JP2000290157A - 遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途 - Google Patents
遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途Info
- Publication number
- JP2000290157A JP2000290157A JP2000077238A JP2000077238A JP2000290157A JP 2000290157 A JP2000290157 A JP 2000290157A JP 2000077238 A JP2000077238 A JP 2000077238A JP 2000077238 A JP2000077238 A JP 2000077238A JP 2000290157 A JP2000290157 A JP 2000290157A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- composition according
- triazine
- hydroxy
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/46—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur
- A61K8/466—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur containing sulfonic acid derivatives; Salts
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/02—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by special physical form
- A61K8/04—Dispersions; Emulsions
- A61K8/06—Emulsions
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
- A61K8/494—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
- A61K8/4966—Triazines or their condensed derivatives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/58—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen, sulfur or phosphorus
- A61K8/585—Organosilicon compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/59—Mixtures
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
その用途を提供する。 【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル、特に
水中油型のビヒクル中に、(i)第1の遮蔽剤として、
部分的に又は完全に中和した形態であっても良い、ベン
ゼン−1,4−ジ(3−メチリデン−10−ショウノウ
スルホン酸)と、(ii)第2の遮蔽剤として、少なく
とも1つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体とを含有
せしめ、該第1及び第2の遮蔽剤を、日光保護ファクタ
ーについて相乗活性を生じる割合にする。
Description
皮膚及び/又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される新規の化粧品用組成物(以下、この組成物
を単に抗日光組成物と呼称する)、並びに上述した化粧
品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本
発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、少なく
とも2つの特定の遮蔽剤の組み合わせ、すなわち、一方
では、ベンゼン−1,4−ジ(3−メチリデン−10−
ショウノウスルホン酸)と、他方では、特定のビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体を組合せて含有し、これら2
つの遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて
相乗活性を生じる割合で、該組成物中に存在している抗
日光組成物に関する。
nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にUV−Bとして知られている280と3
20nmの間の波長の光線により、自然なサンタン状態
の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成す
る;よって、このUV−Bは遮蔽されなければならな
い。また、320nmと400nmの間の波長を持ち、
皮膚をサンタン状態にするUV−Aも皮膚に悪い変化を
誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさ
らされている皮膚の場合は特にしかりである。UV−A
は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、
皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。U
V−Aは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人におい
てはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応
の原因にもなりうる。よって、UV−Aもまた遮蔽する
ことが望ましい。
保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提
供されている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
として許容可能なビヒクル)の形態で提供されており、
有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の
親油性及び/又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含
有してなるもので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、
所望の保護ファクター[保護ファクター(PF)は、U
V遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必
要な照射時間の、UV遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形
成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に
表したものである]に従って選択される。
際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったと
ころ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこ
とに、従来から既に知られている2つの特定のサンスク
リーン剤を組合せると、顕著な相乗効果により、大幅に
改善された保護ファクターを有し、遮蔽剤の一方又は他
方を単独で使用した場合に得られるものよりさらに高い
保護ファクターをとにかく有する抗日光組成物が得られ
ることを見いだした。この発見が本発明の基礎をなす。
品として許容可能なビヒクル中に、(i)第1の遮蔽剤
として、部分的に又は完全に中和した形態であっても良
い、ベンゼン−1,4−ジ(3−メチリデン−10−シ
ョウノウスルホン酸)と、(ii)第2の遮蔽剤とし
て、少なくとも1つの特定のビスレゾルシニルトリアジ
ン誘導体とを含有し、該第1及び第2の遮蔽剤が、付与
される日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割
合で該組成物中に存在していることを本質的に特徴とす
る新規化粧品用組成物、特に抗日光組成物を提供するこ
とにある。
外線から皮膚及び/又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の
使用にある。
組成物を有効量、皮膚及び/又は毛髪に適用することか
ら本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又
は毛髪を保護するために美容処理方法にある。本発明の
他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むこ
とにより、明らかになるであろう。
10−ショウノウスルホン酸)とその様々な塩類は、特
にフランス国特許出願公開第2528420号及び同第
2639347号に記載され、280〜400nmの波
長の紫外線を吸収することができ、320〜400nm
の間、特に約345nmに最大吸収帯域を持つそれ自体
既に知られている遮蔽剤(いわゆる広帯域遮蔽剤)であ
る。
(R)3 +(ここで、R基は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、C1−C4アルキル又はヒドロキシアル
キル基あるいは基Mn+/n(ここで、Mn+は、nが
2、3又は4に等しい多価金属カチオンで、Mn+は好
ましくはCa2+、Zn2+、Mg2+、Ba2+、A
l3+及びZr4+から選ばれる金属カチオンである)
を表す}に相当する。式(I)の化合物は、一又は複数
の二重結合の周りに「シス−トランス」異性体を生じ、
これらの異性体も全て本発明の範囲にあることは明らか
に理解される。
10−ショウノウスルホン酸)及び/又はその様々な塩
類の1つは、組成物の全重量に対して、一般に約0.1
〜15重量%の全濃度、好ましくは約0.2〜10重量
%の濃度で遮蔽組成物中に存在する。
誘導体は、好ましくは、次の式(II):
く、C3−C18アルキル基、C2−C18アルケニル
基又は式−CH2−CH(OH)−CH2−OT1(こ
こで、T1は水素原子かC1−C8アルキル基である)
の残基を示し; (ii)R1及びR2基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式(1):
アルキル基又は式−Cm1H2m1−もしくは−Cm1
H2m1−O−(ここで、m1は1〜4の数である)の
残基を表し; − p1は0〜5の数であり; − R7、R8及びR9基は、同一でも異なっていても
よく、C1−C18アルキル基、C1−C18アルコキ
シ基又は次の式:
基を示す)の残基を示すことができ; − A1は、次の式:
(CH2CHR5−O)n1R4(ここでn1は1〜1
6の数であり、R5は水素又はメチルか、T1が上記と
同じ意味を有する−CH2−CH(OH)−CH2OT
1の構造の残基である)の基を示し; − R4は水素原子、金属カチオンM、C1−C5アル
キル基又は式−(CH2)m2−OT1(ここで、m2
は1〜4の数でT1は上述と同じ意味を有する)の残基
を表し; − Q1はC1−C18アルキル基である}の1つに相
当する残基を示す]に相当する。
いて: − アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec−ブチル、tert−ブチル、アミル、イソ
アミル、tert−アミル、ヘプチル、オクチル、イソ
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシ
ル又はオクタデシルから選択することができ; − アルケニル基は、例えばアリル、メタリル、イソプ
ロペニル、2−ブテニル、3−ブテニル、イソブテニ
ル、n−ペンタ−2,4−ジエニル、3−メチルブテ
(methylbut)−2−エニル、n−オクテ(o
ct)−2−エニル、n−ドデセ(dodec)−2−
エニル、イソドデセニル又はn−オクタデセ−4−エニ
ルから選択することができ; − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メト
キシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n
−ブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ又はtert−アミル
オキシから選択することができ; − モノ−もしくはジ(C1−C5)アルキルアミノ基
は、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ、n−ブチルアミノ、sec−ブチルアミノ、te
rt−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ又はメチルエチル
アミノから選択することができ; − 金属カチオンMはアルカリ金属、アルカリ土類金
属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カ
ルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金
属カチオンである。
リアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤であ
る。それらは、欧州特許公開第0775698号に開示
され、そこで示された合成法に従い調製される(これら
は本明細書の内容の一体部分を形成する)。
の例として: − 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキ
シ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキ
シフェニル)−1,3,5−トリアジン;− 2,4−
ビス{[4−(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒド
ロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}
−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリア
ジン; − 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキ
シ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−[4−(2−
メトキシエチルオキシカルボニル)フェニルアミノ]−
1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(トリス(トリメチルシロキ
シ)シリルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニ
ル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−ト
リアジン; − 2,4−ビス{[4−(2”−メチルプロペニルオ
キシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メト
キシフェニル)−1,3,5−トリアジン;− 2,4
−ビス{[4−(1’,1’,1’,3’,5’,
5’,5’−ヘプタメチルトリシロキシ−2”−メチル
プロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−
(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(3−(2−プロピルオキ
シ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキ
シ]フェニル}−6−[4−(エトキシカルボニル)フ
ェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキ
シ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(1−メチル
ピロール−2−イル)−1,3,5−トリアジン;を挙
げることができる。
ニルトリアジンから誘導される化合物は、 − 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキ
シ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキ
シフェニル)−1,3,5−トリアジン;− 2,4−
ビス{[4−(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプ
ロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−
(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(1’,1’,1’,3’,
5’,5’,5’−ヘプタメチルトリシロキシ−2”−
メチルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}
−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリア
ジン;からなる群から選択される。
機遮蔽剤(類)は、組成物の全重量に対して、0.1〜
15重量%、好ましくは0.2〜10重量%の全濃度で
本発明に係る遮蔽組成物中に存在する。
れば、これら2つの化合物が、組合せた結果付与される
保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相乗効果
が得られるような各割合で最終組成物中に存在するのが
好ましい。
物と上述の式(II)の化合物の濃度及び比率は、最終
組成物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも2
になるように選択される。
て、上述の式(I)と式(II)の様々な有機遮蔽剤が
存在する化粧品として許容可能なビヒクルは、水中油型
エマルションである。
は、上述した2つの遮蔽剤以外にも、UV−A及び/又
はUV−B領域に対して活性のある、一又は複数の付加
的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤(吸収剤)を
含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケ
イ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、
トリアジン誘導体、例えば欧州特許出願第863145
号、同第517104号、同第570838号、同第7
96851号に開示されているもの、ベンゾフェノン誘
導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β,β’−ジフェニ
ルアクリラート誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、p
−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シ
リコーン、例えば国際公開93/04665号に開示さ
れているものから選択される。
ある付加的なサンスクリーン剤の例としては:p−アミ
ノ安息香酸、オキシエチレン化(25モル)p−アミノ
ベンゾアート、2−エチルヘキシル−p−ジメチルアミ
ノベンゾアート、N−オキシプロピレン化p−アミノ安
息香酸エチル、グリセロール−p−アミノベンゾアー
ト、ホモメンチルサリチラート、2−エチルヘキシルサ
リチラート、トリエタノールアミンサリチラート、4−
イソプロピルベンジルサリチラート、4−tert−ブ
チル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、4−イソプ
ロピルジベンゾイルメタン、2−エチルヘキシル−4−
メトキシシンナマート、ジイソプロピルケイ皮酸メチ
ル、4−メトキシケイ皮酸イソアミル、4−メトキシケ
イ皮酸ジエタノールアミン、アントラニル酸メンチル、
2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニル
アクリラート、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリ
ル酸エチル、2−フェニルベンゾイミダゾール−5−ス
ルホン酸及びその塩類、3−(4’−トリメチルアンモ
ニオ)ベンジリデンボルナン−2−オン−メチルスルフ
ァート、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5
−スルホナート、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ
ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(n−オクトキ
シ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−
4’−メチルベンゾフェノン、ウロカニン酸、α−(2
−オキソボルン−3−イリデン)トルエン−4−スルホ
ン酸及びその塩類、3−(4’−スルホベンジリデン)
ボルナン−2−オン及びその塩類、3−(4’−メチル
ベンジリデン)−d,l−ショウノウ、3−ベンジリデ
ン−d,l−ショウノウ、2,4,6−トリス[p−
(2’−エチルヘキシル−1’−オキシカルボニル)ア
ニリノ]−1,3,5−トリアジン、2−[p−(te
rt−ブチルアミド)アニリノ]−4,6−ビス[p−
(2’−エチルヘキシル−1’−オキシカルボニル)ア
ニリノ]−1,3,5−トリアジン、1,4−ビス(ベ
ンズイミダゾリル)フェニレン−3,3’,5,5’−
テトラスルホン酸とその塩、N−[(2−及び4−)
[(2−オキソボロン−3−イリデン)メチル]ベンジ
ル]アクリルアミドのポリマー、ドロメトリゾールトリ
シロキサン(INCI名)、マロナート官能基を有する
ポリオルガノシロキサン類、を挙げることができる。
日焼けした状態にする、及び/又は褐色にするための薬
剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン
(DHA)をさらに含有してもよい。
は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類(一次
粒子の平均粒径:一般的に、5nm〜100nm、好ま
しくは10nm〜50nm)、例えば、全てそれ自体U
V線を物理的にブロック(反射及び/又は散乱)するこ
とにより作用する光保護剤としてよく知られている、酸
化チタン(アモルファス、又はルチル及び/又はアナタ
ーゼ型の結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム
又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有してもよ
い。また、アルミナ及び/又はステアリン酸アルミニウ
ムは常套的なコーティング剤である。このような被覆又
は非被覆金属酸化物のナノ顔料類としては、特に、欧州
特許公開第0518772号及び欧州特許公開第051
8773号に開示されているものがある。
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、ポリマー、噴霧剤、塩基性又は
酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態
の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の
成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントを
さらに含有してもよい。
合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、
植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、
流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、
イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ
化及び過フッ化油類から選択することができる。同様
に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロ
ウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択す
ることができる。
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
剤の2つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護因
子が、考慮される添加において、全く又は実質的に悪影
響を受けないように留意して、これら任意の付加的な化
合物及び/又はそれらの量を選択するであろう。
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図した技術により調製することができる。
ョン(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)、
例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パ
ウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもで
き、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム
又はスプレーの形態で提供することもできる。
は、公知の方法[バングハム(Bangham)、スタ
ンディッシュ(Standish)及びワトキンス(W
atkins)の、J.Mol.Biol.13,23
8(1965)、仏国特許第2315991号及び仏国
特許第2416008号]により調製される非イオン性
の小胞体分散液を含有してもよい。
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための組成物として使用すること
ができる。
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は
懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又は
エマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾ
ールフォーム又はスプレーの形態で提供することができ
る。
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態として提供することができ、また、例えばシャンプー
の前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウ
エーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローションもしくはスタイリング又はトリー
トメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のロ
ーション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のス
トレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することも
できる。
アップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又は
ペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とし
て提供することができる。
ビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90
重量%、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全
組成物に対して5〜50重量%、好ましくは10〜30
重量%、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して0.
5〜20重量%、好ましくは2〜10重量%である。
他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮
膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響から
それらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処
理方法にある。
本発明の範囲を限定するものではない。示した量は重量
%である。 実施例1 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 (33EO)されたセテアリールアルコールの 80/20の混合物 [シンノワックス(Sinnowax)AO、ヘンケル社 (Henkel)] 7g グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 [セラシント(Cerasynt)SD−V、ISP社] 2g セチルアルコール 1.5g ポリジメチルシロキサン [ダウ・コーニング(Dow Corning)200フルイド、 ダウ・コーニング社] 1g C12/C15アルコールのベンゾアート [ウィトコノール(Witconol)TN、ウィトコ(W itco)社] 15g 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)− 2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフ ェニル)−1,3,5−トリアジン 2g グリセロール 15g ベンゼン−1,4−ジ(3−メチリデン−10−ショ ウノウスルホン酸)(メキソリル(Mexoryl)SX− チメックス(Chimex)) 2g トリエタノールアミン pHを7にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を100gにする量
Claims (20)
- 【請求項1】 化粧品として許容可能なビヒクル中に: (a)第1の遮蔽剤として、部分的に又は完全に中和し
た形態であっても良い、ベンゼン−1,4−ジ(3−メ
チリデン−10−ショウノウスルホン酸)と、(b)第
2の遮蔽剤として、次の式(II): 【化1】 [上式中、 (i)R1及びR2基は、同一でも異なっていてもよ
く、C3−C18アルキル基、C2−C18アルケニル
基又は式−CH2−CH(OH)−CH2−OT1(こ
こで、T1は水素原子かC1−C8アルキル基である)
の残基を示し; (ii)R1及びR2基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式(1): 【化2】 {上式中、 − R6は、共有結合、直鎖状又は分枝状のC1−C4
アルキル基又は式−Cm1H2m1−もしくは−Cm1
H2m1−O−(ここで、m1は1〜4の数である)の
残基を表し; − P1は0〜5の数であり; − R7、R8及びR9基は、同一でも異なっていても
よく、C1−C18アルキル基、C1−C18アルコキ
シ基又は次の式: 【化3】 (上式中、R10はC1−C5アルキル基である)の残
基を示す}の残基を示すことができ; − A1は、次の式: 【化4】 {上式中、 − R3は水素原子、C1−C10アルキル基、式−
(CH2CHR5−O)n1R4(ここでn1は1〜1
6の数であり、R5は水素又はメチルか、T1が上記と
同じ意味を有する−CH2−CH(OH)−CH2OT
1の構造の残基である)の基を示し; − R4は水素原子、金属カチオンM、C1−C5アル
キル基又は式−(CH2)m2−OT1(ここで、m2
は1〜4の数でT1は上述と同じ意味を有する)の残基
を表し; − Q1はC1−C18アルキル基である}の1つに対
応する残基を示す]に相当する少なくとも1つのビスレ
ゾルシニルトリアジン誘導体と、を含有し、該第1及び
第2の遮蔽剤が、日光保護ファクターに対して相乗活性
を生じる割合で存在していることを特徴とする、特に皮
膚及び/又は毛髪の光保護のための、局所的に使用され
る化粧品用組成物。 - 【請求項2】 式(II)の化合物が、 − 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキ
シ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキ
シフェニル)−1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(3−(2−プロピルオキ
シ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキ
シ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン;− 2,4−ビス{[4−(2−
エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}
−6−[4−(2−メトキシエチルオキシカルボニル)
フェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(トリス(トリメチルシロキ
シ)シリルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニ
ル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−ト
リアジン;− 2,4−ビス{[4−(2”−メチルプ
ロペニルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−
(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(1’,1’,1’,3’,
5’,5’,5’−ヘプタメチルトリシロキシ−2”−
メチルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}
−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリア
ジン; − 2,4−ビス{[4−(3−(2−プロピルオキ
シ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキ
シ]フェニル}−6−[4−(エトキシカルボニル)フ
ェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキ
シ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(1−メチル
ピロール−2−イル)−1,3,5−トリアジン;から
選択されることを特徴とする請求項1に記載の組成物。 - 【請求項3】 式(II)の化合物が、 − 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキ
シ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキ
シフェニル)−1,3,5−トリアジン; − 2,4−ビス{[4−(トリス(トリメチルシロキ
シ)シリルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニ
ル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−ト
リアジン;− 2,4−ビス{[4−(1’,1’,
1’,3’,5’,5’,5’−ヘプタメチルトリシロ
キシ−2”−メチルプロピルオキシ)−2−ヒドロキ
シ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン;からなる群から選択されることを
特徴とする請求項1又は2に記載の組成物。 - 【請求項4】 ビスレゾルシニルトリアジン誘導体型の
遮蔽剤の濃度が組成物の全重量に対して0.1〜15重
量%であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれ
か1項に記載の組成物。 - 【請求項5】 前記濃度が組成物の全重量に対して0.
2〜10重量%であることを特徴とする請求項4に記載
の組成物。 - 【請求項6】 ベンゼン−1,4−ジ(3−メチリデン
−10−ショウノウスルホン酸)、及びその塩類が、次
の式(I): 【化5】 {上式中、Aは水素原子、アルカリ金属又は、基NH
(R25)3 +(ここで、R25基は同一でも異なって
いてもよく、水素原子、C1−C4アルキル又はヒドロ
キシアルキル基あるいは基Mn+/n(ここで、Mn+
は、nが2、3又は4に等しい多価金属カチオンで、M
n+は好ましくはCa2+、Zn2+、Mg2+、Ba
2+、Al3+及びZr4+から選ばれる金属カチオン
である)を表す}に相当することを特徴とする、請求項
1ないし5のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項7】 ベンゼン−1,4−ジ(3−メチリデン
−10−ショウノウスルホン酸)又はその塩類の1つ
が、組成物の全重量に対して、一般に約0.1〜15重
量%の濃度で存在していることを特徴とする請求項1な
いし6のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項8】 濃度が組成物の全重量に対して約0.2
〜10重量%であることを特徴とする請求項7に記載の
組成物。 - 【請求項9】 前記化粧品として許容可能なビヒクル
が、水中油型エマルションの形態で提供されることを特
徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の組成
物。 - 【請求項10】 前記第1及び第2の遮蔽剤以外の、U
V−A及び/又はUV−B領域に活性のある一又は複数
の付加的な親水性又は親油性の有機遮蔽剤をさらに含有
していることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか
1項に記載の組成物。 - 【請求項11】 前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸
誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、ベンゾ
イミダゾール誘導体、β,β−ジフェニルアクリラート
誘導体、請求項1ないし10に記載のもの以外のトリア
ジン誘導体、p−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリ
マー及び遮蔽シリコーンから選択されることを特徴とす
る請求項10に記載の組成物。 - 【請求項12】 付加的なUV光保護剤として、被覆又
は非被覆金属酸化物により形成される顔料又はナノ顔料
をさらに含有することを特徴とする請求項1ないし11
のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項13】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
被覆酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム
又は酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択される
ことを特徴とする請求項12に記載の組成物。 - 【請求項14】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
及び/又は褐色にする少なくとも1つの薬剤をさらに含
有していることを特徴とする請求項1ないし13のいず
れか1項に記載の組成物。 - 【請求項15】 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟
剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒ
ドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐
剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマ
ー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、又は染料から選択
される少なくとも1つのアジュバントをさらに含有して
いることを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1
項に記載の組成物。 - 【請求項16】 ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光
組成物であって、非イオン性の小胞体分散液、水中油型
エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲ
ル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、チュー
ブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供されるも
のであることを特徴とする請求項1ないし15のいずれ
か1項に記載の組成物。 - 【請求項17】 分散液、懸濁液又はエマルションの、
ペースト状又は固体状、水性又は無水の形態で提供さ
れ、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物である
ことを特徴とする請求項1ないし16のいずれか1項に
記載の組成物。 - 【請求項18】 紫外線からの毛髪の保護を意図した組
成物において、該組成物がシャンプー、ローション、ゲ
ル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態
で提供されるものであることを特徴とする請求項1ない
し16のいずれか1項に記載の組成物。 - 【請求項19】 太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又
は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造
における、請求項1ないし16のいずれか1項に記載の
組成物の使用。 - 【請求項20】 請求項1ないし18のいずれか1項に
記載の組成物を有効量、皮膚及び/又は毛髪に適用する
ことからなることを特徴とする、太陽光線等の紫外線か
ら皮膚及び/又は毛髪を保護するための美容処理方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9901730A FR2789580A1 (fr) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | Compositions cosmetiques antisolaires a base d'un melange synergique de filtres et utilisations |
FR9901730 | 1999-02-12 | ||
US09/503,940 US6159456A (en) | 1999-02-12 | 2000-02-14 | Photoprotective/cosmetic compositions comprising camphorsulfonic acid and bisresorcinyltriazine sunscreens |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000290157A true JP2000290157A (ja) | 2000-10-17 |
JP4056675B2 JP4056675B2 (ja) | 2008-03-05 |
Family
ID=26234816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000077238A Expired - Lifetime JP4056675B2 (ja) | 1999-02-12 | 2000-02-14 | 遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途 |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6159456A (ja) |
EP (1) | EP1040820B1 (ja) |
JP (1) | JP4056675B2 (ja) |
KR (1) | KR100386143B1 (ja) |
AT (1) | ATE269692T1 (ja) |
AU (1) | AU740296B2 (ja) |
BR (1) | BR0000627B1 (ja) |
CA (1) | CA2298156A1 (ja) |
DE (1) | DE60011690T2 (ja) |
DK (1) | DK1040820T3 (ja) |
ES (1) | ES2222881T3 (ja) |
FR (1) | FR2789580A1 (ja) |
PL (1) | PL338370A1 (ja) |
PT (1) | PT1040820E (ja) |
RU (1) | RU2180211C2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010516878A (ja) * | 2007-01-29 | 2010-05-20 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 粒子状uv保護剤 |
WO2024142783A1 (ja) * | 2022-12-28 | 2024-07-04 | 株式会社資生堂 | 日焼け止め化粧料、紫外線吸収剤の紫外線防止指数の向上方法、及び紫外線防止指数向上剤 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0119639D0 (en) * | 2001-08-11 | 2001-10-03 | Boots Co Plc | Personal care compositions |
KR100424440B1 (ko) * | 2001-09-18 | 2004-03-24 | 한국과학기술원 | 리튬이차전지용 바인더 조성물 및 그 응용 |
SE527555C2 (sv) | 2003-04-04 | 2006-04-11 | Probi Ab | Anti-inflammatorisk komposition innehållande tannasproducerande Lactobacillusstammar |
US8540976B2 (en) | 2009-04-01 | 2013-09-24 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Poly (non-conjugated diene) based sunscreens |
FR2977490B1 (fr) * | 2011-07-07 | 2014-03-21 | Oreal | Composition photoprotectrice |
CN110339079B (zh) * | 2019-07-03 | 2022-05-24 | 广州双慧化妆品有限公司 | 包含酰胺衍生物的组合物及其在化妆品中的应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2720640B1 (fr) * | 1994-06-03 | 1996-07-26 | Oreal | Compositions cosmétiques photoprotectrices à base d'un mélange synergétique de filtres et de nanopigments et utilisations. |
DE19543730A1 (de) * | 1995-11-23 | 1997-05-28 | Ciba Geigy Ag | Bis-Resorcinyl-Triazine |
DE19645317A1 (de) * | 1996-11-04 | 1998-05-07 | Beiersdorf Ag | Wasserfeste Lichtschutzzubereitungen mit einem Gehalt an anorganischen Mikropigmeten und wasserlöslichen UV-Filtersubstanzen |
CN1117737C (zh) * | 1996-11-20 | 2003-08-13 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 对称三嗪衍生物 |
EP0878469B1 (de) * | 1997-05-16 | 2004-10-27 | Ciba SC Holding AG | Resorcinyl-Triazine |
CN1170522C (zh) * | 1997-08-20 | 2004-10-13 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 双(间苯二酚基)三嗪衍生物在化妆品中的应用 |
DE19815086C2 (de) * | 1998-04-06 | 2000-11-30 | Cognis Deutschland Gmbh | Sonnenschutzmittel |
-
1999
- 1999-02-12 FR FR9901730A patent/FR2789580A1/fr not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-01-31 EP EP00400245A patent/EP1040820B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2000-01-31 DK DK00400245T patent/DK1040820T3/da active
- 2000-01-31 PT PT00400245T patent/PT1040820E/pt unknown
- 2000-01-31 DE DE60011690T patent/DE60011690T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-01-31 AT AT00400245T patent/ATE269692T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-01-31 ES ES00400245T patent/ES2222881T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-07 AU AU14938/00A patent/AU740296B2/en not_active Ceased
- 2000-02-11 RU RU2000103482/14A patent/RU2180211C2/ru active
- 2000-02-11 PL PL00338370A patent/PL338370A1/xx not_active Application Discontinuation
- 2000-02-11 BR BRPI0000627-0B1A patent/BR0000627B1/pt active IP Right Grant
- 2000-02-11 CA CA002298156A patent/CA2298156A1/fr not_active Abandoned
- 2000-02-12 KR KR10-2000-0006617A patent/KR100386143B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-02-14 US US09/503,940 patent/US6159456A/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-14 JP JP2000077238A patent/JP4056675B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010516878A (ja) * | 2007-01-29 | 2010-05-20 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 粒子状uv保護剤 |
WO2024142783A1 (ja) * | 2022-12-28 | 2024-07-04 | 株式会社資生堂 | 日焼け止め化粧料、紫外線吸収剤の紫外線防止指数の向上方法、及び紫外線防止指数向上剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60011690D1 (de) | 2004-07-29 |
EP1040820A1 (fr) | 2000-10-04 |
AU740296B2 (en) | 2001-11-01 |
KR100386143B1 (ko) | 2003-06-02 |
DE60011690T2 (de) | 2005-07-07 |
RU2180211C2 (ru) | 2002-03-10 |
ES2222881T3 (es) | 2005-02-16 |
BR0000627A (pt) | 2001-05-02 |
DK1040820T3 (da) | 2004-08-30 |
JP4056675B2 (ja) | 2008-03-05 |
KR20000058025A (ko) | 2000-09-25 |
AU1493800A (en) | 2000-09-07 |
ATE269692T1 (de) | 2004-07-15 |
FR2789580A1 (fr) | 2000-08-18 |
BR0000627B1 (pt) | 2013-06-11 |
CA2298156A1 (fr) | 2000-08-12 |
PL338370A1 (en) | 2000-08-14 |
PT1040820E (pt) | 2004-11-30 |
EP1040820B1 (fr) | 2004-06-23 |
US6159456A (en) | 2000-12-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3753224B2 (ja) | ビスレゾルシニルトリアジン誘導体とベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物 | |
US6607713B1 (en) | Method for improving UV radiation stability of photosensitive sunscreen filters | |
US5489431A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising 2,4,6-tris[p-((2'-ethylhexyl)oxycarbonyl)anilino]-1,3,5-triazine and dioctyl malate | |
US5658555A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising synergistic admixture of sunscreen compounds/nanopigments | |
JP3848308B2 (ja) | 4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、1,3,5−トリアジン誘導体および(α−シアノ)−β,β’−ジフェニルアクリル酸アルキルを含有する組成物とその用途 | |
JPH10175837A (ja) | ジベンゾイルメタン誘導体、1,3,5−トリアジン誘導体及びアミド化合物を含む組成物及びその使用 | |
US5605678A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising 2,4,6-tris[p-((2'-ethylhexyl)oxycarbonyl)anilino]-1,3,5-triazine andoily esters | |
HU222620B1 (hu) | Fényszżrż anyagok szinergetikus keverékét tartalmazó kozmetikai készítmények bżr és/vagy haj fénnyel szembeni védelmére és ezek alkalmazása | |
US6251373B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising benzotriazole, bisresorcinyltriazine and benzoazolyl/benzodiazolyl sunscreens | |
JPH10175836A (ja) | ジベンゾイルメタン誘導体、1,3,5−トリアジン誘導体及びベンザルマロナート基を含むケイ素誘導体を含む組成物及びその使用 | |
US6143282A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising benzotriazole-substituted silicon sunscreens and cinnamic/salicylic acid solubilizing agents therefor | |
US5609853A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising synergistic admixture of sunscreen compounds | |
US6409999B2 (en) | Synergistically UV-photoprotecting benzotriazole-substituted silicon/cinnamic acid compositions | |
US6296835B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising bis-hydroxyphenylbenzotriazole and benzazolyl/benzodiazolyl sunscreens | |
US6214324B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising benzotriazole and benzoazolyl/benzodiazolyl sunscreens | |
JPH11315006A (ja) | 遮蔽剤の相乗混合物を含む皮膚及び/又は毛髪の光保護用化粧品組成物及びその使用 | |
JP2000290157A (ja) | 遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途 | |
US7291322B2 (en) | Photoprotecting/cosmetic compositions comprising benzotriazole and bis-resorcinyltriazine | |
AU6664200A (en) | Process for the photostabilization of sunscreens derived from dibenzoylmethane by an insoluble organic screening agent | |
US6776980B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising dibenzoylmethane/triazine/diphenylacrylate compounds | |
JP2004520356A (ja) | 1,3,5−トリアジン誘導体とベンゼントリカルボン酸トリエステルを含有する遮蔽組成物及びその使用 | |
US6214323B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising camphorsulfonic acid, bisresorcinyltriazine and benzoazolyl/benzodiazolyl sunscreens |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20040420 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20040423 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040720 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040921 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070907 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4056675 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101221 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101221 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111221 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111221 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121221 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121221 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131221 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |