JP2000306857A - 光照射式加熱処理装置 - Google Patents
光照射式加熱処理装置Info
- Publication number
- JP2000306857A JP2000306857A JP31182899A JP31182899A JP2000306857A JP 2000306857 A JP2000306857 A JP 2000306857A JP 31182899 A JP31182899 A JP 31182899A JP 31182899 A JP31182899 A JP 31182899A JP 2000306857 A JP2000306857 A JP 2000306857A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lamp
- lamps
- mirror
- cooling
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/0033—Heating devices using lamps
- H05B3/0038—Heating devices using lamps for industrial applications
- H05B3/0047—Heating devices using lamps for industrial applications for semiconductor manufacture
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K5/00—Casings; Enclosures; Supports
- H02K5/04—Casings or enclosures characterised by the shape, form or construction thereof
- H02K5/15—Mounting arrangements for bearing-shields or end plates
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K15/00—Methods or apparatus specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining or repairing of dynamo-electric machines
- H02K15/14—Casings; Enclosures; Supports
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K5/00—Casings; Enclosures; Supports
- H02K5/04—Casings or enclosures characterised by the shape, form or construction thereof
- H02K5/16—Means for supporting bearings, e.g. insulating supports or means for fitting bearings in the bearing-shields
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Arrangement Of Elements, Cooling, Sealing, Or The Like Of Lighting Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ランプを効率的に十分冷却することによっ
て、ウエハの昇温速度を上げるためにランプ入力をより
大きくしても、ランプ発光部の失透がなく、寿命の長い
光照射式加熱処理装置を提供すること。 【解決手段】 ランプの光を照射して加熱する光照射式
加熱装置において、複数個の一端封止型ランプをミラー
に並べて設け、ミラーにはランプを冷却する送風路とラ
ンプ周囲から排気する排風路とを設けた。
て、ウエハの昇温速度を上げるためにランプ入力をより
大きくしても、ランプ発光部の失透がなく、寿命の長い
光照射式加熱処理装置を提供すること。 【解決手段】 ランプの光を照射して加熱する光照射式
加熱装置において、複数個の一端封止型ランプをミラー
に並べて設け、ミラーにはランプを冷却する送風路とラ
ンプ周囲から排気する排風路とを設けた。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本願発明は、半導体ウエハ
（以下ウエハ）を、成膜、拡散、アニール等のために、
光を用いて加熱処理する、光照射式加熱処理装置に関す
るものである。
（以下ウエハ）を、成膜、拡散、アニール等のために、
光を用いて加熱処理する、光照射式加熱処理装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、半導体製造工程における光照
射式加熱処理は、成膜、拡散、アニールなど、広い範囲
にわたって行われている。いずれの処理も、ウエハを高
温に加熱処理するものである。光を照射すれば、ウエハ
を急速に加熱することができ、１０００℃以上の温度に
まで十数秒から数十秒で昇温させることができる。そし
て、光照射を停止すれば、ウエハは急速に冷却される。
射式加熱処理は、成膜、拡散、アニールなど、広い範囲
にわたって行われている。いずれの処理も、ウエハを高
温に加熱処理するものである。光を照射すれば、ウエハ
を急速に加熱することができ、１０００℃以上の温度に
まで十数秒から数十秒で昇温させることができる。そし
て、光照射を停止すれば、ウエハは急速に冷却される。
【０００３】従来の光照射式加熱処理装置として、例え
ば特公平６−９３４４０号公報に示されるようなものが
あげられる。これを図１に示す。石英窓８によって仕切
られた光照射室１内には、ウエハ保持台２の上に加熱処
理されるウエハ３が載置されている。石英窓８はウエハ
３とランプ４の周囲雰囲気を異なるものとする時に用い
られる。
ば特公平６−９３４４０号公報に示されるようなものが
あげられる。これを図１に示す。石英窓８によって仕切
られた光照射室１内には、ウエハ保持台２の上に加熱処
理されるウエハ３が載置されている。石英窓８はウエハ
３とランプ４の周囲雰囲気を異なるものとする時に用い
られる。
【０００４】シール部６がランプの一端側のみに設けら
れた一端封止型の赤外線ランプ４が石英窓８の上方に複
数個並べて配置されている。各ランプ４はそのシール部
６近傍を壁９に支持された状態で光ガイド５の中に挿入
されている。壁９と光ガイド５で形成される空間は冷却
液が導入され冷却室７を形成している。
れた一端封止型の赤外線ランプ４が石英窓８の上方に複
数個並べて配置されている。各ランプ４はそのシール部
６近傍を壁９に支持された状態で光ガイド５の中に挿入
されている。壁９と光ガイド５で形成される空間は冷却
液が導入され冷却室７を形成している。
【０００５】ランプ４に電力が投入されると、ランプ４
内のフィラメントが発光し、この光はステンレス鋼等で
作られた光ガイド５の内側反射面で反射して、光照射室
１のウエハ保持台２上に載置されたウエハ３に照射さ
れ、ウエハ３が加熱される。ランプ４からの輻射エネル
ギーによって光ガイド５およびランプ４のシール部６の
温度が過度に上昇しないように、冷却室７内の冷却液に
よって冷却している。
内のフィラメントが発光し、この光はステンレス鋼等で
作られた光ガイド５の内側反射面で反射して、光照射室
１のウエハ保持台２上に載置されたウエハ３に照射さ
れ、ウエハ３が加熱される。ランプ４からの輻射エネル
ギーによって光ガイド５およびランプ４のシール部６の
温度が過度に上昇しないように、冷却室７内の冷却液に
よって冷却している。
【０００６】しかしながら、この従来例では、冷却室７
を流れる冷却液による熱伝導を利用した光ガイド５、シ
ール部６の冷却であるので、光ガイド５、シール部６の
冷却しか行うことができず、ランプ４の発光部（フィラ
メントを囲む石英部分）を充分に冷却することができな
かった。
を流れる冷却液による熱伝導を利用した光ガイド５、シ
ール部６の冷却であるので、光ガイド５、シール部６の
冷却しか行うことができず、ランプ４の発光部（フィラ
メントを囲む石英部分）を充分に冷却することができな
かった。
【０００７】このため、高スループットや処理時間の短
縮化を目的としてウエハの昇温速度を上げるためにラン
プ４への入力をより大きくすると、ランプ４の発光部を
形成する石英の温度が上昇して１０００℃以上になる場
合がある。発光部に用いられる石英は８００℃以上にな
ると再結晶化し失透とよばれる白濁を生じる。そして、
ランプ４の温度が上昇して石英が失透するとフィラメン
トからの光が石英を通過しにくくなり、ランプ４から所
定の光エネルギーをウエハ３に照射できなくなってしま
い、加熱装置として有効に機能しなくなってしまうこと
があった。
縮化を目的としてウエハの昇温速度を上げるためにラン
プ４への入力をより大きくすると、ランプ４の発光部を
形成する石英の温度が上昇して１０００℃以上になる場
合がある。発光部に用いられる石英は８００℃以上にな
ると再結晶化し失透とよばれる白濁を生じる。そして、
ランプ４の温度が上昇して石英が失透するとフィラメン
トからの光が石英を通過しにくくなり、ランプ４から所
定の光エネルギーをウエハ３に照射できなくなってしま
い、加熱装置として有効に機能しなくなってしまうこと
があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、第１の目的
は、ランプを効率的に十分冷却することによって、ウエ
ハの昇温速度を上げるためにランプ入力をより大きくし
ても、ランプ発光部の失透がなく寿命の長い光照射式加
熱処理装置を提供することである。第２の目的は、ラン
プを効率的に十分冷却することができ、且つウエハの昇
温速度を上げるために単位面積当たりのランプ数量を増
やすことが可能な光照射式加熱装置を提供することであ
る。そして、第３の目的は、ランプのシール部の温度上
昇を防ぐことによって、光エネルギーを効率良く使用す
ることができ、寿命の長い光照射式加熱処理装置を提供
することである。
な事情に基づいてなされたものであって、第１の目的
は、ランプを効率的に十分冷却することによって、ウエ
ハの昇温速度を上げるためにランプ入力をより大きくし
ても、ランプ発光部の失透がなく寿命の長い光照射式加
熱処理装置を提供することである。第２の目的は、ラン
プを効率的に十分冷却することができ、且つウエハの昇
温速度を上げるために単位面積当たりのランプ数量を増
やすことが可能な光照射式加熱装置を提供することであ
る。そして、第３の目的は、ランプのシール部の温度上
昇を防ぐことによって、光エネルギーを効率良く使用す
ることができ、寿命の長い光照射式加熱処理装置を提供
することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本願の請求項１記載の発明は、ランプの光を照射し
て加熱する光照射式加熱装置において、複数個の一端封
止型ランプをミラーに並べて設け、ミラーにはランプを
冷却する送風路とランプ周囲から排気する排風路とを設
けたことを特徴とする。本願請求項２記載の発明は、ラ
ンプの光を照射して加熱する光照射式加熱装置におい
て、複数個の一端封止型ランプをミラーに並べて設け、
ミラーの反射面側を取り囲む側壁を有するランプ室を設
け、ミラーにはランプを冷却する送風路を設け、ランプ
室の側壁には排風路を設けたことを特徴とする。本願請
求項３記載の発明は、上記送風路は、ランプ外周面を取
り巻くように設けられた複数個の送風路であることを特
徴とする。本願請求項４記載の発明は、上記ランプは、
フィラメントとシール部との間に、反射部材を設けたラ
ンプであることを特徴とする。
に、本願の請求項１記載の発明は、ランプの光を照射し
て加熱する光照射式加熱装置において、複数個の一端封
止型ランプをミラーに並べて設け、ミラーにはランプを
冷却する送風路とランプ周囲から排気する排風路とを設
けたことを特徴とする。本願請求項２記載の発明は、ラ
ンプの光を照射して加熱する光照射式加熱装置におい
て、複数個の一端封止型ランプをミラーに並べて設け、
ミラーの反射面側を取り囲む側壁を有するランプ室を設
け、ミラーにはランプを冷却する送風路を設け、ランプ
室の側壁には排風路を設けたことを特徴とする。本願請
求項３記載の発明は、上記送風路は、ランプ外周面を取
り巻くように設けられた複数個の送風路であることを特
徴とする。本願請求項４記載の発明は、上記ランプは、
フィラメントとシール部との間に、反射部材を設けたラ
ンプであることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】本願発明の第１の実施例を図２、
３に示す。内部にフィラメントを有する複数の一端封止
型ランプ１０をウエハ３に対して垂直になるようにミラ
ー１１に並べて配置することは従来例と同様である。ラ
ンプ１０のシール部２０近傍を覆うスリーブ１２を設け
このスリーブ１２をミラー１１の孔１３に嵌め合わせ
て、ランプ１０をミラー１１に固定する。
３に示す。内部にフィラメントを有する複数の一端封止
型ランプ１０をウエハ３に対して垂直になるようにミラ
ー１１に並べて配置することは従来例と同様である。ラ
ンプ１０のシール部２０近傍を覆うスリーブ１２を設け
このスリーブ１２をミラー１１の孔１３に嵌め合わせ
て、ランプ１０をミラー１１に固定する。
【００１１】ミラー１１には、ランプ１０を冷却する送
風路１４と、ランプ周囲から排気する排風路１５とを、
ランプ１０の周囲近傍に設ける。この送風路１４には冷
却ファンやエアー圧縮ポンプ等（図示略）から冷却風が
供給されランプ１０周囲を冷却する。排風路１５には排
風ファン（図示略）が接続され、ランプ周囲のエアーが
排気される。図３は図２のＡ−Ａ断面から見た平面図で
あり、「・」は送風路１４、「×」は排風路１５を示
し、ミラー１１上のランプ１０、送風路１４および排風
路１５の配置関係を示している。このように、送風路１
４はランプ１０の周囲にランプ１０を取り囲むように設
ける。このことによって、ランプ１０の発光部は集中的
に冷却風にさらされるので、効率よく冷却される。送風
路１４は、冷却風をランプ１０の発光部に吹き付けるよ
うに、ランプ１０の方向に向けて設ける方が更に効果的
である。
風路１４と、ランプ周囲から排気する排風路１５とを、
ランプ１０の周囲近傍に設ける。この送風路１４には冷
却ファンやエアー圧縮ポンプ等（図示略）から冷却風が
供給されランプ１０周囲を冷却する。排風路１５には排
風ファン（図示略）が接続され、ランプ周囲のエアーが
排気される。図３は図２のＡ−Ａ断面から見た平面図で
あり、「・」は送風路１４、「×」は排風路１５を示
し、ミラー１１上のランプ１０、送風路１４および排風
路１５の配置関係を示している。このように、送風路１
４はランプ１０の周囲にランプ１０を取り囲むように設
ける。このことによって、ランプ１０の発光部は集中的
に冷却風にさらされるので、効率よく冷却される。送風
路１４は、冷却風をランプ１０の発光部に吹き付けるよ
うに、ランプ１０の方向に向けて設ける方が更に効果的
である。
【００１２】ランプ１０点灯時、冷却ファンによって送
風路１４にエアーを供給し、ランプ１０を冷却する。送
風路１４からランプ１０周囲に流入した冷却風は、シー
ル部２０からランプ１０の発光部周囲に沿って進む。一
方、排風路１５には排風ファンによって負圧が供給され
強制排気されているので、エアーは排風路１５に吸引さ
れ排気される。このように冷却風をランプ１０のシール
部２０から発光部表面に沿って吹き込むことによって、
個々のランプ１０の発光部が直接効率良く冷却されるの
で、接近して配置された複数のランプ１０を同時に点灯
しても、発光部を形成する石英の温度が８００℃以上に
なることを防ぐことができるので、石英が失透すること
なくランプに大電力を投入することができるようにな
る。
風路１４にエアーを供給し、ランプ１０を冷却する。送
風路１４からランプ１０周囲に流入した冷却風は、シー
ル部２０からランプ１０の発光部周囲に沿って進む。一
方、排風路１５には排風ファンによって負圧が供給され
強制排気されているので、エアーは排風路１５に吸引さ
れ排気される。このように冷却風をランプ１０のシール
部２０から発光部表面に沿って吹き込むことによって、
個々のランプ１０の発光部が直接効率良く冷却されるの
で、接近して配置された複数のランプ１０を同時に点灯
しても、発光部を形成する石英の温度が８００℃以上に
なることを防ぐことができるので、石英が失透すること
なくランプに大電力を投入することができるようにな
る。
【００１３】本願発明の第２の実施例を図４、５に示
す。ミラー１１には、ランプ１０を冷却する送風路１４
を設け、ランプ室２１から排気する排風路２３をランプ
室側壁２２に設ける。図５は図４のＢ−Ｂ断面から見た
平面図であり、ミラー１１上のランプ１０と送風路１４
の配置関係を示している。このように、送風路１４はラ
ンプ１０の周囲にランプ１０を取り囲むように設ける。
このことによって、ランプ１０の発光部は集中的に冷却
風にさらされるので、効率よく冷却される。送風路１４
は、冷却風をランプ１０の発光部に吹き付けるように、
ランプ１０の方向に向けて設ける方が更に効果的であ
る。
す。ミラー１１には、ランプ１０を冷却する送風路１４
を設け、ランプ室２１から排気する排風路２３をランプ
室側壁２２に設ける。図５は図４のＢ−Ｂ断面から見た
平面図であり、ミラー１１上のランプ１０と送風路１４
の配置関係を示している。このように、送風路１４はラ
ンプ１０の周囲にランプ１０を取り囲むように設ける。
このことによって、ランプ１０の発光部は集中的に冷却
風にさらされるので、効率よく冷却される。送風路１４
は、冷却風をランプ１０の発光部に吹き付けるように、
ランプ１０の方向に向けて設ける方が更に効果的であ
る。
【００１４】ランプ１０点灯時、冷却ファンによって送
風路１４にエアーを供給し、ランプ１０を冷却する。送
風路１４からランプ１０周囲に流入した冷却風は、シー
ル部２０からランプ１０の発光部周囲に沿って進む。一
方、ランプ室側壁２２に設けた排風路２３には排風ファ
ンによって負圧が供給され強制排気されているので、第
１の実施例と同様にエアーは排風路２３に吸引され排気
される。このように冷却風をランプ１０のシール部２０
から発光部表面に沿って吹き込むことによって、個々の
ランプ１０の発光部が直接効率良く冷却されるので、接
近して配置された複数のランプ１０を同時に点灯して
も、発光部を形成する石英の温度が８００℃以上になる
ことを防ぐことができるので、石英が失透することなく
ランプに大電力を投入することができるようになる。ま
た、排風路２３をランプ室側壁２２に設けたことによ
り、ミラー面に排風路を設ける必要が無いので、単位面
積当たりのランプの数量を増やすこともでき、更に昇温
速度を上げることができる。
風路１４にエアーを供給し、ランプ１０を冷却する。送
風路１４からランプ１０周囲に流入した冷却風は、シー
ル部２０からランプ１０の発光部周囲に沿って進む。一
方、ランプ室側壁２２に設けた排風路２３には排風ファ
ンによって負圧が供給され強制排気されているので、第
１の実施例と同様にエアーは排風路２３に吸引され排気
される。このように冷却風をランプ１０のシール部２０
から発光部表面に沿って吹き込むことによって、個々の
ランプ１０の発光部が直接効率良く冷却されるので、接
近して配置された複数のランプ１０を同時に点灯して
も、発光部を形成する石英の温度が８００℃以上になる
ことを防ぐことができるので、石英が失透することなく
ランプに大電力を投入することができるようになる。ま
た、排風路２３をランプ室側壁２２に設けたことによ
り、ミラー面に排風路を設ける必要が無いので、単位面
積当たりのランプの数量を増やすこともでき、更に昇温
速度を上げることができる。
【００１５】また、図６のように、一端封止型ランプ１
０において、内部リード線１７を支持するガラス片１８
に、たとえばタングステンやモリブデン等の高融点物質
からなる反射部材１９を設けることもできる。このよう
に、ランプ１０内部のフィラメント１６と、シール部２
０との間に、反射部材１９を設けたランプ１０とする
と、フィラメント１６からの光をも、反射部材１９によ
ってウエハ３方向に反射することができるので、ランプ
１０の光エネルギーを効率良く使用することができる。
また、シール部２０にフィラメント１６からの光が到達
しなくなるのでシール部２０の温度上昇を防ぐことがで
き、シール部２０の箔の酸化を防ぐことができ、ランプ
の長寿命化が可能になる。光の反射効率を上げるために
反射部材１９を鏡面加工してもよい。
０において、内部リード線１７を支持するガラス片１８
に、たとえばタングステンやモリブデン等の高融点物質
からなる反射部材１９を設けることもできる。このよう
に、ランプ１０内部のフィラメント１６と、シール部２
０との間に、反射部材１９を設けたランプ１０とする
と、フィラメント１６からの光をも、反射部材１９によ
ってウエハ３方向に反射することができるので、ランプ
１０の光エネルギーを効率良く使用することができる。
また、シール部２０にフィラメント１６からの光が到達
しなくなるのでシール部２０の温度上昇を防ぐことがで
き、シール部２０の箔の酸化を防ぐことができ、ランプ
の長寿命化が可能になる。光の反射効率を上げるために
反射部材１９を鏡面加工してもよい。
【００１６】このような構成の光照射式加熱処理装置と
することで、ランプの発光部を確実に冷却することがで
きるので、ウエハの昇温速度を上げるためにランプ入力
を大きくしても、ランプ発光部の失透を生じることな
く、長寿命な光照射式加熱装置とすることができる。
することで、ランプの発光部を確実に冷却することがで
きるので、ウエハの昇温速度を上げるためにランプ入力
を大きくしても、ランプ発光部の失透を生じることな
く、長寿命な光照射式加熱装置とすることができる。
【００１７】
【発明の効果】請求項１に記載の発明は、複数個の一端
封止型ランプをミラーに並べて設け、ミラーにはランプ
を冷却する送風路とランプ周囲から排気する排風路とを
設けた。これによって、ランプ発光部が確実に冷却され
ているので、ウエハの昇温速度を上げるためにランプ入
力をより大きくしても、ランプ発光部の失透無しに、ウ
エハを加熱することができる。
封止型ランプをミラーに並べて設け、ミラーにはランプ
を冷却する送風路とランプ周囲から排気する排風路とを
設けた。これによって、ランプ発光部が確実に冷却され
ているので、ウエハの昇温速度を上げるためにランプ入
力をより大きくしても、ランプ発光部の失透無しに、ウ
エハを加熱することができる。
【００１８】請求項２に記載の発明は、複数個の一端封
止型ランプをミラーに並べて設け、ミラーにはランプを
冷却する送風路を設け、ランプ室側壁２２には排風路を
設けた。これによっても、ランプ発光部が確実に冷却さ
れるので、ランプ入力をより大きくしても、ランプ発光
部の失透を生じることは無く、単位面積当たりのランプ
の数量を増やすことにより、ウエハの昇温速度を更に上
げることができる。
止型ランプをミラーに並べて設け、ミラーにはランプを
冷却する送風路を設け、ランプ室側壁２２には排風路を
設けた。これによっても、ランプ発光部が確実に冷却さ
れるので、ランプ入力をより大きくしても、ランプ発光
部の失透を生じることは無く、単位面積当たりのランプ
の数量を増やすことにより、ウエハの昇温速度を更に上
げることができる。
【００１９】請求項３に記載の発明は、送風路を、ラン
プ外周面を取り巻くように複数個設けたので、ランプが
効率よく冷却される。
プ外周面を取り巻くように複数個設けたので、ランプが
効率よく冷却される。
【００２０】請求項４にかかる発明は、ランプ内部のフ
ィラメント部分と、シール部との間に、反射部材を設け
たランプとすることで、シール部方向に照射される光
を、ウエハ方向に反射することができるので、ランプか
らの光エネルギーをウエハの加熱に効率良く使用するこ
とができる。また、フィラメントからの光がシール部に
は照射されなくなるのでシール部の温度上昇を防ぐこと
ができ、箔シールの酸化を防ぎランプの長寿命化が可能
になる。
ィラメント部分と、シール部との間に、反射部材を設け
たランプとすることで、シール部方向に照射される光
を、ウエハ方向に反射することができるので、ランプか
らの光エネルギーをウエハの加熱に効率良く使用するこ
とができる。また、フィラメントからの光がシール部に
は照射されなくなるのでシール部の温度上昇を防ぐこと
ができ、箔シールの酸化を防ぎランプの長寿命化が可能
になる。
【図１】 従来の光照射式加熱装置の断面説明図であ
る。
る。
【図２】 本願発明の第１の実施例の断面説明図であ
る。
る。
【図３】 図２のＡ−Ａ線断面方向から見た平面図であ
る。
る。
【図４】 本願発明の反射部材を持ったランプを示す説
明図である。
明図である。
【図５】 本願発明の第２の実施例の断面説明図であ
る。
る。
【図６】 図５のＢ−Ｂ線断面方向から見た平面図であ
る。
る。
１ 光照射室 ２ウエハ保持台 ３ ウエハ ４、１０ 一端封止型赤外線ランプ ５ 光ガイド ６、２０ ランプのシール部 ７ 冷却室 ８ 石英窓 ９ 壁 １１ ミラー １２ スリーブ １３ 孔 １４ 送風路 １５，２３ 排風路 １６ フィラメント １７ 内部リード線 １８ ガラス片 １９ 反射部材 ２１ ランプ室 ２２ ランプ室側壁
Claims (4)
- 【請求項１】 ランプの光を照射して加熱する光照射式
加熱装置において、 複数個の一端封止型ランプをミラーに並べて設け、ミラ
ーにはランプを冷却する送風路とランプ周囲から排気す
る排風路とを設けたことを特徴とする光照射式加熱処理
装置。 - 【請求項２】 ランプの光を照射して加熱する光照射式
加熱装置において、 複数個の一端封止型ランプをミラーに並べて設け、ミラ
ーの反射面側を取り囲む側壁を有するランプ室を設け、
ミラーにはランプを冷却する送風路を設け、ランプ室の
側壁には排風路を設けたことを特徴とする光照射式加熱
処理装置。 - 【請求項３】 上記送風路は、ランプ外周面を取り巻く
ように設けられた複数個の送風路であることを特徴とす
る、請求項１、２記載の光照射式加熱処理装置。 - 【請求項４】 上記ランプは、フィラメントとシール部
との間に、反射部材を設けたランプであることを特徴と
する、請求項１〜３記載の光照射式加熱処理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31182899A JP3733811B2 (ja) | 1999-02-16 | 1999-11-02 | 光照射式加熱処理装置 |
| TW088120805A TW451309B (en) | 1999-02-16 | 1999-11-29 | Heat treatment device of the light irradiation type |
| US09/503,741 US6414279B1 (en) | 1999-02-16 | 2000-02-15 | Heat treatment device of the light irradiation type |
| KR1020000007282A KR20010006639A (ko) | 1999-02-16 | 2000-02-16 | 광조사식 가열처리장치 |
| EP00103150A EP1030535A1 (en) | 1999-02-16 | 2000-02-16 | Heat treatment device of the light irradiation type |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3739699 | 1999-02-16 | ||
| JP11-37396 | 1999-02-16 | ||
| JP31182899A JP3733811B2 (ja) | 1999-02-16 | 1999-11-02 | 光照射式加熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000306857A true JP2000306857A (ja) | 2000-11-02 |
| JP3733811B2 JP3733811B2 (ja) | 2006-01-11 |
Family
ID=26376527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31182899A Expired - Fee Related JP3733811B2 (ja) | 1999-02-16 | 1999-11-02 | 光照射式加熱処理装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6414279B1 (ja) |
| EP (1) | EP1030535A1 (ja) |
| JP (1) | JP3733811B2 (ja) |
| KR (1) | KR20010006639A (ja) |
| TW (1) | TW451309B (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100858439B1 (ko) | 2007-02-20 | 2008-09-12 | (주)앤피에스 | 실링 플랜지를 구비한 텅스텐 할로겐 램프 |
| EP2043405A2 (en) | 2007-09-26 | 2009-04-01 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Photoirradiation type heat treatment apparatus |
| JP2009088348A (ja) * | 2007-10-01 | 2009-04-23 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
| JP2009260025A (ja) * | 2008-04-16 | 2009-11-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 熱処理装置 |
| KR101391301B1 (ko) * | 2011-07-01 | 2014-05-02 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030046217A (ko) * | 2001-12-05 | 2003-06-12 | 한국과학기술연구원 | 반도체 제조용 가열장치 |
| US6570137B1 (en) * | 2002-03-04 | 2003-05-27 | Applied Materials, Inc. | System and method for lamp split zone control |
| US20070148367A1 (en) * | 2005-12-22 | 2007-06-28 | Lewis Daniel J | Chemical vapor deposition apparatus and methods of using the apparatus |
| FR2896942B1 (fr) * | 2006-01-27 | 2014-03-14 | Thermor Ind | "dispositif de chauffage electrique" |
| KR20090057729A (ko) * | 2007-12-03 | 2009-06-08 | 에이피시스템 주식회사 | 급속열처리장치의 히터블록 |
| US9960059B2 (en) * | 2012-03-30 | 2018-05-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Honeycomb heaters for integrated circuit manufacturing |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4496609A (en) | 1969-10-15 | 1985-01-29 | Applied Materials, Inc. | Chemical vapor deposition coating process employing radiant heat and a susceptor |
| US3761678A (en) | 1971-05-03 | 1973-09-25 | Aerojet General Co | High density spherical modules |
| US3862397A (en) | 1972-03-24 | 1975-01-21 | Applied Materials Tech | Cool wall radiantly heated reactor |
| US4150316A (en) | 1977-01-13 | 1979-04-17 | Gte Sylvania Incorporated | Incandescent projection lamp with internal reflector having light defining opening therein |
| US4280076A (en) * | 1978-10-18 | 1981-07-21 | Duro-Test Corporation | Incandescent lamp with structure for collecting evaporated filament material |
| JPS59222922A (ja) * | 1983-06-01 | 1984-12-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 気相成長装置 |
| US5156820A (en) * | 1989-05-15 | 1992-10-20 | Rapro Technology, Inc. | Reaction chamber with controlled radiant energy heating and distributed reactant flow |
| US5155336A (en) | 1990-01-19 | 1992-10-13 | Applied Materials, Inc. | Rapid thermal heating apparatus and method |
| FR2687252A1 (fr) | 1992-02-12 | 1993-08-13 | Dilouya Gilbert | Systeme optique comprenant une lampe a reflecteur incorpore. |
-
1999
- 1999-11-02 JP JP31182899A patent/JP3733811B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-29 TW TW088120805A patent/TW451309B/zh not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-02-15 US US09/503,741 patent/US6414279B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-02-16 EP EP00103150A patent/EP1030535A1/en not_active Withdrawn
- 2000-02-16 KR KR1020000007282A patent/KR20010006639A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100858439B1 (ko) | 2007-02-20 | 2008-09-12 | (주)앤피에스 | 실링 플랜지를 구비한 텅스텐 할로겐 램프 |
| EP2043405A2 (en) | 2007-09-26 | 2009-04-01 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Photoirradiation type heat treatment apparatus |
| JP2009081239A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Ushio Inc | 光照射式加熱処理装置 |
| JP2009088348A (ja) * | 2007-10-01 | 2009-04-23 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
| JP2009260025A (ja) * | 2008-04-16 | 2009-11-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 熱処理装置 |
| KR101391301B1 (ko) * | 2011-07-01 | 2014-05-02 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| US9082797B2 (en) | 2011-07-01 | 2015-07-14 | Hitachi Kokusai Electric, Inc. | Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20010006639A (ko) | 2001-01-26 |
| JP3733811B2 (ja) | 2006-01-11 |
| US6414279B1 (en) | 2002-07-02 |
| TW451309B (en) | 2001-08-21 |
| EP1030535A1 (en) | 2000-08-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20120145697A1 (en) | Heat treatment apparatus | |
| US9330949B2 (en) | Heat treatment apparatus for heating substrate by irradiating substrate with flash of light | |
| US10249519B2 (en) | Light-irradiation heat treatment apparatus | |
| US7912359B2 (en) | Heating device of the light irradiation type | |
| JP6837911B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JP2000306857A (ja) | 光照射式加熱処理装置 | |
| JP2001035803A (ja) | ランプユニット及び光照射式加熱装置 | |
| US20170243770A1 (en) | Light-irradiation heat treatment apparatus | |
| US10861720B2 (en) | Heat treatment apparatus of light irradiation type | |
| CN112397415A (zh) | 热处理装置及热处理装置的洗净方法 | |
| TW201812978A (zh) | 熱處理裝置 | |
| CN112820666A (zh) | 热处理装置 | |
| KR20000017153A (ko) | 광조사식 가열장치의 냉각구조 | |
| JPH1197370A (ja) | 熱処理装置 | |
| JP4710255B2 (ja) | 加熱ステージ | |
| JP3528734B2 (ja) | 光照射式加熱処理装置のランプユニット | |
| KR100902633B1 (ko) | 가열유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 | |
| JP3789366B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| TWI703638B (zh) | 熱處理裝置 | |
| JP6759983B2 (ja) | 加熱用光源ユニット | |
| JP3609380B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JP2023085681A (ja) | フィラメントランプ、光加熱装置 | |
| JP2018186059A (ja) | 水冷式低圧水銀ランプ照射装置 | |
| JP2000114196A (ja) | 光照射式加熱装置の冷却構造 | |
| TWI682464B (zh) | 熱處理裝置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050825 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050927 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051010 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081028 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091028 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091028 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101028 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111028 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121028 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131028 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |