JP2001075079A - Liquid crystal display device and its production - Google Patents
Liquid crystal display device and its productionInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置およ
びその製造方法に関し、詳しくは表示側基板の耐衝撃性
を高めた液晶表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display device having a display-side substrate having improved impact resistance.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、パソコンやワープロの普及に伴っ
て、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置の市場
が大幅に拡大されるとともに、表示画面の大型化が進展
しつつある。中でも能動層としてアモルファスシリコン
膜を用いて作成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用
いたＴＦＴカラー液晶表示装置の大型化には目を見張る
ものがある。2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of personal computers and word processors, the market for active matrix type liquid crystal display devices has been greatly expanded, and the size of display screens has been increasing. Above all, there has been a remarkable increase in the size of a TFT color liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT) formed using an amorphous silicon film as an active layer.
【０００３】ところが、液晶表示装置には、従来より概
ね１．１ｍｍ以下の板厚のガラス板が使用されており、
この板厚に適合するように製造ライン（例えば搬送装
置）が設計されている。そして、大型の液晶表示装置に
ついても従来の板厚のガラス基板を用いて製造されてい
る。However, a glass plate having a thickness of about 1.1 mm or less is conventionally used for a liquid crystal display device.
A production line (for example, a transfer device) is designed to conform to this plate thickness. Large liquid crystal display devices are also manufactured using a conventional glass substrate having a large thickness.
【０００４】しかしながら、従来の板厚のガラス基板を
用いて２０型（対角寸法；２０インチ）以上の大型の液
晶表示装置を作製した場合、表示画面の強度や耐衝撃力
が不十分となる。したがって、表示装置としての安全性
や耐久性に問題が生じる。また、大サイズ基板であると
自重による歪みやたわみが生じるので、ＴＦＴアレイプ
ロセスやカラーフィルタープロセスにおいて、マスクア
ライメント精度が悪くなり、その結果として開口率が低
くなる等の問題がある。However, when a large-sized liquid crystal display device of 20 inches (diagonal size: 20 inches) or more is manufactured using a conventional glass substrate having a large thickness, the strength of the display screen and the impact resistance become insufficient. . Therefore, there is a problem in safety and durability as a display device. In addition, since a large-sized substrate causes distortion and deflection due to its own weight, there is a problem that mask alignment accuracy is deteriorated in a TFT array process or a color filter process, and as a result, an aperture ratio is reduced.
【０００５】さらに、装置組み立て後においても、表示
画面に歪みやたわみが生じやすいため、表示安定性が悪
くなる。その一方、ガラス基板の厚みを厚くすると、搬
送設備などの製造設備を変更しなければならなくなりコ
ストアップを招く。また、表示装置の総重量が重くなる
という問題もある。Further, even after the apparatus is assembled, the display screen is liable to be distorted or bent, so that the display stability is deteriorated. On the other hand, if the thickness of the glass substrate is increased, manufacturing equipment such as transport equipment must be changed, which leads to an increase in cost. There is also a problem that the total weight of the display device is increased.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、製造コスト
の大幅なアップを伴うことなく、例えば２０型以上の大
型の液晶表示装置の表示安定性や安全性を向上させ、か
つ開口率や色表示性を向上させることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention improves the display stability and safety of a large liquid crystal display device of, for example, a 20-inch or larger size, without significantly increasing the manufacturing cost, and further increases the aperture ratio and color. An object is to improve displayability.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】（１）上記目的を達成す
るための第１の発明にかかる液晶表示装置は、以下を特
徴とする。少なくとも薄膜トランジスターと前記薄膜ト
ランジスターに接続された画素電極とが形成された第１
の基板と、少なくともカラーフィルター層と対向電極と
が形成された第２の基板とが、それぞれの電極面を内側
にし所定のギャップをもって対向され、かつ前記ギャッ
プ内に液晶が封入されてなる液晶セルを備え、前記液晶
セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、当該表示
側基板の厚みがこれに対向する基板の厚みよりも大き
い。Means for Solving the Problems (1) The liquid crystal display device according to the first invention for achieving the above object has the following features. A first transistor having at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor;
A liquid crystal cell comprising: a substrate, and a second substrate on which at least a color filter layer and a counter electrode are formed, facing each other with a predetermined gap with their respective electrode surfaces inside, and a liquid crystal sealed in the gap. And one of the outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side, and the thickness of the display side substrate is larger than the thickness of the substrate facing the display side substrate.
【０００８】上記第１の発明では、表示側基板のみを厚
くする構成を採用するが、この構成であると、大幅なコ
ストアップや装置重量の大幅な増加を伴うことなく、極
めて合理的に表示装置としての安全性や表示安定性を高
めることができる。In the first aspect of the present invention, a configuration is adopted in which only the display-side substrate is thickened. With this configuration, the display can be performed extremely rationally without a significant increase in cost and a large increase in the weight of the apparatus. The safety and display stability of the device can be improved.
【０００９】上記第１の発明においては、更に、前記表
示側の基板が薄膜トランジスターの形成された前記第１
の基板であるとする構成要素を付加することができる。
この構成では、より厚みの大きい基板に薄膜トランジス
ター（ＴＦＴ）を形成しＴＦＴアレイ基板となし、これ
を表示側に配置するが、この構成であると、安全性に加
え、表示安定性や輝度や色表示性が向上する。この理由
は、より厚みが大きい基板は歪みやそりが少ないので、
製造時において必然的にＴＦＴアレイの寸法精度が向上
する。その結果、開口率が高まり、また液晶セルの組み
立て後においても基板の歪みやそりが生じ難いので、視
認性や表示安定性が高まるからである。In the first aspect, the display-side substrate may further include a first substrate on which a thin film transistor is formed.
A component that is a substrate can be added.
In this configuration, a thin film transistor (TFT) is formed on a thicker substrate to form a TFT array substrate, which is arranged on the display side. With this configuration, in addition to safety, display stability, brightness and brightness are improved. The color display is improved. The reason for this is that thicker substrates have less distortion and warpage,
In manufacturing, the dimensional accuracy of the TFT array is inevitably improved. As a result, the aperture ratio increases, and the substrate is unlikely to be warped or warped even after the liquid crystal cell is assembled, so that the visibility and the display stability are improved.
【００１０】但し、本発明では、より厚みが大きい基板
にカラーフィルターを形成し、これを表示側としてもよ
い。この場合には、カラーフィルターセグメント間に遮
光パターンを形成するマスクアライメント精度や寸法精
度が高まるので、色表示性が向上するとともに、遮光膜
を金属クロムや酸化クロムで形成した場合であっても、
基板が厚く強度が強い分、遮光膜の熱膨張に起因する基
板のそりや変形が少なくなるので、色表示性や表示安定
性が向上する。However, in the present invention, a color filter may be formed on a thicker substrate and used as a display side. In this case, the mask alignment accuracy and dimensional accuracy for forming the light-shielding pattern between the color filter segments are improved, so that the color display property is improved, and even when the light-shielding film is formed of metal chromium or chromium oxide,
The thicker the substrate and the stronger the strength, the less warpage or deformation of the substrate due to the thermal expansion of the light-shielding film improves the color display and display stability.
【００１１】更に、上記第１の発明においては、前記表
示側の基板が複数の透明基板を接着した貼り合わせ基板
からなるものとすることができる。複数の透明基板を貼
り合わせると、強度、耐衝撃性が高まる。したがって、
この構成であると、表示装置としての安全性や表示安定
性等が一段と向上する。また、この構成では、例えば対
向基板に従来より使用されている薄い基板を使用し、表
示側基板には従来基板を複数枚貼り合わせたものを使用
することができ、このようにすると、新たな基板を開発
することなくして、表示安定性や安全性を向上させるこ
とができる。Further, in the first aspect, the display-side substrate may be a bonded substrate obtained by bonding a plurality of transparent substrates. By bonding a plurality of transparent substrates, strength and impact resistance are increased. Therefore,
With this configuration, the safety and display stability of the display device are further improved. Further, in this configuration, for example, a thin substrate that has been conventionally used can be used for the counter substrate, and a substrate in which a plurality of conventional substrates are bonded to each other can be used for the display-side substrate. The display stability and safety can be improved without developing a substrate.
【００１２】更に、上記第１の発明においては、前記表
示側の基板が２枚の透明基板の間に偏光板を挟んで貼り
合わせた複合基板からなるものとすることができる。こ
の構成の複合基板では外側の基板により偏光板の傷つき
が防止され、また中間に挟まれた偏光板が衝撃を吸収す
るように作用する。よって、装置の表示安定性や耐衝撃
性がさらに向上する。Further, in the first invention, the display-side substrate may be a composite substrate in which a polarizing plate is sandwiched between two transparent substrates. In the composite substrate having this configuration, the outer substrate prevents the polarizing plate from being damaged, and the polarizing plate interposed therebetween acts to absorb shock. Therefore, the display stability and impact resistance of the device are further improved.
【００１３】更に、上記第１の発明においては、前記表
示側の基板が２枚の透明ガラス板の間に透明樹脂板を挟
んで貼り合わせた複合基板からなるものとすることがで
きる。この構成であると、ガラス板に比べ柔軟な樹脂板
が衝撃を吸収するように作用するため、衝撃等が加わっ
たときにおけるガラス板の破損が生じにくい。よって、
表示装置としての安全性が格段に高まる。Further, in the first invention, the display-side substrate may be a composite substrate in which a transparent resin plate is sandwiched between two transparent glass plates. With this configuration, the resin plate, which is more flexible than the glass plate, acts so as to absorb the impact, so that the glass plate is less likely to be damaged when an impact or the like is applied. Therefore,
The safety as a display device is greatly improved.
【００１４】更に、上記第１の発明においては、前記表
示側の基板が厚み２ｍｍ以上５ｍｍ以下のホウケイ酸ガ
ラス板からなるものとすることができる。ホウケイ酸ガ
ラスは石英ガラス等に比較し安価であるが、強度が弱く
歪み易い。しかし、表示側基板の厚みを２ｍｍ以上５ｍ
ｍ以下とすれば、実用上十分な強度および耐衝撃性を確
保することができる。なお、強度や耐衝撃性の面からは
板厚が厚い方がよいが、２ｍｍ以上の板厚であれば実用
上十分な耐衝撃性が得られる一方、５ｍｍを越えて板厚
を厚くしても、装置重量の増加というデメリットが大き
くなるのみで、もはや安全性の向上がない。ここで、上
記２ｍｍ以上５ｍｍ以下の板厚の基板は、一枚のホウケ
イ酸ガラス板で完成してもよいし、複数のガラス板を貼
り合わせたものであってもよい。Further, in the first aspect, the display-side substrate may be made of a borosilicate glass plate having a thickness of 2 mm or more and 5 mm or less. Borosilicate glass is cheaper than quartz glass or the like, but has low strength and is easily distorted. However, the thickness of the display side substrate is 2 mm or more and 5 m
m or less, practically sufficient strength and impact resistance can be secured. In addition, from the viewpoint of strength and impact resistance, it is better that the plate thickness is large. However, if the plate thickness is 2 mm or more, practically sufficient impact resistance can be obtained. However, only the disadvantage of increasing the weight of the apparatus is increased, and there is no longer any improvement in safety. Here, the substrate having a thickness of 2 mm or more and 5 mm or less may be completed with a single borosilicate glass plate, or may be a laminate of a plurality of glass plates.
【００１５】更に、上記第１の発明においては、前記表
示側の基板が薄膜トランジスターの形成された前記第１
の基板であり、当該薄膜トランジスターが、１００ナノ
メータ以上、１０ミクロン以下の膜厚の下層膜を介して
形成されているものとすることができる。この構成は、
前記表示側の基板が厚み２ｍｍ以上５ｍｍ以下のホウケ
イ酸ガラス板からなるものである場合において一層有効
である。なぜなら、ホウケイ酸ガラスは歪みやそりが生
じやすいが、２ｍｍ以上５ｍｍ以下の板厚とし、更にこ
の基板上に１００ナノメータ以上、１０ミクロン以下の
膜厚の下層膜を形成したものに、ＴＦＴアレイを形成す
ると、ＴＦＴアレイの寸法精度が格段に高まる結果、開
口率の大きい、高輝度、高色表示性の液晶表示装置を実
現できるからである。ここで下層膜としては、例えばチ
ッ化シリコン膜やシリカ膜を使用することができる。Further, in the first aspect of the present invention, the display-side substrate may be a first substrate on which a thin film transistor is formed.
And the thin film transistor may be formed via a lower layer film having a thickness of 100 nm or more and 10 μm or less. This configuration,
It is more effective when the display side substrate is made of a borosilicate glass plate having a thickness of 2 mm or more and 5 mm or less. The reason is that borosilicate glass is liable to be warped or warped. However, a TFT array having a plate thickness of 2 mm or more and 5 mm or less and a lower layer film of 100 nm or more and 10 μm or less formed on this substrate is used. This is because, when formed, the dimensional accuracy of the TFT array is remarkably increased, so that a liquid crystal display device having a large aperture ratio, high luminance, and high color display can be realized. Here, as the lower layer film, for example, a silicon nitride film or a silica film can be used.
【００１６】更に、上記第１の発明においては、前記表
示側の画像表示面が方形であり、その対角寸法が２０イ
ンチ以上であるとすることができる。対角寸法が２０イ
ンチ以上（２０型）の大型液晶表示装置では、安全性や
表示安定性に問題が起きやすい。よって、このような装
置において、表示側基板を厚くする等の構成を採用する
と一層十分な作用効果が得られるからである。Further, in the first aspect, the image display surface on the display side may be rectangular, and a diagonal dimension thereof may be 20 inches or more. In a large-sized liquid crystal display device having a diagonal size of 20 inches or more (20 type), problems are likely to occur in safety and display stability. Therefore, in such a device, if a structure such as making the display-side substrate thicker is adopted, a more sufficient effect can be obtained.
【００１７】（２）第２の発明にかかる液晶表示装置
は、以下を特徴とする。少なくとも薄膜トランジスター
と前記薄膜トランジスターに接続された画素電極と前記
画素電極上の積層されたカラーフィルター層とが形成さ
れた第１の基板と、少なくとも対向電極が形成された第
２の基板とが、それぞれの電極面を内側にし所定のギャ
ップをもって対向され、かつ前記ギャップ内に液晶が封
入されてなる液晶セルを備え、前記液晶セルの両外側面
の何れか一方が表示側であり、当該表示側基板の厚みが
これに対向する基板の厚みよりも大きい。(2) The liquid crystal display device according to the second invention has the following features. A first substrate on which at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor and a color filter layer laminated on the pixel electrode are formed, and a second substrate on which at least a counter electrode is formed, A liquid crystal cell in which a liquid crystal is sealed in the gap with the respective electrode surfaces inside, and one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side; The thickness of the substrate is greater than the thickness of the opposing substrate.
【００１８】第２の発明は、基板上にＴＦＴとカラーフ
ィルターの双方が形成されている点で上記第１の発明と
異なる。一方の基板に主要な要素を集中させるこの構成
であると、表示側基板の厚みをこれに対向する基板の厚
みよりも厚くするという構成の作用効果をより大きく発
揮させることができ、特にこの構成において第１の基板
を板厚の厚い基板とすると、開口率や表示安定性を高め
る上で都合がよい。The second invention differs from the first invention in that both a TFT and a color filter are formed on a substrate. With this configuration in which the main elements are concentrated on one substrate, the operation and effect of the configuration in which the thickness of the display-side substrate is made thicker than the thickness of the substrate facing the display-side substrate can be further exerted. When the first substrate is a thick substrate, it is convenient in improving the aperture ratio and display stability.
【００１９】第２の発明の構成に付加できる構成要素
は、上記（１）の場合と同様であり、その作用効果も上
記（１）と概ね同様である。よって、ここでの説明を省
略する。The components that can be added to the configuration of the second invention are the same as those in the above (1), and the functions and effects are almost the same as those in the above (1). Therefore, the description here is omitted.
【００２０】（３）第３の発明にかかる液晶表示装置
は、インプレーンスイッチ型の液晶表示装置であり、以
下を特徴とする。少なくとも薄膜トランジスターと前記
薄膜トランジスターに接続された画素電極と前記画素電
極に離隔する対向電極とが形成された第１の基板と、第
２の基板とが、電極面を内側にし所定のギャップをもっ
て対向され、かつ前記ギャップ内に液晶が封入されてな
るインプレーンスイッチ型の液晶セルを備え、前記液晶
セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、当該表示
側基板の厚みがこれに対向する基板の厚みよりも大き
い。(3) The liquid crystal display device according to the third invention is an in-plane switch type liquid crystal display device, which is characterized by the following. A first substrate on which at least a thin film transistor, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a counter electrode separated from the pixel electrode are formed, and a second substrate are opposed with a predetermined gap with the electrode surface inside. And a liquid crystal cell of an in-plane switch type in which liquid crystal is sealed in the gap, and one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side, and the thickness of the display side substrate is opposed to the display side. Larger than the thickness of the substrate to be formed.
【００２１】インプレーンスイッチ型であっても、表示
側面に外部衝撃が作用し易い点に変わりがない。したが
って、インプレーンスイッチ型液晶表示装置において、
表示側基板をより厚くしたこの構成においても、上記
（１）で述べたと同様な作用効果が得られる。また、こ
の構成においても矛盾が生じない範囲で上記（１）の場
合と同様な限定要素を付加することができる。 （４）第４の発明にかかる液晶表示装置は、以下を特徴
とする。少なくとも薄膜トランジスターと前記薄膜トラ
ンジスターに接続された画素電極とが形成された第１の
基板と、少なくともカラーフィルター層と対向電極とが
形成された第２の基板とが、それぞれの電極面を内側に
し所定のギャップをもって対向され、かつ前記ギャップ
内に液晶が封入されてなる液晶セルを備え、前記液晶セ
ルの両外側面の何れか一方が表示側であり、当該表示側
基板の単位体積当たりの強度がこれに対向する基板の単
位体積当たりの強度よりも大きい。Even in the case of the in-plane switch type, there is no change in that an external impact easily acts on the display side surface. Therefore, in the in-plane switch type liquid crystal display device,
In this configuration in which the display side substrate is made thicker, the same operation and effect as described in the above (1) can be obtained. Also, in this configuration, the same limiting elements as in the case (1) can be added as long as no contradiction occurs. (4) The liquid crystal display device according to the fourth invention has the following features. A first substrate on which at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are formed, and a second substrate on which at least a color filter layer and a counter electrode are formed, with their respective electrode surfaces facing inward. A liquid crystal cell which is opposed with a predetermined gap, and in which a liquid crystal is sealed in the gap; and one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side, and the strength per unit volume of the display side substrate. Is greater than the strength per unit volume of the substrate facing this.
【００２２】第４の発明は、表示側基板の単位体積当た
りの強度をこれに対向する基板の単位体積当たりの強度
よりも大きくした点においてのみ、上記第１の発明と異
なる。すなわち、第４の発明では、第１の基板と第２の
基板の板厚ではなく、単位体積当たりの強度の関係を規
定している。強度の強い基板は一般に高価であるが、傷
つき難く破損しにくい。よって、単位体積当たりの強度
が強い基板を表示側に配置することにより、大幅なコス
トアップを伴うことなくして表示装置としての安全性や
信頼性を高めることができる。なお、第４の発明におい
ても、単位体積当たりの強度がより強い基板を複数枚貼
り合わせて用いることもできるし、中間に偏光板または
樹脂板を挟んだ３層構造の複合基板とすることもでき
る。更に矛盾の生じない範囲で上記（１）に記載した付
加的構成要素を付加することもできる。The fourth invention is different from the first invention only in that the strength of the display-side substrate per unit volume is larger than the strength of the opposing substrate per unit volume. That is, in the fourth invention, not the thickness of the first substrate and the second substrate but the relationship of the strength per unit volume. A strong substrate is generally expensive, but is less likely to be damaged and damaged. Therefore, by disposing a substrate having a high strength per unit volume on the display side, it is possible to enhance the safety and reliability of the display device without significantly increasing the cost. Also in the fourth invention, a plurality of substrates having higher strength per unit volume can be bonded and used, or a composite substrate having a three-layer structure with a polarizing plate or a resin plate interposed therebetween can be used. it can. Further, the additional components described in the above (1) can be added as long as no contradiction occurs.
【００２３】（５）第５の発明にかかる液晶表示装置
は、インプレーンスイッチ型の液晶表示装置であり、以
下を特徴とする。少なくとも薄膜トランジスターと前記
薄膜トランジスターに接続された画素電極と前記画素電
極に離隔する対向電極とが形成された第１の基板と、第
２の基板とが、電極面を内側にし所定のギャップをもっ
て対向され、かつ前記ギャップ内に液晶が封入されてな
るインプレーンスイッチ型の液晶セルを備え、前記液晶
セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、当該表示
側基板の単位体積当たりの強度がこれに対向する基板の
単位体積当たりの強度よりも大きい。(5) The liquid crystal display device according to the fifth invention is an in-plane switch type liquid crystal display device, which is characterized by the following. A first substrate on which at least a thin film transistor, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a counter electrode separated from the pixel electrode are formed, and a second substrate are opposed with a predetermined gap with the electrode surface inside. And a liquid crystal cell of an in-plane switch type wherein liquid crystal is sealed in the gap, and one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side, and the intensity per unit volume of the display side substrate is provided. Is greater than the strength per unit volume of the substrate facing this.
【００２４】第５の発明は、表示側基板の単位体積当た
りの強度をこれに対向する基板の単位体積当たりの強度
よりも大きくした点において上記第３の発明と異なる。
また、インプレーンスイッチ型である点で上記第４の発
明と異なる。但し、発明の要点については、上記第４の
発明と基本的に相違ない。よって、上記（４）に記載し
た内容がこの発明にも妥当する。The fifth invention is different from the third invention in that the strength of the display-side substrate per unit volume is larger than the strength of the opposing substrate per unit volume.
Further, the present invention is different from the above-described fourth invention in that it is an in-plane switch type. However, the gist of the invention is basically the same as that of the fourth invention. Therefore, the contents described in the above (4) are also applicable to the present invention.
【００２５】（６）液晶表示素子の製造方法にかかる第
６の発明は、以下を特徴とする。厚さの異なる２枚の基
板を準備し、厚みの厚い方の基板に、少なくとも薄膜ト
ランジスターと前記薄膜トランジスターに接続された画
素電極とを形成するＴＦＴアレイ基板作製工程と、厚さ
の薄いもう一方の基板に、少なくとも透明対向電極を形
成する対向基板形成工程と、前記ＴＦＴアレイ基板と前
記対向基板とを電極面を内側にし所定のギャップをもっ
て対向させる工程と、前記ギャップ内に液晶を封入する
液晶セル組立工程と前記液晶セルの両外側面に偏光板を
配置する工程と、前記偏光板の配置された液晶セルの対
向基板側にバックライトを配置する工程と、を備える。(6) A sixth invention according to a method for manufacturing a liquid crystal display element has the following features. A TFT array substrate manufacturing step of preparing two substrates having different thicknesses, forming at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor on the thicker substrate, and forming the other thinner substrate A counter substrate forming step of forming at least a transparent counter electrode on the substrate, a step of causing the TFT array substrate and the counter substrate to face each other with a predetermined gap with the electrode surface inside, and a liquid crystal sealing liquid crystal in the gap. The method includes a cell assembling step, a step of disposing polarizing plates on both outer surfaces of the liquid crystal cell, and a step of disposing a backlight on a counter substrate side of the liquid crystal cell on which the polarizing plate is disposed.
【００２６】（７）液晶表示素子の製造方法にかかる第
７の発明は、以下を特徴とする。第１、第２、第３の３
枚の基板を準備し、前記第１の基板に少なくとも薄膜ト
ランジスターと前記薄膜トランジスターに接続された画
素電極とを形成するＴＦＴアレイ基板作製工程と、前記
第２の基板に、少なくとも透明対向電極を形成する対向
基板形成工程と、前記ＴＦＴアレイ基板と前記対向基板
とを電極面を内側にし所定のギャップをもって対向させ
る工程と、前記ギャップ内に液晶を封入する液晶セル組
立工程と、前記液晶セルのＴＦＴアレイ基板の外側面に
前記第３の基板を貼り合わせて、全板厚を前記第２の基
板よりも厚くする貼り合わせ工程と、前記貼り合わせ工
程後の液晶セルの両外側面に偏光板を配置する工程と、
前記偏光板の配置された対向基板側にバックライトを配
置する工程と、を備える製造方法により生産性よく製造
することができる。(7) A seventh invention according to a method for manufacturing a liquid crystal display element has the following features. 1st, 2nd, 3rd
Preparing two substrates, forming a TFT array substrate on the first substrate and forming at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor; and forming at least a transparent counter electrode on the second substrate. Opposing substrate forming step, opposing the TFT array substrate and the opposing substrate with a predetermined gap with the electrode surface inside, a liquid crystal cell assembling step of filling liquid crystal in the gap, and a TFT of the liquid crystal cell. A bonding step of bonding the third substrate to an outer surface of the array substrate to make the total thickness larger than the second substrate; and polarizing plates on both outer surfaces of the liquid crystal cell after the bonding step. Arranging,
A step of arranging a backlight on the side of the opposing substrate on which the polarizing plate is arranged.
【００２７】第７の発明においては、前記第１、第２、
第３の基板を、ガラス製でかつ板厚が同一のものとする
ことができる。この製造方法では、厚み、大きさ、材質
が同一のガラス基板を用いるので、大幅なコストアップ
を招くことなく、安全性や表示安定性に優れた液晶表示
装置を効率よく製造することができる。In a seventh aspect, the first, second,
The third substrate may be made of glass and have the same thickness. In this manufacturing method, since a glass substrate having the same thickness, size, and material is used, a liquid crystal display device excellent in safety and display stability can be efficiently manufactured without significantly increasing the cost.
【００２８】また、第７の発明においては、第１の基板
と第３の基板に異なる材質のものを使用することができ
る。例えば第１の基板をガラス板とし、第３の基板を樹
脂板（この逆でもよい）とする。このようにすると、強
度や耐衝撃性を任意に調整することができる。In the seventh invention, different materials can be used for the first substrate and the third substrate. For example, the first substrate is a glass plate, and the third substrate is a resin plate (or vice versa). This makes it possible to arbitrarily adjust the strength and the impact resistance.
【００２９】（８）液晶表示素子の製造方法にかかる第
８の発明は、以下を特徴とする。第１、第２、第３の３
枚の基板を準備し、前記第１の基板に、少なくとも薄膜
トランジスターと前記薄膜トランジスターに接続された
画素電極とを形成するＴＦＴアレイ基板作製工程と、前
記第２の基板に、少なくとも透明対向電極を形成する対
向基板形成工程と、前記ＴＦＴアレイ基板と前記対向基
板とを電極面を内側にし所定のギャップをもって対向さ
せる工程と、前記ギャップ内に液晶を封入する液晶セル
組立工程と、前記液晶セルのＴＦＴアレイ基板の外側面
に偏光板を貼り合わせ、さらにその上に前記第３の基板
を貼り合わせて全板厚を前記第２の基板よりも厚くする
貼り合わせ工程と、前記対向基板の外側面に偏光板を配
置する工程と、前記偏光板の配置された対向基板側にバ
ックライトを配置する工程と、を備える。(8) An eighth invention according to a method for manufacturing a liquid crystal display element has the following features. 1st, 2nd, 3rd
Preparing a substrate, forming a TFT array substrate on the first substrate, at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor; and forming at least a transparent counter electrode on the second substrate. Forming a counter substrate, forming the TFT array substrate and the counter substrate to face each other with a predetermined gap with an electrode surface inside, assembling a liquid crystal cell in the gap, A laminating step of laminating a polarizing plate on the outer surface of the TFT array substrate and further laminating the third substrate thereon to make the total plate thickness thicker than the second substrate; And a step of disposing a backlight on the side of the opposing substrate on which the polarizing plate is disposed.
【００３０】この製造方法によると、セル組み立て後に
表示側基板を、２枚の基板が偏光板を挟んで貼り合わさ
れてなる複合基板に発展させることができる。偏光板を
挟んでなる複合基板は耐衝撃性に優れ、しかも偏光板が
外力により傷ついたり破損したりしない。つまり、この
製造方法によると、簡便に安全性、信頼性に優れた液晶
表示装置を製造することができる。According to this manufacturing method, after the cell is assembled, the display-side substrate can be developed into a composite substrate in which two substrates are bonded together with a polarizing plate interposed therebetween. The composite substrate sandwiching the polarizing plate has excellent impact resistance, and does not damage or break the polarizing plate due to external force. That is, according to this manufacturing method, a liquid crystal display device excellent in safety and reliability can be easily manufactured.
【００３１】この製造方法においては、少なくとも第１
の基板と第３の基板をガラス板とし、偏光板を樹脂製の
ものとするのがよい。樹脂製の偏光板をガラス板の間に
挟むと、偏光板の傷つきが防止されるとともにガラスに
加わった衝撃が緩和されるので、装置の耐衝撃性（安全
性）が一段と向上する。In this manufacturing method, at least the first
And the third substrate are preferably made of glass plates, and the polarizing plate is preferably made of resin. When a polarizing plate made of resin is sandwiched between glass plates, the polarizing plate is prevented from being damaged and the shock applied to the glass is reduced, so that the shock resistance (safety) of the device is further improved.
【００３２】（９）液晶表示素子の製造方法にかかる第
９の発明は、以下を特徴とする。第１、第２の基板と、
前記第１の基板と材質の異なる第３の基板と、前記第１
の基板と材質が同じ第４の基板の４枚の基板を準備し、
前記第１の基板に、少なくとも薄膜トランジスターと前
記薄膜トランジスターに接続された画素電極とを形成す
るＴＦＴアレイ基板作製工程と、前記第２の基板に、少
なくとも透明対向電極を形成する対向基板形成工程と、
前記ＴＦＴアレイ基板と前記対向基板とを電極面を内側
にし所定のギャップをもって対向させる工程と、前記ギ
ャップ内に液晶を封入する液晶セル組立工程と、前記液
晶セルのＴＦＴアレイ基板の外側面に前記第３の基板貼
り合わせ、さらにその上に前記第４の基板を貼り合わせ
て全板厚を前記第２の基板よりも厚くする貼り合わせ工
程と、前記対向基板の外側面に偏光板を配置する工程
と、前記偏光板の配置された対向基板側にバックライト
を配置する工程と、を備える。(9) A ninth invention according to a method for manufacturing a liquid crystal display element has the following features. First and second substrates;
A third substrate different in material from the first substrate;
Prepare four substrates of the same material as the substrate of the fourth substrate,
A TFT array substrate forming step of forming at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor on the first substrate; and a counter substrate forming step of forming at least a transparent counter electrode on the second substrate. ,
A step of facing the TFT array substrate and the counter substrate with a predetermined gap with the electrode surface inside, a liquid crystal cell assembling step of enclosing liquid crystal in the gap, and forming the liquid crystal cell on an outer surface of the TFT array substrate. A third substrate bonding step, and a bonding step of bonding the fourth substrate thereon to make the total thickness greater than that of the second substrate, and disposing a polarizing plate on the outer surface of the counter substrate. And a step of disposing a backlight on the side of the counter substrate on which the polarizing plate is disposed.
【００３３】この製造方法によると、液晶セルの組み立
ての後に表示側基板を、２枚の基板の間に材質の異なる
他の基板を挟んで貼り合わしてなる複合基板に発展させ
ることができる。２枚の基板の間に材質の異なる他の基
板を挟んで貼り合わしてなる複合基板は、耐衝撃性に優
れる。よって、この製造方法によると、安全性、信頼性
に優れた液晶表示装置を簡便かつ安価に製造することが
できる。更に、この製造方法において、前記第１の基板
をガラス板とし、前記第３の基板を樹脂板とすると、ガ
ラス板と樹脂板が好適に作用し合う結果、一段と耐衝撃
性に優れた表示基板を生産性よく製造することができ
る。According to this manufacturing method, after assembling the liquid crystal cell, the display-side substrate can be developed into a composite substrate in which another substrate of a different material is sandwiched between two substrates. A composite substrate in which another substrate made of a different material is sandwiched between two substrates and bonded to each other has excellent impact resistance. Therefore, according to this manufacturing method, a liquid crystal display device excellent in safety and reliability can be manufactured easily and inexpensively. Further, in this manufacturing method, when the first substrate is a glass plate and the third substrate is a resin plate, the glass plate and the resin plate suitably act, and as a result, the display substrate is more excellent in impact resistance. Can be manufactured with high productivity.
【００３４】[0034]
【実施の形態】本発明にかかる液晶表示装置の製造の実
際を例示的に説明する。先ず初めに、厚さの異なるガラ
ス基板を準備する。そこで、厚さが厚い方のガラス基板
表面にＴＦＴアレイを形成する。ＴＦＴアレイの形成手
段としては従来から行われている種々の手段を適用する
ことができる。一方、厚さが薄い方のガラス基板表面に
はカラーフィルターを形成する。カラーフィルターの形
成手段としては従来から行われている種々の手段を適用
することができる。その後、前記ＴＦＴアレイとカラー
フィルターのそれぞれの表面に公知の液晶配向膜を形成
した後、前記液晶配向膜をそれぞれ内側にして、２枚の
ガラス基板を所定の間隙を保ちつつ位置合わせし接着剤
を用いて接着固定し、液晶表示装置用の空セルを作製す
る。次いで、前記空セル内を減圧にして液晶を注入し封
止して液晶セルとなす。この後、両外面に偏光板を貼り
付け、厚さの薄い方の基板（カラーフィルター基板）側
にバックライトを装着して液晶表示装置を完成させる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The manufacture of a liquid crystal display device according to the present invention will be illustratively described. First, glass substrates having different thicknesses are prepared. Therefore, a TFT array is formed on the surface of the thicker glass substrate. As a means for forming a TFT array, various means conventionally used can be applied. On the other hand, a color filter is formed on the thinner glass substrate surface. Various means conventionally used can be applied as a means for forming a color filter. Thereafter, a known liquid crystal alignment film is formed on each surface of the TFT array and the color filter, and the two glass substrates are aligned with the liquid crystal alignment film inside each while maintaining a predetermined gap, and an adhesive is formed. To secure an empty cell for a liquid crystal display device. Next, the inside of the empty cell is decompressed and liquid crystal is injected and sealed to form a liquid crystal cell. Thereafter, polarizing plates are attached to both outer surfaces, and a backlight is mounted on the thinner substrate (color filter substrate) side to complete the liquid crystal display device.
【００３５】また、次のような方法を採用することもで
きる。厚さの異なるガラス基板を準備する。そして、厚
さが厚い方のガラス基板表面にカラーフィルターを形成
する。このとき、カラーフィルターの形成手段としては
従来から行われている種々の手段を適用することができ
る。他方、厚さが薄い方のガラス基板表面にＴＦＴアレ
イを形成する。このとき、ＴＦＴアレイの形成手段とし
ては従来から行われている種々の手段を適用することが
できる。その後、前記カラーフィルターとＴＦＴアレイ
とのそれぞれの表面に公知の液晶配向膜を形成した後、
上記と同様にして液晶セルを作製し、この液晶セルの両
面に偏光板を貼り付け、ＴＦＴアレイ基板側にバックラ
イトを装着して液晶表示装置を完成させる。Further, the following method can be adopted. Glass substrates having different thicknesses are prepared. Then, a color filter is formed on the surface of the thicker glass substrate. At this time, various means conventionally used can be applied as a means for forming the color filter. On the other hand, a TFT array is formed on the thinner glass substrate surface. At this time, various means conventionally used can be applied as a means for forming the TFT array. Then, after forming a known liquid crystal alignment film on each surface of the color filter and the TFT array,
A liquid crystal cell is manufactured in the same manner as described above, polarizing plates are attached to both sides of the liquid crystal cell, and a backlight is mounted on the TFT array substrate side to complete a liquid crystal display device.
【００３６】以上のような方法は、複数個のＴＦＴと複
数個の色フィルターがどちらか一方のガラス基板に累積
形成されているカラーフィルターオンアレイ型液晶表示
装置の製造方法においても同様に適用できる。さらにま
た、どちらか一方のガラス基板表面に複数個のＴＦＴと
複数個の対向電極が累積形成されているインプレーンス
イッチング（ＩＰＳ）型液晶表示装置、または複数個の
ＴＦＴと複数個の色フィルターと対向電極とが累積形成
されているインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）型液晶
表示装置の製造方法においても同様に適用できる。The above-described method can be similarly applied to a method of manufacturing a color filter-on-array type liquid crystal display device in which a plurality of TFTs and a plurality of color filters are cumulatively formed on one of the glass substrates. . Furthermore, an in-plane switching (IPS) type liquid crystal display device in which a plurality of TFTs and a plurality of counter electrodes are cumulatively formed on one of the glass substrates, or a plurality of TFTs and a plurality of color filters. The present invention can be similarly applied to a method of manufacturing an in-plane switching (IPS) type liquid crystal display device in which counter electrodes are formed in a cumulative manner.
【００３７】[0037]
【実施例】本発明を実施例に基づき本発明の内容を具体
的に説明する。 （実施例１）まず、板厚が２．５ｍｍと０．７ｍｍで、
かつ表示サイズが20型（対角寸法２０インチ）の液晶表
示装置用の基板を４枚同時に作製できる大きさのホウケ
イ酸ガラスからなる透明のガラス板（寸法５５０ｍｍ×
６５０ｍｍ、コーニング社製Corning7059)を２枚用意し
た。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described based on examples. (Example 1) First, when the plate thickness is 2.5 mm and 0.7 mm,
In addition, a transparent glass plate made of borosilicate glass having a display size of 20 inches (20 inches in diagonal size) and a size capable of simultaneously producing four substrates for a liquid crystal display device (a size of 550 mm ×
Two 650 mm Corning 7059) products were prepared.
【００３８】次に、板厚２．５ｍｍの透明ガラス板を表
示側基板とし、これに公知の方法により下層膜と薄膜ト
ランジスタ（ＴＦＴ）を形成し、図１に示すようなＴＦ
Ｔアレイ基板１０を作製した。Next, a transparent glass plate having a thickness of 2.5 mm was used as a display substrate, on which a lower layer film and a thin film transistor (TFT) were formed by a known method.
A T array substrate 10 was manufactured.
【００３９】図１は、作図の都合上、１個のＴＦＴ部分
を取り上げて描いたＴＦＴアレイ基板の断面概念図であ
る。この図１中、符号１は２．５ｍｍ厚のガラス基板、
２は前記基板上に形成された膜厚４００ｎｍの下層膜、
３はゲート電極、４はゲート絶縁膜、５はアモルファス
シリコンよりなる半導体膜（但し、ポリシリコン膜であ
っても良い）、５' はｎ型不純物を拡散したｎ＋層、６
はパッシベーション膜、７はソース配線、８はドレーン
配線、８’は画素電極であり、画素電極８’は前記ドレ
ーン配線と接続されている。FIG. 1 is a conceptual sectional view of a TFT array substrate in which one TFT portion is drawn for convenience of drawing. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a glass substrate having a thickness of 2.5 mm,
2 is a lower layer film having a thickness of 400 nm formed on the substrate,
3 is a gate electrode, 4 is a gate insulating film, 5 is a semiconductor film made of amorphous silicon (however, it may be a polysilicon film), 5 'is an n + layer in which n-type impurities are diffused, 6
Is a passivation film, 7 is a source wiring, 8 is a drain wiring, 8 'is a pixel electrode, and the pixel electrode 8' is connected to the drain wiring.
【００４０】他方、板厚０．７ｍｍの透明ガラス板を上
記基板１に対向する裏側の基板とし、公知の方法によ
り、このガラス板１１上に酸化クロムと金属クロムより
なる２層構造の遮光膜パターン１２を形成し、その上に
赤色カラーフィルターセグメント１３と緑色カラーフィ
ルターセグメント１４および青色カラーフィルターセグ
メントからなるカラーフィルターを形成した。更に、こ
の上にＩＴＯ（indium tin oxide )よりなる透明対向電
極１５を形成した。このようにして図２に示すカラーフ
ィルター基板２０を作製した。On the other hand, a transparent glass plate having a thickness of 0.7 mm is used as a back substrate opposite to the above-mentioned substrate 1, and a two-layer light shielding film made of chromium oxide and metallic chromium is formed on this glass plate 11 by a known method. A pattern 12 was formed, and a color filter including a red color filter segment 13, a green color filter segment 14, and a blue color filter segment was formed thereon. Further, a transparent counter electrode 15 made of ITO (indium tin oxide) was formed thereon. Thus, the color filter substrate 20 shown in FIG. 2 was manufactured.
【００４１】その後、前記ＴＦＴアレイ基板１０の表面
およびカラーフィルター基板２０の表面にそれぞれ液晶
配向膜２２を形成した。次いで、両基板を液晶配向膜２
２・２２を内側にし、かつ５ミクロンの間隙を保ち、か
つ全体を４分割する領域の周辺が接着できるようにして
重ね合わせた後、４つに割断して液晶表示装置用の空セ
ル４個を作製した。Thereafter, liquid crystal alignment films 22 were formed on the surface of the TFT array substrate 10 and the surface of the color filter substrate 20, respectively. Next, both substrates are used as liquid crystal alignment films 2.
After superimposing 2.22 inside and maintaining a gap of 5 microns, and bonding the periphery of the area divided into four parts, they are cut into four parts and four empty cells for liquid crystal display device Was prepared.
【００４２】この後、真空中で上記空セル内にＴＮ型液
晶２３（ＺＬＩ４７９２；メルク社製）を注入し、セル
を封止し液晶セル３０となした後、当該液晶セルの両面
に偏光板２４を貼り付け、さらにカラーフィルター基板
２０側にバックライトを配置して表示サイズ20型の透過
型液晶表示装置３１を完成させた。なお、液晶を注入し
た後に基板を４分割する方法を採用することもできる。
この場合には、４分割する前のそれぞれの領域に液晶が
注入できるように、液晶注入口を複数形成しておく必要
がある。Thereafter, a TN type liquid crystal 23 (ZLI4792; manufactured by Merck) is injected into the empty cell in a vacuum, and the cell is sealed to form a liquid crystal cell 30. Then, polarizing plates are provided on both sides of the liquid crystal cell. 24, and a backlight was arranged on the color filter substrate 20 side to complete a transmissive liquid crystal display device 31 of display size 20 type. Note that a method of dividing the substrate into four after injecting the liquid crystal can also be adopted.
In this case, it is necessary to form a plurality of liquid crystal injection ports so that liquid crystal can be injected into each area before the four divisions.
【００４３】ところで、液晶表示装置は、ディスプレイ
としての機能上、表示側基板面が外側に露出しているの
で、裏側基板に比較し外力を受け破損等し易いが、上記
液晶表示装置３１は裏側基板よりも表示側基板の厚みを
厚くしてある。したがって、表示側により強い衝撃が加
わっても破損しにくい一方、裏側基板には表示側に比べ
て薄い基板が使用されているので、装置質量の無用な増
加や無用なコストアップをもたらさない。つまり、この
構造であると、コストの大幅なアップを抑制しつつ必要
な耐衝撃性や安全性を確保できる。よって、この構造は
特に２０型以上の大型の液晶表示装置において有用とな
る。Since the liquid crystal display device functions as a display, the display side substrate surface is exposed to the outside. Therefore, the liquid crystal display device is easily damaged by an external force as compared with the rear substrate. The display-side substrate is made thicker than the substrate. Therefore, even if a strong impact is applied to the display side, it is hard to be damaged. On the other hand, since a substrate that is thinner than the display side is used for the back side substrate, unnecessary increase in the mass of the apparatus and unnecessary cost increase do not occur. That is, with this structure, necessary impact resistance and safety can be secured while suppressing a significant increase in cost. Therefore, this structure is particularly useful for a large-sized liquid crystal display device of 20 inches or more.
【００４４】ちなみに、厚さが０．７ｍｍの上記基板
（Corning7059 ）を両面に用いた液晶表示装置に比較
し、この実施例の表示装置の重量は２．３倍になった
が、上記液晶表示装置の耐衝撃性を１とすると、この実
施例の表示装置の対衝撃性は３．６（３．６倍）であっ
た。ここで、耐衝撃性は、ＪＩＳ Ｒ３２０５、３２０
６に記載の試験法に準する方法で評価した。Incidentally, the weight of the display device of this embodiment was 2.3 times that of the liquid crystal display device using the 0.7 mm thick substrate (Corning 7059) on both sides. Assuming that the impact resistance of the device is 1, the impact resistance of the display device of this example was 3.6 (3.6 times). Here, the impact resistance is measured according to JIS R3205, 320.
The evaluation was performed according to the test method described in 6.
【００４５】なお、上記実施例では、表示サイズが20型
の液晶表示装置用基板を４枚同時に作製できる大きさの
基板として、厚さが２．５ｍｍのガラス基板（表示側）
と、厚さが０．７ｍｍのガラス基板（裏側）を組み合わ
せた例を示したが、耐衝撃性を高めるには、表示側のガ
ラス基板の厚みを厚くするほどよい。しかし、ガラス基
板の厚みを厚くすると、装置質量が増加するので、必要
十分な厚みに止めるのがよい。In the above embodiment, a glass substrate having a thickness of 2.5 mm (display side) was used as a substrate capable of simultaneously producing four substrates for a liquid crystal display device having a display size of 20 inches.
And a glass substrate (back side) having a thickness of 0.7 mm are combined, but in order to improve the impact resistance, it is better to increase the thickness of the glass substrate on the display side. However, when the thickness of the glass substrate is increased, the mass of the apparatus increases, so it is preferable to limit the thickness to a necessary and sufficient thickness.
【００４６】ホウケイ酸ガラス板を使用した２０型以上
４５型以下の表示サイズの表示装置を用いて行った我々
の実験によると、２ｍｍ以上の厚みのガラス基板を用い
た装置では、表示面に公式試合で用いられるバレーボー
ルを１５ｍ／ｓの速度でぶつけても割れることが無かっ
た。その一方、液晶表示装置の通常の使用状態と、質量
の増加に伴うデメリットを考慮するとき、板厚が５ｍｍ
を越える基板を用いるのは無駄が多いことが判った。こ
れらのことから、２０型以上４５型以下の表示サイズの
表示装置においては、表示側のガラス基板を２ｍｍ以上
５ｍｍ以下とするのがよい。According to our experiments performed using a display device having a display size of 20 to 45 inches using a borosilicate glass plate, in a device using a glass substrate having a thickness of 2 mm or more, an Even if the volleyball used in the game was hit at a speed of 15 m / s, it did not break. On the other hand, when considering the normal use state of the liquid crystal display device and the disadvantages associated with the increase in mass, the plate thickness is 5 mm.
It has been found that it is wasteful to use a substrate exceeding the above. For these reasons, in a display device having a display size of 20 inches or more and 45 inches or less, it is preferable that the glass substrate on the display side be 2 mm or more and 5 mm or less.
【００４７】また、板厚が２ｍｍ以上５ｍｍ以下のホウ
ケイ酸ガラス板であると、ガラス板の表面に下層膜とし
て１００ナノメータ以上１０ミクロン以下の膜厚のチッ
化シリコン膜やシリカ膜を形成した後、この膜を介して
ＴＦＴアレイを形成した場合であっても、ＴＦＴアレイ
製造時の熱履歴によるガラス板のそりや変形が十分に小
さかった。ガラス板のそりや変形が少ないと、ＴＦＴア
レイ製造のためのホトマスクのアライメント精度や寸法
精度が向上するので、開口率を大きく設計することがで
き、この結果として最大８６％の開口率の液晶表示装置
が実現できた。つまり、大幅なコストアップを伴うこと
なく、従来の液晶表示装置に比べて高輝度で、高色表示
性に優れた液晶表示装置を製造できた。In the case of a borosilicate glass plate having a thickness of 2 mm or more and 5 mm or less, a silicon nitride film or a silica film having a thickness of 100 nm or more and 10 μm or less is formed as a lower film on the surface of the glass plate. Even when the TFT array was formed via this film, the warpage and deformation of the glass plate due to the heat history at the time of manufacturing the TFT array were sufficiently small. If the warpage or deformation of the glass plate is small, the alignment accuracy and dimensional accuracy of the photomask for manufacturing the TFT array are improved, so that the aperture ratio can be designed to be large, and as a result, the liquid crystal display having the maximum 86% aperture ratio The device has been realized. That is, it was possible to manufacture a liquid crystal display device having higher luminance and higher color display performance than the conventional liquid crystal display device without significantly increasing the cost.
【００４８】（実施例２）実施例２では、表示側基板を
カラーフィルター基板とし、この基板の厚みを３．２ｍ
ｍとしたこと、板厚０．７ｍｍの基板を裏側基板とし、
これにＴＦＴアレイを配置したこと、１枚のガラス板か
ら３０型（対角寸法３０インチ）の液晶表示装置用基板
を２枚同時に作製したこと以外については、前記実施例
１と同様にして、表示サイズ３0 型の透過型液晶表示装
置を作製した。そして、この装置についても、上記実施
例１の場合と同様な方法で耐衝撃試験を行った。その結
果、十分な耐衝撃性を有していることが確認された。Example 2 In Example 2, the display side substrate was a color filter substrate, and the thickness of this substrate was 3.2 m.
m, and a substrate with a plate thickness of 0.7 mm is used as a back side substrate,
Except that a TFT array was arranged thereon and that two 30-inch (30 inch diagonal dimensions) substrates for a liquid crystal display device were simultaneously manufactured from one glass plate, the same as in Example 1 was performed. A transmission type liquid crystal display device having a display size of 30 was prepared. This device was also subjected to an impact resistance test in the same manner as in Example 1 above. As a result, it was confirmed that the resin had sufficient impact resistance.
【００４９】この実施例では、板厚が厚い方の基板にカ
ラーフィルターを形成したが、板厚が厚いと剛性が増し
自重等による歪みが少なくなるので、遮光パターンに対
するアライメント精度や寸法精度が向上する。よって、
カラーフィルター基板の開口率を大きくでき、その結果
として高輝度、高色表示性に優れた液晶表示装置が得ら
れる。また、基板強度が強い分、遮光膜パターとして金
属クロム膜や酸化クロム膜を形成した場合における基板
のそりや変形が少ないので、表示安定性が向上する。In this embodiment, a color filter is formed on a substrate having a larger plate thickness. However, a thicker plate increases rigidity and reduces distortion due to its own weight and the like, thereby improving alignment accuracy and dimensional accuracy with respect to a light shielding pattern. I do. Therefore,
The aperture ratio of the color filter substrate can be increased, and as a result, a liquid crystal display device excellent in high luminance and high color display can be obtained. In addition, since the strength of the substrate is high, the warpage or deformation of the substrate when a metal chromium film or a chromium oxide film is formed as a light-shielding film pattern is small, so that the display stability is improved.
【００５０】（実施例３）実施例３では、ＴＦＴとカラ
ーフィルターセグメントがＴＦＴ基板の上に累積形成さ
れているカラーフィルターオンアレイ型液晶表示装置３
３を作製した。この装置の断面概念図を図４に示した。
なお、図４では、カラーフィルターオンＴＦＴアレイ基
板４０を表示側に配置した例を示したが、カラーフィル
ターオンＴＦＴアレイ基板が裏側に配置された構造であ
ってもよい。但し、この場合には表示側基板となる基板
１１の厚みを基板１よりも厚くする必要がある。(Embodiment 3) In Embodiment 3, a color filter-on-array type liquid crystal display device 3 in which TFTs and color filter segments are cumulatively formed on a TFT substrate.
3 was produced. FIG. 4 shows a conceptual sectional view of this apparatus.
Although FIG. 4 shows an example in which the color filter-on TFT array substrate 40 is arranged on the display side, a structure in which the color filter-on TFT array substrate is arranged on the back side may be used. However, in this case, the thickness of the substrate 11 serving as the display-side substrate needs to be larger than that of the substrate 1.
【００５１】上記カラーフィルターオンＴＦＴアレイ基
板の作製方法としては、実施例１と同様な方法で作製し
たＴＦＴアレイ基板（膜厚２．５ｍｍのガラス基板Corn
ing7059 を使用）に例えば二酸珪素からなる平坦化膜２
７を形成し、この上に赤色カラーフィルターセグメント
１３、緑色カラーフィルターセグメント１４、および図
示しない青色カラーフィルターセグメントを形成した。
他方、裏側基板としては、板厚０．７５ｍｍのガラス板
（Corning7059 ）に透明対向電極を形成した。次いで、
表示側基板と裏側基板を重ね合わて液晶セル３２を作製
し、さらに実施例１と同様にして透過型液晶表示装置３
３を完成させた。なお、この液晶表示装置３３は、実施
例１と同様の耐衝撃性を有していた。また、実施例１に
記載したと同様な理由により、両基板ともに０．７５ｍ
ｍの板厚のガラス基板を用いた表示装置に比較し、表示
画質が向上していた。The above-mentioned color filter-on TFT array substrate was manufactured in the same manner as in Example 1 by using a TFT array substrate (a glass substrate Corn having a thickness of 2.5 mm).
ing7059), for example, a flattening film 2 made of silicon dioxide.
7, and a red color filter segment 13, a green color filter segment 14, and a blue color filter segment (not shown) were formed thereon.
On the other hand, as the back substrate, a transparent counter electrode was formed on a glass plate (Corning 7059) having a thickness of 0.75 mm. Then
The display-side substrate and the back-side substrate are overlapped to form a liquid crystal cell 32, and the transmission type liquid crystal display device 3 is formed in the same manner as in the first embodiment.
3 was completed. The liquid crystal display device 33 had the same impact resistance as that of the first embodiment. Also, for the same reason as described in Example 1, both substrates have a thickness of 0.75 m.
The display image quality was improved as compared with a display device using a glass substrate having a thickness of m.
【００５２】（実施例４）板厚２．５ｍｍのガラス基板
１（Corning7059 ）上に公知の方法でＴＦＴとＴＦＴに
接続された画素電極と対向電極１５とを形成し、これを
表示側基板５０とした。他方、板厚０．７ｍｍのガラス
基板（Corning7059 ）に遮光膜１２を形成し、その上に
色素群（１３、１４等）を形成し、裏側基板（対向基
板）とした。そして、常法に従い両基板の表面に液晶配
向膜２２を形成し、配向膜が対向するようにして両基板
を組み合わせて図５に示すインプレーンスイッチング
（ＩＰＳ）型の液晶表示装置３５を作製した。なお、図
５の符号３４がインプレーンスイッチング型の液晶セル
部分である。(Embodiment 4) On a glass substrate 1 (Corning 7059) having a thickness of 2.5 mm, a TFT, a pixel electrode connected to the TFT, and a counter electrode 15 are formed by a known method. And On the other hand, a light-shielding film 12 was formed on a glass substrate (Corning 7059) having a thickness of 0.7 mm, and a group of dyes (13, 14, etc.) was formed thereon, thereby forming a back substrate (opposing substrate). Then, a liquid crystal alignment film 22 is formed on the surfaces of both substrates according to a conventional method, and the two substrates are combined so that the alignment films face each other to produce an in-plane switching (IPS) type liquid crystal display device 35 shown in FIG. . Reference numeral 34 in FIG. 5 denotes an in-plane switching type liquid crystal cell portion.
【００５３】この液晶装置３５は表示側基板１を裏側基
板１１よりも厚くしたことを除き、従来技術を用いて作
製できるものであるが、装置重量を勘案して従来の装置
と比較したとき、格段に耐衝撃性が向上し、かつ明度も
向上していた。The liquid crystal device 35 can be manufactured by using the conventional technique except that the display-side substrate 1 is made thicker than the back-side substrate 11, but when compared with the conventional device in consideration of the weight of the device, The impact resistance was remarkably improved, and the brightness was also improved.
【００５４】（実施例５）実施例１〜４では、板厚の異
なるホウケイ酸ガラス板を用い、板厚の厚い方を表示側
に配置する構成例を示したが、実施例５では、単位体積
当たりの強度が異なる２種類のガラス板を用い、強度の
強い方を表示側に配置する構成を採用した。具体的に
は、０．７５ｍｍのホウケイ酸ガラス板（Corning7059
）と、０．７５ｍｍのシリカガラス板（Corning7940
）を用いた。そして、強度の強いシリカガラス板にＴ
ＦＴアレイを形成し、前者に比べ強度の弱いホウケイ酸
ガラス板にカラーフィルターを形成した。その他の事項
については、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製
した。(Embodiment 5) In Embodiments 1 to 4, borosilicate glass plates having different plate thicknesses are used, and a configuration example in which the thicker plate is disposed on the display side has been described. A configuration was adopted in which two types of glass plates having different strengths per volume were used, and the stronger one was disposed on the display side. Specifically, a 0.75 mm borosilicate glass plate (Corning 7059)
) And a 0.75 mm silica glass plate (Corning7940)
) Was used. Then, T is applied to a strong silica glass plate.
An FT array was formed, and a color filter was formed on a borosilicate glass plate having a lower strength than the former. For other items, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1.
【００５５】この液晶表示装置について、実施例１と同
様にして耐衝撃性や表示明瞭性を調べた。その結果、十
分な耐衝撃性、表示明瞭性が実現できていた。よって、
裏側にまで高価なシリカガラス用いなくとも、表示装置
としての安全性や性能を十分に高めることができること
が判った。なお、この実施例ではシリカガラスを用いた
が強化ガラス等の強度の強いガラス板や樹脂板を用いて
もよい。With respect to this liquid crystal display device, impact resistance and display clarity were examined in the same manner as in Example 1. As a result, sufficient impact resistance and display clarity were realized. Therefore,
It has been found that the safety and performance of the display device can be sufficiently improved without using expensive silica glass on the back side. Although silica glass is used in this embodiment, a strong glass plate such as tempered glass or a resin plate may be used.
【００５６】（実施例６）まず、板厚０．７ｍｍで、表
示サイズが20型（対角寸法２０インチ）の液晶表示装置
用の基板を４枚同時に作製できる大きさのホウケイ酸ガ
ラスからなる透明のガラス板（寸法５５０ｍｍ×６５０
ｍｍ、コーニング社製Corning7059)を３枚用意し、この
内の１枚を４分割し、貼りつけ用として準備した。Example 6 First, a borosilicate glass having a thickness of 0.7 mm and a display size of 20 inches (20 inches diagonal) for a liquid crystal display device was manufactured. Transparent glass plate (Dimension 550mm x 650
mm, Corning Co., Ltd., Corning 7059) was prepared, and one of them was divided into four and prepared for pasting.
【００５７】他方、上記ガラス板を２枚、すなわち板厚
が同じ２枚のガラス板を用いて、前記実施例１と同様な
方法により液晶セルを作製した。そして、この液晶セル
の両外面のうち、ＴＦＴが形成された基板面（ＴＦＴア
レイ基板面）のみに先に準備した貼りつけ用ガラス板を
透明接着剤を用いて貼りつけた。これにより、ＴＦＴア
レイ基板の方がカラーフィルター基板よりも厚い液晶セ
ルが形成されるので、このセルの両面に偏光板を配置
し、さらにカラーフィルター基板側にバックライトを配
置して、ＴＦＴアレイ基板側を表示側とし、表示側基板
が厚いことを特徴とする透過型液晶表示装置を完成させ
た。On the other hand, a liquid crystal cell was manufactured in the same manner as in Example 1 using two glass plates, ie, two glass plates having the same thickness. Then, of both outer surfaces of the liquid crystal cell, the previously prepared bonding glass plate was bonded to only the substrate surface on which the TFT was formed (TFT array substrate surface) using a transparent adhesive. As a result, a liquid crystal cell in which the TFT array substrate is thicker than the color filter substrate is formed. Therefore, a polarizing plate is disposed on both sides of the cell, and a backlight is disposed on the color filter substrate side. The transmission type liquid crystal display device was characterized in that the display side was the display side and the display side substrate was thick.
【００５８】なお、上記では板厚および材質の同じ３枚
のガラス板を用いたが、板厚および／または材質がそれ
ぞれ異なる３枚のガラス板を用いてもよい。例えば、
０．７ｍｍのホウケイ酸ガラスを裏側基板とし、表示側
基板が０．７ｍｍのホウケイ酸ガラスに０．４ｍｍのシ
リカガラスを貼りつけた貼り合わせ基板としてもよい。
また、上記では、ＴＦＴアレイ基板を表示側としたが、
これに限られるものではなく、表示側の基板が裏側より
も厚くなるように２枚以上の基板を貼り合わせた貼り合
わせ基板であればよい。Although three glass plates having the same thickness and material are used in the above description, three glass plates having different thicknesses and / or materials may be used. For example,
0.7 mm borosilicate glass may be used as the back substrate, and the display substrate may be a bonded substrate obtained by attaching 0.4 mm silica glass to 0.7 mm borosilicate glass.
In the above description, the TFT array substrate is used as the display side.
However, the present invention is not limited to this, and it may be a bonded substrate obtained by bonding two or more substrates so that the display side substrate is thicker than the back side.
【００５９】（実施例７）実施例６ではＴＦＴが形成さ
れた基板面（表示側の面）に別途で用意したガラス板を
貼りつけたが、この実施例７では、表示側面に先ず偏光
板を貼り付けた後、この偏光板の上に別途で準備したガ
ラス板を貼り付けた。そして、その他の事項については
実施例６と同様にして表示側の基板を裏側基板よりも厚
く構成した透過型の液晶表示装置を作製した。(Embodiment 7) In Embodiment 6, a separately prepared glass plate was attached to the substrate surface (display side surface) on which the TFT was formed. In Embodiment 7, first, a polarizing plate was attached to the display side surface. Was adhered, and a separately prepared glass plate was adhered on the polarizing plate. In other respects, a transmissive liquid crystal display device having a display-side substrate thicker than a back-side substrate was manufactured in the same manner as in Example 6.
【００６０】液晶セルを組み立てた後に、偏光板を介し
て基板同士が接着してなる複合基板となすこの製法であ
ると、簡便に表示画面の耐衝撃強度を向上させることが
できるとともに、偏光板がその外側の基板で保護される
ので、表示装置としての信頼性、安全性が格段に向上し
た。なお、上記構成例ではＴＦＴアレイ基板を表示側と
したが、これに限られるものではないことは実施例６と
同様である。According to this manufacturing method, a composite substrate is formed by bonding substrates through a polarizing plate after assembling a liquid crystal cell, whereby the impact resistance of the display screen can be easily improved, and the polarizing plate can be easily formed. Is protected by the outer substrate, so that the reliability and safety of the display device are remarkably improved. In the above configuration example, the TFT array substrate is on the display side, but the present invention is not limited to this, as in the sixth embodiment.
【００６１】（実施例８）上記実施例８は、液晶セルの
表示側に先ず透明な樹脂板を接着し、しかる後に別途で
用意したガラス板を貼りつけたこと以外は、実施例７と
同様にして透過型の液晶表示装置を作製した。この装置
の表示側の耐衝撃性を調べたところ、ガラス板のみを複
数枚重ね合わせた場合に比較し、一段と耐衝撃性が高ま
っていた。この理由としては、異質な材質、すなわち樹
脂に比較し硬度が大きいガラス板と、柔らかく弾性に富
む樹脂板とが都合よく作用し合って、衝撃力を和らげた
ものと考えられる。Example 8 Example 8 is the same as Example 7 except that a transparent resin plate was first adhered to the display side of the liquid crystal cell, and then a separately prepared glass plate was adhered. Thus, a transmission type liquid crystal display device was manufactured. When the impact resistance of the display side of this device was examined, it was found that the impact resistance was further improved as compared with the case where only a plurality of glass plates were stacked. The reason for this is considered to be that a different material, that is, a glass plate having a higher hardness than a resin, and a soft and elastic resin plate interact with each other conveniently to reduce the impact force.
【００６２】ここで、上記樹脂板としては、例えばポリ
カーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レン、ナイロン等の種々の材質のものを使用することが
できる。なお、本明細書では、中間に材質の異なる基板
（偏光板または樹脂板など）を挟んで、基板同士を接着
したもの複合基板と称する。Here, as the resin plate, those made of various materials such as polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene, and nylon can be used. In this specification, a composite substrate obtained by bonding substrates with a substrate (a polarizing plate, a resin plate, or the like) of a different material interposed therebetween is referred to as a composite substrate.
【００６３】（その他の事項） （１）実施例１〜８においては、液晶セルの基本構成材
としてガラス板を用いたが、ガラス板に代えて樹脂板を
用いることもできる。この場合、実施例８においては、
例えば表示側の樹脂板にガラス板を介してさらに樹脂板
を貼り合わせることになる。(Other Matters) (1) In Examples 1 to 8, a glass plate was used as a basic component of the liquid crystal cell, but a resin plate may be used instead of the glass plate. In this case, in Example 8,
For example, a resin plate is further bonded to the display side resin plate via a glass plate.
【００６４】（２）本発明は表示側の基板の厚みや強度
に特徴を有する発明であるので、その他の事項、例えば
ＴＦＴの作製方法、カラーフィルターの作製方法、液晶
の注入方法等については従来より公知の方法を用いれば
よい。また、本発明は、透過型液晶表示装置のみならず
反射型の液晶表示装置にも適用することができる。な
お、樹脂板上にＴＦＴを形成するには、例えば公知の低
温プロセス法によるシリコン多結晶化技術を用いればよ
い。(2) Since the present invention is characterized by the thickness and strength of the substrate on the display side, other items such as a method for manufacturing a TFT, a method for manufacturing a color filter, a method for injecting a liquid crystal, and the like are conventionally known. A more known method may be used. Further, the present invention can be applied to not only a transmission type liquid crystal display device but also a reflection type liquid crystal display device. In order to form a TFT on a resin plate, for example, a silicon polycrystallization technique by a known low-temperature process method may be used.
【００６５】[0065]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、簡便な
手段でもって実用上の安全性に優れ、かつ表示安定性や
色表示性や輝度性にも優れた液晶表示装置を実現するこ
とができる。As described above, according to the present invention, a liquid crystal display device which is excellent in practical safety and excellent in display stability, color display properties and luminance can be realized by simple means. be able to.
【００６６】また、本発明製造方法によれば、上記のよ
うな液晶表示装置を低コストで提供できる。Further, according to the manufacturing method of the present invention, the above-mentioned liquid crystal display device can be provided at low cost.
【図１】本発明の実施例１におけるＴＦＴアレイ基板の
断面概念図である。FIG. 1 is a conceptual sectional view of a TFT array substrate according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施例１におけるカラーフィルター基
板の断面概念図である。FIG. 2 is a conceptual sectional view of a color filter substrate according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の実施例１における液晶表示装置の断面
概念図である。FIG. 3 is a conceptual sectional view of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図４】本発明の他の実施例における、ＴＦＴとカラー
フィルターが表示側基板に形成されているカラーフィル
ターオンアレイ型液晶表示装置の断面概念図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a color filter-on-array type liquid crystal display device in which a TFT and a color filter are formed on a display-side substrate according to another embodiment of the present invention.
【図５】本発明の他の実施例における、表示側基板表面
にＴＦＴとこれに接続する画素電極と対向電極とが形成
されたＩＰＳ型液晶表示装置の断面概念図である。FIG. 5 is a conceptual cross-sectional view of an IPS-type liquid crystal display device in which a TFT, a pixel electrode connected thereto, and a counter electrode are formed on a display-side substrate surface according to another embodiment of the present invention.
１ ガラス基板（厚い方） ２ 下層膜 ３ アモルファスシリコン層 ４ ゲート電極 ５ 半導体膜 ５' ｎ＋層 ６ パシベーション膜 ７ ソース配線 ８ ドレイン配線 ８’ 画素電極 １０ ＴＦＴアレイ基板 １１ 裏側ガラス基板（薄い方） １２ 遮光膜 １３ 赤色フィルター １４ 緑色フィルター １５ 透明対向電極 ２０ カラーフィルター基板 ２２ 液晶配向膜 ２３ ＴＮ液晶 ２４ 偏光板 ２５ バックライト側 ２６ 表示側 ３０、３２、３４ 液晶セル ３１、３３、３５ 液晶表示装置 ４０、５０ 表示側基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate (thick) 2 Lower layer 3 Amorphous silicon layer 4 Gate electrode 5 Semiconductor film 5 'n + layer 6 Passivation film 7 Source wiring 8 Drain wiring 8' Pixel electrode 10 TFT array substrate 11 Back glass substrate (Thinner) 12 Light shielding film 13 Red filter 14 Green filter 15 Transparent counter electrode 20 Color filter substrate 22 Liquid crystal alignment film 23 TN liquid crystal 24 Polarizer 25 Backlight side 26 Display side 30, 32, 34 Liquid crystal cell 31, 33, 35 Liquid crystal display device 40, 50 Display side substrate
Claims (34)
膜トランジスターに接続された画素電極とが形成された
第１の基板と、少なくともカラーフィルター層と対向電
極とが形成された第２の基板とが、それぞれの電極面を
内側にし所定のギャップをもって対向され、かつ前記ギ
ャップ内に液晶が封入されてなる液晶セルを備え、 前記液晶セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、
当該表示側基板の厚みがこれに対向する基板の厚みより
も大きいことを特徴とする液晶表示装置。A first substrate on which at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are formed, and a second substrate on which at least a color filter layer and a counter electrode are formed, A liquid crystal cell in which a liquid crystal is sealed in the gap with the electrode surface inside, and one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side;
A liquid crystal display device, wherein the thickness of the display-side substrate is larger than the thickness of the substrate facing the display-side substrate.
膜トランジスターに接続された画素電極と前記画素電極
上の積層されたカラーフィルター層とが形成された第１
の基板と、少なくとも対向電極が形成された第２の基板
とが、それぞれの電極面を内側にし所定のギャップをも
って対向され、かつ前記ギャップ内に液晶が封入されて
なる液晶セルを備え、 前記液晶セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、
当該表示側基板の厚みがこれに対向する基板の厚みより
も大きいことを特徴とする液晶表示装置。2. A first electrode having at least a thin film transistor, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a color filter layer laminated on the pixel electrode.
A liquid crystal cell comprising a substrate, and a second substrate on which at least a counter electrode is formed, facing each other with a predetermined gap with each electrode surface inside, and a liquid crystal sealed in the gap; One of the outer surfaces of the cell is the display side,
A liquid crystal display device, wherein the thickness of the display-side substrate is larger than the thickness of the substrate facing the display-side substrate.
において、 前記表示側の基板が、複数の透明基板を接着した貼り合
わせ基板からなることを特徴とする液晶表示装置。3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the display-side substrate is a bonded substrate obtained by bonding a plurality of transparent substrates.
において、 前記表示側の基板が、２枚の透明基板の間に偏光板を挟
んで貼り合わせた複合基板からなることを特徴とする液
晶表示装置。4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the display-side substrate is a composite substrate in which a polarizing plate is sandwiched between two transparent substrates. Liquid crystal display.
において、 前記表示側の基板が、２枚の透明ガラス板の間に透明樹
脂板を挟んで貼り合わせた複合基板からなることを特徴
とする液晶表示装置。5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the display-side substrate is a composite substrate in which a transparent resin plate is sandwiched between two transparent glass plates. Liquid crystal display.
において、 前記表示側の基板が、薄膜トランジスターの形成された
前記第１の基板であることを特徴とする液晶表示装置。6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the substrate on the display side is the first substrate on which a thin film transistor is formed.
において、 前記表示側の基板が、厚み２ｍｍ以上５ｍｍ以下のホウ
ケイ酸ガラス板からなことを特徴とする液晶表示装置。7. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the substrate on the display side is made of a borosilicate glass plate having a thickness of 2 mm or more and 5 mm or less.
て、 前記表示側の基板が、薄膜トランジスターの形成された
前記第１の基板であり、当該薄膜トランジスターが、１
００ナノメータ以上、１０ミクロン以下の膜厚の下層膜
を介して形成されていることを特徴とする液晶表示装
置。8. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the display-side substrate is the first substrate on which a thin film transistor is formed, and
A liquid crystal display device formed through a lower layer film having a thickness of not less than 00 nanometers and not more than 10 microns.
において、 前記表示側の画像表示面が方形であり、その対角寸法が
２０インチ以上であることを特徴とする液晶表示装置。9. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the image display surface on the display side is rectangular, and a diagonal dimension thereof is 20 inches or more.
薄膜トランジスターに接続された画素電極と前記画素電
極に離隔する対向電極とが形成された第１の基板と、第
２の基板とが、電極面を内側にし所定のギャップをもっ
て対向され、かつ前記ギャップ内に液晶が封入されてな
るインプレーンスイッチ型の液晶セルを備え、 前記液晶セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、
当該表示側基板の厚みがこれに対向する基板の厚みより
も大きいことを特徴とする液晶表示装置。10. A first substrate on which at least a thin film transistor, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a counter electrode separated from the pixel electrode are formed, and a second substrate having an electrode surface inside. A liquid crystal cell of an in-plane switch type which is opposed with a predetermined gap, and in which liquid crystal is sealed in the gap, one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side,
A liquid crystal display device, wherein the thickness of the display-side substrate is larger than the thickness of the substrate facing the display-side substrate.
いて、 前記表示側の基板は、複数の透明基板を接着した貼り合
わせ基板からなることを特徴とするインプレーンスイッ
チ型の液晶表示装置。11. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 10, wherein the substrate on the display side comprises a bonded substrate obtained by bonding a plurality of transparent substrates.
ッチ型の液晶表示装置において、 前記表示側の基板は、２枚の透明基板の間に偏光板を挟
んで貼り合わせた複合基板からなることを特徴とするイ
ンプレーンスイッチ型の液晶表示装置。12. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 10, wherein the display-side substrate is a composite substrate in which a polarizing plate is sandwiched between two transparent substrates. Characterized in-plane switch type liquid crystal display device.
ッチ型の液晶表示装置において、 前記表示側の基板は、２枚の透明ガラス基板の間に透明
樹脂板を挟んで貼り合わせた複合基板からなることを特
徴とするインプレーンスイッチ型の液晶表示装置。13. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 10, wherein the display-side substrate is a composite substrate in which a transparent resin plate is sandwiched between two transparent glass substrates. An in-plane switch type liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
レーンスイッチ型の液晶表示装置において、 前記表示側の基板が、薄膜トランジスターの形成された
前記第１の基板であることを特徴とするインプレーンス
イッチ型の液晶表示装置。14. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 10, wherein the display-side substrate is the first substrate on which a thin film transistor is formed. Switch type liquid crystal display device.
ッチ型の液晶表示装置において、 前記表示側の基板は、厚み２ｍｍ以上５ｍｍ以下のホウ
ケイ酸ガラス板からなるなることを特徴とするインプレ
ーンスイッチ型の液晶表示装置。15. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 10, wherein the display-side substrate is made of a borosilicate glass plate having a thickness of 2 mm or more and 5 mm or less. Liquid crystal display device.
ッチ型の液晶表示装置において、 前記表示側の基板は、薄膜トランジスターの形成された
前記第１の基板であり、当該薄膜トランジスターは、１
００ナノメータ以上、１０ミクロン以下の膜厚の下層膜
を介して形成されていることを特徴とするインプレーン
スイッチ型の液晶表示装置。16. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 15, wherein the display-side substrate is the first substrate on which a thin film transistor is formed, and
An in-plane switch type liquid crystal display device, wherein the liquid crystal display device is formed through a lower film having a thickness of not less than 00 nanometers and not more than 10 microns.
レーンスイッチ型の液晶表示装置において、 前記表示側の画像表示面が方形であり、その対角寸法が
２０インチ以上であることを特徴とするインプレーンス
イッチ型の液晶表示装置。17. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 10, wherein the image display surface on the display side is rectangular and has a diagonal dimension of 20 inches or more. In-plane switch type liquid crystal display device.
レーンスイッチ型の液晶表示装置において、 前記第１の基板の画素電極及び対向電極の上には更にカ
ラーフィルター層が形成されていることを特徴とするイ
ンプレーンスイッチ型の液晶表示装置。18. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 10, wherein a color filter layer is further formed on the pixel electrode and the counter electrode of the first substrate. In-plane switch type liquid crystal display device.
レーンスイッチ型の液晶表示装置において、 前記第２の基板には、カラーフィルター層が形成さ
れ、、当該カラーフィルター面が第１の基板の電極面と
対向していることを特徴とするインプレーンスイッチ型
の液晶表示装置。19. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 10, wherein a color filter layer is formed on the second substrate, and the color filter surface is an electrode of the first substrate. An in-plane switch type liquid crystal display device characterized by being opposed to a surface.
薄膜トランジスターに接続された画素電極とが形成され
た第１の基板と、少なくともカラーフィルター層と対向
電極とが形成された第２の基板とが、それぞれの電極面
を内側にし所定のギャップをもって対向され、かつ前記
ギャップ内に液晶が封入されてなる液晶セルを備え、 前記液晶セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、
当該表示側基板の単位体積当たりの強度がこれに対向す
る基板の単位体積当たりの強度よりも大きいことを特徴
とする液晶表示装置。20. A first substrate on which at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are formed, and a second substrate on which at least a color filter layer and a counter electrode are formed, A liquid crystal cell in which a liquid crystal is sealed in the gap with the electrode surface inside, and one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side;
A liquid crystal display device, wherein the strength of the display-side substrate per unit volume is higher than the strength of the opposing substrate per unit volume.
薄膜トランジスターに接続された画素電極と前記画素電
極上の積層されたカラーフィルター層とが形成された第
１の基板と、少なくとも対向電極が形成された第２の基
板とが、それぞれの電極面を内側にし所定のギャップを
もって対向され、かつ前記ギャップ内に液晶が封入され
てなる液晶セルを備え、 前記液晶セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、
当該表示側基板の単位体積当たりの強度がこれに対向す
る基板の単位体積当たりの強度よりも大きいことを特徴
とする液晶表示装置。21. A first substrate on which at least a thin film transistor, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a color filter layer laminated on the pixel electrode are formed, and a second substrate on which at least a counter electrode is formed. A liquid crystal cell in which a liquid crystal is sealed in the gap with the respective electrode surfaces inside, and one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is on the display side. Yes,
A liquid crystal display device, wherein the strength of the display-side substrate per unit volume is higher than the strength of the opposing substrate per unit volume.
示装置において、 前記表示側の基板が、薄膜トランジスターの形成された
前記第１の基板である。22. The liquid crystal display device according to claim 20, wherein the display-side substrate is the first substrate on which a thin film transistor is formed.
薄膜トランジスターに接続された画素電極と前記画素電
極に離隔する対向電極とが形成された第１の基板と、第
２の基板とが、電極面を内側にし所定のギャップをもっ
て対向され、かつ前記ギャップ内に液晶が封入されてな
るインプレーンスイッチ型の液晶セルを備え、 前記液晶セルの両外側面の何れか一方が表示側であり、
当該表示側基板の単位体積当たりの強度がこれに対向す
る基板の単位体積当たりの強度よりも大きいことを特徴
とするインプレーンスイッチ型の液晶表示装置。23. A first substrate on which at least a thin film transistor, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a counter electrode separated from the pixel electrode are formed, and a second substrate having an electrode surface inside. A liquid crystal cell of an in-plane switch type which is opposed with a predetermined gap, and in which liquid crystal is sealed in the gap, one of both outer surfaces of the liquid crystal cell is a display side,
An in-plane switch type liquid crystal display device, wherein the strength of the display-side substrate per unit volume is higher than the strength of the opposing substrate per unit volume.
いて、 前記第１の基板の画素電極及び対向電極の上には更にカ
ラーフィルター層が形成されていることを特徴とするイ
ンプレーンスイッチ型の液晶表示装置。24. The in-plane switch type liquid crystal display device according to claim 23, wherein a color filter layer is further formed on the pixel electrode and the counter electrode of the first substrate. Liquid crystal display.
いて、 前記第２の基板には、カラーフィルター層が形成さ
れ、、当該カラーフィルター面が第１の基板の電極面と
対向していることを特徴とするインプレーンスイッチ型
の液晶表示装置。25. The liquid crystal display device according to claim 23, wherein a color filter layer is formed on the second substrate, and the color filter surface faces the electrode surface of the first substrate. An in-plane switch type liquid crystal display device characterized by the following.
みの厚い方の基板に、少なくとも薄膜トランジスターと
前記薄膜トランジスターに接続された画素電極とを形成
するＴＦＴアレイ基板作製工程と、 厚さの薄いもう一方の基板に、少なくとも透明対向電極
を形成する対向基板形成工程と、 前記ＴＦＴアレイ基板と前記対向基板とを電極面を内側
にし所定のギャップをもって対向させる工程と、 前記ギャップ内に液晶を封入する液晶セル組立工程と前
記液晶セルの両外側面に偏光板を配置する工程と、 前記偏光板の配置された液晶セルの対向基板側にバック
ライトを配置する工程と、 を備える液晶表示装置の製造方法。26. A TFT array substrate manufacturing step in which two substrates having different thicknesses are prepared, and at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are formed on the thicker substrate. A counter substrate forming step of forming at least a transparent counter electrode on the other thin substrate; a step of opposing the TFT array substrate and the counter substrate with a predetermined gap with the electrode surface inside; A liquid crystal cell assembling step of enclosing the liquid crystal, a step of disposing polarizing plates on both outer surfaces of the liquid crystal cell, and a step of disposing a backlight on a counter substrate side of the liquid crystal cell on which the polarizing plate is disposed. A method for manufacturing a display device.
し、前記第１の基板に少なくとも薄膜トランジスターと
前記薄膜トランジスターに接続された画素電極とを形成
するＴＦＴアレイ基板作製工程と、 前記第２の基板に、少なくとも透明対向電極を形成する
対向基板形成工程と、 前記ＴＦＴアレイ基板と前記対向基板とを電極面を内側
にし所定のギャップをもって対向させる工程と、 前記ギャップ内に液晶を封入する液晶セル組立工程と前
記液晶セルのＴＦＴアレイ基板の外側面に前記第３の基
板を貼り合わせて、全板厚を前記第２の基板よりも厚く
する貼り合わせ工程と、 前記貼り合わせ工程後の液晶セルの両外側面に偏光板を
配置する工程と、 前記偏光板の配置された対向基板側にバックライトを配
置する工程と、 を備える液晶表示装置の製造方法。27. A TFT array substrate manufacturing step in which first, second and third substrates are prepared and at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are formed on the first substrate. An opposing substrate forming step of forming at least a transparent opposing electrode on the second substrate; a step of opposing the TFT array substrate and the opposing substrate with a predetermined gap with the electrode surface inside; A liquid crystal cell assembling step of enclosing liquid crystal, a bonding step of bonding the third substrate to an outer surface of a TFT array substrate of the liquid crystal cell, and a total thickness greater than that of the second substrate; A liquid crystal display comprising: a step of arranging polarizing plates on both outer surfaces of the liquid crystal cell after the alignment step; and a step of arranging a backlight on the side of the opposing substrate on which the polarizing plates are arranged. Device manufacturing method.
造方法において、 前記第１、第２、第３の基板は、ガラス製でかつ厚さが
同一であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。28. The method according to claim 27, wherein the first, second, and third substrates are made of glass and have the same thickness. Manufacturing method.
造方法において、 第１の基板と第３の基板とは、材質が異なることを特徴
とする液晶表示装置の製造方法。29. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 27, wherein the first substrate and the third substrate are made of different materials.
造方法において、 第１の基板または第３の基板の何れか一方がガラス板で
あり、他方が樹脂板であることを特徴とする液晶表示装
置の製造方法。30. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 29, wherein one of the first substrate and the third substrate is a glass plate and the other is a resin plate. A method for manufacturing a display device.
し、前記第１の基板に、少なくとも薄膜トランジスター
と前記薄膜トランジスターに接続された画素電極とを形
成するＴＦＴアレイ基板作製工程と、 前記第２の基板に、少なくとも透明対向電極を形成する
対向基板形成工程と、 前記ＴＦＴアレイ基板と前記対向基板とを電極面を内側
にし所定のギャップをもって対向させる工程と、 前記ギャップ内に液晶を封入する液晶セル組立工程と前
記液晶セルのＴＦＴアレイ基板の外側面に偏光板を貼り
合わせ、さらにその上に前記第３の基板を貼り合わせて
全板厚を前記第２の基板よりも厚くする貼り合わせ工程
と、 前記対向基板の外側面に偏光板を配置する工程と、 前記偏光板の配置された対向基板側にバックライトを配
置する工程と、 を備える液晶表示装置の製造方法。31. Fabrication of a TFT array substrate in which first, second and third substrates are prepared and at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor are formed on the first substrate. A step of forming at least a transparent counter electrode on the second substrate; a step of causing the TFT array substrate and the counter substrate to face each other with a predetermined gap with the electrode surface inside; A liquid crystal cell assembling step of enclosing liquid crystal in the liquid crystal cell, a polarizing plate is attached to the outer surface of the TFT array substrate of the liquid crystal cell, and the third substrate is further attached thereon to reduce the total thickness from the second substrate. A thickening step, a step of disposing a polarizing plate on the outer surface of the counter substrate, and a step of disposing a backlight on the side of the counter substrate on which the polarizing plate is disposed. The manufacturing method of the liquid crystal display device provided.
造方法において、 少なくとも前記第１の基板と前記第３の基板がガラス製
であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。32. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 31, wherein at least the first substrate and the third substrate are made of glass.
と材質の異なる第３の基板と、前記第１の基板と材質が
同じ第４の基板の４枚の基板を準備し、前記第１の基板
に、少なくとも薄膜トランジスターと前記薄膜トランジ
スターに接続された画素電極とを形成するＴＦＴアレイ
基板作製工程と、 前記第２の基板に、少なくとも透明対向電極を形成する
対向基板形成工程と、 前記ＴＦＴアレイ基板と前記対向基板とを電極面を内側
にし所定のギャップをもって対向させる工程と、 前記ギャップ内に液晶を封入する液晶セル組立工程と、 前記液晶セルのＴＦＴアレイ基板の外側面に前記第３の
基板を貼り合わせ、さらにその上に前記第４の基板を貼
り合わせて全板厚を前記第２の基板よりも厚くする貼り
合わせ工程と、 前記対向基板の外側面に偏光板を配置する工程と、 前記偏光板の配置された対向基板側にバックライトを配
置する工程と、 を備える液晶表示装置の製造方法。33. Prepare four substrates, a first and a second substrate, a third substrate having a different material from the first substrate, and a fourth substrate having the same material as the first substrate. A TFT array substrate forming step of forming at least a thin film transistor and a pixel electrode connected to the thin film transistor on the first substrate; and a counter substrate forming step of forming at least a transparent counter electrode on the second substrate. A step of facing the TFT array substrate and the counter substrate with a predetermined gap with the electrode surface inside, a liquid crystal cell assembling step of filling liquid crystal in the gap, and an outer surface of the TFT array substrate of the liquid crystal cell A bonding step of bonding the third substrate to the third substrate, and further bonding the fourth substrate thereon, so that the total thickness of the third substrate is greater than that of the second substrate. Method of manufacturing a liquid crystal display device comprising disposing a polarizing plate, placing a backlight arranged counter substrate side of the polarizing plate, the.
方法において、 前記第１の基板がガラス製であり、前記第３の基板が樹
脂製であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。34. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 31, wherein said first substrate is made of glass and said third substrate is made of resin. Method.
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| JP2000196433A JP2001075079A (en) | 1999-07-06 | 2000-06-29 | Liquid crystal display device and its production |
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005172881A (en) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Substrate for liquid crystal display |
| JP2008003217A (en) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Asahi Glass Co Ltd | Display panel |
| JP2010102010A (en) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display panel |
| WO2010071042A1 (en) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | シャープ株式会社 | Liquid crystal display device |
| JP2014194802A (en) * | 2006-06-09 | 2014-10-09 | Apple Inc | Touch screen liquid crystal display |
| US9268429B2 (en) | 2006-06-09 | 2016-02-23 | Apple Inc. | Integrated display and touch screen |
| US9454277B2 (en) | 2004-05-06 | 2016-09-27 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
| US9710095B2 (en) | 2007-01-05 | 2017-07-18 | Apple Inc. | Touch screen stack-ups |
| US9727193B2 (en) | 2010-12-22 | 2017-08-08 | Apple Inc. | Integrated touch screens |
-
2000
- 2000-06-29 JP JP2000196433A patent/JP2001075079A/en active Pending
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005172881A (en) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Substrate for liquid crystal display |
| US11604547B2 (en) | 2004-05-06 | 2023-03-14 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
| US10908729B2 (en) | 2004-05-06 | 2021-02-02 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
| US10331259B2 (en) | 2004-05-06 | 2019-06-25 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
| US9454277B2 (en) | 2004-05-06 | 2016-09-27 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
| US9244561B2 (en) | 2006-06-09 | 2016-01-26 | Apple Inc. | Touch screen liquid crystal display |
| US10976846B2 (en) | 2006-06-09 | 2021-04-13 | Apple Inc. | Touch screen liquid crystal display |
| JP2014194802A (en) * | 2006-06-09 | 2014-10-09 | Apple Inc | Touch screen liquid crystal display |
| US9575610B2 (en) | 2006-06-09 | 2017-02-21 | Apple Inc. | Touch screen liquid crystal display |
| US11886651B2 (en) | 2006-06-09 | 2024-01-30 | Apple Inc. | Touch screen liquid crystal display |
| US10191576B2 (en) | 2006-06-09 | 2019-01-29 | Apple Inc. | Touch screen liquid crystal display |
| US11175762B2 (en) | 2006-06-09 | 2021-11-16 | Apple Inc. | Touch screen liquid crystal display |
| US9268429B2 (en) | 2006-06-09 | 2016-02-23 | Apple Inc. | Integrated display and touch screen |
| JP2008003217A (en) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Asahi Glass Co Ltd | Display panel |
| US9710095B2 (en) | 2007-01-05 | 2017-07-18 | Apple Inc. | Touch screen stack-ups |
| US10521065B2 (en) | 2007-01-05 | 2019-12-31 | Apple Inc. | Touch screen stack-ups |
| JP2010102010A (en) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display panel |
| WO2010071042A1 (en) * | 2008-12-19 | 2010-06-24 | シャープ株式会社 | Liquid crystal display device |
| US10409434B2 (en) | 2010-12-22 | 2019-09-10 | Apple Inc. | Integrated touch screens |
| US9727193B2 (en) | 2010-12-22 | 2017-08-08 | Apple Inc. | Integrated touch screens |
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