JP2001007265A - 冷却装置付基板及びその製法 - Google Patents

冷却装置付基板及びその製法

Info

Publication number
JP2001007265A
JP2001007265A JP17489599A JP17489599A JP2001007265A JP 2001007265 A JP2001007265 A JP 2001007265A JP 17489599 A JP17489599 A JP 17489599A JP 17489599 A JP17489599 A JP 17489599A JP 2001007265 A JP2001007265 A JP 2001007265A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
metal
cooling device
preform
aluminum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17489599A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriaki Kawamura
憲明 川村
Eiki Tsushima
栄樹 津島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SENTAN ZAIRYO KK
Original Assignee
SENTAN ZAIRYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SENTAN ZAIRYO KK filed Critical SENTAN ZAIRYO KK
Priority to JP17489599A priority Critical patent/JP2001007265A/ja
Priority to PCT/JP1999/006304 priority patent/WO2000027776A1/ja
Priority to EP19990971789 priority patent/EP1055650B1/en
Priority to US09/600,032 priority patent/US6649265B1/en
Publication of JP2001007265A publication Critical patent/JP2001007265A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/46Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
    • H01L23/473Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】セラミックスと金属の複合材あるいは炭素と金
属の複合材からなる電子回路用基板と液体あるいは気体
を冷却媒体とする冷却装置を一体化して冷却効率を向上
する。 【解決手段】セラミックスと金属の複合材あるいは炭素
と金属の複合材からなる電子回路用基板と冷却装置を同
時に鋳造し一体化する。あるいは、金属ロウ材、はん
だ、金属箔等で基板と冷却装置を接続一体化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子あるい
は電子機器の熱除去法に関して、基板及び液体を媒体と
する冷却装置並びにその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電子回路から発生する熱を液体状
の冷却媒体に伝熱する場合、回路を搭載する基板と冷却
装置、例えばパイプ、平板状、角型の流路からなる装置
は、個別に製造され、はんだ、ロウ材、樹脂製接着剤あ
るいは伝熱シートを挟んでねじ止めで接合されている。
また、熱発生が多くなるにつれて、回路を搭載する基板
に熱伝導率が高く、熱膨張率がアルミナのそれに近いセ
ラミックスと金属あるいは炭素材と金属からなる複合材
基板が使用されている。
【0003】また、銅、アルミニウムを基板とするもの
には、パイプ等からなる冷却装置を基板にロウ材、はん
だで接合し、金属基板と冷却装置が一体化されたものが
ある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】金属基板を熱膨張率の
低いセラミックと金属あるいは炭素材と金属からなる複
合材基板にして信頼性を向上する。複合材基板と冷却装
置を一体化することで、冷却能力をあげる。
【0005】複合材基板とすることにより、基板の熱膨
張率を搭載される半導体素子あるいはまた、アルミナ、
窒化アルミニウム製の絶縁回路基板の熱膨張率に近づ
け、界面における熱膨張率差から生じる熱応力を低減
し、特に温度変化から生じる熱疲労による組織破壊によ
るそり、はがれを抑制する。これにより電子装置の信頼
性を向上させることができる。
【0006】低熱膨張率のセラミックと金属あるいは炭
素材と金属からなる複合材基板の製造と冷却装置を熱伝
導率の高い金属で一体化することにより、冷却能力を上
げることが可能である。特に複合材基板製造する場合に
冷却装置を一体で鋳造することにより、複合材基板と冷
却装置を、金属の巣あるいは空隙なく密着することがで
き、冷却能力の向上効果は大きい。
【0007】2つの基板の間に冷却装置を設置し、その
両面に電子機器を搭載することで電子装置を小型化する
ことができる。
【0008】
【課題を解決するための手段】炭化珪素、アルミナ、窒
化アルミニウム、窒化珪素の燒結体あるいは炭素の繊維
状あるいは粉の燒結体からなるプリフォーム基板と冷却
装置を金型に入れ、アルミニウムあるいは銅又は、それ
らの合金を溶融し高圧で鋳造する。この工程で、プリフ
ォーム基板の空孔は金属で充填されセラミックあるいは
炭素材と金属からなる複合材基板となり、同時に冷却装
置と複合材基板が一体化する。または、別々に製造され
た複合材基板と冷却装置を金属、例えば、金属ロウ、は
んだあるいは、金属箔で接合する。
【0009】本発明において、用いられるアルミナ、窒
化アルミニウムのプリフォーム基板材は、粉体、繊維状
あるいはフェルト状の原料とガラス質の燒結材の混合物
を燒結したもので、気孔率は5%以上50%未満のもの
である。
【0010】本発明において、用いられる炭素材のプリ
フォーム基板材は、粉体、繊維状あるいはフェルト状の
原料と樹脂あるいはコールタールピッチ燒結材の混合物
を燒結したもので、気孔率は5%以上50%未満のもの
である。
【0011】プリフォーム基板の気孔径は、サブミクロ
ンから数百ミクロンに分布している。この気孔を溶融し
た金属で充填するためには、溶融金属の圧力をラム断面
積あたり200kg/cm2以上1500kg/cm2とする
必要がある。
【0012】プリフォーム基板と冷却装置を空隙なく一
体化するためには、溶融金属の圧力をラム断面積あたり
200kg/cm2以上とする必要がある。
【0013】
【発明の実施の形態】
【0014】以下、発明の実施の形態を実施例に基づく
図面を参照して説明する。プリフォーム基板と冷却装置
であるパイプを仮設し一体化した部品を予熱後、金型に
いれる。溶融金属を同金型に入れプレス機で加圧する。
この条件を30分間保ちその後金型から鋳造品を取り出
す。同鋳造品から一体化した部品を研削加工する。その
基本配置は図1で示される。
【0015】以下、実施例により本発明をさらに説明す
るが、本発明の技術的範囲がこれに限定されるものでは
ない。 実施例1 人造黒鉛材を切り出し、長さ100mm、幅100mm、厚
さ10mmのプリフォーム基板を2枚製作する。 プリフ
ォーム基板に直径12mmの半円状の溝を切る。2枚のプ
リフォーム基板でこの溝に合わせて予め整形した外形
9.5mmのステンレスパイプを挟み仮止めする。これを
金型内におきアルミニュウム(JISAC4CH)溶湯
を注ぎ圧力500Kg/cm2で鋳造し、冷却後切削加工し、
部品とする。(図2)
【0016】実施例2 炭化珪素を高融点ガラスで焼成した成形体を切り出し、
長さ100mm、幅100mm、厚さ10mmのプリフォーム
基板に直径12mmの半円状の溝を切る。この溝に合わせ
て予め整形した外形9.5mmのステンレスパイプを仮止
めする。これを金型内におき溶融したアルミニウム(J
ISAC4CH)を注ぎ500Kg/cm2の圧力で鋳造し、
冷却後切削加工し、部品とする。(図3)
【0017】実施例3 一方向に炭素繊維が配列している炭素複合材を繊維方向
に直行して切断することで製造した基板から長さ50m
m、幅50mm、厚さ10mmのプリフォーム基板に長さ5
0mm、幅1mm、深さ2mmの溝を2mmピッチで20個切
る。この溝に長さ50mm、幅20mm、厚さ0.9mmの人
造黒鉛材から切り出した薄板を差込み、鋼材で製作した
型に離型材を介して仮止めする。これを金型内におきア
ルミニュウム(JISAC4CH)溶湯を注ぎ圧力50
0Kg/cm2で鋳造し、冷却後型から取り出し切削加工す
る。(図4)
【0018】実施例1及び実施例2において、切断面を
顕微鏡で観察したところ、アルミニウムがプリフォーム
の空隙を完全に充填していた。またステンレスパイプと
基板間はアルミニウムで空隙なく充填され、一体化して
いた。
【0019】
【発明の効果】本発明は、以下に記載する効果を生じ
る。
【0020】基板面の熱膨張率が、実施例1の基板で5
×10-6/℃、実施例2で7×10-6/℃、実施例3で
10×10-6/℃で、基板面に接合されるシリコン、ア
ルミナ、窒化アルミニウムの熱膨張率に近くなった。
【0021】基板の熱伝導率が、実施例1の基板で20
0W/m・K、実施例2で120W/m・K、実施例3
で400W/m・Kあり、基板として使用できる。
【0022】基板と冷却パイプあるいはフィンを接合す
るための熱伝導率の低いはんだ、ろう材、樹脂の接合層
がなく、また界面に空隙がなく熱伝導が良好である。
【0023】実施例1の冷却装置の両面を基板とし、両
面に電子機器を搭載することで電子機器の占有体積を減
少できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】試作品の設定位置図である。
【図2】実施例1で試作した両面が基板となっている液
冷用部品の平面及び立面図である。
【図3】実施例2で試作した片面が基板となっている液
冷用部品の平面及び立面図である。
【図4】実施例3で試作した片面が空冷用のフィンとな
っている部品の平面及び立面図である。
【符号の説明】
1 試作品 2 溶融した金属 3 プレス機のラム 4 金型 5 複合材プリフォーム 6 金属 7 パイプ 8 薄板(フィンとなる) 9 型
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B22D 19/14 B22D 19/14 C H01L 23/373 H05K 7/20 M H05K 7/20 H01L 23/36 M

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子基板の熱除去を目的とし、セラミック
    と金属あるいは炭素材と金属からなる複合材基板と液体
    を冷却媒体とする冷却装置が金属で一体化している冷却
    装置付基板。
  2. 【請求項2】電子基板の熱除去を目的とし、セラミック
    と金属あるいは炭素材と金属からなる複合材基板と気体
    を冷却媒体とする冷却装置が金属で一体化している冷却
    装置付基板。
  3. 【請求項3】電子基板の熱除去を目的とし、セラミック
    と金属あるいは炭素材と金属からなる2枚の複合材基板
    が液体を媒体とする冷却装置をはさみ一体化している冷
    却装置付基板。
  4. 【請求項4】請求項1、請求項2、請求項3のセラミッ
    クと金属あるいは炭素材と金属からなる複合材基板の熱
    膨張率が10×10-6/℃以下、熱伝導率が120W/
    (m・K)以上のいずれかである基板。
  5. 【請求項5】請求項1、請求項2、請求項3の複合材基
    板の金属が、アルミニウム、マグネシウム、銅、銀、あ
    るいはそれらのひとつ以上を含む合金から選ばれる。
JP17489599A 1998-11-11 1999-06-22 冷却装置付基板及びその製法 Pending JP2001007265A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17489599A JP2001007265A (ja) 1999-06-22 1999-06-22 冷却装置付基板及びその製法
PCT/JP1999/006304 WO2000027776A1 (en) 1998-11-11 1999-11-11 Carbon-based metal composite material, method for preparation thereof and use thereof
EP19990971789 EP1055650B1 (en) 1998-11-11 1999-11-11 Carbon-based metal composite material, method for preparation thereof and use thereof
US09/600,032 US6649265B1 (en) 1998-11-11 1999-11-11 Carbon-based metal composite material, method for preparation thereof and use thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17489599A JP2001007265A (ja) 1999-06-22 1999-06-22 冷却装置付基板及びその製法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001007265A true JP2001007265A (ja) 2001-01-12

Family

ID=15986573

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17489599A Pending JP2001007265A (ja) 1998-11-11 1999-06-22 冷却装置付基板及びその製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001007265A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1585173A2 (en) * 2004-03-31 2005-10-12 Dowa Mining Co., Ltd. Aluminium bonding member and method for producing same
US7433187B2 (en) 2003-03-28 2008-10-07 Ngk Insulators, Ltd. Heat spreader module
US7447032B2 (en) 2005-09-09 2008-11-04 Ngk Insulators, Ltd. Heat spreader module and method of manufacturing same
JP2010103582A (ja) * 2004-03-31 2010-05-06 Dowa Holdings Co Ltd アルミニウム接合部材
WO2012100810A1 (en) * 2011-01-24 2012-08-02 Schaffner Emv Ag A cooling component for a transformer comprising ceramic
WO2023099252A1 (de) * 2021-12-02 2023-06-08 Zf Friedrichshafen Ag Kühlvorrichtung zum kühlen einer zu kühlenden einheit und verfahren zum herstellen einer kühlvorrichtung

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7433187B2 (en) 2003-03-28 2008-10-07 Ngk Insulators, Ltd. Heat spreader module
EP1585173A2 (en) * 2004-03-31 2005-10-12 Dowa Mining Co., Ltd. Aluminium bonding member and method for producing same
JP2005317890A (ja) * 2004-03-31 2005-11-10 Dowa Mining Co Ltd アルミニウム接合部材およびその製造方法
EP1585173A3 (en) * 2004-03-31 2006-10-11 Dowa Mining Co., Ltd. Aluminium bonding member and method for producing same
JP2010103582A (ja) * 2004-03-31 2010-05-06 Dowa Holdings Co Ltd アルミニウム接合部材
JP4543279B2 (ja) * 2004-03-31 2010-09-15 Dowaメタルテック株式会社 アルミニウム接合部材の製造方法
US7447032B2 (en) 2005-09-09 2008-11-04 Ngk Insulators, Ltd. Heat spreader module and method of manufacturing same
WO2012100810A1 (en) * 2011-01-24 2012-08-02 Schaffner Emv Ag A cooling component for a transformer comprising ceramic
WO2023099252A1 (de) * 2021-12-02 2023-06-08 Zf Friedrichshafen Ag Kühlvorrichtung zum kühlen einer zu kühlenden einheit und verfahren zum herstellen einer kühlvorrichtung

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4348565B2 (ja) 高熱伝導・低熱膨張複合材及び放熱基板
EP1576653B1 (en) Semiconductor substrate having copper-diamond composite material and method of making same
KR100883725B1 (ko) 복합재료와 웨이퍼 유지부재 및 이들의 제조방법
US6346317B1 (en) Electronic components incorporating ceramic-metal composites
JP2000077584A (ja) 金属マトリックスコンポジットボデ―
JP4344934B2 (ja) 高熱伝導・低熱膨張複合材及び放熱基板並びにこれらの製造方法
US20100282459A1 (en) Heat sink and method for manufacturing a heat sink
JP2000336438A (ja) 金属−セラミックス複合材料およびその製造方法
US5819858A (en) Circuit board having a metal matrix composite inlay
JP2001105124A (ja) 半導体素子用放熱基板
JP2001007265A (ja) 冷却装置付基板及びその製法
US6143421A (en) Electronic components incorporating ceramic-metal composites
JP5467782B2 (ja) 電気絶縁性を有する放熱基板の製造方法
JP2004160549A (ja) セラミックス−金属複合体およびこれを用いた高熱伝導放熱用基板
JP2005005528A (ja) 半導体素子搭載用モジュール
JP2004122150A (ja) 金属−セラミックス複合部材製造用鋳型及び製造方法
JP5665479B2 (ja) 回路基板および電子装置
JP2021031310A (ja) セラミックス基板、回路基板及びその製造方法、並びにパワーモジュール
JP3971554B2 (ja) セラミック回路基板およびこれを用いた半導体モジュール
JP2004055577A (ja) アルミニウム−炭化珪素質板状複合体
JP2002043478A (ja) セラミック回路基板
CN115692216B (zh) 一种异种材质复合成型的电子封装结构及其制备方法
JPH05211248A (ja) 半導体搭載用複合放熱基板及びその製造方法
JP2003266198A (ja) 静水圧成形方法及び放熱基板の製造方法
JP2003318316A (ja) セラミックス回路基板

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20050202

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

A521 Written amendment

Effective date: 20050202

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821