JP2000296326A - Method for controlling operation of organohalogen compound decomposing device - Google Patents
Method for controlling operation of organohalogen compound decomposing deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマを利用し
た有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法に係わ
り、特に、マイクロ波を利用してプラズマを発生させる
ようにした有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus using plasma, and more particularly to an operation control for an organic halogen compound decomposing apparatus using microwaves to generate plasma. It is about the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】分子内にフッ素、塩素、臭素等を含んだ
フロン、トリクロロメタン、ハロン等の有機ハロゲン化
合物は、冷媒、溶剤、消火剤等の幅広い用途に大量に使
用されており、産業分野における重要度は極めて高い。
しかし、これら化合物は揮発性が高く、未処理のまま大
気、土壌、水等の環境に放出されると、発ガン性物質の
生成、オゾン層の破壊等、環境に悪影響を及ぼすことが
あるため、環境保全の見地から無害化処理を行う必要が
ある。2. Description of the Related Art Organic halogen compounds such as freon, trichloromethane, and halon containing fluorine, chlorine, and bromine in a molecule are widely used in a wide range of applications such as refrigerants, solvents, and fire extinguishers. Is very important.
However, these compounds have high volatility, and if released untreated into the environment such as air, soil, and water, they may have adverse effects on the environment, such as formation of carcinogenic substances and destruction of the ozone layer. It is necessary to perform detoxification treatment from the viewpoint of environmental protection.
【０００３】従来から有機ハロゲン化合物の処理方法と
して報告されているものは、主として高温での熱分解反
応を利用したものがあり、この処理方法は更に焼却法と
プラズマ法とに大別される。焼却法は、有機ハロゲン化
合物を樹脂等の通常の廃棄物と一緒に焼却するものであ
るのに対し、プラズマ法は、プラズマ中で有機ハロゲン
化合物を水蒸気と反応させ、二酸化炭素、塩化水素、フ
ッ化水素に分解するものである。[0003] Conventionally, methods for treating organic halogen compounds have been reported which mainly utilize a thermal decomposition reaction at a high temperature, and this treatment method is further roughly classified into an incineration method and a plasma method. In the incineration method, the organic halogen compound is incinerated together with ordinary waste such as resin.On the other hand, in the plasma method, the organic halogen compound is reacted with water vapor in plasma to produce carbon dioxide, hydrogen chloride, and fluorine. It decomposes into hydrogen.
【０００４】さらに、後者のプラズマ法に係る有機ハロ
ゲン化合物分解装置の運転制御方法については、マイク
ロ波を利用してプラズマを発生させるものが近年開発さ
れている。この分解方法に用いられる分解装置は、アル
カリ液を収容する排ガス処理タンクと、開口した下端部
をアルカリ液に浸漬した状態で配設される反応管と、該
反応管の上方において垂直方向に延在する円筒導波管
と、該円筒導波管の内部に配されその下端を貫通して反
応管に連通する放電管と、水平方向に延在しその一端部
近傍において円筒導波管に連接される方形導波管と、該
方形導波管の他端に装着されるマイクロ波発信器等を具
備してなる。[0004] Further, as for the latter method of controlling the decomposition of an organic halogen compound according to the plasma method, a method of generating plasma using microwaves has recently been developed. The decomposition apparatus used in this decomposition method includes an exhaust gas treatment tank containing an alkaline solution, a reaction tube disposed with the open lower end immersed in the alkaline solution, and a vertically extending above the reaction tube. A cylindrical waveguide, a discharge tube disposed inside the cylindrical waveguide and penetrating the lower end thereof and communicating with the reaction tube, and extending horizontally and connected to the cylindrical waveguide near one end thereof. And a microwave transmitter mounted on the other end of the rectangular waveguide.
【０００５】この分解装置では、放電管にフロンガスお
よび水蒸気が供給される一方で、マイクロ波発信器から
発信されたマイクロ波が方形導波管を介して円筒導波管
に伝送される。そして、円筒導波管の内部に形成された
マイクロ波電界で放電を起こし、反応管内でフロンガス
を熱プラズマにより分解する。他方、この分解反応によ
り生成された生成ガスは、アルカリ液中を通って中和さ
れるとともに、炭酸ガス等を含む残りのガスは排気ダク
トから排出される。[0005] In this decomposition apparatus, while the Freon gas and the water vapor are supplied to the discharge tube, the microwave transmitted from the microwave transmitter is transmitted to the cylindrical waveguide through the rectangular waveguide. Then, a discharge is caused by the microwave electric field formed inside the cylindrical waveguide, and the fluorocarbon gas is decomposed by the thermal plasma in the reaction tube. On the other hand, the generated gas generated by the decomposition reaction is neutralized by passing through the alkaline liquid, and the remaining gas including carbon dioxide gas is discharged from the exhaust duct.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記プラズ
マ法に係る有機ハロゲン化合物の分解装置においては、
フロンガス等をプラズマ状態にする必要がある。このた
め、フロンガスが確実に、かつ、安定してプラズマ化す
るように装置を制御する必要がある。また、フロンガス
の分解に際して生成される物質は有害であるため、その
制御にあたっては、安全性も要求される。In the apparatus for decomposing an organic halogen compound according to the plasma method,
It is necessary to bring CFC gas or the like into a plasma state. For this reason, it is necessary to control the apparatus so that the fluorocarbon gas is converted into plasma reliably and stably. In addition, since the substances generated when decomposing the chlorofluorocarbon gas are harmful, safety is also required in controlling the substances.
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、フロンガス等の有機ハロ
ゲン化合物を確実にかつ安定してプラズマ化することが
可能な有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法を提
供することにある。また、本発明の他の目的は、有機ハ
ロゲン化合物分解装置の安全性を向上することが可能な
有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法を提供する
ことにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an apparatus for decomposing an organic halogen compound which can surely and stably convert an organic halogen compound such as chlorofluorocarbon into plasma. An object of the present invention is to provide an operation control method. It is another object of the present invention to provide a method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposer capable of improving the safety of the organic halogen compound decomposer.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明においては以下の構成を採用した。請求項１
記載の有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法は、
有機ハロゲン化合物をプラズマ化し、水と反応させて有
機ハロゲン化合物を分解する有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法において、希ガス、有機ハロゲン化合
物の順に装置系にガスの供給を開始するとともに、前記
有機ハロゲン化合物の供給を開始する前に、前記希ガス
をプラズマ化し、前記有機ハロゲン化合物の供給開始後
に前記希ガスの供給を停止することを特徴とする。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention employs the following constitution. Claim 1
The operation control method of the described organohalogen compound decomposer,
In an operation control method of an organic halogen compound decomposing apparatus for converting an organic halogen compound into plasma and reacting it with water to decompose the organic halogen compound, supply of gas to the apparatus system in the order of a rare gas and an organic halogen compound is started, and Before starting the supply of the halogen compound, the rare gas is turned into plasma, and after the start of the supply of the organic halogen compound, the supply of the rare gas is stopped.
【０００９】この有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法においては、まず、Ａｒ、Ｎｅ、Ｈｅ等の希ガス
をプラズマ状態とし、その後、有機ハロゲン化合物を供
給して有機ハロゲン化合物をプラズマ化する。有機ハロ
ゲン化合物のプラズマ状態が安定した後、希ガスの供給
を停止する。プラズマ状態になりやすい希ガスをまずプ
ラズマ化にすることにより、有機ハロゲン化合物のプラ
ズマ化が安定する。この希ガスと有機ハロゲン化合物の
供給のオーバーラップ時間は、ごくわずかでよい。した
がって、長時間にわたる有機ハロゲン化合物の分解時に
おいては、希ガスの供給は不要となる。In the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus, first, a rare gas such as Ar, Ne, or He is brought into a plasma state, and then the organic halogen compound is supplied to turn the organic halogen compound into plasma. After the plasma state of the organic halogen compound is stabilized, the supply of the rare gas is stopped. By first converting a rare gas that tends to be in a plasma state into plasma, the formation of the organic halogen compound into plasma is stabilized. The overlap time between the supply of the rare gas and the supply of the organic halogen compound may be very short. Therefore, when the organic halogen compound is decomposed for a long time, the supply of the rare gas becomes unnecessary.
【００１０】請求項２記載の有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法は、請求項１記載の有機ハロゲン化合
物分解装置の運転制御方法において、前記プラズマ化
は、マイクロ波を照射することにより行うことを特徴と
する。According to a second aspect of the present invention, in the operation control method for an organic halogen compound decomposer, the plasma conversion is performed by irradiating a microwave. Features.
【００１１】マイクロ波を照射することにより発生する
プラズマは、例えば、プラズマ炎の安定性が高い。した
がって、プラズマ化しやすい希ガスの供給が停止して
も、有機ハロゲン化合物のプラズマ化への影響が殆どな
い。したがって、有機ハロゲン化合物のプラズマ化が安
定した後は、希ガスの供給を停止することができる。The plasma generated by irradiating a microwave has, for example, high stability of a plasma flame. Therefore, even if the supply of the rare gas that easily converts into plasma is stopped, there is almost no influence on the conversion of the organic halogen compound into plasma. Therefore, the supply of the rare gas can be stopped after the plasma of the organic halogen compound is stabilized.
【００１２】請求項３記載の有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法は、請求項１または２に記載の有機ハ
ロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、水の供
給を、希ガスを供給した後であって、さらに有機ハロゲ
ン化合物を供給前する前に供給を開始することを特徴と
する。According to a third aspect of the present invention, in the operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus according to the first or second aspect, the water is supplied after the rare gas is supplied. The supply is further started before the organic halogen compound is supplied.
【００１３】この有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法においては、まず、プラズマ状態になりやすい希
ガスの供給を開始し、希ガスをプラズマ化する。その
後、分解対象である有機ハロゲン化合物を装置系に供給
し、プラズマ状態となった有機ハロゲン化合物と水蒸気
を反応させることで、分解物としての酸性ガスを発生さ
せるが、この際、有機ハロゲン化合物の供給に先立って
水の供給を開始する。その理由は、有機ハロゲン化合物
のみをプラズマ化すると、解離された原子の再結合によ
って予想外の有害なハロゲン化合物が発生し、無害化処
理することができなくなる為である。また、上記水の供
給を、希ガスの供給後に行うため、装置系内を乾燥状態
に保つことができ、着火を安定化することができる。In the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus, first, the supply of a rare gas which tends to be in a plasma state is started, and the rare gas is turned into plasma. After that, the organic halogen compound to be decomposed is supplied to the apparatus system, and the organic halogen compound in a plasma state is reacted with water vapor to generate an acidic gas as a decomposed product. Start water supply prior to water supply. The reason is that when only an organic halogen compound is converted into plasma, unexpected harmful halogen compounds are generated due to recombination of dissociated atoms, and it becomes impossible to perform detoxification treatment. Further, since the supply of the water is performed after the supply of the rare gas, the inside of the apparatus system can be kept in a dry state, and the ignition can be stabilized.
【００１４】請求項４記載の有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法は、請求項１から３いずれかに記載の
有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、
前記希ガスの供給を開始する前に、装置系内の水分除去
処理を行うことを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an operation control method for an organic halogen compound decomposer according to any one of the first to third aspects.
Before the supply of the rare gas is started, a water removal process in the apparatus system is performed.
【００１５】この有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法においては、プラズマ着火前に装置系内の水分を
除去する。装置系内に水分が残留しているとプラズマの
着火が安定しない。すなわち、あらかじめ系内の水分を
除去しておくことにより、プラズマの着火を安定化する
ことができる。In the method for controlling the operation of the organic halogen compound decomposing apparatus, water in the apparatus system is removed before plasma ignition. If water remains in the system, the ignition of the plasma is not stable. That is, the plasma ignition can be stabilized by removing the water in the system in advance.
【００１６】請求項５記載の有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法は、請求項４記載の有機ハロゲン化合
物分解装置の運転制御方法において、装置系内の水分除
去は、ガスを供給することにより行うことを特徴とす
る。According to a fifth aspect of the present invention, in the operation control method of the organic halogen compound decomposing apparatus, the water in the apparatus system is removed by supplying a gas. It is characterized by the following.
【００１７】この有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法においては、プラズマ着火前にガスを装置系内に
供給する。水分が残留していると、プラズマの着火が安
定しない。すなわち、装置系内にガスを供給することで
あらかじめ系内の水分を除去しておけば、プラズマの着
火を安定化することができる。ここで、供給するガス
を、例えば１００〜１８０℃に加熱し、あるいは、乾燥
させておくことにより、系内の残留水分が確実に除去さ
れる。In this method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus, a gas is supplied into the apparatus system before plasma ignition. If water remains, ignition of the plasma is not stable. That is, if moisture in the system is removed in advance by supplying gas into the system, ignition of plasma can be stabilized. Here, by heating the supplied gas to, for example, 100 to 180 ° C. or drying it, residual moisture in the system is reliably removed.
【００１８】請求項６記載の有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法は、請求項１から５いずれかに記載の
有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、
前記有機ハロゲン化合物の供給停止後に、掃気ガスを装
置系内に供給することを特徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided an operation control method for an organic halogen compound decomposer according to any one of the first to fifth aspects.
After the supply of the organic halogen compound is stopped, a scavenging gas is supplied into the apparatus system.
【００１９】この有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法においては、有機ハロゲン化合物の供給停止後、
すなわち、有機ハロゲン化合物の分解終了後に、掃気ガ
スが装置系内に供給される。したがって、系内に残留し
ている分解物の酸性ガスがパージされる。In this method for controlling the operation of the organic halogen compound decomposing apparatus, after the supply of the organic halogen compound is stopped,
That is, after the decomposition of the organic halogen compound is completed, the scavenging gas is supplied into the apparatus system. Therefore, the acidic gas of the decomposition product remaining in the system is purged.
【００２０】請求項７記載の有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法は、有機ハロゲン化合物をプラズマ化
し、水と反応させて有機ハロゲン化合物を分解する有機
ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、装置
系内の水分除去処理を行った後に有機ハロゲン化合物の
分解処理を行うことを特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus for converting an organic halogen compound into plasma and reacting it with water to decompose the organic halogen compound. It is characterized in that a decomposition treatment of the organic halogen compound is performed after the water removal treatment in the inside.
【００２１】この有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法においては、有機ハロゲン化合物の分解処理前に
装置系内の水分を除去する。装置系内に水分が残留して
いるとプラズマの着火が安定しないため、あらかじめ系
内の水分を除去しておくことにより、プラズマの着火を
安定化させる。In this method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus, water in the apparatus system is removed before the decomposition processing of the organic halogen compound. If water remains in the apparatus system, the ignition of the plasma is not stable. Therefore, the ignition of the plasma is stabilized by removing the water in the system in advance.
【００２２】請求項８記載の有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法は、有機ハロゲン化合物をプラズマ化
し、水と反応させて有機ハロゲン化合物を分解する有機
ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、分解
処理終了後に、掃気ガスを装置系内に供給することを特
徴とする。An operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus according to claim 8, wherein the organic halogen compound is turned into plasma and reacted with water to decompose the organic halogen compound to decompose the organic halogen compound. After the end, the scavenging gas is supplied into the apparatus system.
【００２３】この有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法においては、有機ハロゲン化合物の分解終了後
に、掃気ガスが装置系内に供給することにより、系内に
残留している酸性ガスをパージする。In this method of controlling the operation of the organic halogen compound decomposing apparatus, after the decomposition of the organic halogen compound is completed, scavenging gas is supplied into the apparatus system to purge the acid gas remaining in the system.
【００２４】請求項９記載の有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法は、請求項１から８いずれかに記載の
有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、
有機ハロゲン化合物の分解中に、前記有機ハロゲン化合
物の分解物を中和する処理液を攪拌し、分解終了後に、
前記攪拌を停止することを特徴とする。According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus according to any one of the first to eighth aspects.
During the decomposition of the organic halogen compound, the treatment solution for neutralizing the decomposition product of the organic halogen compound is stirred, and after the decomposition is completed,
The method is characterized in that the stirring is stopped.
【００２５】この有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法においては、有機ハロゲン化合物分解中に処理液
を攪拌することにより、分解物の処理を促進することが
できる。また、分解終了後に攪拌を停止することによ
り、処理液内で反応物を沈澱させることができるととも
に、省電力にも寄与する。なお、攪拌の開始、停止は、
分解の開始、停止と一致している必要はない。In the method for controlling the operation of the organic halogen compound decomposing apparatus, the processing of the decomposition product can be promoted by stirring the processing liquid during the decomposition of the organic halogen compound. In addition, by stopping the stirring after the decomposition is completed, the reaction product can be precipitated in the processing solution, and also contributes to power saving. The start and stop of stirring are
It does not need to coincide with the start and stop of decomposition.
【００２６】[0026]
【発明の実施の形態】次に、本発明に係る有機ハロゲン
化合物分解装置の運転制御方法に用いられる分解装置に
ついて、図１から図５を参照しながら説明する。図１に
おいて、水平方向に延びる方形導波管１は、その始端部
（右端部）に周波数２．４５ＧＨzのマイクロ波を発信
するマイクロ波発信器２を備えており、始端側から終端
（左）側に向けてマイクロ波を伝送する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a decomposition apparatus used in an operation control method of an organic halogen compound decomposition apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. In FIG. 1, a rectangular waveguide 1 extending in a horizontal direction is provided with a microwave transmitter 2 for transmitting a microwave having a frequency of 2.45 GHz at a starting end (right end), and ends from the starting end (left). Transmit microwave toward the side.
【００２７】方形導波管１には、図１に示すように、マ
イクロ波発信機１その終端部側で反射して始端部側に戻
ってきたマイクロ波を吸収することにより反射波の発信
側への影響を防止するアイソレータ３と、複数の波動調
整部材４を各々出入りさせることにより電波の波動的な
不整合量を調整して放電管５に電波を収束させるチュー
ナー６が設けられている。As shown in FIG. 1, the rectangular waveguide 1 absorbs the microwaves reflected at the end side of the microwave transmitter 1 and returned to the start end side, thereby transmitting the reflected wave. There is provided an isolator 3 for preventing the influence on the discharge wave, and a tuner 6 for adjusting the wave-like mismatch amount of the radio wave by moving the plurality of wave adjustment members 4 in and out to converge the radio wave to the discharge tube 5.
【００２８】この動作を詳細に説明する。マイクロ波発
信機２は断面矩形の導波管の一端に置かれマグネトロン
を駆動して所定周波数の電磁波を放射する。この電磁波
の伝播現象は電磁波に関るマクスウェルの波動方程式を
解くことによって特性が把握されるわけであるが、結果
的には伝播方向に電界成分を持たない電磁波ＴＥ波とし
て伝播する。This operation will be described in detail. The microwave transmitter 2 is placed at one end of a waveguide having a rectangular cross section, and drives a magnetron to emit an electromagnetic wave of a predetermined frequency. The characteristics of this electromagnetic wave propagation phenomenon can be grasped by solving Maxwell's wave equation relating to the electromagnetic wave. As a result, the electromagnetic wave propagates as an electromagnetic wave TE wave having no electric field component in the propagation direction.
【００２９】この１次成分ＴＥ10の例を方向が交番する
矢印で図２の方形導波管の伝播方向に示す。また、方形
導波管１の他端部に２重の円筒状導体からなる２重円筒
導波管の環状空洞には、導波管１を伝播する電磁波、管
端で反射する電磁波の導体９による結合作用により、環
状空洞部には、進行方向に電界成分を持つＴＭ波が生じ
る。この１次成分であるＴＭ10波を同じく図２の環状空
洞部に矢印で示す。電磁波の波動の伝播に関る２次以上
の高調波に起因する微妙な調整はチューナ４で調整され
る。アイソレータ３は発信機２に根本的なダメージを及
ぼすのを防止している。[0029] indicated by arrows the direction examples of the first-order component TE 10 alternates the propagation direction of the rectangular waveguide of Figure 2. The annular cavity of the double-cylindrical waveguide formed of a double-cylindrical conductor at the other end of the rectangular waveguide 1 has conductors 9 for electromagnetic waves propagating in the waveguide 1 and electromagnetic waves reflected at the tube end. , A TM wave having an electric field component in the traveling direction is generated in the annular cavity. The TM 10 wave is the primary component are also shown by the arrows in the annular cavity of FIG. The fine adjustment caused by the second or higher harmonics related to the propagation of the electromagnetic wave is adjusted by the tuner 4. The isolator 3 prevents the transmitter 2 from causing fundamental damage.
【００３０】円筒導波管７は、図２に示すように、外側
導体８と、それよりも小径の内側導体９とから構成さ
れ、方形導波管１の終端部近傍において当該方形導波管
１に連通した状態で垂直方向に延びるように接続されて
いる。内側導体９は、方形導波管１の上部に固定された
状態で石英製の放電管５を囲みつつ外側導体８の端板８
Ａに向けて延在し、この延在部分をプローブアンテナ９
ａとしている。As shown in FIG. 2, the cylindrical waveguide 7 is composed of an outer conductor 8 and an inner conductor 9 having a smaller diameter than the outer conductor 8. It is connected so that it may extend in the vertical direction while communicating with 1. The inner conductor 9 is fixed to the upper portion of the rectangular waveguide 1 and surrounds the discharge tube 5 made of quartz while enclosing the end plate 8 of the outer conductor 8.
A, and extend this portion to the probe antenna 9.
a.
【００３１】放電管５は、内管１１と外管１２とから構
成され、円筒導波管７の中心軸に対して同軸となるよう
に配置されている。また、放電管５の内管１１には、着
火装置１３により内側導体９との間で火花を発生させる
テスラコイル１４が挿入されている。The discharge tube 5 comprises an inner tube 11 and an outer tube 12, and is arranged so as to be coaxial with the central axis of the cylindrical waveguide 7. Further, a Tesla coil 14 for generating a spark between the inner tube 11 and the inner conductor 9 by the ignition device 13 is inserted into the inner tube 11 of the discharge tube 5.
【００３２】さらに、内管１１の先端（下端）は、プロ
ーブアンテナ９ａの先端よりも所定の距離だけ内方に配
されている。Further, the distal end (lower end) of the inner tube 11 is disposed at a predetermined distance inward from the distal end of the probe antenna 9a.
【００３３】他方、外管１２の先端部は、外側導体８の
端板８Ａを貫通して銅製の反応管１５に連通し、また、
外管１２の基端側（上端側）は、内側導体９との間に隙
間をあけた状態で取り付けられている。符号１７は、外
側導体８の端板８Ａと反応管１５との間に露出する外筒
１２に向けられた光センサ１７である。この光センサ１
７は、光度を検出することにより、プラズマの生成状態
を監視するものである。On the other hand, the tip of the outer tube 12 penetrates the end plate 8A of the outer conductor 8 and communicates with the copper reaction tube 15;
The proximal end (upper end) of the outer tube 12 is attached with a gap between the outer tube 12 and the inner conductor 9. Reference numeral 17 denotes an optical sensor 17 directed to the outer cylinder 12 exposed between the end plate 8A of the outer conductor 8 and the reaction tube 15. This optical sensor 1
Numeral 7 monitors the state of plasma generation by detecting the luminous intensity.
【００３４】そして、前記隙間には、ガス供給管１６
が、外管１２と内管１１とにより形成される環状通路の
入口側で、接線方向に沿って挿入されている。アルゴン
ガス（希ガス）、フロンガス（有機ハロゲン化合物）、
エアー、および水蒸気は、ガス供給管１６を介して放電
管５の環状通路に供給される。これらアルゴンガス、フ
ロンガス、およびエアーは、図１に示す電磁弁１９ａ、
１９ｂ、１９ｃの開閉動作により、それぞれの供給源か
ら選択的にヒータ１８へと送られる。The gas supply pipe 16 is provided in the gap.
Are inserted along the tangential direction on the inlet side of the annular passage formed by the outer tube 12 and the inner tube 11. Argon gas (rare gas), chlorofluorocarbon gas (organic halogen compound),
The air and the steam are supplied to the annular passage of the discharge tube 5 via the gas supply tube 16. These argon gas, chlorofluorocarbon gas, and air are supplied to a solenoid valve 19a shown in FIG.
By the opening / closing operation of 19b and 19c, it is selectively sent to the heater 18 from each supply source.
【００３５】アルゴンガスは、プラズマの発生に先立っ
て着火を容易にするために供給されるもので、アルゴン
ボンベ２１に貯蔵されている。なお、アルゴンガスの
他、ヘリウム、ネオン等の希ガスを用いることができる
のは言うまでもない。このアルゴンボンベ２１と電磁弁
１９ａとの間には、圧力調整機２２と圧力スイッチ２３
が設けられている。The argon gas is supplied to facilitate ignition prior to generation of plasma, and is stored in the argon cylinder 21. Needless to say, a rare gas such as helium or neon can be used in addition to the argon gas. A pressure regulator 22 and a pressure switch 23 are provided between the argon cylinder 21 and the solenoid valve 19a.
Is provided.
【００３６】エアーは、系内に残存する水分を除去して
着火の安定性を高めるために、また、系内に残存するガ
スを排出するために、エアーコンプレッサ２４から供給
されるもので、空気、窒素ガス、アルゴンガス等が用い
られる。水蒸気は、フロンガスの分解に必要なもので、
プランジャポンプ２５によって貯水タンク２６内の水を
ヒータ１８に送り込むことで生成される。この貯水タン
ク２６には、水位の変動を検知するレベルスイッチ２７
が設けられている。Air is supplied from the air compressor 24 in order to remove water remaining in the system to enhance ignition stability and to discharge gas remaining in the system. , Nitrogen gas, argon gas and the like are used. Water vapor is necessary to decompose Freon gas.
It is generated by sending water in the water storage tank 26 to the heater 18 by the plunger pump 25. The water storage tank 26 has a level switch 27 for detecting a change in water level.
Is provided.
【００３７】フロンガスは、回収フロンボンベ２８に液
貯蔵されていて、この回収フロンボンベ２８と電磁弁１
９ｂとの間には、絞り装置３１、ミストセパレータ３
２、および圧力スイッチ３３が設けられている。絞り装
置３１は、流れの定量化を図るために設けられたもの
で、例えばキャピラリ管とオリフィスとの組み合わせに
より構成されている。The Freon gas is stored in liquid in a collected Freon cylinder 28, and the collected Freon cylinder 28 and the electromagnetic valve 1
9b, the squeezing device 31, the mist separator 3
2, and a pressure switch 33 are provided. The throttle device 31 is provided for quantifying the flow, and is constituted by, for example, a combination of a capillary tube and an orifice.
【００３８】ミストセパレータ３２は、フロンガス中に
含まれる油分（潤滑油）および水分を除去するためのも
ので、衝突式や遠心分離式のものが採用される。ヒータ
１８は、フロンガスに反応させる水蒸気を生成するだけ
でなく、フロンガス等をあらかじめ加熱しておくことに
より、装置内で水蒸気がフロンガス等に冷やされて再凝
縮するといった不具合を回避することも意図して設けら
れており、電気式、スチーム式等の加熱方式が採用され
る。The mist separator 32 is for removing oil (lubricating oil) and water contained in the chlorofluorocarbon gas, and is of a collision type or a centrifugal type. The heater 18 is intended not only to generate water vapor to be reacted with the chlorofluorocarbon gas, but also to prevent the problem that the vapor is cooled down to the chlorofluorocarbon gas and re-condensed in the apparatus by heating the fluorocarbon gas or the like in advance. A heating method such as an electric type or a steam type is adopted.
【００３９】ヒータ１８内には、並列する二つの流路３
４ａ、３４ｂが形成されていて、一方の流路３４ａには
フロンガス、アルゴンガス、およびエアーが導入され、
他方の流路３４ｂには貯水タンク２６から水が導入され
て水蒸気が生成される。この水蒸気を生成する側の流路
３４ｂには、該流路３４ｂ内を移動する水蒸気に抵抗を
与える抵抗体３５が充填されていて、水蒸気が流路内を
円滑に流通することができないようになっている。In the heater 18, two parallel flow paths 3 are provided.
4a and 34b are formed, and Freon gas, argon gas, and air are introduced into one flow path 34a,
Water is introduced into the other flow path 34b from the water storage tank 26 to generate steam. The flow path 34b on the side that generates the water vapor is filled with a resistor 35 that gives resistance to the water vapor moving in the flow path 34b, so that the water vapor cannot flow smoothly through the flow path. Has become.
【００４０】この抵抗体３５としては、無機または有機
の粒状、繊維状、多孔質のもの若しくはこれらを成形し
たものが採用されるが、高温下における劣化を防止する
観点からは、ＳiＯ2、Ａl2Ｏ3、ＴiＯ2、ＭgＯ、ＺrＯ2
等に代表される酸化物や、炭化物、窒化物等の無機材で
あることが好ましい。なお、ヒータ１８の出口近傍に
は、熱電対３６が設けられている。As the resistor 35, an inorganic or organic granular, fibrous, or porous material or a molded product thereof is used. From the viewpoint of preventing deterioration at high temperatures, SiO 2 , Al, and the like are used. 2 O 3 , TiO 2 , MgO, ZrO 2
And inorganic materials such as oxides, carbides, nitrides and the like. A thermocouple 36 is provided near the outlet of the heater 18.
【００４１】しかるに、ヒータ１８を通過したフロンガ
ス等と水蒸気は、ミキサー３７内で混合された後、ガス
供給管１６を通って放電管５へと供給される。ミキサー
３７の内部には、図４に示すように、オリフィス３８が
設けられ、その開口３８ａはφ０．１mm〜５mmに設定さ
れている。また、この開口３８ａが臨むミキサー３７の
出口側端面３７Ａは、流路断面が漸次縮小するような傾
斜面をなしている。However, the fluorocarbon gas and the like that have passed through the heater 18 and the water vapor are mixed in the mixer 37 and then supplied to the discharge tube 5 through the gas supply tube 16. As shown in FIG. 4, an orifice 38 is provided inside the mixer 37, and an opening 38a of the orifice 38 is set to a diameter of 0.1 mm to 5 mm. The outlet-side end surface 37A of the mixer 37 facing the opening 38a has an inclined surface such that the cross section of the flow path gradually decreases.
【００４２】排ガス処理タンク４１は、フロンガスを分
解した際に生成される酸性ガス（フッ化水素および塩化
水素）を中和して無害化するために設けられたものであ
り、水に水酸化カルシウムを加えたアルカリ性懸濁液が
収容されている。例えば、分解するフロンガスが廃冷蔵
庫から回収した冷媒用のフロンＲ１２の場合には、式１
に示す分解反応により生成された生成ガスは式２に示す
中和反応により無害化される。The exhaust gas treatment tank 41 is provided to neutralize and detoxify acidic gases (hydrogen fluoride and hydrogen chloride) generated when the fluorocarbon gas is decomposed. Is contained therein. For example, if the decomposed Freon gas is Freon R12 for a refrigerant recovered from a waste refrigerator, the following formula 1 is used.
The generated gas generated by the decomposition reaction shown in (2) is rendered harmless by the neutralization reaction shown in equation (2).
【００４３】（式１） ＣＣｌ2Ｆ2＋２Ｈ2Ｏ→２ＨＣｌ＋２ＨＦ＋ＣＯ2 （式２） ２ＨＣｌ＋Ｃａ(ＯＨ)2→ＣａＣｌ2＋２Ｈ2Ｏ ２ＨＦ ＋Ｃａ(ＯＨ)2→ＣａＦ2 ＋２Ｈ2Ｏ(Formula 1) CCl 2 F 2 + 2H 2 O → 2HCl + 2HF + CO 2 (Formula 2) 2HCl + Ca (OH) 2 → CaCl 2 + 2H 2 O 2HF + Ca (OH) 2 → CaF 2 + 2H 2 O
【００４４】式２の中和反応により生成された中和生成
物（塩化カルシウムおよびフッ化カルシウム）は溶解度
が小さいため、一部はアルカリ液に溶解するが、ほとん
どはスラリーとして存在する。また、式１の分解反応に
より生成された二酸化炭素と、式２の中和反応により排
出基準値以下の微少量に低減された酸性ガスは、排ガス
処理タンク４１の上方に接続された排気ダクト４２から
ブロア４３により系外に排出される。Since the neutralized products (calcium chloride and calcium fluoride) produced by the neutralization reaction of the formula 2 have low solubility, some of them are dissolved in an alkaline solution, but most of them are present as a slurry. Further, the carbon dioxide generated by the decomposition reaction of the formula 1 and the acid gas reduced to a very small amount equal to or less than the emission reference value by the neutralization reaction of the formula 2 are connected to the exhaust duct 42 connected above the exhaust gas treatment tank 41. Is discharged out of the system by the blower 43.
【００４５】排ガス処理タンク４１の内部には、交換継
手４４を介して反応管１５に接続される吹込管４５が、
その下端部をアルカリ液に浸漬した状態で垂直方向に延
びるように配置されている。この吹込管４５の先端部４
５ａは、垂直方向に対して所定の角度傾斜するように形
成されている。Inside the exhaust gas treatment tank 41, a blowing pipe 45 connected to the reaction pipe 15 via an exchange joint 44 is provided.
It is arranged to extend vertically with its lower end immersed in an alkaline solution. The tip 4 of this blowing pipe 45
5a is formed so as to be inclined at a predetermined angle with respect to the vertical direction.
【００４６】反応管１５の軸線方向中間部には、その周
面を取り囲むようにして冷水配管を（図示略）備えた冷
却器４６が付設されている。冷却器４６は、式１の分解
反応による生成ガスを冷却するものであるが、反応管１
５内の残留水蒸気の再凝縮を防止すべく、その露点以下
には冷却しないように制御される。本実施形態において
は、４００℃程度に冷却する。A cooler 46 provided with a cold water pipe (not shown) is provided at an intermediate portion in the axial direction of the reaction tube 15 so as to surround the peripheral surface thereof. The cooler 46 cools a gas produced by the decomposition reaction of the formula 1, and the reaction tube 1
In order to prevent the re-condensation of the residual water vapor in 5, it is controlled not to cool below the dew point. In the present embodiment, the cooling is performed to about 400 ° C.
【００４７】反応管１５を冷却することで温められた冷
却器４６の冷却水（温水）は、回収フロンボンベ２８の
加熱源として用いられる。すなわち、回収フロンボンベ
２８の周りには、温水配管（図示略）を備えた加熱器４
７が付設されていて、この温水配管に反応管１５の冷却
に使用された冷却水が流通することにより、回収フロン
ボンベ２８は加熱される。The cooling water (warm water) of the cooler 46 warmed by cooling the reaction tube 15 is used as a heating source of the recovered freon cylinder 28. That is, a heater 4 provided with a hot water pipe (not shown) is provided around the recovered CFC cylinder 28.
7 is provided, and when the cooling water used for cooling the reaction tube 15 flows through the hot water pipe, the recovered CFC cylinder 28 is heated.
【００４８】交換継手４４は、図２に示すように、反応
管１５と吹込管４５との間に着脱可能に接続されてい
て、その内部に向けて水噴射ノズル５１が連通してい
る。この水噴射ノズル５１からは冷却水が吐出され、樹
脂製、例えばテフロン製の吹込管４５はその耐熱温度範
囲にまで急冷される。ちなみに、吹込管４５がテフロン
管の場合には、１００℃以下に冷却される。As shown in FIG. 2, the exchange joint 44 is detachably connected between the reaction tube 15 and the blowing tube 45, and the water injection nozzle 51 communicates toward the inside thereof. Cooling water is discharged from the water injection nozzle 51, and the resin-made, for example, Teflon-made blowing pipe 45 is rapidly cooled to its heat-resistant temperature range. Incidentally, when the blowing pipe 45 is a Teflon pipe, it is cooled to 100 ° C. or lower.
【００４９】吹込管４５を樹脂製にする理由は、吹込管
４５は酸性ガスが冷却水に溶解してできた酸性液と、排
ガス処理タンク４１内のアルカリ液との双方に対して良
好な耐食性を備える必要があり、金属ではその実現が困
難だからである。これに対し、反応管１５の場合には、
その内部が常に乾燥状態とされているから腐食のおそれ
があまりない一方で耐熱性が要求されるため、銅製とす
ることで長寿命化を図っている。The reason why the blowing pipe 45 is made of resin is that the blowing pipe 45 has good corrosion resistance to both the acidic liquid formed by dissolving the acidic gas in the cooling water and the alkaline liquid in the exhaust gas treatment tank 41. This is because it is difficult to achieve this with a metal. On the other hand, in the case of the reaction tube 15,
Since the inside is always in a dry state, there is little possibility of corrosion and heat resistance is required. Therefore, the life is extended by using copper.
【００５０】吹込管４５の先端（下端）からは、式１の
分解反応による生成ガスがアルカリ液中に気泡となって
放出される。アルカリ液中での中和反応は、気泡とアル
カリ液との接触面積が大きく、気泡が液面に到達するま
での時間が長いほど促進されるため、排ガス処理タンク
４１内には、気泡を細かく分断させることで式２の中和
反応を促進させる気泡分断手段５２が設けられている。From the tip (lower end) of the blowing pipe 45, the gas produced by the decomposition reaction of the formula 1 is released as bubbles into the alkaline liquid. The neutralization reaction in the alkaline solution is accelerated as the contact area between the bubbles and the alkaline solution increases and the time until the bubbles reach the liquid surface is increased. A bubble dividing means 52 for promoting the neutralization reaction of Formula 2 by dividing is provided.
【００５１】気泡分断手段５２は、モータ５２ａにより
回転駆動される軸部５２ｂと、この軸部５２ｂの先端に
固定される円盤状のブレード保持部５２ｃと、このブレ
ード保持部５２ｃの外縁部に固定される６つのブレード
５２ｄとを具備して構成される。The bubble separating means 52 includes a shaft 52b rotated by a motor 52a, a disk-shaped blade holder 52c fixed to the tip of the shaft 52b, and an outer edge of the blade holder 52c. And six blades 52d.
【００５２】これら軸部５２ａ、ブレード保持部５２
ｃ、およびブレード５２ｄは、いずれもＳＵＳ材で製作
され、ブレード５２ｄは、ブレード保持部５２ｃに対し
て交差し、かつその周方向に等しい間隔をおいて銀ロウ
付けにより固定されている。このように銀ロウ付け固定
としたのは、一般の溶接ではアルカリ液に対する腐食が
激しいからである。The shaft 52a and the blade holder 52
Each of c and the blade 52d is made of a SUS material, and the blade 52d intersects the blade holding portion 52c and is fixed by silver brazing at equal intervals in the circumferential direction. The reason why the silver brazing is employed is that the general welding is highly corrosive to an alkaline solution.
【００５３】気泡分断手段５２は、ブレード保持部５２
ｃの中心が反応管１５の先端の上方に位置するように配
置されていて、反応管１５の先端から浮上する気泡は、
３００rpmで回転するブレード５２ｄに当たって直径約
３mm〜５mmの気泡に細かく分断される。また、この気泡
分断手段５２は、排ガス処理タンク４１に投入した水酸
化カルシウムの粉末を攪拌することにより、水に不溶性
の水酸化カルシウムと水の懸濁液を作る役目も果たして
いる。気泡分断手段５２は、プラズマ分解装置の操業開
始から操業終了まで、作動状態を保つ。分解装置操業期
間中以外は停止状態を保つ。The bubble separating means 52 includes a blade holder 52
The center of c is arranged so as to be located above the tip of the reaction tube 15, and the air bubbles that float from the tip of the reaction tube 15 are:
When the blade 52d rotates at 300 rpm, it is finely divided into bubbles having a diameter of about 3 to 5 mm. The bubble separating means 52 also plays a role of forming a suspension of water and water-insoluble calcium hydroxide by stirring the calcium hydroxide powder charged into the exhaust gas treatment tank 41. The bubble separating means 52 maintains an operating state from the start of the operation of the plasma decomposition apparatus to the end of the operation. Except during the operation of the disassembly unit, it will be stopped.
【００５４】また、排ガス処理タンク４１には、式２の
中和反応が発熱反応であることから、タンク内温度を吹
込管４５の耐熱温度以下に冷却する冷却機５３が設けら
れている。この冷却機５３は、ファン５３ａにより冷却
される放熱部５３ｂに接続された配管の一部が、排ガス
処理タンク４１内を挿通してなり、この配管に水等の冷
却媒体を流通させることで熱を奪い、これを放熱部５３
ｂにおいて放熱するものである。ちなみに、タンク内温
度は熱電対５４により検出される。Further, the exhaust gas treatment tank 41 is provided with a cooler 53 for cooling the temperature in the tank below the heat resistant temperature of the blow-in pipe 45 because the neutralization reaction of the formula 2 is an exothermic reaction. In the cooler 53, a part of a pipe connected to a heat radiating part 53b cooled by a fan 53a is inserted through the exhaust gas treatment tank 41, and a cooling medium such as water flows through the pipe to generate heat. And the heat dissipating part 53
Heat is dissipated in b. Incidentally, the temperature in the tank is detected by the thermocouple 54.
【００５５】さらに、排ガス処理タンク４１には、ＰＨ
センサ５５が設けられている。アルカリ液のＰＨ値は、
このＰＨセンサ５５を介して常に制御装置６１により監
視されており、例えばＰＨ値が９（運転開始時は１１〜
１２）になると、制御装置６１からの指令によって警報
手段が作動するとともに、分解運転が停止するようにな
っている。警報手段としては、周囲に注意を喚起できる
ものであれば何でもよく、例えばランプを点滅させた
り、警笛をならす等の手段が採用される。Further, in the exhaust gas treatment tank 41, PH
A sensor 55 is provided. The pH value of the alkaline solution is
It is constantly monitored by the control device 61 via the PH sensor 55, for example, when the PH value is 9 (11 to 11 at the start of operation).
In the case of 12), the alarm means is activated by a command from the control device 61, and the disassembling operation is stopped. As the warning means, any means can be used as long as it can draw attention to the surroundings. For example, means such as blinking a lamp or sounding a horn is adopted.
【００５６】排ガス処理タンク４１内のスラリーは、運
転時間の経過に伴って次第に増加するため、運転停止後
にアルカリ液とともに固液分離器６２に受け入れられ、
固液分離された後、廃棄物として処分されるか、他の用
途に利用される。他方、分離されたアルカリ液は、再び
排ガス処理タンク４１内に戻され、再利用される。固液
分離器６２とは排出管７１により連通され、排出管７１
の一端は排ガス処理タンク４１下部でその開口部を下方
に向けている。さらにその先端には端板が設けられてお
り、スラリー排出の際に上方のアルカリ液層を巻き込ま
ないようにされている。ちなみに、排ガス処理タンク内
の液位の変動は、レベルスイッチ５６により検知され
る。Since the slurry in the exhaust gas treatment tank 41 gradually increases as the operation time elapses, it is received by the solid-liquid separator 62 together with the alkali liquid after the operation is stopped.
After solid-liquid separation, it is disposed of as waste or used for other purposes. On the other hand, the separated alkaline liquid is returned to the exhaust gas treatment tank 41 again and reused. The solid-liquid separator 62 is communicated with the solid-liquid separator 62 by a discharge pipe 71.
Has one end directed downward at the lower part of the exhaust gas treatment tank 41. Further, an end plate is provided at the tip so that the upper alkaline liquid layer is not involved in discharging the slurry. Incidentally, the fluctuation of the liquid level in the exhaust gas treatment tank is detected by the level switch 56.
【００５７】以上の構成からなる有機ハロゲン化合物の
分解装置において、電磁弁の開閉動作およびテスラコイ
ル１４の点火動作は、制御装置６１によって図５に示す
ように制御される。この図から明らかなように、この分
解装置では、８時間を１サイクルとしたバッチ処理によ
りフロンガスの分解が行われる。In the organic halogen compound decomposing apparatus having the above-described structure, the opening / closing operation of the electromagnetic valve and the ignition operation of the Tesla coil 14 are controlled by the control device 61 as shown in FIG. As is clear from this figure, in this decomposition apparatus, the decomposition of the chlorofluorocarbon gas is performed by batch processing in which one cycle is performed for 8 hours.
【００５８】すなわち、フロンガスや水蒸気を供給する
前に、まず、系内に残留する水分の除去を目的として加
熱されたエアーを所定の時間（３分間）供給することに
より、分解装置の操業を開始する。このとき、気泡分断
手段５２の作動も同時に開始する。エアー供給停止後、
着火の安定性向上を目的としてアルゴンガスの供給を開
始する。そして、アルゴンガス供給中に、マイクロ波を
発信してテスラコイルによる着火を行うとともに水蒸気
およびフロンガスを供給し、その後、アルゴンガスの供
給を停止する。なお、エアーを乾燥させることにより水
分除去を行うこととしてもよい。That is, before supplying the chlorofluorocarbon gas and water vapor, first, the operation of the decomposition apparatus is started by supplying heated air for the purpose of removing water remaining in the system for a predetermined time (3 minutes). I do. At this time, the operation of the bubble dividing means 52 also starts at the same time. After stopping the air supply,
The supply of argon gas is started for the purpose of improving ignition stability. Then, during the supply of the argon gas, the microwave is transmitted to ignite the gas by the Tesla coil, and the steam and the chlorofluorocarbon gas are supplied. Thereafter, the supply of the argon gas is stopped. Note that moisture may be removed by drying the air.
【００５９】分解運転の停止後は、安全性を確保するこ
とを目的として掃気ガスとしてのエアーを所定時間（５
分）供給し、残留酸性ガスをパージする。パージされた
酸性ガスは排ガス処理タンク４１内で中和される。この
とき、気泡分断手段５２を作動状態に保っておくことに
より、処理液が攪拌されて中和が促進される。その後、
パージを停止して分解装置の操業を終了する。同時にモ
ータ５２ａを停止し、気泡分断手段５２の作動を停止さ
せる。気泡分断手段５２の停止により排ガス処理タンク
４１内の攪拌が停止するので、該タンク４１内でスラリ
ーが沈澱する。After the decomposition operation is stopped, air as a scavenging gas is supplied for a predetermined time (5 hours) for the purpose of ensuring safety.
Min) and purge residual acid gases. The purged acid gas is neutralized in the exhaust gas treatment tank 41. At this time, by keeping the bubble separating means 52 in the operating state, the processing liquid is agitated and neutralization is promoted. afterwards,
The purging is stopped and the operation of the decomposition apparatus is terminated. At the same time, the motor 52a is stopped, and the operation of the bubble dividing means 52 is stopped. Since the stirring in the exhaust gas treatment tank 41 is stopped by the stop of the bubble dividing means 52, the slurry precipitates in the tank 41.
【００６０】以上の工程では、アルゴンガスの供給とフ
ロンガスの供給とがオーバーラップしているときがある
が、フロンガスの供給を始めてからアルゴンガスの供給
を止めるまでの間は、ごくわずかでよい。その理由は、
着火の状態が安定しさえすれば、アルゴンガスを供給し
続ける必要はなくなり、また、低コスト化を図る観点か
らもアルゴン消費量を低く抑える必要があるからであ
る。特に、他のプラズマ、例えば高周波誘導プラズマに
比べ、マイクロ波によるプラズマは安定性が高いため、
アルゴンガスの供給を停止してもフロンガスのプラズマ
化への影響は殆どない。In the above steps, the supply of the argon gas and the supply of the chlorofluorocarbon gas may overlap with each other. However, the time between the start of the supply of the chlorofluorocarbon gas and the stop of the supply of the argon gas may be very small. The reason is,
This is because, as long as the ignition state is stabilized, it is not necessary to continuously supply the argon gas, and it is necessary to keep the argon consumption low from the viewpoint of cost reduction. In particular, compared to other plasmas, for example, high frequency induction plasma, plasma by microwave is highly stable,
Even if the supply of the argon gas is stopped, there is almost no effect on the conversion of the chlorofluorocarbon gas into plasma.
【００６１】また、制御装置６１は、圧力スイッチ２
３、３３、熱電対３６、５４、レベルスイッチ２７、５
６、光センサ１７等の各種センサから信号を受信するこ
とにより、アルゴンガスおよびフロンガスのヒータ１８
への供給圧、貯水タンク２６内の液位、プラズマの生成
状態、排ガス処理タンク４１内の温度および液位を常に
監視しており、これらが規定値を外れた場合には、運転
が正常または効率的に行われていないおそれがあるた
め、運転を停止する。そして、運転停止後は、安全性を
確保すべく上記の通りエアーを供給し、装置内の残留ガ
スを掃気する。The control device 61 is provided with the pressure switch 2
3, 33, thermocouples 36, 54, level switches 27, 5
6. By receiving signals from various sensors such as the optical sensor 17, the heaters 18 for the argon gas and the chlorofluorocarbon gas are used.
Supply pressure, the liquid level in the water storage tank 26, the state of plasma generation, the temperature and the liquid level in the exhaust gas treatment tank 41 are constantly monitored. Stop operation because there is a possibility that the operation is not performed efficiently. After the operation is stopped, air is supplied as described above to ensure safety, and the residual gas in the apparatus is scavenged.
【００６２】以下、本実施形態に係る運転制御方法を実
現する分解装置の作用について説明する。この分解装置
では、まず、電磁弁１９ａ、１９ｂを閉にするとともに
電磁弁１９ｃを開にして、エアコンプレッサー２４から
のエアーをガス供給管１６を介して放電管５に３分間供
給する。このエアーは、ヒータ１８を通過することによ
り、１００〜１８０℃に加熱されている。このため、装
置内の残留水分は確実に除去され、着火の安定性が向上
する。Hereinafter, the operation of the disassembling apparatus for realizing the operation control method according to the present embodiment will be described. In this decomposition apparatus, first, the electromagnetic valves 19a and 19b are closed and the electromagnetic valve 19c is opened, and the air from the air compressor 24 is supplied to the discharge tube 5 via the gas supply tube 16 for 3 minutes. This air is heated to 100 to 180 ° C. by passing through the heater 18. For this reason, residual moisture in the device is reliably removed, and ignition stability is improved.
【００６３】次に、電磁弁１９ｃを閉にするとともに電
磁弁１９ａを開にして、アルゴンガスを放電管５に供給
する。このとき、アルゴンガスは、外管１２の接線方向
から供給されて螺旋状に流下するため、内管１１の先端
近傍によどみが形成され、プラズマが保持されやすくな
る。Next, the solenoid valve 19c is closed and the solenoid valve 19a is opened, and argon gas is supplied to the discharge tube 5. At this time, since the argon gas is supplied from the tangential direction of the outer tube 12 and flows down spirally, stagnation is formed near the tip of the inner tube 11 and plasma is easily held.
【００６４】また、このときのガス供給量は、４〜４０
l/min、望ましくは１５l/min以上に設定する。この設定
範囲では、よどみが効果的に形成されてプラズマが一層
保持され易くなるとともに、プラズマの熱的影響を放電
管５が受け難くなり、その溶融変形や破損が効果的に防
止されることになる。The gas supply amount at this time is 4 to 40.
l / min, desirably 15 l / min or more. In this setting range, the stagnation is effectively formed, the plasma is more easily held, and the discharge tube 5 is hardly affected by the thermal influence of the plasma, so that melting deformation and breakage thereof are effectively prevented. Become.
【００６５】そして、アルゴンガスの供給開始から一定
の間隔をおいて、マイクロ波発信器２からマイクロ波を
発信する。マイクロ波は、方形導波管１によりその後端
部側に伝送され、さらに円筒導波管７へと伝送される。Then, a microwave is transmitted from the microwave transmitter 2 at a constant interval from the start of the supply of the argon gas. The microwave is transmitted to the rear end side by the rectangular waveguide 1 and further transmitted to the cylindrical waveguide 7.
【００６６】このとき、円筒導波管７内の電界として
は、電界強度の大きなＴＭ01モードが形成され、しか
も、内側導体９により、方形導波管１内の電界モード
と、円筒導波管７内の電界モードとがカップリングされ
ているため、円筒導波管７内の電界は安定している。当
然のことながら磁界は電解に直交叉する方向に生じてい
る。この振動する電磁界により放電管５に導入されたガ
スはプラズマ状態に加熱される。At this time, as the electric field in the cylindrical waveguide 7, a TM 01 mode having a large electric field intensity is formed, and the electric field mode in the rectangular waveguide 1 and the electric field mode in the cylindrical waveguide 1 are formed by the inner conductor 9. The electric field inside the cylindrical waveguide 7 is stable because the electric field mode inside the cylindrical waveguide 7 is coupled. As a matter of course, the magnetic field is generated in a direction orthogonal to the electrolysis. The gas introduced into the discharge tube 5 is heated to a plasma state by the oscillating electromagnetic field.
【００６７】次に、点火装置１３に連結されたテスラコ
イル１４に高電圧を印加し、内側導体９との間に火花放
電を発生させ着火させる。このとき、放電管５の内部
は、エアーにより水分が除去され、かつ着火し易いアル
ゴンガスがあらかじめ供給されているため、容易に着火
する。次いで、プランジャポンプ２５により貯水タンク
２６から水を吸引し、これをヒータ１８に通して生成し
た水蒸気を放電管５に供給する。Next, a high voltage is applied to the Tesla coil 14 connected to the ignition device 13 to generate a spark discharge between the Tesla coil 14 and the inner conductor 9 to ignite. At this time, the interior of the discharge tube 5 is easily ignited because moisture is removed by air and an easily ignited argon gas is supplied in advance. Next, water is sucked from the water storage tank 26 by the plunger pump 25, and the water is drawn through the heater 18 to supply the generated steam to the discharge tube 5.
【００６８】水蒸気の供給開始の後、後述のようにフロ
ンガスの供給を開始するが、水蒸気を先に供給する理由
は以下の通りである。本実施形態に係る有機ハロゲン化
合物分解装置の運転制御方法においては、フロンガスと
水蒸気とを一定のモル比で供給して分解、反応させ、酸
性ガスを発生させる。フロンガスのみをプラズマ化する
と、解離された原子の再結合によって予想外の有害なハ
ロゲン化合物が発生し、無害化処理することができなく
なる為である。したがって、上記のように水蒸気を放電
管５に供給してからフロンガスを供給して、フロン分解
時には水蒸気が存在する状態としておくことにより、安
全にフロンを分解することができる。After the start of the supply of the steam, the supply of the chlorofluorocarbon gas is started as described later. The reason for the first supply of the steam is as follows. In the method for controlling the operation of the organic halogen compound decomposing apparatus according to the present embodiment, a fluorocarbon gas and water vapor are supplied at a fixed molar ratio to decompose and react to generate an acidic gas. This is because if only the fluorocarbon gas is turned into plasma, an unexpected harmful halogen compound is generated due to recombination of the dissociated atoms, so that the detoxification process cannot be performed. Therefore, by supplying steam to the discharge tube 5 and then supplying the chlorofluorocarbon gas as described above and leaving the water vapor present at the time of chlorofluorocarbon decomposition, fluorocarbon can be safely decomposed.
【００６９】また、この水蒸気は、ヒータ１８内に充填
された抵抗体３５によって、流路内を円滑に流通するこ
とができず、ヒータ１８内には常に一定量の水蒸気が滞
留した状態になる。このため、脈動や突沸による飛散を
防いで水蒸気の流出量が安定し、ミキサー３７上流側の
流量変動を効果的に抑制することができる。よって、プ
ラズマの消失を招くことなくプラズマを安定化させて、
処理能力の向上を図ることができる。The steam cannot flow smoothly in the flow path due to the resistor 35 filled in the heater 18, and a constant amount of steam always stays in the heater 18. . For this reason, scattering due to pulsation and bumping is prevented, the outflow amount of steam is stabilized, and fluctuations in the flow rate on the upstream side of the mixer 37 can be effectively suppressed. Therefore, the plasma is stabilized without causing the disappearance of the plasma,
The processing capacity can be improved.
【００７０】次いで、電磁弁１９ｂを開にして、フロン
ガスを放電管５に供給する。このとき、回収フロンボン
ベ２８から流出したフロンガスは、ミストセパレータ３
２を通過することで油分および水分が除去されている。
このため、フロンガス中の潤滑油による配管等の汚れお
よび副生成物の生成が抑制されて、フロンガス等の効率
的かつ安定的な供給が可能になり、しかも余分な水分供
給を防止し得てプラズマの消失を招くこともない。よっ
て、プラズマを安定化させて、処理能力の向上を図るこ
とができる。Next, the solenoid valve 19b is opened to supply Freon gas to the discharge tube 5. At this time, the chlorofluorocarbon gas flowing out of the collected chlorofluorocarbon cylinder 28 is supplied to the mist separator 3.
2 to remove oil and moisture.
For this reason, the generation of dirt and by-products from piping and the like due to the lubricating oil in the CFC gas is suppressed, and an efficient and stable supply of CFC gas and the like can be performed. Does not occur. Therefore, it is possible to stabilize the plasma and improve the processing capability.
【００７１】また、ヒータ１８を通過してミキサー３７
内に流入した水蒸気、アルゴンガス、およびフロンガス
は、オリフィス３８の開口３８ａを通過する際の圧力損
失によって混合が促進されるだけでなく、出口側端面３
７Ａに衝突することによっても混合が促進されるため、
より均一に混合された状態でミキサー３７から流出し
て、放電管５に供給されることになる。このため、式１
の分解反応が十分に行われることになって、塩素ガスや
一酸化炭素等の副生成物の生成を抑制することができ
る。Further, after passing through the heater 18, the mixer 37
The water vapor, the argon gas, and the chlorofluorocarbon gas flowing into the inside not only promote mixing due to the pressure loss when passing through the opening 38 a of the orifice 38, but also form the outlet side end face 3.
Mixing is also promoted by colliding with 7A,
The mixture flows out of the mixer 37 in a more uniformly mixed state, and is supplied to the discharge tube 5. Therefore, Equation 1
Is sufficiently performed, and the generation of by-products such as chlorine gas and carbon monoxide can be suppressed.
【００７２】このようにして放電管５に供給されたフロ
ンガスにマイクロ波が照射されると、放電管５内には、
電子エネルギーが高く、しかも温度が２，０００Ｋ〜
６，０００Ｋに高められた熱プラズマが発生する。この
とき、放電管５には、フロンガスと水蒸気のみならず、
アルゴンガスも同時に供給されているため、プラズマの
消失を招くこともない。When the microwave is applied to the chlorofluorocarbon gas supplied to the discharge tube 5, the discharge tube 5
High electron energy and temperature of 2,000K ~
Thermal plasma increased to 6,000 K is generated. At this time, not only the chlorofluorocarbon gas and water vapor but also the discharge tube 5
Since the argon gas is supplied at the same time, the plasma does not disappear.
【００７３】また、内管１１の先端が、プローブアンテ
ナ９ａの先端よりも所定の距離だけ内方に配置されてい
るため、生成されたプラズマの熱的影響を回避し得て、
内管１１の溶融破損が防止される。これにより、プラズ
マ形状の著しい変形をなくして、安定した分解運転が可
能になる。Further, since the distal end of the inner tube 11 is disposed at a predetermined distance inward from the distal end of the probe antenna 9a, the thermal influence of the generated plasma can be avoided.
Melt breakage of the inner tube 11 is prevented. As a result, a stable decomposition operation can be performed without remarkable deformation of the plasma shape.
【００７４】しかして、熱プラズマの発生により、フロ
ンガスは塩素原子、フッ素原子、および水素原子に解離
し易い状態になるため、式１に示すように、水蒸気と反
応して容易に分解される。そして、プラズマが安定した
ら、電磁弁１９ａを閉にしてアルゴンガスの供給を止め
る。したがって、長時間にわたるフロンガスの分解時に
おいては、アルゴンの供給は不要であり、アルゴン消費
量が低く抑えられる。However, the generation of thermal plasma causes the fluorocarbon gas to be easily dissociated into chlorine, fluorine and hydrogen atoms, and is easily decomposed by reacting with water vapor as shown in equation 1. When the plasma is stabilized, the electromagnetic valve 19a is closed to stop the supply of the argon gas. Therefore, when the fluorocarbon gas is decomposed for a long time, the supply of argon is unnecessary, and the consumption of argon can be kept low.
【００７５】分解反応による生成ガスは、交換継手４４
および吹込管４５を通って排ガス処理タンク４１内のア
ルカリ液中に放出される。ただし、これらの生成ガスは
極めて高温であるため、吹込管４５に流入するまでの間
に、まず、反応管１５の下部に付設された冷却器４６に
よって約４００℃に冷却される。The gas produced by the decomposition reaction is supplied to the exchange joint 44.
Then, the gas is discharged into the alkaline liquid in the exhaust gas treatment tank 41 through the blowing pipe 45. However, since these generated gases are extremely high in temperature, they are first cooled to about 400 ° C. by the cooler 46 attached to the lower part of the reaction tube 15 before flowing into the blowing tube 45.
【００７６】この温度では、反応管１５の内部で残留水
蒸気が再凝縮することはないため、反応管１５は乾燥状
態に保持され、プラズマの消失を招くことはない。他
方、反応管１５を冷却することで約５０℃に温められた
冷却器４６の冷却水は、回収フロンボンベ２８に付設さ
れた加熱器４７に導かれ、回収フロンボンベ２８内の液
体フロンが気化する際に生じる該ボンベ２８およびその
下流側配管での霜の生成を防止するとともに、温度低下
による圧力変動も抑制する。また、これにより熱を奪わ
れた冷却水は、冷却器４６の冷却水に再度用いることが
でき、水の消費量を低く抑えることができる。At this temperature, the residual steam does not re-condensate inside the reaction tube 15, so that the reaction tube 15 is kept in a dry state, and the plasma does not disappear. On the other hand, the cooling water of the cooler 46 heated to about 50 ° C. by cooling the reaction tube 15 is led to the heater 47 attached to the recovered freon cylinder 28, and the liquid freon in the recovered freon cylinder 28 is vaporized. In addition to preventing the formation of frost in the cylinder 28 and the downstream pipe that occurs when the pressure is reduced, the pressure fluctuation due to the temperature drop is also suppressed. In addition, the cooling water from which heat has been deprived can be reused as the cooling water for the cooler 46, and the water consumption can be reduced.
【００７７】冷却器４６により冷却された生成ガスは、
交換継手４４を通過する間に、さらに水噴射ノズル５１
から吐出される冷却水によって約１００℃以下となるよ
うに急冷される。これにより、樹脂製の吹込管４５をそ
の耐熱温度範囲内で使用することができ、高温による熱
的損傷から保護することができる。The product gas cooled by the cooler 46 is
While passing through the exchange joint 44, the water injection nozzle 51
Is rapidly cooled to about 100 ° C. or less by the cooling water discharged from the apparatus. Thereby, the resin blowing tube 45 can be used within its heat-resistant temperature range, and can be protected from thermal damage due to high temperature.
【００７８】このとき、式１の分解反応による生成ガス
が冷却水に溶解することによって酸性液が生成されるた
め、交換継手４４は次第に腐食することになるが、かか
る場合には腐食の程度に応じて交換すればよい。すなわ
ち、反応管１５の下流側については、腐食による交換部
分が交換継手４４のみで済むため、低コスト化および交
換作業の容易化が図られる。At this time, since the gas produced by the decomposition reaction of the formula 1 is dissolved in the cooling water to generate an acidic solution, the exchange joint 44 is gradually corroded. It can be replaced accordingly. That is, on the downstream side of the reaction tube 15, only the exchange joint 44 needs to be exchanged due to corrosion, so that the cost can be reduced and the exchange operation can be facilitated.
【００７９】しかして、吹込管４５を通ってアルカリ液
中に放出された生成ガスは、式２の中和反応によって無
害化され、排気ダクト４２から排出される。この中和反
応は発熱反応であるため、吹込管４５の熱的損傷を防止
すべく、アルカリ液の温度は冷却機５３によって７０℃
以下に保持される。The product gas released into the alkaline liquid through the blowing pipe 45 is rendered harmless by the neutralization reaction of the formula 2, and is discharged from the exhaust duct 42. Since this neutralization reaction is an exothermic reaction, the temperature of the alkaline solution is set to 70 ° C. by the cooler 53 in order to prevent thermal damage to the blowing pipe 45.
It is kept below.
【００８０】また、吹込管４５の先端から気泡として放
出された生成ガスは、気泡分断手段５２のブレード５２
ｄに当たって細かく分断させられるため、アルカリ液と
の接触面積が増大するとともに液面までに達する時間も
長くなり、中和反応が促進されることになる。これによ
り、中和処理不足によって基準値を超える量の酸性ガス
が系外に排出されるといったことがない。The generated gas discharged as bubbles from the tip of the blowing pipe 45 is supplied to the blade 52 of the bubble dividing means 52.
Since it is finely divided at d, the contact area with the alkaline liquid increases and the time to reach the liquid surface increases, thereby promoting the neutralization reaction. As a result, the amount of acidic gas exceeding the reference value is not discharged out of the system due to insufficient neutralization.
【００８１】中和反応により生成された中和生成物は、
アルカリ液中にスラリーとして存在しているが、分解運
転停止後は気泡分断手段５２が停止していることによ
り、スラリーは排ガス処理タンク４１内で沈澱する。こ
の沈澱（高濃度スラリー）をポンプで汲み上げ、これを
固液分離器６２に移して処分する。この場合、高濃度ス
ラリーのみを遊離アルカリ液と混合することなく汲み上
げることができるため、効率のよいスラリー処理が可能
である。また、分解運転停止後は、エアコンプレッサ２
４を駆動することにより、装置内に残留する酸性ガスを
掃気するようにしているため、安全性も高められる。The neutralized product produced by the neutralization reaction is
Although present as a slurry in the alkaline liquid, the slurry precipitates in the exhaust gas treatment tank 41 after the decomposition operation is stopped because the bubble separating means 52 is stopped. This precipitate (high-concentration slurry) is pumped up by a pump and transferred to a solid-liquid separator 62 for disposal. In this case, since only the high-concentration slurry can be pumped without mixing with the free alkali solution, efficient slurry treatment can be performed. After the disassembly operation is stopped, the air compressor 2
Since the acidic gas remaining in the apparatus is scavenged by driving the apparatus 4, safety is also improved.
【００８２】なお、本発明に係る有機ハロゲン化合物の
分解装置は、上述の実施形態に限定されるものではな
く、以下の形態をも含むものである。 （１）ミキサー３７内での混合を促進するための手段と
して、オリフィス３８の代わりに、ミキサー３７内にビ
ーズ等を充填するようにしてもよい。この構成では、フ
ロンガス等と水蒸気がミキサー３７内に形成された隙間
をランダムに流通するため、混合が促進される。The apparatus for decomposing an organic halogen compound according to the present invention is not limited to the above embodiment, but includes the following embodiments. (1) As means for promoting the mixing in the mixer 37, beads or the like may be filled in the mixer 37 instead of the orifice 38. In this configuration, the mixing of the flon gas and the steam is promoted because the gas randomly flows through the gap formed in the mixer 37.
【００８３】また、ミキサー３７の内周面に複数のじゃ
ま板を、例えば上下または左右に交互に間隔をおいて設
置するようにしてもよい（スタティックミキサー）。こ
の構成では、フロンガス等と水蒸気が蛇行しながら流通
するため、混合が促進される。Further, a plurality of baffles may be arranged on the inner peripheral surface of the mixer 37, for example, alternately vertically or horizontally at intervals (static mixer). In this configuration, the mixing of the flon gas and the water vapor is promoted since the gas flows in a meandering manner.
【００８４】さらに、ミキサー３７の入口側に接続され
る配管を流方向に対して傾斜させるとともに、ミキサー
３７の内周面に螺旋状に延びる案内板を設置するように
してもよい（スワールミキサー）。この構成では、フロ
ンガス等と水蒸気が螺旋を描きながら流れるため、混合
が促進される。Further, the pipe connected to the inlet side of the mixer 37 may be inclined with respect to the flow direction, and a guide plate extending spirally may be provided on the inner peripheral surface of the mixer 37 (swirl mixer). . In this configuration, since the CFC gas and the steam flow while drawing a spiral, mixing is promoted.
【００８５】（２）中和処理不足による酸性ガスの系外
排出を未然に回避する手段として、アルカリ液のＰＨ管
理に代えて、モータ電流値を管理するようにしてもよ
い。すなわち、モータ回転数が低下したり停止すると、
吹込管４５から放出された気泡が十分に分断されず、中
和反応が十分に行われないことがある。そこで、モータ
回転の異常をモータ電流値に基づき検出し、制御装置６
１からの指令によって分解装置の運転を停止させるよう
にすれば、酸性ガスの系外排出を未然に防止することが
できる。(2) As a means for preventing the acid gas from being discharged out of the system due to insufficient neutralization treatment, the motor current value may be managed instead of the pH management of the alkaline solution. That is, when the motor speed decreases or stops,
In some cases, the bubbles released from the blowing pipe 45 are not sufficiently divided, and the neutralization reaction is not sufficiently performed. Therefore, the abnormality of the motor rotation is detected based on the motor current value, and the control device 6
If the operation of the decomposer is stopped in accordance with the command from 1, it is possible to prevent the acid gas from being discharged outside the system.
【００８６】（３）反応管１５の内部は乾燥状態に保た
れているため、式１の分解反応で生成された酸性ガスに
よる腐食の影響はほとんどない。しかしながら、安全性
をより一層高めるために、反応管１５を内包するような
簡易型ブースを設置するとともに、該ブースと反応管１
５との間にＣＯ2ガスやＣＯガス等を検出する排ガスセ
ンサを設けるようにしてもよい。(3) Since the inside of the reaction tube 15 is kept in a dry state, there is almost no influence of corrosion by the acid gas generated by the decomposition reaction of the formula 1. However, in order to further enhance safety, a simple booth containing the reaction tube 15 is installed, and the booth and the reaction tube 1 are installed.
An exhaust gas sensor for detecting a CO 2 gas, a CO gas or the like may be provided between the exhaust gas sensor 5 and the exhaust gas sensor 5.
【００８７】この構成では、反応管１５の腐食状態を排
ガスセンサを介して制御装置６１により常に監視するこ
とができ、たとえ反応管１５が腐食して式１の分解反応
による生成ガスが反応管１５から流出しても、制御装置
６１からの指令によって分解装置の運転を停止させると
ともに、流出した生成ガスを吸引することにより、酸性
ガスの系外排出を防止することができる。この場合のガ
ス吸引は、排気ダクト４２に設けられたブロア４３で兼
用する。In this configuration, the corrosion state of the reaction tube 15 can be constantly monitored by the control device 61 via the exhaust gas sensor. Even if the acid gas flows out, the operation of the decomposing device is stopped by a command from the control device 61, and the generated gas that has flowed out is sucked, thereby preventing the acid gas from being discharged outside the system. In this case, the gas suction is also performed by the blower 43 provided in the exhaust duct 42.
【００８８】（４）排ガス処理タンク４１内のスラリー
を沈澱させる際、アルカリ液に造粒剤、凝集剤等を添加
してスラリー粒子を増大させておけば、沈降時間を短縮
し得て、より効率良くスラリー処理を行える。(4) When the slurry in the exhaust gas treatment tank 41 is precipitated, a granulating agent, a flocculant, etc. are added to the alkaline liquid to increase the slurry particles, so that the sedimentation time can be shortened. Slurry processing can be performed efficiently.
【００８９】（５）テスラコイル１４の先端を放電管５
の内部に配置する代わりに、放電管５の外部に配置し
て、火花放電で着火するようにしてもよい。 （６）回収フロンボンベ２８を加熱することによりガス
状態にしてフロンガスを流出させる代わりに、回収フロ
ンボンベ２８を倒立させて液状態のまま回収フロンを流
出させ、さらに差圧制御弁等の絞り装置に通して流れを
定量化したうえで、加熱気化させてヒータ１８側へと送
るようにしてもよい。この場合には、絞り装置および配
管を加熱することにより、温度低下による流量変動を抑
制する。(5) Connect the tip of the Tesla coil 14 to the discharge tube 5
May be arranged outside the discharge tube 5 to ignite by spark discharge. (6) Instead of heating the recovered CFC cylinder 28 to make it into a gas state and allowing the CFC gas to flow out, instead of inverting the recovered CFC cylinder 28 and allowing the recovered CFC to flow out in a liquid state, a throttling device such as a differential pressure control valve , The flow may be quantified, heated and vaporized, and sent to the heater 18 side. In this case, by heating the expansion device and the piping, the flow rate fluctuation due to the temperature drop is suppressed.
【００９０】（７）回収フロンボンベ２８の加熱には、
反応管１５の冷却に用いた冷却水に代えて、排ガス処理
タンク４１内のスラリー冷却に使用された冷却機５３の
冷却水を用いてもよい。 （８）内管１１の先端がプローブアンテナ９ａの先端か
ら内方に離間する距離は、内管１１が溶融しなければプ
ローブアンテナ９ａの先端とマイクロ波によるエネルギ
ー集中部との距離に等しく設定するのが最適であるが、
内管１１の溶融を考慮して適宜変更してもよい。(7) To heat the recovered CFC cylinder 28,
Instead of the cooling water used for cooling the reaction tube 15, the cooling water of the cooler 53 used for cooling the slurry in the exhaust gas treatment tank 41 may be used. (8) The distance at which the tip of the inner tube 11 is separated inward from the tip of the probe antenna 9a is set to be equal to the distance between the tip of the probe antenna 9a and the energy concentration portion due to microwaves unless the inner tube 11 is melted. Is best,
It may be appropriately changed in consideration of the melting of the inner tube 11.
【００９１】（９）気泡分断手段５２は、軸部の先端に
プロペラを固定してなるスクリュー式のものであっても
よい。また、気泡分断手段５２は、各構成要素５２ｂ、
５２ｃ、５２ｄをテフロン等の樹脂製とし、かつこれら
をネジ結合することにより構成してもよい。この構成で
は、溶接部分がないうえに各構成要素５２ｂ、５２ｃ、
５２ｄが樹脂製とされるため、耐食性に極めて優れるこ
とになる。(9) The bubble dividing means 52 may be of a screw type in which a propeller is fixed to the tip of the shaft. In addition, the bubble dividing means 52 includes each component 52b,
52c and 52d may be made of resin such as Teflon, and these may be screw-connected. In this configuration, there is no welding portion, and each component 52b, 52c,
Since 52d is made of resin, it has extremely excellent corrosion resistance.
【００９２】（１０）吹込管４５の先端部を垂直方向に
対して所定角度傾斜させる代わりに、略Ｕ字状に形成し
てもよい。 （１１）排ガス処理タンク４１に貯留される中和液は、
上記のアルカリ性懸濁液に限らず、水酸化ナトリウム水
溶液等のアルカリ性水溶液を用いても構わない。(10) Instead of inclining the distal end of the blowing pipe 45 by a predetermined angle with respect to the vertical direction, the blowing pipe 45 may be formed in a substantially U-shape. (11) The neutralized liquid stored in the exhaust gas treatment tank 41 is:
Not limited to the above alkaline suspension, an alkaline aqueous solution such as an aqueous sodium hydroxide solution may be used.
【００９３】[0093]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、以下の効果を奏することができる。 （ａ）請求項１記載の有機ハロゲン化合物の制御方法に
よれば、希ガスに点火してプラズマを発生させ、着火後
有機ハロゲン化合物を供給し、有機ハロゲン化合物が着
火後、希ガスの供給を停止する。すなわち、希ガスと有
機ハロゲン化合物の供給のオーバーラップ時間を設ける
ことにより、有機ハロゲン化合物のプラズマを確実にか
つ安定に発生させることができるとともに、希ガスの消
費を抑えることができる。As is apparent from the above description, the present invention has the following effects. (A) According to the method for controlling an organic halogen compound according to claim 1, the rare gas is ignited to generate plasma, the organic halogen compound is supplied after ignition, and the supply of the rare gas is performed after the organic halogen compound is ignited. Stop. That is, by providing an overlap time between the supply of the rare gas and the organic halogen compound, the plasma of the organic halogen compound can be generated reliably and stably, and the consumption of the rare gas can be suppressed.
【００９４】（ｂ）請求項２記載の有機ハロゲン化合物
分解装置の運転制御方法によれば、マイクロ波をガスに
照射することによりプラズマを発生させる。したがっ
て、例えば高周波誘導プラズマに比べてプラズマを安定
して発生させることができ、希ガスの供給を停止しても
有機ハロゲン化合物を確実にかつ安定してプラズマ状態
にすることができる。(B) According to the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to the second aspect, plasma is generated by irradiating a gas with a microwave. Therefore, plasma can be generated more stably than, for example, high frequency induction plasma, and the organic halogen compound can be reliably and stably brought into a plasma state even when the supply of the rare gas is stopped.
【００９５】（ｃ）請求項３記載の有機ハロゲン化合物
分解装置の運転制御方法によれば、水の供給を、希ガス
の供給後、有機ハロゲン化合物の供給前に開始する。し
たがって、有機ハロゲン化合物分解前に水が存在するの
で、有機ハロゲン化合物と水が反応し、安全に有機ハロ
ゲン化合物を分解することができる。また、希ガス供給
前は装置系が乾燥状態に保たれるので、希ガスの着火を
安定化することができる。(C) According to the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to the third aspect, the supply of water is started after the supply of the rare gas and before the supply of the organic halogen compound. Therefore, since water is present before the decomposition of the organic halogen compound, the organic halogen compound reacts with water, and the organic halogen compound can be decomposed safely. Further, since the apparatus system is kept dry before the rare gas is supplied, the ignition of the rare gas can be stabilized.
【００９６】（ｄ）請求項４記載の有機ハロゲン化合物
分解装置の運転制御方法によれば、希ガス供給前に装置
系内の水分除去を行う。したがって、系内の残留水分が
除去され、プラズマを確実にかつ安定に着火することが
できる。(D) According to the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to the fourth aspect, the water in the apparatus system is removed before the rare gas is supplied. Therefore, residual water in the system is removed, and the plasma can be ignited reliably and stably.
【００９７】（ｅ）請求項５記載の有機ハロゲン化合物
分解装置の運転制御方法によれば、希ガス供給前に装置
系内の水分除去をガスを供給することで行う。したがっ
て、系内の残留水分が除去され、プラズマを確実にかつ
安定に着火することができる。(E) According to the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to the fifth aspect, before the supply of the rare gas, the water in the apparatus system is removed by supplying the gas. Therefore, residual water in the system is removed, and the plasma can be ignited reliably and stably.
【００９８】（ｆ）請求項６記載の有機ハロゲン化合物
分解装置の運転制御方法によれば、有機ハロゲン化合物
の供給停止後に、装置系内に掃気ガスを供給する。した
がって、装置系内に残留する酸性ガスが掃気され、安全
性を高めることができる。(F) According to the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to claim 6, after the supply of the organic halogen compound is stopped, a scavenging gas is supplied into the apparatus system. Therefore, the acidic gas remaining in the apparatus system is scavenged, and safety can be improved.
【００９９】（ｇ）請求項７記載の有機ハロゲン化合物
分解装置の運転制御方法によれば、装置系内の水分除去
を行った後に有機ハロゲン化合物の分解処理を行う。し
たがって、系内の残留水分が除去され、プラズマを確実
にかつ安定に着火することができる。(G) According to the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to the seventh aspect, the organic halogen compound is decomposed after removing the water in the apparatus system. Therefore, residual water in the system is removed, and the plasma can be ignited reliably and stably.
【０１００】（ｈ）請求項８記載の有機ハロゲン化合物
分解装置の運転制御方法によれば、分解終了後に、掃気
ガスを装置系内に供給する。したがって、系内に残留す
る酸性ガスが掃気され、安全性を高めることができる。 （ｉ）請求項９記載の有機ハロゲン化合物分解装置の運
転制御方法によれば、分解中に中和処理液を攪拌し、分
解終了後に攪拌を停止する。したがって、分解中は中和
を促進することができ、分解終了後は反応物を沈澱させ
ることができる。また、省電力にも寄与することができ
る。(H) According to the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to the eighth aspect, after the decomposition is completed, a scavenging gas is supplied into the apparatus system. Therefore, the acid gas remaining in the system is scavenged, and safety can be improved. (I) According to the method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to the ninth aspect, the neutralized solution is stirred during the decomposition, and the stirring is stopped after the decomposition. Therefore, neutralization can be promoted during the decomposition, and the reaction product can be precipitated after the decomposition is completed. It can also contribute to power saving.
【図１】 本発明に係る分解方法の一実施形態に用いら
れる分解装置を示すシステム系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing a decomposition apparatus used in an embodiment of a decomposition method according to the present invention.
【図２】 同分解装置の全体構成を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing an overall configuration of the disassembling apparatus.
【図３】 同分解装置の要部拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a main part of the decomposition apparatus.
【図４】 同分解装置に設けられたミキサーの要部断面
図である。FIG. 4 is a sectional view of a main part of a mixer provided in the decomposition apparatus.
【図５】 同分解装置においてマイクロ波、アルゴンガ
ス等が供給される時期と点火の時期を経時的に示す比較
図である。FIG. 5 is a comparative diagram showing the time when microwaves, argon gas, and the like are supplied and the time of ignition in the decomposition apparatus over time.
１ 方形導波管 ２ マイクロ波発信器 ５ 放電管 ７ 円筒導波管 １５ 反応管 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rectangular waveguide 2 Microwave transmitter 5 Discharge tube 7 Cylindrical waveguide 15 Reaction tube
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 椿 泰廣 愛知県名古屋市中村区岩塚町字高道１番地 三菱重工業株式会社名古屋研究所内 Ｆターム(参考） 2E191 BA12 BB00 BD18 4D002 AA17 AA21 AB03 BA09 EA05 GA03 GB20 4G075 AA37 AA61 BA05 BB02 CA02 CA03 CA26 CA48 CA51 CA57 DA02 EB21 EC01 EC11 FB01 FB02 FB04 FB06 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yasuhiro Tsubaki F-term in Nagoya Laboratory, Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. F-term (reference) 2E191 BA12 BB00 BD18 4D002 AA17 AA21 AB03 BA09 EA05 GA03 GB20 4G075 AA37 AA61 BA05 BB02 CA02 CA03 CA26 CA48 CA51 CA57 DA02 EB21 EC01 EC11 FB01 FB02 FB04 FB06
Claims (9)
と反応させて有機ハロゲン化合物を分解する有機ハロゲ
ン化合物分解装置の運転制御方法において、 希ガス、有機ハロゲン化合物の順に装置系にガスの供給
を開始するとともに、前記有機ハロゲン化合物の供給を
開始する前に、前記希ガスをプラズマ化し、前記有機ハ
ロゲン化合物の供給開始後に前記希ガスの供給を停止す
ることを特徴とする有機ハロゲン化合物分解装置の運転
制御方法。1. An operation control method of an organic halogen compound decomposing apparatus for converting an organic halogen compound into plasma and reacting it with water to decompose the organic halogen compound, wherein supply of gas to the apparatus system is started in the order of a rare gas and an organic halogen compound. Operating the organic halogen compound decomposing apparatus, wherein the rare gas is turned into plasma before the supply of the organic halogen compound is started, and the supply of the rare gas is stopped after the start of the supply of the organic halogen compound. Control method.
装置の運転制御方法において、 前記プラズマ化は、マイクロ波を照射することにより行
うことを特徴とする有機ハロゲン化合物分解装置の運転
制御方法。2. The operation control method for an organic halogen compound decomposer according to claim 1, wherein the plasma is generated by irradiating a microwave.
化合物分解装置の運転制御方法において、 水の供給を、前記希ガスを供給した後であって、さらに
前記有機ハロゲン化合物を供給する前に供給を開始する
ことを特徴とする有機ハロゲン化合物分解装置の運転制
御方法。3. The operation control method for an organic halogen compound decomposer according to claim 1, wherein the supply of water is performed after the supply of the rare gas and before the supply of the organic halogen compound. An operation control method for an organic halogen compound decomposer, which starts supply.
ロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、 前記希ガスの供給を開始する前に、装置系内の水分除去
処理を行うことを特徴とする有機ハロゲン化合物分解装
置の運転制御方法。4. The operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus according to claim 1, wherein a water removal process in the apparatus system is performed before the supply of the rare gas is started. Of controlling the operation of an organic halogen compound decomposer to be performed.
装置の運転制御方法において、 前記装置系内の水分除去は、ガスを供給することにより
行うことを特徴とする有機ハロゲン化合物分解装置の運
転制御方法。5. The operation control method for an organic halogen compound decomposer according to claim 4, wherein the removal of water in the apparatus system is performed by supplying a gas. Method.
ロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、 前記有機ハロゲン化合物の供給停止後に、掃気ガスを装
置系内に供給することを特徴とする有機ハロゲン化合物
分解装置の運転制御方法。6. The method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposer according to claim 1, wherein a scavenging gas is supplied into the apparatus system after the supply of the organic halogen compound is stopped. An operation control method for a halogen compound decomposition apparatus.
と反応させて有機ハロゲン化合物を分解する有機ハロゲ
ン化合物分解装置の運転制御方法において、 装置系内の水分除去処理を行った後に有機ハロゲン化合
物の分解処理を行うことを特徴とする有機ハロゲン化合
物分解装置の運転制御方法。7. An operation control method of an organic halogen compound decomposing apparatus for decomposing an organic halogen compound by converting the organic halogen compound into plasma and reacting with water to decompose the organic halogen compound. An operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus, comprising performing a treatment.
と反応させて有機ハロゲン化合物を分解する有機ハロゲ
ン化合物分解装置の運転制御方法において、 分解処理終了後に、掃気ガスを装置系内に供給すること
を特徴とする有機ハロゲン化合物分解装置の運転制御方
法。8. An operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus for converting an organic halogen compound into plasma and reacting it with water to decompose the organic halogen compound, wherein a scavenging gas is supplied into the apparatus system after the decomposition processing is completed. A method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposer, which is characterized in that
ロゲン化合物分解装置の運転制御方法において、 有機ハロゲン化合物の分解中に該有機ハロゲン化合物の
分解物を中和する処理液を攪拌し、分解終了後に、前記
攪拌を停止することを特徴とする有機ハロゲン化合物分
解装置の運転制御方法。9. The method for controlling the operation of an organic halogen compound decomposing apparatus according to claim 1, wherein the treatment liquid for neutralizing the decomposition product of the organic halogen compound during the decomposition of the organic halogen compound is stirred, An operation control method for an organic halogen compound decomposing apparatus, wherein the stirring is stopped after the decomposition is completed.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11104610A JP2000296326A (en) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | Method for controlling operation of organohalogen compound decomposing device |
| PCT/JP2000/002366 WO2000061284A1 (en) | 1999-04-12 | 2000-04-12 | Organic halogen compound decomposing device and operation control method therefor, and organic halogen compound decomposing method |
| AU38360/00A AU741947B2 (en) | 1999-04-12 | 2000-04-12 | Organic halogen compound decomposing device and operation control method therefor, and organic halogen compound decomposing method |
| EP00917282A EP1093847A1 (en) | 1999-04-12 | 2000-04-12 | Organic halogen compound decomposing device and operation control method therefor, and organic halogen compound decomposing method |
| US09/719,443 US6614000B1 (en) | 1999-04-12 | 2000-04-12 | Organic halogen compound decomposing device and operation control method therefor, and organic halogen compound decomposing method |
| NO20006331A NO20006331L (en) | 1999-04-12 | 2000-12-12 | Decomposition apparatus for organic halogen compounds and process for their operation, and process for decomposition of organic halogen compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11104610A JP2000296326A (en) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | Method for controlling operation of organohalogen compound decomposing device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000296326A true JP2000296326A (en) | 2000-10-24 |
Family
ID=14385212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11104610A Withdrawn JP2000296326A (en) | 1999-04-12 | 1999-04-12 | Method for controlling operation of organohalogen compound decomposing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000296326A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009504393A (en) * | 2005-08-15 | 2009-02-05 | エドワーズ リミテッド | Microwave plasma reactor |
| KR20170011462A (en) * | 2015-07-23 | 2017-02-02 | (주)트리플코어스코리아 | Method for operating plasma gas scrubber |
| CN109104808A (en) * | 2018-08-16 | 2018-12-28 | 清华大学 | A kind of novel microwave excitation device of long life |
| CN112377341A (en) * | 2020-09-03 | 2021-02-19 | 盐城工学院 | Microwave plasma combustion-supporting device based on surface wave mode |
-
1999
- 1999-04-12 JP JP11104610A patent/JP2000296326A/en not_active Withdrawn
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| KR101717847B1 (en) | 2015-07-23 | 2017-03-17 | (주)트리플코어스코리아 | Method for operating plasma gas scrubber |
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| CN109104808B (en) * | 2018-08-16 | 2024-02-06 | 清华大学 | Novel microwave plasma excitation device with long service life |
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