JP2001019486A - ガラス組成 - Google Patents
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- JP2001019486A JP2001019486A JP11191749A JP19174999A JP2001019486A JP 2001019486 A JP2001019486 A JP 2001019486A JP 11191749 A JP11191749 A JP 11191749A JP 19174999 A JP19174999 A JP 19174999A JP 2001019486 A JP2001019486 A JP 2001019486A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
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- Materials Engineering (AREA)
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- Dispersion Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 比弾性率の高いガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス組成において、主成分の組成範囲
を、SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以
下、Al2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、
Li2Oが3wt%以上で且つ 15wt%以下、P2O
5が0.2wt%以上で且つ 5wt%以下、TiO2が
0.1wt%以上で且つ 10wt%以下、TiO2/
P2O5が1.1wt%以上で且つ 10wt%以下、と
した。
を、SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以
下、Al2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、
Li2Oが3wt%以上で且つ 15wt%以下、P2O
5が0.2wt%以上で且つ 5wt%以下、TiO2が
0.1wt%以上で且つ 10wt%以下、TiO2/
P2O5が1.1wt%以上で且つ 10wt%以下、と
した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はガラス組成、特に結
晶化ガラスに適したガラス組成に関する。さらに詳しく
は、結晶化ガラス磁気ディスクの組成に関する。
晶化ガラスに適したガラス組成に関する。さらに詳しく
は、結晶化ガラス磁気ディスクの組成に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、磁気ディスク用の基板としては、
アルミニウム基板、ガラス基板等が実用化されている。
中でもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れ
ていることから、最も注目されている。そのようなガラ
ス基板としては、ガラス基板表面をイオン交換で強化し
た化学強化ガラス基板や、基板に結晶成分を析出させて
結合の強化を図る結晶化ガラス基板が知られている。
アルミニウム基板、ガラス基板等が実用化されている。
中でもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れ
ていることから、最も注目されている。そのようなガラ
ス基板としては、ガラス基板表面をイオン交換で強化し
た化学強化ガラス基板や、基板に結晶成分を析出させて
結合の強化を図る結晶化ガラス基板が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで最近の基板に
対する性能の要求は、日に日に厳しくなってきており、
とくに高速回転時のたわみやそりに直接的に関わる強度
に対する性能の向上が求められている。これは基板材料
の比弾性率(=ヤング率/比重)によって表すことがで
き、数値が高ければ高いほど望ましい。またこのような
要求を満たしながら、生産性の向上が求められている。
そこで本発明は、ガラスの比弾性率が向上し、さらに生
産性の高いを組成を提供することを目的とする。
対する性能の要求は、日に日に厳しくなってきており、
とくに高速回転時のたわみやそりに直接的に関わる強度
に対する性能の向上が求められている。これは基板材料
の比弾性率(=ヤング率/比重)によって表すことがで
き、数値が高ければ高いほど望ましい。またこのような
要求を満たしながら、生産性の向上が求められている。
そこで本発明は、ガラスの比弾性率が向上し、さらに生
産性の高いを組成を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1に記載された発明は、主成分の組成範囲を、
SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以下、A
l2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、Li2
Oが3wt%以上で且つ 15wt%以下、P2O5が
0.2wt%以上で且つ 5wt%以下、TiO2が
0.1wt%以上で且つ 10wt%以下、TiO2/
P2O5が1.1wt%以上で且つ 10wt%以下、に
したことを特徴とする。
に請求項1に記載された発明は、主成分の組成範囲を、
SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以下、A
l2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、Li2
Oが3wt%以上で且つ 15wt%以下、P2O5が
0.2wt%以上で且つ 5wt%以下、TiO2が
0.1wt%以上で且つ 10wt%以下、TiO2/
P2O5が1.1wt%以上で且つ 10wt%以下、に
したことを特徴とする。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。本発明に係る実施形態のガラス基板は、主成
分の組成範囲が、SiO2が65wt%以上で且つ80
wt%以下、Al2O3が3wt%以上で且つ15wt%
以下、Li2Oが3wt%以上で且つ15wt%以下、
P2O5が0.2wt%以上で且つ5wt%以下、TiO
2が0.1wt%以上で且つ10wt%以下、TiO2/
P2O5が1.1以上で且つ10であることを特徴として
いる。
説明する。本発明に係る実施形態のガラス基板は、主成
分の組成範囲が、SiO2が65wt%以上で且つ80
wt%以下、Al2O3が3wt%以上で且つ15wt%
以下、Li2Oが3wt%以上で且つ15wt%以下、
P2O5が0.2wt%以上で且つ5wt%以下、TiO
2が0.1wt%以上で且つ10wt%以下、TiO2/
P2O5が1.1以上で且つ10であることを特徴として
いる。
【0006】SiO2はガラス形成酸化物のため組成比
が65wt%より少ないと、溶融性が悪くなり、80w
t%を越えるとガラスとして安定状態になるため、結晶
が析出しにくくなる。
が65wt%より少ないと、溶融性が悪くなり、80w
t%を越えるとガラスとして安定状態になるため、結晶
が析出しにくくなる。
【0007】Al2O3はガラス中間酸化物であり、熱処
理によって析出する結晶相であるホウ酸アルミニウム系
結晶の構成成分である。組成比が3wt%より少ないと
析出結晶が少なく、強度が得られず、15wt%を越え
ると溶融温度が高くなり失透しやすくなる。
理によって析出する結晶相であるホウ酸アルミニウム系
結晶の構成成分である。組成比が3wt%より少ないと
析出結晶が少なく、強度が得られず、15wt%を越え
ると溶融温度が高くなり失透しやすくなる。
【0008】Li2Oは融剤としての役割を果たすとと
もに、リチウムダイシリケート系結晶の構成成分であ
る。組成比が3wt%より少ないと結晶相であるリチウ
ムダイシリケートの析出が不十分となり、15wt%を
越えると、析出結晶相のリチウムダイシリケートが不安
定となり結晶化を制御しにくくなる。また化学的耐久性
が低下し磁気膜に影響を与える恐れがあり、また研磨−
洗浄工程における安定性が悪くなる。
もに、リチウムダイシリケート系結晶の構成成分であ
る。組成比が3wt%より少ないと結晶相であるリチウ
ムダイシリケートの析出が不十分となり、15wt%を
越えると、析出結晶相のリチウムダイシリケートが不安
定となり結晶化を制御しにくくなる。また化学的耐久性
が低下し磁気膜に影響を与える恐れがあり、また研磨−
洗浄工程における安定性が悪くなる。
【0009】P2O5は融剤として働き、リチウムダイシ
リケート系結晶を析出させる核形成剤であり、ガラス全
体に結晶を均一に析出させるために重要な成分である。
組成比が0.2wt%より少ないと十分な結晶核が形成
されにくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質
に析出し、微細で均質な結晶構造が得られにくくなり、
研磨加工においてディスク基板として必要な平滑面が得
られなくなる。また難溶融性のZrO2成分に対する融
剤としての効果が十分得られなくなる。5wt%を越え
ると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、また失透性
も強くなることから溶融成形時の生産性が低下する。ま
た化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れが
あると共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
リケート系結晶を析出させる核形成剤であり、ガラス全
体に結晶を均一に析出させるために重要な成分である。
組成比が0.2wt%より少ないと十分な結晶核が形成
されにくくなり、結晶粒子が粗大化したり結晶が不均質
に析出し、微細で均質な結晶構造が得られにくくなり、
研磨加工においてディスク基板として必要な平滑面が得
られなくなる。また難溶融性のZrO2成分に対する融
剤としての効果が十分得られなくなる。5wt%を越え
ると、溶融時の炉剤に対する反応性が増し、また失透性
も強くなることから溶融成形時の生産性が低下する。ま
た化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れが
あると共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くな
る。
【0010】TiO2は融剤であり、結晶成長を促進さ
せる。組成比が0.1wt%より少ないと溶融性が悪く
なると共に、結晶成長がしにくくなり、10wt%を越
えると結晶化が急激に促進され、結晶化状態の制御が困
難となり析出結晶の粗大化、結晶相の不均質が発生し、
微細で均質な結晶構造が得られなくなり、研磨加工にお
いてディスク基板として必要な平滑面が得られなくな
る。さらに溶融成形時に失透しやすくなり、生産性が低
下する。
せる。組成比が0.1wt%より少ないと溶融性が悪く
なると共に、結晶成長がしにくくなり、10wt%を越
えると結晶化が急激に促進され、結晶化状態の制御が困
難となり析出結晶の粗大化、結晶相の不均質が発生し、
微細で均質な結晶構造が得られなくなり、研磨加工にお
いてディスク基板として必要な平滑面が得られなくな
る。さらに溶融成形時に失透しやすくなり、生産性が低
下する。
【0011】TiO2/P2O5は結晶成長を促進させる
融剤と、リチウムダイシリケート系結晶を析出させる核
形成剤の比であり、1.1より小さいと結晶成長が少な
く、求める特性が得られにくく、10より大きいと結晶
が成長しすぎ、求める特性が得にくい。
融剤と、リチウムダイシリケート系結晶を析出させる核
形成剤の比であり、1.1より小さいと結晶成長が少な
く、求める特性が得られにくく、10より大きいと結晶
が成長しすぎ、求める特性が得にくい。
【0012】以下製造方法を説明する。最終的に生成さ
れるガラス基板の主成分の組成を含む原料を所定の割合
にて充分に混合し、これを白金るつぼに入れ溶融を行
う。溶融後金型に流し概略の形状を形成する。これを室
温までアニールする。続いて、示される1次熱処理温度
と1次処理時間により保持し(熱処理)、結晶核生成が
行われる。引き続き、2次熱処理温度と2次処理時間に
より保持し結晶核成長を行う。これを除冷することによ
り目的とする結晶化ガラスが得られる。
れるガラス基板の主成分の組成を含む原料を所定の割合
にて充分に混合し、これを白金るつぼに入れ溶融を行
う。溶融後金型に流し概略の形状を形成する。これを室
温までアニールする。続いて、示される1次熱処理温度
と1次処理時間により保持し(熱処理)、結晶核生成が
行われる。引き続き、2次熱処理温度と2次処理時間に
より保持し結晶核成長を行う。これを除冷することによ
り目的とする結晶化ガラスが得られる。
【0013】以上の製造方法によって得られたガラス基
板は、SiO2が65wt%以上で且つ80wt%以
下、Al2O3が3wt%以上で且つ15wt%以下、L
i2Oが3wt%以上で且つ15wt%以下、P2O5が
0.2wt%以上で且つ5wt%以下、TiO2が0.
1wt%以上で且つ10wt%以下、TiO2/P2O5
が1.1以上で且つ10以下とするために、非常に高い
比弾性率と高い生産性を得ることが可能となった。
板は、SiO2が65wt%以上で且つ80wt%以
下、Al2O3が3wt%以上で且つ15wt%以下、L
i2Oが3wt%以上で且つ15wt%以下、P2O5が
0.2wt%以上で且つ5wt%以下、TiO2が0.
1wt%以上で且つ10wt%以下、TiO2/P2O5
が1.1以上で且つ10以下とするために、非常に高い
比弾性率と高い生産性を得ることが可能となった。
【0014】
【実施例】次に実施形態を実施した具体的な実施例につ
いて説明する。第1〜第4実施例のガラスを構成する材
料組成比(単位:wt%)、条件式の値、溶融温度と溶
融時間、1次熱処理温度と1次処理時間、2次熱処理温
度と2次処理時間、主析出結晶相、副析出結晶相、平均
結晶粒径、比重、ヤング率、比弾性率を表1に示す。同
様に第5〜第8実施例のガラスを表2に示す。同様に第
9〜第12実施例のガラスを表3に示す。同様に第13
〜第16実施例のガラスを表4に示す。同様に第17〜
第20実施例のガラスを表5に示す。同様に第21〜第
24実施例のガラスを表6に示す。
いて説明する。第1〜第4実施例のガラスを構成する材
料組成比(単位:wt%)、条件式の値、溶融温度と溶
融時間、1次熱処理温度と1次処理時間、2次熱処理温
度と2次処理時間、主析出結晶相、副析出結晶相、平均
結晶粒径、比重、ヤング率、比弾性率を表1に示す。同
様に第5〜第8実施例のガラスを表2に示す。同様に第
9〜第12実施例のガラスを表3に示す。同様に第13
〜第16実施例のガラスを表4に示す。同様に第17〜
第20実施例のガラスを表5に示す。同様に第21〜第
24実施例のガラスを表6に示す。
【0015】
【表1】
【0016】
【表2】
【0017】
【表3】
【0018】
【表4】
【0019】
【表5】
【0020】
【表6】
【0021】第1の実施例のガラス組成は、SiO2を
74.6wt%、Al2O3を8wt%、Li2Oを8.
5wt%、P2O5を1.8wt%、TiO2を2.2w
t%、CaOを2.9wt%、K2Oを1.5wt%、
Sb2O3を0.5wt%、TiO2/P2O5を1.22
の組成比である。
74.6wt%、Al2O3を8wt%、Li2Oを8.
5wt%、P2O5を1.8wt%、TiO2を2.2w
t%、CaOを2.9wt%、K2Oを1.5wt%、
Sb2O3を0.5wt%、TiO2/P2O5を1.22
の組成比である。
【0022】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.6という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.6という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0023】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【0024】また、融剤として働くK2Oを加えている
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
【0025】また、清澄剤として働くSb2O3を加えて
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
【0026】第2の実施例のガラス組成は、SiO2を
72.5wt%、Al2O3を7.2wt%、Li2Oを
3.6wt%、P2O5を2wt%、TiO2を8wt
%、CaOを2.2wt%、K2Oを3wt%、Sb2O
3を1.5wt%、TiO2/P2O5を4.00の組成比
である。
72.5wt%、Al2O3を7.2wt%、Li2Oを
3.6wt%、P2O5を2wt%、TiO2を8wt
%、CaOを2.2wt%、K2Oを3wt%、Sb2O
3を1.5wt%、TiO2/P2O5を4.00の組成比
である。
【0027】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1500度、溶融時間2
時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時間、2
次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処置した
結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相がリチウ
ムダイシリケートで、比弾性率が36.6という特性の
ガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率を有す
るだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1500度、溶融時間2
時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時間、2
次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処置した
結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相がリチウ
ムダイシリケートで、比弾性率が36.6という特性の
ガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率を有す
るだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0028】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【0029】また、融剤として働くK2Oを加えている
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
ため生産時の安定性が向上している。ただし、組成比が
0.1wt%より少ないと十分な溶融性改善がなされな
い。5wt%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が
抑制され、また化学的耐久性が低下し、磁気膜に影響を
与える恐れがあると共に、研磨−洗浄工程における安定
性が悪くなる。
【0030】また、清澄剤として働くSb2O3を加えて
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
いるため生産時の安定性が向上している。ただし、組成
比が0.1wt%より少ないと十分な清澄効果が得られ
なくなり、生産性が低下する。5wt%を越えると、ガ
ラスの結晶化が不安定となり析出結晶相を制御できなく
なり、求める特性が得られにくくなる。
【0031】第3の実施例のガラス組成は、SiO2を
75.3wt%、Al2O3を10.8wt%、Li2O
を8.5wt%、P2O5を2.4wt%、TiO2を3
wt%、TiO2/P2O5を1.25の組成比である。
75.3wt%、Al2O3を10.8wt%、Li2O
を8.5wt%、P2O5を2.4wt%、TiO2を3
wt%、TiO2/P2O5を1.25の組成比である。
【0032】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.2と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.2と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0033】第4の実施例のガラス組成は、SiO2を
74wt%、Al2O3を8wt%、Li2Oを8.5w
t%、P2O5を3wt%、TiO2を6.5wt%、T
iO2/P2O5を2.17の組成比である。
74wt%、Al2O3を8wt%、Li2Oを8.5w
t%、P2O5を3wt%、TiO2を6.5wt%、T
iO2/P2O5を2.17の組成比である。
【0034】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.4と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.4と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0035】第5の実施例のガラス組成は、SiO2を
72.2wt%、Al2O3を10.5wt%、Li2O
を10.5wt%、P2O5を3wt%、TiO2を3.
3wt%、CaOを0.5wt%、TiO2/P2O5を
1.10の組成比である。
72.2wt%、Al2O3を10.5wt%、Li2O
を10.5wt%、P2O5を3wt%、TiO2を3.
3wt%、CaOを0.5wt%、TiO2/P2O5を
1.10の組成比である。
【0036】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1440度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1440度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0037】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【0038】第6の実施例のガラス組成は、SiO2を
75.5wt%、Al2O3を11.2wt%、Li2O
を7.8wt%、P2O5を1.5wt%、TiO2を2
wt%、CaOを2wt%、TiO2/P2O5を1.3
3の組成比である。
75.5wt%、Al2O3を11.2wt%、Li2O
を7.8wt%、P2O5を1.5wt%、TiO2を2
wt%、CaOを2wt%、TiO2/P2O5を1.3
3の組成比である。
【0039】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が40.0と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が40.0と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0040】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くCaOを加えているため高い溶融性、安
定した結晶相があることができる。組成比が0.1wt
%より少ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt
%を越えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、
求める強度が得られにくくなる。
【0041】第7の実施例のガラス組成は、SiO2を
67.2wt%、Al2O3を10.5wt%、Li2O
を9.5wt%、P2O5を4wt%、TiO2を7.8
wt%、K2Oを1wt%、TiO2/P2O5を1.95
の組成比である。
67.2wt%、Al2O3を10.5wt%、Li2O
を9.5wt%、P2O5を4wt%、TiO2を7.8
wt%、K2Oを1wt%、TiO2/P2O5を1.95
の組成比である。
【0042】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度720度、2次処理時間4時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.6と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度720度、2次処理時間4時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.6と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0043】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くK2Oを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、また化学
的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると
共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くK2Oを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、また化学
的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると
共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くなる。
【0044】第8の実施例のガラス組成は、SiO2を
70.3wt%、Al2O3を10.2wt%、Li2O
を9wt%、P2O5を3.5wt%、TiO2を4wt
%、K2Oを3wt%、TiO2/P2O5を1.14の組
成比である。
70.3wt%、Al2O3を10.2wt%、Li2O
を9wt%、P2O5を3.5wt%、TiO2を4wt
%、K2Oを3wt%、TiO2/P2O5を1.14の組
成比である。
【0045】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.6と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.6と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0046】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くK2Oを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、また化学
的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると
共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くK2Oを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、また化学
的耐久性が低下し、磁気膜に影響を与える恐れがあると
共に、研磨−洗浄工程における安定性が悪くなる。
【0047】第9の実施例のガラス組成は、SiO2を
74wt%、Al2O3を9.8wt%、Li2Oを8.
7wt%、P2O5を2.5wt%、TiO2を4.5w
t%、Sb2O3を0.5wt%、TiO2/P2O5を
1.80の組成比である。
74wt%、Al2O3を9.8wt%、Li2Oを8.
7wt%、P2O5を2.5wt%、TiO2を4.5w
t%、Sb2O3を0.5wt%、TiO2/P2O5を
1.80の組成比である。
【0048】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0049】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
清澄剤として働くSb2O3を加えているため生産時の安
定性が向上している。ただし、組成比が0.1wt%よ
り少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、生産性が
低下する。5wt%を越えると、ガラスの結晶化が不安
定となり析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が
得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
清澄剤として働くSb2O3を加えているため生産時の安
定性が向上している。ただし、組成比が0.1wt%よ
り少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、生産性が
低下する。5wt%を越えると、ガラスの結晶化が不安
定となり析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が
得られにくくなる。
【0050】第10の実施例のガラス組成は、SiO2
を73.8wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を11.5wt%、P2O5を1.2wt%、TiO2を
2.5wt%、Sb2O3を1.5wt%、TiO2/P2
O5を2.08の組成比である。
を73.8wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を11.5wt%、P2O5を1.2wt%、TiO2を
2.5wt%、Sb2O3を1.5wt%、TiO2/P2
O5を2.08の組成比である。
【0051】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が39.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0052】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
清澄剤として働くSb2O3を加えているため生産時の安
定性が向上している。ただし、組成比が0.1wt%よ
り少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、生産性が
低下する。5wt%を越えると、ガラスの結晶化が不安
定となり析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が
得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
清澄剤として働くSb2O3を加えているため生産時の安
定性が向上している。ただし、組成比が0.1wt%よ
り少ないと十分な清澄効果が得られなくなり、生産性が
低下する。5wt%を越えると、ガラスの結晶化が不安
定となり析出結晶相を制御できなくなり、求める特性が
得られにくくなる。
【0053】第11の実施例のガラス組成は、SiO2
を72.8wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を10.5wt%、P2O5を2.2wt%、TiO2を
3wt%、B2O3を2wt%、TiO2/P2O5を1.
36の組成比である。
を72.8wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を10.5wt%、P2O5を2.2wt%、TiO2を
3wt%、B2O3を2wt%、TiO2/P2O5を1.
36の組成比である。
【0054】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1440度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が40.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1440度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が40.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0055】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
フォーマーとして働くB2O3を加えているためガラスの
分相を促し、結晶析出および成長を促進させる。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと十分な溶融性改
善がなされない。15wt%を越えると、ガラスが失透
しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が粗大化し
微細な結晶が得られなくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
フォーマーとして働くB2O3を加えているためガラスの
分相を促し、結晶析出および成長を促進させる。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと十分な溶融性改
善がなされない。15wt%を越えると、ガラスが失透
しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が粗大化し
微細な結晶が得られなくなる。
【0056】第12の実施例のガラス組成は、SiO2
を72wt%、Al2O3を10.7wt%、Li2Oを
9.8wt%、P2O5を1.5wt%、TiO2を3w
t%、B2O3を3wt%、TiO2/P2O5を2.00
の組成比である。
を72wt%、Al2O3を10.7wt%、Li2Oを
9.8wt%、P2O5を1.5wt%、TiO2を3w
t%、B2O3を3wt%、TiO2/P2O5を2.00
の組成比である。
【0057】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1440度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が40.4という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1440度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が40.4という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0058】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
フォーマーとして働くB2O3を加えているためガラスの
分相を促し、結晶析出および成長を促進させる。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと十分な溶融性改
善がなされない。15wt%を越えると、ガラスが失透
しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が粗大化し
微細な結晶が得られなくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
フォーマーとして働くB2O3を加えているためガラスの
分相を促し、結晶析出および成長を促進させる。ただ
し、組成比が0.1wt%より少ないと十分な溶融性改
善がなされない。15wt%を越えると、ガラスが失透
しやすくなり成形が困難になると共に、結晶が粗大化し
微細な結晶が得られなくなる。
【0059】第13の実施例のガラス組成は、SiO2
を70wt%、Al2O3を9.7wt%、Li2Oを
9.5wt%、P2O5を3wt%、TiO2を6.8w
t%、MgOを1wt%、TiO2/P2O5を2.27
の組成比である。
を70wt%、Al2O3を9.7wt%、Li2Oを
9.5wt%、P2O5を3wt%、TiO2を6.8w
t%、MgOを1wt%、TiO2/P2O5を2.27
の組成比である。
【0060】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
トで、副析出結晶相がクオーツ、比弾性率が40.0と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度575度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
トで、副析出結晶相がクオーツ、比弾性率が40.0と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0061】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くMgOを加えているため結晶相の一つで
ある粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成す
る。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと作業温
度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性
が向上しない。12wt%を越えると、他の結晶相が析
出して求める強度を得ることが難しくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くMgOを加えているため結晶相の一つで
ある粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成す
る。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと作業温
度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性
が向上しない。12wt%を越えると、他の結晶相が析
出して求める強度を得ることが難しくなる。
【0062】第14の実施例のガラス組成は、SiO2
を74.2wt%、Al2O3を9.3wt%、Li2O
を8wt%、P2O5を1.5wt%、TiO2を3wt
%、MgOを4wt%、TiO2/P2O5を2.00の
組成比である。
を74.2wt%、Al2O3を9.3wt%、Li2O
を8wt%、P2O5を1.5wt%、TiO2を3wt
%、MgOを4wt%、TiO2/P2O5を2.00の
組成比である。
【0063】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1440度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相が
リチウムダイシリケートで、比弾性率が40.0という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1440度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相が
リチウムダイシリケートで、比弾性率が40.0という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0064】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くMgOを加えているため結晶相の一つで
ある粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成す
る。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと作業温
度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性
が向上しない。12wt%を越えると、他の結晶相が析
出して求める強度を得ることが難しくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くMgOを加えているため結晶相の一つで
ある粒状のクオーツ結晶を凝集させ結晶粒子塊を形成す
る。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと作業温
度幅が狭くなりう、ガラスマトリクス相の化学的耐久性
が向上しない。12wt%を越えると、他の結晶相が析
出して求める強度を得ることが難しくなる。
【0065】第15の実施例のガラス組成は、SiO2
を76.8wt%、Al2O3を10.8wt%、Li2
Oを5.7wt%、P2O5を1.2wt%、TiO2を
3.5wt%、BaOを2wt%、TiO2/P2O5を
0を2.92wt%の組成比である。
を76.8wt%、Al2O3を10.8wt%、Li2
Oを5.7wt%、P2O5を1.2wt%、TiO2を
3.5wt%、BaOを2wt%、TiO2/P2O5を
0を2.92wt%の組成比である。
【0066】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が37.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1480度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が37.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0067】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くBaOを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める強
度が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くBaOを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める強
度が得られにくくなる。
【0068】第16の実施例のガラス組成は、SiO2
を75.5wt%、Al2O3を8.8wt%、Li2O
を7.5wt%、P2O5を1wt%、TiO2を4.2
wt%、BaOを3wt%、TiO2/P2O5を4.2
0の組成比である。
を75.5wt%、Al2O3を8.8wt%、Li2O
を7.5wt%、P2O5を1wt%、TiO2を4.2
wt%、BaOを3wt%、TiO2/P2O5を4.2
0の組成比である。
【0069】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1500度、溶融時間2
時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時間、2
次処理温度690度、2次処理時間2.5時間にて処置
した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相がリ
チウムダイシリケートで、比弾性率が35.0という特
性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率を
有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1500度、溶融時間2
時間、1次処理温度585度、1次処理時間5時間、2
次処理温度690度、2次処理時間2.5時間にて処置
した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶相がリ
チウムダイシリケートで、比弾性率が35.0という特
性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率を
有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0070】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くBaOを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める強
度が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くBaOを加えているため生産時の安定性
が向上している。ただし、組成比が0.1wt%より少
ないと十分な溶融性改善がなされない。5wt%を越え
ると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める強
度が得られにくくなる。
【0071】第17の実施例のガラス組成は、SiO2
を74.5wt%、Al2O3を9.1wt%、Li2O
を6.9wt%、P2O5を4wt%、TiO2を5.2
wt%、ZnOを0.3wt%、TiO2/P2O5を
1.30の組成比である。
を74.5wt%、Al2O3を9.1wt%、Li2O
を6.9wt%、P2O5を4wt%、TiO2を5.2
wt%、ZnOを0.3wt%、TiO2/P2O5を
1.30の組成比である。
【0072】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が38.0と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がクオーツ、副析出結晶
相がリチウムダイシリケートで、比弾性率が38.0と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0073】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くZnOを加えているため均一な結晶析出
を補助する。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な結晶均質化の改善がなされない。5wt%を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くZnOを加えているため均一な結晶析出
を補助する。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な結晶均質化の改善がなされない。5wt%を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
【0074】第18の実施例のガラス組成は、SiO2
を73.2wt%、Al2O3を10wt%、Li2Oを
8.8wt%、P2O5を2.5wt%、TiO2を3.
5wt%、ZnOを2wt%、TiO2/P2O5を1.
40の組成比である。
を73.2wt%、Al2O3を10wt%、Li2Oを
8.8wt%、P2O5を2.5wt%、TiO2を3.
5wt%、ZnOを2wt%、TiO2/P2O5を1.
40の組成比である。
【0075】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0076】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くZnOを加えているため均一な結晶析出
を補助する。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な結晶均質化の改善がなされない。5wt%を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くZnOを加えているため均一な結晶析出
を補助する。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な結晶均質化の改善がなされない。5wt%を越
えると、ガラスが安定となり結晶化が抑制され、求める
強度が得られにくくなる。
【0077】第19の実施例のガラス組成は、SiO2
を73.2wt%、Al2O3を10.2wt%、Li2
Oを10.1wt%、P2O5を2.5wt%、TiO2
を3.5wt%、Nb2O5を0.5wt%、TiO2/
P2O5を1.40の組成比である。
を73.2wt%、Al2O3を10.2wt%、Li2
Oを10.1wt%、P2O5を2.5wt%、TiO2
を3.5wt%、Nb2O5を0.5wt%、TiO2/
P2O5を1.40の組成比である。
【0078】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.7という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.7という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0079】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くNb2O5を加えているため結晶核剤物質
が増加することになる。ただし、組成比が0.1wt%
より少ないと十分な剛性の向上がなされない。5wt%
を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶
相を制御できなくなり、求める特性が得られにくくな
る。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くNb2O5を加えているため結晶核剤物質
が増加することになる。ただし、組成比が0.1wt%
より少ないと十分な剛性の向上がなされない。5wt%
を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶
相を制御できなくなり、求める特性が得られにくくな
る。
【0080】第20の実施例のガラス組成は、SiO2
を72wt%、Al2O3を12.6wt%、Li2Oを
10.4wt%、P2O5を0.5wt%、TiO2を3
wt%、Nb2O5を1.5wt%、TiO2/P2O5を
6.00の組成比である。
を72wt%、Al2O3を12.6wt%、Li2Oを
10.4wt%、P2O5を0.5wt%、TiO2を3
wt%、Nb2O5を1.5wt%、TiO2/P2O5を
6.00の組成比である。
【0081】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度600度、1次処理時間4.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.2と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度600度、1次処理時間4.
5時間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.2と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0082】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くNb2O5を加えているため結晶核剤物質
が増加することになる。ただし、組成比が0.1wt%
より少ないと十分な剛性の向上がなされない。5wt%
を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶
相を制御できなくなり、求める特性が得られにくくな
る。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くNb2O5を加えているため結晶核剤物質
が増加することになる。ただし、組成比が0.1wt%
より少ないと十分な剛性の向上がなされない。5wt%
を越えると、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶
相を制御できなくなり、求める特性が得られにくくな
る。
【0083】第21の実施例のガラス組成は、SiO2
を77wt%、Al2O3を8.3wt%、Li2Oを
8.5wt%、P2O5を2wt%、TiO2を3wt
%、Ta2O5を1.2wt%、TiO2/P2O5を1.
50の組成比である。
を77wt%、Al2O3を8.3wt%、Li2Oを
8.5wt%、P2O5を2wt%、TiO2を3wt
%、Ta2O5を1.2wt%、TiO2/P2O5を1.
50の組成比である。
【0084】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度690度、2次処理時間2.5時間に
て処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケー
ト、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.8と
いう特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾
性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0085】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くTa2O5を加えているため溶融性、強度
を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を
向上させる。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越える
と、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御
できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くTa2O5を加えているため溶融性、強度
を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を
向上させる。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越える
と、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御
できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
【0086】第22の実施例のガラス組成は、SiO2
を68.5wt%、Al2O3を9.8wt%、Li2O
を11.7wt%、P2O5を3wt%、TiO2を3w
t%、Ta2O5を4wt%、TiO2/P2O5を1.0
0の組成比である。
を68.5wt%、Al2O3を9.8wt%、Li2O
を11.7wt%、P2O5を3wt%、TiO2を3w
t%、Ta2O5を4wt%、TiO2/P2O5を1.0
0の組成比である。
【0087】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1520度、溶融時間
1.75時間、1次処理温度575度、1次処理時間
5.5時間、2次処理温度700度、2次処理時間4時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.
3という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
の製造方法に従って、溶融温度1520度、溶融時間
1.75時間、1次処理温度575度、1次処理時間
5.5時間、2次処理温度700度、2次処理時間4時
間にて処置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリ
ケート、副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が37.
3という特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い
比弾性率を有するだけでなく、非常に高い生産性を有す
る。
【0088】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くTa2O5を加えているため溶融性、強度
を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を
向上させる。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越える
と、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御
できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くTa2O5を加えているため溶融性、強度
を向上させ、またガラスマトリクス相の化学的耐久性を
向上させる。ただし、組成比が0.1wt%より少ない
と十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越える
と、ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御
できなくなり、求める特性が得られにくくなる。
【0089】第23の実施例のガラス組成は、SiO2
を73.5wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を9.5wt%、P2O5を2.5wt%、TiO2を4
wt%、La2O3を1wt%、TiO2/P2O5を1.
60の組成比である。
を73.5wt%、Al2O3を9.5wt%、Li2O
を9.5wt%、P2O5を2.5wt%、TiO2を4
wt%、La2O3を1wt%、TiO2/P2O5を1.
60の組成比である。
【0090】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1460度、溶融時間
2.5時間、1次処理温度580度、1次処理時間5時
間、2次処理温度700度、2次処理時間3時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が38.2という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0091】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くLa2O3を加えているため結晶析出が抑
制される。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くLa2O3を加えているため結晶析出が抑
制される。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
【0092】第24の実施例のガラス組成は、SiO2
を67.3wt%、Al2O3を9.7wt%、Li2O
を10.5wt%、P2O5を4wt%、TiO2を4.
5wt%、La2O3を4wt%、TiO2/P2O5を
1.13の組成比である。
を67.3wt%、Al2O3を9.7wt%、Li2O
を10.5wt%、P2O5を4wt%、TiO2を4.
5wt%、La2O3を4wt%、TiO2/P2O5を
1.13の組成比である。
【0093】上記組成比を含むよう原料を調合し、前述
の製造方法に従って、溶融温度1500度、溶融時間2
時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.5時
間、2次処理温度720度、2次処理時間4時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が35.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
の製造方法に従って、溶融温度1500度、溶融時間2
時間、1次処理温度570度、1次処理時間5.5時
間、2次処理温度720度、2次処理時間4時間にて処
置した結果、主析出結晶相がリチウムダイシリケート、
副析出結晶相がクオーツで、比弾性率が35.8という
特性のガラス基板が得られた。上記組成は高い比弾性率
を有するだけでなく、非常に高い生産性を有する。
【0094】また組成として、基本組成であるSi
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くLa2O3を加えているため結晶析出が抑
制される。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
O2、Al2O3、Li2O、P2O5、TiO2に加えて、
融剤として働くLa2O3を加えているため結晶析出が抑
制される。ただし、組成比が0.1wt%より少ないと
十分な剛性の向上がなされない。5wt%を越えると、
ガラスの結晶化が不安定となり、析出結晶相を制御でき
なくなり、求める特性が得られにくくなる。
【0095】
【発明の効果】本発明によると、比弾性率が30以上か
つ生産性の高いガラス基板を得ることができる。
つ生産性の高いガラス基板を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遊亀 博 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 石丸 和彦 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 Fターム(参考) 4G062 AA11 BB01 BB09 DA06 DA07 DB03 DB04 DC01 DD02 DD03 DE01 DF01 EA03 EA04 EB01 EC01 ED01 EE01 EF01 EG01 FA01 FB02 FB03 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN33 QQ02 QQ06 5D006 CB04 CB07 DA03 FA00
Claims (1)
- 【請求項1】 主成分の組成範囲を、 SiO2が65wt%以上で且つ 80wt%以下、 Al2O3が3wt%以上で且つ 15wt%以下、 Li2Oが3wt%以上で且つ 15wt%以下、 P2O5が0.2wt%以上で且つ 5wt%以下、 TiO2が0.1wt%以上で且つ 10wt%以下、 TiO2/P2O5が1.1wt%以上で且つ 10wt
%以下、としたことを特徴とするガラス組成。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11191749A JP2001019486A (ja) | 1999-07-06 | 1999-07-06 | ガラス組成 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11191749A JP2001019486A (ja) | 1999-07-06 | 1999-07-06 | ガラス組成 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001019486A true JP2001019486A (ja) | 2001-01-23 |
Family
ID=16279874
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11191749A Pending JP2001019486A (ja) | 1999-07-06 | 1999-07-06 | ガラス組成 |
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JP (1) | JP2001019486A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015505787A (ja) * | 2011-10-14 | 2015-02-26 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 三価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
JP2015505788A (ja) * | 2011-10-14 | 2015-02-26 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 五価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
-
1999
- 1999-07-06 JP JP11191749A patent/JP2001019486A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015505787A (ja) * | 2011-10-14 | 2015-02-26 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 三価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
JP2015505788A (ja) * | 2011-10-14 | 2015-02-26 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 五価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
US9402699B2 (en) | 2011-10-14 | 2016-08-02 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate glass ceramic and lithium silicate glass comprising a trivalent metal oxide |
JP2017218379A (ja) * | 2011-10-14 | 2017-12-14 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 五価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
US10227255B2 (en) | 2011-10-14 | 2019-03-12 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate glass ceramic and lithium silicate glass comprising a pentavalent metal oxide |
US10321980B2 (en) | 2011-10-14 | 2019-06-18 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate glass ceramic and glass with trivalent metal oxide |
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