JP2000290157A - 遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途 - Google Patents
遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好な光保護力を有する化粧品用組成物及び
その用途を提供する。 【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル、特に
水中油型のビヒクル中に、（ｉ）第１の遮蔽剤として、
部分的に又は完全に中和した形態であっても良い、ベン
ゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−ショウノウ
スルホン酸）と、（ｉｉ）第２の遮蔽剤として、少なく
とも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体とを含有
せしめ、該第１及び第２の遮蔽剤を、日光保護ファクタ
ーについて相乗活性を生じる割合にする。
その用途を提供する。 【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル、特に
水中油型のビヒクル中に、（ｉ）第１の遮蔽剤として、
部分的に又は完全に中和した形態であっても良い、ベン
ゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−ショウノウ
スルホン酸）と、（ｉｉ）第２の遮蔽剤として、少なく
とも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体とを含有
せしめ、該第１及び第２の遮蔽剤を、日光保護ファクタ
ーについて相乗活性を生じる割合にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、紫外線から
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される新規の化粧品用組成物（以下、この組成物
を単に抗日光組成物と呼称する）、並びに上述した化粧
品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本
発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、少なく
とも２つの特定の遮蔽剤の組み合わせ、すなわち、一方
では、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−
ショウノウスルホン酸）と、他方では、特定のビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体を組合せて含有し、これら２
つの遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて
相乗活性を生じる割合で、該組成物中に存在している抗
日光組成物に関する。
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される新規の化粧品用組成物（以下、この組成物
を単に抗日光組成物と呼称する）、並びに上述した化粧
品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本
発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、少なく
とも２つの特定の遮蔽剤の組み合わせ、すなわち、一方
では、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−
ショウノウスルホン酸）と、他方では、特定のビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体を組合せて含有し、これら２
つの遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて
相乗活性を生じる割合で、該組成物中に存在している抗
日光組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２８０
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ−Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、自然なサンタン状態
の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成す
る；よって、このＵＶ−Ｂは遮蔽されなければならな
い。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、
皮膚をサンタン状態にするＵＶ−Ａも皮膚に悪い変化を
誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさ
らされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａ
は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、
皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。Ｕ
Ｖ−Ａは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人におい
てはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応
の原因にもなりうる。よって、ＵＶ−Ａもまた遮蔽する
ことが望ましい。
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ−Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、自然なサンタン状態
の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成す
る；よって、このＵＶ−Ｂは遮蔽されなければならな
い。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、
皮膚をサンタン状態にするＵＶ−Ａも皮膚に悪い変化を
誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさ
らされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａ
は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、
皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。Ｕ
Ｖ−Ａは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人におい
てはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応
の原因にもなりうる。よって、ＵＶ−Ａもまた遮蔽する
ことが望ましい。
【０００３】皮膚の光（ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ）
保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提
供されている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション（すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
として許容可能なビヒクル）の形態で提供されており、
有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の
親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含
有してなるもので、これらの遮蔽剤（及びその量）は、
所望の保護ファクター［保護ファクター（ＰＦ）は、Ｕ
Ｖ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必
要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形
成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に
表したものである］に従って選択される。
保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提
供されている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション（すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
として許容可能なビヒクル）の形態で提供されており、
有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の
親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含
有してなるもので、これらの遮蔽剤（及びその量）は、
所望の保護ファクター［保護ファクター（ＰＦ）は、Ｕ
Ｖ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必
要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形
成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に
表したものである］に従って選択される。
【０００４】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】実
際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったと
ころ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこ
とに、従来から既に知られている２つの特定のサンスク
リーン剤を組合せると、顕著な相乗効果により、大幅に
改善された保護ファクターを有し、遮蔽剤の一方又は他
方を単独で使用した場合に得られるものよりさらに高い
保護ファクターをとにかく有する抗日光組成物が得られ
ることを見いだした。この発見が本発明の基礎をなす。
際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったと
ころ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこ
とに、従来から既に知られている２つの特定のサンスク
リーン剤を組合せると、顕著な相乗効果により、大幅に
改善された保護ファクターを有し、遮蔽剤の一方又は他
方を単独で使用した場合に得られるものよりさらに高い
保護ファクターをとにかく有する抗日光組成物が得られ
ることを見いだした。この発見が本発明の基礎をなす。
【０００５】よって、本発明の主題事項の一つは、化粧
品として許容可能なビヒクル中に、（ｉ）第１の遮蔽剤
として、部分的に又は完全に中和した形態であっても良
い、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−シ
ョウノウスルホン酸）と、（ｉｉ）第２の遮蔽剤とし
て、少なくとも１つの特定のビスレゾルシニルトリアジ
ン誘導体とを含有し、該第１及び第２の遮蔽剤が、付与
される日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割
合で該組成物中に存在していることを本質的に特徴とす
る新規化粧品用組成物、特に抗日光組成物を提供するこ
とにある。
品として許容可能なビヒクル中に、（ｉ）第１の遮蔽剤
として、部分的に又は完全に中和した形態であっても良
い、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−シ
ョウノウスルホン酸）と、（ｉｉ）第２の遮蔽剤とし
て、少なくとも１つの特定のビスレゾルシニルトリアジ
ン誘導体とを含有し、該第１及び第２の遮蔽剤が、付与
される日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割
合で該組成物中に存在していることを本質的に特徴とす
る新規化粧品用組成物、特に抗日光組成物を提供するこ
とにある。
【０００６】本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の
使用にある。
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の
使用にある。
【０００７】また、本発明の他の主題事項は、本発明の
組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することか
ら本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護するために美容処理方法にある。本発明の
他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むこ
とにより、明らかになるであろう。
組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することか
ら本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護するために美容処理方法にある。本発明の
他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むこ
とにより、明らかになるであろう。
【０００８】ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−
１０−ショウノウスルホン酸）とその様々な塩類は、特
にフランス国特許出願公開第２５２８４２０号及び同第
２６３９３４７号に記載され、２８０〜４００ｎｍの波
長の紫外線を吸収することができ、３２０〜４００ｎｍ
の間、特に約３４５ｎｍに最大吸収帯域を持つそれ自体
既に知られている遮蔽剤（いわゆる広帯域遮蔽剤）であ
る。
１０−ショウノウスルホン酸）とその様々な塩類は、特
にフランス国特許出願公開第２５２８４２０号及び同第
２６３９３４７号に記載され、２８０〜４００ｎｍの波
長の紫外線を吸収することができ、３２０〜４００ｎｍ
の間、特に約３４５ｎｍに最大吸収帯域を持つそれ自体
既に知られている遮蔽剤（いわゆる広帯域遮蔽剤）であ
る。
【０００９】これらの遮蔽剤は、次の一般式（Ｉ）：
【化６】 ｛上式中、Ａは水素原子、アルカリ金属又は、基ＮＨ
（Ｒ）３ ＋（ここで、Ｒ基は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はヒドロキシアル
キル基あるいは基Ｍｎ＋／ｎ（ここで、Ｍｎ＋は、ｎが
２、３又は４に等しい多価金属カチオンで、Ｍｎ＋は好
ましくはＣａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｂａ２＋、Ａ
ｌ３＋及びＺｒ４＋から選ばれる金属カチオンである）
を表す｝に相当する。式（Ｉ）の化合物は、一又は複数
の二重結合の周りに「シス−トランス」異性体を生じ、
これらの異性体も全て本発明の範囲にあることは明らか
に理解される。
（Ｒ）３ ＋（ここで、Ｒ基は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はヒドロキシアル
キル基あるいは基Ｍｎ＋／ｎ（ここで、Ｍｎ＋は、ｎが
２、３又は４に等しい多価金属カチオンで、Ｍｎ＋は好
ましくはＣａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｂａ２＋、Ａ
ｌ３＋及びＺｒ４＋から選ばれる金属カチオンである）
を表す｝に相当する。式（Ｉ）の化合物は、一又は複数
の二重結合の周りに「シス−トランス」異性体を生じ、
これらの異性体も全て本発明の範囲にあることは明らか
に理解される。
【００１０】ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−
１０−ショウノウスルホン酸）及び／又はその様々な塩
類の１つは、組成物の全重量に対して、一般に約０．１
〜１５重量％の全濃度、好ましくは約０．２〜１０重量
％の濃度で遮蔽組成物中に存在する。
１０−ショウノウスルホン酸）及び／又はその様々な塩
類の１つは、組成物の全重量に対して、一般に約０．１
〜１５重量％の全濃度、好ましくは約０．２〜１０重量
％の濃度で遮蔽組成物中に存在する。
【００１１】本発明に係るビスレゾルシニルトリアジン
誘導体は、好ましくは、次の式（ＩＩ）：
誘導体は、好ましくは、次の式（ＩＩ）：
【化７】 ［上式中、 （ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（１）：
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（１）：
【化８】 ｛上式中、 − Ｒ６は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４
アルキル基又は式−Ｃｍ１Ｈ２ｍ１−もしくは−Ｃｍ１
Ｈ２ｍ１−Ｏ−（ここで、ｍ１は１〜４の数である）の
残基を表し； − ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ７、Ｒ８及びＲ９基は、同一でも異なっていても
よく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アルコキ
シ基又は次の式：
アルキル基又は式−Ｃｍ１Ｈ２ｍ１−もしくは−Ｃｍ１
Ｈ２ｍ１−Ｏ−（ここで、ｍ１は１〜４の数である）の
残基を表し； − ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ７、Ｒ８及びＲ９基は、同一でも異なっていても
よく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アルコキ
シ基又は次の式：
【化９】 （上式中、Ｒ１０はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式：
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式：
【化１０】 ｛上式中、 − Ｒ３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−
（ＣＨ２ＣＨＲ５−Ｏ）ｎ１Ｒ４（ここでｎ１は１〜１
６の数であり、Ｒ５は水素又はメチルか、Ｔ１が上記と
同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２ＯＴ
１の構造の残基である）の基を示し； − Ｒ４は水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５アル
キル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ２
は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残基
を表し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基である｝の１つに相
当する残基を示す］に相当する。
（ＣＨ２ＣＨＲ５−Ｏ）ｎ１Ｒ４（ここでｎ１は１〜１
６の数であり、Ｒ５は水素又はメチルか、Ｔ１が上記と
同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２ＯＴ
１の構造の残基である）の基を示し； − Ｒ４は水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５アル
キル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ２
は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残基
を表し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基である｝の１つに相
当する残基を示す］に相当する。
【００１２】上述の式（ＩＩ）及び（１）〜（５）にお
いて： − アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ヘプチル、オクチル、イソ
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシ
ル又はオクタデシルから選択することができ； − アルケニル基は、例えばアリル、メタリル、イソプ
ロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、イソブテニ
ル、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル、３−メチルブテ
（ｍｅｔｈｙｌｂｕｔ）−２−エニル、ｎ−オクテ（ｏ
ｃｔ）−２−エニル、ｎ−ドデセ（ｄｏｄｅｃ）−２−
エニル、イソドデセニル又はｎ−オクタデセ−４−エニ
ルから選択することができ； − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ又はｔｅｒｔ−アミル
オキシから選択することができ； − モノ−もしくはジ（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基
は、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ、ｎ−ブチルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ又はメチルエチル
アミノから選択することができ； − 金属カチオンＭはアルカリ金属、アルカリ土類金
属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カ
ルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金
属カチオンである。
いて： − アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ヘプチル、オクチル、イソ
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシ
ル又はオクタデシルから選択することができ； − アルケニル基は、例えばアリル、メタリル、イソプ
ロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、イソブテニ
ル、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル、３−メチルブテ
（ｍｅｔｈｙｌｂｕｔ）−２−エニル、ｎ−オクテ（ｏ
ｃｔ）−２−エニル、ｎ−ドデセ（ｄｏｄｅｃ）−２−
エニル、イソドデセニル又はｎ−オクタデセ−４−エニ
ルから選択することができ； − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ又はｔｅｒｔ−アミル
オキシから選択することができ； − モノ−もしくはジ（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基
は、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ、ｎ−ブチルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ又はメチルエチル
アミノから選択することができ； − 金属カチオンＭはアルカリ金属、アルカリ土類金
属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カ
ルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金
属カチオンである。
【００１３】本発明の式（ＩＩ）のビスレゾルシニルト
リアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤であ
る。それらは、欧州特許公開第０７７５６９８号に開示
され、そこで示された合成法に従い調製される（これら
は本明細書の内容の一体部分を形成する）。
リアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤であ
る。それらは、欧州特許公開第０７７５６９８号に開示
され、そこで示された合成法に従い調製される（これら
は本明細書の内容の一体部分を形成する）。
【００１４】使用することができる式（ＩＩ）の化合物
の例として： − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒド
ロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−
メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−
１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオ
キシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メト
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４
−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，
５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチル
プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；を挙
げることができる。
の例として： − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒド
ロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−
メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−
１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオ
キシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メト
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４
−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，
５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチル
プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；を挙
げることができる。
【００１５】本発明において特に好ましいビスレゾルシ
ニルトリアジンから誘導される化合物は、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ）シリルプ
ロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン；からなる群から選択される。
ニルトリアジンから誘導される化合物は、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ）シリルプ
ロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン；からなる群から選択される。
【００１６】ビスレゾルシニルトリアジン誘導体型の有
機遮蔽剤（類）は、組成物の全重量に対して、０．１〜
１５重量％、好ましくは０．２〜１０重量％の全濃度で
本発明に係る遮蔽組成物中に存在する。
機遮蔽剤（類）は、組成物の全重量に対して、０．１〜
１５重量％、好ましくは０．２〜１０重量％の全濃度で
本発明に係る遮蔽組成物中に存在する。
【００１７】上述したように、本発明の必須の特徴によ
れば、これら２つの化合物が、組合せた結果付与される
保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相乗効果
が得られるような各割合で最終組成物中に存在するのが
好ましい。
れば、これら２つの化合物が、組合せた結果付与される
保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相乗効果
が得られるような各割合で最終組成物中に存在するのが
好ましい。
【００１８】さらに一般的には、上述の式（Ｉ）の化合
物と上述の式（ＩＩ）の化合物の濃度及び比率は、最終
組成物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも２
になるように選択される。
物と上述の式（ＩＩ）の化合物の濃度及び比率は、最終
組成物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも２
になるように選択される。
【００１９】最後に、本発明の好ましい実施態様におい
て、上述の式（Ｉ）と式（ＩＩ）の様々な有機遮蔽剤が
存在する化粧品として許容可能なビヒクルは、水中油型
エマルションである。
て、上述の式（Ｉ）と式（ＩＩ）の様々な有機遮蔽剤が
存在する化粧品として許容可能なビヒクルは、水中油型
エマルションである。
【００２０】もちろん、本発明の抗日光化粧品用組成物
は、上述した２つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ−Ａ及び／又
はＵＶ−Ｂ領域に対して活性のある、一又は複数の付加
的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤（吸収剤）を
含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケ
イ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、
トリアジン誘導体、例えば欧州特許出願第８６３１４５
号、同第５１７１０４号、同第５７０８３８号、同第７
９６８５１号に開示されているもの、ベンゾフェノン誘
導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β’−ジフェニ
ルアクリラート誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ｐ
−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シ
リコーン、例えば国際公開９３／０４６６５号に開示さ
れているものから選択される。
は、上述した２つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ−Ａ及び／又
はＵＶ−Ｂ領域に対して活性のある、一又は複数の付加
的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤（吸収剤）を
含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケ
イ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、
トリアジン誘導体、例えば欧州特許出願第８６３１４５
号、同第５１７１０４号、同第５７０８３８号、同第７
９６８５１号に開示されているもの、ベンゾフェノン誘
導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β’−ジフェニ
ルアクリラート誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ｐ
−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シ
リコーン、例えば国際公開９３／０４６６５号に開示さ
れているものから選択される。
【００２１】ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域に活性の
ある付加的なサンスクリーン剤の例としては：ｐ−アミ
ノ安息香酸、オキシエチレン化（２５モル）ｐ−アミノ
ベンゾアート、２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチルアミ
ノベンゾアート、Ｎ−オキシプロピレン化ｐ−アミノ安
息香酸エチル、グリセロール−ｐ−アミノベンゾアー
ト、ホモメンチルサリチラート、２−エチルヘキシルサ
リチラート、トリエタノールアミンサリチラート、４−
イソプロピルベンジルサリチラート、４−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、４−イソプ
ロピルジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−４−
メトキシシンナマート、ジイソプロピルケイ皮酸メチ
ル、４−メトキシケイ皮酸イソアミル、４−メトキシケ
イ皮酸ジエタノールアミン、アントラニル酸メンチル、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリラート、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリ
ル酸エチル、２−フェニルベンゾイミダゾール−５−ス
ルホン酸及びその塩類、３−（４’−トリメチルアンモ
ニオ）ベンジリデンボルナン−２−オン−メチルスルフ
ァート、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５
−スルホナート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オクトキ
シ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
４’−メチルベンゾフェノン、ウロカニン酸、α−（２
−オキソボルン−３−イリデン）トルエン−４−スルホ
ン酸及びその塩類、３−（４’−スルホベンジリデン）
ボルナン−２−オン及びその塩類、３−（４’−メチル
ベンジリデン）−ｄ，ｌ−ショウノウ、３−ベンジリデ
ン−ｄ，ｌ−ショウノウ、２，４，６−トリス［ｐ−
（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）ア
ニリノ］−１，３，５−トリアジン、２−［ｐ−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミド）アニリノ］−４，６−ビス［ｐ−
（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）ア
ニリノ］−１，３，５−トリアジン、１，４−ビス（ベ
ンズイミダゾリル）フェニレン−３，３’，５，５’−
テトラスルホン酸とその塩、Ｎ−［（２−及び４−）
［（２−オキソボロン−３−イリデン）メチル］ベンジ
ル］アクリルアミドのポリマー、ドロメトリゾールトリ
シロキサン（ＩＮＣＩ名）、マロナート官能基を有する
ポリオルガノシロキサン類、を挙げることができる。
ある付加的なサンスクリーン剤の例としては：ｐ−アミ
ノ安息香酸、オキシエチレン化（２５モル）ｐ−アミノ
ベンゾアート、２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチルアミ
ノベンゾアート、Ｎ−オキシプロピレン化ｐ−アミノ安
息香酸エチル、グリセロール−ｐ−アミノベンゾアー
ト、ホモメンチルサリチラート、２−エチルヘキシルサ
リチラート、トリエタノールアミンサリチラート、４−
イソプロピルベンジルサリチラート、４−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、４−イソプ
ロピルジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−４−
メトキシシンナマート、ジイソプロピルケイ皮酸メチ
ル、４−メトキシケイ皮酸イソアミル、４−メトキシケ
イ皮酸ジエタノールアミン、アントラニル酸メンチル、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリラート、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリ
ル酸エチル、２−フェニルベンゾイミダゾール−５−ス
ルホン酸及びその塩類、３−（４’−トリメチルアンモ
ニオ）ベンジリデンボルナン−２−オン−メチルスルフ
ァート、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５
−スルホナート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オクトキ
シ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
４’−メチルベンゾフェノン、ウロカニン酸、α−（２
−オキソボルン−３−イリデン）トルエン−４−スルホ
ン酸及びその塩類、３−（４’−スルホベンジリデン）
ボルナン−２−オン及びその塩類、３−（４’−メチル
ベンジリデン）−ｄ，ｌ−ショウノウ、３−ベンジリデ
ン−ｄ，ｌ−ショウノウ、２，４，６−トリス［ｐ−
（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）ア
ニリノ］−１，３，５−トリアジン、２−［ｐ−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミド）アニリノ］−４，６−ビス［ｐ−
（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル）ア
ニリノ］−１，３，５−トリアジン、１，４−ビス（ベ
ンズイミダゾリル）フェニレン−３，３’，５，５’−
テトラスルホン酸とその塩、Ｎ−［（２−及び４−）
［（２−オキソボロン−３−イリデン）メチル］ベンジ
ル］アクリルアミドのポリマー、ドロメトリゾールトリ
シロキサン（ＩＮＣＩ名）、マロナート官能基を有する
ポリオルガノシロキサン類、を挙げることができる。
【００２２】また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン
（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン
（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
【００２３】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類（一次
粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ま
しくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、全てそれ自体Ｕ
Ｖ線を物理的にブロック（反射及び／又は散乱）するこ
とにより作用する光保護剤としてよく知られている、酸
化チタン（アモルファス、又はルチル及び／又はアナタ
ーゼ型の結晶）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム
又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有してもよ
い。また、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウ
ムは常套的なコーティング剤である。このような被覆又
は非被覆金属酸化物のナノ顔料類としては、特に、欧州
特許公開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１
８７７３号に開示されているものがある。
は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類（一次
粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ま
しくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、全てそれ自体Ｕ
Ｖ線を物理的にブロック（反射及び／又は散乱）するこ
とにより作用する光保護剤としてよく知られている、酸
化チタン（アモルファス、又はルチル及び／又はアナタ
ーゼ型の結晶）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム
又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有してもよ
い。また、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウ
ムは常套的なコーティング剤である。このような被覆又
は非被覆金属酸化物のナノ顔料類としては、特に、欧州
特許公開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１
８７７３号に開示されているものがある。
【００２４】また、本発明の組成物は、特に、脂肪物
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、ポリマー、噴霧剤、塩基性又は
酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態
の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の
成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントを
さらに含有してもよい。
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、ポリマー、噴霧剤、塩基性又は
酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態
の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の
成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントを
さらに含有してもよい。
【００２５】脂肪物質類は、油又はロウ又はそれらの混
合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、
植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、
流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、
イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ
化及び過フッ化油類から選択することができる。同様
に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロ
ウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択す
ることができる。
合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、
植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、
流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、
イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ
化及び過フッ化油類から選択することができる。同様
に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロ
ウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択す
ることができる。
【００２６】有機溶媒としては低級アルコール類及びポ
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
【００２７】もちろん、当業者であれば、本発明の遮蔽
剤の２つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護因
子が、考慮される添加において、全く又は実質的に悪影
響を受けないように留意して、これら任意の付加的な化
合物及び／又はそれらの量を選択するであろう。
剤の２つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護因
子が、考慮される添加において、全く又は実質的に悪影
響を受けないように留意して、これら任意の付加的な化
合物及び／又はそれらの量を選択するであろう。
【００２８】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図した技術により調製することができる。
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図した技術により調製することができる。
【００２９】この組成物は、特に単一又は複合エマルシ
ョン（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、
例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パ
ウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもで
き、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム
又はスプレーの形態で提供することもできる。
ョン（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、
例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パ
ウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもで
き、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム
又はスプレーの形態で提供することもできる。
【００３０】エマルションの場合、エマルションの水相
は、公知の方法［バングハム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタ
ンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗ
ａｔｋｉｎｓ）の、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．１３，２３
８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国
特許第２４１６００８号］により調製される非イオン性
の小胞体分散液を含有してもよい。
は、公知の方法［バングハム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタ
ンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗ
ａｔｋｉｎｓ）の、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．１３，２３
８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国
特許第２４１６００８号］により調製される非イオン性
の小胞体分散液を含有してもよい。
【００３１】本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための組成物として使用すること
ができる。
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための組成物として使用すること
ができる。
【００３２】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は
懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又は
エマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾ
ールフォーム又はスプレーの形態で提供することができ
る。
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は
懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又は
エマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾ
ールフォーム又はスプレーの形態で提供することができ
る。
【００３３】本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態として提供することができ、また、例えばシャンプー
の前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウ
エーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローションもしくはスタイリング又はトリー
トメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のロ
ーション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のス
トレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することも
できる。
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態として提供することができ、また、例えばシャンプー
の前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウ
エーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローションもしくはスタイリング又はトリー
トメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のロ
ーション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のス
トレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することも
できる。
【００３４】組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメーク
アップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又は
ペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とし
て提供することができる。
アップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又は
ペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とし
て提供することができる。
【００３５】目安を示すと、水中油型エマルション型の
ビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全
組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０
重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．
５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
ビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全
組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０
重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．
５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００３６】本明細書の最初に示したように、本発明の
他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮
膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響から
それらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処
理方法にある。
他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮
膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響から
それらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処
理方法にある。
【００３７】
【実施例】次に本発明の実施例を例証するが、これらは
本発明の範囲を限定するものではない。示した量は重量
％である。 実施例１ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）ＡＯ、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ（Ｗ ｉｔｃｏ）社］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）− ２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフ ェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ グリセロール １５ｇ ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−ショ ウノウスルホン酸）（メキソリル（Ｍｅｘｏｒｙｌ）ＳＸ− チメックス（Ｃｈｉｍｅｘ）） ２ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
本発明の範囲を限定するものではない。示した量は重量
％である。 実施例１ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）ＡＯ、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ（Ｗ ｉｔｃｏ）社］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）− ２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフ ェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ グリセロール １５ｇ ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−ショ ウノウスルホン酸）（メキソリル（Ｍｅｘｏｒｙｌ）ＳＸ− チメックス（Ｃｈｉｍｅｘ）） ２ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
【００３８】 実施例２ 組成 グリセロール−モノ／ジステアラート／ポリエ チレングリコール（１００ＥＯ）ステアラート混合物 ［アルラセル（Ａｒｌａｃｅｌ）１６５ＦＬ、ＩＣＩ社］ ２ｇ ステアリルアルコール ［ラネット（Ｌａｎｅｔｔｅ）１８、ヘンケル社］ １ｇ パーム油ステアリン酸 ［ステアリン（Ｓｔｅａｒｉｎｅ）ＴＰ、ステアリネリー ・デュボア社（Ｓｔｅａｒｉｎｅｒｉｅ Ｄｕｂｏｉｓ）］ ２．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング２００フルイド、ダウ・コーニ ング社］ ０．５ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノールＴＮ、ウィトコ社］ ２０ｇ トリエタノールアミン ０．５ｇ ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ） シリル−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン ２．５ｇ プロピレングリコール ４ｇ グリセロール ４ｇ ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−ショ ウノウスルホン酸）（メキソリル（Ｍｅｘｏｒｙｌ）ＳＸ− チメックス（Ｃｈｉｍｅｘ）） ２．５ｇ ヘキサデシルホスファート、カリウム塩 ［アンフィソール（Ａｍｐｈｉｓｏｌ）Ｋ、ホフマン−ラ ロシュ社（Ｈｏｆｆｍａｎ−Ｌａｒｏｓｈｅ）］ １ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 ポリアクリル酸 ［シンタレン（Ｓｙｎｔｈａｌｅｎ）Ｋ、３Ｖ社］ ０．３ｇ ヒドロキシプロピルメチルセルロース ［メトセル（Ｍｅｔｈｏｃｅｌ）Ｆ４Ｍ、ダウ・ケミカル社 （Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）］ ０．１ｇ 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
【００３９】 実施例３ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）ＡＯ、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ（Ｗ ｉｔｃｏ）社］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，５’，５’ −ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチルプロピル オキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ シフェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ グリセロール １５ｇ ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０−ショ ウノウスルホン酸）（メキソリル（Ｍｅｘｏｒｙｌ）ＳＸ− チメックス（Ｃｈｉｍｅｘ）） ２ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｂ １０４Ｚ
Claims (20)
- 【請求項１】 化粧品として許容可能なビヒクル中に： （ａ）第１の遮蔽剤として、部分的に又は完全に中和し
た形態であっても良い、ベンゼン−１，４−ジ（３−メ
チリデン−１０−ショウノウスルホン酸）と、（ｂ）第
２の遮蔽剤として、次の式（ＩＩ）： 【化１】 ［上式中、 （ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（１）： 【化２】 ｛上式中、 − Ｒ６は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４
アルキル基又は式−Ｃｍ１Ｈ２ｍ１−もしくは−Ｃｍ１
Ｈ２ｍ１−Ｏ−（ここで、ｍ１は１〜４の数である）の
残基を表し； − Ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ７、Ｒ８及びＲ９基は、同一でも異なっていても
よく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アルコキ
シ基又は次の式： 【化３】 （上式中、Ｒ１０はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残
基を示す｝の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式： 【化４】 ｛上式中、 − Ｒ３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−
（ＣＨ２ＣＨＲ５−Ｏ）ｎ１Ｒ４（ここでｎ１は１〜１
６の数であり、Ｒ５は水素又はメチルか、Ｔ１が上記と
同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２ＯＴ
１の構造の残基である）の基を示し； − Ｒ４は水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５アル
キル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ２
は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残基
を表し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基である｝の１つに対
応する残基を示す］に相当する少なくとも１つのビスレ
ゾルシニルトリアジン誘導体と、を含有し、該第１及び
第２の遮蔽剤が、日光保護ファクターに対して相乗活性
を生じる割合で存在していることを特徴とする、特に皮
膚及び／又は毛髪の光保護のための、局所的に使用され
る化粧品用組成物。 - 【請求項２】 式（ＩＩ）の化合物が、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン；− ２，４−ビス｛［４−（２−
エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−［４−（２−メトキシエチルオキシカルボニル）
フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン；− ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプ
ロペニルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；から
選択されることを特徴とする請求項１に記載の組成物。 - 【請求項３】 式（ＩＩ）の化合物が、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン；− ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，
１’，３’，５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロ
キシ−２”−メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン；からなる群から選択されることを
特徴とする請求項１又は２に記載の組成物。 - 【請求項４】 ビスレゾルシニルトリアジン誘導体型の
遮蔽剤の濃度が組成物の全重量に対して０．１〜１５重
量％であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれ
か１項に記載の組成物。 - 【請求項５】 前記濃度が組成物の全重量に対して０．
２〜１０重量％であることを特徴とする請求項４に記載
の組成物。 - 【請求項６】 ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン
−１０−ショウノウスルホン酸）、及びその塩類が、次
の式（Ｉ）： 【化５】 ｛上式中、Ａは水素原子、アルカリ金属又は、基ＮＨ
（Ｒ２５）３ ＋（ここで、Ｒ２５基は同一でも異なって
いてもよく、水素原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はヒドロ
キシアルキル基あるいは基Ｍｎ＋／ｎ（ここで、Ｍｎ＋
は、ｎが２、３又は４に等しい多価金属カチオンで、Ｍ
ｎ＋は好ましくはＣａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｂａ
２＋、Ａｌ３＋及びＺｒ４＋から選ばれる金属カチオン
である）を表す｝に相当することを特徴とする、請求項
１ないし５のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項７】 ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン
−１０−ショウノウスルホン酸）又はその塩類の１つ
が、組成物の全重量に対して、一般に約０．１〜１５重
量％の濃度で存在していることを特徴とする請求項１な
いし６のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項８】 濃度が組成物の全重量に対して約０．２
〜１０重量％であることを特徴とする請求項７に記載の
組成物。 - 【請求項９】 前記化粧品として許容可能なビヒクル
が、水中油型エマルションの形態で提供されることを特
徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の組成
物。 - 【請求項１０】 前記第１及び第２の遮蔽剤以外の、Ｕ
Ｖ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域に活性のある一又は複数
の付加的な親水性又は親油性の有機遮蔽剤をさらに含有
していることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか
１項に記載の組成物。 - 【請求項１１】 前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸
誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、ベンゾ
イミダゾール誘導体、β，β−ジフェニルアクリラート
誘導体、請求項１ないし１０に記載のもの以外のトリア
ジン誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリ
マー及び遮蔽シリコーンから選択されることを特徴とす
る請求項１０に記載の組成物。 - 【請求項１２】 付加的なＵＶ光保護剤として、被覆又
は非被覆金属酸化物により形成される顔料又はナノ顔料
をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１１
のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１３】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
被覆酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム
又は酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択される
ことを特徴とする請求項１２に記載の組成物。 - 【請求項１４】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
及び／又は褐色にする少なくとも１つの薬剤をさらに含
有していることを特徴とする請求項１ないし１３のいず
れか１項に記載の組成物。 - 【請求項１５】 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟
剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒ
ドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐
剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマ
ー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、又は染料から選択
される少なくとも１つのアジュバントをさらに含有して
いることを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか１
項に記載の組成物。 - 【請求項１６】 ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光
組成物であって、非イオン性の小胞体分散液、水中油型
エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲ
ル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、チュー
ブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供されるも
のであることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれ
か１項に記載の組成物。 - 【請求項１７】 分散液、懸濁液又はエマルションの、
ペースト状又は固体状、水性又は無水の形態で提供さ
れ、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物である
ことを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項に
記載の組成物。 - 【請求項１８】 紫外線からの毛髪の保護を意図した組
成物において、該組成物がシャンプー、ローション、ゲ
ル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態
で提供されるものであることを特徴とする請求項１ない
し１６のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１９】 太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造
における、請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の
組成物の使用。 - 【請求項２０】 請求項１ないし１８のいずれか１項に
記載の組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用する
ことからなることを特徴とする、太陽光線等の紫外線か
ら皮膚及び／又は毛髪を保護するための美容処理方法。
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