JP2000352613A - Optical filter and antireflecion film - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical filter having a proper color correcting function by forming a filter layer containing a specified dye on a transparent supporting body. SOLUTION: The filter layer contains a dye having an absorption max. in a 500 to 550 nm wavelength region and a dye having an absorption max. in a 560 to 620 nm wavelength region. The transmittance of the filter layer at the absorption max. in the 500 to 550 nm wavelength region is higher than the transmittance of the filter layer at the absorption max. in the 560 to 620 nm wavelength region. The dye having the absorption max. in the 560 to 620 nm wavelength region is expressed by formulae I to III or the like. In the formulae, each of R1, R2, R5, R6, R8, R9, R12, R13 is a hydrogen atom, halogen atom, cyano, nitro, aliphatic group, aromatic group or the like, each of R3, R4, R7, R10, R11 is a hydrogen atom, aliphatic group, aromatic group or heterocyclic group. M is a proton or cation, X is an anion or cation, and (n) is the number of X necessary to maintain the charge balance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体および
フィルター層を有する光学フィルターに関する。また、
本発明は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレ
イパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表
示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置の
表面に、反射防止あるいは色再現性改良のため取り付け
られる反射防止膜にも関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical filter having a transparent support and a filter layer. Also,
The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT), a fluorescent display tube, and a surface of an image display device such as a field emission display. The present invention also relates to an antireflection film attached for antireflection or improving color reproducibility.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディ
スプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組み合
わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のための光
を理想的な三原色にすることは、非常に難しい（実質的
には不可能である）。例えば、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）では、三原色蛍光体からの発光に余分な
光（波長が５６０乃至６２０ｎｍの範囲）が含まれてい
ることが知られている。そこで、表示色の色バランスを
補正するため特定の波長の光を吸収する光学フィルター
を用いて、色補正を行うことが提案されている。光学フ
ィルターによる色補正については、特開昭５８−１５３
９０４号、同６０−１１８７４８号、同６０−１８７４
９号、同６１−１８８５０１号、特開平３−２３１９８
８号、同５−２０３８０４号、同５−２０５６４３号、
同７−３０７１３３号、同９−１４５９１８号、同９−
３０６３６６号、同１０−２６７０４号の各公報に記載
がある。2. Description of the Related Art A liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT),
2. Description of the Related Art An image display device such as a fluorescent display tube or a field emission display displays a color image by a combination of light of three primary colors of red, blue and green in principle. However, it is very difficult (practically impossible) to make light for display ideal three primary colors. For example, in a plasma display panel (PDP), it is known that extra light (wavelength in the range of 560 to 620 nm) is included in light emission from the three primary color phosphors. Therefore, it has been proposed to perform color correction using an optical filter that absorbs light of a specific wavelength in order to correct the color balance of display colors. Japanese Patent Laid-Open No. 58-153 discloses color correction using an optical filter.
No. 904, No. 60-118748, No. 60-1874
No. 9, No. 61-188501, JP-A-3-23198
No. 8, No. 5-203804, No. 5-205564,
No. 7-307133, No. 9-145918, No. 9-
These are described in JP-A Nos. 306366 and 10-26704.

【０００３】画像表示装置には、色補正に加えて、反射
防止の必要もある。すなわち、画像表示装置には、ディ
スプレイ上に背景が映り込む事でコントラストが低下す
る問題がある。この問題を解決するための手段として、
様々な反射防止膜が提案されている。これまでに提案さ
れた反射防止膜の反射防止機能層は、蒸着層と塗布層に
分類できる。光学的機能の観点では蒸着層の方が優れて
いるが、塗布層には製造が容易であるとの利点がある。
蒸着層は、眼鏡やカメラのようなレンズの反射防止膜と
して古くから用いられている。蒸着層は、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法
あるいはＰＶＤ法により形成する。塗布層は、一般に、
微粒子およびバインダーの塗布により形成する。塗布層
については、特開昭５９−４９５０１号、同５９−５０
４０１号、同６０−５９２５０号、特開平７−４８５２
７号の各公報に記載がある。[0003] In addition to the color correction, the image display device also needs to prevent reflection. That is, the image display device has a problem that the contrast is reduced due to the background being reflected on the display. As a solution to this problem,
Various antireflection films have been proposed. The antireflection functional layers of the antireflection films proposed so far can be classified into vapor deposition layers and coating layers. Although the vapor deposition layer is superior from the viewpoint of optical functions, the coating layer has an advantage that it is easy to manufacture.
The vapor deposition layer has been used for a long time as an antireflection film for lenses such as glasses and cameras. The deposition layer is a vacuum deposition method,
It is formed by a sputtering method, an ion plating method, a CVD method or a PVD method. The coating layer is generally
It is formed by applying fine particles and a binder. Coating layers are described in JP-A-59-49501 and JP-A-59-50.
No. 401, 60-59250, JP-A-7-4852
No. 7 describes each.

【０００４】前記の光学フィルターに、反射防止機能を
組み込むことも考えられる。前記の特開昭６１−１８８
５０１号、特開平５−２０５６４３号、同９−１４５９
１８号、同９−３０６３６６号、同１０−２６７０４号
の各公報は、反射防止機能が組み込まれた光学フィルタ
ーを開示している。特開昭６１−１８８５０１号、特開
平５−２０５６４３号、同９−１４５９１８号、同９−
３０６３６６号の各公報に記載の光学フィルターでは、
透明支持体に染料または顔料を添加して、支持体をフィ
ルターとして機能させている。特開平１０−２６７０４
号公報記載の光学フィルターでは、透明支持体と反射防
止層との間に設けられるハードコート層（表面硬化層）
を着色し、ハードコート層をフィルターとして機能させ
ている。It is also conceivable to incorporate an antireflection function into the optical filter. The above-mentioned JP-A-61-188.
No. 501, JP-A-5-205643 and 9-1459
No. 18, No. 9-306366, and No. 10-26704 disclose optical filters having an antireflection function incorporated therein. JP-A-61-188501, JP-A-5-205643, JP-A-9-145918 and JP-A-9-145918
In the optical filter described in each publication of 306366,
A dye or a pigment is added to the transparent support so that the support functions as a filter. JP-A-10-26704
In the optical filter described in the publication, a hard coat layer (surface hardened layer) provided between the transparent support and the antireflection layer
And the hard coat layer functions as a filter.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】透明支持体あるいはハ
ードコート層を着色すれば、透明支持体またはハードコ
ート層がフィルターとして機能する。しかし、透明支持
体やハードコート層に添加できる染料は、種類が非常に
限られる。透明支持体は、プラスチックまたはガラス
（通常はプラスチック）から製造する。透明支持体に添
加する染料には、支持体の製造時の温度に耐えられる程
度の非常に高い耐熱性が要求される。ハードコート層
は、一般に架橋しているポリマーを含む層である。ポリ
マーの架橋反応は、層の塗布後に実施する。架橋のため
の反応条件では、褪色してしまう染料が多い。透明支持
体やハードコート層に添加できる染料は、吸収極大にお
けるピークがブロードで（半値幅が広く）、画像表示装
置に対応する適切な色補正を行うことが難しい。ハロゲ
ン化銀写真の技術分野で開発されたメチン染料は、様々
な吸収スペクトル特性を有する化合物である。メチン染
料を会合状態で使用すると、半値幅が狭くなることが知
られている。しかし、メチン染料は、ハロゲン化銀写真
材料の層に添加することを前提に開発されており、メチ
ン染料を透明支持体やハードコート層に添加すると、褪
色の問題が生じる。If the transparent support or the hard coat layer is colored, the transparent support or the hard coat layer functions as a filter. However, the types of dyes that can be added to the transparent support and the hard coat layer are very limited. The transparent support is made from plastic or glass (usually plastic). The dye to be added to the transparent support is required to have a very high heat resistance enough to withstand the temperature during the production of the support. The hard coat layer is generally a layer containing a crosslinked polymer. The crosslinking reaction of the polymer is carried out after the application of the layer. Under the reaction conditions for crosslinking, there are many dyes that fade. The dye which can be added to the transparent support or the hard coat layer has a broad peak at the absorption maximum (broad half width), and it is difficult to perform appropriate color correction corresponding to the image display device. Methine dyes developed in the field of silver halide photography are compounds having various absorption spectral properties. It is known that the use of a methine dye in an associated state reduces the half width. However, methine dyes have been developed on the premise that they are added to a layer of a silver halide photographic material, and when a methine dye is added to a transparent support or a hard coat layer, a problem of fading occurs.

【０００６】本発明者は、使用できる染料の種類に制約
が多い透明支持体やハードコート層ではなく、穏和な条
件で形成できるポリマー層に染料を添加し、ポリマー層
をフィルター層として機能させることを検討した。しか
し、ポリマー層は、透明支持体やハードコート層と比較
して、染料の保護機能が弱い。ポリマー層に染料を添加
するためには、染料の安定性や耐久性（特に光堅牢性）
を改善する必要がある。特に、比較的長波長側の波長領
域（５６０〜６２０ｎｍ）に吸収極大を有する染料に
は、光堅牢性の問題が多い。また、写真用メチン染料を
用いても、吸収極大におけるピークがブロードで（半値
幅が広く）、画像表示装置に対応する適切な色補正を行
うことが難しい。また、用途の違いから、色補正の目的
では、写真の場合よりも染料の吸収極大が長波長側にあ
ることが望ましい。本発明の目的は、適切な色補正機能
を有する光学フィルターを提供することである。また、
本発明の目的は、反射防止機能に加えて、適切な色補正
機能を有する反射防止膜を提供することでもある。The present inventor has proposed that a dye be added to a polymer layer that can be formed under mild conditions, instead of a transparent support or a hard coat layer, which has many restrictions on the types of dyes that can be used, so that the polymer layer functions as a filter layer. It was investigated. However, the polymer layer has a weaker dye protection function than the transparent support or the hard coat layer. To add a dye to the polymer layer, the stability and durability of the dye (especially light fastness)
Need to be improved. In particular, dyes having an absorption maximum in a relatively long wavelength region (560 to 620 nm) have many problems of light fastness. Further, even when a methine dye for photography is used, the peak at the absorption maximum is broad (the half width is wide) and it is difficult to perform appropriate color correction corresponding to the image display device. Also, from the viewpoint of the difference in use, it is desirable for the purpose of color correction that the absorption maximum of the dye be on the longer wavelength side than in the case of a photograph. An object of the present invention is to provide an optical filter having an appropriate color correction function. Also,
Another object of the present invention is to provide an antireflection film having an appropriate color correction function in addition to the antireflection function.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（３）の光学フィルターおよび下記（４）〜
（９）の反射防止膜により達成された。 （１）透明支持体上に染料およびポリマーバインダーを
含むフィルター層を有する光学フィルターであって、フ
ィルター層が５００乃至５５０ｎｍの波長領域に吸収極
大を有する染料と５６０乃至６２０ｎｍの波長領域に吸
収極大を有する染料とを含み、５００乃至５５０ｎｍの
波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透過率が５
６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィ
ルター層の透過率よりも大きく、そして５６０乃至６２
０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料が下記式
（Ｉ）、（II）、（III)、（IV）、（Ｖ）または（VI）
で表されることを特徴とする光学フィルター。The object of the present invention is to provide the following optical filters (1) to (3) and the following (4) to (4):
This was achieved by the antireflection film of (9). (1) An optical filter having a filter layer containing a dye and a polymer binder on a transparent support, wherein the filter layer has a dye having an absorption maximum in a wavelength region of 500 to 550 nm and a dye having an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm. Having a transmittance of 5 at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm.
Greater than the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region from 60 to 620 nm, and from 560 to 62
A dye having an absorption maximum in a wavelength region of 0 nm is represented by the following formula (I), (II), (III), (IV), (V) or (VI)
An optical filter represented by the formula:

【０００８】[0008]

【化４】 Embedded image

【０００９】式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁸ 、Ｒ
⁹ 、Ｒ¹²およびＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ、ニトロ、脂肪族基、芳香族基、複
素環基、−Ｏ−Ｒ²¹、−ＣＯ−Ｒ²²、−ＣＯ−Ｏ−
Ｒ²³、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ²⁴、−ＮＲ ²⁵Ｒ²⁶、−ＮＨ−ＣＯ
−Ｒ²⁷、−ＣＯ−ＮＲ²⁸Ｒ²⁹、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ³⁰Ｒ
³¹、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ³²、−Ｓ−Ｒ³³、−ＳＯ₂ −
Ｒ³⁴、−Ｏ−ＳＯ₂ −Ｒ³⁵、−ＮＨ−ＳＯ₂ −Ｒ³⁶また
は−ＳＯ₂ −ＮＲ³⁷Ｒ³⁸であって、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ ²³、
Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｒ
³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷およびＲ³⁸は、それ
ぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素
環基であり；Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、そ
れぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複
素環基であり；ただし、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、
Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²およ
びＲ¹³の少なくとも二つが結合して５員環または６員環
を形成してもよく；Ｍは、プロトンまたはカチオンであ
り；Ｘは、アニオンまたはカチオンであり；そして、ｎ
は、電荷バランスを保つために必要なＸの数である。 （２）プラズマディスプレイパネル用である（１）に記
載の光学フィルター。 （３）５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大にお
けるフィルター層の透過率が５０乃至９０％であり、か
つ５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大における
フィルター層の透過率が０．０１乃至８０％である
（１）に記載の光学フィルター。Where R¹, R^Two, R^Five, R⁶, R⁸, R
⁹, R¹²And R¹³Are each independently a hydrogen atom,
Logen atom, cyano, nitro, aliphatic group, aromatic group, compound
Ring group, -OR^{twenty one}, -CO-R^{twenty two}, -CO-O-
R^{twenty three}, -O-CO-R^{twenty four}, -NR ^{twenty five}R²⁶, -NH-CO
-R²⁷, -CO-NR²⁸R²⁹, -NH-CO-NR³⁰R
³¹, -NH-CO-OR³², -SR³³, -SO_Two−
R³⁴, -O-SO_Two-R³⁵, -NH-SO_Two-R³⁶Also
Is -SO_Two-NR³⁷R³⁸And R^{twenty one}, R^{twenty two}, R ^{twenty three},
R^{twenty four}, R^{twenty five}, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R
³², R³³, R³⁴, R ³⁵, R³⁶, R³⁷And R³⁸Is it
Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group,
A ring group; R^Three, R^Four, R⁷, R^TenAnd R¹¹Is
Each independently represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group,
A cyclic group; provided that R¹, R^Two, R^Three, R^Four,
R^Five, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R^Ten, R¹¹, R¹²And
And R¹³A 5- or 6-membered ring wherein at least two of
May be formed; M is a proton or a cation
X is an anion or a cation; and n
Is the number of Xs required to maintain charge balance. (2) As described in (1) for plasma display panel
Optical filter. (3) The absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm
The filter layer has a transmittance of 50 to 90%,
At the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm
The transmittance of the filter layer is 0.01 to 80%
The optical filter according to (1).

【００１０】（４）染料およびポリマーバインダーを含
むフィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折
率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積
層されている反射防止膜であって、フィルター層が５０
０乃至５５０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料と
５６０乃至６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染
料とを含み、５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極
大におけるフィルター層の透過率が５６０乃至６２０ｎ
ｍの波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透過率
よりも大きく、そして５６０乃至６２０ｎｍの波長領域
に吸収極大を有する染料が上記式（Ｉ）、（II）、（II
I)、（IV）、（Ｖ）または（VI）で表されることを特徴
とする反射防止膜。 （５）プラズマディスプレイパネル用である（４）に記
載の反射防止膜。 （６）５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大にお
けるフィルター層の透過率が５０乃至９０％であり、か
つ５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大における
フィルター層の透過率が０．０１乃至８０％である
（４）に記載の反射防止膜。(4) A filter layer containing a dye and a polymer binder, a transparent support, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are the antireflection films laminated in this order. And the filter layer is 50
It contains a dye having an absorption maximum in a wavelength region of 0 to 550 nm and a dye having an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm, and the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 560 to 620 n.
m, the dye having an absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm, which is larger than the transmittance of the filter layer in the absorption maximum in the wavelength region of m, has the above formula (I), (II), or (II).
An antireflection film represented by (I), (IV), (V) or (VI). (5) The antireflection film according to (4), which is for a plasma display panel. (6) When the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 50 to 90%, and the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is 0.01 to 80%. The antireflection film according to (4).

【００１１】（７）透明支持体、染料およびポリマーバ
インダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折
率よりも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積
層されている反射防止膜であって、フィルター層が５０
０乃至５５０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料と
５６０乃至６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染
料とを含み、５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極
大におけるフィルター層の透過率が５６０乃至６２０ｎ
ｍの波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透過率
よりも大きく、そして５６０乃至６２０ｎｍの波長領域
に吸収極大を有する染料が上記式（Ｉ）、（II）、（II
I)、（IV）、（Ｖ）または（VI）で表されることを特徴
とする反射防止膜。 （８）プラズマディスプレイパネル用である（７）に記
載の反射防止膜。 （９）５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大にお
けるフィルター層の透過率が５０乃至９０％であり、か
つ５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大における
フィルター層の透過率が０．０１乃至８０％である
（７）に記載の反射防止膜。(7) An anti-reflection film in which a transparent support, a filter layer containing a dye and a polymer binder, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the transparent support are laminated in this order. And the filter layer is 50
It contains a dye having an absorption maximum in a wavelength region of 0 to 550 nm and a dye having an absorption maximum in a wavelength region of 560 to 620 nm, and the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 560 to 620 n.
m, the dye having an absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm, which is larger than the transmittance of the filter layer in the absorption maximum in the wavelength region of m, has the above formula (I), (II), or (II).
An antireflection film represented by (I), (IV), (V) or (VI). (8) The antireflection film according to (7), which is for a plasma display panel. (9) When the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 50 to 90%, and the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is 0.01 to 80%. The antireflection film according to (7).

【００１２】[0012]

【発明の効果】本発明者の研究により、上記式（Ｉ）、
（II）、（III)、（IV）、（Ｖ）または（VI）で表され
る染料は、比較的長波長側の波長領域（５６０〜６２０
ｎｍ）にシャープな吸収極大を有し、フィルター層に添
加しても優れた光堅牢性を示すことが判明した。式
（Ｉ）、（II）、（III)、（IV）、（Ｖ）または（VI）
で表される染料と、５００乃至５５０ｎｍの波長領域に
吸収極大を有する染料とを併用し、両者の量を、５００
乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィルタ
ー層の透過率が５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収
極大におけるフィルター層の透過率よりも大きくなるよ
うに調整すれば、適切な色補正機能が得られる。以上の
結果、本発明の光学フィルターや反射防止膜は、画像表
示装置の種類に応じた適切な色補正機能を有する。According to the study of the present inventors, the above formula (I)
The dyes represented by (II), (III), (IV), (V) or (VI) have a relatively long wavelength region (560 to 620).
nm), and showed excellent light fastness even when added to the filter layer. Formula (I), (II), (III), (IV), (V) or (VI)
And a dye having an absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm, and the amount of both is 500
An appropriate color correction function can be obtained by adjusting the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength range of 550 to 550 nm to be greater than the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm. As a result, the optical filter and the antireflection film of the invention have an appropriate color correction function according to the type of the image display device.

【００１３】[0013]

【発明の実施の形態】反射防止膜（反射防止層を設けた
光学フィルター）の代表的な層構成を、図面を参照しな
がら説明する。図１は、フィルター層を反射防止層とは
透明支持体の反対の側に設けた反射防止膜の層構成を示
す断面模式図である。図１の（ａ）に示す態様は、フィ
ルター層（２）、透明支持体（１）、低屈折率層（３）
の順序の層構成を有する。透明支持体（１）と低屈折率
層（３）は、以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率 図１の（ｂ）に示す態様は、フィルター層（２）、透明
支持体（１）、ハードコート層（４）、低屈折率層
（３）の順序の層構成を有する。図１の（ｃ）に示す態
様は、フィルター層（２）、透明支持体（１）、ハード
コート層（４）、高屈折率層（５）、低屈折率層（３）
の順序の層構成を有する。透明支持体（１）、低屈折率
層（３）および高屈折率層（５）は、以下の関係を満足
する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率＜高屈折率層
の屈折率 図１の（ｄ）に示す態様は、フィルター層（２）、透明
支持体（１）、ハードコート層（４）、中屈折率層
（６）、高屈折率層（５）、低屈折率層（３）の順序の
層構成を有する。透明支持体（１）、低屈折率層
（３）、高屈折率層（５）および中屈折率層（６）は、
以下の関係を満足する屈折率を有する。 低屈折率層の屈折率＜透明支持体の屈折率＜中屈折率層
の屈折率＜高屈折率層の屈折率DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A typical layer structure of an antireflection film (optical filter provided with an antireflection layer) will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer is provided on the side opposite to the transparent support from the antireflection layer. The embodiment shown in FIG. 1A includes a filter layer (2), a transparent support (1), and a low refractive index layer (3).
In the following order. The transparent support (1) and the low refractive index layer (3) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support In the embodiment shown in FIG. 1B, the filter layer (2), the transparent support (1), the hard coat layer (4), and the low refractive index layer ( It has a layer configuration in the order of 3). The embodiment shown in FIG. 1 (c) includes a filter layer (2), a transparent support (1), a hard coat layer (4), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3).
In the following order. The transparent support (1), the low refractive index layer (3) and the high refractive index layer (5) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low refractive index layer <the refractive index of the transparent support <the refractive index of the high refractive index layer In the embodiment shown in FIG. 1D, the filter layer (2), the transparent support (1), and the hard coat layer ( 4), a middle refractive index layer (6), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3). The transparent support (1), the low refractive index layer (3), the high refractive index layer (5) and the medium refractive index layer (6)
It has a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <refractive index of transparent support <refractive index of medium refractive index layer <refractive index of high refractive index layer

【００１４】図２は、フィルター層と反射防止層とを透
明支持体の同じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断
面模式図である。図２の（ａ）に示す態様は、透明支持
体（１）、フィルター層（２）、低屈折率層（３）の順
序の層構成を有する。透明支持体（１）と低屈折率層
（３）の屈折率の関係は、図１の（ａ）と同様である。
図２の（ｂ）に示す態様は、透明支持体（１）、フィル
ター層（２）、ハードコート層（４）、低屈折率層
（３）の順序の層構成を有する。図２の（ｃ）に示す態
様は、透明支持体（１）、フィルター層（２）、ハード
コート層（４）、高屈折率層（５）、低屈折率層（３）
の順序の層構成を有する。透明支持体（１）、低屈折率
層（３）および高屈折率層（５）の屈折率の関係は、図
１の（ｃ）と同様である。図２の（ｄ）に示す態様は、
透明支持体（１）、フィルター層（２）、ハードコート
層（４）、中屈折率層（６）、高屈折率層（５）、低屈
折率層（３）の順序の層構成を有する。透明支持体
（１）、低屈折率層（３）、高屈折率層（５）および中
屈折率層（６）の屈折率の関係は、図１の（ｄ）と同様
である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing a layer structure of an antireflection film in which a filter layer and an antireflection layer are provided on the same side of a transparent support. The embodiment shown in FIG. 2A has a layer structure in the order of the transparent support (1), the filter layer (2), and the low refractive index layer (3). The relationship between the refractive index of the transparent support (1) and the refractive index of the low refractive index layer (3) is the same as that of FIG.
The embodiment shown in FIG. 2B has a layer structure in the order of the transparent support (1), the filter layer (2), the hard coat layer (4), and the low refractive index layer (3). The mode shown in FIG. 2C is a transparent support (1), a filter layer (2), a hard coat layer (4), a high refractive index layer (5), and a low refractive index layer (3).
In the following order. The relationship between the refractive indices of the transparent support (1), the low refractive index layer (3) and the high refractive index layer (5) is the same as that in FIG. The mode shown in FIG.
The transparent support (1), the filter layer (2), the hard coat layer (4), the medium refractive index layer (6), the high refractive index layer (5), and the low refractive index layer (3) have a layer structure in this order. . The relationship among the refractive indices of the transparent support (1), the low refractive index layer (3), the high refractive index layer (5) and the middle refractive index layer (6) is the same as that in FIG.

【００１５】（透明支持体）透明支持体を形成する材料
の例には、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノ
キシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタ
クチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリ
メチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレ
ンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネ
ートおよびポリエチレンテレフタレートが好ましい。透
明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、
８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２
％以下であることが好ましく、１％以下であることがさ
らに好ましい。屈折率は、１．４５乃至１．７０である
ことが好ましい。(Transparent Support) Examples of materials for forming the transparent support include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), Polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, poly Butylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene), polymethylmethacrylate , Syndiotactic polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more,
More preferably, it is 86% or more. Haze is 2
%, More preferably 1% or less. The refractive index is preferably from 1.45 to 1.70.

【００１６】透明支持体に、赤外線吸収剤または紫外線
吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤または紫外線吸
収剤の添加量は、透明支持体の０．０１乃至２０重量％
であることが好ましく、０．０５乃至１０重量％である
ことがさらに好ましい。さらに滑り剤として、不活性無
機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化
合物の例には、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＢａＳＯ₄ 、Ｃａ
ＣＯ₃ 、タルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体
に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、薬
品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外
線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズ
マ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理
が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ
放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と
紫外線処理がさらに好ましい。さらに、上層との接着強
化のための下塗り層を設置してもよい。An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of the infrared absorbing agent or the ultraviolet absorbing agent is 0.01 to 20% by weight of the transparent support.
And more preferably 0.05 to 10% by weight. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of inorganic compounds include SiO ₂ , TiO ₂ , BaSO ₄ , Ca
Includes CO ₃ , talc and kaolin. The transparent support may be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred. Further, an undercoat layer for strengthening the adhesion with the upper layer may be provided.

【００１７】（フィルター層）フィルター層の厚さは
０．１μｍ乃至５ｃｍであることが好ましい。フィルタ
ー層は、５６０乃至６２０ｎｍの波長領域（緑と赤の
間）に吸収極大を有する。５６０乃至６２０ｎｍの波長
領域の吸収極大でのフィルター層の透過率は、０．０１
乃至８０％の範囲であることが好ましく、０．１乃至６
０％の範囲であることがさらに好ましい。５６０乃至６
２０ｎｍの波長領域の吸収極大は、赤色蛍光体の色純度
を低下させているサブバンドを選択的にカットする機能
を有する。プラズマディスプレイパネルでは、ネオンガ
スの励起によって放出される５９５ｎｍ付近の不要な発
光もカットできる。上記のように吸収極大を設定するこ
とで、緑の蛍光体の色調に悪影響を与えることなく、選
択的に光をカットできる。緑の蛍光体の色調への影響を
さらに低下させるため、５６０乃至６２０ｎｍの波長領
域の吸収極大は、シャープであることが好ましい。具体
的に５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大では、
半幅値（吸収極大の吸光度の半分の吸光度を示す波長領
域の幅）が、１０乃至１２０ｎｍであることが好まし
く、１５乃至１００ｎｍであることがより好ましく、２
０乃至７０ｎｍであることがさらに好ましく、３０乃至
５０ｎｍであることが最も好ましい。(Filter Layer) The thickness of the filter layer is preferably 0.1 μm to 5 cm. The filter layer has an absorption maximum in a wavelength range of 560 to 620 nm (between green and red). The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is 0.01
To 80%, preferably 0.1 to 6%.
More preferably, it is in the range of 0%. 560 to 6
The absorption maximum in the wavelength region of 20 nm has a function of selectively cutting the sub-band that reduces the color purity of the red phosphor. In the plasma display panel, unnecessary light emission near 595 nm emitted by excitation of neon gas can be cut. By setting the absorption maximum as described above, light can be selectively cut without adversely affecting the color tone of the green phosphor. In order to further reduce the influence on the color tone of the green phosphor, the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is preferably sharp. Specifically, at the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm,
The half width value (the width of the wavelength region showing half the absorbance at the absorption maximum) is preferably 10 to 120 nm, more preferably 15 to 100 nm, and 2
The thickness is more preferably 0 to 70 nm, and most preferably 30 to 50 nm.

【００１８】フィルター層は、さらに５００乃至５５０
ｎｍの波長領域（緑）にも吸収極大を有する。５００乃
至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大でのフィルター層の
透過率は、５０乃至９０％の範囲であることが好まし
い。５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大は、視
感度の高い緑色蛍光体の発色強度を調節する機能を有す
る。緑色蛍光体の発光域は、なだらかにカットすること
が好ましい。具体的に５００乃至５５０ｎｍの波長領域
の吸収極大では、半幅値（吸収極大の吸光度の半分の吸
光度を示す波長領域の幅）が、３０乃至３００ｎｍであ
ることが好ましく、４０乃至２００ｎｍであることがよ
り好ましく、５０乃至１５０ｎｍであることがさらに好
ましく、５０乃至１００ｎｍであることが最も好まし
い。本発明では二種類の染料を使用するため、上記の二
種類の吸収極大に容易に対応できる。５６０乃至６２０
ｎｍの波長領域の吸収極大は、下記式（Ｉ）、（II）、
（III)、（IV）、（Ｖ）または（VI）で表される染料に
より得ることができる。５００乃至５５０ｎｍの波長領
域の吸収極大は、別の染料により得ることができる。The filter layer further comprises 500 to 550
It also has an absorption maximum in the wavelength region of nm (green). The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is preferably in the range of 50 to 90%. The absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm has a function of adjusting the coloring intensity of the green phosphor having high visibility. It is preferable that the emission region of the green phosphor be cut smoothly. Specifically, at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm, the half-width value (width of the wavelength region showing half the absorbance of the absorption maximum) is preferably 30 to 300 nm, and more preferably 40 to 200 nm. The thickness is more preferably 50 to 150 nm, and most preferably 50 to 100 nm. In the present invention, since two kinds of dyes are used, it is possible to easily cope with the above two kinds of absorption maxima. 560 to 620
The absorption maximum in the wavelength region of nm is expressed by the following formulas (I), (II),
It can be obtained by the dye represented by (III), (IV), (V) or (VI). The absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm can be obtained by another dye.

【００１９】[0019]

【化５】 Embedded image

【００２０】式（Ｉ）、（II）、（III)、（IV）、
（Ｖ）および（VI）において、Ｒ¹ 、Ｒ ² 、Ｒ⁵ 、
Ｒ⁶ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹²およびＲ¹³は、それぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、脂肪族
基、芳香族基、複素環基、−Ｏ−Ｒ²¹、−ＣＯ−Ｒ²²、
−ＣＯ−Ｏ−Ｒ²³、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ²⁴、−ＮＲ²⁵Ｒ²⁶、
−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁷、−ＣＯ−ＮＲ²⁸Ｒ²⁹、−ＮＨ−Ｃ
Ｏ−ＮＲ³⁰Ｒ³¹、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ³²、−Ｓ−
Ｒ³³、−ＳＯ₂ −Ｒ³⁴、−Ｏ−ＳＯ₂ −Ｒ³⁵、−ＮＨ−
ＳＯ₂−Ｒ³⁶または−ＳＯ₂ −ＮＲ³⁷Ｒ³⁸である。
Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ
²⁹、Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷
およびＲ³⁸は、それぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、
芳香族基または複素環基である。なお、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ
²³のＲ²³が水素原子（すなわち、カルボキシル）の場合
および−Ｏ−ＳＯ₂ −Ｒ³⁵のＲ³⁵が水素原子（すなわ
ち、スルホ）の場合は、水素原子が解離していても、塩
の状態であってもよい。Formulas (I), (II), (III), (IV),
In (V) and (VI), R¹, R ^Two, R^Five,
R⁶, R⁸, R⁹, R¹²And R¹³Are independent
, Hydrogen atom, halogen atom, cyano, nitro, aliphatic
Group, aromatic group, heterocyclic group, -OR^{twenty one}, -CO-R^{twenty two},
-CO-OR^{twenty three}, -O-CO-R^{twenty four}, -NR^{twenty five}R²⁶,
-NH-CO-R²⁷, -CO-NR²⁸R²⁹, -NH-C
O-NR³⁰R³¹, -NH-CO-OR³², -S-
R³³, -SO_Two-R³⁴, -O-SO_Two-R³⁵, -NH-
SO_Two-R³⁶Or -SO_Two-NR³⁷R³⁸It is.
R^{twenty one}, R^{twenty two}, R^{twenty three}, R^{twenty four}, R^{twenty five}, R ²⁶, R²⁷, R²⁸, R
²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³, R³⁴, R³⁵, R³⁶, R³⁷
And R³⁸Is independently a hydrogen atom, an aliphatic group,
It is an aromatic group or a heterocyclic group. In addition, -CO-OR
^{twenty three}R^{twenty three}Is a hydrogen atom (ie, carboxyl)
And -O-SO_Two-R³⁵R³⁵Is a hydrogen atom
In the case of sulfo), even if a hydrogen atom is dissociated,
The state may be as follows.

【００２１】本明細書において、脂肪族基は、アルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル
基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基ま
たは置換アラルキル基を意味する。アルキル基は、環状
であっても鎖状であってもよい。鎖状アルキル基は、分
岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、１
乃至２０であることが好ましく、１乃至１５であること
がより好ましく、１乃至１２であることがさらに好まし
く、１乃至１０であることがさらにまた好ましく、１乃
至８であることが最も好ましい。アルキル基の例には、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ
−ブチル、ヘキシル、シクロプロピル、ヘキシル、シク
ロヘキシル、２−エチルヘキシルおよびヘキサデシルが
含まれる。置換アルキル基のアルキル部分は、上記アル
キル基と同様である。置換アルキル基の置換基の例に
は、ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、複素環基、−Ｏ−
Ｒ⁴¹、−ＣＯ−Ｒ⁴²、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ⁴³、−Ｏ−ＣＯ−
Ｒ⁴⁴、−ＮＲ⁴⁵Ｒ⁴⁶、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ⁴⁷、−ＣＯ−Ｎ
Ｒ⁴⁸Ｒ⁴⁹、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ⁵⁰Ｒ⁵¹、−ＮＨ−ＣＯ−
Ｏ−Ｒ⁵²、−Ｓ−Ｒ⁵³、−ＳＯ₂ −Ｒ⁵⁴、−Ｏ−ＳＯ₂
−Ｒ⁵⁵、−ＮＨ−ＳＯ ₂ −Ｒ⁵⁶および−ＳＯ₂ −ＮＲ⁵⁷
Ｒ⁵⁸が含まれる。Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴、Ｒ ⁴⁵、
Ｒ⁴⁶、Ｒ⁴⁷、Ｒ⁴⁸、Ｒ⁴⁹、Ｒ⁵⁰、Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³、Ｒ
⁵⁴、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶、Ｒ ⁵⁷およびＲ⁵⁸は、それぞれ独立に、
水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基である。
なお、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ⁴³のＲ⁴³が水素原子（すなわち、
カルボキシル）の場合および−Ｏ−ＳＯ₂ −Ｒ⁵⁵のＲ⁵⁵
が水素原子（すなわち、スルホ）の場合は、水素原子が
解離していても、塩の状態であってもよい。置換アルキ
ル基の例には、２−ヒドロキシエチル、２−カルボキシ
ブチル、２−メトキシエチル、２−ジエチルアミノエチ
ルが含まれる。In the present specification, the aliphatic group is an alkyl
Group, substituted alkyl group, alkenyl group, substituted alkenyl
Group, alkynyl group, substituted alkynyl group, aralkyl group
Or a substituted aralkyl group. The alkyl group is cyclic
Or a chain. A chain alkyl group is
It may have a fork. The number of carbon atoms in the alkyl group is 1
From 20 to 20, preferably from 1 to 15
Is more preferable, and 1 to 12 is further preferable.
More preferably, 1 to 10.
Most preferably, it is from 8 to 8. Examples of alkyl groups include:
Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t
-Butyl, hexyl, cyclopropyl, hexyl, cyclo
Rohexyl, 2-ethylhexyl and hexadecyl
included. The alkyl portion of the substituted alkyl group is
Same as the kill group. Examples of substituents of substituted alkyl groups
Is a halogen atom, cyano, nitro, heterocyclic group, -O-
R⁴¹, -CO-R⁴², -CO-OR⁴³, -O-CO-
R⁴⁴, -NR⁴⁵R⁴⁶, -NH-CO-R⁴⁷, -CO-N
R⁴⁸R⁴⁹, -NH-CO-NR⁵⁰R⁵¹, -NH-CO-
OR⁵², -SR⁵³, -SO_Two-R⁵⁴, -O-SO_Two
-R⁵⁵, -NH-SO _Two-R⁵⁶And -SO_Two-NR⁵⁷
R⁵⁸Is included. R⁴¹, R⁴², R⁴³, R⁴⁴, R ⁴⁵,
R⁴⁶, R⁴⁷, R⁴⁸, R⁴⁹, R⁵⁰, R⁵¹, R⁵², R⁵³, R
⁵⁴, R⁵⁵, R⁵⁶, R ⁵⁷And R⁵⁸Are, independently of each other,
It is a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group.
In addition, -CO-OR⁴³R⁴³Is a hydrogen atom (ie,
Carboxyl) and -O-SO_Two-R⁵⁵R⁵⁵
Is a hydrogen atom (that is, sulfo), the hydrogen atom is
It may be dissociated or in a salt state. Substituted alk
Examples of the radical include 2-hydroxyethyl, 2-carboxy
Butyl, 2-methoxyethyl, 2-diethylaminoethyl
Included.

【００２２】アルケニル基は、環状であっても鎖状であ
ってもよい。鎖状アルケニル基は、分岐を有していても
よい。アルケニル基の炭素原子数は、２乃至２０である
ことが好ましく、２乃至１５であることがより好まし
く、２乃至１２であることがさらに好ましく、２乃至１
０であることがさらにまた好ましく、２乃至８であるこ
とが最も好ましい。アルケニル基の例には、ビニル、ア
リル、１−プロペニル、２−ブテニル、２−ペンテニル
および２−ヘキセニルが含まれる。置換アルケニル基の
アルケニル部分は、上記アルケニル基と同様である。置
換アルケニル基の置換基の例は、上記置換アルキル基の
置換基の例と同様である。アルキニル基は、環状であっ
ても鎖状であってもよい。鎖状アルキニル基は、分岐を
有していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は、２乃
至２０であることが好ましく、２乃至１５であることが
より好ましく、２乃至１２であることがさらに好まし
く、２乃至１０であることがさらにまた好ましく、２乃
至８であることが最も好ましい。置換アルキニル基のア
ルキニル部分は、上記アルキニル基と同様である。置換
アルキニル基の置換基の例は、上記置換アルキル基の置
換基の例と同様である。アラルキル基のアルキル部分
は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリ
ール部分は、後述するアリール基と同様である。アラル
キル基の例には、ベンジルおよびフェネチルが含まれ
る。置換アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル
基と同様である。置換アラルキル基のアリール部分は、
後述するアリール基と同様である。置換アラルキル基の
アルキル部分の置換基の例は、上記置換アルキル基の置
換基の例と同様である。置換アラルキル基のアリール部
分の置換基の例は、後述する置換アリール基の置換基の
例と同様である。The alkenyl group may be cyclic or chain. The chain alkenyl group may have a branch. The number of carbon atoms of the alkenyl group is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 15, further preferably 2 to 12, and more preferably 2 to 1.
More preferably, it is 0, and most preferably 2 to 8. Examples of alkenyl groups include vinyl, allyl, 1-propenyl, 2-butenyl, 2-pentenyl and 2-hexenyl. The alkenyl part of the substituted alkenyl group is the same as the above alkenyl group. Examples of the substituent of the substituted alkenyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted alkyl group. The alkynyl group may be cyclic or chain. The chain alkynyl group may have a branch. The number of carbon atoms of the alkynyl group is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 15, still more preferably 2 to 12, still more preferably 2 to 10, and more preferably 2 to 10. Most preferably, it is 8. The alkynyl part of the substituted alkynyl group is the same as the above alkynyl group. Examples of the substituent of the substituted alkynyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted alkyl group. The alkyl part of the aralkyl group is the same as the above-mentioned alkyl group. The aryl part of the aralkyl group is the same as the aryl group described later. Examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl. The alkyl part of the substituted aralkyl group is the same as the above-mentioned alkyl group. The aryl moiety of the substituted aralkyl group is
This is the same as the aryl group described below. Examples of the substituent of the alkyl portion of the substituted aralkyl group are the same as those of the above-mentioned substituent of the substituted alkyl group. Examples of the substituent of the aryl part of the substituted aralkyl group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group described later.

【００２３】本明細書において、芳香族基は、アリール
基または置換アリール基を意味する。アリール基の炭素
原子数は、６乃至２５であることが好ましく、６乃至２
０であることがより好ましく、６乃至１５であることが
さらに好ましく、６または１０であることが最も好まし
い。アリール基の例には、フェニルおよびナフチルが含
まれる。置換アリール基のアリール部分は、上記アリー
ル基と同様である。置換アリール基の置換基の例には、
ハロゲン原子、シアノ、ニトロ、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、−Ｏ−Ｒ⁶¹、−ＣＯ−Ｒ⁶²、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ
⁶³、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ⁶⁴、−ＮＲ⁶⁵Ｒ⁶⁶、−ＮＨ−ＣＯ−
Ｒ⁶⁷、−ＣＯ−ＮＲ⁶⁸Ｒ⁶⁹、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ
⁷⁰Ｒ⁷¹、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ⁷²、−Ｓ−Ｒ⁷³、−ＳＯ
₂ −Ｒ⁷⁴、−Ｏ−ＳＯ₂−Ｒ⁷⁵、−ＮＨ−ＳＯ₂ −Ｒ⁷⁶
および−ＳＯ₂ −ＮＲ⁷⁷Ｒ⁷⁸が含まれる。Ｒ⁶¹、Ｒ⁶²、
Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁴、Ｒ⁶⁵、Ｒ⁶⁶、Ｒ⁶⁷、Ｒ⁶⁸、Ｒ⁶⁹、Ｒ⁷⁰、Ｒ
⁷¹、Ｒ⁷²、Ｒ⁷³、Ｒ⁷⁴、Ｒ⁷⁵、Ｒ⁷⁶、Ｒ⁷⁷およびＲ
⁷⁸は、それぞれ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基
または複素環基である。なお、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ⁶³のＲ⁶³
が水素原子（すなわち、カルボキシル）の場合および−
Ｏ−ＳＯ₂ −Ｒ⁷⁵のＲ⁷⁵が水素原子（すなわち、スル
ホ）の場合は、水素原子が解離していても、塩の状態で
あってもよい。置換アリール基の例には、４−カルボキ
シフェニル、４−アセトアミドフェニル、３−メタンス
ルホンアミドフェニル、４−メトキシフェニル、３−カ
ルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、４
−メタンスルホンアミドフェニルおよび４−ブタンスル
ホンアミドフェニルが含まれる。In the present specification, an aromatic group is an aryl
Group or substituted aryl group. Aryl group carbon
The number of atoms is preferably 6 to 25, and 6 to 2
More preferably, it is 0, and it is preferably 6 to 15.
More preferably, most preferably 6 or 10.
No. Examples of aryl groups include phenyl and naphthyl.
I will. The aryl part of the substituted aryl group is
And the same as the above. Examples of the substituent of the substituted aryl group include:
Halogen atom, cyano, nitro, aliphatic group, aromatic group,
Heterocyclic group, -OR⁶¹, -CO-R⁶², -CO-OR
⁶³, -O-CO-R⁶⁴, -NR⁶⁵R⁶⁶, -NH-CO-
R⁶⁷, -CO-NR⁶⁸R⁶⁹, -NH-CO-NR
⁷⁰R⁷¹, -NH-CO-OR⁷², -SR⁷³, -SO
_Two-R⁷⁴, -O-SO_Two-R⁷⁵, -NH-SO_Two-R⁷⁶
And -SO_Two-NR⁷⁷R⁷⁸Is included. R⁶¹, R⁶²,
R⁶³, R⁶⁴, R⁶⁵, R⁶⁶, R⁶⁷, R⁶⁸, R⁶⁹, R⁷⁰, R
⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁴, R⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷And R
⁷⁸Are each independently a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group
Or a heterocyclic group. In addition, -CO-OR⁶³R⁶³
Is a hydrogen atom (ie, carboxyl) and-
O-SO_Two-R⁷⁵R⁷⁵Is a hydrogen atom (ie,
In case of e), even if the hydrogen atom is dissociated,
There may be. Examples of substituted aryl groups include 4-carboxy
Cyphenyl, 4-acetamidophenyl, 3-methanes
Rufonamidophenyl, 4-methoxyphenyl, 3-ca
Ruboxyphenyl, 3,5-dicarboxyphenyl, 4
-Methanesulfonamidophenyl and 4-butanesul
Honamidophenyl.

【００２４】本明細書において、複素環基は、置換基を
有する複素環基を含む。複素環基の複素環は、５員環ま
たは６員環であることが好ましい。複素環に、脂肪族
環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。
複素環の（縮合環を含む）例には、ピリジン環、ピペリ
ジン環、フラン環、フルフラン環、チオフェン環、ピロ
ール環、キノリルモルホリン環、ピロール環、インドー
ル環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、カ
ルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、
インドリン環、チアゾール環、ピラジン環、チアジアジ
ン環、ベンゾキノリン環およびチアジアゾール環が含ま
れる。複素環基の置換基の例は、上記置換アリール基の
置換基の例と同様である。In the present specification, the heterocyclic group includes a heterocyclic group having a substituent. The heterocyclic ring of the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring. An aliphatic ring, an aromatic ring, or another hetero ring may be condensed with the hetero ring.
Examples of the heterocyclic ring (including a condensed ring) include a pyridine ring, a piperidine ring, a furan ring, a furfuran ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a quinolylmorpholine ring, a pyrrole ring, an indole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, and a quinoline ring. , Carbazole ring, phenothiazine ring, phenoxazine ring,
Includes indoline, thiazole, pyrazine, thiadiazine, benzoquinoline and thiadiazole rings. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the substituted aryl group.

【００２５】式（Ｉ）、（III)、（IV）および（VI）に
おいて、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞ
れ独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環
基である。式（Ｉ）、（II）、（III)、（IV）、（Ｖ）
および（VI）において、Ｒ¹ 、Ｒ ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、
Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²およ
びＲ¹³の少なくとも二つが結合して５員環または６員環
を形成してもよい。環を形成する組み合わせとしては、
Ｒ¹ とＲ¹³、Ｒ² とＲ³ 、Ｒ⁴ とＲ⁵ 、Ｒ⁹ とＲ¹⁰、お
よびＲ¹¹とＲ¹²が好ましい。式（II）および（Ｖ）にお
いて、Ｍは、プロトンまたはカチオンである。Ｍがプロ
トンの場合、Ｍと隣接する酸素原子は、ヒドロキシルを
形成する。カチオンの例には、金属イオンおよびアンモ
ニウムイオンが含まれる。金属イオンとしては、アルカ
リ金属イオン（ナトリウムイオン、カリウムイオン、リ
チウムイオン）が好ましい。アンモニウムイオンには、
有機アンモニウムイオン（例、テトラメチルアンモニウ
ム、トリエチルアンモニウム）が含まれる。式（Ｉ）、
（II）、（III)、（IV）、（Ｖ）および（VI）におい
て、Ｘは、アニオンまたはカチオンであり、ｎは、電荷
バランスを保つために必要なＸの数である。Ｘのカチオ
ンの例は、上記Ｍのカチオンの例と同様である。Ｘのア
ニオンの例には、ハロゲンイオン（塩素イオン、臭素イ
オン、沃素イオン）、ｐ−トルエンスルホンイオン、エ
チル硫酸イオン、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-およびＣｌＯ₄ ^-が含ま
れる。ｎは、一般に、０、１／２、１、２、３または４
である。以下に、式（Ｉ）、（II）、（III)、（IV）、
（Ｖ）または（VI）で表される染料の例を示す。Formulas (I), (III), (IV) and (VI)
Where R^Three, R^Four, R⁷, R^TenAnd R¹¹Each
Independently a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic ring
Group. Formulas (I), (II), (III), (IV), (V)
In (VI) and R¹, R ^Two, R^Three, R^Four,
R^Five, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R^Ten, R¹¹, R¹²And
And R¹³A 5- or 6-membered ring wherein at least two of
May be formed. As a combination forming a ring,
R¹And R¹³, R^TwoAnd R^Three, R^FourAnd R^Five, R⁹And R^Ten,
And R¹¹And R¹²Is preferred. Equations (II) and (V)
And M is a proton or a cation. M is a professional
In the case of tons, the oxygen atom adjacent to M forms a hydroxyl
Form. Examples of cations include metal ions and ammonium
Nium ions are included. Alkaline metal ions
Metal ions (sodium ion, potassium ion,
(Thium ion) is preferred. Ammonium ions include
Organic ammonium ion (eg, tetramethylammonium
Triethylammonium). Formula (I),
(II), (III), (IV), (V) and (VI)
X is an anion or a cation, and n is a charge
This is the number of Xs required to maintain balance. X's Katio
Examples of the cation are the same as the examples of the cation of M described above. A of X
Examples of nonions include halogen ions (chlorine ions, bromine ions).
On, iodine ion), p-toluenesulfone ion,
Cyl sulfate ion, PF₆ ^-, BF_Four ^-And ClO_Four ^-Contains
It is. n is generally 0, 1/2, 1, 2, 3 or 4
It is. In the following, formulas (I), (II), (III), (IV),
Examples of the dye represented by (V) or (VI) are shown.

【００２６】[0026]

【化６】 Embedded image

【００２７】[0027]

【化７】 Embedded image

【００２８】[0028]

【化８】 Embedded image

【００２９】[0029]

【化９】 Embedded image

【００３０】[0030]

【化１０】 Embedded image

【００３１】[0031]

【化１１】 Embedded image

【００３２】[0032]

【化１２】 Embedded image

【００３３】[0033]

【化１３】 Embedded image

【００３４】[0034]

【化１４】 Embedded image

【００３５】[0035]

【化１５】 Embedded image

【００３６】[0036]

【化１６】 Embedded image

【００３７】[0037]

【化１７】 Embedded image

【００３８】[0038]

【化１８】 Embedded image

【００３９】[0039]

【化１９】 Embedded image

【００４０】[0040]

【化２０】 Embedded image

【００４１】[0041]

【化２１】 Embedded image

【００４２】５００乃至５５０ｎｍの波長領域に吸収極
大を有する染料としては、アゾ染料、アゾメチン染料、
アントラキノン染料、シアニン染料、メロシアニン染
料、アリーリデン染料、オキソノール染料、スクアリリ
ウム染料、トリフェニルメタン染料あるいはキレート染
料が好ましくましく用いられる。以下に、５００乃至５
５０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料の例を示
す。Dyes having an absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm include azo dyes, azomethine dyes,
Anthraquinone dye, cyanine dye, merocyanine dye, arylidene dye, oxonol dye, squarylium dye, triphenylmethane dye or chelate dye is preferably used. Below, 500 to 5
An example of a dye having an absorption maximum in a wavelength region of 50 nm will be described.

【００４３】[0043]

【化２２】 Embedded image

【００４４】[0044]

【化２３】 Embedded image

【００４５】[0045]

【化２４】 Embedded image

【００４６】[0046]

【化２５】 Embedded image

【００４７】[0047]

【化２６】 Embedded image

【００４８】以上述べた波長領域（５００〜５５０ｎｍ
および５６０〜６２０ｎｍ）とは異なる波長領域に吸収
極大を有する染料を併用してもよい。そのような染料と
しては、近赤外吸収染料を用いることができる。近赤外
吸収染料としては、シアニン染料（特開平９−９６８９
１号公報記載）、金属キレート染料、アミニウム染料、
ジイモニウム染料、キノン染料、スクアリリウム染料
（特開平９−９０５４７号、同１０−２０４３１０号の
各公報記載）、各種メチン染料を用いることができる。
近赤外吸収染料については、色材、６１［４］２１５−
２２６（１９８８）および化学工業４３−５３（１９８
６年５月号）にも記載がある。The wavelength range described above (500 to 550 nm)
And 560 to 620 nm). As such a dye, a near infrared absorbing dye can be used. As a near-infrared absorbing dye, a cyanine dye (JP-A-9-9689)
No. 1), metal chelate dyes, aminium dyes,
A diimonium dye, a quinone dye, a squarylium dye (described in JP-A-9-90547 and JP-A-10-204310) and various methine dyes can be used.
As for the near infrared absorbing dye, a coloring material, 61 [4] 215-
226 (1988) and Chemical Industries 43-53 (198).
May, 2006).

【００４９】フィルター層のポリマーバインダーとして
は、天然ポリマー（例、ゼラチン、セルロース誘導体、
アルギン酸）または合成ポリマー（例、ポリメチルメタ
クリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレ
ン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、水溶性ポリアミド）を用いることができる。親
水性ポリマー（上記天然ポリマー、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、水
溶性ポリアミド）が好ましく、ゼラチンが特に好まし
い。As the polymer binder for the filter layer, natural polymers (eg, gelatin, cellulose derivatives,
Alginic acid) or a synthetic polymer (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, water-soluble polyamide) can be used. Hydrophilic polymers (the above-mentioned natural polymers, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, and water-soluble polyamide) are preferred, and gelatin is particularly preferred.

【００５０】フイルター層に、褪色防止剤や紫外線吸収
剤を添加してもよい。染料の安定化剤として機能する褪
色防止剤の例には、ハイドロキノン誘導体（米国特許３
９３５０１６号、同３９８２９４４号の各明細書記
載）、ハイドロキノンジエーテル誘導体（米国特許４２
５４２１６号明細書および特開昭５５−２１００４号公
報記載）、フェノール誘導体（特開昭５４−１４５５３
０号公報記載）、スピロインダンまたはメチレンジオキ
シベンゼンの誘導体（英国特許公開２０７７４５５号、
同２０６２８８８号の各明細書および特開昭６１−９０
１５５号公報記載）、クロマン、スピロクロマンまたは
クマランの誘導体（米国特許３４３２３００号、同３５
７３０５０号、同３５７４６２７号、同３７６４３３７
号の各明細書および特開昭５２−１５２２２５号、同５
３−２０３２７号、同５３−１７７２９号、同６１−９
０１５６号の各公報記載）、ハイドロキノンモノエーテ
ルまたはパラアミノフェノールの誘導体（英国特許１３
４７５５６号、同２０６６９７５号の各明細書および特
公昭５４−１２３３７号、特開昭５５−６３２１号の各
公報記載）およびビスフェノール誘導体（米国特許３７
００４５５号明細書および特公昭４８−３１６２５号公
報記載）が含まれる。An anti-fading agent or an ultraviolet absorber may be added to the filter layer. Examples of anti-fading agents that function as dye stabilizers include hydroquinone derivatives (US Pat.
Nos. 935016 and 3982944), hydroquinone diether derivatives (US Pat.
No. 54216 and JP-A-55-21004), phenol derivatives (JP-A-54-14553).
0), spiroindane or methylenedioxybenzene derivatives (UK Patent Publication No. 2077455,
JP-A-2062888 and JP-A-61-90.
155), chroman, spirochroman or coumaran derivatives (US Pat. Nos. 3,432,300 and 35).
No. 73050, No. 3574627, No. 3764337
Nos. And JP-A Nos. 52-152225, 5
Nos. 3-20327, 53-17729 and 61-9
0156), hydroquinone monoether or paraaminophenol derivatives (UK Patent 13
47556 and 2066975, and JP-B-54-12337 and JP-A-55-6321) and bisphenol derivatives (US Pat.
045555 and JP-B-48-31625).

【００５１】光あるいは熱に対する色素の安定性を向上
させるため、金属錯体（米国特許４２４５０１８号明細
書および特開昭６０−９７３５３号公報記載）を褪色防
止剤として用いてもよい。さらに色素の耐光性を改良す
るために、一重項酸素クエンチャーを褪色防止剤として
用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例には、ニト
ロソ化合物（特開平２−３００２８８号公報記載）、ジ
インモニウム化合物（米国特許４６５６１２号明細書記
載）、ニッケル錯体（特開平４−１４６１８９号公報記
載）および酸化防止剤（欧州特許公開８２００５７Ａ１
号明細書記載）が含まれる。In order to improve the stability of the dye to light or heat, a metal complex (described in US Pat. No. 4,245,018 and JP-A-60-97353) may be used as an anti-fading agent. In order to further improve the light fastness of the dye, a singlet oxygen quencher may be used as an anti-fading agent. Examples of the singlet oxygen quencher include a nitroso compound (described in JP-A-2-300288), a diimmonium compound (described in US Pat. No. 4,656,612), a nickel complex (described in JP-A-4-146189), and antioxidant. Agent (European Patent Publication 820057A1)
Description).

【００５２】（下塗り層）透明支持体とフィルター層と
の間に、下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層
は、ガラス転移温度が−６０℃乃至６０℃のポリマーを
含む層、フィルター層側の表面が粗面である層またはフ
ィルター層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む
層として形成する。なお、フィルター層が設けられてい
ない透明支持体の面に下塗り層を設けて、透明支持体と
その上に設けられる層（例えば、反射防止層、ハードコ
ート層）との接着力を改善してもよい。また、下塗り層
は、反射防止膜と画像形成装置とを接着するための接着
剤と反射防止膜との親和性を改善するために設けてもよ
い。下塗り層の厚みは、２ｎｍ乃至２０μｍが好まし
く、５ｎｍ乃至５μｍがさらに好ましく、５０ｎｍ乃至
５μｍが最も好ましい。(Undercoat layer) It is preferable to provide an undercoat layer between the transparent support and the filter layer. The undercoat layer is formed as a layer containing a polymer having a glass transition temperature of −60 ° C. to 60 ° C., a layer having a rough surface on the filter layer side, or a layer containing a polymer having an affinity for the polymer of the filter layer. An undercoat layer is provided on the surface of the transparent support on which the filter layer is not provided to improve the adhesion between the transparent support and a layer provided thereon (for example, an antireflection layer or a hard coat layer). Is also good. The undercoat layer may be provided to improve the affinity between the adhesive for bonding the antireflection film and the image forming apparatus and the antireflection film. The thickness of the undercoat layer is preferably 2 nm to 20 μm, more preferably 5 nm to 5 μm, and most preferably 50 nm to 5 μm.

【００５３】ガラス転移温度が−６０℃乃至６０℃のポ
リマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支
持体とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が２
５℃以下のポリマーは、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン（登録商標）、ス
チレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、アクリロニトリルまたはメチルビニルエ
ーテルの重合または共重合により得ることができる。ガ
ラス転移温度は、２０℃以下であることが好ましく、１
５℃以下であることがより好ましく、１０℃以下である
ことがさらに好ましく、５℃以下であることがさらにま
た好ましく、０℃以下であることが最も好ましい。表面
が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形
成することで、透明支持体とフィルター層とを接着す
る。表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテックス
の塗布により容易に形成することができる。ラテックス
の平均粒径は、０．０２乃至３μｍであることが好まし
く、０．０５乃至１μｍであることがさらに好ましい。
フィルター層のバインダーポリマーと親和性を有するポ
リマーの例には、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼ
ラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、
可溶性ナイロンおよび高分子ラテックスが含まれる。二
以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支
持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防
止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加してもよい。An undercoat layer containing a polymer having a glass transition temperature of -60 ° C to 60 ° C adheres the transparent support and the filter layer due to the tackiness of the polymer. Glass transition temperature 2
Polymers at 5 ° C or lower include vinyl chloride, vinylidene chloride,
It can be obtained by polymerization or copolymerization of vinyl acetate, butadiene, neoprene (registered trademark), styrene, chloroprene, acrylate, methacrylate, acrylonitrile or methyl vinyl ether. The glass transition temperature is preferably 20 ° C. or less,
The temperature is more preferably 5 ° C. or lower, further preferably 10 ° C. or lower, still more preferably 5 ° C. or lower, and most preferably 0 ° C. or lower. The undercoat layer having a rough surface adheres the transparent support and the filter layer by forming a filter layer on the rough surface. The undercoat layer having a rough surface can be easily formed by applying a polymer latex. The average particle size of the latex is preferably from 0.02 to 3 μm, more preferably from 0.05 to 1 μm.
Examples of polymers having an affinity for the binder polymer of the filter layer include acrylic resins, cellulose derivatives, gelatin, casein, starch, polyvinyl alcohol,
Includes soluble nylon and polymeric latex. Two or more undercoat layers may be provided. The undercoat layer may contain a solvent for swelling the transparent support, a matting agent, a surfactant, an antistatic agent, a coating aid and a hardener.

【００５４】（反射防止層）反射防止層の反射防止機能
としては、正反射率が３％以下であることが好ましく、
１．８％以下であることがさらに好ましい。反射防止層
を設ける場合は、低屈折率層が必須である。低屈折率層
の屈折率は、透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率
層の屈折率は、１．２０乃至１．５５であることが好ま
しく、１．３０乃至１．５５であることがさらに好まし
い。低屈折率層の厚さは、５０乃至４００ｎｍであるこ
とが好ましく、５０乃至２００ｎｍであることがさらに
好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマ
ーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−
１３０１０３号、同６−１１５０２３号、同８−３１３
７０２号、同７−１６８００４号の各公報記載）、ゾル
ゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１号、
同６−２９９０９１号、同７−１６８００３号の各公報
記載）、あるいは微粒子含む層（特公昭６０−５９２５
０号、特開平５−１３０２１号、同６−５６４７８号、
同７−９２３０６号、同９−２８８２０１号の各公報に
記載）として形成することができる。微粒子を含む層で
は、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして、低
屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む
層は、３乃至５０体積％の空隙率を有することが好まし
く、５乃至３５体積％の空隙率を有することがさらに好
ましい。(Anti-reflection layer) As an anti-reflection function of the anti-reflection layer, the regular reflectance is preferably 3% or less.
More preferably, it is 1.8% or less. When providing an antireflection layer, a low refractive index layer is essential. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the transparent support. The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.20 to 1.55, more preferably 1.30 to 1.55. The thickness of the low refractive index layer is preferably from 50 to 400 nm, more preferably from 50 to 200 nm. The low refractive index layer is a layer made of a fluorine-containing polymer having a low refractive index (Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-34526,
No. 130103, No. 6-115023, No. 8-313
702, 7-168004), and a layer obtained by a sol-gel method (JP-A-5-208811,
JP-A-6-299091 and JP-A-7-168003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-5925).
No. 0, JP-A-5-13021, JP-A-6-56478,
7-92306 and 9-288201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing the fine particles preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, more preferably 5 to 35% by volume.

【００５５】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率
層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、１．６５乃至２．４０であることが好ましく、１．
７０乃至２．２０であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、１．５０乃至１．９ ０であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ乃至１００μｍで
あることが好ましく、１０ｎｍ乃至１０μｍであること
がさらに好ましく、３０ｎｍ乃至１μｍであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であ
ることが好ましく、３％以下であることがさらに好まし
く、１％以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状（脂環式または芳香族）イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。To prevent reflection in a wide wavelength range,
It is preferable to laminate a layer having a high refractive index (middle / high refractive index layer) in addition to the low refractive index layer. The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.65 to 2.40.
More preferably, it is 70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably from 1.50 to 1.90. The thickness of the middle / high refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm, and most preferably from 30 nm to 1 μm. The haze of the middle / high refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The middle / high refractive index layer can be formed using a polymer binder having a relatively high refractive index. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. .
Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.

【００５６】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、１．８０乃至２．８０であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、
Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、ＰおよびＳが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物（例、キレート化合物）、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn,
Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, S
i, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in solvents or are themselves liquid, such as alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) combined with coordination compounds, activity The middle / high refractive index layer can be formed using an inorganic polymer.

【００５７】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能）を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３乃至
３０％のヘイズを有する。The anti-reflection layer can provide the surface with an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface and preventing a scene around the film from shifting to the film surface). For example, by forming fine irregularities on the surface of a transparent film, and forming an antireflection layer on the surface, or after forming the antireflection layer, by forming irregularities on the surface with an embossing roll, an anti-glare function is obtained. be able to.
An antireflection layer having an antiglare function generally has a haze of 3 to 30%.

【００５８】（電磁波遮蔽層）電磁波遮蔽効果を有する
層の表面抵抗は、０．１乃至５００Ω／ｍ² であること
が好ましく、０．１乃至１０Ω／ｍ² であることがさら
に好ましい。光学フィルターまたは反射防止膜に設ける
層であるため、電磁波遮蔽層は、透明であることが好ま
しい。一般に透明導電性層として知られている層を、電
磁波遮蔽層として用いることができる。透明導電性層と
しては、金属薄膜または金属酸化物薄膜が好ましく用い
られる。金属薄膜の金属としては、貴金属が好ましく、
金、銀、パラジウムまたはこれらの合金が好ましく、金
と銀との合金が特に好ましい。合金中の銀の含有率は、
６０重量％以上であることが好ましい。金属酸化物薄膜
の金属酸化物としては、ＳｎＯ₂ 、ＺｎＯ、ＩＴＯおよ
びＩｎ₂ Ｏ₃ が好ましい。金属薄膜と金属酸化物薄膜と
を積層してもよい。両者を積層すると、金属酸化物薄膜
により金属薄膜を保護（酸化防止）し、可視光の透過率
を高くすることができる。金属薄膜と積層するための金
属酸化物としては、２〜４価の金属酸化物（例、酸化ジ
ルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ケイ
素、酸化アルミニウム）が好ましい。また、金属アルコ
キサイド化合物の薄膜も、金属薄膜と積層することがで
きる。金属酸化物または金属アルコキサイド化合物の薄
膜は、金属薄膜の両側に積層することができる。金属薄
膜の両側に積層する場合、異なる種類の薄膜を用いても
よい。金属薄膜の厚さは、４乃至４０ｎｍであることが
好ましく、５乃至３５ｎｍであることがさらに好まし
く、６乃至３０ｎｍであることが最も好ましい。金属酸
化物または金属アルコキサイド化合物の薄膜の厚さは、
２０乃至３００ｎｍであることが好ましく、４０乃至１
００ｎｍであることがさらに好ましい。電磁波遮蔽層
は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマＰＶＤ法あるいは
金属または金属酸化物の掉尾粒子塗布により形成するこ
とができる。[0058] The surface resistance of the layer having the (electromagnetic wave shielding layer) electromagnetic wave shielding effect is preferably 0.1 to 500 [Omega / m ^2, more preferably in the range of 0.1 to 10 [Omega / m ^2. Since it is a layer provided on an optical filter or an antireflection film, the electromagnetic wave shielding layer is preferably transparent. A layer generally known as a transparent conductive layer can be used as the electromagnetic wave shielding layer. As the transparent conductive layer, a metal thin film or a metal oxide thin film is preferably used. As the metal of the metal thin film, a noble metal is preferable,
Gold, silver, palladium or alloys thereof are preferred, and alloys of gold and silver are particularly preferred. The silver content in the alloy is
It is preferably at least 60% by weight. As the metal oxide of the metal oxide thin film, SnO ₂ , ZnO, ITO and In ₂ O ₃ are preferable. A metal thin film and a metal oxide thin film may be stacked. When both are laminated, the metal thin film can be protected (prevented from oxidation) by the metal oxide thin film, and the visible light transmittance can be increased. As the metal oxide to be laminated with the metal thin film, a divalent to tetravalent metal oxide (eg, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide) is preferable. Also, a thin film of a metal alkoxide compound can be laminated with a metal thin film. The metal oxide or metal alkoxide compound thin film can be laminated on both sides of the metal thin film. When laminating on both sides of the metal thin film, different types of thin films may be used. The thickness of the metal thin film is preferably from 4 to 40 nm, more preferably from 5 to 35 nm, and most preferably from 6 to 30 nm. The thickness of the metal oxide or metal alkoxide compound thin film is
It is preferably 20 to 300 nm, and 40 to 1 nm.
More preferably, it is 00 nm. The electromagnetic wave shielding layer can be formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a plasma CVD method, a plasma PVD method, or a coating of particles of a metal or metal oxide.

【００５９】（赤外線遮蔽層）赤外線遮蔽層は、８００
乃至１２００ｎｍの波長の近赤外線に対して遮蔽効果を
有することが好ましい。赤外線遮蔽層は、樹脂混合物に
より形成することができる。樹脂混合物中の赤外線遮蔽
性成分としては、銅（特開平６−１１８２２８号公報記
載）、銅化合物またはリン化合物（特開昭６２−５１９
０号公報記載）、銅化合物またはチオ尿素化合物（特開
平６−７３１９７号公報記載）あるいはタングステン化
合物（米国特許３６４７７７２号明細書記載）を用いる
ことができる。赤外線遮蔽層を設ける代わりに、樹脂混
合物を透明支持体に添加してもよい。なお、電磁波遮蔽
層として説明した銀薄膜は、赤外線遮蔽効果も有する。(Infrared ray shielding layer)
It preferably has a shielding effect against near infrared rays having a wavelength of from about 1200 nm to 1200 nm. The infrared shielding layer can be formed of a resin mixture. Examples of the infrared shielding component in the resin mixture include copper (described in JP-A-6-118228), copper compounds and phosphorus compounds (JP-A-62-519).
No. 0), a copper compound or a thiourea compound (described in JP-A-6-73197) or a tungsten compound (described in U.S. Pat. No. 3,647,772). Instead of providing the infrared shielding layer, a resin mixture may be added to the transparent support. Note that the silver thin film described as the electromagnetic wave shielding layer also has an infrared shielding effect.

【００６０】（その他の層）光学フィルターには、ハー
ドコート層、潤滑層、防汚層、帯電防止層、紫外線吸収
層あるいは中間層を設けることもできる。ハードコート
層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハ
ードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系
のポリマー、オリゴマーまたはモノマー（例、紫外線硬
化型樹脂）を用いて形成することができる。シリカ系材
料からハードコート層を形成することもできる。光学フ
ィルターの最表面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層
は、反射防止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善す
る機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン
（例、シリコンオイル）、天然ワックス、石油ワック
ス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導
体を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、２
乃至２０ｎｍであることが好ましい。防汚層は、含フッ
素ポリマーを用いて形成することができる。防汚層の厚
さは、２乃至１００ｎｍであることが好ましく、５乃至
３０ｎｍであることがさらに好ましい。(Other Layers) The optical filter may be provided with a hard coat layer, a lubricating layer, an antifouling layer, an antistatic layer, an ultraviolet absorbing layer or an intermediate layer. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer can be formed using an acrylic, urethane, or epoxy polymer, oligomer, or monomer (eg, an ultraviolet curable resin). The hard coat layer can also be formed from a silica-based material. A lubricating layer may be formed on the outermost surface of the optical filter. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection film and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubrication layer is 2
It is preferably from 20 to 20 nm. The antifouling layer can be formed using a fluorine-containing polymer. The thickness of the antifouling layer is preferably from 2 to 100 nm, more preferably from 5 to 30 nm.

【００６１】反射防止層（中屈折率層、高屈折率層、低
屈折率層）、フィルター層、下塗り層、ハードコート
層、潤滑層、その他の層は、一般的な塗布方法により形
成することができる。塗布方法の例には、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法およびホッパーを使用するエクストルージョンコート
法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）が含まれ
る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時
塗布法については、米国特許２７６１７９１号、同２９
４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８
号の各明細書および原崎勇次著「コーティング工学」２
５３頁（１９７３年朝倉書店発行）に記載がある。The antireflection layer (medium-refractive-index layer, high-refractive-index layer, low-refractive-index layer), filter layer, undercoat layer, hard coat layer, lubricating layer, and other layers are formed by a general coating method. Can be. Examples of the coating method include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an extrusion coating method using a hopper (described in US Pat. No. 2,681,294). Is included. Two or more layers may be formed by simultaneous coating. The simultaneous coating method is described in U.S. Pat.
No. 41898, No. 3508947, No. 3526528
Issue specifications and Yuji Harazaki, "Coating Engineering" 2
It is described on page 53 (published by Asakura Shoten in 1973).

【００６２】（光学フィルターの用途）光学フィルター
は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像
表示装置に適用する。反射防止層を設ける場合は、低屈
折率層が設けられていない側の面が画像表示装置の画像
表示面と対向するように配置する。本発明の光学フィル
ターは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の反射
防止フィルターとして使用すると、特に顕著な効果が得
られる。プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、ガ
ス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料
および蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガ
ラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス
基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板に
は、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組
み立てて、その間にガスを封入する。プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズ
マディスプレイパネルについては、特開平５−２０５６
４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。(Use of Optical Filter) The optical filter is applied to an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). . When the antireflection layer is provided, the antireflection layer is arranged such that the surface on which the low refractive index layer is not provided faces the image display surface of the image display device. When the optical filter of the present invention is used as an antireflection filter of a plasma display panel (PDP), a particularly remarkable effect is obtained. A plasma display panel (PDP) includes a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. Regarding the plasma display panel, Japanese Patent Laid-Open No.
No. 43 and No. 9-306366.

【００６３】[0063]

【実施例】［実施例１］ （下塗り層の形成）厚さ１７５μｍの透明なポリエチレ
ンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理した後、
片面にスチレン−ブタジエンコポリマーからなるラテッ
クスを厚さ１３０ｎｍとなるよう塗布し、下塗り層を形
成した。[Example 1] (Formation of undercoat layer) After corona treatment on both sides of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 175 µm,
One side was coated with a latex made of a styrene-butadiene copolymer to a thickness of 130 nm to form an undercoat layer.

【００６４】（第２下塗り層の形成）下塗り層の上に、
酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、厚
さ５０ｎｍとなるよう塗布し、第２下塗り層を形成し
た。(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer,
A gelatin aqueous solution containing acetic acid and glutaraldehyde was applied to a thickness of 50 nm to form a second undercoat layer.

【００６５】（低屈折率層の形成）反応性フッ素ポリマ
ー（ＪＮ−７２１９、日本合成ゴム（株）製）２．５０
ｇにｔ−ブタノール１．３ｇを加え、室温で１０分間撹
拌し、孔径１μｍのポリプロピレンフィルターで濾過し
た。得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の下塗
り面とは反対側の面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚
が１１０ｎｍとなるように塗布し、１２０℃で３０分間
乾燥して硬化させ低屈折率層を形成した。(Formation of Low Refractive Index Layer) Reactive Fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 2.50
1.3 g of t-butanol was added to the resulting mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm. The obtained coating solution for a low refractive index layer is applied to the surface opposite to the undercoat surface of the transparent support using a bar coater so that the dry film thickness becomes 110 nm, and dried at 120 ° C. for 30 minutes. And cured to form a low refractive index layer.

【００６６】（フイルター層の形成）ゼラチンの１０重
量％水溶液１８０ｇに、染料（II−１）０．４５ｇと染
料（VII-６）０．１５ｇとを溶解した。溶液を４０℃で
３０分間攪拌した後、孔径２μｍのポリプロピレンフィ
ルターで濾過し、フィルター層塗布液を調製した。フィ
ルター層用塗布液を、第２下塗り層の上に、乾燥膜厚が
３．５μｍとなるように塗布し、１２０℃で１０分間乾
燥してフィルター層を形成し、光学フィルターを作製し
た。５００乃至５５０ｎｍの波長領域における吸収極大
は５３４ｎｍ、５６０乃至６２０ｎｍの波長領域おける
吸収極大は、５６１ｎｍ、５００乃至５５０ｎｍの波長
領域の吸収極大におけるフィルター層の透過率は、６５
％、そして、５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極
大におけるフィルター層の透過率は、１２％であった。(Formation of Filter Layer) In 180 g of a 10% by weight aqueous solution of gelatin, 0.45 g of dye (II-1) and 0.15 g of dye (VII-6) were dissolved. After stirring the solution at 40 ° C. for 30 minutes, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 2 μm to prepare a filter layer coating solution. The coating liquid for a filter layer was applied on the second undercoat layer so that the dry film thickness became 3.5 μm, and dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a filter layer, thereby producing an optical filter. The absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 534 nm, the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is 561 nm, and the transmittance of the filter layer in the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 65.
%, And the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm was 12%.

【００６７】［実施例２］染料（II−１）に代えて、染
料（Ｉ−１）を同量用いた以外は、実施例１と同様にし
て光学フィルターを作製した。５００乃至５５０ｎｍの
波長領域における吸収極大は５３４ｎｍ、５６０乃至６
２０ｎｍの波長領域おける吸収極大は、５９０ｎｍ、５
００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィ
ルター層の透過率は、６５％、そして、５６０乃至６２
０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透
過率は、１６％であった。Example 2 An optical filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the dye (I-1) was used in the same amount instead of the dye (II-1). The absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm is 534 nm, 560 to 6
The absorption maximum in the wavelength region of 20 nm is 590 nm, 5
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 00 to 550 nm is 65%, and 560 to 62.
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 0 nm was 16%.

【００６８】［実施例３］染料（II−１）に代えて、染
料（IV−３）を同量用いた以外は、実施例１と同様にし
て光学フィルターを作製した。５００乃至５５０ｎｍの
波長領域における吸収極大は５３４ｎｍ、５６０乃至６
２０ｎｍの波長領域おける吸収極大は、５３７ｎｍ、５
００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィ
ルター層の透過率は、６４％、そして、５６０乃至６２
０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透
過率は、１３％であった。Example 3 An optical filter was produced in the same manner as in Example 1, except that the dye (IV-3) was used in the same amount instead of the dye (II-1). The absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm is 534 nm, 560 to 6
The absorption maximum in the wavelength region of 20 nm is 537 nm, 5
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength range of 00 to 550 nm is 64%, and 560 to 62.
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 0 nm was 13%.

【００６９】［実施例４］染料（II−１）に代えて、染
料（Ｉ−８）を同量用いた以外は、実施例１と同様にし
て光学フィルターを作製した。５００乃至５５０ｎｍの
波長領域における吸収極大は５３４ｎｍ、５６０乃至６
２０ｎｍの波長領域おける吸収極大は、５８１ｎｍ、５
００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィ
ルター層の透過率は、６５％、そして、５６０乃至６２
０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透
過率は、１５％であった。Example 4 An optical filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the dye (I-8) was used in the same amount instead of the dye (II-1). The absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm is 534 nm, 560 to 6
The absorption maximum in the wavelength region of 20 nm is 581 nm, 5
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 00 to 550 nm is 65%, and 560 to 62.
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 0 nm was 15%.

【００７０】［実施例５］染料（VII-６）に代えて、染
料（VII-１）を同量用いた以外は、実施例１と同様にし
て光学フィルターを作製した。５００乃至５５０ｎｍの
波長領域における吸収極大は５３４ｎｍ、５６０乃至６
２０ｎｍの波長領域おける吸収極大は、５６１ｎｍ、５
００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィ
ルター層の透過率は、７５％、そして、５６０乃至６２
０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透
過率は、１２％であった。Example 5 An optical filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the dye (VII-1) was used in the same amount instead of the dye (VII-6). The absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm is 534 nm, 560 to 6
The absorption maximum in the wavelength region of 20 nm is 561 nm, 5
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 00 to 550 nm is 75%, and 560 to 62.
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 0 nm was 12%.

【００７１】［実施例６］染料（VII-６）に代えて、染
料（VII-５）を同量用いた以外は、実施例１と同様にし
て光学フィルターを作製した。５００乃至５５０ｎｍの
波長領域における吸収極大は５３２ｎｍ、５６０乃至６
２０ｎｍの波長領域おける吸収極大は、５６２ｎｍ、５
００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィ
ルター層の透過率は、８０％、そして、５６０乃至６２
０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透
過率は、１２％であった。Example 6 An optical filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the dye (VII-5) was used in the same amount instead of the dye (VII-6). The absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm is 532 nm, 560 to 6
The absorption maximum in the wavelength region of 20 nm is 562 nm, 5
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 00 to 550 nm is 80%, and 560 to 62.
The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 0 nm was 12%.

【００７２】［比較例１］染料（VII-６）を添加しなか
った以外は、実施例１と同様にして光学フィルターを作
成した。Comparative Example 1 An optical filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the dye (VII-6) was not added.

【００７３】［比較例２］染料（VII-６）を添加しなか
った以外は、実施例１と同様にして光学フィルターを作
成した。Comparative Example 2 An optical filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the dye (VII-6) was not added.

【００７４】［比較例３］フィルター層を設けなかった
以外は、実施例１と同様にして光学フィルターを作成し
た。Comparative Example 3 An optical filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that no filter layer was provided.

【００７５】（光学フィルターの評価）フラズマディス
プレイパネル（ＰＤＳ４２０２Ｊ−Ｈ、富士通（株）
製）の前面板の裏側に、低屈折率層がディスプレイ側と
なるように、実施例および比較例で作製した光学フィル
ターを粘着剤で貼り付けた。各サンプルについて、表示
コントラスト、白色光および赤色光を評価した。さら
に、光学フィルターにキセノンランプで照度が１０万ル
クスになるように、フィルター層とは反対側の面から光
を照射し、１００時間照射後の染料の残存量を５３０ｎ
ｍと５９４ｎｍの波長で測定した。染料残存量は、下記
式で定義される。 染料残存量＝１００×（１００−照射後の吸収極大の透
過率）／（１００−照射前の吸収極大の透過率） 以上の結果を第１表に示す。(Evaluation of Optical Filter) Frazma Display Panel (PDS4202J-H, Fujitsu Limited)
The optical filters produced in Examples and Comparative Examples were adhered to the back side of the front plate of Example 1) with an adhesive so that the low refractive index layer was on the display side. For each sample, the display contrast, white light and red light were evaluated. Further, the optical filter is irradiated with light from the side opposite to the filter layer so that the illuminance becomes 100,000 lux with a xenon lamp, and the residual amount of the dye after irradiation for 100 hours is 530 n.
m and a wavelength of 594 nm. The remaining amount of the dye is defined by the following formula. Dye residual amount = 100 × (100−Transmittance of absorption maximum after irradiation) / (100−Transmittance of absorption maximum before irradiation) The above results are shown in Table 1.

【００７６】[0076]

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── 光学フィ 長波長 短波長 コント 白色 赤色 耐光性（ｎｍ） ルター 側染料 側染料 ラスト 光 光 ５９４ ５３０ ──────────────────────────────────── 実施例１（II−１）（VII-６）１５：１ 良好 良好 ８９％ ９０％ 実施例２（Ｉ−１）（VII-６）１５：１ 良好 良好 ９２％ ９０％ 実施例３（IV−３）（VII-６）１５：１ 良好 良好 ９１％ ９０％ 実施例４（Ｉ−８）（VII-６）１５：１ 良好 良好 ９０％ ９０％ 実施例５（II−１）（VII-１）１５：１ 良好 良好 ８９％ ９７％ 実施例６（II−１）（VII-５）１５：１ 良好 良好 ８９％ ９７％ 比較例１（II−１） なし １４：１ 不良＊ 良好 ８７％ − 比較例２ なし （VII-６）１３：１ 良好 不良** − ８８％ 比較例３ なし なし １０：１ 不良＊ 不良** − − ──────────────────────────────────── （註） 長波長側染料：５６０乃至６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料 短波長側染料：５００乃至５５０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料 良好： 白色光または赤色光について改善が認められる 不良＊：緑色を帯びた白 不良**：橙色を帯びた赤[Table 1] Table 1 光学 Optical filter Long wavelength Short wavelength controller White Red Lightfastness (nm) Luther Side dye Side dye Last light Light 594 530 ───────────────────────────────── ─── Example 1 (II-1) (VII-6) 15: 1 good good 89% 90% Example 2 (I-1) (VII-6) 15: 1 good good 92% 90% Example 3 (IV-3) (VII-6) 15: 1 good good 91% 90% Example 4 (I-8) (VII-6) 15: 1 good good 90% 90% Example 5 (II-1) ( VII-1) 15: 1 good good 89% 97% Example 6 (II-1) (VII-5) 15: 1 good good 89% 97% Comparative Example 1 (II-1) none 14: 1 bad * good 87%-Comparative Example 2 (VII-6) 13: 1 good bad **-88% Comparative Example 3 None None 10: 1 defective * defective **--──────────────────── ──────────────── (Note) Long wavelength side dye: Dye having absorption maximum in wavelength region of 560 to 620 nm Short wavelength side dye: Absorption maximum in wavelength region of 500 to 550 nm Good dye: Improvement in white light or red light is observed. Poor *: Greenish white. Poor **: Orangeish red.

【００７７】［実施例７］ （下塗り層の形成）厚さ８０μｍの透明なトリアセチル
セルロースフイルムの片面に、メタノールとアセトンに
分散したゼラチンを厚さ２００ｎｍとなるよう塗布、乾
燥して、下塗り層を形成した。Example 7 (Formation of Undercoat Layer) On one side of a transparent triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, gelatin dispersed in methanol and acetone was applied to a thickness of 200 nm and dried, and the undercoat layer was dried. Was formed.

【００７８】（ハードコート層の形成）２５重量部のジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）、２５重量部のウレタンアクリレー
トオリゴマー（ＵＶ−６３００Ｂ、日本合成化学工業
（株）製）、２重量部の光重合開始剤（イルガキュアー
９０７、チバガイギー社製）および０．５重量部の増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を、５
０重量部のメチルエチルケトンに溶解した。得られた塗
布液を、透明支持体の下塗り層とは反対側の面に、バー
コーターを用いて塗布、乾燥後、紫外線を照射してハー
ドコート層（層厚：６μｍ）を形成した。(Formation of Hard Coat Layer) 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,
Nippon Kayaku Co., Ltd.), 25 parts by weight of a urethane acrylate oligomer (UV-6300B, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and 0 5 parts by weight of a sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
It was dissolved in 0 parts by weight of methyl ethyl ketone. The obtained coating solution was applied to the surface opposite to the undercoat layer of the transparent support using a bar coater, dried, and then irradiated with ultraviolet rays to form a hard coat layer (layer thickness: 6 μm).

【００７９】（低屈折率層の形成）ハードコート層の上
に、実施例１と同様に、低屈折率層用塗布液を用いて低
屈折率層を形成した。(Formation of Low Refractive Index Layer) A low refractive index layer was formed on the hard coat layer in the same manner as in Example 1 by using a coating liquid for a low refractive index layer.

【００８０】（フイルター層の形成）実施例１で用いた
フィルター層用塗布液を、下塗り層の上に、染料の塗布
量が３０ｍｇ／ｍ² となるように塗布し、１２０℃で１
０分間乾燥してフィルター層を形成した。作製した光学
フィルターについて、吸収極大と吸収極大における透過
率を測定したところ、実施例１で作製した光学フィルタ
ーと同じ結果が得られた。(Formation of Filter Layer) The coating solution for the filter layer used in Example 1 was applied onto the undercoat layer so that the coating amount of the dye was 30 mg / m ^2, and 1 hour at 120 ° C.
After drying for 0 minutes, a filter layer was formed. The absorption maximum and the transmittance at the absorption maximum of the manufactured optical filter were measured, and the same result as the optical filter manufactured in Example 1 was obtained.

【００８１】［実施例８］ （下塗り層の形成）実施例１と同様に、透明支持体の片
面に下塗り層（ａ）および第２下塗り層（ａ）を形成し
た。透明支持体の下塗り層が設けられていない側の面
に、塩化ビニリデン−アクリル酸−メチルアクリレート
コポリマーからなるラテックスを厚さ１２０ｎｍとなる
よう塗布し、下塗り層（ｂ）を形成した。[Example 8] (Formation of undercoat layer) In the same manner as in Example 1, an undercoat layer (a) and a second undercoat layer (a) were formed on one surface of the transparent support. A latex comprising vinylidene chloride-acrylic acid-methyl acrylate copolymer was applied to a thickness of 120 nm on the side of the transparent support on which the undercoat layer was not provided, to form an undercoat layer (b).

【００８２】（第２下塗り層の形成）下塗り層（ｂ）の
上に、アクリル系ラテックス（ＨＡ１６、日本アクリル
（株）製）を厚さ５０ｎｍとなるよう塗布し、第２下塗
り層（ｂ）を形成した。(Formation of Second Undercoat Layer) On the undercoat layer (b), an acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) was applied to a thickness of 50 nm to form a second undercoat layer (b). Was formed.

【００８３】（フイルター層の形成）実施例１で用いた
フィルター層用塗布液を、第２下塗り層（ｂ）の上に、
染料の塗布量が３０ｍｇ／ｍ² となるように塗布し、１
２０℃で１０分間乾燥してフィルター層を形成した。(Formation of Filter Layer) The coating solution for the filter layer used in Example 1 was applied onto the second undercoat layer (b).
Apply so that the coating amount of the dye is 30 mg / m ² ,
After drying at 20 ° C. for 10 minutes, a filter layer was formed.

【００８４】（ハードコート層の形成）フィルター層の
上に、実施例７と同様にして、ハードコート層を形成し
た。(Formation of Hard Coat Layer) A hard coat layer was formed on the filter layer in the same manner as in Example 7.

【００８５】（低屈折率層の形成）ハードコート層の上
に、実施例１と同様に、低屈折率層用塗布液を用いて低
屈折率層を形成し、光学フィルターを作製した。作製し
た光学フィルターについて、吸収極大と吸収極大におけ
る透過率を測定したところ、実施例１で作製した光学フ
ィルターと同じ結果が得られた。(Formation of Low Refractive Index Layer) A low refractive index layer was formed on the hard coat layer in the same manner as in Example 1 by using a coating solution for a low refractive index layer, thereby producing an optical filter. The absorption maximum and the transmittance at the absorption maximum of the manufactured optical filter were measured, and the same result as the optical filter manufactured in Example 1 was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】フィルター層を反射防止層とは透明支持体の反
対の側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図で
ある。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer is provided on a side opposite to a transparent support from an antireflection layer.

【図２】フィルター層と反射防止層とを透明支持体の同
じ側に設けた反射防止膜の層構成を示す断面模式図であ
る。 １ 透明支持体 ２ フィルター層 ３ 低屈折率層 ４ ハードコート層 ５ 高屈折率層 ６ 中屈折率層FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection film in which a filter layer and an antireflection layer are provided on the same side of a transparent support. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent support 2 Filter layer 3 Low refractive index layer 4 Hard coat layer 5 High refractive index layer 6 Medium refractive index layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H048 CA04 CA09 CA15 CA19 CA29 2H091 FA01X FA01Y FA01Z FA31X FA37X FB06 FB08 FB12 FB13 FC01 FC05 FC25 FD06 FD24 GA16 KA01 LA08 LA15 2K009 AA05 AA15 CC02 CC03 CC23 CC26 CC34 DD02 DD03 DD04 DD07 DD08 4H056 CA01 CB03 CC06 CC08 CE01 CE02 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. ⁷ Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/1335 500 G02B 1/10 A F-term (Reference) 2H048 CA04 CA09 CA15 CA19 CA29 2H091 FA01X FA01Y FA01Z FA31X FA37X FB06 FB08 FB12 FB13 FC01 FC05 FC25 FD06 FD24 GA16 KA01 LA08 LA15 2K009 AA05 AA15 CC02 CC03 CC23 CC26 CC34 DD02 DD03 DD04 DD07 DD08 4H056 CA01 CB03 CC06 CC08 CE01 CE02

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 透明支持体上に染料およびポリマーバイ
ンダーを含むフィルター層を有する光学フィルターであ
って、フィルター層が５００乃至５５０ｎｍの波長領域
に吸収極大を有する染料と５６０乃至６２０ｎｍの波長
領域に吸収極大を有する染料とを含み、５００乃至５５
０ｎｍの波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透
過率が５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大にお
けるフィルター層の透過率よりも大きく、そして５６０
乃至６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料が下
記式（Ｉ）、（II）、（III)、（IV）、（Ｖ）または
（VI）で表されることを特徴とする光学フィルター。 【化１】 式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹²およ
びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ、ニトロ、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−Ｏ
−Ｒ²¹、−ＣＯ−Ｒ²²、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ²³、−Ｏ−ＣＯ
−Ｒ²⁴、−ＮＲ ²⁵Ｒ²⁶、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁷、−ＣＯ−
ＮＲ²⁸Ｒ²⁹、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ³⁰Ｒ³¹、−ＮＨ−ＣＯ
−Ｏ−Ｒ³²、−Ｓ−Ｒ³³、−ＳＯ₂ −Ｒ³⁴、−Ｏ−ＳＯ
₂ −Ｒ³⁵、−ＮＨ−ＳＯ₂ −Ｒ³⁶または−ＳＯ₂ −ＮＲ
³⁷Ｒ³⁸であって、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、
Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ
³⁴、Ｒ ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷およびＲ³⁸は、それぞれ独立に、
水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基であり；
Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立
に、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基であ
り；ただし、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ
⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²およびＲ¹³の少なく
とも二つが結合して５員環または６員環を形成してもよ
く；Ｍは、プロトンまたはカチオンであり；Ｘは、アニ
オンまたはカチオンであり；そして、ｎは、電荷バラン
スを保つために必要なＸの数である。1. A dye and a polymer binder on a transparent support.
Optical filter having a filter layer containing
Thus, the filter layer has a wavelength region of 500 to 550 nm.
Dye having absorption maximum and wavelength of 560 to 620 nm
A dye having an absorption maximum in the region,
The transmission of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 0 nm
The excess ratio is in the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm.
Greater than the transmittance of the filter layer, and 560
Dyes having an absorption maximum in the wavelength range of
Formula (I), (II), (III), (IV), (V) or
An optical filter represented by (VI). Embedded imageWhere R¹, R^Two, R^Five, R⁶, R⁸, R⁹, R¹²And
And R¹³Is independently a hydrogen atom, a halogen atom,
Cyano, nitro, aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group, -O
-R^{twenty one}, -CO-R^{twenty two}, -CO-OR^{twenty three}, -O-CO
-R^{twenty four}, -NR ^{twenty five}R²⁶, -NH-CO-R²⁷, -CO-
NR²⁸R²⁹, -NH-CO-NR³⁰R³¹, -NH-CO
-OR³², -SR³³, -SO_Two-R³⁴, -O-SO
_Two-R³⁵, -NH-SO_Two-R³⁶Or -SO_Two-NR
³⁷R³⁸And R^{twenty one}, R^{twenty two}, R ^{twenty three}, R^{twenty four}, R^{twenty five},
R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³, R
³⁴, R ³⁵, R³⁶, R³⁷And R³⁸Are, independently of each other,
A hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group;
R^Three, R^Four, R⁷, R^TenAnd R¹¹Are independent
Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group.
R;¹, R^Two, R^Three, R^Four, R^Five, R⁶, R
⁷, R⁸, R⁹, R^Ten, R¹¹, R¹²And R¹³Less of
And two may combine to form a 5- or 6-membered ring.
M is a proton or a cation; X is
Is on or a cation; and n is a charge balun
Is the number of Xs required to keep the 【請求項２】 プラズマディスプレイパネル用である請
求項１に記載の光学フィルター。2. The optical filter according to claim 1, which is used for a plasma display panel. 【請求項３】 ５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収
極大におけるフィルター層の透過率が５０乃至９０％で
あり、かつ５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大
におけるフィルター層の透過率が０．０１乃至８０％で
ある請求項１に記載の光学フィルター。3. The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 50 to 90%, and the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is 0.01 to 80. %. 【請求項４】 染料およびポリマーバインダーを含むフ
ィルター層、透明支持体、および透明支持体の屈折率よ
りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
れている反射防止膜であって、フィルター層が５００乃
至５５０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料と５６
０乃至６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料と
を含み、５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大に
おけるフィルター層の透過率が５６０乃至６２０ｎｍの
波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透過率より
も大きく、そして５６０乃至６２０ｎｍの波長領域に吸
収極大を有する染料が下記式（Ｉ）、（II）、（III)、
（IV）、（Ｖ）または（VI）で表されることを特徴とす
る反射防止膜。 【化２】 式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹²およ
びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ、ニトロ、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−Ｏ
−Ｒ²¹、−ＣＯ−Ｒ²²、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ²³、−Ｏ−ＣＯ
−Ｒ²⁴、−ＮＲ ²⁵Ｒ²⁶、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁷、−ＣＯ−
ＮＲ²⁸Ｒ²⁹、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ³⁰Ｒ³¹、−ＮＨ−ＣＯ
−Ｏ−Ｒ³²、−Ｓ−Ｒ³³、−ＳＯ₂ −Ｒ³⁴、−Ｏ−ＳＯ
₂ −Ｒ³⁵、−ＮＨ−ＳＯ₂ −Ｒ³⁶または−ＳＯ₂ −ＮＲ
³⁷Ｒ³⁸であって、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、
Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ
³⁴、Ｒ ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷およびＲ³⁸は、それぞれ独立に、
水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基であり；
Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立
に、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基であ
り；ただし、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ
⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²およびＲ¹³の少なく
とも二つが結合して５員環または６員環を形成してもよ
く；Ｍは、プロトンまたはカチオンであり；Ｘは、アニ
オンまたはカチオンであり；そして、ｎは、電荷バラン
スを保つために必要なＸの数である。4. A dye containing a dye and a polymer binder.
Filter layer, the transparent support, and the refractive index of the transparent support.
Low refractive index layers having lower refractive indices are stacked in this order.
Anti-reflection coating, wherein the filter layer is 500
A dye having an absorption maximum in the wavelength region of
A dye having an absorption maximum in a wavelength range of 0 to 620 nm;
Including the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm.
The filter layer has a transmittance of 560 to 620 nm
From the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region
And absorbs light in the wavelength range of 560 to 620 nm.
The dye having an absorption maximum is represented by the following formulas (I), (II), (III),
(IV), (V) or (VI)
Anti-reflective coating. Embedded imageWhere R¹, R^Two, R^Five, R⁶, R⁸, R⁹, R¹²And
And R¹³Is independently a hydrogen atom, a halogen atom,
Cyano, nitro, aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group, -O
-R^{twenty one}, -CO-R^{twenty two}, -CO-OR^{twenty three}, -O-CO
-R^{twenty four}, -NR ^{twenty five}R²⁶, -NH-CO-R²⁷, -CO-
NR²⁸R²⁹, -NH-CO-NR³⁰R³¹, -NH-CO
-OR³², -SR³³, -SO_Two-R³⁴, -O-SO
_Two-R³⁵, -NH-SO_Two-R³⁶Or -SO_Two-NR
³⁷R³⁸And R^{twenty one}, R^{twenty two}, R ^{twenty three}, R^{twenty four}, R^{twenty five},
R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³, R
³⁴, R ³⁵, R³⁶, R³⁷And R³⁸Are, independently of each other,
A hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group;
R^Three, R^Four, R⁷, R^TenAnd R¹¹Are independent
Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group.
R;¹, R^Two, R^Three, R^Four, R^Five, R⁶, R
⁷, R⁸, R⁹, R^Ten, R¹¹, R¹²And R¹³Less of
And two may combine to form a 5- or 6-membered ring.
M is a proton or a cation; X is
Is on or a cation; and n is a charge balun
Is the number of Xs required to keep the 【請求項５】 プラズマディスプレイパネル用である請
求項４に記載の反射防止膜。5. The antireflection film according to claim 4, which is used for a plasma display panel. 【請求項６】 ５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収
極大におけるフィルター層の透過率が５０乃至９０％で
あり、かつ５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大
におけるフィルター層の透過率が０．０１乃至８０％で
ある請求項４に記載の反射防止膜。6. The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 50 to 90%, and the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is 0.01 to 80. %. 【請求項７】 透明支持体、染料およびポリマーバイン
ダーを含むフィルター層、および透明支持体の屈折率よ
りも低い屈折率を有する低屈折率層が、この順に積層さ
れている反射防止膜であって、フィルター層が５００乃
至５５０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料と５６
０乃至６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する染料と
を含み、５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収極大に
おけるフィルター層の透過率が５６０乃至６２０ｎｍの
波長領域の吸収極大におけるフィルター層の透過率より
も大きく、そして５６０乃至６２０ｎｍの波長領域に吸
収極大を有する染料が下記式（Ｉ）、（II）、（III)、
（IV）、（Ｖ）または（VI）で表されることを特徴とす
る反射防止膜。 【化３】 式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹²およ
びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ、ニトロ、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−Ｏ
−Ｒ²¹、−ＣＯ−Ｒ²²、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ²³、−Ｏ−ＣＯ
−Ｒ²⁴、−ＮＲ ²⁵Ｒ²⁶、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ²⁷、−ＣＯ−
ＮＲ²⁸Ｒ²⁹、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ³⁰Ｒ³¹、−ＮＨ−ＣＯ
−Ｏ−Ｒ³²、−Ｓ−Ｒ³³、−ＳＯ₂ −Ｒ³⁴、−Ｏ−ＳＯ
₂ −Ｒ³⁵、−ＮＨ−ＳＯ₂ −Ｒ³⁶または−ＳＯ₂ −ＮＲ
³⁷Ｒ³⁸であって、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、
Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、Ｒ²⁹、Ｒ³⁰、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ
³⁴、Ｒ ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷およびＲ³⁸は、それぞれ独立に、
水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基であり；
Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立
に、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基であ
り；ただし、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ
⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²およびＲ¹³の少なく
とも二つが結合して５員環または６員環を形成してもよ
く；Ｍは、プロトンまたはカチオンであり；Ｘは、アニ
オンまたはカチオンであり；そして、ｎは、電荷バラン
スを保つために必要なＸの数である。7. Transparent support, dye and polymer binder
The refractive index of the filter layer containing the
Low refractive index layers having lower refractive indices are stacked in this order.
Anti-reflection coating, wherein the filter layer is 500
A dye having an absorption maximum in the wavelength region of
A dye having an absorption maximum in a wavelength range of 0 to 620 nm;
Including the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm.
The filter layer has a transmittance of 560 to 620 nm
From the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region
And absorbs light in the wavelength range of 560 to 620 nm.
The dye having an absorption maximum is represented by the following formulas (I), (II), (III),
(IV), (V) or (VI)
Anti-reflective coating. Embedded imageWhere R¹, R^Two, R^Five, R⁶, R⁸, R⁹, R¹²And
And R¹³Is independently a hydrogen atom, a halogen atom,
Cyano, nitro, aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group, -O
-R^{twenty one}, -CO-R^{twenty two}, -CO-OR^{twenty three}, -O-CO
-R^{twenty four}, -NR ^{twenty five}R²⁶, -NH-CO-R²⁷, -CO-
NR²⁸R²⁹, -NH-CO-NR³⁰R³¹, -NH-CO
-OR³², -SR³³, -SO_Two-R³⁴, -O-SO
_Two-R³⁵, -NH-SO_Two-R³⁶Or -SO_Two-NR
³⁷R³⁸And R^{twenty one}, R^{twenty two}, R ^{twenty three}, R^{twenty four}, R^{twenty five},
R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰, R³¹, R³², R³³, R
³⁴, R ³⁵, R³⁶, R³⁷And R³⁸Are, independently of each other,
A hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group;
R^Three, R^Four, R⁷, R^TenAnd R¹¹Are independent
Represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group.
R;¹, R^Two, R^Three, R^Four, R^Five, R⁶, R
⁷, R⁸, R⁹, R^Ten, R¹¹, R¹²And R¹³Less of
And two may combine to form a 5- or 6-membered ring.
M is a proton or a cation; X is
Is on or a cation; and n is a charge balun
Is the number of Xs required to keep the 【請求項８】 プラズマディスプレイパネル用である請
求項７に記載の反射防止膜。8. The antireflection film according to claim 7, which is used for a plasma display panel. 【請求項９】 ５００乃至５５０ｎｍの波長領域の吸収
極大におけるフィルター層の透過率が５０乃至９０％で
あり、かつ５６０乃至６２０ｎｍの波長領域の吸収極大
におけるフィルター層の透過率が０．０１乃至８０％で
ある請求項７に記載の反射防止膜。9. The transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 500 to 550 nm is 50 to 90%, and the transmittance of the filter layer at the absorption maximum in the wavelength region of 560 to 620 nm is 0.01 to 80. %.