JP2001013099A - ガス測定装置 - Google Patents
ガス測定装置Info
- Publication number
- JP2001013099A JP2001013099A JP11184667A JP18466799A JP2001013099A JP 2001013099 A JP2001013099 A JP 2001013099A JP 11184667 A JP11184667 A JP 11184667A JP 18466799 A JP18466799 A JP 18466799A JP 2001013099 A JP2001013099 A JP 2001013099A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensor
- sample gas
- resistance value
- measurement
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 再現性を低下させることなく測定間隔を短縮
する。 【解決手段】 １２０秒間、酸化物半導体装置を備えた
センサセルにサンプルガスを供給する（予備測定）。３
６０秒間、センサセルにゼロガスを供給する。酸化物半
導体センサの電気抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値
Ｒｂに近づく。その後、６０秒間、サンプルガスをセン
サセルに供給すると準安定ピーク抵抗値Ｒｓが得られる
（実測定）。実測定での準安定ベース抵抗値Ｒｂと準安
定ピーク抵抗値Ｒｓに基づいて定量測定を行なう。
する。 【解決手段】 １２０秒間、酸化物半導体装置を備えた
センサセルにサンプルガスを供給する（予備測定）。３
６０秒間、センサセルにゼロガスを供給する。酸化物半
導体センサの電気抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値
Ｒｂに近づく。その後、６０秒間、サンプルガスをセン
サセルに供給すると準安定ピーク抵抗値Ｒｓが得られる
（実測定）。実測定での準安定ベース抵抗値Ｒｂと準安
定ピーク抵抗値Ｒｓに基づいて定量測定を行なう。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、１つ又は複数の酸
化物半導体センサを備え、サンプルガス検出時の酸化物
半導体センサの電気抵抗値の変化に基づいてサンプルガ
スの定性又は定量を行なうガス測定装置に関するもので
ある。このようなガス測定装置は、有毒ガスや都市ガ
ス、一酸化炭素、一酸化窒素などの測定や、気体の香
気、臭気などのにおいの測定、脱臭装置の脱臭効果の判
定などに適用される。
化物半導体センサを備え、サンプルガス検出時の酸化物
半導体センサの電気抵抗値の変化に基づいてサンプルガ
スの定性又は定量を行なうガス測定装置に関するもので
ある。このようなガス測定装置は、有毒ガスや都市ガ
ス、一酸化炭素、一酸化窒素などの測定や、気体の香
気、臭気などのにおいの測定、脱臭装置の脱臭効果の判
定などに適用される。
【０００２】
【従来の技術】ガスセンサとして、サンプルガス中のに
おい成分との酸化還元反応により酸化物半導体の電気抵
抗が変化する現象を利用する酸化物半導体センサがあ
る。酸化物半導体センサを用いてサンプルガス中のにお
い成分を測定するガス測定装置（におい測定装置）は、
１つ又は複数の酸化物半導体センサを備えており、酸化
物半導体センサからの信号をそのまま表示するか、又は
複数の信号を多変量解析に持ち込む、いわゆるケモメト
リクスと呼ばれる技術を応用してサンプルガス中のにお
い成分を測定している。
おい成分との酸化還元反応により酸化物半導体の電気抵
抗が変化する現象を利用する酸化物半導体センサがあ
る。酸化物半導体センサを用いてサンプルガス中のにお
い成分を測定するガス測定装置（におい測定装置）は、
１つ又は複数の酸化物半導体センサを備えており、酸化
物半導体センサからの信号をそのまま表示するか、又は
複数の信号を多変量解析に持ち込む、いわゆるケモメト
リクスと呼ばれる技術を応用してサンプルガス中のにお
い成分を測定している。
【０００３】酸化物半導体センサを用いたガス測定装置
では、酸素を含むゼロガス供給時のセンサの電気抵抗値
（ベース抵抗値）が安定した後、サンプルガスをセンサ
に接触させ、センサの電気抵抗値の変化を測定する。測
定後、ガスセンサにゼロガスを流してガスセンサのクリ
ーニングを行ない、センサの電気抵抗値がベース抵抗値
まで回復し安定するのを待って次の測定を行なう。
では、酸素を含むゼロガス供給時のセンサの電気抵抗値
（ベース抵抗値）が安定した後、サンプルガスをセンサ
に接触させ、センサの電気抵抗値の変化を測定する。測
定後、ガスセンサにゼロガスを流してガスセンサのクリ
ーニングを行ない、センサの電気抵抗値がベース抵抗値
まで回復し安定するのを待って次の測定を行なう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のよう
に、センサの電気抵抗値がベース抵抗値に戻るのを待っ
ていると、次の測定までに非常に時間がかかる。測定時
間を短縮すべく、ベース抵抗値が回復したか否かを確認
をせずに次の測定を行なうと、測定ごとに異なった出力
がでることがあり、再現性が低下するという問題があっ
た。さらに、未知のサンプルガスであれば、電気抵抗値
がベース抵抗値に戻るまでの時間を予測できないという
問題もあった。そこで本発明は、ガス測定装置におい
て、再現性を低下させることなく測定間隔を短縮するこ
とを目的とするものである。
に、センサの電気抵抗値がベース抵抗値に戻るのを待っ
ていると、次の測定までに非常に時間がかかる。測定時
間を短縮すべく、ベース抵抗値が回復したか否かを確認
をせずに次の測定を行なうと、測定ごとに異なった出力
がでることがあり、再現性が低下するという問題があっ
た。さらに、未知のサンプルガスであれば、電気抵抗値
がベース抵抗値に戻るまでの時間を予測できないという
問題もあった。そこで本発明は、ガス測定装置におい
て、再現性を低下させることなく測定間隔を短縮するこ
とを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のガスセンサは、
１つ又は複数の酸化物半導体センサが配置されたセンサ
部と、センサ部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガ
ス供給手段と、センサ部にサンプルガスを供給するサン
プルガス供給手段と、センサ部にサンプルガスを供給し
た後、そのサンプルガスの履歴が残っている間に続けて
同じサンプルガスをセンサ部に供給するようにサンプル
ガス供給手段の動作を制御する制御部とを備え、１回目
のサンプルガス供給後のサンプルガス供給停止時のベー
ス抵抗値と２回目以降のサンプルガス供給時のピーク抵
抗値に基づいて定量測定を行なうものである。
１つ又は複数の酸化物半導体センサが配置されたセンサ
部と、センサ部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガ
ス供給手段と、センサ部にサンプルガスを供給するサン
プルガス供給手段と、センサ部にサンプルガスを供給し
た後、そのサンプルガスの履歴が残っている間に続けて
同じサンプルガスをセンサ部に供給するようにサンプル
ガス供給手段の動作を制御する制御部とを備え、１回目
のサンプルガス供給後のサンプルガス供給停止時のベー
ス抵抗値と２回目以降のサンプルガス供給時のピーク抵
抗値に基づいて定量測定を行なうものである。
【０００６】ゼロガス供給手段により、センサ部に酸素
を含むゼロガスを供給しておく。制御部によりサンプル
ガス供給手段を制御して、所定の一定時間（予備測定時
間）だけセンサ部に１回目のサンプルガスの供給を行な
う（予備測定）。センサにサンプルガス中のにおい成分
が接触すると、センサの電気抵抗値が低下する。予備測
定時間が経過した後、所定の一定時間（準安定化時間）
の間、サンプルガスの供給を停止し、ゼロガス供給手段
によりセンサ部にゼロガスを供給する。準安定化時間の
間にセンサの電気抵抗値は上昇し、サンプルガスの種類
や流量、圧力、準安定化時間の長さなどに応じた一定の
値（準安定ベース抵抗値）に近づく。
を含むゼロガスを供給しておく。制御部によりサンプル
ガス供給手段を制御して、所定の一定時間（予備測定時
間）だけセンサ部に１回目のサンプルガスの供給を行な
う（予備測定）。センサにサンプルガス中のにおい成分
が接触すると、センサの電気抵抗値が低下する。予備測
定時間が経過した後、所定の一定時間（準安定化時間）
の間、サンプルガスの供給を停止し、ゼロガス供給手段
によりセンサ部にゼロガスを供給する。準安定化時間の
間にセンサの電気抵抗値は上昇し、サンプルガスの種類
や流量、圧力、準安定化時間の長さなどに応じた一定の
値（準安定ベース抵抗値）に近づく。
【０００７】準安定時間経過後、所定の一定時間（実測
定時間）だけ、予備測定において供給したのと同じサン
プルガスを２回目のサンプルガス供給としてセンサ部に
供給する（実測定）。このとき得られるセンサのピーク
抵抗値（実測値）は、予備測定前のセンサの電気抵抗値
がベース抵抗値まで回復していたか否かにかかわらず安
定する。その結果、異なるサンプルガスの測定間隔の時
間を短縮しても、再現性よく測定することができる。１
回の予備測定の後、１回だけの実測定よりも、続けて複
数回の実測定を繰り返すことにより、実測値をさらに安
定させることができる。
定時間）だけ、予備測定において供給したのと同じサン
プルガスを２回目のサンプルガス供給としてセンサ部に
供給する（実測定）。このとき得られるセンサのピーク
抵抗値（実測値）は、予備測定前のセンサの電気抵抗値
がベース抵抗値まで回復していたか否かにかかわらず安
定する。その結果、異なるサンプルガスの測定間隔の時
間を短縮しても、再現性よく測定することができる。１
回の予備測定の後、１回だけの実測定よりも、続けて複
数回の実測定を繰り返すことにより、実測値をさらに安
定させることができる。
【０００８】
【実施例】図１は、一実施例を表す概略構成図である。
サンプルガスが収容されたサンプルガス容器１が設けら
れている。サンプルガス容器１には酸化物半導体センサ
の動作に必要な酸素も注入されている。サンプルガス容
器１は、三方電磁バルブＶ１を介して、センサセル（セ
ンサ部）３の入口側に接続されている。バルブＶ１に
は、酸素を含む清浄な空気をゼロガスとして供給するゼ
ロガス供給部７も接続されている。バルブＶ１は、セン
サセル３につながる流路をサンプルガス容器１につなが
る流路又はゼロガス供給部７につながる流路に切り換え
て接続する。
サンプルガスが収容されたサンプルガス容器１が設けら
れている。サンプルガス容器１には酸化物半導体センサ
の動作に必要な酸素も注入されている。サンプルガス容
器１は、三方電磁バルブＶ１を介して、センサセル（セ
ンサ部）３の入口側に接続されている。バルブＶ１に
は、酸素を含む清浄な空気をゼロガスとして供給するゼ
ロガス供給部７も接続されている。バルブＶ１は、セン
サセル３につながる流路をサンプルガス容器１につなが
る流路又はゼロガス供給部７につながる流路に切り換え
て接続する。
【０００９】センサセル３の内部には酸化物半導体セン
サ５が配置されている。センサセル３の出口側は、三方
電磁バルブＶ２を介して、吸引ポンプ９の吸引側に接続
されている。バルブＶ２にはガス排出流路１１も接続さ
れており、バルブＶ１２はセンサセル３につながる流路
をポンプ９につながる流路又はガス排出流路１１に切り
換えて接続する。装置の動作を制御する制御部１３が備
えられている。制御部１３には、ポンプ９及びバルブＶ
１，Ｖ２が電気的に接続されており、ポンプ９の動作及
びバルブＶ１，Ｖ２の切換え動作は制御部１３により制
御される。
サ５が配置されている。センサセル３の出口側は、三方
電磁バルブＶ２を介して、吸引ポンプ９の吸引側に接続
されている。バルブＶ２にはガス排出流路１１も接続さ
れており、バルブＶ１２はセンサセル３につながる流路
をポンプ９につながる流路又はガス排出流路１１に切り
換えて接続する。装置の動作を制御する制御部１３が備
えられている。制御部１３には、ポンプ９及びバルブＶ
１，Ｖ２が電気的に接続されており、ポンプ９の動作及
びバルブＶ１，Ｖ２の切換え動作は制御部１３により制
御される。
【００１０】センサ５には、センサ出力を表示する出力
表示部１５が接続されている。出力表示部１５で表示さ
れる数値は、−ｌｏｇ（Ｒｓ／Ｒｂ）として算出され
る。ここで、Ｒｓはサンプルガス測定時の実測値、Ｒｂ
は予備測定後のゼロガス供給時の準安定ベース抵抗値で
ある。出力表示部１５は、制御部１３にも接続されてお
り、制御部１３は、出力表示部１５を介して送られるセ
ンサ５の電気抵抗値の情報に基づいて、出力表示部１５
で表示される数値の算出も行なう。本発明のゼロガス供
給手段は、ゼロガス供給部７及びバルブＶ１，Ｖ２によ
り構成され、サンプルガス供給手段はサンプルガス容器
１、バルブＶ１，Ｖ２及びポンプ９により構成される。
表示部１５が接続されている。出力表示部１５で表示さ
れる数値は、−ｌｏｇ（Ｒｓ／Ｒｂ）として算出され
る。ここで、Ｒｓはサンプルガス測定時の実測値、Ｒｂ
は予備測定後のゼロガス供給時の準安定ベース抵抗値で
ある。出力表示部１５は、制御部１３にも接続されてお
り、制御部１３は、出力表示部１５を介して送られるセ
ンサ５の電気抵抗値の情報に基づいて、出力表示部１５
で表示される数値の算出も行なう。本発明のゼロガス供
給手段は、ゼロガス供給部７及びバルブＶ１，Ｖ２によ
り構成され、サンプルガス供給手段はサンプルガス容器
１、バルブＶ１，Ｖ２及びポンプ９により構成される。
【００１１】図２は、ポンプ９の動作シーケンス及びそ
の動作シーケンスに伴う酸化物半導体センサの電気抵抗
値の変化を表す波形図である。その波形図において、縦
軸は酸化物半導体センサの電気抵抗値（Ω）、横軸は時
間（秒）を表す。図１及び図２を参照してこの実施例の
動作を説明する。
の動作シーケンスに伴う酸化物半導体センサの電気抵抗
値の変化を表す波形図である。その波形図において、縦
軸は酸化物半導体センサの電気抵抗値（Ω）、横軸は時
間（秒）を表す。図１及び図２を参照してこの実施例の
動作を説明する。
【００１２】（予備測定）制御部１３により、バルブＶ
１を制御してセンサセル３の入口側をゼロガス供給部７
に接続し、バルブＶ２を制御してセンサセル３をガス排
出流路１１に接続する。ゼロガス供給部７からバルブＶ
１を介してセンサセル３にゼロガスを供給する。センサ
セル３に供給されたゼロガスはバルブＶ２を介してガス
排出流路１１から排出される。制御部１３により、バル
ブＶ１を切り換えてセンサセル３の入口側をサンプルガ
ス容器１に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル
３の出口側をポンプ９に接続し、ポンプ９を動作させ
て、１２０秒の予備測定時間だけセンサセル３にサンプ
ルガスの供給を行なう。センサ５にサンプルガス中のに
おい成分が接触し、センサ５の電気抵抗値が低下する。
１を制御してセンサセル３の入口側をゼロガス供給部７
に接続し、バルブＶ２を制御してセンサセル３をガス排
出流路１１に接続する。ゼロガス供給部７からバルブＶ
１を介してセンサセル３にゼロガスを供給する。センサ
セル３に供給されたゼロガスはバルブＶ２を介してガス
排出流路１１から排出される。制御部１３により、バル
ブＶ１を切り換えてセンサセル３の入口側をサンプルガ
ス容器１に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル
３の出口側をポンプ９に接続し、ポンプ９を動作させ
て、１２０秒の予備測定時間だけセンサセル３にサンプ
ルガスの供給を行なう。センサ５にサンプルガス中のに
おい成分が接触し、センサ５の電気抵抗値が低下する。
【００１３】（実測定１）制御部１３により、バルブＶ
１を切り換えてセンサセル３の入口側をゼロガス供給部
７に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガ
ス排出流路１１に接続し、３６０秒の準安定化時間の
間、ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介してセンサセ
ル３にゼロガスを供給する。準安定化時間の間にセンサ
５の電気抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値に近づ
く。このときのセンサ５の電気抵抗値を実測定１の準安
定ベース抵抗値Ｒｂ1として制御部１３に記憶する。
１を切り換えてセンサセル３の入口側をゼロガス供給部
７に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガ
ス排出流路１１に接続し、３６０秒の準安定化時間の
間、ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介してセンサセ
ル３にゼロガスを供給する。準安定化時間の間にセンサ
５の電気抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値に近づ
く。このときのセンサ５の電気抵抗値を実測定１の準安
定ベース抵抗値Ｒｂ1として制御部１３に記憶する。
【００１４】制御部１３により、バルブＶ１を切り換え
てセンサセル３の入口側をサンプルガス容器１に接続
し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３の出口側をポ
ンプ９に接続し、ポンプ９を動作させて、６０秒の実測
定時間だけ、サンプルガス容器１のサンプルガスをセン
サセル３に供給する。このときのセンサ５の電気抵抗値
を実測定１の準安定ピーク抵抗値Ｒｓ1として制御部１
３に送る。制御部１３は準安定ピーク抵抗値Ｒｓ1及び
準安定ベース抵抗値Ｒｂ1に基づいてセンサ出力値を算
出し、出力表示部１５に表示する。
てセンサセル３の入口側をサンプルガス容器１に接続
し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３の出口側をポ
ンプ９に接続し、ポンプ９を動作させて、６０秒の実測
定時間だけ、サンプルガス容器１のサンプルガスをセン
サセル３に供給する。このときのセンサ５の電気抵抗値
を実測定１の準安定ピーク抵抗値Ｒｓ1として制御部１
３に送る。制御部１３は準安定ピーク抵抗値Ｒｓ1及び
準安定ベース抵抗値Ｒｂ1に基づいてセンサ出力値を算
出し、出力表示部１５に表示する。
【００１５】（実測定２）制御部１３により、バルブＶ
１を切り換えてセンサセル３の入口側をゼロガス供給部
７に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガ
ス排出流路１１に接続し、３６０秒の準安定時間の間、
ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介してセンサセル３
にゼロガスを供給する。実測定１の後のセンサ５の電気
抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値に近づく。このと
きのセンサ５の電気抵抗値を実測定２の準安定ベース抵
抗値Ｒｂ2として制御部１３に記憶する。
１を切り換えてセンサセル３の入口側をゼロガス供給部
７に接続し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガ
ス排出流路１１に接続し、３６０秒の準安定時間の間、
ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介してセンサセル３
にゼロガスを供給する。実測定１の後のセンサ５の電気
抵抗値は上昇し、準安定ベース抵抗値に近づく。このと
きのセンサ５の電気抵抗値を実測定２の準安定ベース抵
抗値Ｒｂ2として制御部１３に記憶する。
【００１６】制御部１３により、バルブＶ１を切り換え
てセンサセル３の入口側をサンプルガス容器１に接続
し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３の出口側をポ
ンプ９に接続し、ポンプ９を動作させて、６０秒の実測
定時間だけ、サンプルガス容器１のサンプルガスをセン
サセル３に供給する。このときのセンサ５の電気抵抗値
を実測定２の準安定ピーク抵抗値Ｒｓ2として制御部１
３に送る。制御部１３は準安定ピーク抵抗値Ｒｓ2及び
準安定ベース抵抗値Ｒｂ2に基づいてセンサ出力値を算
出し、出力表示部１５に表示する。
てセンサセル３の入口側をサンプルガス容器１に接続
し、バルブＶ２を切り換えてセンサセル３の出口側をポ
ンプ９に接続し、ポンプ９を動作させて、６０秒の実測
定時間だけ、サンプルガス容器１のサンプルガスをセン
サセル３に供給する。このときのセンサ５の電気抵抗値
を実測定２の準安定ピーク抵抗値Ｒｓ2として制御部１
３に送る。制御部１３は準安定ピーク抵抗値Ｒｓ2及び
準安定ベース抵抗値Ｒｂ2に基づいてセンサ出力値を算
出し、出力表示部１５に表示する。
【００１７】制御部１３により、バルブＶ１を切り換え
てセンサセル３の入口側をゼロガス供給部７に接続し、
バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガス排出流路１
１に接続し、ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介して
センサセル３にゼロガスを供給する。図２に示すよう
に、センサ５の電気抵抗値が準安定ベース抵抗値付近の
ときにサンプルガスを測定したときに得られる準安定ピ
ーク抵抗値Ｒｓ1，Ｒｓ2は安定している。
てセンサセル３の入口側をゼロガス供給部７に接続し、
バルブＶ２を切り換えてセンサセル３をガス排出流路１
１に接続し、ゼロガス供給部７からバルブＶ１を介して
センサセル３にゼロガスを供給する。図２に示すよう
に、センサ５の電気抵抗値が準安定ベース抵抗値付近の
ときにサンプルガスを測定したときに得られる準安定ピ
ーク抵抗値Ｒｓ1，Ｒｓ2は安定している。
【００１８】表１に、この実施例を用いて酢酸ブチルガ
スを測定したときの酸化物半導体センサの電気抵抗値を
示す。ここでは、３回の実測定を行なった。ベース抵抗
値及び測定値の単位はオーム(Ω)である。実測定１，
２，３のベース抵抗値は準安定ベース抵抗値を表し、実
測定１，２，３のピーク抵抗値は準安定ピーク抵抗値を
表す。
スを測定したときの酸化物半導体センサの電気抵抗値を
示す。ここでは、３回の実測定を行なった。ベース抵抗
値及び測定値の単位はオーム(Ω)である。実測定１，
２，３のベース抵抗値は準安定ベース抵抗値を表し、実
測定１，２，３のピーク抵抗値は準安定ピーク抵抗値を
表す。
【００１９】
【表１】
【００２０】予備測定と実測定１，２，３とのベース抵
抗値及び測定値には多きな差があるが、実測定１，２，
３のベース抵抗値及び測定値は十分に安定している。実
測定１、２又は３の準安定ベース抵抗値と準安定ピーク
抵抗値に基づいて定量測定を行なう。このような結果
は、予備測定前のセンサ５の電気抵抗値がベース抵抗値
まで回復していたか否かにかかわらず得ることができ、
予備測定及び実測定を行なった後、かつセンサの電気抵
抗値がベース抵抗値に回復する前に他のサンプルガスを
測定しても、そのサンプルガスについて安定した測定結
果を得ることができる。その結果、測定間隔の時間を短
縮しても、再現性よく測定することができる。また、本
発明にかかる装置では、実測定の回数を多くした方が実
測値が安定するので、より精密な測定が必要な場合に
は、２回目又は３回目の実測値を測定結果とすることが
好ましい。この実施例ではセンサセルに酸化物半導体セ
ンサを１つだけ設置しているが、複数の酸化物半導体セ
ンサを設置してもよい。
抗値及び測定値には多きな差があるが、実測定１，２，
３のベース抵抗値及び測定値は十分に安定している。実
測定１、２又は３の準安定ベース抵抗値と準安定ピーク
抵抗値に基づいて定量測定を行なう。このような結果
は、予備測定前のセンサ５の電気抵抗値がベース抵抗値
まで回復していたか否かにかかわらず得ることができ、
予備測定及び実測定を行なった後、かつセンサの電気抵
抗値がベース抵抗値に回復する前に他のサンプルガスを
測定しても、そのサンプルガスについて安定した測定結
果を得ることができる。その結果、測定間隔の時間を短
縮しても、再現性よく測定することができる。また、本
発明にかかる装置では、実測定の回数を多くした方が実
測値が安定するので、より精密な測定が必要な場合に
は、２回目又は３回目の実測値を測定結果とすることが
好ましい。この実施例ではセンサセルに酸化物半導体セ
ンサを１つだけ設置しているが、複数の酸化物半導体セ
ンサを設置してもよい。
【００２１】
【発明の効果】本発明のガスセンサでは、１つ又は複数
の酸化物半導体センサが配置されたセンサ部と、センサ
部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガス供給手段
と、センサ部にサンプルガスを供給するサンプルガス供
給手段と、センサ部にサンプルガスを供給した後、その
サンプルガスの履歴が残っている間に続けて同じサンプ
ルガスをセンサ部に供給するようにサンプルガス供給手
段の動作を制御する制御部とを備え、１回目のサンプル
ガス供給後のサンプルガス供給停止時のベース抵抗値と
２回目以降のサンプルガス供給時のピーク抵抗値に基づ
いて定量測定を行なうようにしたので、１回目のサンプ
ルガス供給前のセンサの電気抵抗値がベース抵抗値まで
回復していたか否かにかかわらず２回目以降のサンプル
ガス供給時のピーク抵抗値が安定し、再現性を低下させ
ることなく測定間隔を短縮することができる。
の酸化物半導体センサが配置されたセンサ部と、センサ
部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガス供給手段
と、センサ部にサンプルガスを供給するサンプルガス供
給手段と、センサ部にサンプルガスを供給した後、その
サンプルガスの履歴が残っている間に続けて同じサンプ
ルガスをセンサ部に供給するようにサンプルガス供給手
段の動作を制御する制御部とを備え、１回目のサンプル
ガス供給後のサンプルガス供給停止時のベース抵抗値と
２回目以降のサンプルガス供給時のピーク抵抗値に基づ
いて定量測定を行なうようにしたので、１回目のサンプ
ルガス供給前のセンサの電気抵抗値がベース抵抗値まで
回復していたか否かにかかわらず２回目以降のサンプル
ガス供給時のピーク抵抗値が安定し、再現性を低下させ
ることなく測定間隔を短縮することができる。
【図１】 一実施例を表す概略構成図である。
【図２】 吸引ポンプの動作シーケンス及びその動作シ
ーケンスに伴う酸化物半導体センサの電気抵抗値の変化
を表す波形図である。
ーケンスに伴う酸化物半導体センサの電気抵抗値の変化
を表す波形図である。
１ サンプルガス容器 ３ センサセル ５ 酸化物半導体センサ ７ ゼロガス供給部 ９ 吸引ポンプ １１ ガス排出流路 １３ 制御部 １５ 出力表示部 Ｖ１，Ｖ２ 三方電磁バルブ
Claims (1)
- 【請求項１】 １つ又は複数の酸化物半導体センサが配
置されたセンサ部と、 前記センサ部に酸素を含むゼロガスを供給するゼロガス
供給手段と、 前記センサ部にサンプルガスを供給するサンプルガス供
給手段と、 前記センサ部にサンプルガスを供給した後、そのサンプ
ルガスの履歴が残っている間に続けて同じサンプルガス
を前記センサ部に供給するように前記サンプルガス供給
手段の動作を制御する制御部と、を備え、 １回目のサンプルガス供給後のサンプルガス供給停止時
のベース抵抗値と２回目以降のサンプルガス供給時のピ
ーク抵抗値に基づいて定量測定を行なうことを特徴とす
るガス測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11184667A JP2001013099A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | ガス測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11184667A JP2001013099A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | ガス測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001013099A true JP2001013099A (ja) | 2001-01-19 |
Family
ID=16157261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11184667A Pending JP2001013099A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | ガス測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001013099A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002221509A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Equos Research Co Ltd | ガスセンサ |
| JP2006300635A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Shimadzu Corp | におい測定装置 |
| JP2007309770A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Hitachi Ltd | 油中ガス分析装置、油中ガス分析装置を備えた変圧器、及び油中ガスの分析方法 |
-
1999
- 1999-06-30 JP JP11184667A patent/JP2001013099A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002221509A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Equos Research Co Ltd | ガスセンサ |
| JP4581253B2 (ja) * | 2001-01-26 | 2010-11-17 | 株式会社エクォス・リサーチ | ガスセンサ |
| JP2006300635A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Shimadzu Corp | におい測定装置 |
| JP2007309770A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Hitachi Ltd | 油中ガス分析装置、油中ガス分析装置を備えた変圧器、及び油中ガスの分析方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6525549B1 (en) | Method for determining the concentration of a substance in a liquid by measuring electrical current in a test strip | |
| US20060232278A1 (en) | method and apparatus for providing stable voltage to analytical system | |
| US20020002857A1 (en) | Odor identifying apparatus | |
| US20070272564A1 (en) | Method for operating measuring meter and measuring meter | |
| JPH1073563A (ja) | ガス分析計及びその校正方法 | |
| US3415108A (en) | Portable gas analyzer with remoteindicating facility | |
| JP3259655B2 (ja) | ガスクロマトグラフ分析装置 | |
| JP2004037161A5 (ja) | ||
| JP2001013099A (ja) | ガス測定装置 | |
| JPH10148631A (ja) | クロマトグラフィーカラム用のキャリブレーション方法 | |
| JP2000146883A (ja) | ガス測定装置 | |
| JPH11241977A (ja) | 流体濃度測定装置 | |
| JP2008139224A (ja) | 測定装置 | |
| US4921582A (en) | Dissolved oxygen measuring method | |
| JP2001208715A (ja) | バイオセンサ、それを用いた定量方法及び定量装置 | |
| WO2012114706A1 (ja) | 生体試料測定装置 | |
| WO2020223809A1 (en) | System and method for efficient, accurate and precise electrical characterization of materials | |
| JP2002372514A (ja) | ガス濃度検出装置 | |
| JPS5838745B2 (ja) | 自動式血液ガス分析での測定値検知方法 | |
| JP2004101453A (ja) | 特性測定方法及び装置 | |
| JPH0296619A (ja) | マスフローコントローラ | |
| JP3126259B2 (ja) | アルコール濃度検出装置 | |
| JP3169115B2 (ja) | 酸素濃度計測方法及び計測装置 | |
| JP2002162285A (ja) | 液体収容装置および液面検知方法 | |
| JPH05188123A (ja) | 電池測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050906 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070129 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070206 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070605 |