JP2000296017A - 毛髪処理促進装置 - Google Patents

毛髪処理促進装置

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JP2000296017A
JP2000296017A JP11107537A JP10753799A JP2000296017A JP 2000296017 A JP2000296017 A JP 2000296017A JP 11107537 A JP11107537 A JP 11107537A JP 10753799 A JP10753799 A JP 10753799A JP 2000296017 A JP2000296017 A JP 2000296017A
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Japan
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infrared
irradiation
hair treatment
head
bodies
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JP11107537A
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Masami Kato
正己 加藤
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SANSEI DENKI SEISAKUSHO KK
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SANSEI DENKI SEISAKUSHO KK
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A45HAND OR TRAVELLING ARTICLES
    • A45DHAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
    • A45D20/00Hair drying devices; Accessories therefor
    • A45D20/22Helmets with hot air supply or ventilating means, e.g. electrically heated air current
    • A45D20/24Shape or structure of the helmet body
    • A45D2020/245Shape or structure of the helmet body of open configuration, e.g. with several movable heat sources

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  • Cleaning And Drying Hair (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線照射体の回転速度を上げたり、照射温
度を高くすることなく、短時間で毛髪全体を加熱して迅
速な処理促進を行い得る毛髪処理促進装置を提供する。 【解決手段】 回転駆動手段2により往復回転駆動され
る回転軸3に支持基体4を軸支し、略 180°異なる位置
関係で配置される一対の赤外線照射体5a,5bを、前
記支持基体4に略ハ字形を呈するように取付け、該両赤
外線照射体5a,5bを所定角度で往復回動させるよう
に構成し、両赤外線照射体5a,5bの半回転の回動に
よって、被施術者の頭部全周に赤外線を照射することが
できるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、主に美容院や理容
院において、毛髪に赤外線を照射し、その加熱作用によ
り、パーマネント,染髪,乾燥,ウエーブ化等の毛髪処
理の促進を行う毛髪処理促進装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の毛髪処理促進装置にあって、赤
外線を照射する多数のヒータを被施術者の頭部を囲繞す
るように配設したものが知られているが、このような毛
髪処理促進装置は、比較的広い設置スペースを必要とす
る欠点があった。そこで、ヒータを回転体の回りに回転
させ、単一のヒータで広い面積への赤外線照射を行い、
毛髪処理促進装置のコンパクト化を図るようにしたもの
が、例えば特公平7ー28770号公報等によって提案
されている。
【0003】このものは、赤外線を照射するヒータを備
えた単一の赤外線放射部を回転体に傾斜を付けて取付け
て、該赤外線放射部の放射面が回転体を頂部とする円錐
面軌跡を描くように回転させ、赤外線放射部を被施術者
の頭頂部,側頭部,後頭部に沿って移動させるようにし
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような毛髪処理促
進装置にあっては、単一の赤外線放射部が被施術者の頭
部の回りを赤外線を照射し乍ら回転するため、一旦赤外
線が照射された部位に再び赤外線放射部が戻るまでは、
該部位に対する赤外線の照射が行われない。このため、
毛髪全体を加熱するのに時間が掛かり、迅速な処理促進
ができないという問題がある。この問題に対処するに
は、赤外線放射部の回転速度を速くしたり、赤外線照射
量を多くして照射温度を高くしたりする方法が考えられ
るが、回転速度が速いと被施術者が恐怖感を抱く虞れが
あり、毎分略3回転程度の適正速度以上には上げられな
い。また、照射温度が高すぎると、過熱により毛髪を傷
めるといった問題が生じてしまう。
【0005】また、毛髪処理にあって、ヘアスタイル等
によっては、例えば一方の側頭部から頭頂部を介して他
方の側頭部に亘るような一定の範囲の所要部位のみに赤
外線を照射する部分的な処理促進を必要とする場合もあ
るが、上記のような単一の赤外線放射部が被施術者の頭
部の回りを回転するものにあっては、赤外線照射が不要
な部位まで一様に赤外線が照射されてしまうという問題
点がある。
【0006】さらに、前頭部から頭頂部に至る頭部の上
部側と、頭頂部から後頭部に至る頭部の後部側とでは、
被処理部の長さが必ずしも同じではなく、後部側が長い
場合が多いにも拘らず、単一の赤外線放射部の回転によ
り、両被処理部への赤外線照射が行われるため、頭部の
上部側において赤外線放射部の先端が前方にはみ出して
被施術者の顔面にまで赤外線が照射されてしまうといっ
た問題点がある。
【0007】本発明は、上記のような従来の問題点を解
消するためになされたものであり、赤外線照射体の回転
速度を上げたり、照射温度を高くすることなく、短時間
で毛髪全体を加熱して迅速な処理促進を行い得るととも
に、一定範囲の所要部位のみに赤外線を照射して部分的
な処理促進ができ、さらに赤外線照射体の前方へのはみ
出しによる顔面への赤外線照射をなくすことができる毛
髪処理促進装置の提供を目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、回転駆動手段
により往復回転駆動される回転軸に支持基体を軸支し、
略 180°異なる位置関係で配置される一対の赤外線照射
体を、前記支持基体に略ハ字形を呈するように取付け、
該両赤外線照射体を所定角度で往復回動させることを特
徴とする毛髪処理促進装置である。
【0009】この構成にあって、回転駆動手段によって
回転軸を往復回転駆動すると、支持基体に略ハ字形を呈
するように取付けられている一対の赤外線照射体が、円
錐面軌跡を描くようにして夫々往復回動する。ここで、
両赤外線照射体が往復回動する角度を略 180°に設定す
ると、各赤外線照射体の半回転の回動により、頭部全周
に赤外線が照射されることとなる。これにより、回転速
度を上げたり、照射温度を高くすることなく、短時間で
毛髪全体を加熱することができる。
【0010】また、前記構成にあって、両赤外線照射体
の赤外線照射量を個々に設定可能に設ける構成が提案さ
れ得る。このように構成すると、両赤外線照射体間にお
いて、一方の赤外線照射体の赤外線を弱くしたり、或は
全く照射させないようにすることができ、両赤外線照射
体が所定角度で往復回動することと相俟って、加熱が必
要な部位に対して必要量の赤外線を効果的に照射するこ
とが可能となる。
【0011】さらに、前記構成にあって、両赤外線照射
体の支持基体から先端までの長さを相違させて設ける構
成が提案され得る。この構成において、前頭部から頭頂
部に至る頭部の上部側を回動する一方の赤外線照射体の
長さを短寸に設けることにより、顔面への不要な赤外線
照射をなくすことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明にかかる毛髪処理促進装置
1は、図1に示すように、回転駆動手段2により往復回
転駆動される回転軸3に支持基体4を軸支し、略 180°
異なる位置関係で配置される一対の赤外線照射体5a,
5bを、前記支持基体4に略ハ字形を呈するように取付
け、該両赤外線照射体5a,5bを所定角度で往復回動
させることを特徴としている。
【0013】以下に、上記毛髪処理促進装置1の具体的
な一実施例を、図1,図2について説明する。図示しな
い支持台上に立設された伸縮可能な支柱6の上端に、本
体ケース7が固定されており、該本体ケース7は、支柱
6の伸縮作用を介して被施術者の頭部の高さに応じてそ
の高さ位置を調整し得るようになっている。
【0014】前記本体ケース7内には、回転駆動手段2
を構成するサーボモータ8,減速ギヤ9、及び本体ケー
ス7に回転可能に支承された回転軸3が収納されてい
る。サーボモータ8の回転は減速ギヤ9を介して減速さ
れて回転軸3に伝達される。また、回転軸3と減速ギヤ
9との間には、トルクリミッター10が介装されてお
り、回転軸3に過負荷が加わった場合にスリップして駆
動力が回転軸3に伝達されないようなっている。
【0015】前記回転軸3は、所定角度で往復回転駆動
するように設けられている。この回転軸3の往復回転と
その回動角度の制御手段としては、回転軸3の所定角度
の回動範囲をリミットスイッチ,フォトセンサまたはポ
テンシオメータ等を用いて検出し、その検出信号に基づ
いてサーボモータ8を可逆的に回転制御する方法や、あ
るいはタイマー制御により、回転軸3が所定角度で往復
回動するようにサーボモータ8を所定時間毎に可逆回転
させる方法を用いることができる。また、回転軸3の回
動角度は、例えば 180°, 135°, 90°等の数段階に設
定され、スイッチ操作を介して回動角度が切換えられる
ようになっている。
【0016】回転軸3の先端には本体ケース7から突出
する支持基体4が軸支されており、該支持基体4には、
一対の赤外線照射体5a,5bが略 180°異なる位置に
略ハ字形を呈するように取付けられている。該赤外線照
射体5a,5bは、夫々ヒータ11と、該ヒータ11の
背面側に配設された反射板12とを備え、これらをフレ
ーム13内に保持してなるものであり、その全体形状が
リング状に形成されている。両ヒータ11,11は、ニ
クロム線等の電熱線を、石英ガラス,セラミックス等の
套管内に収納させたものが用いられており、該ヒータ1
1,11には本体ケース7側から図示しないリード線,
給電器等を介して給電が行われる。そして、該ヒータ1
1,11の電熱線に通電し、これを加熱して、石英ガラ
ス,セラミックス等の套管を赤熱させることにより、近
赤外線,遠赤外線を含む赤外線を放射させ、この赤外線
を直接及び反射板12による反射を介して各赤外線照射
体5a,5bの前面に向けて照射し得るようになってい
る。
【0017】また、両ヒータ11,11は、スイッチ操
作を介して個々にON, OFFが可能であり、かつON作動時
には強弱が数段階に設定可能となっている。これによ
り、両赤外線照射体5a,5bによる赤外線照射量を個
々に設定できるようにしている。
【0018】尚、前記両赤外線照射体5a,5bは、毛
髪処理促進装置1の前後方向中心線位置を回動基準位置
としており、該回動基準位置を設定角度の中心として左
右両側に回動するようになっている。従って、その回動
角度を例えば 180°に設定すると、一方の赤外線照射体
5aは、被施術者の一方の側頭部から頭頂部を経て他方
の側頭部に至る 180°の範囲で往復回動し、他方の赤外
線照射体5bは、前記赤外線照射体5aの動きに相対応
して頭部の後部側を往復回動する。
【0019】かかる構成にあって、図1に示すように、
赤外線照射体5a,5bを被施術者の頭部に対して適切
な高さ位置にセットし、この状態でスイッチ操作を介し
てサーボモータ8を駆動させ、かつ両赤外線照射体5
a,5bのヒータ11,11に通電すると、両赤外線照
射体5a,5bは赤外線を照射し乍ら、被施術者の頭部
の回りを円錐面軌跡を描くようにして毎分略3回転程度
の適正速度で往復回動する。ここで、回転軸3の回動角
度が 180°に設定されていると、各赤外線照射体5a,
5bの半回転の回動により、頭部全周に赤外線が照射さ
れることとなる。これは即ち、従来の単一の赤外線照射
体を回転させるものにおいて、回転速度を二倍にする
か、あるいは照射温度を二倍にした場合と略同等の加熱
作用を生じるものとなる。これにより、回転速度を上げ
たり、照射温度を高くしたりすることなく、短時間で毛
髪全体を加熱することができ、迅速な処理促進を行うこ
とができる。また、必要に応じて両赤外線照射体5a,
5bの赤外線照射量を相違させることにより、各赤外線
照射体5a,5bの回動範囲に対応する部位を異なる温
度で加熱することができる。
【0020】また、例えば頭部の上部側の一定範囲のみ
に赤外線を照射するような部分的な処理促進を行う場合
には、スイッチ操作を介して回転軸3の回動角度を処理
促進範囲に対応する 180°, 135°, 90°等の所定角度
にセットし、かつ、上部側の赤外線照射体5aのヒータ
11のみに通電するようにセットする。また、同時に該
赤外線照射体5aによる赤外線照射量を適宜設定しても
よい。そしてこの状態で、サーボモータ8を駆動させる
とともに、赤外線照射体5aのヒータ11に通電するこ
とにより、上部側の赤外線照射体5aが所定量の赤外線
を照射し乍ら、設定された回動角度で往復回動すること
となり、その部分的な処理促進範囲だけを所定温度で加
熱することができる。この間、赤外線照射体5bは後部
側を往復回動するが、該赤外線照射体5bからは赤外線
が照射されないため、不要部位への赤外線照射を防止す
ることができる。
【0021】尚、上記のように、部分的な処理促進範囲
だけを加熱する場合において、該処理促進範囲が赤外線
照射体5a,5bの回動基準位置からずれている場合に
は、該処理促進範囲に対して赤外線照射体5aまたは赤
外線照射体5bの回動範囲の位置を一致させる必要があ
るが、この位置調整は、トルクリミッター10のスリッ
プ作用を介して赤外線照射体5aまたは赤外線照射体5
bを手動で所要位置にスライド移動させることによって
簡単に行うことができる。
【0022】また、上記のように、部分的な処理促進範
囲を加熱する場合にあって、その処理促進範囲が狭い場
合には、赤外線照射体5aまたは赤外線照射体5bの回
動を停止させることも考えられるのであるが、赤外線照
射体5aまたは赤外線照射体5bを回動させ乍ら赤外線
を照射することにより、ある位置では影に入って赤外線
が照射されない部分にも、赤外線照射体5aまたは赤外
線照射体5bの移動によって赤外線を照射することがで
きるため、ムラのない処理促進を行うことが可能とな
る。
【0023】図3は、他の実施例を示すものであり、こ
の実施例は、頭部の上部側を回動する赤外線照射体5a
の直径を、後部側の赤外線照射体5bの直径より小径に
形成したものであり、該赤外線照射体5aの支持基体4
から先端までの長さが短寸に設けられている。このよう
に、両赤外線照射体5a,5bの支持基体4から先端ま
での長さを相違させて設けることにより、上部側を回動
する赤外線照射体5aの先端が被施術者の頭部の前方に
はみ出すことがなく、顔面への不要な赤外線照射をなく
すことができる。
【0024】尚、上記各実施例においては、赤外線照射
体5a,5bをリング状に形成したものを示したが、こ
れ以外に被施術者の頭部に沿って円弧形に湾曲するロッ
ド状の赤外線照射体5a,5bを用いるようにしてもよ
い。また、毛髪処理促進装置1に、ヒータを備えた送風
機構を付設して、赤外線照射体5a,5bあるいは本体
ケース7から被施術者の頭部に向けて温熱風や冷風を送
風させるようにしてもよい。
【0025】
【発明の効果】本発明は上述のように、回転駆動手段2
により往復回転駆動される回転軸3に支持基体4を軸支
し、略 180°異なる位置関係で配置される一対の赤外線
照射体5a,5bを、前記支持基体4に略ハ字形を呈す
るように取付け、該両赤外線照射体5a,5bを所定角
度で往復回動させるようにしたから、両赤外線照射体5
a,5bが往復回動する角度を略 180°に設定すること
により、各赤外線照射体5a,5bの半回転の回動によ
って、被施術者の頭部全周に赤外線を照射することがで
きる。これにより、回転速度を上げたり、照射温度を高
くすることなく、短時間で毛髪全体を加熱して迅速な処
理促進を行うことができる。
【0026】また、両赤外線照射体5a,5bの赤外線
照射量を個々に設定可能に設けることにより、両赤外線
照射体5a,5bが所定角度で往復回動することと相俟
って、加熱が必要な部位に対して必要量の赤外線を効果
的に照射することができる。
【0027】さらに、両赤外線照射体5a,5bの支持
基体4から先端までの長さを相違させて設けることによ
り、上部側を回動する赤外線照射体5aの先端が被施術
者の頭部の前方にはみ出すことがなく、顔面への不要な
赤外線照射をなくすことができる等の優れた効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる毛髪処理促進装置の一実施例を
示す側断面図である。
【図2】同上の毛髪処理促進装置を回転軸の延長線上か
ら見た状態の背面図である。
【図3】他の実施例の側断面図である。
【符号の説明】
1 毛髪処理促進装置 2 回転駆動手段 3 回転軸 4 支持基体 5a 赤外線照射体 5b 赤外線照射体

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】回転駆動手段により往復回転駆動される回
    転軸に支持基体を軸支し、略 180°異なる位置関係で配
    置される一対の赤外線照射体を、前記支持基体に略ハ字
    形を呈するように取付け、該両赤外線照射体を所定角度
    で往復回動させることを特徴とする毛髪処理促進装置。
  2. 【請求項2】両赤外線照射体の赤外線照射量を個々に設
    定可能に設けたことを特徴とする請求項1に記載した毛
    髪処理促進装置。
  3. 【請求項3】両赤外線照射体の支持基体から先端までの
    長さを相違させて設けたことを特徴とする請求項1又は
    請求項2に記載した毛髪処理促進装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100421175B1 (ko) * 2001-01-09 2004-03-02 (주)오오히로 코리아 동심역회전 감속기를 갖는 두발 가열장치
US6724984B2 (en) * 2001-12-05 2004-04-20 Takara Belmont Corporation Hair treatment promoting apparatus with rotatable reflector
KR100441912B1 (ko) * 2000-10-25 2004-07-27 가부시키가이샤 오히로 세이사쿠쇼 두발 처리 촉진기
KR100711545B1 (ko) * 2005-08-05 2007-04-27 이만택 모발 처리기
KR101190606B1 (ko) 2011-04-07 2012-10-12 (주)합신전자 슬립형 가온 날개 구비 스탠드 타입 두발 건조기
KR200475961Y1 (ko) 2013-06-28 2015-01-16 이승수 모발 가온 처리장치의 가온날개

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