JP2001051408A - Photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Photosensitive planographic printing plate

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JP2001051408A
JP2001051408A JP11229890A JP22989099A JP2001051408A JP 2001051408 A JP2001051408 A JP 2001051408A JP 11229890 A JP11229890 A JP 11229890A JP 22989099 A JP22989099 A JP 22989099A JP 2001051408 A JP2001051408 A JP 2001051408A
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JP
Japan
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group
methacrylate
acid
methacrylamide
printing plate
Prior art date
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Abandoned
Application number
JP11229890A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Fujita
和男 藤田
Shiro Tan
史郎 丹
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive planographic printing plate excellent in chemical resistance, having high printing resistance even when printing with UV ink (UV-curing ink) is carried out without burning, also having a wide development latitude and causing no stain in development with respect to a photosensitive planographic printing plate developable with an aqueous alkali developing solution, excellent in wear resistance and having high printing resistance. SOLUTION: The photosensitive planographic printing plate has a photosensitive layer containing a vinyl polymer type high molecular compound insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution and o-naphthoquinone diazido. The vinyl polymer type high molecular compound is a copolymer containing a monomer A having a sulfonamido group and a monomer B having an alcoholic hydroxyl group.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版に
関するものである。更に詳しくは、ポジ型に作用する感
光性化合物と、耐摩耗性、耐薬品性に優れた高分子化合
物からなる感光層を有し、現像条件の範囲が広く、印刷
時に汚れを生じない感光性平版印刷版に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate. More specifically, it has a photosensitive layer that consists of a photosensitive compound that acts positively and a polymer compound that has excellent abrasion resistance and chemical resistance. It relates to a lithographic printing plate.

【０００２】[0002]

【従来の技術】ｏ−ナフトキノンジアジド化合物とノボ
ラック型フェノール樹脂からなる感光性組成物は、非常
に優れた感光性組成物として平版印刷版の製造やフォト
レジストとして工業的に用いられてきた。しかし主体と
して用いられるノボラック型フェノール樹脂は、その性
質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろいこ
と、塗布性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印刷版に
用いた時の耐刷が十分でないこと、さらに耐薬品性に乏
しく、特にＵＶインキを使用すると耐刷力が極めて不十
分である等の改良すべき点がある。2. Description of the Related Art A photosensitive composition comprising an o-naphthoquinonediazide compound and a novolak-type phenol resin has been industrially used as a very excellent photosensitive composition for producing a lithographic printing plate or as a photoresist. However, the novolak type phenol resin used as the main component has poor adhesion to the substrate due to its properties, the film is brittle, the coating properties are poor, the wear resistance is poor, and the printing durability when used for lithographic printing plates is poor. There are points to be improved, such as insufficient ink resistance, poor chemical resistance, and particularly inadequate press life when using UV ink.

【０００３】これらの諸性能を向上させる方法としては
バーニング処理（露光、現像後、加熱処理する事）が一
般的に用いられている。しかし、バーニング処理を行う
と、画像部の感光層から低分子化合物が昇華して非画像
部に付着し、印刷時に汚れが生じやすくなるという問題
がある。また、かかる問題を解決するため種々の高分子
化合物が、バインダーとして検討されてきた。たとえば
特公昭５２−４１０５０号公報に記載されているポリヒ
ドロキシスチレンまたはヒドロキシスチレン共重合体は
確かに被膜性が改良されたが、耐摩耗性、耐薬品性が劣
るという欠点を有していた。また、特開昭５１−３４７
１１号公報中にはアクリル酸誘導体の構造単位を分子構
造中に有する高分子化合物をバインダーとして用いるこ
とが提案されているが、かかる高分子化合物は適正な現
像条件の範囲が狭く、また耐摩耗性も十分でないなどの
問題があった。また、特開平２−８６６号公報中にはス
ルホンアミド基を有する高分子化合物をバインダーとし
て用いることが提案されている。しかし、まだ耐摩耗性
が十分でなく、また、印刷時に汚れが生じやすくなると
いう問題がある。As a method for improving these various properties, a burning process (exposure, development, and heat treatment) is generally used. However, when the burning treatment is performed, there is a problem in that the low-molecular compound sublimates from the photosensitive layer in the image area and adheres to the non-image area, so that there is a problem that stains are easily generated during printing. In order to solve such a problem, various polymer compounds have been studied as binders. For example, the polyhydroxystyrene or hydroxystyrene copolymer described in JP-B-52-41050 certainly has improved coating properties, but has the drawback of inferior abrasion resistance and chemical resistance. Also, JP-A-51-347
No. 11 proposes to use as a binder a polymer compound having a structural unit of an acrylic acid derivative in a molecular structure. However, such a polymer compound has a narrow range of appropriate developing conditions and has a low wear resistance. There was a problem that the nature was not enough. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-866 proposes to use a polymer compound having a sulfonamide group as a binder. However, there is a problem that the abrasion resistance is not yet sufficient, and stains are likely to occur during printing.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、水性アルカリ現像液で現像ができ、耐摩耗性が優
れ、かつ耐刷力の大きい感光性平版印刷版を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、耐薬品性に優れ、バー
ニング処理を行う事なくＵＶインク（紫外線硬化イン
ク）を用いた印刷を行っても耐刷力の大きい感光性平版
印刷版を提供することである。さらに本発明の目的は、
現像条件の範囲が広く、印刷時に汚れを生じない感光性
平版印刷版を提供することである。さらに本発明の目的
は基板に対する密着性が良く、柔軟な皮膜を与え、有機
溶剤溶解性の優れた感光層を有する感光性平版印刷版を
提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate which can be developed with an aqueous alkaline developer, has excellent abrasion resistance, and has high printing durability. Another object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate which is excellent in chemical resistance and has high printing durability even when printing using a UV ink (ultraviolet curable ink) without performing a burning treatment. is there. Further objects of the present invention are:
An object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate which has a wide range of development conditions and does not cause stains during printing. It is a further object of the present invention to provide a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer having good adhesion to a substrate, providing a flexible film, and having excellent solubility in an organic solvent.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ビニル重
合体の共重合組成を種々検討した結果、複数の特定の官
能基を有するビニル重合系高分子化合物を、感光性化合
物に添加した感光性組成物を感光層に用いることによ
り、上記目的を達成できることを見出し、本発明に到達
した。すなわち、本発明は、下記の通りである。 （１）水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビニル重合
系高分子化合物とｏ−ナフトキノンジアジドとを含有す
る感光層を有する感光性平版印刷版において、該ビニル
重合系高分子化合物が、少なくとも下記（Ａ）及び
（Ｂ）で示される単量体成分を含有する共重合体である
ことを特徴とする感光性平版印刷版。 （Ａ）１分子中に１つ以上のスルホンアミド基と１つ以
上の重合可能な不飽和結合を有する化合物 （Ｂ）１分子中に１つ以上のアルコール性水酸基と１つ
以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物Means for Solving the Problems As a result of various studies on the copolymer composition of a vinyl polymer, the present inventors have added a vinyl polymer type polymer compound having a plurality of specific functional groups to a photosensitive compound. The present inventors have found that the above object can be achieved by using a photosensitive composition for a photosensitive layer, and have reached the present invention. That is, the present invention is as follows. (1) In a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a vinyl polymer-based polymer compound insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution and o-naphthoquinonediazide, the vinyl polymer-based polymer compound has at least the following ( A photosensitive lithographic printing plate comprising a copolymer containing the monomer components represented by A) and (B). (A) A compound having one or more sulfonamide groups and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule. (B) One or more alcoholic hydroxyl groups and one or more polymerizable compounds in one molecule. Compounds with unsaturated bonds

【０００６】本発明の感光性平版印刷版は、少なくとも
上記（Ａ）及び（Ｂ）で示される単量体成分からなる共
重合体を含有する感光性組成物を感光層に用いることに
よって、該感光層の基板に対する密着性が良く、柔軟な
皮膜を与え、有機溶剤溶解性の優れるため、支持体上に
塗布する際の塗布性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光
後、露光部を水性アルカリ現像液で使用する際の現像性
に優れる。また、得られたレリーフ像は耐摩耗性、支持
体への密着性が良く、印刷版として使用した場合、良好
な印刷物が多数枚得られる。さらに、耐薬品性に優れ、
バーニング処理を行う事なくＵＶインクを使用した印刷
を行った場合においても良好な印刷物が多数枚得られ、
耐刷性に優れ、印刷時に汚れが生じない平版印刷版が得
られる。[0006] The photosensitive lithographic printing plate of the present invention is prepared by using a photosensitive composition containing at least a copolymer comprising the monomer components represented by the above (A) and (B) in a photosensitive layer. The photosensitive layer has good adhesion to the substrate, gives a flexible film, and has excellent solubility in organic solvents, so it has excellent coatability when coated on a support. Excellent developability when used in an alkaline developer. Further, the obtained relief image has good abrasion resistance and good adhesion to a support, and when used as a printing plate, many good printed matter can be obtained. Furthermore, it has excellent chemical resistance,
Even when printing using UV ink without performing the burning process, many good printed matter can be obtained,
A lithographic printing plate excellent in printing durability and free from stains during printing can be obtained.

【０００７】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明の感光性平版印刷版
の感光層に用いる感光性組成物の各成分について詳細に
説明する。本発明で使用される、水不溶かつアルカリ性
水溶液に可溶なビニル重合系高分子化合物とは、少なく
とも（Ａ）１分子中に１つ以上のスルホンアミド基と１
つ以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物と、
（Ｂ）１分子中に１つ以上のアルコール性水酸基と１つ
以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物とを公知の
重合開始剤を用いて適当な溶媒中で重合することにより
得られる高分子化合物である。本発明で使用される、水
不溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビニル重合系高分子
化合物として、例えば、ポリアクリレート類、ポリスチ
レン類、ポリビニルエーテル類を好適に使用することが
できる。本発明において、１分子中に１つ以上のスルホ
ンアミド基と１つ以上の重合可能な不飽和結合を有する
化合物（Ａ）としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示
される化合物が挙げられる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, each component of the photosensitive composition used in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention will be described in detail. The vinyl polymer-based polymer compound used in the present invention which is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution is (A) at least one sulfonamide group and one or more sulfonamide groups in one molecule.
A compound having one or more polymerizable unsaturated bonds,
(B) a polymer obtained by polymerizing one or more alcoholic hydroxyl groups and one or more compounds having a polymerizable unsaturated bond in one molecule in a suitable solvent using a known polymerization initiator; It is a molecular compound. As the vinyl polymer-based polymer compound used in the present invention that is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution, for example, polyacrylates, polystyrenes, and polyvinyl ethers can be suitably used. In the present invention, as the compound (A) having one or more sulfonamide groups and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule, compounds represented by the following general formulas (I) to (V) include: No.

【０００８】[0008]

【化１】 Embedded image

【０００９】（式中、Ｘ1 、Ｘ2 はそれぞれ−Ｏ−また
は−ＮＲ7 −を示す。Ｒ1 、Ｒ4 はそれぞれ−Ｈまたは
ＣＨ3 を示す。Ｒ2 、Ｒ5 はそれぞれ置換基を有しても
よい炭素数１〜１２の、アルキレン基、シクロアルキレ
ン基、アリーレン基またはアラルキレン基を示す。Ｒ3
は水素原子、または置換基を有してもよい炭素数１〜１
２の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もし
くはアラルキル基を示す。Ｒ6 は置換基を有してもよい
炭素数１〜１２の、アルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基またはアラルキル基を示す。Ｒ7 は水素原子、
または置換基を有してもよい炭素数１〜１２の、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキ
ル基を示す。Ｚ1 、Ｚ2 、Ｚ3 はそれぞれ単結合、−Ｎ
ＨＣＯＯＲ 18−、−ＯＣＯＮＨＲ19−、−ＮＨＣＯＮＨ
Ｒ20−を示す。Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20はそれぞれ置換基を有
してもよい炭素数１〜１２の、アルキレン基、シクロア
ルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を示
す。Ｙl 、Ｙ2 はそれぞれ単結合または−Ｃ（＝Ｏ）−
を示す。Ｒ8 、Ｒ10、Ｒ14はそれぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子またはメチル基を示す。Ｒ9 は置換されていても
よい炭素数１〜１２の、アルキレン基、シクロアルキレ
ン基、アリーレン基またはアラルキレン基を示す。
Ｒ11、Ｒ15はそれぞれ単結合または置換されていてもよ
い炭素数１〜１２の、アルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基またはアラルキレン基を示す。Ｒ12、
Ｒ16はそれぞれ置換されていてもよい炭素数１〜１２
の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基
またはアラルキレン基を示す。Ｒ13は水素原子、または
置換されていてもよい炭素数１〜１２の、アルキル基、
シクロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を
示す。Ｒ17は置換されていてもよい炭素数１〜１２の、
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を示す。）(Where X is1, XTwoAre -O- and
Is -NR7Indicates-. R1, RFourIs -H or
CHThreeIs shown. RTwo, RFiveMay have a substituent
Alkylene group, cycloalkylene having good carbon number of 1 to 12
And an arylene group or an aralkylene group. RThree
Represents a hydrogen atom or an optionally substituted carbon number of 1 to 1
2, alkyl, cycloalkyl, aryl,
Or an aralkyl group. R6May have a substituent
An alkyl group, a cycloalkyl group, a
Indicates a reel group or an aralkyl group. R7Is a hydrogen atom,
Or an alkyl having 1 to 12 carbons which may have a substituent
Group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl
Represents a hydroxyl group. Z1, ZTwo, ZThreeIs a single bond, -N
HCOOR 18-, -OCONHR19-, -NHCONH
R20Indicates-. R18, R19, R20Each has a substituent
An alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be
Indicates a alkylene group, an arylene group or an aralkylene group
You. Yl, YTwoIs a single bond or -C (= O)-
Is shown. R8, RTen, R14Are hydrogen and halogen
A methyl atom or a methyl group. R9Is replaced
Alkylene group, cycloalkylene having good carbon number of 1 to 12
And an arylene group or an aralkylene group.
R11, RFifteenMay be each a single bond or substituted
C1-C12 alkylene group, cycloalkylene
Group, an arylene group or an aralkylene group. R12,
R16Has 1 to 12 carbon atoms each of which may be substituted
An alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group
Or an aralkylene group. R13Is a hydrogen atom, or
An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted,
A cycloalkyl, aryl or aralkyl group
Show. R17Has 1 to 12 carbon atoms which may be substituted,
Alkyl, cycloalkyl, aryl or aryl
Represents a alkyl group. )

【００１０】一般式（Ｉ）または（II）で示される低分
子化合物の内、本発明において特に好適に使用されるも
のは、Ｒ2 、Ｒ5 がそれぞれＣ2 〜Ｃ6 のアルキレン
基、シクロアルキレン基、または置換基を有していても
よいフェニレン基、ナフチレン基であり、Ｒ3 がＨまた
はＣ1 〜Ｃ6 のアルキル基、シクロアルキル基また置換
基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基であり、
Ｒ6 がＣ1 〜Ｃ6 のアルキル基、シクロアルキル基また
は置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基で
あり、Ｒ7 が水素原子である化合物である。このような
低分子化合物としては、例えばＮ−（ｏ−アミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−
メチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、
Ｎ−（ｍ−メチルアミノスルホニルフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルアミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−エチルアミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−エチルア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ
−エチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−ｎ−プロピルアミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｎ−プロピルアミノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｎ
−プロピルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−ｉ−プロピルアミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｉ−プロピルアミノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｉ
−プロピルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−ｎ−ブチルアミノスルホニルフェニル）
メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｎ−ブチルアミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｎ−ブチ
ルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｏ−ｉ−ブチルアミノスルホニルフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｍ−ｉ−ブチルアミノスルホニルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｉ−ブチルアミノ
スルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−ｓ
ｅｃ−ブチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｍ−ｓｅｃ−ブチルアミノスルホニルフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｓｅｃ−ブチルア
ミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ
−ｔ−ブチルアミノスルホニルフェニル）メタクリルア
ミド、Among the low molecular weight compounds represented by the general formula (I) or (II), those particularly preferably used in the present invention are those wherein R 2 and R 5 are each an alkylene group of C 2 -C 6 , An alkylene group or a phenylene group or a naphthylene group which may have a substituent, wherein R 3 is H or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group or a phenyl group which may have a substituent; , A naphthyl group,
A compound in which R 6 is a C 1 -C 6 alkyl group, a cycloalkyl group or a phenyl group which may have a substituent or a naphthyl group, and R 7 is a hydrogen atom. Examples of such low molecular weight compounds include N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o −
Methylaminosulfonylphenyl) methacrylamide,
N- (m-methylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-methylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o-ethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-ethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide Amide, N- (p
-Ethylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (on-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (mn-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (pn
-Propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (oi-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (mi-propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (pi
-Propylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (on-butylaminosulfonylphenyl)
Methacrylamide, N- (mn-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (pn-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N-
(Oi-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (mi-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (pi-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (os
ec-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-sec-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-sec-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o
-T-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide,

【００１１】Ｎ−（ｍ−ｔ−ブチルアミノスルホニルフ
ェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｔ−ブチルアミ
ノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−
フェニルアミノスルホニルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｍ−フェニルアミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−フェニルアミノスルホニル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−（α−ナフチ
ルアミノスルホニル）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｍ−（α−ナフチルアミノスルホニル）フェニル）
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（α−ナフチルアミノス
ルホニル）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−
（β−ナフチルアミノスルホニル）フェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｍ−（β−ナフチルアミノスルホニ
ル）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（β−ナ
フチルアミノスルホニル）フェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（１−（３−アミノスルホニル）ナフチル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（１−（３−メチルアミノスルホ
ニル）ナフチル）メタクリルアミド、Ｎ−（１−（３−
エチルアミノスルホニル）ナフチル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−メチルスルホニルアミノフェニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（ｍ−メチルスルホニルアミノフェ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニル
アミノフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−エチル
スルホニルアミノフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｍ−エチルスルホニルアミノフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｐ−エチルスルホニルアミフェニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（ｏ−フェニルスルホニルアミノフ
ェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−フェニルスルホ
ニルアミノフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−フ
ェニルスルホニルアミノフェニル）メタクリルアミド、
Ｎ−（ｏ−（ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）フ
ェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−（ｐ−メチルフ
ェニルスルホニルアミノ）フェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｐ−（ｐ−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ）フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（α−ナ
フチルスルホニルアミノ）フェニルメタクリルアミド、
Ｎ−（ｐ−（β−ナフチルスルホニルアミノ）フェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−メチルスルホニルア
ミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−エチルスル
ホニルアミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−フ
ェニルスルホニルアミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ
−（２−ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノエチル）
メタクリルアミド、Ｎ−（２−α−ナフチルスルホニル
アミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−β−ナフ
チルスルホニルアミノ）エチルメタクリルアミド等のメ
タクリルアミド類、N- (mt-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (pt-butylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o-
Phenylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-phenylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-phenylaminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (o- (α-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide , N
-(M- (α-naphthylaminosulfonyl) phenyl)
Methacrylamide, N- (p- (α-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (o-
(Β-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (m- (β-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (p- (β-naphthylaminosulfonyl) phenyl) methacrylamide, N- (1 -(3-aminosulfonyl) naphthyl) methacrylamide, N- (1- (3-methylaminosulfonyl) naphthyl) methacrylamide, N- (1- (3-
Ethylaminosulfonyl) naphthyl) methacrylamide, N- (o-methylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (m-methylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (p-methylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (O-ethylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N-
(M-ethylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (p-ethylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (o-phenylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (m-phenylsulfonylaminophenyl) methacrylamide, N- (p-phenylsulfonylaminophenyl) methacrylamide,
N- (o- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl) methacrylamide, N- (m- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl) methacrylamide, N- (p- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl ) Methacrylamide, N- (p- (α-naphthylsulfonylamino) phenyl methacrylamide,
N- (p- (β-naphthylsulfonylamino) phenyl) methacrylamide, N- (2-methylsulfonylaminoethyl) methacrylamide, N- (2-ethylsulfonylaminoethyl) methacrylamide, N- (2-phenylsulfonyl) Aminoethyl) methacrylamide, N
-(2-p-methylphenylsulfonylaminoethyl)
Methacrylamides such as methacrylamide, N- (2-α-naphthylsulfonylaminoethyl) methacrylamide, and N- (2-β-naphthylsulfonylamino) ethyl methacrylamide;

【００１２】上記と同様の置換基を有するアクリルアミ
ド類、またｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｏ−メチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−メチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−メチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｏ−エチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−エチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−エチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｏ−ｎ−
プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−ｎ−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、ｐ−ｎ−プロピルアミノスルホニルフェニルメタク
リレート、ｏ−ｉ−プロピルアミノスルホニルフェニル
メタクリレート、ｍ−ｉ−プロピルアミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、ｏ−ｎ−ブチルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、ｍ−ｎ−ブチルアミノスル
ホニルフェニルメタクリレート、ｐ−ｎ−ブチルアミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−ｉ−ブチルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−ｉ−ブチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−ｓｅ
ｃ−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、
ｐ−ｓｅｃ−ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリ
レート、ｍ−ｔ−ブチルアミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、ｐ−ｔ−ブチルアミノスルホニルフェニル
メタクリレート、ｏ−フェニルアミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、ｍ−フェニルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、ｐ−フェニルアミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、ｍ−（α−ナフチルアミノスル
ホニル）フェニルメタクリレート、ｐ−（α−ナフチル
アミノスルホニルフェニル）メタクリレート、ｍ−（β
−ナフチルアミノスルホニル）フェニルメタクリレー
ト、ｐ−（β−ナフチルアミノスルホニル）フェニルメ
タクリレート、１−（３−アミノスルホニル）ナフチル
メタクリレート、１−（３−メチルアミノスルホニル）
ナフチルメタクリレート、１−（３−エチルアミノスル
ホニル）ナフチルメタクリレート、ｏ−メチルスルホニ
ルアミノフェニルメタクリレート、ｍ−メチルスルホニ
ルアミノフェニルメタクリレート、ｐ−メチルスルホニ
ルアミノフェニルメタクリレート、ｏ−エチルスルホニ
ルアミノフェニルメタクリレート、ｍ−エチルスルホニ
ルアミノフェニルメタクリレート、ｐ−エチルスルホニ
ルアミノフェニルメタクリレート、ｏ−フェニルスルホ
ニルアミノフェニルメタクリレート、ｍ−フェニルスル
ホニルアミノフェニルメタクリレート、ｐ−フェニルス
ルホニルアミノフェニルメタクリレート、ｏ−（ｐ−メ
チルフェニルスルホニルアミノ）フェニルメタクリレー
ト、ｍ−（ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）フェ
ニルメタクリレート、ｐ−（ｐ−メチルフェニルスルホ
ニルアミノ）フェニルメタクリレート、ｐ−（α−ナフ
チルスルホニルアミノ）フェニルメタクリレート、ｐ−
（β−ナフチルスルホニルアミノ）フェニルメタクリレ
ート、２−メチルスルホニルアミノエチルメタクリレー
ト、２−エチルスルホニルアミノエチルメタクリレー
ト、２−フェニルスルホニルアミノエチルメタクリレー
ト、２−ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノエチルメ
タクリレート、２−α−ナフチルスルホニルアミノエチ
ルメタクリレート、２−β−ナフチルスルホニルアミノ
エチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、上
記と同様の置換基を有するアクリル酸エステル類などが
挙げられる。Acrylamides having the same substituents as described above, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-
-Aminosulfonylphenyl methacrylate, o-methylaminosulfonylphenyl methacrylate, m-methylaminosulfonylphenyl methacrylate, p-methylaminosulfonylphenyl methacrylate, o-ethylaminosulfonylphenyl methacrylate, m-ethylaminosulfonylphenyl methacrylate, p-ethylamino Sulfonylphenyl methacrylate, on-
Propylaminosulfonylphenyl methacrylate, m
-N-propylaminosulfonylphenyl methacrylate, pn-propylaminosulfonylphenyl methacrylate, oi-propylaminosulfonylphenyl methacrylate, mi-propylaminosulfonylphenyl methacrylate, on-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, m -N-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, pn-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, mi-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, pi-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, m-se
c-butylaminosulfonylphenyl methacrylate,
p-sec-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, mt-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, pt-butylaminosulfonylphenyl methacrylate, o-phenylaminosulfonylphenyl methacrylate, m-phenylaminosulfonylphenyl methacrylate, p-phenylamino Sulfonylphenyl methacrylate, m- (α-naphthylaminosulfonyl) phenyl methacrylate, p- (α-naphthylaminosulfonylphenyl) methacrylate, m- (β
-Naphthylaminosulfonyl) phenyl methacrylate, p- (β-naphthylaminosulfonyl) phenyl methacrylate, 1- (3-aminosulfonyl) naphthyl methacrylate, 1- (3-methylaminosulfonyl)
Naphthyl methacrylate, 1- (3-ethylaminosulfonyl) naphthyl methacrylate, o-methylsulfonylaminophenyl methacrylate, m-methylsulfonylaminophenyl methacrylate, p-methylsulfonylaminophenyl methacrylate, o-ethylsulfonylaminophenyl methacrylate, m-ethyl Sulfonylaminophenyl methacrylate, p-ethylsulfonylaminophenyl methacrylate, o-phenylsulfonylaminophenyl methacrylate, m-phenylsulfonylaminophenyl methacrylate, p-phenylsulfonylaminophenyl methacrylate, o- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl methacrylate, m- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl methacrylate , P- (p-methylphenylsulfonylamino) phenyl methacrylate, p- (alpha-naphthylsulfonyl) phenyl methacrylate, p-
(Β-naphthylsulfonylamino) phenyl methacrylate, 2-methylsulfonylaminoethyl methacrylate, 2-ethylsulfonylaminoethyl methacrylate, 2-phenylsulfonylaminoethyl methacrylate, 2-p-methylphenylsulfonylaminoethyl methacrylate, 2-α-naphthyl Examples include methacrylates such as sulfonylaminoethyl methacrylate and 2-β-naphthylsulfonylaminoethyl methacrylate, and acrylates having the same substituents as described above.

【００１３】また、一般式（III）〜（Ｖ）で示される
低分子化合物において、好ましい置換基は、それぞれ、
Ｒ8 ，Ｒ10、Ｒ14は水素原子であり、Ｒ9 は置換されて
いてもよいメチレン基、フェニレン基、ナフチレン基で
あり、Ｒ11、Ｒ15は単結合またはメチレン基であり、Ｒ
12、Ｒ16は炭素数１〜６のアルキレン基または置換され
ていてもよいフェニレン基もしくはナフチレン基であ
り、Ｒ13は水素原子、または炭素数１〜６のアルキル
基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル
基、ナフチル基であり、Ｒ17は炭素数１〜６のアルキル
基、シクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル
基またはナフチル基である。上記のような−般式（II
I）〜（Ｖ）で示される化合物の具体例としては、ｐ−
アミノスルホニルスチレン、ｐ−アミノスルホニル−α
−メチルスチレン、ｐ−アミノスルホニルフェニルアリ
ルエーテル、ｐ−（Ｎ−メチルアミノスルホニル）フェ
ニルアリルエーテル、メチルスルホニルアミノ酢酸ビニ
ルエステル、フェニルスルホニルアミノ酢酸ビニルエス
テル、メチルスルホニルアミノ酢酸アリルエステル、フ
ェニルスルホニルアミノ酢酸アリルエステル、ｐ−メチ
ルスルホニルアミノフェニルアリルエーテルなどがあ
る。In the low molecular weight compounds represented by the general formulas (III) to (V), preferred substituents are
R 8 , R 10 and R 14 are hydrogen atoms, R 9 is an optionally substituted methylene group, phenylene group or naphthylene group; R 11 and R 15 are a single bond or a methylene group;
12 and R 16 are an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or a phenylene group or a naphthylene group which may be substituted, and R 13 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group, R 17 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group, an optionally substituted phenyl group or a naphthyl group. The above-mentioned general formula (II
Specific examples of the compounds represented by I) to (V) include p-
Aminosulfonylstyrene, p-aminosulfonyl-α
-Methylstyrene, p-aminosulfonylphenyl allyl ether, p- (N-methylaminosulfonyl) phenyl allyl ether, methylsulfonylaminoacetic acid vinyl ester, phenylsulfonylaminoacetic acid vinyl ester, methylsulfonylaminoacetic acid allyl ester, phenylsulfonylaminoacetic acid Allyl esters, p-methylsulfonylaminophenyl allyl ether and the like.

【００１４】水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビニ
ル重合系高分子化合物として好適に使用できる１分子中
に１つ以上のスルホンアミド基と１つ以上の重合可能な
不飽和結合を有する化合物（Ａ）の含有量としては、１
〜４０モル％であり、好ましくは１０〜３５モル％であ
る。１モル％未満では、現像不良或いは汚れの原因とな
り、４０モル％を超えて多くなると、現像流れ或いは耐
刷劣化の原因となり、不適である。A compound having at least one sulfonamide group and at least one polymerizable unsaturated bond in one molecule (A) which can be preferably used as a vinyl polymer-based polymer compound which is insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution. ) Is 1
４０40 mol%, preferably 10-35 mol%. If it is less than 1 mol%, it causes poor development or contamination, and if it exceeds 40 mol%, it causes unfavorable development flow or deterioration of printing durability.

【００１５】１分子中に１つ以上のアルコール性水酸基
と１つ以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物
（Ｂ）のアルコール性水酸基は、１級、２級、３級アル
コール性の水酸基何れのアルコール性水酸基でもよい
が、１級、２級アルコール性水酸基が好ましい。アルコ
ール性水酸基は、１つ以上含まれればいくつでもよい
が、１〜３個有することが好ましい。重合可能な不飽和
結合としては、アクリル基、スチリル基、ビニル基等が
挙げられ、これらを１つ有することが好ましい。例え
ば、下記一般式（VI）〜（IX）で示される化合物が挙げ
られる。The alcoholic hydroxyl group of the compound (B) having at least one alcoholic hydroxyl group and at least one polymerizable unsaturated bond in one molecule may be any of primary, secondary and tertiary alcoholic hydroxyl groups. May be used, but primary and secondary alcoholic hydroxyl groups are preferred. Any number of alcoholic hydroxyl groups may be used as long as they contain at least one, but preferably one to three. Examples of the polymerizable unsaturated bond include an acryl group, a styryl group, a vinyl group and the like, and it is preferable to have one of these groups. For example, compounds represented by the following general formulas (VI) to (IX) are exemplified.

【００１６】[0016]

【化２】 Embedded image

【００１７】（式中、Ｘ3 、Ｘ4 はそれぞれ−Ｏ−また
は−ＮＲ23−を示す。Ｒ18、Ｒ20はそれぞれ−Ｈまたは
ＣＨ3 を示す。Ｒ19、Ｒ22はそれぞれ置換基を有しても
よい炭素数１〜１２の、アルキレン基、シクロアルキレ
ン基またはアラルキレン基を示す。Ｒ21はヘテロ原子を
含んでもよい炭素数２以上の炭化水素残基を示す。Ｒ23
は水素原子、または置換基を有してもよい炭素数１〜１
２の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基もし
くはアラルキル基を示す。Ｒ24、Ｒ26はそれぞれ水素原
子、ハロゲン原子またはメチル基を示す。Ｒ25は単結合
または置換されていてもよい炭素数１〜１２の、アルキ
レン基、シクロアルキレン基またはアラルキレン基を示
す。Ｒ27は単結合または置換されていてもよい炭素数１
〜１２の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基またはアラルキレン基を示す。Ｒ28は置換されて
いてもよい炭素数１〜１２の、アルキレン基、シクロア
ルキレン基またはアラルキレン基を示す。１、ｍ、ｎは
それぞれ１〜２０の整数を示す。）(Wherein X 3 and X 4 each represent —O— or —NR 23 —. R 18 and R 20 each represent —H or CH 3. R 19 and R 22 each represent a substituent. It has been good to 12 carbon atoms, alkylene group, .R shows a cycloalkylene group or an aralkylene group .R 21 hydrocarbon residue of the comprise 2 or more carbon atoms which may heteroatom 23
Represents a hydrogen atom or an optionally substituted carbon number of 1 to 1
2 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 24 and R 26 each represent a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group. R 25 represents a single bond or an optionally substituted alkylene group, cycloalkylene group or aralkylene group having 1 to 12 carbon atoms. R 27 is a single bond or an optionally substituted carbon atom 1
To 12 are alkylene groups, cycloalkylene groups, arylene groups or aralkylene groups. R 28 represents 1 to 12 carbon atoms which may be substituted, an alkylene group, a cycloalkylene group or an aralkylene group. 1, m and n each represent an integer of 1 to 20. )

【００１８】一般式（VI）または（VII）で示される低
分子化合物の内、本発明において特に好適に使用される
ものは、Ｒ19、Ｒ22がそれぞれＣ1 〜Ｃ6 のアルキレン
基またはシクロアルキレン基であり、Ｒ21がＣ2 〜Ｃ6
のアルキレン基、シクロアルキレン基、または置換基を
有していてもよいフェニレン基、ナフチレン基であり、
Ｒ23が水素原子であり、ｌが１〜１０、ｍが１〜３の化
合物である。このような低分子化合物としては、例え
ば、ヒドロキシメチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、４−ヒドロキシブチルアクリレート、５−ヒドロキ
シペンチルアクリレート、３−ヒドロキシペンチルアク
リレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ジ
エチレングリコールモノアクリレート、テトラエチレン
グリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコール
モノアクリレート等のアクリル酸エステル類、ヒドロキ
シメチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４
−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペ
ンチルメタクリレート、３−ヒドロキシペンチルメタク
リレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピルメタク
リレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ジエチレングリコールモノメタクリレート、テトラ
エチレングリコールモノメタクリレート、ジプロピレン
グリコールモノメタクリレート等のメタクリル酸エステ
ル類、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒド
ロキシプロピル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキ
シブチル）アクリルアミド、Ｎ−（５−ヒドロキシペン
チル）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシペンチ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（２，２−ジメチルヒドロキ
シプロピル）アクリルアミド等のアクリルアミド類、Ｎ
−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−（２−ヒド
ロキシエチル）メタクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキ
シプロピル）メタクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシ
ブチル）メタクリルアミド、Ｎ−（５−ヒドロキシペン
チル）メタクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシペンチ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（２，２−ジメチルヒドロ
キシプロピル）メタクリルアミド等のメタクリルアミド
類などが挙げられる。Of the low molecular weight compounds represented by the general formula (VI) or (VII), those particularly preferably used in the present invention are those wherein R 19 and R 22 are each a C 1 -C 6 alkylene group or cycloalkyl group. An alkylene group, wherein R 21 is C 2 -C 6
Alkylene group, a cycloalkylene group, or a phenylene group which may have a substituent, a naphthylene group,
A compound in which R 23 is a hydrogen atom, 1 is 1 to 10, and m is 1 to 3. Examples of such a low molecular compound include hydroxymethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 3-hydroxypentyl acrylate, and 2,2-dimethyl. Acrylic esters such as hydroxypropyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, diethylene glycol monoacrylate, tetraethylene glycol monoacrylate, dipropylene glycol monoacrylate, hydroxymethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4
Methacryls such as -hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 3-hydroxypentyl methacrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, tetraethylene glycol monomethacrylate, and dipropylene glycol monomethacrylate Acid esters, N-hydroxymethylacrylamide, N- (2
-Hydroxyethyl) acrylamide, N- (3-hydroxypropyl) acrylamide, N- (4-hydroxybutyl) acrylamide, N- (5-hydroxypentyl) acrylamide, N- (3-hydroxypentyl) acrylamide, N- (2 Acrylamides such as 2,2-dimethylhydroxypropyl) acrylamide, N
-Hydroxymethyl methacrylamide, N- (2-hydroxyethyl) methacrylamide, N- (3-hydroxypropyl) methacrylamide, N- (4-hydroxybutyl) methacrylamide, N- (5-hydroxypentyl) methacrylamide, And methacrylamides such as N- (3-hydroxypentyl) methacrylamide and N- (2,2-dimethylhydroxypropyl) methacrylamide.

【００１９】また、一般式（VIII）または（IX）で示さ
れる低分子化合物において、好ましい置換基は、それぞ
れ、Ｒ24、Ｒ26は水素原子であり、Ｒ25は単結合、置換
されていてもよいメチレン基、炭素数７〜１２のアラル
キレンであり、Ｒ27は単結合またはメチレン基、置換さ
れていてもよいフェニル基、ナフチル基であり、Ｒ28は
炭素数１〜６のアルキレン基、ｎは１〜１０である。上
記のような一般式（VIII）または（IX）で示される化合
物の具体例としては、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、
ｍ−ヒドロキシエチル−α−メチルスチレン、ビニルア
ルコール、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレ
ングリコールビニルエーテル、ヒドロキシエチルアリル
エーテルなどがある。好適に使用できる１分子中に１つ
以上のアルコール性水酸基と１つ以上の重合可能な不飽
和結合を有する化合物（Ｂ）の含有量は、１〜５０モル
％であり、好ましくは５〜３０モル％である。１モル％
未満では、現像不良或いは汚れの原因となり、５０モル
％を超えて多くなると、現像流れの原因となり、不適で
ある。In the low molecular weight compound represented by the general formula (VIII) or (IX), preferred substituents are R 24 and R 26 each being a hydrogen atom, and R 25 is a single bond or substituted. A methylene group, an aralkylene having 7 to 12 carbon atoms, R 27 is a single bond or a methylene group, an optionally substituted phenyl group, a naphthyl group, R 28 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, n is 1-10. Specific examples of the compound represented by the general formula (VIII) or (IX) as described above include p-hydroxymethylstyrene,
Examples include m-hydroxyethyl-α-methylstyrene, vinyl alcohol, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, and hydroxyethyl allyl ether. The content of the compound (B) having one or more alcoholic hydroxyl groups and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule which can be suitably used is 1 to 50 mol%, preferably 5 to 30 mol%. Mol%. 1 mol%
If it is less than 50 mol%, it may cause poor development or contamination, and if it exceeds 50 mol%, it may cause development flow and is unsuitable.

【００２０】本発明に使用される高分子化合物は、
（Ａ）１分子中に１つ以上のスルホンアミド基と１つ以
上の重合可能な不飽和結合を有する化合物を１モル％を
越えて２５モル％以下と、（Ｂ）１分子中に１つ以上の
アルコール性水酸基と１つ以上の重合可能な不飽和結合
を有する化合物それぞれ１種以上の共重合体であっても
よいが、好ましくは１つ以上の重合可能な不飽和結合を
含有し、かつスルホンアミド及びアルコール性水酸基を
含まない化合物の一種以上との共重合体である。このよ
うな重合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホンアミ
ド及びアルコール性水酸基を含まない化合物としては、
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル
類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタ
クリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビ
ニルエステル類、スチレン類、クロトン酸エステル類な
どから選ばれる重合性不飽和結合を有する化合物であ
る。The polymer compound used in the present invention is
(A) a compound having at least one sulfonamide group and at least one polymerizable unsaturated bond in one molecule in an amount of more than 1 mol% and not more than 25 mol%, and (B) one compound in one molecule. The compound having at least one alcoholic hydroxyl group and at least one polymerizable unsaturated bond may be a copolymer of at least one compound, but preferably contains at least one polymerizable unsaturated bond, It is a copolymer with sulfonamide and one or more compounds not containing an alcoholic hydroxyl group. Compounds containing such a polymerizable unsaturated bond and not containing a sulfonamide and an alcoholic hydroxyl group include:
For example, a polymerizable unsaturated bond selected from acrylic acid, methacrylic acid, acrylic esters, acrylamides, methacrylic esters, methacrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, styrenes, crotonic esters and the like. Is a compound having

【００２１】具体的には、例えばアクリル酸エステル
類、例えばアルキルアクリレート（該アルキル基の炭素
原子数は１〜１０のものが好ましい）（例えば、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、
アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチ
ルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−ｔ−オ
クチル、クロルエチルアクリレート、ペンタエリスリト
ールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベン
ジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フ
ルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、など）、アリールアクリレート（例えばフェニ
ルアクリレートなど）：メタクリル酸エステル類、例え
ば、アルキルメタクリレート（該アルキル基の炭素原子
数は１〜１０のものが好ましい）（例えば、メチルメタ
クリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリ
レート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベンジル
メタクリレート、オクチルメタクリレート、グリシジル
メタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレートなど）、アリールメタク
リレート（例えば、フェニルメタクリレート、クレジル
メタクリレート、ナフチルメタクリレートなど）：アク
リルアミド類、例えばアクリルアミド、Ｎ−アルキルア
クリルアミド（該アルキル基としては、炭素原子数１〜
１０のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘブチル基、オクチル基、シ
クロヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基など
がある。）、Ｎ−アリールアクリルアミド（該アリール
基としては、例えばフェニル基、トリル基、ニトロフェ
ニル基、ナフチル基、ヒドロキシフェニル基などがあ
る。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（該アルキ
ル基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチ
ル基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキ
シル基、シクロヘキシル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−ア
リールアクリルアミド（該アリール基としては、例えば
フェニル基などがある。）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル
アクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−ア
セチルアクリルアミドなど：メタクリルアミド類、例え
ばメタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド
（該アルキル基としては、炭素原子数１〜１０のもの、
例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキ
シル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などが
ある。）、Ｎ−アリールメタクリルアミド（該アリール
基としては、フェニル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルメタクリルアミド（該アルキル基としては、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−
ジアリールメタクリルアミド（該アリール基としては、
フェニル基などがある。）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル
メタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリ
ルアミドなど：Specifically, for example, acrylates, for example, alkyl acrylates (the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms) (for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate,
Butyl acrylate, amyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, chloroethyl acrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate ), Aryl acrylates (for example, phenyl acrylate): methacrylic acid esters, for example, alkyl methacrylate (the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms) (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate) , Isopropyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, ben Methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, glycidyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, etc., aryl methacrylate (eg, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, etc.): acrylamides such as acrylamide, N-alkyl Acrylamide (as the alkyl group, one having 1 to carbon atoms)
10 things such as methyl group, ethyl group, propyl group,
Examples include a butyl group, a t-butyl group, a hebutyl group, an octyl group, a cyclohexyl group, a hydroxyethyl group, and a benzyl group. ), N-arylacrylamides (for example, phenyl group, tolyl group, nitrophenyl group, naphthyl group, hydroxyphenyl group, etc.), N, N-dialkylacrylamide (for the alkyl group, carbon A compound having 1 to 10 atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, an isobutyl group, an ethylhexyl group, a cyclohexyl group and the like; N, N-arylacrylamide (for example, a phenyl group and the like as the aryl group) ), N-methyl-N-phenylacrylamide, N-2-acetamidoethyl-N-acetylacrylamide and the like: methacrylamides such as methacrylamide and N-alkylmethacrylamide (the alkyl group has 1 carbon atom). 10 to 10,
For example, there are a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, an ethylhexyl group, a hydroxyethyl group, a cyclohexyl group and the like. ), N-aryl methacrylamide (the aryl group includes a phenyl group and the like), N, N-dialkyl methacrylamide (the alkyl group includes an ethyl group, a propyl group and a butyl group), N, N-
Diaryl methacrylamide (as the aryl group,
And a phenyl group. ), N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-ethyl-N-phenylmethacrylamide and the like:

【００２２】アリル化合物、例えばアリルエステル類
（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸ア
リル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステア
リン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳
酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど：ビニル
エーテル類、例えばアルキルビニルエーテル（例えばヘ
キシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシ
ルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メ
トキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエ
ーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−
２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチル
ブチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエ
ーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチル
アミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテ
ル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど）、ビ
ニルアリールエーテル（例えばビニルフェニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエー
テル、ビニル−２，４−ジクロルフェニルエーテル、ビ
ニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテルな
ど）：ビニルエステル類、例えばビニルブチレート、ビ
ニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビ
ニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプ
ロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルア
セテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシ
アセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセト
アセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニル
ブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、
安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビ
ニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル
など：スチレン類、例えばスチレン、アルキルスチレン
（例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチ
ルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソ
プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレ
ン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジ
ルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えばメトキ
シスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメ
トキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン（例えばクロ
ルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、
テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロム
スチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオ
ルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−
トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリ
フルオルメチルスチレンなど）：クロトン酸エステル
類、例えば、クロトン酸アルキル（例えばクロトン酸ブ
チル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネー
トなど）：イタコン酸ジアルキル類（例えばイタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルな
ど）：マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類
（例えばジメチルマレエート、ジブチルフマレートな
ど）：アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げ
られる。Allyl compounds such as allyl esters (eg, allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate), allyloxy Ethanol and the like: vinyl ethers such as alkyl vinyl ethers (eg, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethylhexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-
2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, etc., vinyl aryl ethers (for example, vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether) , Vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, vinyl anthranyl ether, etc.): vinyl esters such as vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, and vinyl Valate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl meth Shi acetate, vinyl butoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl -β- phenylbutyrate, vinyl cyclohexyl carboxylate,
Vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, vinyl naphthoate, etc .: styrenes such as styrene, alkyl styrene (for example, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, Butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, etc., alkoxy styrene (for example, methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, Dimethoxystyrene, etc.), halogen styrene (for example, chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene,
Tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-
Trifluoromethylstyrene, 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene, etc.): crotonic esters, for example, alkyl crotonates (eg, butyl crotonate, hexyl crotonate, glycerin monocrotonate, etc.): dialkyl itaconates ( For example, dimethyl itaconate, diethyl itaconate, dibutyl itaconate, etc .: dialkyls of maleic acid or fumaric acid (eg, dimethyl maleate, dibutyl fumarate, etc.): acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.

【００２３】これらの重合性不飽和結合を有する化合物
のうち、好適に使用されるのはメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、メタクリルアミド酸、アク
リルアミド類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、メタクリル酸、アクリル酸である。特にアクリロニ
トリル、メタクリロニトリル（Ｃ）を含有することが好
ましい。これらの重合性不飽和結合を有する化合物の１
種以上と、（Ａ）および（Ｂ）で示される低分子化合物
の１種以上の共重合体は、ブロック体、ランダム体、グ
ラフト体等いずれも用いる事ができる。Of these compounds having a polymerizable unsaturated bond, methacrylic esters, acrylic esters, methacrylamic acid, acrylamides, acrylonitrile, methacrylonitrile, methacrylic acid, acryl Is an acid. It is particularly preferable to contain acrylonitrile and methacrylonitrile (C). One of these compounds having a polymerizable unsaturated bond
As the copolymer of at least one species and at least one of the low molecular weight compounds represented by (A) and (B), any of block, random, and graft forms can be used.

【００２４】このような高分子化合物を合成する際に用
いられる溶媒としては、例えばエチレンジクロリド、シ
クロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタ
ノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−
メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロパ
ノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、
乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶
媒は単独あるいは２種以上混合して用いてもよい。Examples of the solvent used for synthesizing such a polymer compound include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether,
Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N,
N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, toluene, ethyl acetate,
Examples include methyl lactate and ethyl lactate. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

【００２５】本発明の高分子化合物の分子量は、好まし
くは重量平均で２，０００以上であり、数平均で１，０
００以上である。更に好ましくは重量平均で５，０００
〜３０万の範囲であり、数平均で２，０００〜２５万の
範囲である。また多分散度（重量平均分子量／数平均分
子量）は１以上が好ましく、更に好ましくは１．１〜１
０の範囲である。また、本発明の高分子化合物中には、
未反応の単量体を含んでいてもよい。この場合、単量体
の高分子化合物中に占める割合は１５重量％以下が望ま
しい。本発明の高分子化合物は単独で用いても、二種以
上を混合して用いてもよい。感光性平版印刷版の感光層
中に含まれる、これらの高分子化合物の含有量は約５〜
９５重量％であり、好ましくは約１０〜８５重量％であ
る。The molecular weight of the polymer compound of the present invention is preferably 2,000 or more in weight average, and 1,0 or more in number average.
00 or more. More preferably, the weight average is 5,000.
３０300,000, and the number average is 2,000〜250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.1 to 1.
It is in the range of 0. Further, in the polymer compound of the present invention,
Unreacted monomers may be contained. In this case, the proportion of the monomer in the polymer compound is desirably 15% by weight or less. The polymer compound of the present invention may be used alone or as a mixture of two or more. The content of these high molecular compounds contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate is about 5 to about 5%.
95% by weight, preferably about 10-85% by weight.

【００２６】本発明に使用されるｏ−ナフトキノンジア
ジド化合物としては、特公昭４３−２８４０３号公報に
記載されている１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸
クロライトとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル
であるものが好ましい。その他の好適なオルトキノンジ
アジド化合物としては、米国特許第３，０４６，１２０
号および同第３，１８８，２１０号明細書中に記載され
ている１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライ
ドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルが
ある。その他の有用なｏ−ナフトキノンジアジド化合物
としては、数多くの特許に報告され、知られている。た
とえば、特開昭４７−５３０３号、同昭４８−６３８０
２号、同昭４８−６３８０３号、同昭４８−９６５７５
号、同昭４９−３８７０１号、同昭４８−１３３５４
号、特公昭３７−１８０１５号、同昭４１−１１２２２
号、同昭４５−９６１０号、同昭４９−１７４８１号公
報、米国特許第２，７９７，２１３号、同第３，４５
４，４００号、同第３，５４４，３２３号、同第３，５
７３，９１７号、同第３，６７４，４９５号、同第３，
７８５，８２５号、英国特許第１，２２７，６０２号、
同第１，２５１，３４５号、同第１，２６７，００５
号、同第１，３２９，８８８号、同第１，３３０，９３
２号、ドイツ特許第８５４，８９０号などの各明細書中
に記載されているものをあげることができる。The o-naphthoquinonediazide compound used in the present invention is an ester of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chlorite and pyrogallol-acetone resin described in JP-B-43-28403. Is preferred. Other suitable orthoquinonediazide compounds include US Pat. No. 3,046,120.
And esters of 1,2-diazonaphthoquinone sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin described in U.S. Pat. Other useful o-naphthoquinonediazide compounds have been reported in many patents and are known. For example, JP-A-47-5303 and JP-A-48-6380
No. 2, No. 48-63803, No. 48-96575
No., 1988-38701, 48-13354
No., Japanese Patent Publication No. 37-18015, and No. 41-11222
Nos. 45-9610 and 49-17481, U.S. Pat. Nos. 2,797,213 and 3,45.
No. 4,400, No. 3,544,323, No. 3,5
No. 73,917, No. 3,674,495, No. 3,
785,825, British Patent No. 1,227,602,
Nos. 1,251,345 and 1,267,005
No. 1,329,888, No. 1,330,93
No. 2, German Patent No. 854,890, and the like.

【００２７】本発明において特に好ましいｏ−ナフトキ
ノンジアジド化合物は、分子量１，０００以下のポリヒ
ドロキシ化合物と１，２−ジアゾナフトキノンスルホン
酸クロリドとの反応により得られる化合物である。この
ような化合物の具体例は、特開昭５１−１３９４０２
号、同５８−１５０９４８号、同５８−２０３４３４
号、同５９−１６５０５３号、同６０−１２１４４５
号、同６０−１３４２３５号、同６０−１６３０４３
号、同６１−１１８７４４号、同６２−１０６４５号、
同６２−１０６４６号、同６２−１５３９５０号、同６
２−１７８５６２号、特願昭７２−２３３２９２号、米
国特許第３，１０２，８０９号、同第３，１２６，２８
１号、同第３，１３０，０４７号、同第３，１４８，９
８３号、同第３，１８４，３１０号、同第３，１８８，
２１０号、同第４，６３９，４０６号などの各公報また
は明細書に記載されているものを挙げることができる。The particularly preferred o-naphthoquinonediazide compound in the present invention is a compound obtained by reacting a polyhydroxy compound having a molecular weight of 1,000 or less with 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride. Specific examples of such compounds are described in JP-A-51-139402.
No. 58-150948, No. 58-203434
No., 59-165053, 60-12445
No. 60-134235, No. 60-16343
No. 61-118744, No. 62-10645,
No. 62-10646, No. 62-153950, No. 6
No. 2-178562, Japanese Patent Application No. 72-233292, U.S. Pat. Nos. 3,102,809 and 3,126,28.
No. 1, No. 3,130,047, No. 3,148,9
No. 83, No. 3,184,310, No. 3,188,
No. 210, No. 4,639, 406 and the like, and those described in each gazette or specification.

【００２８】これらのｏ−ナフトキノンシアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを０．２〜１．２当量反応させる事が好ましく、さ
らに０．３〜１．０当量反応させる事が好ましい。また
得られるｏ−ナフトキノンジアジド化合物は、１，２−
ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及び導
入量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキシル
基がすべて１，２−ジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テルで転換された化合物がこの混合物中に占める割合
（完全にエステル化された化合物の含有量）は５モル％
以上である事が好ましく、さらに好ましくは２０〜９９
モル％である。本発明の感光性平版印刷版の感光層中に
占めるｏ−ナフトキノンジアジド化合物の量は５〜５０
重量％で、より好ましくは１５〜４０重量％である。When synthesizing these o-naphthoquinone cyanazide compounds, it is preferable to react 0.2 to 1.2 equivalents of 1,2-diazonaphthoquinone sulfonic acid chloride with respect to the hydroxyl groups of the polyhydroxy compound. Further, it is preferable to react 0.3 to 1.0 equivalent. The obtained o-naphthoquinonediazide compound is 1,2-
A mixture of diazonaphthoquinonesulfonic acid ester groups having various positions and introduced amounts is different, and the ratio of the compound in which all the hydroxyl groups are converted to 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid ester in the mixture (complete esterification) 5 mol%)
It is preferably at least 20, more preferably 20 to 99.
Mol%. The amount of the o-naphthoquinonediazide compound in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is 5 to 50.
%, More preferably 15 to 40% by weight.

【００２９】本発明の感光性平版印刷版の感光層中に
は、前記高分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾ
ールホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール
（ｍ−、ｐ−、またはｍ−／ｐ−混合のいずれでもよ
い）混合ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルム
アルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒ
ドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン
等、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させる
ことができる。これらのアルカリ可溶性高分子化合物
は、重量平均分子量が５００〜２０，０００で数平均分
子量が２００〜６０，０００のものが好ましい。かかる
アルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の７０重量％
以下の添加量で用いられる。In the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, in addition to the above-mentioned polymer compound, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin And phenol / cresol (which may be m-, p-, or m- / p-mixture), such as cresol formaldehyde resin such as mixed formaldehyde resin, phenol-modified xylene resin, polyhydroxystyrene, and polyhalogenated hydroxystyrene. An alkali-soluble polymer compound can be contained. These alkali-soluble polymer compounds preferably have a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 60,000. Such an alkali-soluble polymer compound accounts for 70% by weight of the total composition.
The following addition amount is used.

【００３０】更に、米国特許第４，１２３，２７９号明
細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物
を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好まし
い。本発明の感光性平版印刷版における感光層中には、
感度を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有
機酸類を添加することが好ましい。環状酸無水物として
は米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されて
いるように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、
ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−△
4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタ
ル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フ
ェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリッ
ト酸等がある。フェノール類としては、ビスフェノール
Ａ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、
２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒド
ロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、４，４，４”−トリヒドロキシ−トリ
フェニルメタン、４，４’，３”，４”−テトラヒドロ
キシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニル
メタンなどが挙げられる。Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as a t-butylphenol formaldehyde resin or an octylphenol formaldehyde resin. It is preferable to use a condensate of phenol and formaldehyde in combination to improve the oil sensitivity of the image. In the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention,
It is preferable to add cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids to increase the sensitivity. Examples of the cyclic acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and the like as described in US Pat. No. 4,115,128.
Hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy- △
4 -tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol,
2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 4,4,4 "-trihydroxy-triphenylmethane, 4,4 ', 3", 4 " -Tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like.

【００３１】有機酸類としては、特開昭６０−８８９４
２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記載され
ている。スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル
類、カルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トル
エンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェ
ニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トル
イル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、１，４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アス
コルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、
フェノール類、有機酸類の感光性組成物中に占める割合
は、０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ましく
は、０．１〜５重量％である。As the organic acids, JP-A-60-8894
No. 2, JP-A-2-96755 and the like. There are sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphinic acids, phosphoric esters, carboxylic acids, and the like.Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl Sulfuric acid, phenylphosphonic acid,
Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexene-2,2- Examples thereof include dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid. The above cyclic acid anhydrides,
The proportion of phenols and organic acids in the photosensitive composition is preferably from 0.05 to 15% by weight, and more preferably from 0.1 to 5% by weight.

【００３２】また、本発明の感光性平版印刷版における
感光層中には、現像のラチチュードを広げるために、特
開昭６２−２５１７４０号公報や、特願平２−１８１２
４８号明細書に記載されているような非イオン性界面活
性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特願平２−１
１５９９２号明細書に記載されているような両性界面活
性剤を添加することができる。非イオン性界面活性剤の
具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビ
タンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステ
アリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエ
ーテルなどが挙げられ、両性界面活性剤の具体例として
は、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポ
リアミノエチルグリシン塩酸塩、アモーゲンＫ（商品
名、第一工業（株）製、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベ
タイン型）、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ
−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、レボン
１５（商品名、三洋化成（株）製、アルキルイミダゾリ
ン系）などが挙げられる。上記非イオン性界面活性剤、
両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合は０．０
５〜１５重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５
重量％である。In the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 62-251740 and Japanese Patent Application No. 2-1812 are disclosed in order to widen the development latitude.
Non-ionic surfactants as described in JP-A-48-48, JP-A-59-121044, Japanese Patent Application No. 2-1.
Amphoteric surfactants such as those described in 15992 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Specific examples of the activator include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, Ammogen K (trade name, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd., N-tetradecyl-N, N-betaine type), 2- Alkyl-N-carboxyethyl-N
-Hydroxyethylimidazolinium betaine, Levon 15 (trade name, manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd., alkylimidazoline type) and the like. The nonionic surfactant,
The proportion of the amphoteric surfactant in the photosensitive composition is 0.0
It is preferably from 5 to 15% by weight, more preferably from 0.1 to 5% by weight.
% By weight.

【００３３】本発明の感光性平版印刷版における感光層
中には、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画
像着色剤としての染料やその他のフィラーなどを加える
ことができる。本発明に用いることのできる染料として
は、特開平５−３１３３５９号公報に記載の塩基性染料
骨格を有するカチオンと、スルホン酸基を唯一の交換基
として有し、１〜３個の水酸基を有する炭素数１０以上
の有機アニオンとの塩からなる塩基性染料をあげること
ができる。添加量は、全感光性組成物の０．２〜５重量
％である。また、上記特開平５−３１３３５９号公報に
記載の染料と相互作用して色調を変えさせる光分解物を
発生させる化合物、例えば特開昭５０−３６２０９号
（米国特許３，９６９，１１８号）に記載のｏ−ナフト
キノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニド、特開昭５
３−３６２２３号（米国特許４，１６０，６７１号）に
記載のトリハロメチル−２−ピロンやトリハロメチルト
リアジン、特開昭５５−６２４４４号（米国特許２，０
３８，８０１号）に記載の種々のｏ−ナフトキノンジア
ジド化合物、特開昭５５−７７７４２号（米国特許４，
２７９，９８２号）に記載の２−トリハロメチル−５−
アリール１，３，４−オキサジアゾール化合物などを添
加することができる。これらの化合物は単独または混合
し使用することができる。In the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a dye as an image coloring agent and other fillers can be added. Examples of the dye that can be used in the present invention include a cation having a basic dye skeleton described in JP-A-5-313359 and a sulfonic acid group as the only exchange group, and having 1 to 3 hydroxyl groups. A basic dye comprising a salt with an organic anion having 10 or more carbon atoms can be used. The addition amount is 0.2 to 5% by weight of the total photosensitive composition. Further, compounds described in the above-mentioned JP-A-5-313359, which generate a photo-decomposable substance which changes color tone by interacting with the dye, for example, JP-A-50-36209 (US Pat. No. 3,969,118) O-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide described in
3-36223 (U.S. Pat. No. 4,160,671) describes trihalomethyl-2-pyrone and trihalomethyltriazine, and JP-A-55-62444 (U.S. Pat.
38,801), various o-naphthoquinonediazide compounds described in JP-A-55-77742 (U.S. Pat.
279, 982).
An aryl 1,3,4-oxadiazole compound or the like can be added. These compounds can be used alone or as a mixture.

【００３４】画像の着色剤として前記上記特開平５−３
１３３５９号公報に記載の染料以外に他の染料を用いる
ことができる。塩形成性有機染料を含めて好適な染料と
して油溶性染料および塩基染料をあげることができる。
具体的には、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯ
Ｓ、オイルブルー＃６０３、（以上、オリエント化学工
業株式会社製）、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ〔保土
谷化学（株）製〕、ローダミンＢ（Ｃ１４５１７０
Ｂ）、マラカイトグリーン（Ｃ１４２０００）、メチレ
ンブルー（Ｃ１５２０１５）等をあげることができる。As a colorant for an image, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-3
Other dyes besides the dyes described in JP 13359 can be used. Suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes.
Specifically, Oil Green BG, Oil Blue BO
S, Oil Blue # 603 (original manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Rhodamine B (C145170)
B), malachite green (C142000), methylene blue (C152015) and the like.

【００３５】本発明の感光性平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウム
板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸化
アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリケ
ート電着したアルミニウム板があり、その他の亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。これらの
中でも、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板に
は純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれ
る。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、
例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、
亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウ
ムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの
鉄およびチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不
純物をも含むものである。When the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is produced, the support may be a hydrophilic aluminum plate, for example, a silicate-treated aluminum plate, an anodized aluminum plate, a grained aluminum plate, or a silicate electrodeposited plate. There are aluminum plates, other zinc plates,
Stainless steel plates, chromed steel plates, plastic films and papers subjected to hydrophilic treatment can be used. Among these, an aluminum plate is preferable. The aluminum plate includes a pure aluminum plate and an aluminum alloy plate. Various aluminum alloys can be used,
For example, silicon, copper, manganese, magnesium, chromium,
An alloy of a metal such as zinc, lead, bismuth, and nickel and aluminum is used. These compositions also contain some negligible amount of impurities in addition to some iron and titanium.

【００３６】アルミニウム板は、必要に応じて表面処理
される。例えば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコ
ニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あ
るいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていること
が好ましい。また、米国特許第２，７１４，０６６号明
細書に記載されているように、砂目立てしたのち珪酸ナ
トリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特
許第３，１８１，４６１号明細書に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、
硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸
等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単
独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム
板を陽極として電流を流すことにより実施される。The aluminum plate is subjected to a surface treatment as required. For example, surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate, or the like, or anodic oxidation treatment is preferably performed. Also, as described in U.S. Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate grained and then immersed in an aqueous solution of sodium silicate is disclosed in U.S. Pat. No. 3,181,461. As described above, an aluminum plate that has been subjected to anodizing treatment and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used. The anodizing treatment, for example, phosphoric acid, chromic acid,
Conducted by passing an electric current using an aluminum plate as an anode in an electrolytic solution of an inorganic acid such as sulfuric acid or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid or an aqueous solution or a non-aqueous solution of these salts alone or in combination of two or more. Is done.

【００３７】また、米国特許第３，６５８，６６２号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とす
る為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上
させる為に施されるものである。アルミニウム板を砂目
立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去
すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるために
その表面の前処理を施しても良い。前者のためには、ト
リクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又
後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
アルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われてい
る。Also, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is effective. These hydrophilic treatments are performed not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent harmful reactions with the photosensitive composition provided thereon and to improve the adhesion with the photosensitive layer. It is done to improve. Prior to graining the aluminum plate, if necessary, the surface may be subjected to a pretreatment to remove rolling oil on the surface and to expose a clean aluminum surface. For the former, solvents such as trichlene, surfactants and the like are used. For the latter, a method using an alkali etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used.

【００３８】砂目立て方法としては、機械的、化学的お
よび電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽
石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで
擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸また
はこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する
方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開
昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機
械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法
は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好まし
い。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板
の表面の中心線表面粗さ（Ｈａ）が０．３〜１．０μと
なるような範囲で施されることが好ましい。このように
して砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗
および化学的にエッチングされる。As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a blast polishing method, and a brush polishing method in which an aqueous dispersion slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush, and the chemical method is disclosed in JP-A-54-31187. A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in the official gazette is suitable, and as an electrochemical method, a method of alternating current electrolysis in an acidic electrolyte such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof is used. Is preferred. Among such surface roughening methods, particularly, a surface roughening method combining mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-137993, Is preferred because of its strong adhesion to the support. The graining by the above-described method is preferably performed in a range where the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μ. The aluminum plate thus grained is washed with water and chemically etched as required.

【００３９】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、ク
ロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面
に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これ等の
エッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用
するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間１
分あたり０．３グラムから４０ｇ／m2になる様に行なわ
れるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回る
ものであっても差支えない。The etching solution is usually selected from aqueous solutions of bases or acids that dissolve aluminum. In this case, a film different from aluminum derived from the etchant component must not be formed on the etched surface. Preferred examples of the etching agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, and dipotassium phosphate as basic substances; and sulfuric acid and persulfuric acid as acidic substances. , Phosphoric acid, hydrochloric acid, and salts thereof. Metals having a lower ionization tendency than aluminum, such as salts of zinc, chromium, cobalt, nickel, and copper, are not preferable because they form unnecessary films on the etched surface. These etchants have a dissolution rate of 1 hour or less for the aluminum or alloy to be used in setting the concentration and temperature for use.
Most preferably, it is carried out at a rate of 0.3 g to 40 g / m 2 per minute, but it may be higher or lower.

【００４０】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５
〜１０ｇ／m2の範囲となるように処理されることが好ま
しい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度
が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望
ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デス
マット処理される。デスマット処理に使用される酸は、
硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうふつ化水
素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミニウ
ム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化
は、この分野で従来より行なわれている方法で行なうこ
とができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそ
れらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中で
アルミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミ
ニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることがで
きる。The etching is performed by immersing the aluminum plate in the above-mentioned etching solution, or by applying an etching solution to the aluminum plate.
The treatment is preferably performed so as to be in the range of 10 to 10 g / m 2 . As the etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, since a smut is generated, a normal desmutting process is performed. The acid used for desmut treatment is
Nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, hydrofluoric acid and the like are used. The etched aluminum plate is optionally washed with water and anodized. The anodic oxidation can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when a direct current or an alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or a non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid or the like or a combination of two or more thereof, the aluminum support An anodized film can be formed on the body surface.

【００４１】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０アンペア/dm2、電圧１〜１０
０Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４
１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度で陽極酸化する方法および米国特許第３，５１１，
６６１号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽
極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化され、
さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて
親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特
許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１
号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例
えば珪酸ナトリウム水溶液または特公昭３６−２２０６
３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム
および米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法が
ある。The anodizing treatment conditions cannot be generally determined because they vary depending on the electrolytic solution used. However, in general, the concentration of the electrolytic solution is 1 to 80% by weight, and the liquid temperature is 5 to 70%.
° C, current density 0.5-60 amps / dm 2 , voltage 1-10
0V and an electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes are appropriate. Among these anodizing treatments, in particular, British Patent No. 1,4
Anodizing at high current density in sulfuric acid as described in U.S. Pat.
The method of anodizing phosphoric acid as an electrolytic bath described in US Pat. No. 661 is preferable. Roughened as above,
Further, the anodized aluminum plate may be subjected to a hydrophilization treatment as necessary. Preferred examples thereof include U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,461.
Alkali metal silicates such as those disclosed in US Pat.
There is a method of treating with potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent No. 3 and polyvinyl phosphonic acid as disclosed in US Pat. No. 4,153,461.

【００４２】また、上述のように粗面化され、陽極酸化
され、更に必要に応じて親水化処理されたアルミニウム
板上には、水溶性化合物からなる下塗層を設けることが
できる。このような水溶性化合物の例としては特公昭５
７−１６３４９号公報に開示されている。水溶性金属塩
と親水性セルロースの組合せ（例えば、塩化亜鉛とカル
ボキシメチルセルロース、塩化マグネシウムとヒドロキ
シルエチルセルロースなど）、米国特許第３，５１１，
６６１号明細書に開示されているポリアクリルアミド、
特公昭４６−３５６８５号公報に開示されているポリビ
ニルホスホン酸、特開昭６０−１４９４９１公報に開示
されているアミノ酸およびその塩類（Ｎａ塩、Ｋ塩等の
アルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、しゅう酸
塩、酢酸塩、りん酸塩等）、特開昭６０−２３２９９８
公報に開示されている水酸基を有するアミン類およびそ
の塩、水酸基をもつアミンおよびその塩は特に好まし
い。このような水溶性化合物の下塗り層は固型分で１ｍ
ｇ／ｍ2 〜８０ｍｇ／ｍ2 の範囲で設けるのが好まし
い。An undercoat layer made of a water-soluble compound can be provided on the aluminum plate which has been roughened as described above, anodized and, if necessary, subjected to hydrophilization. An example of such a water-soluble compound is disclosed in
No. 7-16349. Combinations of water-soluble metal salts and hydrophilic cellulose (eg, zinc chloride and carboxymethyl cellulose, magnesium chloride and hydroxylethyl cellulose, etc.), US Pat.
No. 661, polyacrylamide,
Polyvinylphosphonic acid disclosed in JP-B-46-35885, amino acids disclosed in JP-A-60-149491 and salts thereof (such as alkali metal salts such as Na salt and K salt, ammonium salt, hydrochloride, Oxalate, acetate, phosphate etc.), JP-A-60-232998
Particularly preferred are amines having a hydroxyl group and salts thereof, and amines having a hydroxyl group and salts thereof disclosed in the gazette. The undercoat layer of such a water-soluble compound has a solid content of 1 m.
preferably provided in a range of g / m 2 ~80mg / m 2 .

【００４３】本発明において、前記の各感光性組成物の
成分を溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布すること
によって感光性平版印刷版を得ることができる。ここで
使用する溶媒としては、γ−ブチロラクトン、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルア
セテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メト
キシ−２−プロピルアセテート、トルエン、酢酸エチ
ル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、
ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、水、Ｎ
−メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアルコー
ル、アセトン、ジアセトンアルコール、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルなどがあり、これらの溶媒を単独あるい
は混合して使用する。そして上記成分中の濃度（固形
分）は、２〜５０重量％が適当である。また、塗布量は
用途により異なるが、例えば感光性平版印刷版について
いえば一般的に固形分として０．５〜３．０ｇ／ｍ2 が
好ましい。塗布量が少なくなるにつれ感光性は大になる
が、感光膜の物性は低下する。In the present invention, a photosensitive lithographic printing plate can be obtained by dissolving the components of each photosensitive composition described above in a solvent capable of dissolving and applying the resulting composition to a support. As the solvent used here, γ-butyrolactone, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2- Propyl acetate, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide,
Dimethylacetamide, dimethylformamide, water, N
-Methylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl alcohol, acetone, diacetone alcohol, methanol, ethanol, isopropanol, diethylene glycol dimethyl ether and the like, and these solvents are used alone or in combination. The concentration (solid content) in the above components is suitably 2 to 50% by weight. The amount of application varies depending on the application, but for example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate, it is generally preferred that the solid content be 0.5 to 3.0 g / m 2 . The photosensitivity increases as the coating amount decreases, but the physical properties of the photosensitive film deteriorate.

【００４４】本発明の感光性平版印刷版における感光層
中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特
開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているような
フッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい
添加量は、全感光性組成物の０．０１〜１重量％、更に
好ましくは０．０５〜０．５重量％である。上記のよう
にして設けられた感光層の表面は、真空焼枠を用いた密
着露光の際の真空引きの時間を短縮し、かつ焼きボケを
防ぐため、マット化することが好ましい。具体的には、
特開昭５０−１２５８０５号、特公昭５７−６５８２
号、同６１−２８９８６号の各公報に記載されているよ
うなマット層を設ける方法、特公昭６２−６２３３７号
公報に記載されているような固体粉末を熱融着させる方
法などが挙げられる。In the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, a surfactant for improving coatability, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950, is used. Agents can be added. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight of the whole photosensitive composition. The surface of the photosensitive layer provided as described above is preferably matted in order to reduce the time for evacuation during contact exposure using a vacuum printing frame and to prevent printing blur. In particular,
JP-A-50-125805, JP-B-57-6582
And a method of providing a mat layer as described in JP-A-61-28986, and a method of thermally fusing a solid powder as described in JP-B-62-62337.

【００４５】本発明の感光性平版印刷版に対する現像液
は、実質的に有機溶剤を含まないアルカリ性の水溶液が
好ましく、具体的には珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、
第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リ
ン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタ珪酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、重炭酸カリウム、アンモニア水などのような
水溶液が適当であり、それらの濃度が０．１〜１０重量
％、好ましくは０．５〜５重量％になるように添加され
る。これらの中でもケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、
ケイ酸ナトリウム等のケイ酸アルカリを含有する現像液
は、印刷時の汚れが生じにくいため好ましく、ケイ酸ア
ルカリの組成がモル比で〔ＳｉＯ2 〕／〔Ｍ〕＝０．５
〜２．５（ここに〔ＳｉＯ2 〕、〔Ｍ〕はそれぞれ、Ｓ
ｉＯ2 のモル濃度と総アルカリ金属のモル濃度を示
す。）であり、かっＳｉＯ2 を０．８〜８重量％含有す
る現像液が好ましく用いられる。また該現像液中には、
例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸マグ
ネシウムなどの水溶性亜硫酸塩や、レゾルシン、メチル
レゾルシン、ハイドロキノン、チオサリチル酸などを添
加することができる。これらの化合物の現像液中におけ
る好ましい含有量は０．００２〜４重量％で、好ましく
は０．０１〜１重量％である。The developer for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is preferably an alkaline aqueous solution containing substantially no organic solvent, and specifically, sodium silicate, potassium silicate,
Sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide,
An aqueous solution such as sodium phosphate tribasic, sodium phosphate dibasic, ammonium phosphate tribasic, ammonium phosphate dibasic, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate, aqueous ammonia, etc. Suitably, they are added in a concentration of 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight. Among these, potassium silicate, lithium silicate,
A developer containing an alkali silicate such as sodium silicate is preferable because it does not easily cause staining during printing, and the composition of the alkali silicate is [SiO 2 ] / [M] = 0.5 in a molar ratio.
~ 2.5 (where [SiO 2 ] and [M] are S
The molar concentration of iO 2 and the molar concentration of total alkali metal are shown. ), And the developer is preferably used which contains cut the SiO 2 0.8 to 8 wt%. In the developer,
For example, water-soluble sulfites such as sodium sulfite, potassium sulfite, and magnesium sulfite, resorcin, methylresorcin, hydroquinone, thiosalicylic acid, and the like can be added. The preferred content of these compounds in the developer is 0.002 to 4% by weight, preferably 0.01 to 1% by weight.

【００４６】また該現像液中に、特開昭５０−５１３２
４号公報、同５９−８４２４１号公報に記載されている
ようなアニオン性界面活性剤、及び両性界面活性剤、特
開昭５９−７５２５５号公報、同６０−１１１２４６号
公報及び同６０−２１３９４３号公報等に記載されてい
るような非イオン性界面活性剤のうち少なくとも一種を
含有させることにより、または特開昭５５−９５９４６
号公報、同５６−１４２５２８号公報に記載されている
ように高分子電解質を含有させることにより、感光性組
成物への濡れ性を高めたり、現像の安定性（現像ラチチ
ュード）を高めたりすることができ、好ましく用いられ
る。かかる界面活性剤の添加量は、０．００１〜２重量
％が好ましく、特に０．００３〜０．５重量％が好まし
い。更に該ケイ酸アルカリのアルカリ金属として、全ア
ルカリ金属中、カリウムを２０モル％以上含むことが現
像液中で不溶物発生が少ないため好ましく、より好まし
くは９０モル％以上、最も好ましくはカリウムが１００
モル％の場合である。In the developer, JP-A-50-5132 is used.
4, JP-A-59-84241 and JP-A-59-84241, and JP-A-59-75255, JP-A-60-111246 and JP-A-60-213943. JP-A-55-95946, by incorporating at least one nonionic surfactant as described in Japanese Patent Publications
As described in JP-A-56-142528, a polymer electrolyte is contained to enhance wettability to a photosensitive composition and development stability (development latitude). Are preferably used. The addition amount of such a surfactant is preferably 0.001 to 2% by weight, particularly preferably 0.003 to 0.5% by weight. Further, as the alkali metal of the alkali silicate, it is preferable that potassium is contained in an amount of 20 mol% or more of the total alkali metal because less insoluble matter is generated in the developer, more preferably 90 mol% or more, and most preferably 100 mol% or more.
It is the case of mol%.

【００４７】更に本発明に使用される現像液には、若干
のアルコール等の有機溶媒や特開昭５８−１９０９５２
号公報に記載されているキレート剤、特公平１−３０１
３９号公報に記載されているような金属塩、有機シラン
化合物などの消泡剤を添加することができる。露光に使
用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀灯、キセ
ノンランプ、タングステンランプ、メタルハライドラン
プなどがある。Further, the developing solution used in the present invention may contain a small amount of an organic solvent such as an alcohol or the like, as described in JP-A-58-190952.
Chelating agent described in Japanese Patent Publication No. 1-301
An antifoaming agent such as a metal salt or an organic silane compound described in JP-A-39 can be added. Light sources used for exposure include a carbon arc lamp, a mercury lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, and a metal halide lamp.

【００４８】上述した感光性平版印刷版は、特開昭５４
−８００２号、同５５−１１５０４５号、同５９−５８
４３１号の各公報に記載されている方法で製版処理して
もよいことは言うまでもない。即ち、現像処理後、水洗
してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処理、
または酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水溶液
で処理後不感脂化処理を施してもよい。更に、この種の
感光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じてアル
カリ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少したり、ある
いは、自動現像液の長時間運転により空気によってアル
カリ濃度が減少するため処理能力が低下するが、その
際、特開昭５４−６２００４号の記載のように補充液を
用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特
許第４，８８２，２４６号に記載されている方法で補充
することが好ましい。また、上記のような製版処理は、
特開平２−７０５４号、同２−３２３５７号に記載され
ているような自動現像機で行うことが好ましい。The photosensitive lithographic printing plate described above is disclosed in
-8002, 55-115045 and 59-58
Needless to say, the plate-making process may be performed by the method described in each publication of No. 431. That is, after the development processing, washing with water and then desensitization processing, or desensitization processing as it is,
Alternatively, treatment with an aqueous solution containing an acid or treatment with an aqueous solution containing an acid may be followed by desensitization treatment. Furthermore, in the development process of this type of photosensitive lithographic printing plate, the alkali aqueous solution is consumed depending on the processing amount and the alkali concentration is reduced, or the alkali concentration is reduced by air due to long-time operation of the automatic developing solution. Although the processing capacity is reduced, the processing capacity may be restored by using a replenisher as described in JP-A-54-62004. In this case, it is preferable to replenish by the method described in U.S. Pat. No. 4,882,246. In addition, the plate making process as described above,
It is preferable to use an automatic developing machine as described in JP-A-2-7054 and JP-A-2-32357.

【００４９】また、本発明の感光性平版印刷版を画像露
光し、現像し、水洗またはリンスしたのちに、不必要な
画像部の消去を行う場合には、特公平２−１３２９３号
公報に記載されているような消去液を用いることが好ま
しい。更に製版工程の最終工程で所望により塗布される
不感脂化ガムとしては、特公昭６２−１６８３４号、同
６２−２５１１８号、同６３−５２６００号、特開昭６
２−７５９５号、同６２−１１６９３号、同６２−８３
１９４号の各公報に記載されているものが好ましい。更
にまた、本発明の感光性平版印刷版を画像露光し、現像
し、水洗またはリンスし、所望により消去作業をし、水
洗したのちにバーニングする場合には、バーニング前に
特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開
昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公
報に記載されているような整面液で処理することが好ま
しい。Further, when the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is subjected to image exposure, development, washing or rinsing, and then unnecessary image portions are erased, it is described in JP-B-2-1293. It is preferable to use such an erasing liquid. Examples of the desensitized gum which is applied as required in the final step of the plate making process include JP-B-62-16834, JP-B-62-25118, JP-B-63-52600 and JP-A-6-52600.
Nos. 2-7595, 62-11693 and 62-83
What is described in each gazette of No. 194 is preferable. Furthermore, when the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is subjected to image exposure, development, washing or rinsing, erasing if desired, and washing after washing with water, before burning, Japanese Patent Publication No. 61-2518 is used. And JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, and JP-A-61-159655.

【００５０】[0050]

【実施例】以下、本発明を合成例、実施例により更に詳
細に説明するが、本発明の内容がこれにより限定される
ものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples, which should not be construed as limiting the scope of the present invention.

【００５１】〔合成例１〕撹絆機、冷却管、滴下ロート
を備えた２００ｍ１三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミ
ノスルホニルフェニル）メタクリルアミド３．６０ｇ
（０・０１５mole）、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート１．３０ｇ（０．０１mole）、メタクリル酸メチル
１．５０ｇ（０．０１５mole）、アクリロニトリル３．
１８ｇ（０．０６mole）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド２０ｇを入れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら
撹拌した。この混合物にＶ−６５（和光純薬（株）製）
０．２５ｇを加え６５℃に保ちながら窒素気流下２時間
撹拌した。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ−アミノス
ルホニルフェニル）メタクリルアミド３．６０ｇ、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート１．３０ｇ、メタクリ
ル酸メチル１．５０ｇ、アクリロニトリル３．１８ｇ及
びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇ及びＶ−６５
０．２５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロートにより滴
下した。滴下終了後さらに６５℃で２時間撹拌した。反
応終了後メタノール４０ｇを加え冷却し、水２Ｌに撹拌
下投入し、３０分間撹拌した後濾過乾燥することにより
１８ｇの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの高分子化合物の重量平均分子量
（ポリスチレン標準）を測定したところ４５０００であ
った（本発明の高分子化合物（ａ））。Synthesis Example 1 N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (3.60 g) was placed in a 200-ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, and a dropping funnel.
(0.015 mole), 1.30 g (0.01 mole) of 2-hydroxyethyl methacrylate, 1.50 g (0.015 mole) of methyl methacrylate, acrylonitrile
18 g (0.06 mole) and 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. This mixture was mixed with V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
0.25 g was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C. The reaction mixture was further treated with N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (3.60 g, 2-
1.30 g of hydroxyethyl methacrylate, 1.50 g of methyl methacrylate, 3.18 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide and V-65
0.25 g of the mixture was added dropwise from the dropping funnel over 2 hours. After the addition, the mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After the completion of the reaction, 40 g of methanol was added, and the mixture was cooled, poured into 2 L of water with stirring, stirred for 30 minutes, and filtered and dried to obtain 18 g of a white solid. The weight average molecular weight (polystyrene standard) of this polymer compound was measured by gel permeation chromatography and found to be 45,000 (polymer compound (a) of the present invention).

【００５２】〔合成例２〜７〕合成例１と同様にして第
１表に示される高分子化合物（ｂ）〜（ｉ）を合成し
た。[Synthesis Examples 2 to 7] Polymer compounds (b) to (i) shown in Table 1 were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1.

【００５３】[0053]

【表１】 [Table 1]

【００５４】以下、本発明を実施例を用いて、より具体
的に説明する。なお、実施例中の「％」は、特に指定の
ない限り「重量％」を示すものとする。 〔実施例１〜１０および比較例１〜３〕厚さ０．３０ｍ
ｍのアルミニウム板をナイロンブラシと４００メッシュ
のパミストンの水懸濁液を用いてその表面を砂目立てし
た後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウム溶液
中に７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水
で水洗し、２０％ＨＮＯ3 で中和洗浄、水洗した。これ
をＶA ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を
用いて１％硝酸水溶液中で１６０クーロン／ｄｍ 2 の陽
極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを
測定したところ、０．６μ（Ｒａ表示）であった。ひき
つづいて３０％のＨ2 ＳＯ4 水溶液中に浸漬し５５℃で
２分間デスマットした後、２０％Ｈ2 ＳＯ4 水溶液中、
電流密度２Ａ／ｄｍ2 において厚さが２．７ｇ／ｍ2 に
なるように陽極酸化し、基板を調製した。このように処
理された基板の表面に下記組成の下塗り液（Ａ）を塗布
し、８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は３０
ｍｇ／ｍ2 であった。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
Will be explained. Note that “%” in the examples is a special designation.
Unless otherwise indicated, "% by weight" is indicated. [Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3] 0.30 m in thickness
m aluminum plate with nylon brush and 400 mesh
The surface with an aqueous suspension of pumicestone
After that, it was washed well with water. 10% sodium hydroxide solution
After etching by dipping in 70 ° C for 60 seconds,
With 20% HNOThreeAnd washed with water. this
To VA= 12.7V under the condition of sinusoidal alternating current
160 coulomb / dm in 1% nitric acid aqueous solution TwoSunshine
Electrolytic surface-roughening treatment was performed with an extreme amount of electricity. Its surface roughness
When measured, it was 0.6 μ (Ra display). Ground
Then 30% HTwoSOFourImmersed in aqueous solution at 55 ° C
After desmutting for 2 minutes, 20% HTwoSOFourIn aqueous solution,
Current density 2A / dmTwo2.7 g / m in thicknessTwoTo
A substrate was prepared by anodizing as described above. Like this
Apply the undercoating liquid (A) of the following composition to the surface of the treated substrate
And dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying is 30
mg / mTwoMet.

【００５５】下塗り液（Ａ） アミノエチルホスホン酸 ０．１０ｇ フェニルホスホン酸 ０．１５ｇ トリエタノールアミン ０．０５ｇ β−アラニン ０．１０ｇ メタノール ４０ｇ 純水 ６０ｇ このようにして基板（Ｉ）を作製した。Undercoat solution (A) Aminoethylphosphonic acid 0.10 g Phenylphosphonic acid 0.15 g Triethanolamine 0.05 g β-alanine 0.10 g Methanol 40 g Pure water 60 g Thus, the substrate (I) was prepared.

【００５６】次にこの基板（Ｉ）上に次の感光液（Ｂ）
をロッドコーティングで２５ｍｌ／ｍ2 塗設し、１００
℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版印刷版〔Ｂ〕−１
〜〔Ｂ〕−９を得た。さらに下記感光液（Ｃ）を調製
し、〔Ｂ〕−１〜〔Ｂ〕−９と同様に塗布、乾燥してポ
ジ型感光性平版印刷版〔Ｃ〕−１〜〔Ｃ〕−４を作製し
た。乾燥後の塗布量は約１．７ｇ／ｍ2 であった。なお
感光性平版印刷版〔Ｂ〕−１〜〔Ｂ〕−９および〔Ｃ〕
−１〜〔Ｃ〕−４に用いた本発明または比較の高分子化
合物は表１に示されたものを用いた。Next, on the substrate (I), the next photosensitive liquid (B)
25 ml / m 2 by rod coating, and 100
Dried at 1 ° C. for 1 minute to form a positive photosensitive lithographic printing plate [B] -1
To [B] -9. Further, the following photosensitive solution (C) is prepared, and coated and dried in the same manner as in [B] -1 to [B] -9 to prepare positive photosensitive lithographic printing plates [C] -1 to [C] -4. did. The coating amount after drying was about 1.7 g / m 2 . The photosensitive lithographic printing plates [B] -1 to [B] -9 and [C]
The present invention or the comparative polymer compound used in -1 to [C] -4 was as shown in Table 1.

【００５７】 〔感光液（Ｂ）〕 ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンとナフト キノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリドとの エステル化物（エステル化率：９０ｍｏｌ％） ０．４５ｇ クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂（メタ、パ ラ比；６対４、重量平均分子量３，０００、数平均分子量 １，１００、未反応のクレゾールを０．７％含有） ０．２ｇ ｍ−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂（重量 平均分子量１，７００、数平均分子量６００、未反応のクレ ゾールを１％含有） ０．３ｇ ピロガロールとアセトンの縮合生成物（重量平均分子量 ２，２００、数平均分子量７００） ０．１ｇ 本発明の高分子化合物（または比較高分子化合物） １．１ｇ ｐ−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 （米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されている もの） ０．０２ｇ ナフトキノンジアジド−１，２−ジアジド−４−スルホン 酸クロライド ０．０１ｇ テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０２ｇ 安息香酸 ０．０２ｇ ４−〔ｐ−Ｎ−（ｐ−ヒドロキシベンゾイル）アミノフェ ニル〕−２，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン ０．０２ｇ Ｎ−（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ ニルオキシ）−シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸イミド ０．０１ｇ ビクトリアピュアーブルーＢＯＨ〔保土谷化学（株）製〕 の対アニオンを１−ナフタレンスルホン酸に変えた染料 クルクミン ０．００５ｇ １−〔α−メチル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ ヒドロキシメチルフェニル）エチル〕−４−〔α，α−ビス （４−ヒドロキシ−３，５−ジヒドロキシメチルフェニル） エチル〕ベンゼン ０．０４ｇ （特開平６−２８２０６７号明細書の化合物（Ｘ）） メガファックＦ−１７６（大日本インキ化学工業（株）製 フッ素系界面活性剤） ０．０１ｇ メチルエチルケトン １０ｇ γ−ブチロラクトン ５ｇ １−メトキシ−２−プロパノ−ル ５ｇ[Photosensitive solution (B)] Esterified product of 2,3,4-trihydroxybenzophenone and naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonyl chloride (esterification ratio: 90 mol%) 0.45 g cresol- Formaldehyde novolak resin (meta / para ratio; 6: 4, weight average molecular weight 3,000, number average molecular weight 1,100, containing 0.7% of unreacted cresol) 0.2 g m-cresol-formaldehyde novolak resin ( Weight average molecular weight 1,700, number average molecular weight 600, contains 1% of unreacted cresol) 0.3 g Condensation product of pyrogallol and acetone (weight average molecular weight 2,200, number average molecular weight 700) 0.1 g The present invention 1.1 g of p-normal octylphenol-forma Rudehyde resin (described in U.S. Pat. No. 4,123,279) 0.02 g Naphthoquinonediazide-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride 0.01 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.02 g Benzoic acid 0.02 g 4- [p-N- (p-hydroxybenzoyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.02 g N- (1,2-naphthoquinone-2-diazide-4 -Sulfonyloxy) -cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid imide 0.01 g A dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH [produced by Hodogaya Chemical Co., Ltd.] is changed to 1-naphthalenesulfonic acid Curcumin 0.005 g 1- [ α-methyl-α- (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) ethyl] 4- [α, α-bis (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) ethyl] benzene 0.04 g (compound (X) of JP-A-6-282067) Megafac F-176 (Dainippon) 0.01 g methyl ethyl ketone 10 g γ-butyrolactone 5 g 1-methoxy-2-propanol 5 g

【００５８】 〔感光液（Ｃ）〕 ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンとナフト キノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリドとの エステル化物（エステル化率：９０ｍｏｌ％） ０．４５ｇ 本発明の高分子化合物（または比較高分子化合物） １．７ｇ ｐ−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂 （米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されている もの） ０．０２ｇ ナフトキノンジアジド−１，２−ジアジド−４−スルホン 酸クロライド ０．０１ｇ テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０２ｇ 安息香酸 ０．０２ｇ ４−〔ｐ−Ｎ−（ｐ−ヒドロキシベンゾイル）アミノフェ ニル〕−２，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン ０．０２ｇ Ｎ−（１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ ニルオキシ）−シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸イミド ０．０１ｇ ビクトリアピュアーブルーＢＯＨ〔保土谷化学（株）製〕 の対アニオンを１−ナフタレンスルホン酸に変えた染料 クルクミン ０．００５ｇ １−〔α−メチル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ ヒドロキシメチルフェニル）エチル〕−４−〔α，α−ビス （４−ヒドロキシ−３，５−ジヒドロキシメチルフェニル） エチル〕ベンゼン ０．０４ｇ （特開平６−２８２０６７号明細書の化合物（Ｘ）） メガファックＦ−１７６（大日本インキ化学工業（株）製 フッ素系界面活性剤） ０．０１ｇ メチルエチルケトン １０ｇ γ−ブチロラクトン ５ｇ １−メトキシ−２−プロパノ−ル ５ｇ[Photosensitive solution (C)] Esterified product of 2,3,4-trihydroxybenzophenone and naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride (esterification ratio: 90 mol%) 0.45 g of the present invention 1.7 g of p-n-octylphenol-formaldehyde resin (as described in U.S. Pat. No. 4,123,279) 0.02 g of naphthoquinonediazide-1,2- Diazido-4-sulfonic acid chloride 0.01 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.02 g Benzoic acid 0.02 g 4- [p-N- (p-hydroxybenzoyl) aminophenyl] -2,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine 0.02 g N- (1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfo Nyloxy) -cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid imide 0.01 g Dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH [produced by Hodogaya Chemical Co., Ltd.] is changed to 1-naphthalenesulfonic acid Curcumin 0.005 g 1- [α- Methyl-α- (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) ethyl] benzene 0.04 g (particularly Compound (X) described in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 6-282067) Megafac F-176 (fluorinated surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.01 g methyl ethyl ketone 10 g γ-butyrolactone 5 g 1-methoxy-2-propano -L 5g

【００５９】感光性平版印刷版〔Ｂ〕−１〜９および
〔Ｃ〕−１〜４の感光層上に線画及び網点画像のポジ透
明原画を密着させ、３０アンペアのカーボンアーク灯で
７０ｃｍの距離から露光を行なった。露光された感光性
平版印刷版〔Ｂ〕−１〜９および〔Ｃ〕−１〜４をＤＰ
−４（商品名：富士写真フイルム（株）製）の８倍希釈
水溶液で２５℃において６０秒間浸漬現像した。得られ
た平版印刷版〔Ｂ〕−１〜９および〔Ｃ〕−１〜４を用
いてハイデルベルグ社製ＫＯＲ型印刷機で市販の通常イ
ンキ及びＵＶインキを用いて上質紙に印刷した。平版印
刷版〔Ｂ〕−１〜９および〔Ｃ〕−１〜４の最終印刷枚
数及び印刷物の汚れを調べたところ、表２に示すとおり
であった。表２からわかる様に、本発明の高分子化合物
を用いた平版印刷版〔Ｂ〕−１〜７（実施例１〜７）お
よび〔Ｃ〕−１〜３（実施例８〜１０）は、〔Ｂ〕−
８、９（比較例１、２）および〔Ｃ〕−４（比較例３）
と比べて通常インキ、ＵＶインキのどちらを用いた場合
においても印刷枚数が多く、耐刷性において非常に優
れ、また汚れ性能においても優れたものであった。A positive transparent original of a line image and a halftone dot image was brought into close contact with the photosensitive layers of the photosensitive lithographic printing plates [B] -1 to [9] and [C] -1 to 4, and 70 cm with a 30-amp carbon arc lamp. Exposure was performed from a distance. The exposed photosensitive lithographic printing plates [B] -1 to 9 and [C] -1 to 4 are DP
-4 (trade name: manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was immersed in an 8-fold diluted aqueous solution at 25 ° C. for 60 seconds. Using the obtained lithographic printing plates [B] -1 to 9 and [C] -1 to 4, printing was performed on high quality paper using a commercially available normal ink and UV ink with a KOR type printing machine manufactured by Heidelberg. The final number of printed sheets of the lithographic printing plates [B] -1 to 9 and [C] -1 to 4 and smearing of the printed matter were examined. As can be seen from Table 2, the lithographic printing plates [B] -1 to 7 (Examples 1 to 7) and [C] -1 to 3 (Examples 8 to 10) using the polymer compound of the present invention are: [B]-
8, 9 (Comparative Examples 1 and 2) and [C] -4 (Comparative Example 3)
Compared with the case of using either the normal ink or the UV ink, the number of printed sheets was large, the printing durability was excellent, and the stain performance was excellent.

【００６０】[0060]

【表２】 [Table 2]

【００６１】[0061]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の感光性平
版印刷版は、少なくとも上記（Ａ）及び（Ｂ）で示され
る単量体成分を有する共重合体を含有する感光層を有す
ることによって、基板に対する密着性が良く、柔軟な皮
膜を与え、有機溶剤溶解性の優れるため、支持体上に塗
布する際の塗布性に優れ、また塗布、乾燥、画像露光
後、露光部を水性アルカリ現像液で使用する際の現像性
に優れる。また、得られたレリーフ像は耐摩耗性、支持
体への密着性が良く、印刷版として使用した場合、良好
な印刷物が多数枚得られる。さらに、耐薬品性に優れ、
バーニング処理を行う事なくＵＶインクを使用した印刷
を行った場合においても良好な印刷物が多数枚得られ、
耐刷性に優れ、印刷時に汚れが生じない平版印刷版を提
供するという効果を奏する。As described above, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has a photosensitive layer containing at least the copolymer having the monomer components represented by the above (A) and (B). It has good adhesion to the substrate, gives a flexible film, and has excellent solubility in organic solvents, so it has excellent coatability when coated on a support. Excellent developability when used in a developer. Further, the obtained relief image has good abrasion resistance and good adhesion to a support, and when used as a printing plate, many good printed matter can be obtained. Furthermore, it has excellent chemical resistance,
Even when printing using UV ink without performing the burning process, many good printed matter can be obtained,
It is effective in providing a lithographic printing plate which is excellent in printing durability and does not generate stains during printing.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA07 AA08 AA12 AA13 AA14 AB03 AD03 BE01 CB06 CB41 CB45 CB52 2H096 AA06 BA10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA07 AA08 AA12 AA13 AA14 AB03 AD03 BE01 CB06 CB41 CB45 CB52 2H096 AA06 BA10

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶なビ
ニル重合系高分子化合物とｏ−ナフトキノンジアジドと
を含有する感光層を有する感光性平版印刷版において、
該ビニル重合系高分子化合物が、少なくとも下記（Ａ）
及び（Ｂ）で示される単量体成分を含有する共重合体で
あることを特徴とする感光性平版印刷版。 （Ａ）１分子中に１つ以上のスルホンアミド基と１つ以
上の重合可能な不飽和結合を有する化合物 （Ｂ）１分子中に１つ以上のアルコール性水酸基と１つ
以上の重合可能な不飽和結合を有する化合物1. A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive layer containing a vinyl polymer-based polymer compound insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution and o-naphthoquinonediazide,
The vinyl polymer type polymer compound has at least the following (A)
And a copolymer containing the monomer component represented by (B). (A) A compound having one or more sulfonamide groups and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule. (B) One or more alcoholic hydroxyl groups and one or more polymerizable compounds in one molecule. Compounds with unsaturated bonds
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EP2295247A1 (en) 2003-07-07 2011-03-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2295247A1 (en) 2003-07-07 2011-03-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
WO2008099727A1 (en) * 2007-02-15 2008-08-21 Kuraray.Co., Ltd. Α-substituted acrylate derivative and method for producing the same

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