JP2001013316A - Optical filter - Google Patents
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- JP2001013316A JP2001013316A JP11184004A JP18400499A JP2001013316A JP 2001013316 A JP2001013316 A JP 2001013316A JP 11184004 A JP11184004 A JP 11184004A JP 18400499 A JP18400499 A JP 18400499A JP 2001013316 A JP2001013316 A JP 2001013316A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体および
フィルター層を有する光学フィルターに関する。特に、
本発明は液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレ
イパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表
示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置の
表面に、色再現性改良のため取り付けられる光学フィル
ターに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical filter having a transparent support and a filter layer. In particular,
The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT), a fluorescent display tube, and a surface of an image display device such as a field emission display. The present invention relates to an optical filter attached for improving color reproducibility.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置(LCD)、プラズマディ
スプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組み合
わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のための光
を理想的な三原色にすることは、非常に難しい(実質的
には不可能である)。例えば、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)では、三原色蛍光体からの発光に余分な
光(波長が500乃至620nmの範囲)が含まれてい
ることが知られている。そこで、表示色の色バランスを
補正するため特定の波長の光を吸収するフィルターを用
いて、色補正を行うことが提案されている。フィルター
による色補正については、特開昭58−153904
号、同61−188501号、特開平3−231988
号、同5−205643号、同9−145918号、同
9−306366号、同10−26704号、WO98
/23980号の各公報に記載がある。2. Description of the Related Art A liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT),
2. Description of the Related Art An image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display displays a color image by a combination of light of three primary colors of red, blue and green in principle. However, it is very difficult (practically impossible) to make light for display ideal three primary colors. For example, in a plasma display panel (PDP), it is known that light emitted from three primary color phosphors contains extra light (wavelength is in a range of 500 to 620 nm). Therefore, it has been proposed to perform color correction using a filter that absorbs light of a specific wavelength in order to correct the color balance of display colors. Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-153904 discloses color correction using a filter.
No. 61-188501, JP-A-3-231988
No. 5,205,643, No. 9-145918, No. 9-306366, No. 10-26704, WO98
/ 23980.
【0003】光学フィルターの形成方法には様々な方法
が開示されている。特開昭61−188501号、特開
平5−205643号、同9−145918号、同9−
306366号の各公報に記載の光学フィルターでは、
透明支持体に染料または顔料を添加して、支持体をフィ
ルターとして機能させている。特開平10−26704
号公報記載の光学フィルターでは、透明支持体と反射防
止層との間に設けられるハードコート層(表面硬化層)
を着色し、ハードコート層をフィルターとして機能させ
ている。また、特開平7−209510号公報に記載の
光学フィルターでは、色素と金属アルコキシドの混合液
を塗布、乾燥、焼成して、フィルター層として機能させ
ている。更に、WO98/23980号記載の光学フィ
ルターでは、色素及びマトリクスポリマーを適当な溶媒
に溶解、塗布して、フィルター層として機能させてい
る。しかし、これらの方法で形成された光学フィルター
は、ディスプレイの色補正機能は充分であっても、ディ
スプレイに組み込む工程において、或いはディスプレイ
に組み込んだ後に、フィルター表面に付着する汚れが問
題となることがあった。例えば、ディスプレイに組み込
む際に人の手が触れて汚れが付着したり、ディスプレイ
の最表面に組み込まれた場合は、人の手だけでなく飲み
物や油、化粧品、インクなど、使用条件によっては様々
な汚れに晒されることになる。従って、汚れ防止の処理
が施されていない場合は汚れが完全に除去できなかった
り、無理に汚れを除去しようとして光学フィルターの表
面を傷つけてしまうことになる。Various methods have been disclosed for forming an optical filter. JP-A-61-188501, JP-A-5-205643, JP-A-9-145918 and JP-A-9-145918
In the optical filter described in each publication of 306366,
A dye or a pigment is added to the transparent support so that the support functions as a filter. JP-A-10-26704
In the optical filter described in the publication, a hard coat layer (surface hardened layer) provided between the transparent support and the antireflection layer
And the hard coat layer functions as a filter. In the optical filter described in JP-A-7-209510, a mixed solution of a dye and a metal alkoxide is applied, dried, and fired to function as a filter layer. Further, in the optical filter described in WO98 / 23980, a dye and a matrix polymer are dissolved and applied in an appropriate solvent to function as a filter layer. However, although the optical filters formed by these methods have a sufficient color correction function of the display, contamination attached to the filter surface during the process of assembling into the display or after assembling into the display may cause a problem. there were. For example, if it is touched by human hands when incorporating it into a display, or if it is incorporated into the outermost surface of the display, it may vary depending on usage conditions, such as drinks, oils, cosmetics, and ink, as well as human hands. You will be exposed to dirt. Therefore, if the stain prevention treatment is not performed, the stain cannot be completely removed, or the surface of the optical filter will be damaged by trying to forcibly remove the stain.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色純
度を低下させる波長の光を選択的にカットし、色バラン
スを補正することのでき、表面に汚れ防止の処理を施し
た光学フィルターを提供すること、およびそれを用いた
画像表示装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to selectively cut off light having a wavelength that reduces color purity, correct the color balance, and treat the surface of the optical filter with a stain preventing treatment. And an image display device using the same.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記
(1)〜(9)の光学フィルター、前面板、プラズマデ
ィスプレイパネル、プラズマディスプレイ表示装置によ
って達成された。 (1) 透明支持体及び560〜620nmに吸収極大
を持つフィルター層から成る光学フィルターにおいて、
該フィルターのいずれかの最外層に水の接触角が90度
以上の防汚層を有することを特徴とする光学フィルタ
ー。 (2) 前記フィルター層の560〜620nmの吸収
極大での半値幅が10nm〜50nmであることを特徴
とする(1)に記載の光学フィルター。 (3) フィルター層が560〜620nmおよび50
0〜550nmの両方に吸収極大を持つことを特徴とす
る(1)、(2)に記載の選択吸収フィルター。 (4) 前記フィルター層がオキソノール色素およびシ
アニン色素から選ばれた少なくとも1種を含むことを特
徴とする(1)〜(3)に記載の光学フィルター。 (5) 防汚層が含フッ素化合物を含有することを特徴
とする(1)〜(4)に記載の光学フィルター。 (6) 防汚層の屈折率が該支持体より低いことを特徴
とする(1)〜(5)に記載の光学フィルター。 (7) 防汚層が含フッ素化合物のモノマー、オリゴマ
ーあるいはポリマーの溶液を塗布して、加熱あるいは紫
外線、電子線照射により重合させたものであることを特
徴とする(1)〜(6)に記載の光学フィルター。 (8) 画像表示装置の表示用に用いられることを特徴
とする(1)〜(7)に記載の光学フィルター。 (9) プラズマディスプレイパネル(PDP)表示用
に用いられる(1)〜(8)に記載の光学フィルター。 (10) (9)に記載の光学フィルターを表面に保持
することを特徴とするPDP用前面板。 (11) (1)〜(9)に記載の光学フィルターをP
DPモジュールの表面、前面板の表面、前面板の裏面の
少なくとも一面に設けたことを特徴とするPDP表示装
置。The object of the present invention has been attained by the following optical filters (1) to (9), a front plate, a plasma display panel, and a plasma display device. (1) In an optical filter comprising a transparent support and a filter layer having an absorption maximum at 560 to 620 nm,
An optical filter having an antifouling layer having a contact angle of water of 90 ° or more in any outermost layer of the filter. (2) The optical filter according to (1), wherein the full width at half maximum at the absorption maximum of 560 to 620 nm of the filter layer is 10 nm to 50 nm. (3) When the filter layer has 560-620 nm and 50
The selective absorption filter according to any one of (1) and (2), having an absorption maximum at both 0 to 550 nm. (4) The optical filter according to (1) to (3), wherein the filter layer contains at least one selected from oxonol dyes and cyanine dyes. (5) The optical filter according to (1) to (4), wherein the antifouling layer contains a fluorine-containing compound. (6) The optical filter according to (1) to (5), wherein the antifouling layer has a refractive index lower than that of the support. (7) The antifouling layer is formed by applying a solution of a monomer, oligomer or polymer of a fluorine-containing compound and polymerizing the solution by heating or irradiation with ultraviolet rays or electron beams. The optical filter as described. (8) The optical filter according to any one of (1) to (7), which is used for display on an image display device. (9) The optical filter according to (1) to (8), which is used for plasma display panel (PDP) display. (10) A front panel for a PDP, wherein the optical filter according to (9) is held on a surface. (11) The optical filter according to (1) to (9)
A PDP display device provided on at least one of a front surface of a DP module, a front plate, and a back surface of a front plate.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明は下記に挙げるいくつかの
例により説明することができるが、特に断らない限りそ
れらの例に限定されるものではない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention can be illustrated by the following examples, but is not limited to these examples unless otherwise specified.
【0007】本発明においてプラズマディスプレイパネ
ル(PDP)とは、ガス、ガラス基板、電極、電極リー
ド材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラ
ス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚であ
る。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後
面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚の
ガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。前
面板とは該プラズマディスプレイパネルの前面に位置す
る基板のことである。前面板はプラズマディスプレイパ
ネルを保護するために充分な強度を備えていることが好
ましい。前面板はプラズマディスプレイパネルと隙間を
置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ
本体に直貼りして使用することもできる。本発明におけ
るプラズマディスプレイ表示装置とは少なくともプラズ
マディスプレイパネル本体と筐体をふくむ表示装置全体
のことである。前面板を有する場合はこれもプラズマデ
ィスプレイ表示装置に含まれる。プラズマディスプレイ
パネル(PDP)は、既に市販されている。プラズマデ
ィスプレイパネルについては、特開平5−205643
号、同9−306366号の各公報に記載がある。In the present invention, the plasma display panel (PDP) is composed of a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. The front plate is a substrate located in front of the plasma display panel. The front plate preferably has sufficient strength to protect the plasma display panel. The front panel can be used with a gap from the plasma display panel, or can be used directly attached to the plasma display body. The plasma display device according to the present invention is an entire display device including at least a plasma display panel main body and a housing. If it has a front panel, this is also included in the plasma display device. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. Regarding the plasma display panel, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-205564
And JP-A-9-306366.
【0008】本発明における光学フィルターとは、56
0nm〜620nmの間に光吸収の極大を有しており、
その透過率は極大の波長において0.01%〜90%の
間であり、好ましくは0.1%〜70%の間である。[0008] The optical filter in the present invention is 56
It has a maximum of light absorption between 0 nm and 620 nm,
Its transmission is between 0.01% and 90%, preferably between 0.1% and 70% at the wavelength of maximum.
【0009】波長が560nm〜620nmの範囲の吸
収は、なるべく緑の蛍光体の必要な発光領域に影響を与
えないよう選択的に光をカットするために吸収スペクト
ルのピークをシャープにすることが好ましい。具体的に
は、波長が560nm〜620nmの範囲の吸収極大で
の半値幅(吸収極大での吸光度の半分の吸光度を示す波
長領域の幅)は、5nm〜200nmであることが好ま
しく、10nm〜100nmであることがより好まし
く、10nm〜50nmであることが最も好ましい。The absorption in the wavelength range of 560 nm to 620 nm preferably sharpens the peak of the absorption spectrum in order to selectively cut off the light so as not to affect the necessary emission region of the green phosphor. . Specifically, the full width at half maximum at the absorption maximum in the wavelength range of 560 nm to 620 nm (the width of the wavelength region showing half the absorbance at the absorption maximum) is preferably 5 nm to 200 nm, and more preferably 10 nm to 100 nm. Is more preferable, and most preferably 10 nm to 50 nm.
【0010】該光学フィルターは、560nm〜620
nmの吸収極大に加えて、500nm〜550nmに吸
収極大を持たせることも好ましい。500nm〜550
nmの範囲の透過率は20%〜85%の範囲であること
が好ましい。波長が500nm〜550nmの範囲の光
吸収の極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を調
整するために設定される。緑の蛍光体の発光域は、なだ
らかにカットすることが好ましい。波長が500nm〜
550nmの範囲の吸収極大での半値幅は、30nm〜
300nmであることが好ましく、40nm〜300n
mであることがより好ましく、50nm〜150nmで
あることがさらに好ましく、60nm〜150nmであ
ることが最も好ましい。The optical filter has a wavelength of 560 nm to 620.
It is also preferable to have an absorption maximum in the range of 500 nm to 550 nm in addition to the absorption maximum in nm. 500 nm to 550
The transmittance in the range of nm is preferably in the range of 20% to 85%. The maximum of light absorption in the wavelength range of 500 nm to 550 nm is set in order to adjust the emission intensity of the green phosphor having high visibility. It is preferable that the emission region of the green phosphor be cut smoothly. Wavelength is 500nm ~
The half width at the absorption maximum in the range of 550 nm is 30 nm to
300 nm, preferably 40 nm to 300 n
m, more preferably 50 nm to 150 nm, and most preferably 60 nm to 150 nm.
【0011】本発明において上記の吸収スペクトルを付
与するために、色素(染料または顔料)を用いて、フィ
ルターを形成することが好ましい。In the present invention, in order to impart the above-mentioned absorption spectrum, it is preferable to form a filter using a dye (dye or pigment).
【0012】波長が500nm〜550nmの範囲に吸
収極大を持つ色素としては、スクアリリウム系、アゾメ
チン系、シアニン系、オキソノール系、アントラキノン
系、アゾ系またはベンジリデン系の化合物が好ましく、
シアニン系、オキソノール系の色素がさらに好ましく用
いられる。アゾ染料としては、GB539703号、同
575691号、US2956879号および堀口 博
著「総説 合成染料」三共出版などに記載の多くのアゾ
染料を使用することができる。波長が500nm〜55
0nmの範囲に吸収極大を持つ色素の例を以下に示す。The dye having an absorption maximum in the wavelength range of 500 nm to 550 nm is preferably a squarylium-based, azomethine-based, cyanine-based, oxonol-based, anthraquinone-based, azo- or benzylidene-based compound,
Cyanine and oxonol dyes are more preferably used. As the azo dye, there can be used many azo dyes described in GB 593,703, No. 5,756,91, US Pat. No. 2,956,879 and Hiroshi Horiguchi, "Review Synthetic Dyes", Sankyo Publishing Co., Ltd. Wavelength is from 500 nm to 55
Examples of the dye having the absorption maximum in the range of 0 nm are shown below.
【0013】[0013]
【化1】 Embedded image
【0014】[0014]
【化2】 Embedded image
【0015】[0015]
【化3】 Embedded image
【0016】[0016]
【化4】 Embedded image
【0017】[0017]
【化5】 Embedded image
【0018】[0018]
【化6】 Embedded image
【0019】[0019]
【化7】 Embedded image
【0020】[0020]
【化8】 Embedded image
【0021】[0021]
【化9】 Embedded image
【0022】[0022]
【化10】 Embedded image
【0023】[0023]
【化11】 Embedded image
【0024】波長が560nm〜620nmの範囲に吸
収極大を持つ色素としては、シアニン系、スクアリリウ
ム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系ま
たはアゾ系の化合物が好ましく、シアニン系、オキソノ
ール系の色素がさらに好ましく用いられる。波長が56
0nm〜620nmの範囲に吸収極大を持つ色素の例を
以下に示す。The dye having an absorption maximum in the wavelength range of 560 nm to 620 nm is preferably a cyanine-based, squarylium-based, azomethine-based, xanthene-based, oxonol-based or azo-based compound, and more preferably a cyanine-based or oxonol-based dye. It is preferably used. Wavelength is 56
Examples of the dye having an absorption maximum in the range of 0 nm to 620 nm are shown below.
【0025】[0025]
【化12】 Embedded image
【0026】[0026]
【化13】 Embedded image
【0027】[0027]
【化14】 Embedded image
【0028】[0028]
【化15】 Embedded image
【0029】[0029]
【化16】 Embedded image
【0030】[0030]
【化17】 Embedded image
【0031】[0031]
【化18】 Embedded image
【0032】[0032]
【化19】 Embedded image
【0033】[0033]
【化20】 Embedded image
【0034】[0034]
【化21】 Embedded image
【0035】[0035]
【化22】 Embedded image
【0036】フィルター層には、以上のような2種類以
上の色素を組み合わせて用いることができる。また、波
長が500nm〜550nmの範囲と波長が560nm
〜620nmの範囲の両方に吸収極大を持つ色素をフィ
ルターに用いることもできる。例えば、色素を微粒子分
散物のような会合体の状態にすると、一般に波長が長波
長側にシフトして、ピークがシャープになる。そのた
め、波長が500nm〜550nmの範囲に吸収極大を
持つ色素には、その会合体が560nm〜620nmの
範囲に吸収極大を持つものもある。そのような色素が部
分的に会合体を形成した状態で使用すると、波長が50
0nm〜550nmの範囲と波長が560nm〜620
nmの範囲の両方に吸収極大を得ることができる。その
ような色素の例を以下に示す。In the filter layer, two or more dyes as described above can be used in combination. Further, the wavelength is in the range of 500 nm to 550 nm and the wavelength is 560 nm.
A dye having an absorption maximum in both the range of 〜620 nm can be used for the filter. For example, when the pigment is in an aggregated state such as a fine particle dispersion, the wavelength generally shifts to a longer wavelength side, and the peak becomes sharp. For this reason, some dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 500 nm to 550 nm include those whose aggregates have an absorption maximum in the range of 560 nm to 620 nm. When used in a state where such a dye is partially formed into an aggregate, the wavelength becomes 50%.
A range of 0 nm to 550 nm and a wavelength of 560 nm to 620
Absorption maxima can be obtained in both the nm range. Examples of such dyes are shown below.
【0037】[0037]
【化23】 Embedded image
【0038】[0038]
【化24】 Embedded image
【0039】本発明に用いることのできる光学フィルタ
ーの厚さは0.1μm乃至5cmであることが好まし
く、0.5μm乃至100μmであることがさらに好ま
しい。The thickness of the optical filter that can be used in the present invention is preferably from 0.1 μm to 5 cm, more preferably from 0.5 μm to 100 μm.
【0040】該光学フィルターは、さらにポリマーバイ
ンダーを含むことが好ましい。天然ポリマー(例、ゼラ
チン、セルロース誘導体、アルギン酸)または合成ポリ
マー(例、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、
ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポ
リスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミド)を
ポリマーバインダーとして用いることができる。親水性
ポリマー(上記天然ポリマー、ポリビニルブチラール、
ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、水溶性ポ
リアミド)が特に好ましい。It is preferable that the optical filter further contains a polymer binder. Natural polymers (eg, gelatin, cellulose derivatives, alginic acid) or synthetic polymers (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol,
Polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, water-soluble polyamide) can be used as the polymer binder. Hydrophilic polymer (the above natural polymer, polyvinyl butyral,
Polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, water-soluble polyamide) are particularly preferred.
【0041】本発明の防汚層は光学フィルターのいずれ
かの最外層に設けられ、水の接触角が90度以上110
度以下の表面を有する場合がとくに好ましい。防汚層の
表面は表面エネルギーが小さく、親水性及び親油性のい
ずれの汚れに対しても、汚れが付着しにくく、また付着
したとしても容易に拭き取ることが可能である。The antifouling layer of the present invention is provided on any one of the outermost layers of the optical filter and has a water contact angle of 90 ° or more and 110 ° or more.
It is particularly preferable to have a surface of a degree or less. The surface of the antifouling layer has a small surface energy, so that it is difficult for dirt to adhere to both hydrophilic and lipophilic dirt, and even if it adheres, it can be easily wiped off.
【0042】本発明の防汚層としては、含フッ素化合物
が好ましく、具体例として特開昭61−247743、
特開平10−147739、同6−226928、同4
−302086、同9−157582、同6−1360
64の各公報に記載されている化合物が挙げられる。本
発明の防汚層は含フッ素化合物のモノマー、オリゴマー
あるいはポリマーの溶液(反応性フッ素ポリマー)を塗
布して、加熱あるいは紫外線、電子線照射により重合さ
せたものが好ましい。防汚層の厚さは、2nm〜1μm
が好ましく、2nm〜100nmがより好ましく、5n
m〜30nmが特に好ましい。本発明の防汚層の屈折率
は該支持体より低いことが防汚層表面における光の反射
を抑えるために好ましい。The antifouling layer of the present invention is preferably a fluorine-containing compound, and specific examples thereof include JP-A-61-247743,
JP-A-10-147739, JP-A-6-226928, JP-A-4
-302086, 9-157582, 6-1360
64 publications. The antifouling layer of the present invention is preferably formed by applying a solution (reactive fluoropolymer) of a monomer, oligomer or polymer of a fluorine-containing compound and polymerizing the solution by heating or irradiation with ultraviolet rays or electron beams. The thickness of the antifouling layer is 2 nm to 1 μm
Is preferably 2 nm to 100 nm, more preferably 5 n
m to 30 nm is particularly preferred. The refractive index of the antifouling layer of the present invention is preferably lower than that of the support in order to suppress the reflection of light on the surface of the antifouling layer.
【0043】本発明で使用することのできる透明支持体
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリアリレート(例 ビスフェ
ノールAとフタル酸の縮合物)、ポリスチレン(例、シ
ンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン
(例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペン
テン)、アクリル(ポリメチルメタクリレート)、ポリ
スルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケト
ン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレンが含
まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、
ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレー
トおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。透明支
持体の厚みは5μm以上5cm以下であることが好まし
く、25μm以上1cm以下であることがさらに好まし
く、80μm以上1.2mm以下であることが最も好ま
しい。透明支持体の透過率は80%以上であることが好
ましく、86%以上であることがさらに好ましい。ヘイ
ズは、2%以下であることが好ましく、1%以下である
ことがさらに好ましい。屈折率は、1.45〜1.70
であることが好ましい。Examples of transparent supports which can be used in the present invention include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides , Polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene Terephthalate), polyarylate (eg, condensate of bisphenol A and phthalic acid), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, poly Propylene, polymethylpentene), acrylic (polymethyl methacrylate), polysulfone, polyether sulfone, polyether ketone, polyether imide and polyoxyethylene. Triacetyl cellulose, polycarbonate,
Polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred. The thickness of the transparent support is preferably 5 μm or more and 5 cm or less, more preferably 25 μm or more and 1 cm or less, and most preferably 80 μm or more and 1.2 mm or less. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze is preferably at most 2%, more preferably at most 1%. Refractive index is 1.45 to 1.70
It is preferable that
【0044】透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは紫外
線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、
透明支持体の0.01〜20重量%であることが好まし
く、0.05〜10重量%であることがさらに好まし
い。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透
明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、Si
O2 、TiO2 、BaSO4 、CaCO3 、タルクおよ
びカオリンが含まれる。An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of infrared absorber added
It is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight of the transparent support. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of inorganic compounds include Si
O 2, TiO 2, BaSO 4 , CaCO 3, talc and kaolin.
【0045】透明支持体にはフィルター層、防汚層ある
いは下塗り層との接着性をより強固にするために表面処
理を施すことが好ましい。表面処理の例には、薬品処
理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照
射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処
理、レーザー処理、混酸処理、およびオゾン酸化処理を
挙げることができ、グロー放電処理、紫外線照射処理、
コロナ放電処理および火炎処理が好ましく、コロナ放電
処理がさらに好ましい。The transparent support is preferably subjected to a surface treatment in order to further enhance the adhesiveness with a filter layer, an antifouling layer or an undercoat layer. Examples of surface treatments include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment,
Corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and corona discharge treatment is more preferred.
【0046】本発明では、今まで述べたフィルター層、
防汚層、赤外遮断層、電磁波遮断層を支持体上に設ける
場合には支持体に下塗り層を設けることができる。下塗
り層としては室温での弾性率が1000乃至1MPa 、好
ましくは800乃至5Mpa 、さらに好ましくは500乃
至10MPa の柔らかいポリマーが好ましい。またその厚
みは好ましくは2nm乃至20μm、さらに好ましくは
5nm乃至5μm、最も好ましくは50nm乃至1μm
である。下塗り層に使用されるポリマーはガラス転移温
度が60℃以下−60℃以上のものが好ましい。ガラス
転移温度が60℃以下−60℃以上のポリマーの例とし
ては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタ
ジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリ
ルまたはメチルビニルエーテルの重合または共重合させ
たものを挙げることができる。また下塗りは複数層設け
ることができ2層設けることが好ましい。In the present invention, the filter layer described so far,
When an antifouling layer, an infrared shielding layer, and an electromagnetic wave shielding layer are provided on a support, an undercoat layer can be provided on the support. As the undercoat layer, a soft polymer having an elastic modulus at room temperature of 1,000 to 1 MPa, preferably 800 to 5 MPa, more preferably 500 to 10 MPa is preferable. The thickness is preferably 2 nm to 20 μm, more preferably 5 nm to 5 μm, and most preferably 50 nm to 1 μm.
It is. The polymer used in the undercoat layer preferably has a glass transition temperature of 60C or lower and -60C or higher. Examples of polymers having a glass transition temperature of 60 ° C. or lower and −60 ° C. or higher include vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, butadiene, neoprene, styrene, chloroprene, acrylates, methacrylates, polymerization of acrylonitrile or methyl vinyl ether, or Copolymerized products can be mentioned. The undercoating can be provided in a plurality of layers, and is preferably provided in two layers.
【0047】本発明では反射防止層を設けることも好ま
しい。反射率としては正反射率として3.0%以下が好
ましく、さらに好ましくは1.8%以下である。反射防
止層としては通常低屈折率層を設ける。低屈折率層の屈
折率は、その下層の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈
折率は、1.2〜1.55であることが好ましく、1.
20〜1.50であることがさらに好ましい。低屈折率
層の厚さは、50nm〜400nmであることが好まし
く、50nm〜200nmであることがさらに好まし
い。低屈折率層の例としては、屈折率の低い含フッ素ポ
リマーからなる層(特開昭57−34526号、特開平
3−130103号、同6−115023号、同8−3
13702号、同7−168004号の各公報記載)、
ゾルゲル法により得られる層(特開平5−208811
号、同6−299091号、同7−168003号の各
公報記載)、あるいは微粒子を含む層(特公昭60−5
9250号、特開平5−13021号、同6−5647
8号、同7−92306号、同9−288201号の各
公報に記載)を挙げることができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、3%〜50体積%の空隙率を有することが好まし
く、5%〜35体積%の空隙率を有することがさらに好
ましい。In the present invention, it is also preferable to provide an antireflection layer. The reflectance is preferably 3.0% or less as the regular reflectance, more preferably 1.8% or less. Usually, a low refractive index layer is provided as an antireflection layer. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the lower layer. The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.2 to 1.55.
More preferably, it is 20 to 1.50. The thickness of the low refractive index layer is preferably from 50 nm to 400 nm, and more preferably from 50 nm to 200 nm. Examples of the low refractive index layer include layers made of a fluoropolymer having a low refractive index (JP-A-57-34526, JP-A-3-130103, JP-A-6-115023, and JP-A-8-15023).
Nos. 13702, 7-168004).
Layer Obtained by Sol-Gel Method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-2088811)
Nos. 6-299091 and 7-168003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-5).
No. 9250, JP-A-5-13021 and JP-A-6-5647.
No. 8, No. 7-92306, and No. 9-288201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing the fine particles preferably has a porosity of 3% to 50% by volume, and more preferably 5% to 35% by volume.
【0048】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に、屈折率の高い層(中・高屈折率層)を積
層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.6
5〜2.40であることが好ましく、1.70〜2.2
0であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率
は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間
の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、
1.50〜1.90であることが好ましい。中・高屈折
率層の厚さは、5nm〜100μmであることが好まし
く、10nm〜10μmであることがさらに好ましく、
30nm〜1μmであることが最も好ましい。中・高屈
折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3
%以下であることがさらに好ましく、1%以下であるこ
とが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折
率を有するポリマーを用いて形成することができる。屈
折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン
共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂および環状(脂環式または芳香
族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状(芳香族、複素環
式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。To prevent reflection in a wide wavelength range,
It is preferable that a layer having a high refractive index (medium / high refractive index layer) is laminated on the low refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is 1.6
Preferably, it is 5 to 2.40, and 1.70 to 2.2.
More preferably, it is 0. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is
It is preferably 1.50 to 1.90. The thickness of the middle / high refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm,
Most preferably, it is 30 nm to 1 μm. The haze of the middle / high refractive index layer is preferably 5% or less,
%, More preferably 1% or less. The middle / high refractive index layer can be formed using a polymer having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. . Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.
【0049】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80〜2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) of the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn,
Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, S
i, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in solvents or are themselves liquid, such as alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) combined with coordination compounds, activity The middle / high refractive index layer can be formed using an inorganic polymer.
【0050】本発明においては電磁波遮蔽効果を有する
層を設けることも好ましい。電磁波遮蔽効果を有する層
の表面抵抗は0.01〜500Ω/□、より好ましくは
0.01〜10Ω/□である。電磁波遮蔽効果を付与す
るには、前面板の透過率を低下させないため透明導電層
を用いることが好ましい。透明導電層としては、金属
層、金属酸化物層、導電性ポリマー層等を挙げるこがで
きる。透明導電層を形成する金属としては、例えば銀、
パラジウム、金、白金、ロジウム、アルミニウム、鉄、
コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、錫、タン
グステン、イリジウム、鉛単独もしくはこれらの2種以
上の合金を挙げることができるが、好ましくは銀、パラ
ジウム、金、白金、ロジウム単独もしくはこれらの合金
である。この中で銀とパラジウムの合金が好ましく、こ
のとき銀の含有率は60重量%乃至99重量%が好まし
く、80重量%乃至98重量%が更に好ましい。金属層
の膜厚は1〜100nmが好ましく、5〜40nmが更
に好ましく、10〜30nmが最も好ましい。膜厚が1
nm未満では電磁波遮蔽効果が乏しく、100nmを超
えると可視光線の透過率が低下する。透明導電層を形成
する金属酸化物としては、例えば酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ITO、ATOなどを
挙げることができる。この膜厚は20〜1000nmが
好ましい。さらに好ましくは40〜100nmである。
これら金属透導電層と酸化物透明導電層を合わせて用い
るのも好ましい。また、同一層内に金属と導電性金属酸
化物が共存することも好ましい。金属層の保護、酸化劣
化防止および可視光線の透過率を高めるために透明酸化
物層を積層することができる。この透明酸化物層は導電
性があってもなくてもかまわない。透明酸化物層として
は例えば2〜4価金属の酸化物、酸化ジルコニウム、酸
化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミ
ニウムおよび金属アルコキサイド化合物等の薄膜が挙げ
られる。透明導電層、透明酸化物層を形成する方法とし
ては特に制限はなく、任意の加工処理方法を選択するこ
とが可能である。例えばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法あるい
はPVD法、該当する金属あるいは金属酸化物の超微粒
子の塗布、金属シートの接着等いずれの公知技術も用い
ることが可能である。In the present invention, it is also preferable to provide a layer having an electromagnetic wave shielding effect. The layer having the electromagnetic wave shielding effect has a surface resistance of 0.01 to 500 Ω / □, more preferably 0.01 to 10 Ω / □. In order to impart an electromagnetic wave shielding effect, it is preferable to use a transparent conductive layer so as not to lower the transmittance of the front plate. Examples of the transparent conductive layer include a metal layer, a metal oxide layer, and a conductive polymer layer. As the metal forming the transparent conductive layer, for example, silver,
Palladium, gold, platinum, rhodium, aluminum, iron,
Cobalt, nickel, copper, zinc, ruthenium, tin, tungsten, iridium, lead alone or an alloy of two or more of these can be mentioned, preferably silver, palladium, gold, platinum, rhodium alone or an alloy thereof. is there. Among them, an alloy of silver and palladium is preferable. At this time, the silver content is preferably 60% by weight to 99% by weight, more preferably 80% by weight to 98% by weight. The thickness of the metal layer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 40 nm, and most preferably 10 to 30 nm. The film thickness is 1
If it is less than nm, the electromagnetic wave shielding effect is poor, and if it exceeds 100 nm, the transmittance of visible light decreases. Examples of the metal oxide forming the transparent conductive layer include tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO, and ATO. This film thickness is preferably from 20 to 1000 nm. More preferably, it is 40 to 100 nm.
It is also preferable to use the metal transparent conductive layer and the oxide transparent conductive layer together. It is also preferable that a metal and a conductive metal oxide coexist in the same layer. A transparent oxide layer can be laminated to protect the metal layer, prevent oxidative deterioration, and increase visible light transmittance. This transparent oxide layer may or may not be conductive. Examples of the transparent oxide layer include thin films of oxides of divalent to tetravalent metals, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and metal alkoxide compounds. The method for forming the transparent conductive layer and the transparent oxide layer is not particularly limited, and any processing method can be selected. For example, any known technique such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, plasma CVD or PVD, application of ultrafine particles of a corresponding metal or metal oxide, and adhesion of a metal sheet can be used.
【0051】本発明においては赤外遮蔽効果を有する層
を設けることも好ましい。800nmから1200nm
までの赤外線が最も問題であり、この領域に対し遮蔽効
果を有することが好ましい。赤外線遮蔽効果を付与する
には透明プラスチック支持体に近赤外吸収性化合物を混
合する方法を用いることができる。例えば銅原子を含有
する樹脂組成物(特開平6−118228号公報)、銅
化合物、リン化合物を含有する樹脂組成物(特開昭62
−5190号公報)、銅化合物、チオ尿素誘導体を含有
する樹脂組成物(特開平6−73197号公報)、タン
グステン系化合物を含有する樹脂組成物(US3647
729号公報)などを形成することによって容易に製造
できる。銀を透明上に成膜する方法が電磁遮蔽に加えて
赤外線遮蔽効果を持たせる方法として安価であり好まし
い。In the present invention, it is also preferable to provide a layer having an infrared shielding effect. 800nm to 1200nm
Is the most problematic, and preferably has a shielding effect on this region. To impart an infrared shielding effect, a method of mixing a near infrared absorbing compound with a transparent plastic support can be used. For example, a resin composition containing a copper atom (JP-A-6-118228) and a resin composition containing a copper compound and a phosphorus compound (JP-A-62-27828)
No. 5190), a resin composition containing a copper compound and a thiourea derivative (JP-A-6-73197), and a resin composition containing a tungsten-based compound (US Pat.
729) can be easily manufactured. A method of forming a silver film on a transparent material is inexpensive and preferable as a method of providing an infrared shielding effect in addition to the electromagnetic shielding.
【0052】本発明においては、表面をアンチグレア機
能(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面
に移るのを防止する機能)を付与することも好ましい。
例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そ
してその表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射
防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形
成することにより、アンチグレア機能を得ることができ
る。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3
〜30%のヘイズを有する。In the present invention, it is also preferable to provide the surface with an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface).
For example, by forming fine irregularities on the surface of a transparent film, and forming an antireflection layer on the surface, or after forming the antireflection layer, by forming irregularities on the surface with an embossing roll, an anti-glare function is obtained. be able to. An anti-reflection layer having an anti-glare function is generally 3
Has a haze of 3030%.
【0053】本発明には、防汚層以外に、ハードコート
層、潤滑層、帯電防止層あるいは中間層を設けることも
好ましい。ハードコート層は、架橋しているポリマーを
含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、
ウレタン系、エポキシ系、シロキサン系のポリマー、オ
リゴマーまたはモノマー(例、紫外線硬化型樹脂)を用
いて形成することができる。シリカ系のフィラーをハー
ドコート層に添加することもできる。反射防止膜の最表
面には潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防止膜
表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有す
る。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン(例、シリコン
オイル)、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金
属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成す
ることができる。潤滑層の厚さは、2〜20nmである
ことが好ましい。In the present invention, it is also preferable to provide a hard coat layer, a lubricating layer, an antistatic layer or an intermediate layer in addition to the antifouling layer. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer is acrylic,
It can be formed using a urethane-based, epoxy-based, or siloxane-based polymer, oligomer, or monomer (eg, an ultraviolet curable resin). A silica-based filler can be added to the hard coat layer. A lubrication layer may be formed on the outermost surface of the antireflection film. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection film and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubricating layer is preferably from 2 to 20 nm.
【0054】本発明における種々の層、すなわち反射防
止層(低屈折率層)、フィルター層、赤外線や電磁波の
遮蔽層、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、防汚層、
その他の層は、一般的な塗布方法により形成することが
できる。塗布方法の例には、ディップコート法、エアー
ナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびホ
ッパーを使用するエクストルージョンコート法(米国特
許2681294号明細書記載)が含まれる。二以上の
層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法につい
ては、米国特許2761791号、同2941898
号、同3508947号、同3526528号の各明細
書および原崎勇次著「コーティング工学」253頁(1
973年朝倉書店発行)に記載がある。また、本発明に
おける層の形成方法として、スパッタリング法、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法ある
いはPVD法も適宜選択することができる。Various layers in the present invention, that is, an antireflection layer (low refractive index layer), a filter layer, a layer for shielding infrared rays and electromagnetic waves, an undercoat layer, a hard coat layer, a lubricating layer, an antifouling layer,
Other layers can be formed by a general coating method. Examples of the coating method include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an extrusion coating method using a hopper (described in US Pat. No. 2,681,294). Is included. Two or more layers may be formed by simultaneous coating. The simultaneous coating method is described in U.S. Pat.
Nos. 3,508,947 and 3,526,528, and Yuji Harazaki, "Coating Engineering", page 253 (1
973 Asakura Shoten). In addition, as a method for forming a layer in the present invention, a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a plasma CVD method, or a PVD method can be appropriately selected.
【0055】本発明は、液晶表示装置(LCD)、プラ
ズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネ
ッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(C
RT)のような画像表示装置に用いられる。本発明の前
面板は特に、プラズマディスプレイパネル(PDP)お
よび陰極管表示装置(CRT)の前面板として使用する
と、顕著な効果が得られる。The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD) and a cathode ray tube display (C).
RT). Particularly when the front panel of the present invention is used as a front panel of a plasma display panel (PDP) and a cathode ray tube display (CRT), a remarkable effect is obtained.
【0056】[0056]
【実施例】厚さ175μmの透明な2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面をコロナ処理した後、
屈折率1.55、ガラス転移温度37℃のスチレン−ブ
タジエンコポリマーからなるラテックス(日本ゼオン
(株)製、LX407C5)を塗布し、下塗り層300
nmを形成し、試料B−1とした。もう一方の面は未処
理、未塗布のままである。EXAMPLE After corona treatment of one side of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm,
A latex made of a styrene-butadiene copolymer having a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C. (LX407C5, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) is applied, and the undercoat layer 300 is formed.
nm, and the resultant was designated as Sample B-1. The other side remains untreated and uncoated.
【0057】厚さ175μmの透明な2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した
後、両面に屈折率1.55、ガラス転移温度37℃のス
チレン−ブタジエンコポリマーからなるラテックス(日
本ゼオン(株)製、LX407C5)を塗布し、下塗り
層を形成した。乾燥後の膜厚さとして、片面には厚さ3
00nm、もう片面には厚さ150nmとなるように塗
布し、試料B−2とした。After a corona treatment on both sides of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 μm, a latex made of a styrene-butadiene copolymer having a refractive index of 1.55 and a glass transition temperature of 37 ° C. (Nippon Zeon Co., Ltd.) LX407C5) was applied to form an undercoat layer. As the film thickness after drying, one side has a thickness of 3
The sample was applied so as to have a thickness of 00 nm and the other surface to have a thickness of 150 nm, thereby obtaining a sample B-2.
【0058】反応性フッ素ポリマー(JN―7225、
JSR(株)製)2.50gにMIBK5.0gを加
え、室温で10分攪拌し、1μmのポリプロピレンフィ
ルターでろ過した。得られた液を試料B−2の厚さ15
0nmの下塗り層側に、バーコーターを用いて乾燥膜厚
が5nm、100nmになるように塗布し、120℃で
15分乾燥して硬化させて防汚層を形成し、それぞれ試
料B−3、B−4とした。Reactive fluoropolymers (JN-7225,
5.0 g of MIBK was added to 2.50 g of JSR Corporation, stirred at room temperature for 10 minutes, and filtered with a 1 μm polypropylene filter. The obtained liquid was applied to a sample B-2 having a thickness of 15
On the undercoat layer side of 0 nm, a dry coat thickness of 5 nm and 100 nm was applied using a bar coater, dried at 120 ° C. for 15 minutes, and cured to form an antifouling layer. B-4.
【0059】ゼラチンの10重量%水溶液180gにp
Hが7になるように1規定の水酸化ナトリウム溶液を添
加し、色素(b7)を添加し、30℃で24時間攪拌し
た。得られたフィルター層用塗布液を試料B−1〜4の
厚さ300nmの下塗り層側に、乾燥膜厚が3.5μm
となるように塗布し、120℃で10分間乾燥してフィ
ルター層を形成した。ここで作製した試料をそれぞれF
−1〜4とした。Add 180 g of a 10% by weight aqueous solution of gelatin to p
A 1N sodium hydroxide solution was added so that H became 7, the dye (b7) was added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 24 hours. The dry thickness of the obtained filter layer coating liquid was 3.5 μm on the undercoat layer side of the sample B-1 to B-4 having a thickness of 300 nm.
And dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a filter layer. Each of the samples prepared here was
-1 to 4.
【0060】(フィルター機能の評価)プラズマディス
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板の最表面(概念図に示されるプラズマディ
スプレイ表示装置のCの面)のフイルムを剥がし、その
代わりに実施例で作成した光学フィルター(フィルター
層が設けられている側の面)を接着剤で貼り付けた。目
視により、表示される画像について白色光と赤色光の評
価を行った。結果を第1表に示す。(Evaluation of Filter Function) Plasma Display Panel (PDS4202J-H, Fujitsu Limited)
The film on the outermost surface (surface C of the plasma display device shown in the conceptual diagram) of the front plate (made in the following) is peeled off, and instead, the optical filter (surface on which the filter layer is provided) prepared in the embodiment is used instead. Was attached with an adhesive. The displayed image was visually evaluated for white light and red light. The results are shown in Table 1.
【0061】(接触角の測定)各試料の表面における水
の接触角は、接触角計CA−A型(協和界面科学(株)
製)を使用し、フィルター層を設けていない側を測定し
た。結果を第1表に示す。(Measurement of Contact Angle) The contact angle of water on the surface of each sample was measured using a contact angle meter CA-A (Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
Was used, and the side without the filter layer was measured. The results are shown in Table 1.
【0062】(防汚性の評価)フィルター層を設けてい
ない側に、人の指紋及び油性インキを付け、5分放置後
にベンコットM−3(旭化成(株)製)で拭き取り、目
視にて判定した。 ○:充分に除去できた、△:一部、汚れが残った、×:
ほとんど除去できなかった。結果を第1表に示す。(Evaluation of antifouling property) A human fingerprint and an oil-based ink were applied to the side on which no filter layer was provided, and after standing for 5 minutes, wiped off with Bencott M-3 (manufactured by Asahi Kasei Corporation) and visually judged. did. :: Sufficiently removed, △: Partly stained, ×:
Almost could not be removed. The results are shown in Table 1.
【0063】[0063]
【表1】 [Table 1]
【0064】以上より明らかなように、560〜620
nmに吸収極大を持つフィルター層から成る光学フィル
ターにより、PDPの色バランスを補正でき、フィルタ
ーの最外層に水の接触角が90度以上の防汚層を有する
ことにより、人の指紋、油性インキ等の汚れも容易に除
去できる表面を形成することが可能となった。As is clear from the above, 560 to 620
An optical filter consisting of a filter layer having an absorption maximum in nm can correct the color balance of PDP. The outermost layer of the filter has an antifouling layer with a contact angle of water of 90 degrees or more, so that human fingerprints and oil-based ink It is possible to form a surface from which dirt such as can be easily removed.
【0065】[0065]
【発明の効果】本発明により、人の指紋、油性インキ等
の汚れも容易に除去できる表面を有する光学フィルター
が得られる。According to the present invention, an optical filter having a surface from which stains such as human fingerprints and oil-based ink can be easily removed can be obtained.
【図1】プラズマディスプレイ表示装置の概念図FIG. 1 is a conceptual diagram of a plasma display device.
A 前面板 B プラズマディスプレイパネル C 前面板の観察側の面 D 前面板のプラズマディスプレイパネル側の面 E プラズマディスプレイの観察側表面 Reference Signs List A Front plate B Plasma display panel C Surface of front plate on observation side D Surface of front plate on plasma display panel E Surface of plasma display on observation side
Claims (11)
収極大を持つフィルター層から成る光学フィルターにお
いて、該フィルターのいずれかの最外層に水の接触角が
90度以上の防汚層を有することを特徴とする光学フィ
ルター。1. An optical filter comprising a transparent support and a filter layer having an absorption maximum at 560 to 620 nm, wherein an outermost layer of any one of the filters has an antifouling layer having a contact angle of water of 90 ° or more. Characteristic optical filter.
の吸収極大での半値幅が10nm〜50nmであること
を特徴とする請求項1に記載の光学フィルター。2. The filter layer has a thickness of 560 to 620 nm.
2. The optical filter according to claim 1, wherein the full width at half maximum at the absorption maximum is 10 nm to 50 nm.
び500〜550nmの両方に吸収極大を持つことを特
徴とする請求項1又は2に記載の光学フィルター。3. The optical filter according to claim 1, wherein the filter layer has an absorption maximum at both 560 to 620 nm and 500 to 550 nm.
およびシアニン系色素から選ばれた少なくとも1種を含
むことを特徴とする請求項1〜3に記載の光学フィルタ
ー。4. The optical filter according to claim 1, wherein the filter layer contains at least one selected from oxonol dyes and cyanine dyes.
ことを特徴とする請求項1〜4に記載の光学フィルタ
ー。5. The optical filter according to claim 1, wherein the antifouling layer contains a fluorine-containing compound.
ことを特徴とする請求項1〜5に記載の光学フィルタ
ー。6. The optical filter according to claim 1, wherein a refractive index of the antifouling layer is lower than that of the support.
ー、オリゴマーあるいはポリマーの溶液を塗布して、加
熱あるいは紫外線、電子線照射により重合させたもので
あることを特徴とする請求項1〜6に記載の光学フィル
ター。7. The antifouling layer is formed by applying a solution of a monomer, oligomer or polymer of a fluorine-containing compound and polymerizing the solution by heating or irradiation with ultraviolet rays or electron beams. An optical filter according to item 1.
を特徴とする請求項1〜7記載の光学フィルター。8. The optical filter according to claim 1, which is used for display on an image display device.
表示用に用いられる請求項1〜8記載の光学フィルタ
ー。9. A plasma display panel (PDP)
The optical filter according to claim 1, which is used for display.
面に保持することを特徴とするPDP用前面板。10. A front panel for a PDP, wherein the optical filter according to claim 9 is held on a surface.
をPDPモジュールの表面、前面板の表面、前面板の裏
面の少なくとも一面に設けたことを特徴とするPDP表
示装置。11. A PDP display device, wherein the optical filter according to claim 1 is provided on at least one of a surface of a PDP module, a surface of a front plate, and a back surface of the front plate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11184004A JP2001013316A (en) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | Optical filter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11184004A JP2001013316A (en) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | Optical filter |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001013316A true JP2001013316A (en) | 2001-01-19 |
Family
ID=16145648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11184004A Pending JP2001013316A (en) | 1999-06-29 | 1999-06-29 | Optical filter |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001013316A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101771069B1 (en) * | 2010-08-03 | 2017-08-25 | 코닝정밀소재 주식회사 | Anti-reflection film with a anti-contaminating functionality and method for manufacturing the same |
-
1999
- 1999-06-29 JP JP11184004A patent/JP2001013316A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101771069B1 (en) * | 2010-08-03 | 2017-08-25 | 코닝정밀소재 주식회사 | Anti-reflection film with a anti-contaminating functionality and method for manufacturing the same |
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