JP2000338379A - Optical element holding mechanism, exposure device and optical device provided with the same - Google Patents

Optical element holding mechanism, exposure device and optical device provided with the same

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JP2000338379A
JP2000338379A JP11145692A JP14569299A JP2000338379A JP 2000338379 A JP2000338379 A JP 2000338379A JP 11145692 A JP11145692 A JP 11145692A JP 14569299 A JP14569299 A JP 14569299A JP 2000338379 A JP2000338379 A JP 2000338379A
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holding
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fixing
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Mitsuo Ishikawa
光男 石川
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical element holding mechanism capable of restraining the deformation of an optical element or the like and further enhancing accuracy. SOLUTION: This optical element holding mechanism is constituted so that the optical element of a mirror 13 or the like are fixed to an exposure device through a holding block 14, and the block 14 is constituted so that a groove 17 is formed between a fixing part 14a fixing the block 14 to the exposure device and a holding part 14b holding the mirror 13. The groove 17 is desirably constituted so that the groove 17 interrupts a direction connecting the bolt hole 15 of the part 14a and the part 14b. A restraining part restraining the optical element at least in a two-dimensional direction can be formed on a holding metal fitting for holding the optical element to the holding block.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体素子
や液晶表示素子等の回路デバイスを製造するためリソグ
ラフィ工程で用いられる露光装置等に用いて好適な光学
素子保持機構およびそれを備えた露光装置ならびに光学
装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical element holding mechanism suitable for use in an exposure apparatus used in a lithography process for manufacturing a circuit device such as a semiconductor element or a liquid crystal display element, and an exposure apparatus having the same. And an optical device.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体素子等を製造するため
のフォトリソグラフィ工程では、マスク（又はレチク
ル）に形成されたパターンを投影光学系を介してウエハ
等の感光基板上に投影露光する投影露光装置が使用され
ている。この投影露光装置としては、ステップ・アンド
・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッ
パ）等の静止露光型やステップ・アンド・スキャン、あ
るいはスリット・スキャン等の走査露光型の露光装置が
用いられている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a photolithography process for manufacturing a semiconductor element or the like, a projection exposure for projecting and exposing a pattern formed on a mask (or reticle) onto a photosensitive substrate such as a wafer via a projection optical system. The device is being used. As this projection exposure apparatus, a static exposure type exposure apparatus such as a step-and-repeat type reduction projection exposure apparatus (so-called stepper) or a scanning exposure type exposure apparatus such as a step-and-scan or slit scan is used. I have.

【０００３】この種の装置では、露光光の光路上にレン
ズ、ミラー、ガラス等、多数の光学素子が配置されてい
る。また、露光光の光路上だけではなく、各部のアライ
メントを行うための機構等にも、同様に光学素子が配置
されている。In this type of apparatus, many optical elements such as lenses, mirrors, and glass are arranged on the optical path of exposure light. Optical elements are similarly arranged not only on the optical path of the exposure light but also on a mechanism for performing alignment of each part.

【０００４】例えば図１１に示すように、ミラー１等の
光学素子は、保持ブロック２を介して露光装置３の各部
に固定されており、このとき、保持ブロック２の露光装
置３への固定は、複数箇所に形成されたボルト孔４にボ
ルトが締結されることによって行われている。For example, as shown in FIG. 11, an optical element such as a mirror 1 is fixed to each part of an exposure apparatus 3 via a holding block 2. At this time, the holding block 2 is fixed to the exposure apparatus 3. This is performed by fastening bolts to bolt holes 4 formed at a plurality of locations.

【０００５】また、図１２に示すように、ミラー１の保
持ブロック２への固定は、その背面側が接着剤５等によ
って接着され、さらにその外周部が複数箇所において板
バネ等と称される弾性を有した保持金具６で保持ブロッ
ク２側に押圧されることによって行われている。この場
合、保持金具６はミラー１の位置決めに用いられ、実際
の固定は接着剤５により行われることが多い。また、保
持金具６は、例えば板厚０．２〜０．３mm程度で、例え
ば断面視クランク状に折り曲げ形成され、その一端部６
ａでミラー１を押さえこみ、他端部６ｂがボルト７等に
よって保持ブロック２に固定されている。[0005] As shown in FIG. 12, the mirror 1 is fixed to the holding block 2 by bonding the back surface of the mirror 1 with an adhesive 5 and the like, and furthermore, the outer peripheral portion of the mirror 1 is called a leaf spring or the like at a plurality of places. This is performed by being pressed toward the holding block 2 by the holding metal member 6 having the following. In this case, the holding fitting 6 is used for positioning the mirror 1, and the actual fixing is often performed by the adhesive 5. The holding fitting 6 has a thickness of, for example, about 0.2 to 0.3 mm and is formed, for example, by bending it into a crank shape in a sectional view.
The mirror 1 is held down by a, and the other end 6b is fixed to the holding block 2 by bolts 7 or the like.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
ような従来の光学素子の保持機構およびそれを備えた露
光装置においては以下のような問題が存在する。まず、
保持ブロック２を露光装置３に固定するためのボルトの
締付力に起因して作用する応力により、保持ブロック２
の光学素子取付面２ａが変形し、その結果、ミラー１等
の光学素子の設置精度が悪影響を受けるという問題があ
った。これに対し、ボルトの締付トルクを管理すること
により、ミラー１等の光学素子に作用する応力が均一と
なるようにしていたが、それでも応力が作用することに
変わりはなく、光学素子取付面２ａの変形は避けられな
かった。However, the following problems exist in the conventional optical element holding mechanism and the exposure apparatus having the same as described above. First,
The stress acting on the holding block 2 due to the tightening force of the bolt for fixing the holding block 2 to the exposure apparatus 3 causes the holding block 2
The optical element mounting surface 2a is deformed, and as a result, there is a problem that the installation accuracy of the optical element such as the mirror 1 is adversely affected. On the other hand, by controlling the tightening torque of the bolts, the stress acting on the optical element such as the mirror 1 is made uniform. However, the stress still acts on the optical element mounting surface. Deformation of 2a was inevitable.

【０００７】また、ミラー１を保持ブロック２に固定す
る場合、板バネ状の保持金具６を用いると保持金具６で
ミラー１を押圧する力による応力が作用し、ミラー１等
の光学素子の変形等による精度低下が生じる恐れがあ
る。また、接着剤５は化学的変化を避けられず、その使
用量の差異で変化の度合いも異なり、さらに乾燥時間等
を含めて固定作業に手間がかかる。加えて、接着剤５中
に含まれる有機物質等のアウトガスがミラー１等の光学
素子の曇りを招き、品質上の問題となる。Further, when the mirror 1 is fixed to the holding block 2, if a leaf spring-shaped holding metal 6 is used, a stress is exerted by a force pressing the mirror 1 with the holding metal 6, and deformation of an optical element such as the mirror 1 is caused. There is a possibility that the accuracy may be deteriorated due to the above. In addition, the adhesive 5 is unavoidable to undergo a chemical change, and the degree of change is different due to the difference in the amount of the adhesive 5 to be used. In addition, outgas such as an organic substance contained in the adhesive 5 causes fogging of the optical element such as the mirror 1 and causes a quality problem.

【０００８】なお、前記した問題は、光学素子の種類や
保持ブロックの形状等を問わず、また露光装置に限らず
レンズやミラー、プリズム等の光学素子を備えた光学装
置であれば、いかなるものにも共通する問題である。本
発明は以上のような事を考慮してなされたもので、光学
素子の変形等を抑え、精度をより高めることのできる光
学素子保持機構およびそれを備えた露光装置ならびに光
学装置に関するものである。[0008] The above-mentioned problem is not limited to the type of optical element and the shape of the holding block, and is not limited to the exposure apparatus, but may be any optical apparatus provided with optical elements such as lenses, mirrors, and prisms. Is also a common problem. The present invention has been made in view of the above, and relates to an optical element holding mechanism capable of suppressing deformation and the like of an optical element and further improving accuracy, and an exposure apparatus and an optical apparatus having the same. .

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
光学素子（１３）が保持部材（１４）を介して対象物
（１１）に固定され、前記保持部材（１４）には、該保
持部材（１４）を前記対象物（１１）に固定手段で固定
する固定部（１４ａ）と、前記光学素子（１３）を保持
する保持部（１４ｂ）との間に、前記保持部材（１４）
を固定手段で固定することによって生じる応力を吸収す
る応力吸収部（１７，１８）が形成されていることを特
徴としている。The invention according to claim 1 is
The optical element (13) is fixed to the object (11) via the holding member (14), and the holding member (14) is fixed to the object (11) by the fixing means. The holding member (14) is provided between a fixing portion (14a) for holding the optical element (13) and a holding portion (14b) for holding the optical element (13).
Characterized in that stress absorbing portions (17, 18) are formed to absorb the stress generated by fixing the member by the fixing means.

【００１０】光学素子（１３）を保持する保持部材（１
４）の固定部（１４ａ）と保持部（１４ｂ）との間に応
力吸収部（１７，１８）が形成されているので、固定部
（１４ａ）をボルト等の固定手段で対象物（１１）に固
定したときに生じる応力が応力吸収部（１７，１８）で
吸収され、光学素子（１３）を保持する保持部（１４
ｂ）に至る応力を低減することができる。A holding member (1) for holding the optical element (13)
Since the stress absorbing parts (17, 18) are formed between the fixing part (14a) and the holding part (14b) of 4), the fixing part (14a) is fixed to the object (11) by fixing means such as bolts. The stress generated when the optical element (13) is fixed is absorbed by the stress absorbing portions (17, 18), and the holding portion (14) holding the optical element (13).
The stress leading to b) can be reduced.

【００１１】請求項５に係る発明は、光学素子（２１，
２１’）が、該光学素子（２１，２１’）を対象物（１
１）に固定するための保持部材（２３）に、少なくとも
１つの保持金具（２２，３２，４２）を介して保持さ
れ、前記保持金具（２２，３２，４２）が、前記光学素
子（２１，２１’）を少なくとも二次元方向に対して拘
束する拘束部を有して形成されていることを特徴として
いる。According to a fifth aspect of the present invention, an optical element (21,
21 ′) connects the optical element (21, 21 ′) to the object (1).
1) is held by a holding member (23) for fixing to the optical element (22, 32, 42) via at least one holding metal fitting (22, 32, 42). 21 ′) is formed with a restraining portion that restrains at least the two-dimensional direction.

【００１２】保持部材（２３）を保持する保持金具（２
２，３２，４２）が、光学素子（２１，２１’）を少な
くとも二次元方向に対して拘束するので、このような保
持金具（２２，３２，４２）を複数用いることにより光
学素子（２１，２１’）をあらゆる方向に対し拘束する
ことができる。A holding bracket (2) for holding the holding member (23)
2, 32, 42) constrains the optical element (21, 21 ') at least in the two-dimensional direction, and by using a plurality of such holding fittings (22, 32, 42), the optical element (21, 21') is used. 21 ′) can be constrained in any direction.

【００１３】そして、請求項１３に係る発明は、マスク
のパターンを露光光で照明し、前記パターンの像を基板
上に転写する露光装置であって、前記露光装置に備えら
れたレンズ、ミラー、プリズム等の光学素子（１３，２
１，２１’）が、前記請求項１から１２のいずれかに記
載の光学素子保持機構によって固定されていることを特
徴としている。According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for illuminating a pattern on a mask with exposure light and transferring an image of the pattern onto a substrate, wherein a lens, a mirror, Optical elements such as prisms (13, 2
1, 21 ') is fixed by the optical element holding mechanism according to any one of claims 1 to 12.

【００１４】また、請求項１４に係る発明は、レンズ、
ミラー、プリズム等の光学素子（１３，２１，２１’）
を備えた光学装置であって、前記光学素子（１３，２
１，２１’）が、前記請求項１から１２のいずれかに記
載の光学素子保持機構によって固定されていることを特
徴としている。The invention according to claim 14 is a lens,
Optical elements such as mirrors and prisms (13, 21, 21 ')
An optical device comprising: the optical element (13, 2);
1, 21 ') is fixed by the optical element holding mechanism according to any one of claims 1 to 12.

【００１５】このような保持機構によって固定された光
学素子（１３，２１，２１’）を備えた露光装置あるい
は光学装置では、光学素子（１３，２１，２１’）の変
形を抑えて光学素子（１３，２１，２１’）を固定する
ことができる。In an exposure apparatus or an optical device provided with the optical element (13, 21, 21 ') fixed by such a holding mechanism, the deformation of the optical element (13, 21, 21') is suppressed while the optical element (13, 21, 21 ') is suppressed. 13, 21, 21 ') can be fixed.

【００１６】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光学素子保持
機構およびそれを備えた露光装置ならびに光学装置の第
一ないし第三の実施の形態について、図１ないし図１０
を参照して説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, first to third embodiments of an optical element holding mechanism, an exposure apparatus having the same, and an optical apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【００１７】［第一の実施の形態］まず、ここでは、例
えば保持ブロックに応力吸収部を形成する場合の例を用
いて説明する。[First Embodiment] First, here, an example in which a stress absorbing portion is formed in a holding block will be described.

【００１８】図１において、符号１０は露光装置の投影
光学系を構成する鏡筒、１１は鏡筒１０に形成されたフ
ランジ部１０ａを介して鏡筒１０を保持する第１ベース
（対象物）、１２は第１ベース１１の上部に形成された
保持部１１ａを介してこの第１ベース１１を保持する第
２ベースである。In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a lens barrel constituting a projection optical system of the exposure apparatus, and 11 denotes a first base (object) for holding the lens barrel 10 via a flange portion 10a formed on the lens barrel 10. Reference numeral 12 denotes a second base that holds the first base 11 via a holding portion 11a formed on the top of the first base 11.

【００１９】露光装置は、マスク（レチクル）のパター
ンを露光光で照明し、パターンの像をウエハ（基板）上
に転写するものである。このような露光装置には、例え
ば第１ベース１１の下部外周面にウエハＷの高さを検出
するためのセンサーを構成するミラー（光学素子）１３
が備えられている。このミラー１３は、保持ブロック
（保持部材）１４を介して、例えば第１ベース１１に固
定されている。The exposure apparatus illuminates a pattern of a mask (reticle) with exposure light and transfers an image of the pattern onto a wafer (substrate). Such an exposure apparatus includes, for example, a mirror (optical element) 13 that constitutes a sensor for detecting the height of the wafer W on the lower outer peripheral surface of the first base 11.
Is provided. The mirror 13 is fixed to, for example, the first base 11 via a holding block (holding member) 14.

【００２０】図２に示すように、保持ブロック１４は、
第１ベース１１に固定するための固定部１４ａを両端部
に備え、その中間部にミラー１３を保持するための保持
部１４ｂが形成されている。固定部１４ａには、ボルト
を通すためのボルト孔１５が所定の位置に形成されてい
る。一方、保持部１４ｂには、ミラー１３で反射する光
を通すための空洞１６が形成されており、この空洞１６
に望む位置にミラー１３が所定角度で保持・固定される
ようになっている。As shown in FIG. 2, the holding block 14
A fixing portion 14a for fixing to the first base 11 is provided at both ends, and a holding portion 14b for holding the mirror 13 is formed at an intermediate portion. A bolt hole 15 for passing a bolt is formed at a predetermined position in the fixing portion 14a. On the other hand, a cavity 16 for transmitting light reflected by the mirror 13 is formed in the holding portion 14b.
The mirror 13 is held and fixed at a predetermined angle at a desired position.

【００２１】このような保持ブロック１４には、固定部
１４ａと保持部１４ｂとの間に溝（応力吸収部）１７が
形成されている。溝１７は、固定部１４ａのボルト孔１
５と保持部１４ｂの空洞１６とを結ぶ方向に対し、これ
を遮るように形成されている。より具体的には、固定部
１４ａの上面を平面視したときに、保持部１４ｂのミラ
ー保持面とボルト孔１５とを結ぶ直線に対し、これを遮
って直交する方向に延在するよう形成されている。In such a holding block 14, a groove (stress absorbing portion) 17 is formed between the fixing portion 14a and the holding portion 14b. The groove 17 is provided in the bolt hole 1 of the fixing portion 14a.
5 is formed so as to block the direction connecting the cavity 5 and the cavity 16 of the holding portion 14b. More specifically, when the top surface of the fixing portion 14a is viewed in a plan view, it is formed so as to extend in a direction orthogonal to a straight line connecting the mirror holding surface of the holding portion 14b and the bolt hole 15 by blocking the straight line. ing.

【００２２】このような保持ブロック１４は、保持部１
４ｂにミラー１３を取り付け、さらに両端部の固定部１
４ａのボルト孔１５にボルトを通し、このボルトを締め
付けることによって、第１ベース１１に固定するように
なっている。The holding block 14 has the holding unit 1
4b, the mirror 13 is attached, and the fixing portions 1 at both ends are further fixed.
A bolt is passed through the bolt hole 15 of 4a, and the bolt is tightened to be fixed to the first base 11.

【００２３】このとき、ボルトの締付力によって発生す
る応力は、そのエネルギーが溝１７近辺で多く消費さ
れ、結果として、保持部１４ｂに伝わる応力が従来より
も大幅に低減される。これは、溝１７の稜線部分（角の
部分）に応力が集中し、また、溝１７が形成されること
によってその断面積が小さくなる部分（溝１７の底部１
７ｂと固定部１４ａの底面とによって挟まれた部分）に
応力が集中するからである。その結果、これらの部分で
変形が集中し、応力エネルギーが消費されて保持部１４
ｂへ伝わる応力が低減されるのである。At this time, the energy generated by the tightening force of the bolt is consumed much in the vicinity of the groove 17, and as a result, the stress transmitted to the holding portion 14b is greatly reduced as compared with the conventional case. This is because stress concentrates on the ridge portion (corner portion) of the groove 17, and the cross-sectional area of the groove 17 is reduced by forming the groove 17 (the bottom 1 of the groove 17).
This is because the stress is concentrated on the portion between the bottom 7b and the bottom surface of the fixing portion 14a). As a result, the deformation concentrates in these portions, the stress energy is consumed, and the holding portion 14
The stress transmitted to b is reduced.

【００２４】このような保持ブロック１４により、保持
部１４ｂの変形が抑えられるので、保持部１４ｂで保持
するミラー１３の位置精度が低下するのを防止すること
ができる。また、このような保持機構によれば、溝１７
や穴１８等により、固定部１４ａから保持部１４ｂを介
してミラー１３に伝達される露光装置の熱の伝達を抑え
ることも可能である。The holding block 14 suppresses the deformation of the holding portion 14b, so that the positional accuracy of the mirror 13 held by the holding portion 14b can be prevented from being lowered. According to such a holding mechanism, the groove 17
The transmission of heat of the exposure apparatus transmitted from the fixing unit 14a to the mirror 13 via the holding unit 14b can be suppressed by the holes 18 and the like.

【００２５】このような保持ブロック１４の変形例とし
ては以下のようなものがある。まず、図３に示すように
固定部１４ａと保持部１４ｂとの間に穴（応力吸収部）
１８を形成するものがある。この場合の穴１８は、固定
部１４ａに形成されたボルト孔１５と、保持部１４ｂの
ミラー取付面との間を遮るように形成するのが好まし
い。この場合は、ボルトの締め付け力によって生じる応
力が、穴１８の両側の保持部１４ｂと固定部１４ａとを
連結する部分１９を介して伝達されるため、応力の伝達
経路が遠回りになり、また、この部分１９の断面積が小
さいのでここに変形が集中し、応力エネルギーの消費が
なされるのである。There are the following modifications of the holding block 14. First, as shown in FIG. 3, a hole (stress absorbing portion) is provided between the fixing portion 14a and the holding portion 14b.
18 are formed. In this case, the hole 18 is preferably formed so as to block between the bolt hole 15 formed in the fixing portion 14a and the mirror mounting surface of the holding portion 14b. In this case, since the stress generated by the tightening force of the bolt is transmitted via the portion 19 connecting the holding portion 14b and the fixing portion 14a on both sides of the hole 18, the transmission path of the stress is detoured. Since the cross-sectional area of the portion 19 is small, the deformation concentrates here, and the stress energy is consumed.

【００２６】さらには、図４に示すように溝１７と穴１
８とを兼ね備えるような構成とすることも可能である。
これにより、より一層の変形抑制効果が望まれる。Further, as shown in FIG.
8 may be provided.
Thereby, a further deformation suppressing effect is desired.

【００２７】なお、上記実施の形態において、固定部１
４ａにはボルト孔１５を一つのみ形成する構成としたが
もちろん二つ以上であってもよく、その場合は溝１７や
穴１８等を、ボルト孔１５と保持部１４ｂとを結ぶ直線
を遮るように配置するのが好ましい。また、溝１７や穴
１８に代えて、凹部を形成するような構成としても良
い。もちろん、保持部１４ｂで保持する光学素子の形状
や設置角度等に応じて保持部１４ｂの形状等が異なるの
は言うまでもなく、上記に示したような断面視略三角形
状以外のものとなることもあり得る。In the above embodiment, the fixing portion 1
Although only one bolt hole 15 is formed in 4a, it is needless to say that two or more bolt holes 15 may be provided. In this case, the groove 17 or the hole 18 blocks a straight line connecting the bolt hole 15 and the holding portion 14b. It is preferable to arrange them. Further, a configuration in which a concave portion is formed instead of the groove 17 or the hole 18 may be adopted. Needless to say, the shape and the like of the holding portion 14b are different depending on the shape and the installation angle of the optical element held by the holding portion 14b, and the shape may be other than the substantially triangular cross-section as shown above. possible.

【００２８】また、光学素子を保持ブロック１４の保持
部１４ｂに固定する固定手段としては、第二の実施の形
態以下で示すような保持金具等を用いても良いし、また
他の種々の保持金具を用いることが可能である。As the fixing means for fixing the optical element to the holding portion 14b of the holding block 14, a holding metal fitting as shown in the second embodiment and the following embodiments may be used, or other various holding means may be used. Metal fittings can be used.

【００２９】また、保持ブロック１４を露光装置等に固
定するための固定手段としては、ボルト以外に、リベッ
トや接着剤、あるいはブラケット等を用いることも可能
である。As a fixing means for fixing the holding block 14 to an exposure apparatus or the like, a rivet, an adhesive, a bracket, or the like can be used instead of the bolt.

【００３０】［第二の実施の形態］次に、本発明に係る
光学素子保持機構およびそれを備えた露光装置ならびに
光学装置の第二の実施の形態について説明する。ここで
は、例えば保持金具に拘束部を形成する場合の例を用い
て説明する。[Second Embodiment] Next, an optical element holding mechanism according to the present invention, an exposure apparatus having the same, and a second embodiment of the optical apparatus will be described. Here, description will be made using, for example, an example in which a restraining portion is formed on a holding fitting.

【００３１】図５に示すように、ミラー２１等の光学素
子は、保持金具２２を介して保持ブロック（保持部材）
２３に取り付けられ、さらにこの保持ブロック２３が図
示しないボルト等によって露光装置、或いは光学装置等
の各部に固定されているのである。As shown in FIG. 5, an optical element such as a mirror 21 holds a holding block (holding member) via a holding bracket 22.
23, and the holding block 23 is fixed to each unit such as an exposure device or an optical device by bolts or the like (not shown).

【００３２】ここで、ミラー２１が、例えば図に示すよ
うな多角形状、より具体的な例としては矩形状のもので
ある場合、保持金具２２は、ミラー２１の角部に配置さ
れている。Here, when the mirror 21 has a polygonal shape, for example, as shown in the drawing, more specifically, a rectangular shape, the holding bracket 22 is disposed at a corner of the mirror 21.

【００３３】保持金具２２は、保持ブロック２３に固定
するための固定部２２ａとミラー２１を保持する保持部
２２ｂとを備えて構成されている。ここで保持部２２ｂ
は固定部２２ａに対し所定の位置で折り曲げ形成されて
おり、ミラー２１を保持ブロック２３側に押さえ付ける
よう、その折り曲げ角度が設定されている。保持部２２
ｂには、例えば、円形の孔（拘束部）２４が形成されて
おり、この保持金具２２でミラー２１を保持するときに
は孔２４がミラー２１の一つ以上の稜線（ここでは三つ
の稜線２１ａ，２１ｂ，２１ｃ）に接するようにセット
される。The holding member 22 is provided with a fixing portion 22a for fixing to the holding block 23 and a holding portion 22b for holding the mirror 21. Here, the holding portion 22b
Is bent at a predetermined position with respect to the fixing portion 22a, and its bending angle is set so as to press the mirror 21 against the holding block 23 side. Holder 22
For example, a circular hole (restraining portion) 24 is formed in the b. When the mirror 21 is held by the holding bracket 22, the hole 24 is formed by one or more ridge lines (here, three ridge lines 21a, 21b, 21c).

【００３４】これにより、例えば矩形のミラー２１を保
持する場合、対角線上に位置する二つの対角にそれぞれ
保持金具２２を配置すれば、このミラー２１をその表面
に沿った直交二軸方向およびこれに直交するミラー２１
の厚さ方向、つまり三次元方向に対して拘束することが
可能となる。Thus, for example, when the rectangular mirror 21 is held, if the holding brackets 22 are arranged at two diagonal positions located diagonally, the mirror 21 can be moved in two orthogonal directions along the surface thereof and in the two Mirror 21 orthogonal to
In the thickness direction, that is, in the three-dimensional direction.

【００３５】このような保持金具２２を用いた構成によ
れば、固定をミラー２１の角部で行うので、保持金具２
２からの応力がミラー２１に作用する位置を、ミラー２
１の主要な作用部となる中心部から最も遠い位置に設定
することができ、従って、応力によるミラー２１の変形
による精度悪化を最小限に抑えることができる。また、
保持金具２２をミラー２１の複数の稜線２１ａ，２１
ｂ，２１ｃに接させて押さえることにより、最小限の数
の保持金具２２でミラー２１を保持することができ、コ
スト低減を図るとともに、ミラー２１の固定の手間を省
いて作業効率を向上させるばかりでなく、ミラー２１に
作用する合算的な応力負荷を最小限とすることができ
る。According to the configuration using the holding fitting 22, since the fixing is performed at the corner of the mirror 21, the holding fitting 2 is used.
The position where the stress from the mirror 2 acts on the mirror 21 is referred to as the mirror 2
1 can be set at a position farthest from the central portion, which is the main operating portion, and therefore, deterioration in accuracy due to deformation of the mirror 21 due to stress can be minimized. Also,
The holding fitting 22 is connected to the plurality of ridge lines 21 a and 21 of the mirror 21.
The mirror 21 can be held by a minimum number of holding fittings 22 by holding the mirror 21 in contact with the b and 21c, thereby reducing the cost and also improving the working efficiency by saving the labor of fixing the mirror 21. However, the total stress load acting on the mirror 21 can be minimized.

【００３６】また、接着剤を用いることなくミラー２１
を保持・固定することができるので、アウトガスの光化
学反応によるミラー２１のくもり等を防止することがで
き、特に近年のＡｒＦ等短波長の露光光を用いて露光を
行う場合、品質面で非常に高い効果が得られるのであ
る。しかもこのような保持金具２２によれば接着剤の場
合のように使用量の差異等によって変化が生じたり、ま
た、固定作業に時間が掛かったりすることもなく、ま
た、作業者の個人差も出ず、安定して上記効果を得るこ
とが可能である。The mirror 21 can be used without using an adhesive.
Can be held and fixed, it is possible to prevent clouding of the mirror 21 due to the photochemical reaction of the outgassing, and in particular, when performing exposure using short-wavelength exposure light such as recent ArF, the quality is extremely low. High effects can be obtained. Moreover, according to such a holding bracket 22, there is no change due to a difference in the amount of use or the like as in the case of the adhesive, no time is required for the fixing work, and there is no individual difference between workers. It is possible to stably obtain the above-mentioned effect without producing any.

【００３７】このような保持金具２２の変形例としては
以下のようなものがある。例えば、図６（ａ）に示すよ
うに、保持部２２ｂに三角形状の孔（拘束部）２５が形
成された保持金具２２Ａがある。これはミラー２１の、
例えば、三つの稜線２１ａ，２１ｂ，２１ｃに設置する
だけでなく、一つの角部において互いに隣接する三つの
面（表面２１ｄと、二つの側面２１ｅ，２１ｆ）とにそ
れぞれ孔２５の外周部が接することになるため、その拘
束性は一層高いものとなる。The following are examples of modifications of the holding fitting 22. For example, as shown in FIG. 6A, there is a holding bracket 22A in which a triangular hole (restriction part) 25 is formed in the holding part 22b. This is mirror 21
For example, not only are the three ridge lines 21a, 21b, and 21c provided, but also the outer periphery of the hole 25 contacts three adjacent surfaces (the surface 21d and the two side surfaces 21e and 21f) at one corner. Therefore, the restraint is further enhanced.

【００３８】また、図６（ｂ）に示すように、保持部２
２ｂに略くの字状の切り欠き（拘束部）２６が形成され
た保持金具２２Ｂもある。これは、切り欠き２６が、ミ
ラー２１の表面２１ｄとこれに接する一側面２１ｆ、お
よびこの表面２１ｄと側面２１ｆとの間の稜線２１ｂに
接触するようになっている。このような保持金具２２Ｂ
の場合は、設置個所を３カ所以上に増やすのが望まし
い。Further, as shown in FIG.
There is also a holding bracket 22B in which a substantially V-shaped notch (restraining portion) 26 is formed in 2b. This is so that the notch 26 comes into contact with the surface 21d of the mirror 21 and one side surface 21f in contact with the mirror 21 and the ridgeline 21b between the surface 21d and the side surface 21f. Such a holding bracket 22B
In this case, it is desirable to increase the number of installation locations to three or more.

【００３９】また、図６（ｃ）に示すように、例えばコ
字状の切り欠き（拘束部）２７が形成された保持金具２
２Ｃもある。このような保持金具２２Ｃによれば、切り
欠き２７が、ミラー２１の一つの角部で互いに接する三
つの面（表面２２ｄと二つの側面２１ｅ，２１ｆ）とに
接し、さらに、二つの稜線２１ａ，２１ｃが拘束される
ことになるので、対角位置にこの保持金具２２Ｃを配置
することにより、前記保持金具２２と同様、最低二つの
保持金具２２Ｃであらゆる方向に対するミラー２１の拘
束が可能となる。As shown in FIG. 6 (c), for example, the holding fitting 2 having a U-shaped cutout (restricted portion) 27 formed therein.
There is also 2C. According to such a holding fixture 22C, the notch 27 contacts three surfaces (the surface 22d and the two side surfaces 21e and 21f) that are in contact with each other at one corner of the mirror 21, and further has the two ridge lines 21a and 21f. Since the holding member 21c is restricted, by arranging the holding member 22C at a diagonal position, the mirror 21 can be restrained in all directions by at least two holding members 22C, similarly to the holding member 22.

【００４０】また、例えば円形のミラー（光学素子）２
１’を保持する場合、図７（ａ）に示すように、円形或
いは楕円形状の孔（拘束部）２８を保持金具２２Ｄに形
成するようにしてもよいし、加えて図７（ｂ）に示す保
持金具２２Ｅのように、ミラー２１’の上部の稜線２１
ａ’に対応して折り曲げ部２９を形成するようにしても
よい。For example, a circular mirror (optical element) 2
When holding 1 ', a circular or elliptical hole (restraining portion) 28 may be formed in the holding fixture 22D as shown in FIG. 7A, and in addition, as shown in FIG. As shown in FIG.
The bent portion 29 may be formed corresponding to a ′.

【００４１】また、上記に挙げた各例では、保持金具２
２が、固定部２２ａに対し保持部２２ｂが鈍角を成すよ
う折り曲げ形成されているが、これを鋭角に折り曲げる
ことも可能である。これにより、より高いバネ効果が期
待でき、所望の押さえつけ力をより効率良く発揮するこ
とができる。In each of the above examples, the holding metal 2
2, the holding portion 22b is formed to be bent at an obtuse angle with respect to the fixing portion 22a, but it may be bent at an acute angle. As a result, a higher spring effect can be expected, and the desired pressing force can be exhibited more efficiently.

【００４２】［第三の実施の形態］次に、本発明に係る
光学素子保持機構およびそれを備えた露光装置ならびに
光学装置の第三の実施の形態について説明する。ここで
は、例えば保持金具に摩擦材を備える場合の例を用いて
説明する。以下に説明する第三の実施の形態において、
前記第一および第二の実施の形態と共通する構成につい
ては同符号を付し、その説明を省略する。[Third Embodiment] Next, a description will be given of a third embodiment of the optical element holding mechanism according to the present invention, an exposure apparatus having the same, and an optical apparatus. Here, description will be made using an example in which a friction material is provided in the holding fitting, for example. In the third embodiment described below,
The same components as those in the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【００４３】図８に示すように、従来と同様のクランク
状の保持金具３２の先端部の下面に、例えばゴム等、保
持金具３２よりも摩擦係数の高い材料からなるパッド
（摩擦材）３３を取り付け、このパッド３３を介してミ
ラー２１を保持ブロック２３に押さえ付けて固定するよ
うにしてもよい。これにより、保持金具３２によるミラ
ー２１の押さえ付け力だけでなく、パッド３３とミラー
２１との摩擦力により、ミラー２１の表面に沿った方向
に対する拘束も行うことができ、ミラー２１の固定を確
実に行うことができる。従って、上記第二の実施の形態
と同様、接着剤を用いることなく、ミラー２１を固定で
き、前記と同様の効果を得ることができるのである。As shown in FIG. 8, a pad (friction material) 33 made of a material having a higher coefficient of friction than the holding fitting 32, such as rubber, is provided on the lower surface of the tip of the holding fitting 32 in the same manner as in the prior art. The mirror 21 may be attached and pressed to the holding block 23 via the pad 33 to be fixed. Thereby, not only the pressing force of the mirror 21 by the holding metal member 32 but also the restraint in the direction along the surface of the mirror 21 by the frictional force between the pad 33 and the mirror 21 can be performed. Can be done. Therefore, similarly to the second embodiment, the mirror 21 can be fixed without using an adhesive, and the same effect as described above can be obtained.

【００４４】なお、上記第一から第三の各実施の形態に
おいて、保持ブロック１４あるいは保持金具２２，３
２，４２を用いて保持する光学素子の種類について何ら
限定する意図はなく、ミラー１３，２１，２１’以外に
も、各種レンズやプリズム、ガラス等、他の種の光学素
子を保持しても良い。また、上記光学素子の保持機構
は、露光装置あるいは光学装置のいかなる場所にも適用
することが可能であるのは言うまでもない。In each of the first to third embodiments, the holding block 14 or the holding fittings 22, 3 are used.
There is no intention to limit the types of optical elements held by using the lenses 2, 42, and other types of optical elements such as various lenses, prisms, and glass may be held in addition to the mirrors 13, 21, 21 '. good. Further, it is needless to say that the optical element holding mechanism can be applied to any position of the exposure apparatus or the optical apparatus.

【００４５】また、上記第一および第二の実施の形態で
は、保持金具２２，３２自体の弾性を用いてミラー２１
を押さえ付けるようにしたが、ミラー２１の固定精度が
確保できるのであれば、例えば、保持金具をブロック状
等とし、弾性を用いることなく、所定の精度でミラー２
１を固定するようにしてもよい。In the first and second embodiments, the mirrors 21 and 32 are used by utilizing the elasticity of the holding fittings 22 and 32 themselves.
However, if the accuracy of fixing the mirror 21 can be ensured, for example, the holding fitting may be formed in a block shape or the like, and the mirror 2 may be formed with a predetermined accuracy without using elasticity.
1 may be fixed.

【００４６】さらには、保持金具２２，３２自体の弾性
を用いることに代えて、図９に示すようにクランク状の
保持金具４２を支柱４３に上下動可能に支持し、さら
に、保持金具４２の基部４２ａと支柱４３の上端部の間
に圧縮状態のバネ４４を装着し、このバネ４４によって
保持金具４２を介してミラー２１に押さえ付け力を伝達
するようにしてもよい。この場合も、保持金具４２の先
端部に図８に示したパッド３３等を挟み込むことによ
り、ミラー２１の表面に沿った方向に対する拘束力を良
好に得ることができる。これにより、複数の保持金具４
２を用いる場合にも、バネ４４のバネ係数が一定であれ
ばその保持力を統一することができ、ミラー２１に掛か
る応力を均一化することができるのである。また図１０
に示すように、ブロック状で剛性を有した保持金具５２
の先端部に凹部５３を形成し、この凹部５３内に圧縮状
態のバネ４４を収め、ミラー２１に対して押圧力を発揮
させる構成とするようにしても良い。Further, instead of using the elasticity of the holding fittings 22 and 32 themselves, as shown in FIG. 9, a crank-shaped holding fitting 42 is supported on a support column 43 so as to be vertically movable. A spring 44 in a compressed state may be mounted between the base 42 a and the upper end of the column 43, and the pressing force may be transmitted to the mirror 21 via the holding fitting 42 by the spring 44. Also in this case, the pad 33 or the like shown in FIG. 8 is sandwiched between the distal ends of the holding fittings 42, so that a good restraining force in the direction along the surface of the mirror 21 can be obtained. Thereby, the plurality of holding fittings 4
Also in the case of using 2, if the spring coefficient of the spring 44 is constant, the holding force can be unified, and the stress applied to the mirror 21 can be made uniform. FIG.
As shown in FIG.
A concave portion 53 may be formed at the front end of the mirror, and a spring 44 in a compressed state may be housed in the concave portion 53 to exert a pressing force on the mirror 21.

【００４７】これらのバネ４４の弾性を用いたミラー２
１の拘束は、例えば、図５〜図７に示した各種の孔２
４，２５，２８や切り欠き２６，２７を備えた保持金具
３２にも同様に適用することが可能である。The mirror 2 using the elasticity of these springs 44
1 is, for example, the various holes 2 shown in FIGS.
The present invention can be similarly applied to a holding bracket 32 provided with 4, 25, 28 or notches 26, 27.

【００４８】さらに、上記第一の実施の形態では、保持
ブロック１４についての構成を示し、また第二および第
三の実施の形態では保持金具２２，３２，４２について
の構成を示したが、言うまでもなく、これらの構成を組
み合わせることも可能であり、それにより一層顕著な効
果を得ることが可能である。Further, in the first embodiment, the structure of the holding block 14 is shown, and in the second and third embodiments, the structure of the holding brackets 22, 32, 42 is shown. In addition, it is also possible to combine these configurations, thereby obtaining a more remarkable effect.

【００４９】また、本発明を適用する露光装置として
は、例えばステップアンドリピート型のもの、あるいは
走査型のものであってもよく、その投影光学系も、全反
射系、全屈折系、反射屈折系のいずれでも良く、その倍
率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれであっ
ても良い。さらに、露光装置で露光光として用いる光源
についても、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）、
ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）、Ｆ2レーザー
（１５７ｎｍ）、あるいはＹＡＧレーザーや金属蒸気レ
ーザーの高調波、さらにはＸ線等の荷電粒子線、波長５
〜２０ｎｍの軟Ｘ線領域の光（Extreme Ultra Violet
光）等、いかなるものであっても良い。The exposure apparatus to which the present invention is applied may be, for example, a step-and-repeat type or a scanning type. The projection optical system is also a total reflection system, a total refraction system, a catadioptric system. Any magnification may be used, and the magnification may be not only the reduction system but also any one of the same magnification and the enlargement system. Further, as a light source used as exposure light in the exposure apparatus, an ArF excimer laser (193 nm),
KrF excimer laser (248 nm), F 2 laser (157 nm), harmonics of YAG laser or metal vapor laser, and charged particle beam such as X-ray, wavelength 5
Light in the soft X-ray region of ~ 20 nm (Extreme Ultra Violet
Light) and the like.

【００５０】加えて、露光装置の種類としては半導体製
造用のものに限定されることなく、例えば、角形のガラ
スプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の
投影露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光
装置等にも本発明の技術を広く適用することが可能であ
る。In addition, the type of the exposure apparatus is not limited to the one for semiconductor manufacturing. For example, a projection exposure apparatus for a liquid crystal for exposing a liquid crystal display element pattern on a square glass plate, a thin film magnetic head, and the like are used. The technology of the present invention can be widely applied to, for example, an exposure apparatus for manufacturing.

【００５１】さらに、ミラー、プリズム、レンズ等の光
学素子を備えるのであれば、露光装置に限らず、あらゆ
る光学装置にも本発明を適用することが可能であるのは
明白である。Further, as long as optical elements such as mirrors, prisms, and lenses are provided, it is obvious that the present invention can be applied not only to the exposure apparatus but also to any optical apparatus.

【００５２】これ以外にも、本発明の主旨を逸脱しない
範囲内であれば、いかなる構成を採用しても良く、また
上記したような構成を適宜選択的に組み合わせたものと
しても良いのは言うまでもない。Other than this, any configuration may be adopted as long as it does not depart from the gist of the present invention, and it goes without saying that the above-mentioned configurations may be appropriately selectively combined. No.

【００５３】[0053]

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る光
学素子保持機構によれば、保持部材に、固定部と保持部
との間に応力吸収部を形成する構成とした。さらに、請
求項２に係る光学素子保持機構によれば、応力吸収部と
して保持部材に溝または凹部を形成し、また、請求項３
に係る光学素子保持機構によれば、応力吸収部として保
持部材に穴を形成する構成とした。このような応力吸収
部で、保持部材を固定手段で固定することによって生じ
る応力を吸収できるので、保持部に伝達される応力を抑
えることができ、従って、保持する光学素子の位置精度
を維持することができる。これにより、露光品質のより
高性能化、および安定化を図ることができる。As described above, according to the optical element holding mechanism of the first aspect, the holding member has a structure in which the stress absorbing portion is formed between the fixed portion and the holding portion. Further, according to the optical element holding mechanism of the second aspect, a groove or a concave portion is formed in the holding member as a stress absorbing portion.
According to the optical element holding mechanism of (1), the hole is formed in the holding member as the stress absorbing portion. Since the stress generated by fixing the holding member by the fixing means can be absorbed by such a stress absorbing portion, the stress transmitted to the holding portion can be suppressed, and therefore, the positional accuracy of the held optical element is maintained. be able to. Thereby, higher performance and more stable exposure quality can be achieved.

【００５４】請求項４に係る光学素子保持機構によれ
ば、応力吸収部を、固定部と保持部とを結ぶ線上に配置
することにより、応力の伝達経路が遠回りになり、これ
により保持部に及ぶ応力の影響を少なくすることがで
き、上記効果をより確実なものとすることができる。According to the optical element holding mechanism of the fourth aspect, by disposing the stress absorbing portion on the line connecting the fixed portion and the holding portion, the transmission path of the stress is detoured, whereby the holding portion is connected to the holding portion. The effect of the applied stress can be reduced, and the above-described effect can be further ensured.

【００５５】請求項５に係る光学素子保持機構によれ
ば、光学素子を少なくとも二次元方向に対して拘束する
拘束部を有した保持金具を用い、光学素子を拘束・固定
することにより、まず光学素子に加える応力を低減して
光学素子の変形を防ぐとともに、接着剤を用いることな
く光学素子を確実に固定することができる。これによ
り、品質の安定化、作業効率の向上、光学素子のくもり
等を抑えて露光性能の向上および安定化を図ることがで
きる。According to the optical element holding mechanism of the fifth aspect, first, the optical element is first restrained and fixed by using a holding fitting having a restraining portion for restraining the optical element in at least two dimensions. The stress applied to the element can be reduced to prevent deformation of the optical element, and the optical element can be securely fixed without using an adhesive. As a result, it is possible to stabilize the quality, improve the work efficiency, suppress the clouding of the optical element, and improve and stabilize the exposure performance.

【００５６】請求項６に係る光学素子保持機構によれ
ば、拘束部が光学素子をその稜線で押さえることによ
り、最小限の拘束部材で光学素子を多方向に対し効率良
く固定することができる。According to the optical element holding mechanism according to the sixth aspect, the optical element can be efficiently fixed in multiple directions with the minimum number of restricting members by the restricting portion pressing the optical element with its ridge.

【００５７】請求項７に係る光学素子保持機構によれ
ば、拘束部が光学素子をその角部で押さえることによ
り、保持金具からの応力が光学素子に作用する位置を、
光学素子の中心部から最も遠い位置に設定することがで
き、従って、応力による光学素子の変形を最小限に抑え
ることができる。According to the optical element holding mechanism of the present invention, the position where the stress from the holding metal acts on the optical element is determined by the restraining portion pressing the optical element at its corner.
It can be set at a position farthest from the center of the optical element, and therefore, deformation of the optical element due to stress can be minimized.

【００５８】請求項８に係る光学素子保持機構によれ
ば、拘束部に、光学素子の表面に当接する摩擦材が付設
された構成となっている。これにより、光学素子の表面
に沿った方向に対し光学素子を拘束することができる。According to the optical element holding mechanism of the eighth aspect, the friction member is provided on the restraining portion so as to be in contact with the surface of the optical element. Thereby, the optical element can be restrained in a direction along the surface of the optical element.

【００５９】請求項９に係る光学素子保持機構によれ
ば、保持金具が、拘束部を光学素子に押し付けるための
弾性を有して形成された構成となっている。これによ
り、部品点数を増やすことなく保持金具による光学素子
の拘束力を高めることができる。According to the optical element holding mechanism of the ninth aspect, the holding member is formed to have elasticity for pressing the restraining portion against the optical element. Thereby, the restraining force of the optical element by the holding metal can be increased without increasing the number of parts.

【００６０】請求項１０に係る光学素子保持機構によれ
ば、上記保持金具を介して光学素子が保持される保持部
材に、応力吸収部が形成された構成となっている。そし
て、請求項１１に係る光学素子保持機構によれば、応力
吸収部が、保持部材に形成された溝、凹部、または穴の
少なくともいずれか１つであり、かつ固定部と保持部と
を結ぶ線上に形成された構成となっている。これによ
り、応力吸収部で、保持部材を固定手段で固定すること
によって生じる応力を吸収できるので、保持部に伝達さ
れる応力を抑えることができ、従って、保持する光学素
子の位置精度を維持することができる。したがって、上
記保持金具による効果に加え、露光品質の一層の高性能
化および安定化を図ることができる。According to the optical element holding mechanism of the tenth aspect, a stress absorbing portion is formed on the holding member that holds the optical element via the holding metal. According to the optical element holding mechanism of the eleventh aspect, the stress absorbing portion is at least one of a groove, a concave portion, and a hole formed in the holding member, and connects the fixed portion and the holding portion. It has a configuration formed on a line. Thus, the stress generated by fixing the holding member by the fixing means can be absorbed by the stress absorbing portion, so that the stress transmitted to the holding portion can be suppressed, and therefore, the positional accuracy of the optical element to be held is maintained. be able to. Therefore, in addition to the effect of the above-mentioned holding metal fitting, it is possible to further improve and stabilize the exposure quality.

【００６１】請求項１２に係る露光装置によれば、光学
素子は、拘束部による拘束力のみによって保持部材に保
持された構成となっている。これにより、光学素子に保
持金具から作用する応力を最小限とすることができる。According to the exposure apparatus of the twelfth aspect, the optical element is held by the holding member only by the restraining force of the restraining portion. Thereby, the stress acting on the optical element from the holding fitting can be minimized.

【００６２】請求項１３に係る露光装置によれば、光学
素子の位置精度が高められるので、その性能の安定化を
向上させることができると共に、光学素子のくもり等を
防止して品質の低下を防止することができる。According to the exposure apparatus of the thirteenth aspect, since the positional accuracy of the optical element can be improved, the performance can be stabilized more stably, and the quality of the optical element can be reduced by preventing clouding of the optical element. Can be prevented.

【００６３】請求項１４に係る光学装置によれば、光学
素子の位置精度が高められるので、その性能の安定化を
向上させることができると共に、光学素子のくもり等を
防止して品質の低下を防止することができる。According to the optical device of the fourteenth aspect, the positional accuracy of the optical element can be enhanced, so that the performance can be stabilized, and the quality of the optical element can be prevented by preventing clouding of the optical element. Can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 本発明に係る光学素子保持機構およびそれを
備えた露光装置ならびに光学装置の第一の実施の形態を
示す図であって、本発明を適用した露光装置の一部を示
す立断面図である。FIG. 1 is a view showing a first embodiment of an optical element holding mechanism, an exposure apparatus having the same, and an optical apparatus according to the present invention, and a sectional elevation showing a part of the exposure apparatus to which the present invention is applied; FIG.

【図２】 前記光学素子保持機構を構成する保持部材を
示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a holding member constituting the optical element holding mechanism.

【図３】 同保持部材の他の一例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing another example of the holding member.

【図４】 同保持部材のさらに他の一例を示す部分拡大
斜視図である。FIG. 4 is a partially enlarged perspective view showing still another example of the holding member.

【図５】 前記光学素子保持機構の第二の実施の形態を
示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a second embodiment of the optical element holding mechanism.

【図６】 同光学素子保持機構を構成する保持金具の他
の例を示す部分拡大斜視図である。FIG. 6 is a partially enlarged perspective view showing another example of a holding fitting constituting the optical element holding mechanism.

【図７】 同保持金具のさらに他の例を示す部分拡大斜
視図である。FIG. 7 is a partially enlarged perspective view showing still another example of the holding fixture.

【図８】 前記光学素子保持機構の第三の実施の形態を
示す部分拡大側断面図である。FIG. 8 is a partially enlarged side sectional view showing a third embodiment of the optical element holding mechanism.

【図９】 同光学素子保持機構の他の形態を示す部分拡
大側断面図である。FIG. 9 is a partially enlarged side sectional view showing another embodiment of the optical element holding mechanism.

【図１０】 同光学素子保持機構のさらに他の形態を示
す部分拡大側断面図である。FIG. 10 is a partially enlarged side sectional view showing still another embodiment of the optical element holding mechanism.

【図１１】 従来の光学素子保持機構に用いていた保持
部材を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing a holding member used in a conventional optical element holding mechanism.

【図１２】 従来の光学素子保持機構に用いていた保持
金具を示す立断面図である。FIG. 12 is a vertical sectional view showing a holding bracket used in a conventional optical element holding mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１１ 第１ベース（対象物） １３，２１，２１’ ミラー（光学素子） １４，２３ 保持ブロック（保持部材） １４ａ 固定部 １４ｂ 保持部 １７ 溝（応力吸収部） １８ 穴（応力吸収部） ２１ａ，２１ｂ，２１ｃ 稜線 ２２，３２，４２ 保持金具 ２４，２５，２８ 孔（拘束部） ２６，２７ 切り欠き（拘束部） ３３ パッド（摩擦材） 11 first base (object) 13, 21, 21 'mirror (optical element) 14, 23 holding block (holding member) 14a fixing portion 14b holding portion 17 groove (stress absorbing portion) 18 hole (stress absorbing portion) 21a, 21b, 21c Ridge line 22, 32, 42 Holder 24, 25, 28 Hole (restraint) 26, 27 Notch (restraint) 33 Pad (friction material)

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 光学素子が保持部材を介して対象物に固
定され、前記保持部材には、該保持部材を前記対象物に
固定手段で固定する固定部と、前記光学素子を保持する
保持部との間に、前記保持部材を固定手段で固定するこ
とによって生じる応力を吸収する応力吸収部が形成され
ていることを特徴とする光学素子保持機構。An optical element is fixed to an object via a holding member. The holding member has a fixing section for fixing the holding member to the object by fixing means, and a holding section for holding the optical element. An optical element holding mechanism, wherein a stress absorbing portion for absorbing a stress generated by fixing the holding member by fixing means is formed between the optical element and the holding member. 【請求項２】 前記応力吸収部として、前記保持部材に
溝または凹部が形成されていることを特徴とする請求項
１記載の光学素子保持機構。2. The optical element holding mechanism according to claim 1, wherein a groove or a recess is formed in the holding member as the stress absorbing portion. 【請求項３】 前記応力吸収部として、前記保持部材に
穴が形成されていることを特徴とする請求項１または２
記載の光学素子保持機構。3. The holding member according to claim 1, wherein a hole is formed in the holding member as the stress absorbing portion.
The optical element holding mechanism according to claim 1. 【請求項４】 前記応力吸収部が、前記固定部と前記保
持部とを結ぶ線上に配置されていることを特徴とする請
求項１から３のいずれかに記載の光学素子保持機構。4. The optical element holding mechanism according to claim 1, wherein the stress absorbing section is disposed on a line connecting the fixing section and the holding section. 【請求項５】 光学素子が、該光学素子を対象物に固定
するための保持部材に、少なくとも１つの保持金具を介
して保持され、前記保持金具が、前記光学素子を少なく
とも二次元方向に対して拘束する拘束部を有して形成さ
れていることを特徴とする光学素子保持機構。5. The optical element is held by a holding member for fixing the optical element to an object via at least one holding metal, and the holding metal holds the optical element in at least a two-dimensional direction. An optical element holding mechanism, wherein the optical element holding mechanism is formed having a restraining portion for restraining the optical element. 【請求項６】 前記拘束部が、前記光学素子をその稜線
で押さえるよう形成されていることを特徴とする請求項
５記載の光学素子保持機構。6. The optical element holding mechanism according to claim 5, wherein the restraining portion is formed so as to press the optical element with its ridge. 【請求項７】 前記拘束部が、前記光学素子をその角部
で押さえ、複数の稜線に当接するよう形成されているこ
とを特徴とする請求項５記載の光学素子保持機構。7. The optical element holding mechanism according to claim 5, wherein the restraining portion is formed so as to hold the optical element at a corner thereof and abut against a plurality of ridge lines. 【請求項８】 前記拘束部に、前記光学素子の表面に当
接するよう、前記保持金具よりも摩擦係数の高い摩擦材
が付設されていることを特徴とする請求項５から７のい
ずれかに記載の光学素子保持機構。8. The constraining portion is provided with a friction material having a higher friction coefficient than the holding bracket so as to contact the surface of the optical element. The optical element holding mechanism according to claim 1. 【請求項９】 前記保持金具が、前記拘束部を前記光学
素子に押し付けるための弾性を有して形成されているこ
とを特徴とする請求項５から８のいずれかに記載の光学
素子保持機構。9. The optical element holding mechanism according to claim 5, wherein said holding member is formed to have elasticity for pressing said restraining portion against said optical element. . 【請求項１０】 前記保持部材には、該保持部材を前記
対象物に固定手段で固定する固定部と、前記光学素子を
保持する保持部との間に、前記保持部材を固定手段で固
定することによって生じる応力を吸収する応力吸収部が
形成されていることを特徴とする請求項５から９のいず
れかに記載の光学素子保持機構。10. The holding member is fixed to the holding member by a fixing unit between a fixing unit that fixes the holding member to the object by a fixing unit and a holding unit that holds the optical element. 10. The optical element holding mechanism according to claim 5, wherein a stress absorbing portion is formed to absorb a stress generated thereby. 【請求項１１】 前記応力吸収部は、前記保持部材に形
成された溝、凹部、または穴の少なくともいずれか１つ
であり、かつ前記固定部と前記保持部とを結ぶ線上に形
成されていることを特徴とする請求項５から１０のいず
れかに記載の光学素子保持機構。11. The stress absorbing portion is at least one of a groove, a concave portion, and a hole formed in the holding member, and is formed on a line connecting the fixing portion and the holding portion. The optical element holding mechanism according to claim 5, wherein: 【請求項１２】 前記光学素子は、前記拘束部による拘
束力のみによって前記保持部材に保持されていることを
特徴とする請求項５から１１のいずれかに記載の光学素
子保持機構。12. The optical element holding mechanism according to claim 5, wherein the optical element is held by the holding member only by a restraining force of the restraining portion. 【請求項１３】 マスクのパターンを露光光で照明し、
前記パターンの像を基板上に転写する露光装置であっ
て、前記露光装置に備えられたレンズ、ミラー、プリズ
ム等の光学素子が、前記請求項１から１２のいずれかに
記載の光学素子保持機構によって固定されていることを
特徴とする露光装置。13. A pattern on a mask is illuminated with exposure light.
An optical element holding mechanism according to any one of claims 1 to 12, which is an exposure apparatus for transferring an image of the pattern onto a substrate, wherein an optical element such as a lens, a mirror, or a prism provided in the exposure apparatus is provided. An exposure apparatus, wherein the exposure apparatus is fixed by: 【請求項１４】 レンズ、ミラー、プリズム等の光学素
子を備えた光学装置であって、前記光学素子が、前記請
求項１から１２のいずれかに記載の光学素子保持機構に
よって固定されていることを特徴とする光学装置。14. An optical device including an optical element such as a lens, a mirror, and a prism, wherein the optical element is fixed by the optical element holding mechanism according to any one of claims 1 to 12. An optical device characterized by the above-mentioned.
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