JP2001013316A - Optical filter - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical filter that selectively cuts off light of wavelengths lowering color purity, corrects color balance and has a surface subjected to soil resistant treatment by disposing a soil resistant layer having a specified contact angle to water as the outermost layer on one side of a filter. SOLUTION: A soil resistant layer having >=90 deg., preferably 90-110 deg. contact angle to water is disposed as the outermost layer on one side of an optical filter comprising a transparent substrate and a filter layer having the absorption maximum at 560-620 nm. The surface of the soil resistant layer has small surface energy and is hardly soiled with any of hydrophilic and lipophilic materials. Even if the surface is soiled, it can easily be wiped out. The soil resistant layer preferably comprises a fluorine-containing compound and the refractive index of the soil resistant layer is preferably made lower than that of the substrate so as to suppress the reflection of light from the surface of the soil resistant layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体および
フィルター層を有する光学フィルターに関する。特に、
本発明は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレ
イパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表
示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置の
表面に、色再現性改良のため取り付けられる光学フィル
ターに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical filter having a transparent support and a filter layer. In particular,
The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT), a fluorescent display tube, and a surface of an image display device such as a field emission display. The present invention relates to an optical filter attached for improving color reproducibility.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディ
スプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組み合
わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のための光
を理想的な三原色にすることは、非常に難しい（実質的
には不可能である）。例えば、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）では、三原色蛍光体からの発光に余分な
光（波長が５００乃至６２０ｎｍの範囲）が含まれてい
ることが知られている。そこで、表示色の色バランスを
補正するため特定の波長の光を吸収するフィルターを用
いて、色補正を行うことが提案されている。フィルター
による色補正については、特開昭５８−１５３９０４
号、同６１−１８８５０１号、特開平３−２３１９８８
号、同５−２０５６４３号、同９−１４５９１８号、同
９−３０６３６６号、同１０−２６７０４号、ＷＯ９８
／２３９８０号の各公報に記載がある。2. Description of the Related Art A liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT),
2. Description of the Related Art An image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display displays a color image by a combination of light of three primary colors of red, blue and green in principle. However, it is very difficult (practically impossible) to make light for display ideal three primary colors. For example, in a plasma display panel (PDP), it is known that light emitted from three primary color phosphors contains extra light (wavelength is in a range of 500 to 620 nm). Therefore, it has been proposed to perform color correction using a filter that absorbs light of a specific wavelength in order to correct the color balance of display colors. Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-153904 discloses color correction using a filter.
No. 61-188501, JP-A-3-231988
No. 5,205,643, No. 9-145918, No. 9-306366, No. 10-26704, WO98
/ 23980.

【０００３】光学フィルターの形成方法には様々な方法
が開示されている。特開昭６１−１８８５０１号、特開
平５−２０５６４３号、同９−１４５９１８号、同９−
３０６３６６号の各公報に記載の光学フィルターでは、
透明支持体に染料または顔料を添加して、支持体をフィ
ルターとして機能させている。特開平１０−２６７０４
号公報記載の光学フィルターでは、透明支持体と反射防
止層との間に設けられるハードコート層（表面硬化層）
を着色し、ハードコート層をフィルターとして機能させ
ている。また、特開平７−２０９５１０号公報に記載の
光学フィルターでは、色素と金属アルコキシドの混合液
を塗布、乾燥、焼成して、フィルター層として機能させ
ている。更に、ＷＯ９８／２３９８０号記載の光学フィ
ルターでは、色素及びマトリクスポリマーを適当な溶媒
に溶解、塗布して、フィルター層として機能させてい
る。しかし、これらの方法で形成された光学フィルター
は、ディスプレイの色補正機能は充分であっても、ディ
スプレイに組み込む工程において、或いはディスプレイ
に組み込んだ後に、フィルター表面に付着する汚れが問
題となることがあった。例えば、ディスプレイに組み込
む際に人の手が触れて汚れが付着したり、ディスプレイ
の最表面に組み込まれた場合は、人の手だけでなく飲み
物や油、化粧品、インクなど、使用条件によっては様々
な汚れに晒されることになる。従って、汚れ防止の処理
が施されていない場合は汚れが完全に除去できなかった
り、無理に汚れを除去しようとして光学フィルターの表
面を傷つけてしまうことになる。Various methods have been disclosed for forming an optical filter. JP-A-61-188501, JP-A-5-205643, JP-A-9-145918 and JP-A-9-145918
In the optical filter described in each publication of 306366,
A dye or a pigment is added to the transparent support so that the support functions as a filter. JP-A-10-26704
In the optical filter described in the publication, a hard coat layer (surface hardened layer) provided between the transparent support and the antireflection layer
And the hard coat layer functions as a filter. In the optical filter described in JP-A-7-209510, a mixed solution of a dye and a metal alkoxide is applied, dried, and fired to function as a filter layer. Further, in the optical filter described in WO98 / 23980, a dye and a matrix polymer are dissolved and applied in an appropriate solvent to function as a filter layer. However, although the optical filters formed by these methods have a sufficient color correction function of the display, contamination attached to the filter surface during the process of assembling into the display or after assembling into the display may cause a problem. there were. For example, if it is touched by human hands when incorporating it into a display, or if it is incorporated into the outermost surface of the display, it may vary depending on usage conditions, such as drinks, oils, cosmetics, and ink, as well as human hands. You will be exposed to dirt. Therefore, if the stain prevention treatment is not performed, the stain cannot be completely removed, or the surface of the optical filter will be damaged by trying to forcibly remove the stain.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色純
度を低下させる波長の光を選択的にカットし、色バラン
スを補正することのでき、表面に汚れ防止の処理を施し
た光学フィルターを提供すること、およびそれを用いた
画像表示装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to selectively cut off light having a wavelength that reduces color purity, correct the color balance, and treat the surface of the optical filter with a stain preventing treatment. And an image display device using the same.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記
（１）〜（９）の光学フィルター、前面板、プラズマデ
ィスプレイパネル、プラズマディスプレイ表示装置によ
って達成された。 （１） 透明支持体及び５６０〜６２０ｎｍに吸収極大
を持つフィルター層から成る光学フィルターにおいて、
該フィルターのいずれかの最外層に水の接触角が９０度
以上の防汚層を有することを特徴とする光学フィルタ
ー。 （２） 前記フィルター層の５６０〜６２０ｎｍの吸収
極大での半値幅が１０ｎｍ〜５０ｎｍであることを特徴
とする（１）に記載の光学フィルター。 （３） フィルター層が５６０〜６２０ｎｍおよび５０
０〜５５０ｎｍの両方に吸収極大を持つことを特徴とす
る（１）、（２）に記載の選択吸収フィルター。 （４） 前記フィルター層がオキソノール色素およびシ
アニン色素から選ばれた少なくとも１種を含むことを特
徴とする（１）〜（３）に記載の光学フィルター。 （５） 防汚層が含フッ素化合物を含有することを特徴
とする（１）〜（４）に記載の光学フィルター。 （６） 防汚層の屈折率が該支持体より低いことを特徴
とする（１）〜（５）に記載の光学フィルター。 （７） 防汚層が含フッ素化合物のモノマー、オリゴマ
ーあるいはポリマーの溶液を塗布して、加熱あるいは紫
外線、電子線照射により重合させたものであることを特
徴とする（１）〜（６）に記載の光学フィルター。 （８） 画像表示装置の表示用に用いられることを特徴
とする（１）〜（７）に記載の光学フィルター。 （９） プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）表示用
に用いられる（１）〜（８）に記載の光学フィルター。 （１０） （９）に記載の光学フィルターを表面に保持
することを特徴とするＰＤＰ用前面板。 （１１） （１）〜（９）に記載の光学フィルターをＰ
ＤＰモジュールの表面、前面板の表面、前面板の裏面の
少なくとも一面に設けたことを特徴とするＰＤＰ表示装
置。The object of the present invention has been attained by the following optical filters (1) to (9), a front plate, a plasma display panel, and a plasma display device. (1) In an optical filter comprising a transparent support and a filter layer having an absorption maximum at 560 to 620 nm,
An optical filter having an antifouling layer having a contact angle of water of 90 ° or more in any outermost layer of the filter. (2) The optical filter according to (1), wherein the full width at half maximum at the absorption maximum of 560 to 620 nm of the filter layer is 10 nm to 50 nm. (3) When the filter layer has 560-620 nm and 50
The selective absorption filter according to any one of (1) and (2), having an absorption maximum at both 0 to 550 nm. (4) The optical filter according to (1) to (3), wherein the filter layer contains at least one selected from oxonol dyes and cyanine dyes. (5) The optical filter according to (1) to (4), wherein the antifouling layer contains a fluorine-containing compound. (6) The optical filter according to (1) to (5), wherein the antifouling layer has a refractive index lower than that of the support. (7) The antifouling layer is formed by applying a solution of a monomer, oligomer or polymer of a fluorine-containing compound and polymerizing the solution by heating or irradiation with ultraviolet rays or electron beams. The optical filter as described. (8) The optical filter according to any one of (1) to (7), which is used for display on an image display device. (9) The optical filter according to (1) to (8), which is used for plasma display panel (PDP) display. (10) A front panel for a PDP, wherein the optical filter according to (9) is held on a surface. (11) The optical filter according to (1) to (9)
A PDP display device provided on at least one of a front surface of a DP module, a front plate, and a back surface of a front plate.

【０００６】[0006]

【発明の実施の形態】本発明は下記に挙げるいくつかの
例により説明することができるが、特に断らない限りそ
れらの例に限定されるものではない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention can be illustrated by the following examples, but is not limited to these examples unless otherwise specified.

【０００７】本発明においてプラズマディスプレイパネ
ル（ＰＤＰ）とは、ガス、ガラス基板、電極、電極リー
ド材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラ
ス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚であ
る。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後
面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚の
ガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。前
面板とは該プラズマディスプレイパネルの前面に位置す
る基板のことである。前面板はプラズマディスプレイパ
ネルを保護するために充分な強度を備えていることが好
ましい。前面板はプラズマディスプレイパネルと隙間を
置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ
本体に直貼りして使用することもできる。本発明におけ
るプラズマディスプレイ表示装置とは少なくともプラズ
マディスプレイパネル本体と筐体をふくむ表示装置全体
のことである。前面板を有する場合はこれもプラズマデ
ィスプレイ表示装置に含まれる。プラズマディスプレイ
パネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマデ
ィスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３
号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。In the present invention, the plasma display panel (PDP) is composed of a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. The front plate is a substrate located in front of the plasma display panel. The front plate preferably has sufficient strength to protect the plasma display panel. The front panel can be used with a gap from the plasma display panel, or can be used directly attached to the plasma display body. The plasma display device according to the present invention is an entire display device including at least a plasma display panel main body and a housing. If it has a front panel, this is also included in the plasma display device. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. Regarding the plasma display panel, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-205564
And JP-A-9-306366.

【０００８】本発明における光学フィルターとは、５６
０ｎｍ〜６２０ｎｍの間に光吸収の極大を有しており、
その透過率は極大の波長において０．０１％〜９０％の
間であり、好ましくは０．１％〜７０％の間である。[0008] The optical filter in the present invention is 56
It has a maximum of light absorption between 0 nm and 620 nm,
Its transmission is between 0.01% and 90%, preferably between 0.1% and 70% at the wavelength of maximum.

【０００９】波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲の吸
収は、なるべく緑の蛍光体の必要な発光領域に影響を与
えないよう選択的に光をカットするために吸収スペクト
ルのピークをシャープにすることが好ましい。具体的に
は、波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲の吸収極大で
の半値幅（吸収極大での吸光度の半分の吸光度を示す波
長領域の幅）は、５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ま
しく、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好まし
く、１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが最も好ましい。The absorption in the wavelength range of 560 nm to 620 nm preferably sharpens the peak of the absorption spectrum in order to selectively cut off the light so as not to affect the necessary emission region of the green phosphor. . Specifically, the full width at half maximum at the absorption maximum in the wavelength range of 560 nm to 620 nm (the width of the wavelength region showing half the absorbance at the absorption maximum) is preferably 5 nm to 200 nm, and more preferably 10 nm to 100 nm. Is more preferable, and most preferably 10 nm to 50 nm.

【００１０】該光学フィルターは、５６０ｎｍ〜６２０
ｎｍの吸収極大に加えて、５００ｎｍ〜５５０ｎｍに吸
収極大を持たせることも好ましい。５００ｎｍ〜５５０
ｎｍの範囲の透過率は２０％〜８５％の範囲であること
が好ましい。波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の光
吸収の極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を調
整するために設定される。緑の蛍光体の発光域は、なだ
らかにカットすることが好ましい。波長が５００ｎｍ〜
５５０ｎｍの範囲の吸収極大での半値幅は、３０ｎｍ〜
３００ｎｍであることが好ましく、４０ｎｍ〜３００ｎ
ｍであることがより好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍで
あることがさらに好ましく、６０ｎｍ〜１５０ｎｍであ
ることが最も好ましい。The optical filter has a wavelength of 560 nm to 620.
It is also preferable to have an absorption maximum in the range of 500 nm to 550 nm in addition to the absorption maximum in nm. 500 nm to 550
The transmittance in the range of nm is preferably in the range of 20% to 85%. The maximum of light absorption in the wavelength range of 500 nm to 550 nm is set in order to adjust the emission intensity of the green phosphor having high visibility. It is preferable that the emission region of the green phosphor be cut smoothly. Wavelength is 500nm ~
The half width at the absorption maximum in the range of 550 nm is 30 nm to
300 nm, preferably 40 nm to 300 n
m, more preferably 50 nm to 150 nm, and most preferably 60 nm to 150 nm.

【００１１】本発明において上記の吸収スペクトルを付
与するために、色素（染料または顔料）を用いて、フィ
ルターを形成することが好ましい。In the present invention, in order to impart the above-mentioned absorption spectrum, it is preferable to form a filter using a dye (dye or pigment).

【００１２】波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲に吸
収極大を持つ色素としては、スクアリリウム系、アゾメ
チン系、シアニン系、オキソノール系、アントラキノン
系、アゾ系またはベンジリデン系の化合物が好ましく、
シアニン系、オキソノール系の色素がさらに好ましく用
いられる。アゾ染料としては、ＧＢ５３９７０３号、同
５７５６９１号、ＵＳ２９５６８７９号および堀口 博
著「総説 合成染料」三共出版などに記載の多くのアゾ
染料を使用することができる。波長が５００ｎｍ〜５５
０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ色素の例を以下に示す。The dye having an absorption maximum in the wavelength range of 500 nm to 550 nm is preferably a squarylium-based, azomethine-based, cyanine-based, oxonol-based, anthraquinone-based, azo- or benzylidene-based compound,
Cyanine and oxonol dyes are more preferably used. As the azo dye, there can be used many azo dyes described in GB 593,703, No. 5,756,91, US Pat. No. 2,956,879 and Hiroshi Horiguchi, "Review Synthetic Dyes", Sankyo Publishing Co., Ltd. Wavelength is from 500 nm to 55
Examples of the dye having the absorption maximum in the range of 0 nm are shown below.

【００１３】[0013]

【化１】 Embedded image

【００１４】[0014]

【化２】 Embedded image

【００１５】[0015]

【化３】 Embedded image

【００１６】[0016]

【化４】 Embedded image

【００１７】[0017]

【化５】 Embedded image

【００１８】[0018]

【化６】 Embedded image

【００１９】[0019]

【化７】 Embedded image

【００２０】[0020]

【化８】 Embedded image

【００２１】[0021]

【化９】 Embedded image

【００２２】[0022]

【化１０】 Embedded image

【００２３】[0023]

【化１１】 Embedded image

【００２４】波長が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲に吸
収極大を持つ色素としては、シアニン系、スクアリリウ
ム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系ま
たはアゾ系の化合物が好ましく、シアニン系、オキソノ
ール系の色素がさらに好ましく用いられる。波長が５６
０ｎｍ〜６２０ｎｍの範囲に吸収極大を持つ色素の例を
以下に示す。The dye having an absorption maximum in the wavelength range of 560 nm to 620 nm is preferably a cyanine-based, squarylium-based, azomethine-based, xanthene-based, oxonol-based or azo-based compound, and more preferably a cyanine-based or oxonol-based dye. It is preferably used. Wavelength is 56
Examples of the dye having an absorption maximum in the range of 0 nm to 620 nm are shown below.

【００２５】[0025]

【化１２】 Embedded image

【００２６】[0026]

【化１３】 Embedded image

【００２７】[0027]

【化１４】 Embedded image

【００２８】[0028]

【化１５】 Embedded image

【００２９】[0029]

【化１６】 Embedded image

【００３０】[0030]

【化１７】 Embedded image

【００３１】[0031]

【化１８】 Embedded image

【００３２】[0032]

【化１９】 Embedded image

【００３３】[0033]

【化２０】 Embedded image

【００３４】[0034]

【化２１】 Embedded image

【００３５】[0035]

【化２２】 Embedded image

【００３６】フィルター層には、以上のような２種類以
上の色素を組み合わせて用いることができる。また、波
長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲と波長が５６０ｎｍ
〜６２０ｎｍの範囲の両方に吸収極大を持つ色素をフィ
ルターに用いることもできる。例えば、色素を微粒子分
散物のような会合体の状態にすると、一般に波長が長波
長側にシフトして、ピークがシャープになる。そのた
め、波長が５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲に吸収極大を
持つ色素には、その会合体が５６０ｎｍ〜６２０ｎｍの
範囲に吸収極大を持つものもある。そのような色素が部
分的に会合体を形成した状態で使用すると、波長が５０
０ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲と波長が５６０ｎｍ〜６２０
ｎｍの範囲の両方に吸収極大を得ることができる。その
ような色素の例を以下に示す。In the filter layer, two or more dyes as described above can be used in combination. Further, the wavelength is in the range of 500 nm to 550 nm and the wavelength is 560 nm.
A dye having an absorption maximum in both the range of 〜620 nm can be used for the filter. For example, when the pigment is in an aggregated state such as a fine particle dispersion, the wavelength generally shifts to a longer wavelength side, and the peak becomes sharp. For this reason, some dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 500 nm to 550 nm include those whose aggregates have an absorption maximum in the range of 560 nm to 620 nm. When used in a state where such a dye is partially formed into an aggregate, the wavelength becomes 50%.
A range of 0 nm to 550 nm and a wavelength of 560 nm to 620
Absorption maxima can be obtained in both the nm range. Examples of such dyes are shown below.

【００３７】[0037]

【化２３】 Embedded image

【００３８】[0038]

【化２４】 Embedded image

【００３９】本発明に用いることのできる光学フィルタ
ーの厚さは０．１μｍ乃至５ｃｍであることが好まし
く、０．５μｍ乃至１００μｍであることがさらに好ま
しい。The thickness of the optical filter that can be used in the present invention is preferably from 0.1 μm to 5 cm, more preferably from 0.5 μm to 100 μm.

【００４０】該光学フィルターは、さらにポリマーバイ
ンダーを含むことが好ましい。天然ポリマー（例、ゼラ
チン、セルロース誘導体、アルギン酸）または合成ポリ
マー（例、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、
ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポ
リスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド）を
ポリマーバインダーとして用いることができる。親水性
ポリマー（上記天然ポリマー、ポリビニルブチラール、
ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、水溶性ポ
リアミド）が特に好ましい。It is preferable that the optical filter further contains a polymer binder. Natural polymers (eg, gelatin, cellulose derivatives, alginic acid) or synthetic polymers (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol,
Polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, water-soluble polyamide) can be used as the polymer binder. Hydrophilic polymer (the above natural polymer, polyvinyl butyral,
Polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, water-soluble polyamide) are particularly preferred.

【００４１】本発明の防汚層は光学フィルターのいずれ
かの最外層に設けられ、水の接触角が９０度以上１１０
度以下の表面を有する場合がとくに好ましい。防汚層の
表面は表面エネルギーが小さく、親水性及び親油性のい
ずれの汚れに対しても、汚れが付着しにくく、また付着
したとしても容易に拭き取ることが可能である。The antifouling layer of the present invention is provided on any one of the outermost layers of the optical filter and has a water contact angle of 90 ° or more and 110 ° or more.
It is particularly preferable to have a surface of a degree or less. The surface of the antifouling layer has a small surface energy, so that it is difficult for dirt to adhere to both hydrophilic and lipophilic dirt, and even if it adheres, it can be easily wiped off.

【００４２】本発明の防汚層としては、含フッ素化合物
が好ましく、具体例として特開昭６１−２４７７４３、
特開平１０−１４７７３９、同６−２２６９２８、同４
−３０２０８６、同９−１５７５８２、同６−１３６０
６４の各公報に記載されている化合物が挙げられる。本
発明の防汚層は含フッ素化合物のモノマー、オリゴマー
あるいはポリマーの溶液（反応性フッ素ポリマー）を塗
布して、加熱あるいは紫外線、電子線照射により重合さ
せたものが好ましい。防汚層の厚さは、２ｎｍ〜１μｍ
が好ましく、２ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましく、５ｎ
ｍ〜３０ｎｍが特に好ましい。本発明の防汚層の屈折率
は該支持体より低いことが防汚層表面における光の反射
を抑えるために好ましい。The antifouling layer of the present invention is preferably a fluorine-containing compound, and specific examples thereof include JP-A-61-247743,
JP-A-10-147739, JP-A-6-226928, JP-A-4
-302086, 9-157582, 6-1360
64 publications. The antifouling layer of the present invention is preferably formed by applying a solution (reactive fluoropolymer) of a monomer, oligomer or polymer of a fluorine-containing compound and polymerizing the solution by heating or irradiation with ultraviolet rays or electron beams. The thickness of the antifouling layer is 2 nm to 1 μm
Is preferably 2 nm to 100 nm, more preferably 5 n
m to 30 nm is particularly preferred. The refractive index of the antifouling layer of the present invention is preferably lower than that of the support in order to suppress the reflection of light on the surface of the antifouling layer.

【００４３】本発明で使用することのできる透明支持体
の例には、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノ
キシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート）、ポリアリレート（例 ビスフェ
ノールＡとフタル酸の縮合物）、ポリスチレン（例、シ
ンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン
（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペン
テン）、アクリル（ポリメチルメタクリレート）、ポリ
スルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケト
ン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレンが含
まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、
ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレー
トおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。透明支
持体の厚みは５μｍ以上５ｃｍ以下であることが好まし
く、２５μｍ以上１ｃｍ以下であることがさらに好まし
く、８０μｍ以上１．２ｍｍ以下であることが最も好ま
しい。透明支持体の透過率は８０％以上であることが好
ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイ
ズは、２％以下であることが好ましく、１％以下である
ことがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜１．７０
であることが好ましい。Examples of transparent supports which can be used in the present invention include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides , Polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene Terephthalate), polyarylate (eg, condensate of bisphenol A and phthalic acid), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, poly Propylene, polymethylpentene), acrylic (polymethyl methacrylate), polysulfone, polyether sulfone, polyether ketone, polyether imide and polyoxyethylene. Triacetyl cellulose, polycarbonate,
Polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred. The thickness of the transparent support is preferably 5 μm or more and 5 cm or less, more preferably 25 μm or more and 1 cm or less, and most preferably 80 μm or more and 1.2 mm or less. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze is preferably at most 2%, more preferably at most 1%. Refractive index is 1.45 to 1.70
It is preferable that

【００４４】透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは紫外
線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、
透明支持体の０．０１〜２０重量％であることが好まし
く、０．０５〜１０重量％であることがさらに好まし
い。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透
明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、Ｓｉ
Ｏ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＢａＳＯ₄ 、ＣａＣＯ₃ 、タルクおよ
びカオリンが含まれる。An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of infrared absorber added
It is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight of the transparent support. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of inorganic compounds include Si
_{O 2, TiO 2, BaSO 4} , CaCO 3, talc and kaolin.

【００４５】透明支持体にはフィルター層、防汚層ある
いは下塗り層との接着性をより強固にするために表面処
理を施すことが好ましい。表面処理の例には、薬品処
理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照
射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処
理、レーザー処理、混酸処理、およびオゾン酸化処理を
挙げることができ、グロー放電処理、紫外線照射処理、
コロナ放電処理および火炎処理が好ましく、コロナ放電
処理がさらに好ましい。The transparent support is preferably subjected to a surface treatment in order to further enhance the adhesiveness with a filter layer, an antifouling layer or an undercoat layer. Examples of surface treatments include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment,
Corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and corona discharge treatment is more preferred.

【００４６】本発明では、今まで述べたフィルター層、
防汚層、赤外遮断層、電磁波遮断層を支持体上に設ける
場合には支持体に下塗り層を設けることができる。下塗
り層としては室温での弾性率が１０００乃至１MPa 、好
ましくは８００乃至５Mpa 、さらに好ましくは５００乃
至１０MPa の柔らかいポリマーが好ましい。またその厚
みは好ましくは２ｎｍ乃至２０μｍ、さらに好ましくは
５ｎｍ乃至５μｍ、最も好ましくは５０ｎｍ乃至１μｍ
である。下塗り層に使用されるポリマーはガラス転移温
度が６０℃以下−６０℃以上のものが好ましい。ガラス
転移温度が６０℃以下−６０℃以上のポリマーの例とし
ては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタ
ジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリ
ルまたはメチルビニルエーテルの重合または共重合させ
たものを挙げることができる。また下塗りは複数層設け
ることができ２層設けることが好ましい。In the present invention, the filter layer described so far,
When an antifouling layer, an infrared shielding layer, and an electromagnetic wave shielding layer are provided on a support, an undercoat layer can be provided on the support. As the undercoat layer, a soft polymer having an elastic modulus at room temperature of 1,000 to 1 MPa, preferably 800 to 5 MPa, more preferably 500 to 10 MPa is preferable. The thickness is preferably 2 nm to 20 μm, more preferably 5 nm to 5 μm, and most preferably 50 nm to 1 μm.
It is. The polymer used in the undercoat layer preferably has a glass transition temperature of 60C or lower and -60C or higher. Examples of polymers having a glass transition temperature of 60 ° C. or lower and −60 ° C. or higher include vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, butadiene, neoprene, styrene, chloroprene, acrylates, methacrylates, polymerization of acrylonitrile or methyl vinyl ether, or Copolymerized products can be mentioned. The undercoating can be provided in a plurality of layers, and is preferably provided in two layers.

【００４７】本発明では反射防止層を設けることも好ま
しい。反射率としては正反射率として３．０％以下が好
ましく、さらに好ましくは１．８％以下である。反射防
止層としては通常低屈折率層を設ける。低屈折率層の屈
折率は、その下層の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈
折率は、１．２〜１．５５であることが好ましく、１．
２０〜１．５０であることがさらに好ましい。低屈折率
層の厚さは、５０ｎｍ〜４００ｎｍであることが好まし
く、５０ｎｍ〜２００ｎｍであることがさらに好まし
い。低屈折率層の例としては、屈折率の低い含フッ素ポ
リマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平
３−１３０１０３号、同６−１１５０２３号、同８−３
１３７０２号、同７−１６８００４号の各公報記載）、
ゾルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１
号、同６−２９９０９１号、同７−１６８００３号の各
公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５
９２５０号、特開平５−１３０２１号、同６−５６４７
８号、同７−９２３０６号、同９−２８８２０１号の各
公報に記載）を挙げることができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、３％〜５０体積％の空隙率を有することが好まし
く、５％〜３５体積％の空隙率を有することがさらに好
ましい。In the present invention, it is also preferable to provide an antireflection layer. The reflectance is preferably 3.0% or less as the regular reflectance, more preferably 1.8% or less. Usually, a low refractive index layer is provided as an antireflection layer. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the lower layer. The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.2 to 1.55.
More preferably, it is 20 to 1.50. The thickness of the low refractive index layer is preferably from 50 nm to 400 nm, and more preferably from 50 nm to 200 nm. Examples of the low refractive index layer include layers made of a fluoropolymer having a low refractive index (JP-A-57-34526, JP-A-3-130103, JP-A-6-115023, and JP-A-8-15023).
Nos. 13702, 7-168004).
Layer Obtained by Sol-Gel Method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-2088811)
Nos. 6-299091 and 7-168003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-5).
No. 9250, JP-A-5-13021 and JP-A-6-5647.
No. 8, No. 7-92306, and No. 9-288201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing the fine particles preferably has a porosity of 3% to 50% by volume, and more preferably 5% to 35% by volume.

【００４８】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積
層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６
５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２
０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率
は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間
の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、
１．５０〜１．９０であることが好ましい。中・高屈折
率層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好まし
く、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好ましく、
３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。中・高屈
折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３
％以下であることがさらに好ましく、１％以下であるこ
とが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折
率を有するポリマーを用いて形成することができる。屈
折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン
共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。To prevent reflection in a wide wavelength range,
It is preferable that a layer having a high refractive index (medium / high refractive index layer) is laminated on the low refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is 1.6
Preferably, it is 5 to 2.40, and 1.70 to 2.2.
More preferably, it is 0. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is
It is preferably 1.50 to 1.90. The thickness of the middle / high refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm,
Most preferably, it is 30 nm to 1 μm. The haze of the middle / high refractive index layer is preferably 5% or less,
%, More preferably 1% or less. The middle / high refractive index layer can be formed using a polymer having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. . Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.

【００４９】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、
Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、ＰおよびＳが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物（例、キレート化合物）、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) of the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn,
Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, S
i, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in solvents or are themselves liquid, such as alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) combined with coordination compounds, activity The middle / high refractive index layer can be formed using an inorganic polymer.

【００５０】本発明においては電磁波遮蔽効果を有する
層を設けることも好ましい。電磁波遮蔽効果を有する層
の表面抵抗は０．０１〜５００Ω／□、より好ましくは
０．０１〜１０Ω／□である。電磁波遮蔽効果を付与す
るには、前面板の透過率を低下させないため透明導電層
を用いることが好ましい。透明導電層としては、金属
層、金属酸化物層、導電性ポリマー層等を挙げるこがで
きる。透明導電層を形成する金属としては、例えば銀、
パラジウム、金、白金、ロジウム、アルミニウム、鉄、
コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、錫、タン
グステン、イリジウム、鉛単独もしくはこれらの２種以
上の合金を挙げることができるが、好ましくは銀、パラ
ジウム、金、白金、ロジウム単独もしくはこれらの合金
である。この中で銀とパラジウムの合金が好ましく、こ
のとき銀の含有率は６０重量％乃至９９重量％が好まし
く、８０重量％乃至９８重量％が更に好ましい。金属層
の膜厚は１〜１００ｎｍが好ましく、５〜４０ｎｍが更
に好ましく、１０〜３０ｎｍが最も好ましい。膜厚が１
ｎｍ未満では電磁波遮蔽効果が乏しく、１００ｎｍを超
えると可視光線の透過率が低下する。透明導電層を形成
する金属酸化物としては、例えば酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ、ＡＴＯなどを
挙げることができる。この膜厚は２０〜１０００ｎｍが
好ましい。さらに好ましくは４０〜１００ｎｍである。
これら金属透導電層と酸化物透明導電層を合わせて用い
るのも好ましい。また、同一層内に金属と導電性金属酸
化物が共存することも好ましい。金属層の保護、酸化劣
化防止および可視光線の透過率を高めるために透明酸化
物層を積層することができる。この透明酸化物層は導電
性があってもなくてもかまわない。透明酸化物層として
は例えば２〜４価金属の酸化物、酸化ジルコニウム、酸
化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミ
ニウムおよび金属アルコキサイド化合物等の薄膜が挙げ
られる。透明導電層、透明酸化物層を形成する方法とし
ては特に制限はなく、任意の加工処理方法を選択するこ
とが可能である。例えばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法あるい
はＰＶＤ法、該当する金属あるいは金属酸化物の超微粒
子の塗布、金属シートの接着等いずれの公知技術も用い
ることが可能である。In the present invention, it is also preferable to provide a layer having an electromagnetic wave shielding effect. The layer having the electromagnetic wave shielding effect has a surface resistance of 0.01 to 500 Ω / □, more preferably 0.01 to 10 Ω / □. In order to impart an electromagnetic wave shielding effect, it is preferable to use a transparent conductive layer so as not to lower the transmittance of the front plate. Examples of the transparent conductive layer include a metal layer, a metal oxide layer, and a conductive polymer layer. As the metal forming the transparent conductive layer, for example, silver,
Palladium, gold, platinum, rhodium, aluminum, iron,
Cobalt, nickel, copper, zinc, ruthenium, tin, tungsten, iridium, lead alone or an alloy of two or more of these can be mentioned, preferably silver, palladium, gold, platinum, rhodium alone or an alloy thereof. is there. Among them, an alloy of silver and palladium is preferable. At this time, the silver content is preferably 60% by weight to 99% by weight, more preferably 80% by weight to 98% by weight. The thickness of the metal layer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 40 nm, and most preferably 10 to 30 nm. The film thickness is 1
If it is less than nm, the electromagnetic wave shielding effect is poor, and if it exceeds 100 nm, the transmittance of visible light decreases. Examples of the metal oxide forming the transparent conductive layer include tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO, and ATO. This film thickness is preferably from 20 to 1000 nm. More preferably, it is 40 to 100 nm.
It is also preferable to use the metal transparent conductive layer and the oxide transparent conductive layer together. It is also preferable that a metal and a conductive metal oxide coexist in the same layer. A transparent oxide layer can be laminated to protect the metal layer, prevent oxidative deterioration, and increase visible light transmittance. This transparent oxide layer may or may not be conductive. Examples of the transparent oxide layer include thin films of oxides of divalent to tetravalent metals, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and metal alkoxide compounds. The method for forming the transparent conductive layer and the transparent oxide layer is not particularly limited, and any processing method can be selected. For example, any known technique such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, plasma CVD or PVD, application of ultrafine particles of a corresponding metal or metal oxide, and adhesion of a metal sheet can be used.

【００５１】本発明においては赤外遮蔽効果を有する層
を設けることも好ましい。８００ｎｍから１２００ｎｍ
までの赤外線が最も問題であり、この領域に対し遮蔽効
果を有することが好ましい。赤外線遮蔽効果を付与する
には透明プラスチック支持体に近赤外吸収性化合物を混
合する方法を用いることができる。例えば銅原子を含有
する樹脂組成物（特開平６−１１８２２８号公報）、銅
化合物、リン化合物を含有する樹脂組成物（特開昭６２
−５１９０号公報）、銅化合物、チオ尿素誘導体を含有
する樹脂組成物（特開平６−７３１９７号公報）、タン
グステン系化合物を含有する樹脂組成物（ＵＳ３６４７
７２９号公報）などを形成することによって容易に製造
できる。銀を透明上に成膜する方法が電磁遮蔽に加えて
赤外線遮蔽効果を持たせる方法として安価であり好まし
い。In the present invention, it is also preferable to provide a layer having an infrared shielding effect. 800nm to 1200nm
Is the most problematic, and preferably has a shielding effect on this region. To impart an infrared shielding effect, a method of mixing a near infrared absorbing compound with a transparent plastic support can be used. For example, a resin composition containing a copper atom (JP-A-6-118228) and a resin composition containing a copper compound and a phosphorus compound (JP-A-62-27828)
No. 5190), a resin composition containing a copper compound and a thiourea derivative (JP-A-6-73197), and a resin composition containing a tungsten-based compound (US Pat.
729) can be easily manufactured. A method of forming a silver film on a transparent material is inexpensive and preferable as a method of providing an infrared shielding effect in addition to the electromagnetic shielding.

【００５２】本発明においては、表面をアンチグレア機
能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面
に移るのを防止する機能）を付与することも好ましい。
例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そ
してその表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射
防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形
成することにより、アンチグレア機能を得ることができ
る。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３
〜３０％のヘイズを有する。In the present invention, it is also preferable to provide the surface with an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface).
For example, by forming fine irregularities on the surface of a transparent film, and forming an antireflection layer on the surface, or after forming the antireflection layer, by forming irregularities on the surface with an embossing roll, an anti-glare function is obtained. be able to. An anti-reflection layer having an anti-glare function is generally 3
Has a haze of ３０30%.

【００５３】本発明には、防汚層以外に、ハードコート
層、潤滑層、帯電防止層あるいは中間層を設けることも
好ましい。ハードコート層は、架橋しているポリマーを
含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、
ウレタン系、エポキシ系、シロキサン系のポリマー、オ
リゴマーまたはモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）を用
いて形成することができる。シリカ系のフィラーをハー
ドコート層に添加することもできる。反射防止膜の最表
面には潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防止膜
表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有す
る。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例、シリコン
オイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金
属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成す
ることができる。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍである
ことが好ましい。In the present invention, it is also preferable to provide a hard coat layer, a lubricating layer, an antistatic layer or an intermediate layer in addition to the antifouling layer. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer is acrylic,
It can be formed using a urethane-based, epoxy-based, or siloxane-based polymer, oligomer, or monomer (eg, an ultraviolet curable resin). A silica-based filler can be added to the hard coat layer. A lubrication layer may be formed on the outermost surface of the antireflection film. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection film and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubricating layer is preferably from 2 to 20 nm.

【００５４】本発明における種々の層、すなわち反射防
止層（低屈折率層）、フィルター層、赤外線や電磁波の
遮蔽層、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、防汚層、
その他の層は、一般的な塗布方法により形成することが
できる。塗布方法の例には、ディップコート法、エアー
ナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびホ
ッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特
許２６８１２９４号明細書記載）が含まれる。二以上の
層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法につい
ては、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８
号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細
書および原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１
９７３年朝倉書店発行）に記載がある。また、本発明に
おける層の形成方法として、スパッタリング法、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法ある
いはＰＶＤ法も適宜選択することができる。Various layers in the present invention, that is, an antireflection layer (low refractive index layer), a filter layer, a layer for shielding infrared rays and electromagnetic waves, an undercoat layer, a hard coat layer, a lubricating layer, an antifouling layer,
Other layers can be formed by a general coating method. Examples of the coating method include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an extrusion coating method using a hopper (described in US Pat. No. 2,681,294). Is included. Two or more layers may be formed by simultaneous coating. The simultaneous coating method is described in U.S. Pat.
Nos. 3,508,947 and 3,526,528, and Yuji Harazaki, "Coating Engineering", page 253 (1
973 Asakura Shoten). In addition, as a method for forming a layer in the present invention, a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a plasma CVD method, or a PVD method can be appropriately selected.

【００５５】本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラ
ズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネ
ッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（Ｃ
ＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明の前
面板は特に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）お
よび陰極管表示装置（ＣＲＴ）の前面板として使用する
と、顕著な効果が得られる。The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD) and a cathode ray tube display (C).
RT). Particularly when the front panel of the present invention is used as a front panel of a plasma display panel (PDP) and a cathode ray tube display (CRT), a remarkable effect is obtained.

【００５６】[0056]

【実施例】厚さ１７５μｍの透明な２軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面をコロナ処理した後、
屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃のスチレン−ブ
タジエンコポリマーからなるラテックス（日本ゼオン
（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を塗布し、下塗り層３００
ｎｍを形成し、試料Ｂ−１とした。もう一方の面は未処
理、未塗布のままである。EXAMPLE After corona treatment of one side of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm,
A latex made of a styrene-butadiene copolymer having a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C. (LX407C5, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) is applied, and the undercoat layer 300 is formed.
nm, and the resultant was designated as Sample B-1. The other side remains untreated and uncoated.

【００５７】厚さ１７５μｍの透明な２軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した
後、両面に屈折率１．５５、ガラス転移温度３７℃のス
チレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス（日
本ゼオン（株）製、ＬＸ４０７Ｃ５）を塗布し、下塗り
層を形成した。乾燥後の膜厚さとして、片面には厚さ３
００ｎｍ、もう片面には厚さ１５０ｎｍとなるように塗
布し、試料Ｂ−２とした。After a corona treatment on both sides of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm, a latex made of a styrene-butadiene copolymer having a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C. (Nippon Zeon Co., Ltd.) LX407C5) was applied to form an undercoat layer. As the film thickness after drying, one side has a thickness of 3
The sample was applied so as to have a thickness of 00 nm and the other surface to have a thickness of 150 nm, thereby obtaining a sample B-2.

【００５８】反応性フッ素ポリマー（ＪＮ―７２２５、
ＪＳＲ（株）製）２．５０ｇにＭＩＢＫ５．０ｇを加
え、室温で１０分攪拌し、１μｍのポリプロピレンフィ
ルターでろ過した。得られた液を試料Ｂ−２の厚さ１５
０ｎｍの下塗り層側に、バーコーターを用いて乾燥膜厚
が５ｎｍ、１００ｎｍになるように塗布し、１２０℃で
１５分乾燥して硬化させて防汚層を形成し、それぞれ試
料Ｂ−３、Ｂ−４とした。Reactive fluoropolymers (JN-7225,
5.0 g of MIBK was added to 2.50 g of JSR Corporation, stirred at room temperature for 10 minutes, and filtered with a 1 μm polypropylene filter. The obtained liquid was applied to a sample B-2 having a thickness of 15
On the undercoat layer side of 0 nm, a dry coat thickness of 5 nm and 100 nm was applied using a bar coater, dried at 120 ° C. for 15 minutes, and cured to form an antifouling layer. B-4.

【００５９】ゼラチンの１０重量％水溶液１８０ｇにｐ
Ｈが７になるように１規定の水酸化ナトリウム溶液を添
加し、色素（ｂ７）を添加し、３０℃で２４時間攪拌し
た。得られたフィルター層用塗布液を試料Ｂ−１〜４の
厚さ３００ｎｍの下塗り層側に、乾燥膜厚が３．５μｍ
となるように塗布し、１２０℃で１０分間乾燥してフィ
ルター層を形成した。ここで作製した試料をそれぞれＦ
−１〜４とした。Add 180 g of a 10% by weight aqueous solution of gelatin to p
A 1N sodium hydroxide solution was added so that H became 7, the dye (b7) was added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 24 hours. The dry thickness of the obtained filter layer coating liquid was 3.5 μm on the undercoat layer side of the sample B-1 to B-4 having a thickness of 300 nm.
And dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a filter layer. Each of the samples prepared here was
-1 to 4.

【００６０】（フィルター機能の評価）プラズマディス
プレイパネル（ＰＤＳ４２０２Ｊ−Ｈ、富士通（株）
製）の前面板の最表面（概念図に示されるプラズマディ
スプレイ表示装置のＣの面）のフイルムを剥がし、その
代わりに実施例で作成した光学フィルター（フィルター
層が設けられている側の面）を接着剤で貼り付けた。目
視により、表示される画像について白色光と赤色光の評
価を行った。結果を第１表に示す。(Evaluation of Filter Function) Plasma Display Panel (PDS4202J-H, Fujitsu Limited)
The film on the outermost surface (surface C of the plasma display device shown in the conceptual diagram) of the front plate (made in the following) is peeled off, and instead, the optical filter (surface on which the filter layer is provided) prepared in the embodiment is used instead. Was attached with an adhesive. The displayed image was visually evaluated for white light and red light. The results are shown in Table 1.

【００６１】（接触角の測定）各試料の表面における水
の接触角は、接触角計ＣＡ−Ａ型（協和界面科学（株）
製）を使用し、フィルター層を設けていない側を測定し
た。結果を第１表に示す。(Measurement of Contact Angle) The contact angle of water on the surface of each sample was measured using a contact angle meter CA-A (Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
Was used, and the side without the filter layer was measured. The results are shown in Table 1.

【００６２】（防汚性の評価）フィルター層を設けてい
ない側に、人の指紋及び油性インキを付け、５分放置後
にベンコットＭ−３（旭化成（株）製）で拭き取り、目
視にて判定した。 ○：充分に除去できた、△：一部、汚れが残った、×：
ほとんど除去できなかった。結果を第１表に示す。(Evaluation of antifouling property) A human fingerprint and an oil-based ink were applied to the side on which no filter layer was provided, and after standing for 5 minutes, wiped off with Bencott M-3 (manufactured by Asahi Kasei Corporation) and visually judged. did. ：: Sufficiently removed, △: Partly stained, ×:
Almost could not be removed. The results are shown in Table 1.

【００６３】[0063]

【表１】 [Table 1]

【００６４】以上より明らかなように、５６０〜６２０
ｎｍに吸収極大を持つフィルター層から成る光学フィル
ターにより、ＰＤＰの色バランスを補正でき、フィルタ
ーの最外層に水の接触角が９０度以上の防汚層を有する
ことにより、人の指紋、油性インキ等の汚れも容易に除
去できる表面を形成することが可能となった。As is clear from the above, 560 to 620
An optical filter consisting of a filter layer having an absorption maximum in nm can correct the color balance of PDP. The outermost layer of the filter has an antifouling layer with a contact angle of water of 90 degrees or more, so that human fingerprints and oil-based ink It is possible to form a surface from which dirt such as can be easily removed.

【００６５】[0065]

【発明の効果】本発明により、人の指紋、油性インキ等
の汚れも容易に除去できる表面を有する光学フィルター
が得られる。According to the present invention, an optical filter having a surface from which stains such as human fingerprints and oil-based ink can be easily removed can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】プラズマディスプレイ表示装置の概念図FIG. 1 is a conceptual diagram of a plasma display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Ａ 前面板 Ｂ プラズマディスプレイパネル Ｃ 前面板の観察側の面 Ｄ 前面板のプラズマディスプレイパネル側の面 Ｅ プラズマディスプレイの観察側表面 Reference Signs List A Front plate B Plasma display panel C Surface of front plate on observation side D Surface of front plate on plasma display panel E Surface of plasma display on observation side

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 透明支持体及び５６０〜６２０ｎｍに吸
収極大を持つフィルター層から成る光学フィルターにお
いて、該フィルターのいずれかの最外層に水の接触角が
９０度以上の防汚層を有することを特徴とする光学フィ
ルター。1. An optical filter comprising a transparent support and a filter layer having an absorption maximum at 560 to 620 nm, wherein an outermost layer of any one of the filters has an antifouling layer having a contact angle of water of 90 ° or more. Characteristic optical filter. 【請求項２】 前記フィルター層の５６０〜６２０ｎｍ
の吸収極大での半値幅が１０ｎｍ〜５０ｎｍであること
を特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。2. The filter layer has a thickness of 560 to 620 nm.
2. The optical filter according to claim 1, wherein the full width at half maximum at the absorption maximum is 10 nm to 50 nm. 【請求項３】 フィルター層が５６０〜６２０ｎｍおよ
び５００〜５５０ｎｍの両方に吸収極大を持つことを特
徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルター。3. The optical filter according to claim 1, wherein the filter layer has an absorption maximum at both 560 to 620 nm and 500 to 550 nm. 【請求項４】 前記フィルター層がオキソノール系色素
およびシアニン系色素から選ばれた少なくとも１種を含
むことを特徴とする請求項１〜３に記載の光学フィルタ
ー。4. The optical filter according to claim 1, wherein the filter layer contains at least one selected from oxonol dyes and cyanine dyes. 【請求項５】 前記防汚層が含フッ素化合物を含有する
ことを特徴とする請求項１〜４に記載の光学フィルタ
ー。5. The optical filter according to claim 1, wherein the antifouling layer contains a fluorine-containing compound. 【請求項６】 前記防汚層の屈折率が該支持体より低い
ことを特徴とする請求項１〜５に記載の光学フィルタ
ー。6. The optical filter according to claim 1, wherein a refractive index of the antifouling layer is lower than that of the support. 【請求項７】 前記防汚層が含フッ素化合物のモノマ
ー、オリゴマーあるいはポリマーの溶液を塗布して、加
熱あるいは紫外線、電子線照射により重合させたもので
あることを特徴とする請求項１〜６に記載の光学フィル
ター。7. The antifouling layer is formed by applying a solution of a monomer, oligomer or polymer of a fluorine-containing compound and polymerizing the solution by heating or irradiation with ultraviolet rays or electron beams. An optical filter according to item 1. 【請求項８】 画像表示装置の表示用に用いられること
を特徴とする請求項１〜７記載の光学フィルター。8. The optical filter according to claim 1, which is used for display on an image display device. 【請求項９】 プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
表示用に用いられる請求項１〜８記載の光学フィルタ
ー。9. A plasma display panel (PDP)
The optical filter according to claim 1, which is used for display. 【請求項１０】 請求項９に記載の光学フィルターを表
面に保持することを特徴とするＰＤＰ用前面板。10. A front panel for a PDP, wherein the optical filter according to claim 9 is held on a surface. 【請求項１１】 請求項１〜９に記載の光学フィルター
をＰＤＰモジュールの表面、前面板の表面、前面板の裏
面の少なくとも一面に設けたことを特徴とするＰＤＰ表
示装置。11. A PDP display device, wherein the optical filter according to claim 1 is provided on at least one of a surface of a PDP module, a surface of a front plate, and a back surface of the front plate.