JP2000327373A - 光反射体及びその製造方法 - Google Patents
光反射体及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐久性に優れ、可視光反射率が高く、かつ反
射色調の目立たない光反射体およびその製造方法を提供
する。 【解決手段】 ガラス基板上に、波長５５０ｎｍにおけ
る屈折率がｎ1の膜、ｎ2の膜、ｎ3の膜、およびｎ4の膜
を順次積層し、膜厚を調整して屈折率ｎ1、ｎ2、ｎ3お
よびｎ4の関係がｎ1≧ｎ4＞ｎ3＞ｎ2、屈折率ｎ2の膜の
膜厚が３０ｎｍ〜６０ｎｍ、屈折率ｎ4の膜表面の可視
光反射率が７５％以上、且つ、この膜表面の反射色調を
ａ*、ｂ*（クロマティックネス指数）で表したときに、
｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値を０〜１０とする。
射色調の目立たない光反射体およびその製造方法を提供
する。 【解決手段】 ガラス基板上に、波長５５０ｎｍにおけ
る屈折率がｎ1の膜、ｎ2の膜、ｎ3の膜、およびｎ4の膜
を順次積層し、膜厚を調整して屈折率ｎ1、ｎ2、ｎ3お
よびｎ4の関係がｎ1≧ｎ4＞ｎ3＞ｎ2、屈折率ｎ2の膜の
膜厚が３０ｎｍ〜６０ｎｍ、屈折率ｎ4の膜表面の可視
光反射率が７５％以上、且つ、この膜表面の反射色調を
ａ*、ｂ*（クロマティックネス指数）で表したときに、
｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値を０〜１０とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、鏡などのガラス製
品に使用する高可視光反射体、及びその製造方法に関す
る。
品に使用する高可視光反射体、及びその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】鏡には一般に銀、アルミニウムなどの反
射率の高い金属膜が形成されている。銀を用いた鏡では
銀塩の溶液をガラス上に塗布し、ガラス表面にて還元反
応させて銀膜を形成させている。しかし、銀膜そのもの
は酸化されやすく、また腐食されやすいので耐久性が非
常に弱い。従ってそのままでは鏡として実用に耐え得る
ものは得られず、銀膜の表面に保護膜を形成させる必要
がある。さらにエッジ（銀膜の外周端縁部）からも水等
に浸食されるため、エッジへも保護処理が必要であり、
特に銀を用いた鏡を洗面台や浴室用に使用するためには
保護処理として特殊加工を施している。また多くの場
合、保護層としては不透明剤を使用するため、裏面鏡と
してしか使用できず、表面の反射と裏面の反射による二
重像が避けられない。
射率の高い金属膜が形成されている。銀を用いた鏡では
銀塩の溶液をガラス上に塗布し、ガラス表面にて還元反
応させて銀膜を形成させている。しかし、銀膜そのもの
は酸化されやすく、また腐食されやすいので耐久性が非
常に弱い。従ってそのままでは鏡として実用に耐え得る
ものは得られず、銀膜の表面に保護膜を形成させる必要
がある。さらにエッジ（銀膜の外周端縁部）からも水等
に浸食されるため、エッジへも保護処理が必要であり、
特に銀を用いた鏡を洗面台や浴室用に使用するためには
保護処理として特殊加工を施している。また多くの場
合、保護層としては不透明剤を使用するため、裏面鏡と
してしか使用できず、表面の反射と裏面の反射による二
重像が避けられない。
【０００３】アルミニウム膜を用いた鏡では、一般に真
空蒸着法やスパッタリング法にてアルミニウム膜が形成
されるために、設備として真空装置が必要となる。また
成膜に時間がかかり、生産効率があまり良くない等製造
コストが高くなる傾向がある。さらに上記方法で形成さ
れたアルミニウム膜は耐久性の弱い膜となってしまうた
め、保護膜が必要となる。
空蒸着法やスパッタリング法にてアルミニウム膜が形成
されるために、設備として真空装置が必要となる。また
成膜に時間がかかり、生産効率があまり良くない等製造
コストが高くなる傾向がある。さらに上記方法で形成さ
れたアルミニウム膜は耐久性の弱い膜となってしまうた
め、保護膜が必要となる。
【０００４】真空装置を必要としない方法としては、常
圧ＣＶＤ法を使用して反射層及び反射増強層を順次形成
させ、反射率が70％以上とする［の］鏡の製造方法が特
開平６−１８３７８７号公報に開示されている。具体的
には反射層に珪素膜などの高屈折率膜を使用し、その上
に酸化珪素膜などの低屈折率膜と珪素膜、酸化錫膜、酸
化チタン膜などの高屈折率膜を反射増強層として順次形
成させた鏡のことが開示されている。
圧ＣＶＤ法を使用して反射層及び反射増強層を順次形成
させ、反射率が70％以上とする［の］鏡の製造方法が特
開平６−１８３７８７号公報に開示されている。具体的
には反射層に珪素膜などの高屈折率膜を使用し、その上
に酸化珪素膜などの低屈折率膜と珪素膜、酸化錫膜、酸
化チタン膜などの高屈折率膜を反射増強層として順次形
成させた鏡のことが開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】特開平６−１８３７８
７号公報では反射層として主に珪素膜を使用しており、
反射増強層には低屈折率層として酸化珪素膜を、高屈折
率膜として珪素膜や酸化チタン膜、酸化錫膜などを使用
している。最表面に珪素膜を使用する場合、珪素膜の耐
久性が弱いため保護膜を形成させることが必要である。
酸化チタン膜や酸化錫膜を使用する場合、耐久性に問題
はないが可視光反射率７５％以上にて反射色を目立たな
くするためには、低屈折率層である酸化珪素膜を７０ｎ
ｍ以上にする必要がある。しかし熱分解法にて酸化珪素
膜を成膜する際に多量の粉体が発生し、その粉体が膜中
に異物として取り込まれたり、ピンホールの原因とな
り、歩留まりを低下させている。さらに粉体が成膜装置
周囲や排気配管等に堆積し、成膜を不安定にさせる要因
となっている。これらを回避するためには原料供給量等
を低下させ、成膜速度を遅くすることが考えられるが、
そのようにすると７０ｎｍ以上の厚膜を得ることが困難
になる。
７号公報では反射層として主に珪素膜を使用しており、
反射増強層には低屈折率層として酸化珪素膜を、高屈折
率膜として珪素膜や酸化チタン膜、酸化錫膜などを使用
している。最表面に珪素膜を使用する場合、珪素膜の耐
久性が弱いため保護膜を形成させることが必要である。
酸化チタン膜や酸化錫膜を使用する場合、耐久性に問題
はないが可視光反射率７５％以上にて反射色を目立たな
くするためには、低屈折率層である酸化珪素膜を７０ｎ
ｍ以上にする必要がある。しかし熱分解法にて酸化珪素
膜を成膜する際に多量の粉体が発生し、その粉体が膜中
に異物として取り込まれたり、ピンホールの原因とな
り、歩留まりを低下させている。さらに粉体が成膜装置
周囲や排気配管等に堆積し、成膜を不安定にさせる要因
となっている。これらを回避するためには原料供給量等
を低下させ、成膜速度を遅くすることが考えられるが、
そのようにすると７０ｎｍ以上の厚膜を得ることが困難
になる。
【０００６】また特表平８−５０８７０８号公報では低
屈折率膜を１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下にし、表面に酸化
錫膜を形成させる鏡が提案されているが、この場合、可
視光反射率が３５％以上７０％未満であり、反射色調が
青色を帯びてしまう。
屈折率膜を１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下にし、表面に酸化
錫膜を形成させる鏡が提案されているが、この場合、可
視光反射率が３５％以上７０％未満であり、反射色調が
青色を帯びてしまう。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明に係る光反射体は、ガラス基板の一方の主表面上
に、５５０ｎｍの波長において屈折率ｎ1の膜、前記波
長において屈折率ｎ2の膜、前記波長において屈折率ｎ3
の膜、前記波長において屈折率ｎ4の膜を順次形成させ
てなる光反射体であって、前記屈折率ｎ1、ｎ2、ｎ3、
ｎ4の関係がｎ1≧ｎ4＞ｎ3＞ｎ2であり、前記屈折率ｎ2
の膜の膜厚が３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、前記屈
折率ｎ4の膜表面の可視光反射率が７５％以上であり、
且つこの膜表面の反射色調をａ*、ｂ*（クロマティック
ネス指数）で表したときに、｛（ａ *）2＋（ｂ*）2｝
1/2の値が０以上１０以下となるようにした。
本発明に係る光反射体は、ガラス基板の一方の主表面上
に、５５０ｎｍの波長において屈折率ｎ1の膜、前記波
長において屈折率ｎ2の膜、前記波長において屈折率ｎ3
の膜、前記波長において屈折率ｎ4の膜を順次形成させ
てなる光反射体であって、前記屈折率ｎ1、ｎ2、ｎ3、
ｎ4の関係がｎ1≧ｎ4＞ｎ3＞ｎ2であり、前記屈折率ｎ2
の膜の膜厚が３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、前記屈
折率ｎ4の膜表面の可視光反射率が７５％以上であり、
且つこの膜表面の反射色調をａ*、ｂ*（クロマティック
ネス指数）で表したときに、｛（ａ *）2＋（ｂ*）2｝
1/2の値が０以上１０以下となるようにした。
【０００８】前記屈折率ｎ2の膜としては、酸化珪素を
主成分とするものが好ましく、前記屈折率ｎ3の膜とし
ては、酸化錫を主成分とするものが好ましく、前記屈折
率ｎ4の膜としては、酸化チタンを主成分とするものが
好ましく、前記屈折率ｎ1の膜としては、珪素を主成分
とするものが好ましい。
主成分とするものが好ましく、前記屈折率ｎ3の膜とし
ては、酸化錫を主成分とするものが好ましく、前記屈折
率ｎ4の膜としては、酸化チタンを主成分とするものが
好ましく、前記屈折率ｎ1の膜としては、珪素を主成分
とするものが好ましい。
【０００９】更に、前記屈折率ｎ1の膜と前記ガラス基
板との間に下地膜が形成されることも好ましく、その下
地膜が酸化錫膜であれば更に好ましい。
板との間に下地膜が形成されることも好ましく、その下
地膜が酸化錫膜であれば更に好ましい。
【００１０】また、本発明に係る光反射体においては、
屈折率ｎ1の膜については１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下、
屈折率ｎ3の膜については１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、
屈折率ｎ4の膜については１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下の
範囲であることが好ましく、更に、前記ガラス基板の非
膜面側に不透明層を形成してもよい。
屈折率ｎ1の膜については１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下、
屈折率ｎ3の膜については１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、
屈折率ｎ4の膜については１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下の
範囲であることが好ましく、更に、前記ガラス基板の非
膜面側に不透明層を形成してもよい。
【００１１】また、本発明に係る光反射体の製造方法
は、ガラス基板の一方の主表面上に、５５０ｎｍの波長
において屈折率ｎ1の膜、前記波長において屈折率ｎ2の
膜、前記波長において屈折率ｎ3の膜及び前記波長にお
いて屈折率ｎ4の膜を順次形成する。但し、ｎ1≧ｎ4＞
ｎ3＞ｎ2である。
は、ガラス基板の一方の主表面上に、５５０ｎｍの波長
において屈折率ｎ1の膜、前記波長において屈折率ｎ2の
膜、前記波長において屈折率ｎ3の膜及び前記波長にお
いて屈折率ｎ4の膜を順次形成する。但し、ｎ1≧ｎ4＞
ｎ3＞ｎ2である。
【００１２】また、上記製造方法において前記ガラス基
板と前記屈折率ｎ1の膜との間に下地膜を形成するこ
と、高温のガラス表面に熱分解法にて前記下地膜、前記
屈折率ｎ1の膜、前記屈折率ｎ2の膜、前記屈折率ｎ3の
膜、前記屈折率ｎ4の膜を順次形成することも好まし
い。
板と前記屈折率ｎ1の膜との間に下地膜を形成するこ
と、高温のガラス表面に熱分解法にて前記下地膜、前記
屈折率ｎ1の膜、前記屈折率ｎ2の膜、前記屈折率ｎ3の
膜、前記屈折率ｎ4の膜を順次形成することも好まし
い。
【００１３】つまり、本発明はガラス基板上に５５０ｎ
ｍの波長において屈折率ｎ1の膜、前記波長において屈
折率ｎ2の膜、前記波長において屈折率ｎ3の膜、前記波
長において屈折率ｎ4の膜を順次形成させ、屈折率ｎ2の
膜の膜厚を３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下とすることにより
熱分解を利用した成膜による生産性を向上させ、膜表面
の可視光反射率が７５％以上であり、反射色調をａ*、
ｂ*（クロマティックネス指数）で表したときに、
｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値が０以上１０以下を有
する高性能で耐久性の良い光反射体を提供するものであ
る。
ｍの波長において屈折率ｎ1の膜、前記波長において屈
折率ｎ2の膜、前記波長において屈折率ｎ3の膜、前記波
長において屈折率ｎ4の膜を順次形成させ、屈折率ｎ2の
膜の膜厚を３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下とすることにより
熱分解を利用した成膜による生産性を向上させ、膜表面
の可視光反射率が７５％以上であり、反射色調をａ*、
ｂ*（クロマティックネス指数）で表したときに、
｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値が０以上１０以下を有
する高性能で耐久性の良い光反射体を提供するものであ
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。本発明では、ガラス基板上に５５０ｎｍの
波長における屈折率ｎ1の膜、５５０ｎｍの波長におけ
るｎ2の膜、５５０ｎｍの波長における屈折率ｎ3の膜
を、５５０ｎｍの波長における屈折率ｎ4膜を順次形成
し、前記屈折率ｎ1、ｎ2、ｎ3、ｎ4の関係をｎ1≧ｎ4＞
ｎ3＞ｎ2にすることによって、前記屈折率ｎ2の膜厚を
３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下としても、可視光反射率７５
％以上かつ反射色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指
数）で表したときに、｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値
が０以上１０以下となる光反射体を得るられる。
に説明する。本発明では、ガラス基板上に５５０ｎｍの
波長における屈折率ｎ1の膜、５５０ｎｍの波長におけ
るｎ2の膜、５５０ｎｍの波長における屈折率ｎ3の膜
を、５５０ｎｍの波長における屈折率ｎ4膜を順次形成
し、前記屈折率ｎ1、ｎ2、ｎ3、ｎ4の関係をｎ1≧ｎ4＞
ｎ3＞ｎ2にすることによって、前記屈折率ｎ2の膜厚を
３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下としても、可視光反射率７５
％以上かつ反射色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指
数）で表したときに、｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値
が０以上１０以下となる光反射体を得るられる。
【００１５】これは反射層となる屈折率ｎ1の膜の上に
低屈折率から高屈折率へと段階的に変化させた膜を順次
形成させる構成を採ることによって、高反射でかつ反射
色調を目立たなくさせるためである。
低屈折率から高屈折率へと段階的に変化させた膜を順次
形成させる構成を採ることによって、高反射でかつ反射
色調を目立たなくさせるためである。
【００１６】前記屈折率ｎ2の膜厚が３０ｎｍ未満では
所定の反射率と所定の色の両方を満たすことができず、
６０ｎｍを超えると生産性が下がりコストアップとなり
本発明の効果を達成することができない。
所定の反射率と所定の色の両方を満たすことができず、
６０ｎｍを超えると生産性が下がりコストアップとなり
本発明の効果を達成することができない。
【００１７】屈折率ｎ1と屈折率ｎ2の差（ｎ1＞ｎ2）が
大きいほど可視光反射率が大きくなるので、ｎ1は大き
いほど、ｎ2は小さいほど好ましい。本発明に係る５５
０ｎｍの波長における屈折率がｎ1の膜は、珪素を主成
分とする膜が好ましい。この理由は、珪素が特に高屈折
率を有する、更に熱分解法で容易に形成されるからであ
る。また珪素膜には炭素、窒素、酸素などが含まれても
良い。この場合の屈折率ｎ1は、含まれる不純物の物質
や量により異なり、３．０以上５．５以下の範囲とな
る。
大きいほど可視光反射率が大きくなるので、ｎ1は大き
いほど、ｎ2は小さいほど好ましい。本発明に係る５５
０ｎｍの波長における屈折率がｎ1の膜は、珪素を主成
分とする膜が好ましい。この理由は、珪素が特に高屈折
率を有する、更に熱分解法で容易に形成されるからであ
る。また珪素膜には炭素、窒素、酸素などが含まれても
良い。この場合の屈折率ｎ1は、含まれる不純物の物質
や量により異なり、３．０以上５．５以下の範囲とな
る。
【００１８】本発明に係る５５０ｎｍの波長における屈
折率がｎ2の膜は、酸化珪素を主成分とする膜が好まし
い。この理由は、酸化珪素が低屈折率を有する、さらに
熱分解法で容易に形成されるからである。また酸化珪素
膜には窒素、炭素、フッ素、チタン、錫、アルミ、ホウ
素、燐などが含まれても良い。この場合の屈折率ｎ2
は、含まれる不純物の物質や量により異なり、１．４以
上１．６以下の範囲となる。
折率がｎ2の膜は、酸化珪素を主成分とする膜が好まし
い。この理由は、酸化珪素が低屈折率を有する、さらに
熱分解法で容易に形成されるからである。また酸化珪素
膜には窒素、炭素、フッ素、チタン、錫、アルミ、ホウ
素、燐などが含まれても良い。この場合の屈折率ｎ2
は、含まれる不純物の物質や量により異なり、１．４以
上１．６以下の範囲となる。
【００１９】本発明に係る５５０ｎｍの波長における屈
折率ｎ4の膜は酸化チタンが好ましい。この理由は酸化
チタンが比較的高屈折率を有し、また熱分解法で容易に
形成され、更に耐久性が良く最表面に露出しても問題な
いからである。また酸化チタン膜には錫、フッ素、塩
素、炭素、窒素、珪素などが含まれても良い。この場合
の屈折率ｎ4は、含まれる不純物の物質や量により異な
り、２．２以上２．８以下の範囲となる。
折率ｎ4の膜は酸化チタンが好ましい。この理由は酸化
チタンが比較的高屈折率を有し、また熱分解法で容易に
形成され、更に耐久性が良く最表面に露出しても問題な
いからである。また酸化チタン膜には錫、フッ素、塩
素、炭素、窒素、珪素などが含まれても良い。この場合
の屈折率ｎ4は、含まれる不純物の物質や量により異な
り、２．２以上２．８以下の範囲となる。
【００２０】本発明に係る５５０ｎｍの波長における屈
折率ｎ3の膜は酸化錫膜が好ましい。この理由は、屈折
率が前記屈折率ｎ2とｎ4の間を有し、更に熱分解法にて
容易に形成されるからである。また酸化錫膜にはインジ
ウム、フッ素、アンチモン、塩素、炭素、珪素などが含
まれていても良い。この場合の屈折率ｎ3は、含まれる
不純物の物質や量により異なり、１．８以上２．２以下
の範囲となる。
折率ｎ3の膜は酸化錫膜が好ましい。この理由は、屈折
率が前記屈折率ｎ2とｎ4の間を有し、更に熱分解法にて
容易に形成されるからである。また酸化錫膜にはインジ
ウム、フッ素、アンチモン、塩素、炭素、珪素などが含
まれていても良い。この場合の屈折率ｎ3は、含まれる
不純物の物質や量により異なり、１．８以上２．２以下
の範囲となる。
【００２１】本発明においては、屈折率ｎ1の膜とガラ
ス基板の間に下地膜を形成しても良い。ガラス基板にソ
ーダライムガラスを使用したときには下地膜を形成する
ことによって屈折率ｎ1の膜中へのアルカリの拡散を防
止し、屈折率の低下を防ぐことができる。
ス基板の間に下地膜を形成しても良い。ガラス基板にソ
ーダライムガラスを使用したときには下地膜を形成する
ことによって屈折率ｎ1の膜中へのアルカリの拡散を防
止し、屈折率の低下を防ぐことができる。
【００２２】この下地膜の一例として酸化錫膜を挙げる
ことができる。また酸化錫膜にはインジウム、フッ素、
アンチモン、塩素、炭素、珪素などが含まれていても良
い。下地膜の膜厚は１ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好まし
く、さらに好ましい範囲は１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下で
ある。下地膜の膜厚が厚すぎるとヘイズ率が大きくな
り、反射光が乱反射するため好ましくない。
ことができる。また酸化錫膜にはインジウム、フッ素、
アンチモン、塩素、炭素、珪素などが含まれていても良
い。下地膜の膜厚は１ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好まし
く、さらに好ましい範囲は１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下で
ある。下地膜の膜厚が厚すぎるとヘイズ率が大きくな
り、反射光が乱反射するため好ましくない。
【００２３】前記膜を積層した光反射体において、前記
屈折率ｎ1の膜、屈折率ｎ3の膜、屈折率ｎ4の膜の膜厚
が以下の範囲であり、かつ可視光反射率が７５％以上で
あり、かつ反射色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指
数）で表したときに、｛（ａ *）2＋（ｂ*）2｝1/2の値
が０以上１０以下であることが好ましい。
屈折率ｎ1の膜、屈折率ｎ3の膜、屈折率ｎ4の膜の膜厚
が以下の範囲であり、かつ可視光反射率が７５％以上で
あり、かつ反射色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指
数）で表したときに、｛（ａ *）2＋（ｂ*）2｝1/2の値
が０以上１０以下であることが好ましい。
【００２４】また、各膜の膜厚が下記範囲から外れると
可視光反射率が７５％より低くなるか、あるいは反射色
調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指数）で表したとき
に、｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値が１０より大きく
なる。 屈折率ｎ1の膜：１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下 屈折率ｎ3の膜：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下 屈折率ｎ4の膜：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下
可視光反射率が７５％より低くなるか、あるいは反射色
調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指数）で表したとき
に、｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値が１０より大きく
なる。 屈折率ｎ1の膜：１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下 屈折率ｎ3の膜：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下 屈折率ｎ4の膜：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下
【００２５】前記反射体は２５％以下の可視光透過率が
得られる。これによりハーフミラーとしての使用が可能
となる。また鏡として使用する場合には、裏面側の像が
透視されないように裏面のガラス表面に不透明層を形成
させても良い。この不透明層の色を変化させることによ
り膜表面の反射色を調整することも可能である。また膜
表面、即ち最外層である屈折率ｎ4の膜の更に外に不透
明層を形成させることにより、裏面鏡として使用するこ
とも可能である。この場合、裏面の可視光反射率を高く
するために、基板上に形成させる膜をガラス基板上に前
記屈折率ｎ4の膜、前記屈折率ｎ3の膜、前記屈折率ｎ1
の膜の順にすることが好ましい。
得られる。これによりハーフミラーとしての使用が可能
となる。また鏡として使用する場合には、裏面側の像が
透視されないように裏面のガラス表面に不透明層を形成
させても良い。この不透明層の色を変化させることによ
り膜表面の反射色を調整することも可能である。また膜
表面、即ち最外層である屈折率ｎ4の膜の更に外に不透
明層を形成させることにより、裏面鏡として使用するこ
とも可能である。この場合、裏面の可視光反射率を高く
するために、基板上に形成させる膜をガラス基板上に前
記屈折率ｎ4の膜、前記屈折率ｎ3の膜、前記屈折率ｎ1
の膜の順にすることが好ましい。
【００２６】前記膜の最表面、即ち最外層である屈折率
ｎ4の膜のさらに外側は、酸化錫膜や酸化チタン膜の結
晶構造を利用することによって凹凸状にすることができ
る。この上に酸化珪素などのオーバーコート膜を形成さ
せることによって、親水性が得られ、さらにその親水性
能が長時間維持されるものが得られる。
ｎ4の膜のさらに外側は、酸化錫膜や酸化チタン膜の結
晶構造を利用することによって凹凸状にすることができ
る。この上に酸化珪素などのオーバーコート膜を形成さ
せることによって、親水性が得られ、さらにその親水性
能が長時間維持されるものが得られる。
【００２７】各層を作成する方法は、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、ゾルゲル法、液相析出法、焼き付け法、
スプレー法、ＣＶＤ法など何でも良いが、高温ガラス上
に原料を供給し、ガラスの持つ熱を利用して成膜させる
熱分解スプレー法及びＣＶＤ法が有効である。
ッタリング法、ゾルゲル法、液相析出法、焼き付け法、
スプレー法、ＣＶＤ法など何でも良いが、高温ガラス上
に原料を供給し、ガラスの持つ熱を利用して成膜させる
熱分解スプレー法及びＣＶＤ法が有効である。
【００２８】ガラス基板は前記膜を形成できるようなも
のであれば何でも良いが、ソーダライムガラスのような
生産性の良いフロート法で製造されるガラスが好まし
い。
のであれば何でも良いが、ソーダライムガラスのような
生産性の良いフロート法で製造されるガラスが好まし
い。
【００２９】前記高温ガラスは予め形成されたガラスを
再度加熱しても良いが、フロートガラス製造時のフロー
トバス内やフロートバスから出てきたガラス表面に原料
を供給して成膜させる方法、いわゆるオンライン成膜法
を利用すると加熱装置が不要、大面積への成膜が可能と
なるため、より好ましい。
再度加熱しても良いが、フロートガラス製造時のフロー
トバス内やフロートバスから出てきたガラス表面に原料
を供給して成膜させる方法、いわゆるオンライン成膜法
を利用すると加熱装置が不要、大面積への成膜が可能と
なるため、より好ましい。
【００３０】また前記熱分解法と他の製法を組み合わせ
て作成する方法、例えば前記屈折率ｎ1の膜、前記屈折
率ｎ2の膜、前記屈折率ｎ3の膜を熱分解法にて作製し、
屈折率ｎ4の膜をゾルゲル法、スパッタリング法で作製
するような方法を用いても良い。
て作成する方法、例えば前記屈折率ｎ1の膜、前記屈折
率ｎ2の膜、前記屈折率ｎ3の膜を熱分解法にて作製し、
屈折率ｎ4の膜をゾルゲル法、スパッタリング法で作製
するような方法を用いても良い。
【００３１】熱分解法にて珪素膜を成膜する場合に使用
する原料は、例えばモノシランやジシランのようなシラ
ンガスやジクロロシラン、四塩化珪素などが挙げられ
る。
する原料は、例えばモノシランやジシランのようなシラ
ンガスやジクロロシラン、四塩化珪素などが挙げられ
る。
【００３２】熱分解法にて酸化珪素膜を成膜する場合に
使用する原料は、珪素原料としては例えばモノシランガ
スやジシランガスなどのシランガスやジクロロシラン、
四塩化珪素などの無機化合物、テトラエトキシシラン、
テトラメトキシシラン、ジブトキシジアセトキシシラン
などの有機化合物が挙げられる。
使用する原料は、珪素原料としては例えばモノシランガ
スやジシランガスなどのシランガスやジクロロシラン、
四塩化珪素などの無機化合物、テトラエトキシシラン、
テトラメトキシシラン、ジブトキシジアセトキシシラン
などの有機化合物が挙げられる。
【００３３】また酸素源として、酸素、オゾン、アセト
ン、二酸化炭素などが挙げられる。シランガスを使用す
る場合、エチレンやエタンなどを添加すると酸化珪素膜
を安定して成膜できる。
ン、二酸化炭素などが挙げられる。シランガスを使用す
る場合、エチレンやエタンなどを添加すると酸化珪素膜
を安定して成膜できる。
【００３４】熱分解法にて酸化錫膜を成膜する場合に使
用する原料は、例えば四塩化錫などの無機化合物や、モ
ノメチル錫トリクロライド、モノブチル錫トリクロライ
ド、ジメチル錫ジクロライド、ジブチル錫ジクロライ
ド、テトラメチル錫、テトラブチル錫、ジブチル錫ジア
セテート、ジオクチル錫ジアセテートなどが挙げられ
る。
用する原料は、例えば四塩化錫などの無機化合物や、モ
ノメチル錫トリクロライド、モノブチル錫トリクロライ
ド、ジメチル錫ジクロライド、ジブチル錫ジクロライ
ド、テトラメチル錫、テトラブチル錫、ジブチル錫ジア
セテート、ジオクチル錫ジアセテートなどが挙げられ
る。
【００３５】熱分解法にて酸化チタン膜を成膜する場合
に使用する原料は、例えば四塩化チタンや、チタンイソ
プロポキシド、アセチルアセトナートチタンなどが挙げ
られる。
に使用する原料は、例えば四塩化チタンや、チタンイソ
プロポキシド、アセチルアセトナートチタンなどが挙げ
られる。
【００３６】熱分解法にて形成させた膜は、加熱処理に
よる劣化が起こらないため、光反射体作製後、強化処理
や曲げ加工処理することも可能となる。
よる劣化が起こらないため、光反射体作製後、強化処理
や曲げ加工処理することも可能となる。
【００３７】（実施例）図１の（ａ）〜（ｃ）は本発明
の光反射体の例を示す拡大断面図である。（ａ）の断面
図に示す実施例にあっては、ガラス基板１の表面に珪素
膜２、酸化珪素膜３、酸化錫膜４、酸化チタン膜５を順
次形成している。凹凸の平均間隔（Ｓｍ）の測定は、原
子間力顕微鏡（ＡＦＭ）や電子顕微鏡を用いて観察し、
測定した断面曲線から計算した。尚、凹凸の平均間隔
（Ｓｍ）は４ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましい。
また表面粗度（Ｒa）は１．５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲で
あることが好ましい。
の光反射体の例を示す拡大断面図である。（ａ）の断面
図に示す実施例にあっては、ガラス基板１の表面に珪素
膜２、酸化珪素膜３、酸化錫膜４、酸化チタン膜５を順
次形成している。凹凸の平均間隔（Ｓｍ）の測定は、原
子間力顕微鏡（ＡＦＭ）や電子顕微鏡を用いて観察し、
測定した断面曲線から計算した。尚、凹凸の平均間隔
（Ｓｍ）は４ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましい。
また表面粗度（Ｒa）は１．５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲で
あることが好ましい。
【００３８】（ｂ）の断面図に示す実施例にあっては、
ガラス基板１と珪素膜２との間に下地膜６として酸化錫
膜を形成している。また、（ｃ）の断面図に示す実施例
にあっては、ガラス基板１の裏面に不透明層７を形成し
ている。
ガラス基板１と珪素膜２との間に下地膜６として酸化錫
膜を形成している。また、（ｃ）の断面図に示す実施例
にあっては、ガラス基板１の裏面に不透明層７を形成し
ている。
【００３９】図２は、本発明の光反射体の製造用フロー
トガラス製造ラインにおける成膜装置の配置を示す外略
図の一例である。本実施例では図２に示すようなフロー
トガラス作製時のフロートバス１３内にて熱分解ＣＶＤ
法にて前記膜を形成した。成膜はガラスが所定の厚さに
形成された後、高温時、即ちガラス温度が６００℃〜７
５０℃の範囲にて行われる。各膜の成膜のためにそれぞ
れ成膜装置１５〜１９をフロートバス１３内に挿入し、
珪素膜は窒素で希釈されたモノシランを、酸化珪素膜は
窒素で希釈されたモノシラン、エチレン、酸素を、酸化
錫膜は窒素で希釈されたジメチル錫ジクロライド、酸
素、水を、酸化チタン膜は窒素で希釈されたチタンイソ
プロポキシド、酸素を各成膜装置に供給して成膜した。
トガラス製造ラインにおける成膜装置の配置を示す外略
図の一例である。本実施例では図２に示すようなフロー
トガラス作製時のフロートバス１３内にて熱分解ＣＶＤ
法にて前記膜を形成した。成膜はガラスが所定の厚さに
形成された後、高温時、即ちガラス温度が６００℃〜７
５０℃の範囲にて行われる。各膜の成膜のためにそれぞ
れ成膜装置１５〜１９をフロートバス１３内に挿入し、
珪素膜は窒素で希釈されたモノシランを、酸化珪素膜は
窒素で希釈されたモノシラン、エチレン、酸素を、酸化
錫膜は窒素で希釈されたジメチル錫ジクロライド、酸
素、水を、酸化チタン膜は窒素で希釈されたチタンイソ
プロポキシド、酸素を各成膜装置に供給して成膜した。
【００４０】（実施例１〜５及び比較例１〜４）実施例
１〜５及び比較例１〜４は、上記成膜装置１５〜１９を
用いてガラス表面上に所定の膜厚の珪素膜、酸化珪素
膜、酸化錫膜、酸化チタン膜を順次形成後、レヤーで徐
冷し、その後洗浄、切断して１００ｍｍ×１００ｍｍの
大きさのガラス板を作製した。
１〜５及び比較例１〜４は、上記成膜装置１５〜１９を
用いてガラス表面上に所定の膜厚の珪素膜、酸化珪素
膜、酸化錫膜、酸化チタン膜を順次形成後、レヤーで徐
冷し、その後洗浄、切断して１００ｍｍ×１００ｍｍの
大きさのガラス板を作製した。
【００４１】（実施例６〜１２及び比較例５）実施例６
〜１２及び比較例５は、上記成膜装置１５〜１９を用い
てガラス表面上に所定の膜厚の酸化錫膜（下地膜）、珪
素膜、酸化珪素膜、酸化錫膜、酸化チタン膜を順次形成
後、レヤーで徐冷し、その後洗浄、切断して１００ｍｍ
×１００ｍｍの大きさのガラス板を作製した。
〜１２及び比較例５は、上記成膜装置１５〜１９を用い
てガラス表面上に所定の膜厚の酸化錫膜（下地膜）、珪
素膜、酸化珪素膜、酸化錫膜、酸化チタン膜を順次形成
後、レヤーで徐冷し、その後洗浄、切断して１００ｍｍ
×１００ｍｍの大きさのガラス板を作製した。
【００４２】本実施例ではすべての膜をフロートバス１
３内にて熱分解法ＣＶＤ法を用いて成膜したが、酸化珪
素膜や酸化錫膜、酸化チタン膜などの酸化物膜は徐冷部
１４にて成膜させても良い。この場合、ＣＶＤ法だけで
なく溶液や粉体原料を用いるスプレー法を行っても良
い。また熱分解法とその他の成膜法を組み合わせて作製
しても良い。例えば、珪素膜、酸化珪素膜、酸化錫膜を
熱分解法で成膜し、酸化チタン膜をゾルゲル法やスパッ
タリング法で成膜しても良い。
３内にて熱分解法ＣＶＤ法を用いて成膜したが、酸化珪
素膜や酸化錫膜、酸化チタン膜などの酸化物膜は徐冷部
１４にて成膜させても良い。この場合、ＣＶＤ法だけで
なく溶液や粉体原料を用いるスプレー法を行っても良
い。また熱分解法とその他の成膜法を組み合わせて作製
しても良い。例えば、珪素膜、酸化珪素膜、酸化錫膜を
熱分解法で成膜し、酸化チタン膜をゾルゲル法やスパッ
タリング法で成膜しても良い。
【００４３】前記方法にて形成された各実施例におい
て、珪素膜２、酸化珪素膜３、酸化錫膜４、酸化チタン
膜５、下地膜６はそれぞれ以下に示す膜厚になってお
り、膜表面側から入射した光の可視光反射率が７５％以
上でかつ反射色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指
数）で表したときに｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値が
０以上１０以下となっていた。 下地酸化錫膜：０ｎｍ以上１００ｎｍ以下 珪素膜 ：１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下 酸化珪素膜 ：３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下 酸化錫膜 ：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下 酸化チタン膜：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下
て、珪素膜２、酸化珪素膜３、酸化錫膜４、酸化チタン
膜５、下地膜６はそれぞれ以下に示す膜厚になってお
り、膜表面側から入射した光の可視光反射率が７５％以
上でかつ反射色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指
数）で表したときに｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値が
０以上１０以下となっていた。 下地酸化錫膜：０ｎｍ以上１００ｎｍ以下 珪素膜 ：１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下 酸化珪素膜 ：３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下 酸化錫膜 ：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下 酸化チタン膜：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下
【００４４】このときの珪素膜、酸化珪素膜、酸化錫
膜、酸化チタン膜の５５０ｎｍにおける屈折率は以下の
範囲になっていた。 珪素膜 ：４．１〜４．７ 酸化珪素膜 ：１．４４〜１．４６ 酸化錫膜 ：１．９〜２．１ 酸化チタン膜：２．３〜２．５
膜、酸化チタン膜の５５０ｎｍにおける屈折率は以下の
範囲になっていた。 珪素膜 ：４．１〜４．７ 酸化珪素膜 ：１．４４〜１．４６ 酸化錫膜 ：１．９〜２．１ 酸化チタン膜：２．３〜２．５
【００４５】各実施例および比較例における各層の膜厚
と、膜表面側から入射された光の可視光反射率、及び反
射色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指数）で表した
ときの、｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値を（表１）に
示す。なお、可視光反射率をＪＩＳ Ｒ３１０６−１９
９８に従って、反射色調をＪＩＳ Ｚ ８７２２−１９
８２に従って、島津製作所ＵＶ−３１００型分光光度計
により測定し、ＪＩＳＺ ８７２９−１９８０において
規定されるＬ*、ａ*、ｂ*表色系クロマティックネス指
数のａ*、ｂ*を計算した。
と、膜表面側から入射された光の可視光反射率、及び反
射色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指数）で表した
ときの、｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2の値を（表１）に
示す。なお、可視光反射率をＪＩＳ Ｒ３１０６−１９
９８に従って、反射色調をＪＩＳ Ｚ ８７２２−１９
８２に従って、島津製作所ＵＶ−３１００型分光光度計
により測定し、ＪＩＳＺ ８７２９−１９８０において
規定されるＬ*、ａ*、ｂ*表色系クロマティックネス指
数のａ*、ｂ*を計算した。
【００４６】
【表１】 （表１）に示したように、実施例１〜１２の膜構成では
可視光反射率が７５％以上で、且つ｛（ａ*）2＋
（ｂ*）2｝1/2が１０以下となっている。それに対し比
較例１〜５の膜構成では可視光反射率が７５％未満、あ
るいは｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2が１０より大きくな
っている。
可視光反射率が７５％以上で、且つ｛（ａ*）2＋
（ｂ*）2｝1/2が１０以下となっている。それに対し比
較例１〜５の膜構成では可視光反射率が７５％未満、あ
るいは｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2が１０より大きくな
っている。
【００４７】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
ガラス基板表面に直接あるいは下地膜を介して屈折率ｎ
1の膜、屈折率ｎ2の膜、屈折率ｎ3の膜、屈折率ｎ4の膜
を形成させたガラス基板において、酸化珪素などの低屈
折率ｎ2の膜を３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下にすることに
よって、膜表面の可視光反射率が７５％以上でかつ反射
色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指数）で表したと
きに、｛（ａ*）2＋（ｂ *）2｝1/2の値が０以上１０以
下となる光反射体を熱分解を用いて歩留まり良く、さら
に効率よく生産することができ、製造コストを低減する
ことができる。また最表面を耐久性の良い膜で覆うこと
により、保護膜などの特殊な処理が不必要となる。
ガラス基板表面に直接あるいは下地膜を介して屈折率ｎ
1の膜、屈折率ｎ2の膜、屈折率ｎ3の膜、屈折率ｎ4の膜
を形成させたガラス基板において、酸化珪素などの低屈
折率ｎ2の膜を３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下にすることに
よって、膜表面の可視光反射率が７５％以上でかつ反射
色調をａ*、ｂ*（クロマティックネス指数）で表したと
きに、｛（ａ*）2＋（ｂ *）2｝1/2の値が０以上１０以
下となる光反射体を熱分解を用いて歩留まり良く、さら
に効率よく生産することができ、製造コストを低減する
ことができる。また最表面を耐久性の良い膜で覆うこと
により、保護膜などの特殊な処理が不必要となる。
【図1】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ本発明の光
反射体の例を示す拡大断面図。
反射体の例を示す拡大断面図。
【図２】本発明に係る光反射体の製造用フロートガラス
製造ラインでの成膜装置の配置を示す外略図。
製造ラインでの成膜装置の配置を示す外略図。
１…ガラス基板、２…屈折率ｎ1の膜（珪素膜）、３…
屈折率ｎ2の膜（酸化珪素膜）、４…屈折率ｎ3の膜（酸
化錫膜）、５…屈折率ｎ4の膜（酸化チタン膜）、６…
下地膜（酸化錫膜）、７…不透明層、１１…ガラス、１
２…溶融窯、１３…フロートバス、１４…徐冷部、１
５，１６，１７，１８，１９…成膜装置。
屈折率ｎ2の膜（酸化珪素膜）、４…屈折率ｎ3の膜（酸
化錫膜）、５…屈折率ｎ4の膜（酸化チタン膜）、６…
下地膜（酸化錫膜）、７…不透明層、１１…ガラス、１
２…溶融窯、１３…フロートバス、１４…徐冷部、１
５，１６，１７，１８，１９…成膜装置。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年５月２４日（２０００．５．２
４）
４）
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 末吉 幸雄 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 DA06 DA08 DA12 DA15 DA18 DC02 DC03 DC08 DE08 2H048 FA05 FA07 FA09 FA15 FA24 4G059 AA11 AB14 AC05 EA02 EA04 EA05 EA13 EB01 GA02 GA04 GA12
Claims (12)
- 【請求項１】 ガラス基板の一方の主表面上に、５５０
ｎｍの波長において屈折率ｎ1の膜、前記波長において
屈折率ｎ2の膜、前記波長において屈折率ｎ3の膜、前記
波長において屈折率ｎ4の膜を順次形成させてなる光反
射体であって、前記屈折率ｎ1、ｎ2、ｎ3、ｎ4の関係が
ｎ1≧ｎ4＞ｎ3＞ｎ2であり、前記屈折率ｎ2の膜の膜厚
が３０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、前記屈折率ｎ4の
膜表面の可視光反射率が７５％以上であり、前記屈折率
ｎ4の膜表面の反射色調をａ*、ｂ *（クロマティックネ
ス指数）で表したときに、｛（ａ*）2＋（ｂ*）2｝1/2
の値が０以上１０以下であることを特徴とする光反射
体。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光反射体において、前
記屈折率ｎ2の膜が酸化珪素（ＳiＯ2）を主成分とする
ことを特徴とする光反射体。 - 【請求項３】 請求項１に記載の光反射体において、前
記屈折率ｎ3の膜が酸化錫（ＳnＯ）を主成分とすること
を特徴とする光反射体。 - 【請求項４】 請求項１に記載の光反射体において、前
記屈折率ｎ4の膜が酸化チタン（ＴiＯ2）を主成分とす
ることを特徴とする光反射体。 - 【請求項５】 請求項１に記載の光反射体において、前
記屈折率ｎ1の膜が珪素（Ｓi）を主成分とすることを特
徴とする光反射体。 - 【請求項６】 請求項１乃至請求項５のいずれか１項に
記載の光反射体において、前記屈折率ｎ1の膜と前記ガ
ラス基板との間に下地膜が形成されることを特徴とする
光反射体。 - 【請求項７】 請求項６に記載の光反射体において、前
記下地膜が酸化錫膜であることを特徴とする光反射体。 - 【請求項８】 請求項１乃至請求項７のいずれか１項に
記載の光反射体において、前記屈折率ｎ1の膜、屈折率
ｎ3の膜、屈折率ｎ4の膜の膜厚がそれぞれ以下の範囲で
あることを特徴とする光反射体。 屈折率ｎ1の膜 ：１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下 屈折率ｎ3の膜 ：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下 屈折率ｎ4の膜 ：１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下 - 【請求項９】 請求項１乃至請求項８のいずれか１項に
記載の光反射体において、前記ガラス基板の非膜面側に
不透明層を形成することを特徴とする光反射体。 - 【請求項１０】 請求項１乃至請求項９に記載の光反射
体の製造方法であって、ガラス基板の一方の主表面上
に、５５０ｎｍの波長において屈折率ｎ1の膜、前記波
長において屈折率ｎ2の膜、前記波長において屈折率ｎ3
の膜及び前記波長において屈折率ｎ4（但し、ｎ1≧ｎ4
＞ｎ3＞ｎ2）の膜を順次形成することを特徴とする光反
射体の製造方法。 - 【請求項１１】 請求項１０に記載の光反射体の製造方
法において、前記ガラス基板と前記屈折率ｎ1の膜との
間に下地膜を形成することを特徴とする光反射体の製造
方法。 - 【請求項１２】 請求項１０または請求項１１に記載の
光反射体の製造方法において、前記高温のガラス表面に
熱分解法にて前記下地膜、前記屈折率ｎ1の膜、前記屈
折率ｎ2の膜、前記屈折率ｎ3の膜、前記屈折率ｎ4の膜
を順次形成することを特徴とする光反射体の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11132372A JP2000327373A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 光反射体及びその製造方法 |
| AT00304033T ATE281656T1 (de) | 1999-05-13 | 2000-05-12 | Optischer reflektor und sein herstellungsverfahren |
| EP00304033A EP1054271B1 (en) | 1999-05-13 | 2000-05-12 | Optical reflector and manufacturing method thereof |
| US09/569,786 US6396633B1 (en) | 1999-05-13 | 2000-05-12 | Optical reflector and manufacturing method thereof |
| DE60015429T DE60015429D1 (de) | 1999-05-13 | 2000-05-12 | Optischer Reflektor und sein Herstellungsverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11132372A JP2000327373A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 光反射体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000327373A true JP2000327373A (ja) | 2000-11-28 |
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ID=15079840
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|---|---|---|---|
| JP11132372A Withdrawn JP2000327373A (ja) | 1999-05-13 | 1999-05-13 | 光反射体及びその製造方法 |
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|---|---|
| US (1) | US6396633B1 (ja) |
| EP (1) | EP1054271B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000327373A (ja) |
| AT (1) | ATE281656T1 (ja) |
| DE (1) | DE60015429D1 (ja) |
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| JP2013250318A (ja) * | 2012-05-30 | 2013-12-12 | Nidek Co Ltd | 多層膜フィルタ、及び多層膜フィルタの製造方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2009080741A2 (en) * | 2007-12-21 | 2009-07-02 | Agc Flat Glass Europe Sa | Solar energy reflector |
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