性にすぐれ、表
面性にすぐれ、電磁変換特性が良好で、耐久性に優れた
磁気記録媒体が得られる。
ン含有極性基を有するバインダーを用いることにより、
カーボンブラックを含む非磁性層の分散性にすぐれ、表
面性にすぐれ、電磁変換特性が良好で、耐久性に優れた
磁気記録媒体が得られる。
Claims (6)
- 【請求項1】非磁性支持体上に顔料として少なくともカ
ーボンブラックを含む非磁性層を介し磁性層を有する磁
気記録媒体において、非磁性層に使用されるバインダー
は放射線硬化型バインダーであり、リン含有極性基を有
するポリウレタン樹脂を含んでいることを特徴とする磁
気記録媒体。 - 【請求項2】リン含有極性基が、ホスホン酸基、ホスフ
ィン酸基、及び亜ホスフィン酸基の１種以上である請求
項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】リン含有極性基が、亜ホスフィン酸基であ
る請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項4】非磁性層中の顔料に占めるカーボンブラッ
クの割合が５〜１００重量％であることを特徴とする請
求項１〜３記載の磁気記録媒体。 - 【請求項5】磁性層の平均厚みが０．５μm以下であり、
非磁性層の平均厚みが０．５〜３μmである請求項１〜
４記載の磁気記録媒体。 - 【請求項6】磁性層は非磁性層を塗布し、乾燥、硬化さ
れた後塗布されたものである請求項１〜５記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26108299A JP2001084570A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26108299A JP2001084570A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001084570A true JP2001084570A (ja) | 2001-03-30 |
Family
ID=17356841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26108299A Pending JP2001084570A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001084570A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6893723B2 (en) | 2002-07-31 | 2005-05-17 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| WO2007048587A1 (de) * | 2005-10-26 | 2007-05-03 | Basf Coatings Ag | Physikalisch, thermisch oder thermisch und mit aktinischer strahlung härtbare, wässrige gemische |
| KR100786688B1 (ko) * | 2002-11-11 | 2007-12-21 | 삼성전자주식회사 | 공기조화기 |
| KR100814026B1 (ko) * | 2002-11-11 | 2008-03-17 | 삼성전자주식회사 | 공기조화기 |
-
1999
- 1999-09-14 JP JP26108299A patent/JP2001084570A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6893723B2 (en) | 2002-07-31 | 2005-05-17 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| KR100786688B1 (ko) * | 2002-11-11 | 2007-12-21 | 삼성전자주식회사 | 공기조화기 |
| KR100814026B1 (ko) * | 2002-11-11 | 2008-03-17 | 삼성전자주식회사 | 공기조화기 |
| WO2007048587A1 (de) * | 2005-10-26 | 2007-05-03 | Basf Coatings Ag | Physikalisch, thermisch oder thermisch und mit aktinischer strahlung härtbare, wässrige gemische |
| US7960457B2 (en) | 2005-10-26 | 2011-06-14 | Basf Coatings Ag | Aqueous mixtures curable physically, thermally or thermally and with actinic radiation |
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Legal Events
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040525 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041026 |