JP2000323059A - Cathode-ray tube - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a good image characteristic in the whole area of a screen by decreasing distortion according to an anti-symmetrical coma constituent of a side beam generated at a periphery of the screen. SOLUTION: A quadrupole lens is formed between grids G51, G52 and a final focusing lens is formed between grids G52, GM1 in a first lens area, and each final focusing lens is formed between grids GM1, GM2 and between grids GM2, G6 in a second and a third lens areas. The quadrupole lens does not give a function for changing a side beam orbit, and has a deflection means for generating deflection forces 1, 3 that bend side beam in a center beam direction in synchronism with deflection of an electron beam according to a deflection magnetic field in the first, the third lens areas, and has a deflection means for generating a deflection force 2 that bends the side beam in a direction reverse to the center beam direction in synchronism with deflection of an electron beam according to a deflection magnetic field in the second area, and those deflection forces have a structure to offset each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、陰極線管に係
り、特に、ダイナミックアスティグ補償を行う電子銃を
搭載する陰極線管に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cathode ray tube, and more particularly to a cathode ray tube having an electron gun for performing dynamic astig compensation.

【０００２】[0002]

【従来の技術】一般に、カラー受像管は、図１に示すよ
うに、パネルｌ及びこのパネルｌに一体に接合されたフ
ァンネル２からなる外囲器を有し、そのパネルｌの内面
に、青、緑、赤に発光するストライプ状或いはドット状
の３色蛍光体層からなる蛍光体スクリーン３（ターゲッ
ト）が形成されている。この蛍光体スクリーン３に対向
して、その内側に多数のアパーチャの形成されたシャド
ウマスク４がパネルｌの内面に装着されている。一方、
ファンネル２のネック５内には、３電子ビーム６Ｂ，６
Ｇ，６Ｒを放出する電子銃７が配設されている。そし
て、この電子銃７から放出される３電子ビーム６Ｂ，６
Ｇ，６Ｒは、ファンネル２の外側に装着された偏向ヨー
ク８の発生する水平並びに垂直偏向磁界により偏向され
てシャドウマスク４を介して蛍光体スクリーン３に向け
られ、蛍光体スクリーン３がこの３電子ビーム６Ｂ，６
Ｇ，６Ｒによって水平並びに垂直に走査されることによ
り、カラー画像が表示される。2. Description of the Related Art Generally, as shown in FIG. 1, a color picture tube has a panel 1 and an envelope composed of a funnel 2 integrally joined to the panel 1, and an inner surface of the panel 1 has a blue color. , A phosphor screen 3 (target) formed of a striped or dot-shaped three-color phosphor layer that emits green and red light. Opposed to the phosphor screen 3, a shadow mask 4 having a large number of apertures formed inside is mounted on the inner surface of the panel l. on the other hand,
In the neck 5 of the funnel 2, three electron beams 6B, 6
An electron gun 7 for emitting G and 6R is provided. The three electron beams 6B and 6 emitted from the electron gun 7
G and 6R are deflected by the horizontal and vertical deflection magnetic fields generated by the deflection yoke 8 mounted outside the funnel 2 and directed to the phosphor screen 3 via the shadow mask 4, and the phosphor screen 3 is Beam 6B, 6
By scanning horizontally and vertically by G and 6R, a color image is displayed.

【０００３】このようなカラー受像管においては、セル
フコンバーゼンス方式のインライン型カラー受像管が広
く実用化されている。このセルフコンバーゼンス方式イ
ンライン型カラー受像管では、電子銃７を同一水平面状
を通るセンタービーム６Ｇ及びその両側の一対のサイド
ビーム６Ｂ，６Ｒからなる一列配置の３電子ビーム６
Ｂ，６Ｇ，６Ｒを放出するインライン型電子銃が採用さ
れ、電子銃の主レンズ部分の低圧側と高圧側のグリッド
のサイドビームが通過する孔の位置を偏心させることに
よって、スクリーン中央において３本の電子ビームを集
中させている。また、偏向ヨーク８の発生する水平偏向
磁界をビンクッション形及び垂直偏向磁界をバレル形と
して、上記一列配置の３電子ビーム６Ｂ，６Ｇ，６Ｒを
画面全域で自己集中させている。In such a color picture tube, a self-convergence type in-line color picture tube has been widely put into practical use. In this self-convergence type in-line type color picture tube, the three electron beams 6 arranged in a line composed of a center beam 6G passing through the electron gun 7 in the same horizontal plane and a pair of side beams 6B and 6R on both sides thereof.
An in-line type electron gun that emits B, 6G, and 6R is adopted. By eccentrically positioning the holes through which the side beams of the grid on the low-voltage side and the high-voltage side of the main lens portion of the electron gun are positioned, three lines are provided at the center of the screen. Focusing the electron beam. The horizontal deflection magnetic field generated by the deflection yoke 8 is a bincushion type and the vertical deflection magnetic field is a barrel type. The three electron beams 6B, 6G, and 6R arranged in a line are concentrated on the entire screen.

【０００４】この様なセルフコンバーゼンス方式インラ
イン型カラー受像管では、非斉一磁界中を通過した電子
ビームは、非点収差を受け、特に、蛍光体スクリーンの
周辺部に達する電子ビームは、そのビームスポットが歪
み、解像度が著しく劣化される。このような偏向収差に
よる解像度の劣化を解決する手段として、昨今、特開昭
６１−９９２４９号公報及び特開平２ー７２５４６号公
報に開示されているような、ダイナミックフォーカスタ
イプの電子銃が開発されている。これらの電子銃は、い
ずれも基本的には、第１乃至第５グリッドからなり、電
子ビームの進行方向に沿って、電子ビームを発生する電
子ビーム発生部、４極子レンズ、最終集束レンズを有
し、前記４極子レンズは、互いに隣接する第３及び第４
電極の対向面に、各３個の非対称の電子ビーム通過孔を
設けることにより形成される。この４極子レンズと最終
集束レンズが前記偏向ヨークの磁界の変化と同期して変
化されることによって、画面周辺に偏向される電子ビー
ムが偏向磁界の偏向収差を受けて著しく歪むことが補正
される。In such a self-convergence type in-line color picture tube, an electron beam passing through a non-uniform magnetic field is subjected to astigmatism. In particular, an electron beam reaching a peripheral portion of a phosphor screen is subjected to a beam spot. Is distorted, and the resolution is significantly deteriorated. As means for solving the deterioration of resolution due to such a deflection aberration, a dynamic focus type electron gun has been recently developed as disclosed in JP-A-61-99249 and JP-A-2-72546. ing. Each of these electron guns basically comprises first to fifth grids, and has an electron beam generator for generating an electron beam, a quadrupole lens, and a final focusing lens along the traveling direction of the electron beam. The quadrupole lens includes third and fourth lenses adjacent to each other.
It is formed by providing three asymmetric electron beam passage holes on the opposing surface of the electrode. When the quadrupole lens and the final focusing lens are changed in synchronization with the change in the magnetic field of the deflection yoke, the electron beam deflected to the periphery of the screen is corrected to be significantly distorted due to the deflection aberration of the deflection magnetic field. .

【０００５】また、このような電子銃としてその最終集
束レンズが電子ビーム進行方向に拡張されている拡張電
界型であり、そのカソード側に４極子レンズを付加した
ダイナミックフォーカスタイプの電子銃も開発されてい
る。このようなダイナミックフォーカスタイプの電子銃
は、例えば、特開昭６４−３８９４７に開示されてい
る。最終集束レンズとそのカソード側との間に４極子レ
ンズを有するダイナミックフォーカスタイプの電子銃で
は、画面中央から画面周辺に向かって、電子ビ−ムが偏
向磁界により偏向される時に、最終集束レンズのレンズ
パワーが弱められ、４極子レンズのレンズ作用が変化さ
れて画面全域でのフオーカス特性が向上される。しか
し、このタイプでは、最終集束レンズが弱まる際にサイ
ドビームの軌道が変化してしまう現象がある。この現象
は、従来の電子銃では、４極子レンズにサイドビームの
軌道を変化させる手段を付加して解決している。Further, as such an electron gun, a dynamic focus type electron gun in which a final focusing lens is extended in an electron beam traveling direction and an quadrupole lens is added to a cathode side thereof has been developed. ing. Such a dynamic focus type electron gun is disclosed in, for example, JP-A-64-38947. In a dynamic focus type electron gun having a quadrupole lens between the final focusing lens and its cathode side, when the electron beam is deflected by the deflecting magnetic field from the center of the screen toward the periphery of the screen, the electron focusing of the final focusing lens is performed. The lens power is weakened, the lens function of the quadrupole lens is changed, and the focus characteristic over the entire screen is improved. However, in this type, there is a phenomenon that the trajectory of the side beam changes when the final focusing lens weakens. This phenomenon is solved in the conventional electron gun by adding a means for changing the trajectory of the side beam to the quadrupole lens.

【０００６】しかしながら、このようなダイナミックフ
オーカスタイプの電子銃では、図２に実線で示されるよ
うに画面中央部に集束されている際のサイドビーム軌道
Ａと、破線で示される画面周辺部に集束されている時の
サイドビーム軌道Ｂとでは、最終集束レンズを通過する
際の軌道が異なってしまう。これは、最終集束レンズの
カソード側に付加された４極子レンズにより、画面中央
部から画面周辺部にかけて、電子ビームが偏向される
際、軌道が曲げられ、最終集束レンズへのサイドビーム
の入射位置並びに入射角度が異なる為である。However, in such a dynamic focus type electron gun, the side beam trajectory A when focused on the center of the screen as shown by the solid line in FIG. The trajectory when passing through the final focusing lens is different from the side beam trajectory B when focusing is performed. This is because when the electron beam is deflected from the center of the screen to the periphery of the screen by the quadrupole lens added to the cathode side of the final focusing lens, the trajectory is bent, and the incident position of the side beam on the final focusing lens In addition, the incident angles are different.

【０００７】このように最終集束レンズ内を通過するサ
イドビームの軌道が異なってくると、画面中央部に電子
ビームが集束される場合（図中では、実線の軌道：Ａ）
では、インライン軸上の左右に均等に最終集束レンズの
球面収差を受け、画面上に丸く集束されるのに対し、画
面周辺部に電子ビームが偏向される場合（図中では、破
線の軌道：Ｂ）のサイドビームは、最終集束レンズでセ
ンタービームにより近ずくようにこの最終集束レンズを
通過することとなり、その結果、最終集束レンズのセン
タービームに比べてより球面収差を受けることとなる。
従って、画面周辺に偏向されるサイドビームのビームス
ポットは、図３に示すようにセンタービーム軌道とは、
反対側にハローを有するように歪む問題がある。この
為、画面の周辺部に偏向されるサイドビームスポット
は、左右非対称のコマ成分による歪みを有し、画面周辺
での画像特性が劣化される問題がある。If the trajectories of the side beams passing through the final focusing lens are different, the electron beam is focused at the center of the screen (the trajectory indicated by the solid line in the figure: A).
In this case, the spherical aberration of the final focusing lens is evenly distributed to the left and right on the in-line axis, and the beam is converged round on the screen, while the electron beam is deflected to the periphery of the screen (in FIG. The side beam of B) passes through the final focusing lens so as to be closer to the center beam at the final focusing lens, and as a result, suffers more spherical aberration than the center beam of the final focusing lens.
Therefore, the beam spot of the side beam deflected to the periphery of the screen is, as shown in FIG.
There is the problem of distortion to have a halo on the other side. For this reason, the side beam spot deflected to the peripheral portion of the screen has distortion due to asymmetrical coma components, and there is a problem that image characteristics around the screen are deteriorated.

【０００８】また、このような画面周辺部でのサイドビ
ームの歪み現象は、特に電子ビ−ム進行方向に拡張され
た拡張電界型の最終集束レンズを有し、そのカソード側
に４極子レンズを付加している電子銃では、最終集束レ
ンズが電子ビ−ム進行方向に比較的長いため、画像特性
の劣化が顕著に現れることとなる。The side beam distortion phenomenon at the peripheral portion of the screen is particularly caused by an extended electric field type final focusing lens extended in the electron beam traveling direction, and a quadrupole lens on the cathode side. In the additional electron gun, since the final focusing lens is relatively long in the direction in which the electron beam travels, the deterioration of the image characteristics appears remarkably.

【０００９】[0009]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、セルフ
コンバーゼンス方式のインライン型カラー受像管では、
非斉一磁界中を通過した電子ビームは、非点収差を受
け、特に、蛍光体スクリーンの周辺部に達する電子ビー
ムは、そのビームスポットが歪み、解像度が著しく劣化
される。これを解決する為に、ダイナミックフォーカス
タイプの電子銃が開発され、４極子レンズと最終集束レ
ンズが前記偏向ヨークの磁界の変化と同期して変化する
ことによって、画面周辺に偏向される電子ビームが偏向
磁界の偏向収差を受け著しく歪むことが補正される。As described above, in a self-convergence type in-line type color picture tube,
The electron beam that has passed through the non-uniform magnetic field undergoes astigmatism. In particular, the electron beam reaching the peripheral portion of the phosphor screen has a distorted beam spot, and the resolution is significantly deteriorated. In order to solve this, a dynamic focus type electron gun has been developed, and the quadrupole lens and the final focusing lens change in synchronization with the change in the magnetic field of the deflection yoke, so that the electron beam deflected around the screen is changed. Significant distortion due to the deflection aberration of the deflection magnetic field is corrected.

【００１０】また、このようなダイナミックフォーカス
タイプの電子銃には、最終集束レンズが電子ビーム進行
方向に拡張された拡張電界型の最終集束レンズを有し、
そのカソード側に４極子レンズを付加したものがある。
このようなダイナミックフォーカスタイプの電子銃で
は、画面中央から画面周辺に向かって、電子ビ−ムが偏
向磁界により偏向される時に、最終集束レンズが弱めら
れ、４極子レンズのレンズ作用が変化されて画面全域で
のフオーカス特性が向上される。しかし、このタイプで
は、最終集束レンズが弱まる際にサイドビームの軌道が
変化してしまう現象がある。このような現象は、従来の
電子銃では、４極子レンズにサイドビームの軌道を変化
させる機能を与えて解決している。Further, such a dynamic focus type electron gun has an extended electric field type final focusing lens in which the final focusing lens is extended in the electron beam traveling direction.
There is one in which a quadrupole lens is added to the cathode side.
In such a dynamic focus type electron gun, when the electron beam is deflected by the deflecting magnetic field from the center of the screen toward the periphery of the screen, the final focusing lens is weakened, and the lens action of the quadrupole lens is changed. Focus characteristics over the entire screen are improved. However, in this type, there is a phenomenon that the trajectory of the side beam changes when the final focusing lens weakens. In a conventional electron gun, such a phenomenon is solved by giving the quadrupole lens a function of changing the trajectory of the side beam.

【００１１】しかしながら、このようなタイプの電子銃
では、画面中央部に集束されるサイドビーム軌道と、画
面周辺部に集束されるサイドビーム軌道とでは、最終集
束レンズを通過する際の軌道が異なってしまう。このよ
うに最終集束レンズ内を通過するサイドビームの軌道が
異なると、画面中央部に電子ビームが集束される場合に
は、インライン軸上の左右に均等に最終集束レンズの球
面収差を受け、画面上に丸く集束されるのに対し、画面
周辺部に電子ビームが偏向される場合には、サイドビー
ムが最終集束レンズでセンタービームにより近ずくよう
に最終集束レンズを通過することとなる。その結果、最
終集束レンズのセンタービームに比べてより球面収差を
受け、画面周辺に偏向されるサイドビームのビームスポ
ットは、ハローを有するように歪む問題がある。この
為、画面の周辺部に偏向されるサイドビームスポット
は、左右非対称のコマ成分による歪みを有し、画面周辺
での画像特性が劣化される。特に、拡張電界型の最終集
束レンズを有し、そのカソード側に４極子レンズを付加
している電子銃では、最終集束レンズが電子ビ−ム進行
方向に比較的長いため、画像特性の劣化が顕著に現れる
問題がある。However, in such an electron gun, the trajectory when passing through the final focusing lens is different between the side beam trajectory focused at the center of the screen and the side beam trajectory focused at the periphery of the screen. Would. If the trajectory of the side beam passing through the final focusing lens is different in this way, when the electron beam is focused at the center of the screen, the spherical aberration of the final focusing lens is evenly distributed to the left and right on the in-line axis, If the electron beam is deflected toward the periphery of the screen while being focused upward, the side beam passes through the final focusing lens so as to be closer to the center beam by the final focusing lens. As a result, there is a problem that the beam spot of the side beam deflected to the periphery of the screen is distorted so as to have a halo due to more spherical aberration than the center beam of the final focusing lens. For this reason, the side beam spot deflected to the peripheral portion of the screen has a distortion due to the asymmetrical frame component, and the image characteristics around the screen are degraded. In particular, in an electron gun having an extended electric field type final focusing lens and a quadrupole lens added to the cathode side, the image quality is degraded because the final focusing lens is relatively long in the electron beam traveling direction. There is a problem that stands out.

【００１２】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
であり、その目的は、画面周辺で生じるサイドビームの
左右非対称のコマ成分による歪みを軽減することによ
り、画面全域における良好な画像特性を得ることにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to reduce distortion caused by asymmetrical frame components of a side beam generated around a screen, thereby improving good image characteristics over the entire screen. To get.

【００１３】[0013]

【課題を解決するための手段】インライン方向に配置さ
れた３本の電子ビームを形成、射出する電子ビーム形成
部と、この電子ビームを加速集束させる主電子レンズ部
とを有する電子銃と、この電子銃から放出した電子ビー
ムを画面上、水平並びに垂直方向に偏向走査する偏向磁
界を発生する偏向ヨークとを少なくとも備えた陰極線管
において、前記主電子レンズ部は、少なくともその連続
的に変化する軸上電位分布によって形成され、その電位
分布内の電子ビーム進行方向に順次第１、第２、第３の
レンズ領域が形成され、前記各レンズ領域には、前記偏
向磁界に同期してサイドビーム軌道を変化させる手段を
有し、各レンズ領域のサイドビーム軌道の変化は、互い
にその変化を略打ち消すように作用する構造を有する。
ここで、サイドビームの軌跡を変化せしめるとは、サイ
ドビームの軌道と偏向方向を変化させることに該当す
る。An electron gun having an electron beam forming unit for forming and emitting three electron beams arranged in an in-line direction, and a main electron lens unit for accelerating and focusing the electron beams. And a deflection yoke for generating a deflection magnetic field for horizontally and vertically deflecting and scanning an electron beam emitted from an electron gun on a screen, wherein the main electron lens unit has at least its continuously changing axis. The first, second, and third lens regions are sequentially formed in the electron beam traveling direction within the potential distribution, and a side beam trajectory is formed in each of the lens regions in synchronization with the deflection magnetic field. , And has a structure in which a change in the side beam trajectory of each lens area acts so as to substantially cancel each other.
Here, changing the trajectory of the side beam corresponds to changing the trajectory and the deflection direction of the side beam.

【００１４】また、インライン方向に配置された３本の
電子ビームを形成し、射出する電子ビーム形成部と、こ
の電子ビームを加速集束させる主電子レンズ部を有する
電子銃と、この電子銃から放出した電子ビームを画面
上、水平並びに垂直方向に偏向走査する偏向磁界を発生
する偏向ヨークとを少なくとも備えた陰極線管におい
て、前記主電子レンズ部は、少なくともその連続的に変
化する軸上電位分布によって形成され、その軸上電位分
布内において電子ビ−ム進行方向に順次第１、第２、第
３のレンズ領域を有し、前記偏向磁界に同期して第１及
び第３のレンズ領域のサイドビ−ム軌道が変化する時、
その変化を打ち消すように、第２のレンズ領域にサイド
ビ−ム軌道を変化させる手段を有する構造を陰極線管
は、備えている。Further, an electron beam forming section for forming and emitting three electron beams arranged in the in-line direction, an electron gun having a main electron lens section for accelerating and converging the electron beam, and an electron beam emitted from the electron gun And a deflection yoke that generates a deflection magnetic field that deflects and scans the electron beam on the screen in the horizontal and vertical directions, wherein the main electron lens portion is at least formed by a continuously changing axial potential distribution. It has first, second, and third lens regions sequentially in the electron beam traveling direction within the on-axis potential distribution, and side beams of the first and third lens regions are synchronized with the deflection magnetic field. -When the trajectory changes,
The cathode ray tube has a structure having means for changing the side beam trajectory in the second lens area so as to cancel the change.

【００１５】図４には、このような陰極線管における電
子ビ−ム軌道が概略的に示されている。第１のレンズ領
域では、グリッドＧ５１とグリッドＧ５２間に４極子レ
ンズＱＬが形成され、グリッドＧ５２とグリッドＧＭ１
間に最終集束レンズが形成されている。また、第２レン
ズ領域では、グリッドＧＭ１及びグリッドＧＭ２間に最
終集束レンズが形成され、第３のレンズ領域では、グリ
ッドＧＭ２とグリッドＧ６間に最終集束レンズが形成さ
れている。グリッドＧ５１及びＧ５２間の４極子レンズ
ＱＬは、従来例として説明したような、サイドビーム軌
道を変化させる機能を与えず、グリッドＧ５２及びＧＭ
１間の最終集束レンズを構成する第１のレンズ領域に
は、前記偏向磁界による前記電子ビームの偏向に同期し
て、サイドビームをセンタービーム方向に曲げる偏向力
１を発生する偏向手段を有し、グリッドＧＭ１及びＧＭ
２間の最終集束レンズを構成する第２のレンズ領域に
は、前記偏向磁界による前記電子ビームの偏向に同期し
て、サイドビームをセンタービ−ム方向とは逆方向に曲
げる偏向力２を発生する偏向手段を有し、グリッドＧＭ
２及びＧ６間の最終集束レンズを構成する第３のレンズ
領域には、前記偏向磁界による前記電子ビームの偏向に
同期して、サイドビームをセンタービーム方向に曲げる
偏向力３を発生する偏向手段を有し、これら偏向手段の
発生する偏向力１、２、３は、互いに略打ち消すような
構造を有している。従って、図４に示されるようにサイ
ドビームが画面中央部に集束される場合の軌道（図中で
は実線の軌道：Ａ）と、画面周辺部にサイドビームが偏
向される場合の軌道（図中では破線の軌道：Ｂ）とで
は、、グリッドＧ５２及びグリッドＧＭ１間の最終集束
レンズを構成する第１のレンズ領域、グリッドＧＭ２及
びグリッドＧ６間の第３のレンズ領域とで略同じ軌道を
通過することとなる。このことにより、センタービ−ム
軌道とは反対側にコマ成分のハローを有する形状に歪む
ことが無く、画面周辺での画像特性を劣化させることが
防止される。FIG. 4 schematically shows an electron beam trajectory in such a cathode ray tube. In the first lens area, a quadrupole lens QL is formed between the grid G51 and the grid G52, and the grid G52 and the grid GM1 are formed.
A final focusing lens is formed in between. In the second lens area, a final focusing lens is formed between the grids GM1 and GM2, and in the third lens area, a final focusing lens is formed between the grids GM2 and G6. The quadrupole lens QL between the grids G51 and G52 does not provide the function of changing the side beam trajectory as described in the conventional example, and the grids G52 and GM
The first lens region constituting the final focusing lens between the first and second lens units has a deflecting means for generating a deflecting force 1 for bending a side beam toward a center beam in synchronization with the deflection of the electron beam by the deflecting magnetic field. , Grids GM1 and GM
In the second lens region constituting the final focusing lens between the two, a deflection force 2 for bending the side beam in the direction opposite to the center beam direction is generated in synchronization with the deflection of the electron beam by the deflection magnetic field. Having a deflecting means for changing the grid GM
A deflecting means for generating a deflecting force 3 for bending the side beam in the direction of the center beam in synchronization with the deflection of the electron beam by the deflecting magnetic field is provided in a third lens area constituting the final focusing lens between the second and G6. The deflecting forces 1, 2, and 3 generated by these deflecting means have a structure that substantially cancels each other. Accordingly, as shown in FIG. 4, the trajectory when the side beam is focused at the center of the screen (the trajectory indicated by the solid line in FIG. 4A) and the trajectory when the side beam is deflected toward the periphery of the screen (see FIG. In the trajectory indicated by the broken line: B), in the first lens area constituting the final focusing lens between the grid G52 and the grid GM1, and the third lens area between the grid GM2 and the grid G6, the trajectories pass substantially the same trajectory. It will be. As a result, a shape having a halo of a coma component on the side opposite to the center beam trajectory is not distorted, and deterioration of image characteristics around the screen is prevented.

【００１６】[0016]

【発明の実施の形態】以下図面を参照してこの発明の一
実施例に係る陰極線管について図面を参照して説明す
る。尚、この発明においては、陰極線管の構造は、電子
銃のみが異なることから、その陰極線管の構造について
は、詳述しない。詳しくは、図１を参照した従来例の説
明を参照されたい。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A cathode ray tube according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the present invention, the structure of the cathode ray tube differs from that of the electron gun only, so that the structure of the cathode ray tube will not be described in detail. For details, refer to the description of the conventional example with reference to FIG.

【００１７】（第１の実施例１）図５は、本発明の第１
の実施例を示す陰極線管の電子銃部分の概略断面図であ
る。図５において、第１グリッドＧｌ、第２グリッドＧ
２、第３グリッドＧ３、第４グリッドＧ４、第５グリッ
ドＧ５１、第６グリッドＧ５２、第７グリッドＧＭ１、
第８グリッドＧＭ２、第９グリッドＧ６、コンバーゼン
スカップがこの順序で配置され、絶縁支持体（図示せ
ず）により支持固定されている。図５に示すように第１
グリッドＧ１は、接地され、第２グリッドＧ２と第４グ
リッドＧ４とは、接続され、陰極線管の外部より直流電
圧Ｖ２が与えられ、第３グリッドＧ３と第６グリッドＧ
５２もまた接続され、陰極線管外部より前記偏向装置の
偏向磁界に同期した交流電圧が重畳された中位の直流電
圧（Ｖ３＋Ｖｄ）が与えられている。第５グリッドＧ５
１及び第８グリッドＧＭ２には、第９グリッドＧ６に陰
極線管外部より与えられる直流電圧Ｅｂを前記電子銃の
近傍に配置された抵抗器Ｒ１により、所望の比で分割さ
れた電圧（Ｖ５１，ＶＭ２）がそれぞれ与えられる。第
７グリッドＧＭ１には、第８グリッドＧＭ２に与えられ
た電圧ＶＭ２の電圧が抵抗器Ｒ２を介して与えられてい
る。この時、第５グリッドＧ５１に与えられる電圧Ｖ５
１と第６グリッドＧ５２に与えられる電圧（Ｖ３＋Ｖ
ｄ）は、略等しく、交流電圧Ｖｄによって第５グリッド
Ｇ５１及び第６グリッドＧ５２間の４極子レンズＱＬの
レンズパワーが変化される。FIG. 5 shows a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view of an electron gun portion of a cathode ray tube showing the embodiment of FIG. In FIG. 5, the first grid Gl and the second grid G
2, third grid G3, fourth grid G4, fifth grid G51, sixth grid G52, seventh grid GM1,
The eighth grid GM2, the ninth grid G6, and the convergence cup are arranged in this order, and are supported and fixed by an insulating support (not shown). As shown in FIG.
The grid G1 is grounded, the second grid G2 and the fourth grid G4 are connected, and a DC voltage V2 is applied from outside the cathode ray tube, and the third grid G3 and the sixth grid G
52 is also connected, and a medium-level DC voltage (V3 + Vd) on which an AC voltage synchronized with the deflection magnetic field of the deflection device is superimposed is supplied from outside the cathode ray tube. Fifth grid G5
The DC voltage Eb applied to the ninth grid G6 from the outside of the cathode ray tube is divided into a voltage (V51, VM2) divided by a resistor R1 arranged in the vicinity of the electron gun at the first and eighth grids GM2. ) Is given respectively. The voltage of the voltage VM2 applied to the eighth grid GM2 is applied to the seventh grid GM1 via the resistor R2. At this time, the voltage V5 applied to the fifth grid G51
1 and the voltage (V3 + V) applied to the sixth grid G52.
d) are substantially equal, and the lens power of the quadrupole lens QL between the fifth grid G51 and the sixth grid G52 is changed by the AC voltage Vd.

【００１８】また、第７グリッドＧＭ１及び第８グリッ
ドＧＭ２に印加される電圧ＶＭ２は、第６グリッドＧ５
２に供給される電圧Ｖ３と、第９グリッドＧ６に印加さ
れる電圧Ｅｂの略中間の電圧に定められている。従っ
て、第６グリッドＧ５２及び第７グリッドＧＭ１間に最
終集束レンズＥＬの第１のレンズ領域が形成され、第７
グリッドＧＭ１及び第８グリッドＧＭ２間に最終集束レ
ンズＥＬの第２のレンズ領域が形成され、第８グリッド
ＧＭ２及び第９グリッドＧ６間に最終集束レンズＥＬの
第３のレンズ領域が形成される。この最終集束レンズＥ
Ｌは、これら第１、第２、第３の３つレンズ領域から構
成される電界拡張された長焦点の大口径レンズとなり、
スクリーン上でより小さい電子ビームスポットを形成す
ることができる。The voltage VM2 applied to the seventh grid GM1 and the eighth grid GM2 is equal to the voltage of the sixth grid G5.
2 and a voltage substantially intermediate between the voltage Eb applied to the ninth grid G6. Accordingly, the first lens area of the final focusing lens EL is formed between the sixth grid G52 and the seventh grid GM1, and the seventh lens area is formed.
The second lens area of the final focusing lens EL is formed between the grid GM1 and the eighth grid GM2, and the third lens area of the final focusing lens EL is formed between the eighth grid GM2 and the ninth grid G6. This final focusing lens E
L is an electric field-expanded long focal point large aperture lens composed of the first, second, and third lens regions,
A smaller electron beam spot can be formed on the screen.

【００１９】また、最終集束レンズＥＬの第１、第２、
第３のレンズ領域は、第６グリッドＧ５２に前記偏向磁
界に同期した電圧Ｖｄが印加された時、第１及び第３の
レンズ領域は、弱まり、第２のレンズ領域は、以下の作
用により、電子ビ−ムが画面中央部にあるときには、第
７グリッドＧＭ１の電圧ＶＭ１が第８グリッドＧＭ２の
電圧ＶＭ２よりも低位の電圧となり、電子ビ−ムが画面
周辺部にある時には、第７グリッドＧＭ１の電圧ＶＭ１
が第８グリッドＧＭ２の電圧ＶＭ２よりも高位の電圧と
なり、電位差を生じて第２レンズ領域のレンズが作用す
る。この第２領域の電位差の発生は、第６グリッドＧ５
２に供給される偏向磁界と同期したパラボラ状のダイナ
ミック電圧Ｖｄが第６グリッドＧ５２及び第７グリッド
ＧＭ１間の電極間容量Ｃ６７、第７グリッドＧＭ１及び
第８グリッドＧＭ２間の電極間容量Ｃ７８、第８グリッ
ドＧＭ２及び第９グリッドＧ６間の電極間容量Ｃ８９と
により、キャパシタンスで分割され、図６及び図７に示
されるように、第６グリッドには、Ａ×Ｖｄの交流電
圧、第７グリッドにはＢ×Ｖｄの交流電圧が重畳され、
このことにより第７グリッドＧＭ７及び第８グリッドＧ
Ｍ２間に電位差を発生させる。この各重畳率Ａ及びＢ
は、図８に示す等価的な交流回路を解くことにより、以
下のように求めることができる。Further, the first, second,
When a voltage Vd synchronized with the deflection magnetic field is applied to the sixth grid G52, the first and third lens regions are weakened, and the second lens region is formed by the following operation. When the electronic beam is at the center of the screen, the voltage VM1 of the seventh grid GM1 is lower than the voltage VM2 of the eighth grid GM2. When the electronic beam is at the periphery of the screen, the seventh grid GM1 is used. Voltage VM1
Is higher than the voltage VM2 of the eighth grid GM2, and a potential difference is generated to operate the lens in the second lens area. The generation of the potential difference in the second area is caused by the sixth grid G5
The parabolic dynamic voltage Vd synchronized with the deflecting magnetic field supplied to the second grid 2 is a capacitance C67 between the sixth grid G52 and the seventh grid GM1, a capacitance C78 between the seventh grid GM1 and the eighth grid GM2, The capacitance is divided by the interelectrode capacitance C89 between the eighth grid GM2 and the ninth grid G6, and as shown in FIGS. 6 and 7, the sixth grid has an AC voltage of A × Vd and the seventh grid has Is superimposed with an AC voltage of B × Vd,
As a result, the seventh grid GM7 and the eighth grid G
A potential difference is generated between M2. These superposition rates A and B
Can be obtained as follows by solving the equivalent AC circuit shown in FIG.

【００２０】 第６グリッドの重畳電圧（交流分）： Ａ×Ｖｄ A=C67・(C89+C78)/(C67・C78+C78・C89+C89・C67) 第７グリッドの重畳電圧（交流分）： Ｂ×Ｖｄ B=C67・C78/(C67・C78+C78・C89+C89・C67) この実施例の最終集束レンズ部を構成する、第５グリッ
ドＧ５１、第６グリッドＧ５２、第７グリッドＧＭ１、
第８グリッドＧＭ２、第９グリッドＧ６の部分の詳細が
図４に示されている。A superimposed voltage on the sixth grid (AC component): A × Vd A = C67 · (C89 + C78) / (C67 · C78 + C78 · C89 + C89 · C67) A superimposed voltage on the seventh grid (AC component) B × Vd B = C67 · C78 / (C67 · C78 + C78 · C89 + C89 · C67) The fifth grid G51, the sixth grid G52, and the seventh grid GM1, which constitute the final focusing lens unit of this embodiment.
FIG. 4 shows details of the eighth grid GM2 and the ninth grid G6.

【００２１】第５グリッドＧ５１の第６グリッドＧ５２
側には、図９（ａ）に示されるような３個の縦長孔が穿
設されており、第６グリッドＧ５２の第５グリッドＧ５
１側には、図９（ｂ）に示されるような３個の横長孔が
穿設され、第５グリッドＧ５１及び第６グリッドＧ５２
間に４極子レンズＱＬが形成されている。第６グリッド
Ｇ５２の第７グリッドＧＭ１側は、３個の円形孔が穿設
された厚板電極で構成され、第７グリッドＧＭ１及び第
８グリッドＧＭ２も３個の円形孔が穿設された厚板電極
で構成され、第９グリッドＧ６の第８グリッドＧＭ２側
にも３個の円形孔が穿設された厚板電極が配置されてい
る。The sixth grid G52 of the fifth grid G51
On the side, three vertically long holes as shown in FIG. 9A are formed, and the fifth grid G5 of the sixth grid G52 is formed.
On one side, three horizontally long holes as shown in FIG. 9B are formed, and a fifth grid G51 and a sixth grid G52 are formed.
A quadrupole lens QL is formed between them. The seventh grid GM1 side of the sixth grid G52 is formed of a thick plate electrode having three circular holes formed therein, and the seventh grid GM1 and the eighth grid GM2 are also formed of a thick plate electrode having three circular holes formed therein. A thick plate electrode composed of plate electrodes and having three circular holes formed on the eighth grid GM2 side of the ninth grid G6 is also arranged.

【００２２】そして、第５グリッドＧ５１の第６グリッ
ドＧ５２側の３個の縦長孔のセンター孔の中心とサイド
ビーム孔の中心の距離（ＳＧ；以下、センタービーム孔
とサイドビーム孔の距離をＳＧと記載する。）は、第６
グリッドＧ５２の第５グリッドＧ５１側の３個の横長孔
のＳＧと略同じであり、この４極子レンズＱＬ部分で
の、偏向磁界に同期した第６グリッドＧ５２に印加され
るダイナミック電圧Ｖｄによってサイドビームの軌道が
変化されないように構成されている。Then, the distance between the center of the center hole of the three vertically long holes on the sixth grid G52 side of the fifth grid G51 and the center of the side beam hole (SG; hereinafter, the distance between the center beam hole and the side beam hole is SG). Is the sixth.
The SG is substantially the same as the SG of three horizontally long holes on the fifth grid G51 side of the grid G52, and the side beam is generated by the dynamic voltage Vd applied to the sixth grid G52 in synchronization with the deflection magnetic field in the quadrupole lens QL. The trajectory is not changed.

【００２３】最終集束レンズＥＬの第１のレンズ領域を
構成する、第６グリットＧ５２及び第７グリッドＧＭ１
間は、第６グリッドＧ５２の第７グリッドＧＭ１側の厚
板電極のセンター孔の中心とサイドビーム孔の中心の距
離ＳＧ５２は、第７グリッドＧＭ１の第６グリッドＧ５
２側の厚板電極のセンター孔の中心とサイドビーム孔の
中心の距離ＳＧＭ１よりも小さく定められ、サイドビー
ムがセンタービーム方向へと曲げる作用を有することと
なる。この為、偏向磁界に同期したダイナミック電圧Ｖ
ｄが印加されると、このレンズ作用は、弱くなり、サイ
ドビームは、センタービームから離れる方向（図４に示
される１の方向）に変化される。また、最終集束レンズ
ＥＬの第３のレンズ領域を構成する第８グリッドＧＭ２
及び第９グリッドＧ６間も同ように、第８グリッドＧＭ
２の第９グリッドＧ６側の厚板電極のセンター孔の中心
とサイドビーム孔の中心の距離ＳＧＭ２は、第７グリッ
ドＧＭ１の第６グリッドＧ５２側の厚板電極のセンター
孔の中心とサイドビーム孔の中心の距離ＳＧ６よりも小
さく定められ、サイドビームがセンタービーム方向へと
曲げる作用を有するようになる。この為、偏向磁界に同
期したダイナミック電圧Ｖｄが印加された際に、このレ
ンズ作用は、弱くなり、サイドピームは、センタービー
ムから離れる方向（図４に示される３の方向）に変化さ
れる。また、最終集束レンズＥＬの第２のレンズ領域を
構成する第７グリッドＧＭ１及び第８グリッドＧＭ２間
では、第７グリッドＧＭ１の第８グリッドＧＭ２側の厚
板電極のセンター孔の中心とサイドビーム孔の中心の距
離ＳＧＭ１は、第８グリッドＧＭ２の第７グリッドＧＭ
１側の厚板電極のセンタ−孔の中心とサイドビーム孔の
中心の距離ＳＧＭ２よりも大きく定められ、先に述べた
ように、この最終集束レンズＥＬの第２領域では、電子
ビ−ムが画面中央部にあるときには、第７グリッドＧＭ
１の電圧ＶＭ１が第８グリッドＧＭ２の電圧ＧＭ２より
も低位の電圧となり、ダイナミック電圧Ｖｄが印加され
て電子ビームが画面周辺部に向かう際には、第７グリッ
ドＧＭ１の電圧ＶＭ１が第８グリッドＧＭ２の電圧ＶＭ
２よりも高位の電圧となる。この時サイドビームは、ダ
イナミック電圧Ｖｄが印加されると同時に、センタービ
ーム方向（図４に示される２の方向）に曲げられ、先の
最終集束レンズＥＬの第１及び第３のレンズ領域のサイ
ドビームのセンタービームから離れる方向（図４に示さ
れる１及び２の方向）へと変化する作用を略打ち消すよ
うになる。そのため、サイドビームの画面中央部に電子
ビ−ムが集束される場合の軌道（図４において、実線の
軌道：Ａ）と、画面周辺部に電子ビ−ムが偏向される場
合の軌道（図４において、破線の軌道：Ｂ）とでは、グ
リッドＧ５２及びグリッドＧＭ１間の最終集束レンズを
構成する第１のレンズ領域、グリッドＧＭ２及びグリッ
ドＧ６間の第３のレンズ領域とで略同じ軌道を通過する
こととなる。このことにより、図２を参照して説明した
ように従来例において発生されるようなセンタービーム
軌道とは反対側にコマ成分のハローを有する形状に歪む
ことが無く、画面周辺での画像特性を劣化させることが
無い。The sixth grid G52 and the seventh grid GM1, which constitute the first lens area of the final focusing lens EL.
Between them, the distance SG52 between the center of the center hole of the thick plate electrode on the seventh grid GM1 side of the sixth grid G52 and the center of the side beam hole is equal to the sixth grid G5 of the seventh grid GM1.
The distance between the center of the center hole of the thick plate electrode on the second side and the center of the side beam hole is set to be smaller than SGM1, and the side beam has an action of bending in the center beam direction. Therefore, the dynamic voltage V synchronized with the deflection magnetic field
When d is applied, this lens action is weakened, and the side beam is changed in a direction away from the center beam (direction 1 shown in FIG. 4). In addition, an eighth grid GM2 forming the third lens area of the final focusing lens EL
Similarly, between the ninth grid G6 and the eighth grid GM
The distance SGM2 between the center of the center hole of the thick plate electrode on the ninth grid G6 side and the center of the side beam hole is the center of the center hole of the thick plate electrode on the sixth grid G52 side of the seventh grid GM1 and the side beam hole. Is determined to be smaller than the distance SG6 of the center of the side beam, so that the side beam has an action of bending toward the center beam. Therefore, when a dynamic voltage Vd synchronized with the deflecting magnetic field is applied, the effect of the lens is weakened, and the side beam is changed in a direction away from the center beam (direction 3 shown in FIG. 4). Further, between the seventh grid GM1 and the eighth grid GM2 constituting the second lens area of the final focusing lens EL, the center of the center hole of the thick plate electrode on the eighth grid GM2 side of the seventh grid GM1 and the side beam hole Is the distance SGM1 of the center of the seventh grid GM of the eighth grid GM2.
The distance between the center of the center hole of the thick plate electrode on one side and the center of the side beam hole is set to be larger than the distance SGM2. As described above, in the second region of the final focusing lens EL, the electron beam is not formed. When in the center of the screen, the seventh grid GM
1 is lower than the voltage GM2 of the eighth grid GM2, and when the dynamic voltage Vd is applied and the electron beam goes to the peripheral portion of the screen, the voltage VM1 of the seventh grid GM1 is changed to the eighth grid GM2. Voltage VM
The voltage is higher than 2. At this time, the side beam is bent in the center beam direction (direction 2 shown in FIG. 4) at the same time when the dynamic voltage Vd is applied, and the side beam in the first and third lens areas of the final focusing lens EL is formed. The effect of changing the direction of the beam away from the center beam (directions 1 and 2 shown in FIG. 4) is substantially cancelled. Therefore, the trajectory when the electron beam is focused at the center of the screen of the side beam (the trajectory indicated by the solid line in FIG. 4A) and the trajectory when the electron beam is deflected toward the periphery of the screen (FIG. 4, the trajectory indicated by the broken line: B) passes through substantially the same trajectory in the first lens area constituting the final focusing lens between the grid G52 and the grid GM1, and in the third lens area between the grid GM2 and the grid G6. Will be done. As a result, as described with reference to FIG. 2, the image characteristic around the screen is not distorted into a shape having a halo of a coma component on the side opposite to the center beam trajectory generated in the conventional example. There is no deterioration.

【００２４】また、この発明においては、上述した実施
例以外にも他の実施例として、例えば、図１０に示す様
な構造の電子銃においても同様な効果を得ることができ
る。すなわち、電子銃のグリッド構成並びに供給電圧の
配置等は、図４と同じであるが、図１０に示すように、
第６グリッドＧ５２の第７グリッドＧＭ１との対向面、
第７グリッドＧＭ１、第８グリッドＧＭ２、第９グリッ
ドＧ６の第８グリッドＧＭ２との対向面の電極構造とし
て図１１に示すような３電子ビームに共通の電子ビ−ム
通過孔を有する外周電極が設けられている。Further, in the present invention, similar effects can be obtained in an electron gun having a structure as shown in FIG. 10 as another embodiment other than the above-described embodiment. That is, the grid configuration of the electron gun and the arrangement of the supply voltage are the same as those in FIG. 4, but as shown in FIG.
A surface of the sixth grid G52 facing the seventh grid GM1,
As the electrode structure of the seventh grid GM1, eighth grid GM2, and ninth grid G6 facing the eighth grid GM2, an outer peripheral electrode having an electron beam passage hole common to three electron beams as shown in FIG. Is provided.

【００２５】この様な構造においても、第１の実施例と
同様に第５グリッドＧ５１の第６グリッドＧ５２側に
は、図９（ａ）に示されるような３個の縦長孔が穿設さ
れ、第６グリッドＧ５２の第５グリッドＧ５１側には、
図９（ｂ）に示されるような３個の横長孔が穿設され、
第５グリッドＧ５１、第６グリッドＧ５２間で４極子レ
ンズＱＬが形成されている。この４極子レンズＱＬ部分
での、偏向磁界に同期した第６グリッドＧ５２に印加さ
れるダイナミック電圧Ｖｄによってサイドビームの軌道
が変化されないように構成されている。そして、最終集
束レンズＥＬの第１のレンズ領域を構成する第６グリッ
ドＧ５２及び第７グリッドＧＭ１の間には、図１０に示
されるようグリッドＧ５２のセンター孔の中心とサイド
ビーム孔の中心の距離ＳＧ５２が、図１０のグリッドＧ
Ｍ１のセンター孔の中心とサイドビーム孔の中心の距離
ＳＧＭ１よりも小さく定められ、また、対向する外周電
極の影響により、サイドビームがセンタービーム方向へ
と曲がる作用を有するように構成されている。この為、
偏向磁界に同期したダイナミック電圧Ｖｄが印加される
と、このレンズ作用は、弱くなり、サイドビームは、セ
ンタービームから離れる方向（図１０において１で示さ
れる方向）へと変化される。また、最終集束レンズＥＬ
の第３のレンズ領域を構成する、図１０のグリッドＧＭ
２も同様に、センター孔の中心とサイドビーム孔の中心
の距離ＳＧＭ２は、図１０のグリッドＧ６のセンター孔
の中心とサイドビーム孔の中心の距離ＳＧ６よりも小さ
く定められ、また、対向している外周電極とによりサイ
ドビームがセンタービーム方向へと曲がる作用を有する
構造となっている。Also in such a structure, three vertically long holes as shown in FIG. 9A are formed on the sixth grid G52 side of the fifth grid G51 similarly to the first embodiment. , On the fifth grid G51 side of the sixth grid G52,
Three oblong holes are drilled as shown in FIG.
A quadrupole lens QL is formed between the fifth grid G51 and the sixth grid G52. The trajectory of the side beam is not changed by the dynamic voltage Vd applied to the sixth grid G52 in synchronization with the deflection magnetic field in the quadrupole lens QL. Then, between the sixth grid G52 and the seventh grid GM1, which constitute the first lens area of the final focusing lens EL, as shown in FIG. 10, the distance between the center of the center hole of the grid G52 and the center of the side beam hole as shown in FIG. SG52 is the grid G in FIG.
The distance between the center of the center hole of M1 and the center of the side beam hole is set to be smaller than the distance SGM1, and the side beam is bent in the direction of the center beam due to the influence of the opposed outer peripheral electrode. Because of this,
When a dynamic voltage Vd synchronized with the deflecting magnetic field is applied, the lens action is weakened, and the side beam is changed in a direction away from the center beam (direction indicated by 1 in FIG. 10). Also, the final focusing lens EL
Of the third lens area of FIG.
Similarly, the distance SGM2 between the center of the center hole and the center of the side beam hole is determined to be smaller than the distance SG6 between the center of the center hole and the center of the side beam hole of the grid G6 in FIG. The outer peripheral electrode has a structure in which the side beam bends in the direction of the center beam.

【００２６】この為、偏向磁界に同期したダイナミック
電圧Ｖｄが印加された際にこのレンズ作用は、弱くな
り、サイドビームは、センタービームから離れる方向
（図１０で示される３で示される方向）に変化される。
また、最終集束レンズＥＬの第２のレンズ領域を構成す
る第７グリッドＧＭ１及び第８グリッドＧＭ２間では、
図１０のグリッドＧＭ１のセンター孔の中心とサイドビ
ーム孔の中心の距離ＳＧＭ１は、図１０のグリッドＧＭ
２のセンター孔の中心とサイドビーム孔の中心の距離Ｓ
ＧＭ２よりも大きく定められ、既に説明したように、こ
の最終集束レンズＥＬの第２領域では、電子ビームが画
面中央部にあるときには、第７グリッドＧＭ１の電圧Ｖ
Ｍ１が第８グリッドＧＭ２の電圧ＶＭ２よりも低位の電
圧となり、ダイナミック電圧Ｖｄが印加されて電子ビ−
ムが画面周辺部に向けられる際には、第７グリッドＧＭ
１の電圧ＶＭＩが第８グリッドＧＭ２の電圧ＶＭ２より
も高位の電圧となる。この時サイドビームは、ダイナミ
ック電圧Ｖｄが印加されると同時に、センタービーム方
向（図１０における２で示される方向）に曲げられ、先
の最終集束レンズＥＬの第１及び第３のレンズ領域のサ
イドビームがセンタービームから離れる方向（図１０に
おける１及び２で示す方向）へと変化する作用を略打ち
消すこととなる。そのため、図１０のサイドビームの画
面中央部に電子ビ−ムが集束される場合の軌道（図中で
は実線の軌道：Ａ）と、画面周辺部に電子ビームが偏向
される場合の軌道（図中では破線の軌道：Ｂ）とでは、
グリッドＧ５２及びＧＭ１間の最終集束レンズを構成す
る第１のレンズ領域、グリッドＧＭ２及びＧ６間の第３
のレンズ領域とで略同じ軌道を通過することになる。こ
のことにより、図２を参照して説明した従来例で発生さ
れる図３に示すようなセンタービ−ム軌道とは反対側に
コマ成分のハローを有する形状に歪むことが無く、画面
周辺での画像特性を劣化させることが無い。For this reason, when a dynamic voltage Vd synchronized with the deflection magnetic field is applied, the effect of this lens is weakened, and the side beam is moved away from the center beam (direction indicated by 3 in FIG. 10). Be changed.
In addition, between the seventh grid GM1 and the eighth grid GM2 constituting the second lens area of the final focusing lens EL,
The distance SGM1 between the center of the center hole and the center of the side beam hole of the grid GM1 of FIG.
Distance S between the center of the center hole and the center of the side beam hole
GM2, and as described above, in the second region of the final focusing lens EL, when the electron beam is at the center of the screen, the voltage V of the seventh grid GM1
M1 becomes a voltage lower than the voltage VM2 of the eighth grid GM2, the dynamic voltage Vd is applied, and the electron beam
When the camera is pointed at the periphery of the screen, the seventh grid GM
The voltage VMI of 1 is higher than the voltage VM2 of the eighth grid GM2. At this time, the side beam is bent in the center beam direction (direction indicated by 2 in FIG. 10) at the same time when the dynamic voltage Vd is applied, and the side beam in the first and third lens regions of the final focusing lens EL is formed. The effect of the beam changing in the direction away from the center beam (directions indicated by 1 and 2 in FIG. 10) is substantially canceled. Therefore, the trajectory when the electron beam is focused on the center of the screen of the side beam in FIG. 10 (the trajectory indicated by the solid line in FIG. 10A) and the trajectory when the electron beam is deflected toward the periphery of the screen (see FIG. In the dashed orbit: B)
A first lens area constituting the final focusing lens between grids G52 and GM1, a third lens area between grids GM2 and G6
Pass through substantially the same trajectory as the lens area. As a result, a shape having a halo of a coma component on the opposite side to the center beam trajectory as shown in FIG. 3 generated in the conventional example described with reference to FIG. Does not deteriorate the image characteristics.

【００２７】以上、２つの実施例について説明したが、
これに限ることはなく、例えば上記実施例では、電子銃
のグリッド構成を第１〜第９グリッドとしたが、この第
３グリッド、第４グリッドを省いた電極構成であっても
良く、第６グリッド〜第９グリッドまでの構成が上述し
たような構成であればよい。The two embodiments have been described above.
The present invention is not limited to this. For example, in the above embodiment, the grid configuration of the electron gun is the first to ninth grids, but the third grid and the fourth grid may be omitted. The configuration from the grid to the ninth grid may be any configuration as described above.

【００２８】また、上記実施例の第７グリッドＧＭ１及
び第８グリッドＧＭ２間の構造もこれに限らず、例え
ば、この部分に４極子レンズを付加することもできる。
例えば、図１２（ａ）及び１２（ｂ）に示すグリッドの
組合せ、図１２（ｃ）及び１２（ｄ）に示すグリッドの
組合せ及び図１２（ｅ）及び１２（ｆ）に示すグリッド
の組合せが配置されても良い。これらのセンター通過孔
及びサイドビーム通過孔間の距離ＳＧＭ１、ＳＧＭ２が
コントロールされ、或いは、図１２（ｃ）及び１２
（ｄ）に示すグリッド及び図１２（ｅ）及び１２（ｆ）
に示すグリッドのヒサシ電極部の位置を適切に定めるこ
とによってもこの発明の実施例とすることができる。The structure between the seventh grid GM1 and the eighth grid GM2 in the above embodiment is not limited to this. For example, a quadrupole lens can be added to this portion.
For example, the combination of the grids shown in FIGS. 12A and 12B, the combination of the grids shown in FIGS. 12C and 12D, and the combination of the grids shown in FIGS. It may be arranged. The distances SGM1 and SGM2 between these center passage holes and side beam passage holes are controlled, or as shown in FIGS.
The grid shown in (d) and FIGS. 12 (e) and 12 (f)
The embodiment of the present invention can also be achieved by appropriately determining the position of the stub electrode portion of the grid shown in FIG.

【００２９】[0029]

【発明の効果】以上述べた如く、インライン方向に配置
された３本の電子ビームを形成、射出する電子ビーム形
成部と、この電子ビームを加速集束させる、主電子レン
ズ部を有する電子銃と、この電子銃から放出した電子ビ
ームを画面上、水平、垂直方向に偏向走査する偏向磁界
を発生する偏向ヨークとを少なくとも備えた陰極線管に
おいて、前記主電子レンズ部は、少なくともその連続的
に変化する軸上電位分布によって形成され、この軸上分
布内の電子ビーム進行方向に順次第１、第２、第３のレ
ンズ領域を有し、前記各レンズ領域には前記偏向磁界に
同期してサイドビーム軌道を変化せしめる手段を有し、
各レンズ領域のサイドビーム軌道の変化は、互いにその
変化を略打ち消すように作用する構成としている。As described above, an electron beam forming unit for forming and emitting three electron beams arranged in the in-line direction, an electron gun having a main electron lens unit for accelerating and focusing the electron beams, and In a cathode ray tube having at least a deflection yoke for generating a deflection magnetic field for deflecting and scanning an electron beam emitted from the electron gun in a horizontal and vertical direction on a screen, the main electron lens portion is at least continuously changed. It is formed by an on-axis potential distribution, and has first, second, and third lens regions sequentially in the electron beam traveling direction within the on-axis distribution. Each of the lens regions has a side beam in synchronization with the deflection magnetic field. Have means to change the orbit,
The change in the side beam trajectory of each lens area acts so as to substantially cancel each other out.

【００３０】また、インライン方向に配置された３本の
電子ビームを形成、射出する電子ビーム形成部と、この
電子ビームを加速集束させる主電子レンズ部を有する電
子銃と、この電子銃から放出した電子ビームを画面上で
水平並びに垂直方向に偏向走査する偏向磁界を発生する
偏向ヨークとを少なくとも備えた陰極線管において、前
記主電子レンズ部は、少なくともその連続的に変化する
軸上電位分布によって形成され、その軸上電位分布内の
電子ビ−ム進行方向に順次第１、第２、第３のレンズ領
域を有し、前記偏向磁界に同期して第１、第３のレンズ
領域のサイド・ビーム軌道が変化する時、その変化を打
ち消すように、第２のレンズ領域にサイドビ−ム軌道を
変化させる手段を有する構成としている。Further, an electron beam forming unit for forming and emitting three electron beams arranged in the in-line direction, an electron gun having a main electron lens unit for accelerating and focusing the electron beam, and an electron beam emitted from the electron gun And a deflection yoke for generating a deflection magnetic field for horizontally and vertically deflecting and scanning the electron beam on the screen, wherein the main electron lens portion is formed by at least the continuously changing axial potential distribution. And a first, a second, and a third lens region in the electron beam traveling direction in the on-axis potential distribution, and the first and third lens regions are synchronized with the deflection magnetic field. When the beam trajectory changes, the second lens area has a means for changing the side beam trajectory so as to cancel the change.

【００３１】すなわち、第１のレンズ領域は、第５及び
第６グリッドＧ５１、Ｇ５２間に４極子レンズＱＬが形
成され、また、第６及び第７グリッドＧ５２、ＧＭ１間
に最終集束レンズが形成されて構成される。第２のレン
ズ領域は、第７グリッドＧＭ１及び第８グリッドＧＭ２
間に最終集束レンズが形成されて構成される。第３のレ
ンズ領域は、第８グリッドＧＭ２及び第９グリッドＧ６
間に最終集束レンズが形成されて構成される。第５及び
第６グリッドＧ５１、Ｇ５２間の４極子レンズＱＬに
は、サイドビーム軌道を変化させる手段が与えられず、
第６及び第７グリッドＧ５２、ＧＭ１間の最終集束レン
ズを構成する第１のレンズ領域には、前記偏向磁界によ
る前記電子ビームの偏向に同期して、サイドビームをセ
ンタービ−ム方向（図４において１で示される方向）に
曲げる偏向手段を有し、第７及び第８グリッドＧＭ１、
ＧＭ２間の最終集束レンズを構成する第２のレンズ領域
には、前記偏向磁界による前記電子ビームの偏向に同期
して、サイドビームをセンタービーム方向とは逆方向
（図４において２で示される方向）に曲げる偏向手段を
有し、第８及び第９グリッドＧＭ２、Ｇ６間の最終集束
レンズを構成する第３のレンズ領域には、前記偏向磁界
による前記電子ビームの偏向に同期して、サイドビーム
をセンタービ−ム方向（図４において３で示される方
向）に曲げる偏向手段を有し、これら偏向手段の発生す
るベクトル成分１、２、３の力は、略打ち消すような構
成されている。そのため、図４に示すように画面中央部
に電子ビ−ムが集束される場合のサイドビームの軌道
（図中では実線の軌道：Ａ）と、画面周辺部に電子ビ−
ムが偏向される場合のサイドビームの軌道（図中では破
線の軌道：Ｂ）とでは、第６及び第７グリッドＧ５２、
ＧＭ１間の最終集束レンズを構成する第１のレンズ領
域、第８及び第９グリッドＧＭ２、Ｇ６間の第３のレン
ズ領域とで略同じ軌道を通過することになる。このこと
により、従来発生されるようなセンタービーム軌道とは
反対側にコマ成分のハローを有する形状に歪むことが無
く、画面周辺での画像特性を劣化させることが無くな
る。That is, in the first lens area, a quadrupole lens QL is formed between the fifth and sixth grids G51 and G52, and a final focusing lens is formed between the sixth and seventh grids G52 and GM1. It is composed. The second lens area includes a seventh grid GM1 and an eighth grid GM2.
A final focusing lens is formed in between. The third lens area includes an eighth grid GM2 and a ninth grid G6.
A final focusing lens is formed in between. The quadrupole lens QL between the fifth and sixth grids G51 and G52 is not provided with a means for changing the side beam trajectory,
In the first lens area constituting the final focusing lens between the sixth and seventh grids G52 and GM1, the side beam is directed in the center beam direction (FIG. 4) in synchronization with the deflection of the electron beam by the deflection magnetic field. In the direction indicated by 1), the seventh and eighth grids GM1,
In the second lens region constituting the final focusing lens between the GMs 2, the side beam is directed in a direction opposite to the center beam direction (direction indicated by 2 in FIG. 4) in synchronization with the deflection of the electron beam by the deflection magnetic field. ), The third lens area constituting the final focusing lens between the eighth and ninth grids GM2 and G6 has a side beam in synchronization with the deflection of the electron beam by the deflection magnetic field. Is bent in the direction of the center beam (indicated by 3 in FIG. 4), and the forces of the vector components 1, 2, and 3 generated by these deflection means are configured to substantially cancel. Therefore, as shown in FIG. 4, the trajectory of the side beam when the electron beam is focused at the center of the screen (the trajectory of the solid line in the figure: A) and the electron beam at the periphery of the screen.
With the trajectory of the side beam when the beam is deflected (the trajectory indicated by the broken line in the figure: B), the sixth and seventh grids G52,
The first lens area constituting the final focusing lens between GM1 and the third lens area between the eighth and ninth grids GM2 and G6 pass substantially the same trajectory. As a result, a shape having a halo of a coma component on the side opposite to the center beam trajectory which is conventionally generated is not distorted, and the image characteristics around the screen are not degraded.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】一般的な陰極線管の構造を概略的に示す断面図
である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a general cathode ray tube.

【図２】従来の陰極線管に組み込まれる電子銃における
問題を説明するための電極構造並びにビーム軌跡を概略
的に示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view schematically showing an electrode structure and a beam trajectory for describing a problem in an electron gun incorporated in a conventional cathode ray tube.

【図３】図２に示された電子銃の電極構造においてスク
リーン上の周辺部に形成されるビームスポットの形状を
概略的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a shape of a beam spot formed in a peripheral portion on a screen in the electrode structure of the electron gun shown in FIG.

【図４】この発明における陰極線管に搭載される電子銃
の１実施例に係る電極構造並びにビーム軌跡を概略的に
示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view schematically showing an electrode structure and a beam trajectory according to an embodiment of an electron gun mounted on a cathode ray tube according to the present invention.

【図５】図４に示した電極構造を有する電子銃の構造及
びその各電極に与えられる電圧並びにその結線を示す模
式図である。5 is a schematic diagram showing the structure of an electron gun having the electrode structure shown in FIG. 4, the voltage applied to each electrode thereof, and the connection thereof.

【図６】図５に示された電子銃の電極に与えられる電圧
及び変化を示すグラフである。6 is a graph showing a voltage applied to an electrode of the electron gun shown in FIG. 5 and a change.

【図７】図５に示された電子銃の電極に与えられる電圧
の変化を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing a change in a voltage applied to an electrode of the electron gun shown in FIG.

【図８】図５に示された電子銃の電極構造における交流
的な等価回路を示す回路図である。8 is a circuit diagram showing an AC equivalent circuit in the electrode structure of the electron gun shown in FIG.

【図９】（ａ）及び（ｂ）は、図５に示された電子銃の
電極を示す平面図である。FIGS. 9A and 9B are plan views showing electrodes of the electron gun shown in FIG.

【図１０】この発明の他の実施例に係る陰極線管に搭載
される電子銃の他の実施例に係る電極構造並びにビーム
軌跡を概略的に示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view schematically showing an electrode structure and a beam trajectory according to another embodiment of an electron gun mounted on a cathode ray tube according to another embodiment of the present invention.

【図１１】図１０に示される電子銃の電極を概略的に示
す平面図である。11 is a plan view schematically showing an electrode of the electron gun shown in FIG.

【図１２】（ａ）から（ｆ）は、この発明の他の実施例
に係る陰極線管に搭載される電子銃の更に他の実施例に
係る電極構造を概略的に示す平面図である。FIGS. 12A to 12F are plan views schematically showing an electrode structure according to still another embodiment of an electron gun mounted on a cathode ray tube according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１…パネル ２…ファンネル ３…蛍光体スクリーン ４…マスク ５…ネック ７…電子銃 ８…偏向ヨーク ＫＲ，ＫＧ，ＫＢ…カソード １００…抵抗器 ６Ｂ，６Ｇ，６Ｒ…電子ビーム Ｃ５６，Ｃ６７，Ｃ７８…電極間容量 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Panel 2 ... Funnel 3 ... Phosphor screen 4 ... Mask 5 ... Neck 7 ... Electron gun 8 ... Deflection yoke KR, KG, KB ... Cathode 100 ... Resistor 6B, 6G, 6R ... Electron beam C56, C67, C78 ... Electrode capacitance

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅原 繁 埼玉県深谷市幡羅町１丁目９番２号 株式 会社東芝深谷電子工場内 Ｆターム(参考） 5C041 AA03 AA12 AB07 AC17 AC26 AC34 AC35 AD02  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Shigeru Sugawara 1-9-2 Hara-cho, Fukaya-shi, Saitama F-term in Fukaya Electronics Factory, Toshiba Corporation (reference) 5C041 AA03 AA12 AB07 AC17 AC26 AC34 AC35 AD02

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】インライン方向に配置された３本の電子ビ
ームを形成し、射出する電子ビーム形成部及びこの電子
ビームを加速集束させる主電子レンズ部を有する電子銃
と、 この電子銃から放出した電子ビームを画面上で水平並び
に垂直方向に偏向走査する偏向磁界を発生する偏向ヨー
クとを少なくとも備えた陰極線管において、 前記主電子レンズ部は、少なくともその連続的に変化す
る軸上電位分布によって形成され、その分布内では、電
子ビ−ム進行方向に沿って少なくとも第１及び第２のレ
ンズ領域を有し、前記各レンズ領域は、前記偏向磁界に
同期してサイドビーム軌道を変化させる手段を有し、各
レンズ領域のサイドビーム軌道の変化は、互いにその変
化を略打ち消すように作用することを特徴とする陰極線
管。1. An electron gun having an electron beam forming portion for forming and emitting three electron beams arranged in an in-line direction, a main electron lens portion for accelerating and focusing the electron beam, and an electron beam emitted from the electron gun. A deflection yoke for generating a deflection magnetic field for horizontally and vertically deflecting and scanning an electron beam on a screen, wherein the main electron lens section is formed by at least the continuously changing axial potential distribution. The distribution has at least a first and a second lens area along the electron beam traveling direction, and each of the lens areas has means for changing a side beam trajectory in synchronization with the deflection magnetic field. A cathode ray tube, wherein a change in the side beam trajectory of each lens region acts so as to substantially cancel each other. 【請求項２】インライン方向に配置された３本の電子ビ
ームを形成し、射出する電子ビーム形成部及びこの電子
ビームを加速集束させる主電子レンズ部を有する電子銃
と、 この電子銃から放出した電子ビームを画面上で水平並び
に垂直方向に偏向走査する偏向磁界を発生する偏向ヨー
クとを少なくとも備えた陰極線管において、 前記主電子レンズ部は、少なくともその連続的に変化す
る軸上電位分布によって形成され、その分布内では、電
子ビ−ム進行方向に沿って順次第１、第２、第３のレン
ズ領域を有し、前記各レンズ領域は、前記偏向磁界に同
期してサイドビーム軌道を変化させる手段を有し、各レ
ンズ領域のサイドビーム軌道の変化は、互いにその変化
を略打ち消すように作用することを特徴とする請求項１
に記載の陰極線管。2. An electron gun having an electron beam forming section for forming and emitting three electron beams arranged in an in-line direction, and an electron gun having a main electron lens section for accelerating and focusing the electron beam, and emitted from the electron gun. And a deflection yoke that generates a deflection magnetic field that deflects and scans the electron beam in the horizontal and vertical directions on the screen. The main electron lens section is formed by at least the continuously changing axial potential distribution. Within the distribution, there are first, second, and third lens regions sequentially along the traveling direction of the electron beam, and each of the lens regions changes the side beam trajectory in synchronization with the deflection magnetic field. 2. The apparatus according to claim 1, further comprising means for causing a change in the side beam trajectory of each lens area to substantially cancel each other.
A cathode ray tube according to claim 1. 【請求項３】インライン方向に配置された３本の電子ビ
ームを形成し、射出する電子ビーム形成部及びこの電子
ビームを加速集束させる、主電子レンズ部を有する電子
銃と、 この電子銃から放出した電子ビームを画面上で水平並び
に垂直方向に偏向走査する偏向磁界を発生する偏向ヨー
クとを少なくとも備えた陰極線管において、 前記主電子レンズ部は、少なくともその連続的に変化す
る軸上電位分布によって形成され、その分布内におい
て、電子ビ−ム進行方向に沿って順次第１、第２、第３
のレンズ領域を有し、前記偏向磁界に同期して第１及び
第３のレンズ領域のサイドビーム軌道が変化する時、そ
の変化を略打ち消すように、第２のレンズ領域のサイド
ビーム軌道を変化させる手段を有することを特徴とする
陰極線管。3. An electron beam forming unit for forming and emitting three electron beams arranged in an in-line direction, an electron gun having a main electron lens unit for accelerating and focusing the electron beam, and emission from the electron gun. A deflection yoke that generates a deflection magnetic field that deflects and scans the electron beam on the screen in horizontal and vertical directions, wherein the main electron lens portion is at least by its continuously changing axial potential distribution. Are formed, and within the distribution thereof, the first, second, and third portions are sequentially formed along the electron beam traveling direction.
When the side beam trajectories of the first and third lens regions change in synchronization with the deflection magnetic field, the side beam trajectory of the second lens region is changed so as to substantially cancel the change. A cathode ray tube having means for causing the cathode ray tube to emit light.